TW201531405A - 偏光片，以及具有該偏光片之偏光板與偏光性積層膜 - Google Patents

偏光片，以及具有該偏光片之偏光板與偏光性積層膜 Download PDF

Info

Publication number
TW201531405A
TW201531405A TW103145448A TW103145448A TW201531405A TW 201531405 A TW201531405 A TW 201531405A TW 103145448 A TW103145448 A TW 103145448A TW 103145448 A TW103145448 A TW 103145448A TW 201531405 A TW201531405 A TW 201531405A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
film
polarizer
resin
polarizing plate
polyvinyl alcohol
Prior art date
Application number
TW103145448A
Other languages
English (en)
Other versions
TWI630111B (zh
Inventor
Yuichiro Kunai
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Chemical Co filed Critical Sumitomo Chemical Co
Publication of TW201531405A publication Critical patent/TW201531405A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI630111B publication Critical patent/TWI630111B/zh

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3025—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
    • G02B5/3033—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3025—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
    • G02B5/3033—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid
    • G02B5/3041—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid comprising multiple thin layers, e.g. multilayer stacks
    • G02B5/305—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid comprising multiple thin layers, e.g. multilayer stacks including organic materials, e.g. polymeric layers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/06—Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B27/08—Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/30—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers
    • B32B27/306—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers comprising vinyl acetate or vinyl alcohol (co)polymers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/04—Interconnection of layers
    • B32B7/12—Interconnection of layers using interposed adhesives or interposed materials with bonding properties
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3025—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
    • G02B5/3075—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state for use in the UV
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/40—Properties of the layers or laminate having particular optical properties
    • B32B2307/42—Polarizing, birefringent, filtering
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2457/00—Electrical equipment
    • B32B2457/20—Displays, e.g. liquid crystal displays, plasma displays
    • B32B2457/202—LCD, i.e. liquid crystal displays
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

本發明提供：波長280至320nm中的最大吸光度為0.70以下之偏光片；具有上述偏光片與透過由光穿透性接著劑的硬化物所形成之接著劑層而層積在前述偏光片上的保護膜之偏光板；以及具有基材膜與設在該基材膜的兩面上之上述偏光片之偏光性積層膜。

Description

偏光片，以及具有該偏光片之偏光板與偏光性積層膜
本發明是有關偏光片，以及具有該偏光片之偏光板與偏光性積層膜。
偏光板，係廣泛使用於液晶顯示器等顯示器上，尤其近年來使用在如智慧型手機、平板PC的各種行動設備上。一般之偏光板，係具有偏光片的單面或兩面上使用接著劑貼合保護膜之構成。
在專利文獻1至8(日本特開2013-228726號公報、日本特開2013-210513號公報、日本特開2012-144690號公報、日本特開2009-109994號公報、日本特開2009-139585號公報、日本特開2010-091603號公報、日本特開2010-091602號公報、日本特開2008-170717號公報)中，係說明在偏光片上使用光硬化性接著劑貼合保護膜的偏光板。
(先前技術文獻) (專利文獻)
[專利文獻1]日本特開2013-228726號公報
[專利文獻2]日本特開2013-210513號公報
[專利文獻3]日本特開2012-144690號公報
[專利文獻4]日本特開2009-109994號公報
[專利文獻5]日本特開2009-139585號公報
[專利文獻6]日本特開2010-091603號公報
[專利文獻7]日本特開2010-091602號公報
[專利文獻8]日本特開2008-170717號公報
近年來，偏光片的保護膜，係已經到了使用透濕度較低的環烯烴系樹脂、烯烴系樹脂、丙烯酸系樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯樹脂等材質，取代如同纖維素系樹脂的可以水性接著劑貼合成透濕度較高的材質。但是，此種透濕度低的材質，由於即便使用水性接著劑，也不能與偏光片充分的密著，故大多時候是使用光硬化性接著劑接著在偏光片上。
使用光硬化性接著劑時，由於有使該接著劑的硬化層因光而致變質之虞，故希望可確保在作為顯示器時的耐光性，而使例如保護膜中含有紫外線吸收劑。同時，例如也有如同在保護膜的表面上形成塗布型相位差膜的情形。此等情況，將使保護膜側的紫外線穿透率明顯變低，在由保護膜側照射光時，有使接著劑不能充分硬化的缺陷。
欲解決此缺陷的方法，可舉出的已知技術，係使用在較接近可見光的370至420nm左右之波長範圍內具有吸收帶的光聚合起始劑或光敏劑作為光硬化性接著劑之成分之方式等。然而，在此方式中，由於光聚合起始劑或光敏劑之吸收波長的範圍可廣至可見光域，將使偏光板本身著色，而有使偏光板造成不能保持中性(不著色)色相的缺陷之虞。同時，即便在初期獲得中性色相的偏光板，在作成顯示器之後，也將因外光而致未反應的起始劑一點點的進行反應，有使色相比設計值更加變化的缺陷之虞。
有鑑於上述問題，本發明的目的是提供一種偏光片，其可因光之照射而使光硬化性接著劑充分硬化且可保持中性的色相，以及提供具有該偏光片之偏光板與偏光性積層膜。
[1]一種偏光片，其在波長280至320nm中的最大吸光度為0.70以下。
[2]一種偏光板，其具備上述[1]所述之偏光片，與透過由光穿透性接著劑的硬化物所形成之接著劑層而層積在前述偏光片上的保護膜。
[3]如上述[2]所述之偏光板，其中，前述保護膜的波長365nm中的光線穿透率未達5%。
[4]如上述[2]或[3]所述之偏光板，其中，前述光硬化性接 著劑含有最大吸收波長在280至320nm之間的光聚合起始劑。
[5]如上述[2]至[4]中任一項所述之偏光板，其中，前述偏光片的厚度為10μm以下。
[6]一種偏光性積層膜，其具有基材膜與設在該基材膜之兩面上的上述[1]所述之偏光片。
若藉由本發明，即可提供因光之照射而使光硬化性接著劑充分硬化且保有中性色相的偏光片，以及提供具有此偏光片的偏光板與偏光性積層膜。
1‧‧‧偏光板
2‧‧‧黏著劑層
4‧‧‧顯示用單元
5、51、52‧‧‧偏光片
10‧‧‧保護膜
15‧‧‧接著劑層
30‧‧‧基材膜
30’‧‧‧經延伸之基材膜
61、62‧‧‧聚乙烯醇系樹脂層
61’、62’‧‧‧經延伸之聚乙烯醇系樹脂層
100‧‧‧積層膜
200‧‧‧延伸膜
300‧‧‧偏光性積層膜
400‧‧‧貼合膜
第1圖表示本發明的偏光板之層構成的一例之剖面示意圖。
第2圖表示將第1圖中所示的偏光板配置在顯示用單元上時的狀態之剖面示意圖。
第3圖表示本發明的偏光板之製造方法的一較佳例之流程圖。
第4圖表示樹脂層形成步驟中獲得的積層膜之層構成的一例之剖面示意圖。
第5圖表示延伸步驟中獲得的延伸膜之層構成的一例之剖面示意圖。
第6圖表示染色步驟中獲得的偏光性積層膜之層構成的一例之剖面示意圖。
第7圖表示貼合步驟中獲得的貼合膜之層構成的一例之剖面示意圖。
<偏光板>
第1圖，係表示本發明的偏光板之層構成的一例之剖面示意圖。如第1圖中所示的偏光板1，本發明的偏光板，可以是具有偏光片5，與透過接著劑層15而在其一面上層積的保護膜10之單面附保護膜的偏光板。第2圖，係表示將第1圖中所示的偏光板配置在顯示用單元上時的狀態之剖面示意圖。如第2圖中所示，保護膜10是將偏光板1配置在顯示用單元4上時配置在外側的保護膜，將偏光板1配置在顯示用單元4上時，典型的是形成最外表面之保護膜。偏光板1，可利用設在偏光片5的外表面之黏著劑層2而配置、貼合在顯示用單元4上。
(1)偏光片
本發明中，偏光片的波長280至320nm中的最大吸光度是0.7以下，並以0.68以下更佳。
此處，吸光度，係可用吸光光度計等測定之值，係以自然光(波長280至320nm之光)為入射光測定射入至試料(偏光片)時的穿透光強度，其可藉由下述式求得。
吸光度=-log10(T/T0)
此處，T0是入射光強度、T是穿透光強度。
又，偏光片的吸光度之測定結果，係可依入射光的偏光狀態而變化。例如，依據吸光光度計時，由於可因光源至試料(偏光片)之間的反射鏡或光學元件等的影響而產生若干的偏光、或稜鏡等偏光分離元件的介入，故在測定時必須注意。在此種測定機時，以某角度測定偏光片之後，使同樣的偏光片再以旋轉90度的方位測定，因可由此等穿透光強度之平均值計算吸光度，故可排除入射光之偏光方向的影響。
藉由使用此種偏光片，使保護膜以透過光硬化性接著劑而層積在偏光片上的狀態，使紫外線(UV-B等)自偏光片側朝接著劑照射時，因紫外線容易穿透偏光片，故可形成光硬化性接著劑充分硬化的接著劑層。
同時，在保護膜與偏光片的接著時，即使自偏光片側射入光，也可有效地進行光硬化性接著劑之硬化，故不論保護膜的種類均可安定地製造偏光板。此效果，尤其在作成10μm以下的偏光片時有效。即，為了作成10μm以下的偏光片，係以使用在基材膜上塗布塗布液而形成聚乙烯醇系樹脂層，延伸每一基材而製造偏光片(具備基材膜與設在該基材膜的兩面上之偏光片的偏光性積層膜)的方法為佳，但此時為防止捲曲而有在基材膜的兩面上設置聚乙烯醇系樹脂層的情形，此時因必須使紫外線越過二片偏光片而照射在光硬化性接著劑上，故此種本發明的效果特別有用。
偏光片5的厚度，係以10μm以下為佳， 並以7μm以下更佳。使偏光片5的厚度為10μm以下，有利於偏光板的薄膜化。
偏光片5，可以是使二色性色素吸附配向在經單軸延伸的聚乙烯醇系樹脂層上者。構成聚乙烯醇系樹脂層的聚乙烯醇系樹脂，可使用聚乙酸乙烯酯系樹脂經皂化者。聚乙酸乙烯酯系樹脂，除了乙酸乙烯酯的均聚物之聚乙酸乙烯酯之外，尚可例示如乙酸乙烯酯與可與乙酸乙烯酯共聚合的其他單體之共聚合物。可與乙酸乙烯酯共聚合的其他單體，可列舉：例如不飽和羧酸類、烯烴類、乙烯醚類、不飽和磺酸類、具有銨基的丙烯醯胺類等。
將此聚乙烯醇系樹脂製膜後，可構成偏光片5。聚乙烯醇系樹脂之製膜方法，並無特別的限制，雖然可用已知的方法製膜，但就容易獲得厚度10μm以下的偏光片而言，以將聚乙烯醇系樹脂的溶液塗布在基材膜上而製膜為佳。
偏光片5，必須延伸而配向，並以延伸超過5倍為佳，而以延伸倍率超過5倍且17倍以下的延伸倍率更佳。
聚乙烯醇系樹脂的皂化度，可以是80.0至100.0莫耳%的範圍，以90.0至99.5莫耳%的範圍為佳，而以94.0至99.0莫耳%的範圍更佳。皂化度未達80.0莫耳%時，將使所得偏光板1,2之耐水性及耐濕熱性降低下。如使用皂化度超過99.5莫耳%的聚乙烯醇系樹脂時，除了染色速度變得緩慢，產率降低，也有不能獲得具有充分偏 光性能的偏光片5的情形。
皂化度，係指聚乙烯醇系樹脂的原料之聚乙酸乙烯酯系樹脂中含有的乙酸基(乙醯氧基：-OCOCH3)藉由皂化步驟變化成羥基的比例，以單位比(莫耳%)表示，可用下述式定義：皂化度(莫耳%)=100×(羥基個數)÷(羥基個數+乙酸基個數)。皂化度，可依據JIS K 6726(1994)求得。皂化度越高時，係表示羥基的比例越高，所以使阻礙結晶化的乙酸基之比例越低。
聚乙烯醇系樹脂，可以是部分改質的改質聚乙烯醇。可列舉：例如聚乙烯醇系樹脂經乙烯、丙烯等烯烴；丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸等不飽和羧酸；不飽和羧酸的烷酯；丙烯醯胺所改質者。改質的比例是以未達30莫耳%為佳，並以未達10莫耳%更佳。如改質超過30莫耳%時，將使二色性色素不易吸附，而不能獲得具有充分偏光性能的偏光片5。
聚乙烯醇系樹脂的平均聚合度，係以100至10,000為佳，並以1,500至8,000更佳，而以2,000至5,000又更佳。聚乙烯醇系樹脂的平均聚合度也可依據JIS K 6726(1994)而求得。
本發明中適用的聚乙烯醇系樹脂的市售品之例，包括均為商品名的(股)Kuraray製之「PVA124」(皂化度：98.0至99.0莫耳%)、「PVA117」(皂化度：98.0至 99.0莫耳%)、「PVA624」(皂化度：95.0至96.0莫耳%)、「PVA617」(皂化度：94.5至95.5莫耳%)；日本合成化學工業(股)製的「AH-26」(皂化度：97.0至98.8莫耳%)、「AH-22」(皂化度：97.5至98.5莫耳%)、「NH-18」(皂化度：98.0至99.0莫耳%)、「N-300」(皂化度：98.0至99.0莫耳%)；JAPAN VAM & POVAL(股)的「JC-33」(皂化度：99.0莫耳%以上)、「JM-33」(皂化度：93.5至95.5莫耳%)、「JM-26」(皂化度：95.5至97.5莫耳%)、「JP-45」(皂化度：86.5至89.5莫耳%)、「JF-17」(皂化度：98.0至99.0莫耳%)、「JF-17L」(皂化度：98.0至99.0莫耳%)、「JF-20」(皂化度：98.0至99.0莫耳%)。
偏光片5中含有(吸附配向)的二色性色素，可為碘或二色性有機染料。二色性有機染料的具體例，係包含紅BR、紅LR、紅R、粉紅LB、品紅(Rubin)BL、棗紅(Bordeaux)GS、天空藍LG、檸檬黃、藍BR、藍2R、海軍藍RY、綠LG、紫LB、紫B、黑H、黑B、黑GSP、黃3G、黃R、橙LR、橙3R、猩紅GL、猩紅KGL、剛果紅、亮紫BK、超藍G、超藍GL、超橙GL、直接天藍、直接堅牢橙S、堅牢黑。二色性色素可僅單獨使用一種，也可將二種以上組合使用。
(2)保護膜
保護膜10，可分別為熱可塑性樹脂，例如包含如鏈狀聚烯烴系樹脂(聚丙烯系樹脂等)、環狀聚烯烴系樹脂(降莰烯系樹脂等)的聚烯烴系樹脂；如纖維素三乙酸酯、纖維素 二乙酸酯的纖維素酯系樹脂；如聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯的聚酯系樹脂；聚碳酸酯系樹脂；(甲基)丙烯酸系樹脂；或此等的混合物、共聚合物等之透明樹脂膜。
環狀聚烯烴系樹脂，係可用環狀烯烴為聚合單元而聚合的樹脂之總稱，可列舉：例如日本特開平1-240517號公報、日本特開平3-14882號公報、日本特開平3-122137號公報等中所述之樹脂。環狀聚烯烴系樹脂的具體例，可列舉：例如環狀烯烴之開環(共)聚合物、環狀烯烴之加成聚合物、環狀烯烴與如乙烯、丙烯的鏈狀烯烴之共聚合物(代表性為無規共聚合物)，及使此等經不飽和羧酸或其衍生物改質的接枝聚合物，以及該等之氫化物等。其中，以使用降莰烯或多環降莰烯系單體等降莰烯系單體作為環狀烯烴的降莰烯系樹脂為適用。
市面上已有販售各種環狀聚烯烴系樹脂的製品。環狀聚烯烴系樹脂的市售品之例，包括均為商品名的「Topas」(Topas Advanced Polymers GmbH公司製，可自Polyplastics(股)購得)、「Arton」(JSR(股)製)、「ZEONOR」(日本ZEON(股)製)、「ZEONEX)」(日本ZEON(股)製)、「Apel」(三井化学(股)製)。
同時。也可使用均為商品名的「Esushina」(積水化學工業(股)製)、「SCA40」(積水化學工業(股)製)、「ZEONOR膜」(日本ZEON(股)製)的已製膜之環狀聚烯烴系樹脂膜的市售品作為保護膜。
纖維素酯系樹脂，係纖維素與脂肪酸之酯。纖維素酯系樹脂之具體例，包含纖維素三乙酸酯、纖維素二乙酸酯、纖維素三丙酸酯、纖維素二丙酸酯。同時，也可使用此等的共聚合物或部分羥基經其他的取代基改質者。此等之中，以纖維素三乙酸酯(三乙醯基纖維素：TAC)尤佳。大多的纖維素三乙酸酯之市售品，以其取得容易性或成本上也有利。纖維素三乙酸酯的市售品之例，係包含均為商品名的「Fujitac TD80」(富士軟片(股)製)、「Fujitac TD80UF」(富士軟片(股)製)、「Fujitac TD80UZ」(富士軟片(股)製)、「Fujitac TD40UZ」(富士軟片(股)製)、「KC8UX2M」(Konica Minolta Opt(股)製)、「KC4UY」(Konica Minolta Opt(股)製)。
保護膜10，也可以是同時具有如相位差膜、增亮膜的光學機能之保護膜。例如，藉由將包含上述材料的透明樹脂膜延伸(一軸延伸或二軸延伸等)，或在該膜上形成液晶層等，而賦與任意相位差值的相位差膜。
保護膜10的波長365nm中的光線穿透率，係以未達5%為佳。此時，保護膜相對於較短波長的紫外線(波長280至320nm的光線：UV-B等)之穿透率也低。因此，以透過光硬化性接著劑使保護膜層積在偏光片上的狀態，照射紫外線(UV-B等)而使接著劑硬化時，則不能自保護膜側照射紫外線使光硬化性接著劑硬化。所以，此時尤其必須使相對於偏光片的波長280至320nm的光線(UV-B)之穿透性變高(使吸光度變低)。若藉由本發明，即便如此 的保護膜之紫外線穿透性偏低，由於相對於偏光片的紫外線之穿透性高，也可因自偏光片側(保護膜的相反側)照射紫外線，而形成光硬化性接著劑充分硬化的接著劑層。
就偏光板的薄膜化而言，保護膜10的厚度是以80μm以下為佳，以60μm以下更佳，以50μm以下又更佳。同時，就確保膜強度而言，保護膜10的厚度通常是5μm以上。
在與保護膜10的偏光片5相反側的表面上，也可形成如硬塗層、防眩層、抗反射層、抗靜電層、防汚層的表面處理層(塗布層)。在保護膜表面上形成表面處理層的方法，並無特別的限定，可利用已知的方法。
(3)接著劑層
接著劑層15，係包含光硬化性接著劑的硬化物之層。
光硬化性接著劑，係指可因照射如紫外線的活化能射線而硬化的接著劑，可列舉：例如含有聚合性化合物及光聚合起始劑者、含有光反應性樹脂者、含有黏合劑樹脂及光反應性交聯劑者等。又，光硬化性接著劑具有的優點為：1)因可調製作為無溶劑型的接著劑，故不需要乾燥步驟、2)可使用於透濕度低的保護膜之貼合等，故與水性接著劑比較，可貼合的保護膜之種類較多。
聚合性化合物，可列舉：光硬化性環氧系化合物；光硬化性丙烯酸系化合物等光硬化性乙烯化合物；光硬化性聚胺酯系化合物。
光聚合起始劑，可列舉：光陽離子聚合起 始劑(例如，使用光硬化性環氧系化合物時)或光自由基聚合起始劑(例如，使用光硬化性丙烯酸系化合物時)。
保護膜與偏光片的接著中使用的光聚合性接著劑中含有之光聚合起始劑的最大吸收波長，係以280至320nm之間為佳。此時，由於可使用比可見光還要短的波長側之光聚合起始劑及光敏劑等，由於作成顯示器之後不易造成可見光而致的變質，故可提供耐光性優異的偏光板。
(4)黏著劑層
如第2圖中所示，在偏光片5的外面(與接著劑層15相反側之面)上，也可層積使偏光板1貼合在其他的構件(例如，顯示器的顯示用單元4)上用的黏著劑層2。
形成黏著劑層2的黏著劑，通常是包含(甲基)丙烯酸系樹脂、苯乙烯系樹脂、聚矽氧系樹脂等作為底質聚合物，並於此添加如異氰酸酯化合物、環氧化合物、氮丙啶化合物的交聯劑之黏著劑組成物。並且也可另含有微粒子而作成顯示光散射性的黏著劑層。
黏著劑層2的厚度可為1至40μm，在不損及加工性、耐久性的特性之範圍下，以薄質形成而佳，具體上係以3至25μm為佳。3至25μm的厚度，具有良好的加工性，且也適於防止偏光片5的尺寸變化。黏著劑層2未達1μm時，將使黏著性降低，超過40μm時，將容易產生使黏著劑溢出等的缺陷。
形成黏著劑層2的方法，並無特別的限定， 可在偏光片5的表面塗布含有包含上述底質聚合物的各成分之黏著劑組成物(黏著劑溶液)，乾燥後形成，也可在分離膜(剝離膜)上同樣地形成黏著劑層2之後，將此黏著劑層2轉印到偏光片5上。在偏光片5的表面形成黏著劑層2時，也可視需要而在偏光片5的表面或黏著劑層2的表面施予表面處理，例如電暈處理等。
(5)光學層
偏光板1，也可含有可層積在保護膜10或偏光片5上的其他光學層。其他的光學層，可列舉：例如透過某種偏光之光，顯示與其相反性質的反射偏光之光之反射型偏光膜；表面具有凹凸形狀的附有防眩機能之膜；表面附有抗反射機能之膜；表面具有反射機能的反射膜；同時具有反射機能與穿透機能的半穿透反射膜；視角補償膜等。
穿透某種偏光之光，顯示與其相反性質之反射偏光之光的反射型偏光膜之符合市售品，可列舉：例如「DBEF」(3M公司製，在日本則可自住友3M(股)取得)、「APF」(3M公司製，在日本則可自住友3M(股)取得)。
視角補償膜，可列舉：例如使液晶性化合物塗布在基材表面上而配、固定的光學補償膜；包含聚碳酸酯系樹脂的相位差膜；包含環狀聚烯烴系樹脂的相位差膜等。
使液晶性化合物塗布在基材表面上而配向、固定的光學補償膜之符合市售品，可列舉：例如「WV膜」(富士軟片(股)製)、「NH膜」(JX日礦日石能源(股)製)、 「NR膜」(JX日礦日石能源(股)製)等。
包含環狀聚烯烴系樹脂的相位差膜之符合市售品，可列舉：例如、「Arton Film」(JSR(股)製)、「Esushina」(積水化學工業(股)製)、「ZEONOR膜」(日本ZEON(股)製)等。
<偏光板的製造方法>
本發明的偏光板，可適用例如第3圖中所示的方法製造。第3圖中所示的偏光板之製造方法，係製造附有保護膜的偏光板1之方法，依序包括下述步驟：(1)在基材膜至少一面上塗布含有聚乙烯醇系樹脂之塗布液之後，使其乾燥而形成聚乙烯醇系樹脂層，而獲得積層膜的樹脂層形成步驟S10、(2)將積層膜延伸而獲得延伸膜之延伸步驟S20、(3)藉由用二色性色素將延伸膜的聚乙烯醇系樹脂層染色形成偏光片，而獲得偏光性積層膜的染色步驟S30、(4)在偏光性積層膜的偏光片上，透過接著劑層將保護膜的任一面貼合，而獲得貼合膜的貼合步驟S40、(5)自貼合膜剝離去除基材膜而獲得單面附有保護膜之偏光板的剝離步驟S50。
以下，係一邊參照第4至7圖一邊說明各步驟。又，圖式中相同的參照符號，係表示相同部分或符合之部分者。
(1)樹脂層形成步驟S10
參照第4圖，本步驟，係在基材膜30的兩面形成聚乙 烯醇系樹脂層61、62而獲得積層膜100的步驟。此聚乙烯醇系樹脂層61、62，係經延伸步驟S20及染色步驟S30而形成偏光子片51、52之層。此聚乙烯醇系樹脂層61、62，係可藉由將含有聚乙烯醇系樹脂的塗布液塗布在基材膜30的兩面，使塗布層乾燥而形成。藉由如此的塗布而形成聚乙烯醇系樹脂層的方法，有利於容易獲得薄膜的偏光片51、52。
〔基材膜〕
基材膜30可由熱塑性樹脂構成，其中並以由透明性、機械強度、熱安定性、延伸性等優異的熱塑性樹脂之構成為佳。此種熱塑性樹脂的具體例，可包含：例如如鏈狀聚烯烴系樹脂、環狀聚烯烴系樹脂(降莰烯系樹脂等)的聚烯烴系樹脂；聚酯系樹脂；(甲基)丙烯酸系樹脂；如纖維素三乙酸酯、纖維素二乙酸酯的纖維素酯系樹脂；聚碳酸酯系樹脂；聚乙烯醇系樹脂；聚乙酸乙烯酯系樹脂；聚芳酯系樹脂；聚苯乙烯系樹脂；聚醚碸系樹脂；聚碸系樹脂；聚醯胺系樹脂；聚醯亞胺系樹脂；及此等之混合物、共聚合物。
基材膜30，可為包含一種或二種以上的熱塑性樹脂之一樹脂層所成的單層結構，亦可為包含一種或二種以上的熱塑性樹脂之樹脂層經複數層層積的多層結構。基材膜30，在後述的延伸步驟S20中延伸積層膜100時，係以可在延伸聚乙烯醇系樹脂層61、62的較佳延伸溫度而延伸之樹脂之構成為佳。
鏈狀聚烯烴系樹脂，除了如聚乙烯樹脂、聚丙烯樹脂的鏈狀烯烴之均聚物之外，尚可舉出由二種以上的鏈狀烯烴形成之共聚合物。就容易安定的高倍率延伸而言，係以由鏈狀聚烯烴系樹脂形成的基材膜30為佳。其中，基材膜30並以由聚丙烯系樹脂(丙烯的均聚物之聚丙烯樹脂，或丙烯為主體的共聚合物)、聚乙烯系樹脂(乙烯的均聚物之聚乙烯樹脂，或乙烯為主體的共聚合物)形成更佳。
適用作為構成基材膜30的熱塑性樹脂之一例的乙丙烯為主體之共聚合物，係丙烯與可與其共聚合的其他單體之共聚合物。
可與丙烯共聚合的其他單體，可列舉：例如乙烯、α-烯烴。α-烯烴，係以使用碳數4以上的α-烯烴為佳，並以碳數4至10的α-烯烴更佳。碳數4至10的α-烯烴之具體例，包含例如：如1-丁烯、1-戊烯、1-己烯、1-庚烯、1-辛烯、1-癸烯的直鏈狀單烯烴類；如3-甲基-1-丁烯、3-甲基-1-戊烯、4-甲基-1-戊烯的分枝狀單烯烴類；乙烯環己烷。丙烯與可與其共聚合的其他單體之共聚合物，可以是無規共聚合物，也可以是嵌段共聚合物。
上述其他的單體之含有量，例如在共聚合物中的0.1至20重量%，並以0.5至10重量%為佳。共聚合物中的其他單體之含有量，可依照「高分子分析手冊」(1995年，紀伊國屋書店發行)的第616頁中所述之方法，以進行紅外線(IR)光譜而求得。
上述之中，聚丙烯系樹脂是以丙烯的均聚物、丙烯-乙烯無規共聚合物、丙烯-1-丁烯無規共聚合物或丙烯-乙烯-1-丁烯無規共聚合物為適用。
聚丙烯系樹脂的立體規則性，係以實質上等規或間規為佳。包含實質上具有等規或間規的立體規則性之聚丙烯系樹脂的基材膜30，除了其處理性較為良好之外，在高溫環境下的機械強度亦優。
聚酯系樹脂，係具有酯鍵的樹脂，通常是由多元羧酸或其衍生物與多元醇之聚縮合物者。多元羧酸或其衍生物，可使用二價的二羧酸或其衍生物，可列舉：例如對苯二甲酸、間苯二甲酸、對苯二甲酸二甲酯、萘二羧酸二甲酯等。多元醇，可使用二價之二醇，可列舉：例如乙二醇、丙二醇、丁二醇、新戊二醇、環己二醇等。
聚酯系樹脂的代表例，可舉出對苯二甲酸與乙二醇的聚縮合物之聚對苯二甲酸乙二酯。雖然聚對苯二甲酸乙二酯是結晶性的樹脂，但是以結晶化處理前的狀態者，比較容易進行延伸等處理。必要時，可依延伸時或延伸後的熱處理等而進行結晶化處理。同時，在聚對苯二甲酸乙二酯的骨架再與他種的單體共聚合，而結晶性下降(或作成非晶性)的共聚合聚酯亦為適用。此種樹脂之例，可列舉：例如使環己烷二甲醇或間苯二甲酸共聚合者等。此等樹脂，也因延伸性優異，故可適用。
聚對苯二甲酸乙二酯及其共聚合物以外的聚酯系樹脂之具體例，可列舉：例如聚對苯二甲酸丁二酯、 聚對萘二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸丁二酯、聚對苯二甲酸三亞甲酯、聚萘二甲酸三亞甲酯、聚對苯二甲酸環己烷二甲酯、聚萘二甲酸環己烷二甲酯，及此等之混合物、共聚合物等。
(甲基)丙烯酸系樹脂，係以具有(甲基)丙烯醯基的化合物為主要構成單體之樹脂。(甲基)丙烯酸系樹脂的具體例，包含例如：如聚甲基丙烯酸甲酯的(甲基)丙烯酸酯；甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸共聚合物；甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸酯共聚合物；甲基丙烯酸甲酯-丙烯酸酯-(甲基)丙烯酸共聚合物；(甲基)丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚合物(MS樹脂等)；甲基丙烯酸甲酯與具有脂環族烴基的化合物之共聚合物(例如，甲基丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸環己酯共聚合物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸降莰酯共聚合物等)。以使用如聚(甲基)丙烯酸甲酯的聚(甲基)丙烯酸C1-6烷酯為主成分的聚合物為佳，以使用甲基丙烯酸甲酯作為主成分(50至100重量%，以70至100重量%為佳)的甲基丙烯酸甲酯系樹脂更佳。
聚碳酸酯系樹脂，係包含透過碳酸酯基而結合單體單元的聚合物之工程塑膠，係具有高耐衝撃性、耐熱性、阻燃性、透明性的樹脂。構成基材膜30的聚碳酸酯系樹脂，可以是為降低光彈性係數而將聚合物骨架修飾的稱為改質聚碳酸酯之樹脂，或是經改善波長依存性的共聚合聚碳酸酯等。
市面上已有販售各種的聚碳酸酯系樹脂。 聚碳酸酯系樹脂的市售品之例，係均為商品名的「Panlite」(帝人化成(股)製)、「Iupilon」(三菱工程塑膠(股)製)、「SD Polyca」(住友Dow(股)製)、「Calibre」(Dow Chemical(股)製)等。
就延伸性或耐熱性等而言，以上之中，以使用聚丙烯系樹脂為佳。
至於基材膜30中可使用的環狀聚烯烴系樹脂及纖維素酯系樹脂，可引用保護膜中所述之事項。同時，與基材膜30相關而如上所述的鏈狀聚烯烴系樹脂、聚酯系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、聚碳酸酯系樹脂，也可使用作為保護膜的構成材料。
基材膜30中，除了上述的熱塑性樹脂以外，也可添加任何適當的添加劑。這樣的添加劑，可列舉：例如紫外線吸收劑、抗氧化劑、潤滑劑、塑化劑、離型劑、防著色劑、阻燃劑、成核劑、抗靜電劑、顏料及著色劑等。基材膜30中的熱塑性樹脂之含有量，係以50至100重量%為佳，以50至99重量%更佳，以60至98重量%又更佳，以70至97重量%為特佳。基材膜30中的熱塑性樹脂之含有量未達50重量%時，將有不能充分顯現熱塑性樹脂原來具有的高透明性等之虞。
雖然可適宜的決定基材膜30之厚度，但通常就強度或處理性等作業性而言，係以1至500μm為佳，以1至300μm更佳，以5至200μm又更佳，以5至150μm為最佳。
〔含有聚乙烯醇系樹脂的塗布液〕
塗布液，較佳的是使聚乙烯醇系樹脂的粉末溶解於良溶劑(例如水)中而得的聚乙烯醇系樹脂溶液。聚乙烯醇系樹脂的詳細情形，係如上述。
塗布液可視需要而含有塑化劑、界面活性劑等添加劑。塑化劑可使用多元醇或其縮合物等，可例示如甘油、二甘油、三甘油、乙二醇、丙二醇、聚乙二醇等。添加劑的調配量，係以聚乙烯醇系樹脂的20重量%以下為佳。
〔塗布液的塗布及塗布層的乾燥〕
將上述塗布液塗布在基材膜30的方法，可適宜的選自線棒塗布法；如逆向塗布、凹板塗布的滾輪塗法；模具塗法；缺角輪塗法；唇塗法；旋轉塗布法；網版塗布法；噴注塗布法；浸漬法；噴塗法等方法。
在基材膜30的兩面塗布塗布液時，可用上述的方法將每一面依序進行，也可用浸漬法或噴塗法或其他的特殊裝置，同時在基材膜30的兩面塗布。
塗布層(乾燥前的聚乙烯醇系樹脂層)的乾燥溫度及乾燥時間，係配合塗布液中含有的溶劑種類而設定。乾燥溫度，係例如50至200℃，並以60至150℃為佳。溶劑含有水時，乾燥溫度是以80℃以上為佳。乾燥時間，係例如2至20分鐘。
第4圖中，係在基材膜30的兩面上形成二個聚乙烯醇系樹脂層61、62。如此而在基材膜30的兩面 形成聚乙烯醇系樹脂層時，除了可抑制偏光性積層膜300(參照第6圖)在製造時產生之膜捲曲，同時也可自一片偏光性積層膜300獲得二片的偏光板，故也有利於偏光板的產率。但是，並未限定於此，也可使聚乙烯醇系樹脂層僅在基材膜30的一面形成。
積層膜100中的聚乙烯醇系樹脂層61、62之厚度，係以3至30μm為佳，以5至20μm更佳。只要是具有此範圍內的厚度之聚乙烯醇系樹脂層61、62，經過後述的延伸步驟S20及染色步驟S30，即可獲得二色性色素的染色性良好、偏光性能優異，且厚度10μm以下的偏光片51、52。聚乙烯醇系樹脂層61、62的厚度超過30μm時，會有偏光片51、52的厚度超過10μm之情形。同時，聚乙烯醇系樹脂層61、62的厚度未達3μm時，延伸後變得太薄而趨使染色性變差。
在塗布液的塗布之前，可在基材膜30的表面先行施以電暈處理、電漿處理、火焰處理等，以提高基材膜30與聚乙烯醇系樹脂層61、62之間的密著性。
同時，在塗布液的塗布之前，可在基材膜30上透過底漆層或接著劑層而形成聚乙烯醇系樹脂層61、62，以提高基材膜30與聚乙烯醇系樹脂層61、62之間的密著性。
〔底漆層〕
底漆層，可在基材膜30的表面塗布底漆層形成用塗布液之後，使其乾燥而形成。底漆層形成用塗布液，含有可 使基材膜30與聚乙烯醇系樹脂層61、62的雙方發揮出某程度的強密著力之成分。底漆層形成用塗布液，通常含有可賦與此種密着力的樹脂成分與溶劑。樹脂成分，係以使用透明性、熱安定性、延伸性等優異的熱塑性樹脂為佳，可列舉：例如(甲基)丙烯酸系樹脂、聚乙烯醇系樹脂等。其中，以使用可賦予良好密着力的聚乙烯醇系樹脂為佳。
聚乙烯醇系樹脂，可列舉：例如聚乙烯醇樹脂及其衍生物。聚乙烯醇樹脂的衍生物，除了聚乙烯甲醛、聚乙烯縮醛等以外，尚可列舉出聚乙烯醇樹脂經由如乙烯、丙烯的烯烴類改質者；經由如丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸的不飽和羧酸類改質者；經由如不飽和羧酸之烷酯改質者；經丙烯醯胺改質者等。上述的聚乙烯醇系樹脂之中，以使用聚乙烯醇樹脂為佳。
溶劑，通常是使用可溶解上述樹脂成分的一般有機溶劑或水性溶劑。溶劑之例，可列舉：如苯、甲苯、二甲苯的芳香族烴類；如丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮的酮類；如乙酸乙酯、乙酸異丁酯的酯類；如二氯甲烷、三氯乙烯(TCE)、氯仿的氯烴類；如乙醇、1-丙醇、2-丙醇、1-丁醇的醇類。但，如使用包含有機溶劑的底漆層形成用塗布液形成底漆層時，因可能使基材膜30溶解，故宜考量基材膜30的溶解性而選擇溶劑。如也考量對環境的影響時，係以由水為溶劑的塗布液形成底漆層為佳。
也可在底漆層形成用塗布液中添加交聯劑，以提高底漆層的強度。交聯劑，可配合使用的熱塑性 樹脂之種類而自有機系、無機系等已知交聯劑之中適宜地選擇適當者。交聯劑之例，可列舉：例如環氧系、異氰酸酯系、雙醛系、金屬系的交聯劑。
環氧系交聯劑，可使用一液硬化型、二液硬化型的任一種，可舉出乙二醇二縮水甘油醚、聚乙二醇二縮水甘油醚、甘油二-或三-縮水甘油醚、1,6-己二醇二縮水甘油醚、三羥甲基丙烷三縮水甘油醚、二縮水甘油苯胺、二縮水甘油胺等。
異氰酸酯系交聯劑，可列舉：甲苯二異氰酸酯、氫化甲苯二異氰酸酯、三羥甲基丙烷-甲苯二異氰酸酯加成物、三苯基甲烷三異氰酸酯、亞甲基雙(4-苯基甲烷)三異氰酸酯、異佛酮二異氰酸酯、及此等之酮肟封端物或苯酚封端物等。
雙醛系交聯劑，可列舉：例如乙二醛、丙二醛、丁二醛、戊二醛、順丁二醛、隣苯二醛等。
金屬系交聯劑，可列舉：例如金屬鹽、金屬氧化物、金屬氫氧化物、有機金屬化合物。金屬鹽、金屬氧化物、金屬氫氧化物，例如可列舉：如鎂、鈣、鋁、鐵、鎳、鋯、鈦、矽、硼、鋅、銅、釩、鉻、錫之具有二價以上原子價之金屬的鹽、氧化物及氫氧化物。
有機金屬化合物，係指在金屬原子上直接結合有機基，或透過氧原子或氮原子等而使分子內具有至少一個結合有機基的結構之化合物。有機基，係指至少含有碳原子的一價或多價之基，例如烷基、烷氧基、醯基等。 同時，鍵結不僅只是指共價鍵，也可以是如螯合狀化合物的配位而致的配位鍵。
有機金屬化合物的較佳例，包含有機鈦化合物、有機鋯化合物、有機鋁化合物、有機矽化合物。有機金屬化合物，可單獨僅使用一種，也可將二種以上組合使用。
有機鈦化合物，可列舉：例如四正丁基鈦酸酯、四異丙基鈦酸酯、鈦酸丁酯二聚物、四(2-乙基己基)鈦酸酯、四甲鈦酸酯的鈦原酸酯類；如鈦乙醯丙酮酸酯、鈦四乙醯丙酮酸酯、聚鈦乙醯丙酮酸酯、鈦辛二醇酸酯、乳酸鈦、三乙醇胺鹽鈦、鈦乙醯乙酸乙酯的鈦螯合物類；如聚羥基硬脂酸鈦的鈦醯化物類等。
有機鋯化合物，可列舉：例如鋯正丙酸酯、鋯正丁酸酯、鋯四乙醯丙酮酸酯、鋯單乙醯丙酮酸酯、鋯雙乙醯丙酮酸酯、鋯乙醯丙酮酸酯雙乙基乙醯乙酸酯等。
有機鋁化合物，可列舉：例如鋁乙醯丙酮酸酯、鋁有機酸螯合物等。有機矽化合物，可列舉：例如之前在有機鈦化合物及有機鋯化合物中例示的配位子結合在矽上的化合物。
除了以上的低分子系交聯劑之外，也可使用如羥甲基化三聚氰胺樹脂、聚醯胺環氧樹脂的高分子系交聯劑。聚醯胺環氧樹脂之市售品之例，可舉出田岡化學工業(股)所販售的「SUMIREZ RESIN650(30)」或「SUMIREZ RESIN675」(均為商品名)等。
使用聚乙烯醇系樹脂作為形成底漆層的樹脂成分時，可適用聚醯胺環氧樹脂、羥甲基化三聚氰胺樹脂、雙醛系交聯劑、金屬螯合物化合物系交聯劑等作為交聯劑。
相對於樹脂成分100重量份，底漆層形成用塗布液中的樹脂成分與交聯劑之比例，係自交聯劑0.1至100重量份左右的範圍，配合樹脂成分的種類或交聯劑的種類等適宜的決定即可，尤其是以選自0.1至50重量份左右的範圍為佳。同時，底漆層形成用塗布液，係以使該固形份濃度成為1至25重量%左右者為佳。
底漆層的厚度，係以0.05至1μm左右為佳，以0.1至0.4μm更佳。如比0.05μm薄時，將使提昇基材膜30與聚乙烯醇系樹脂層61、62之間的密著力之效果變小，如比1μm厚時，則不利於偏光板的薄膜化。
將底漆層形成用塗布液塗布在基材膜30上的方法，可與聚乙烯醇系樹脂層形成用的塗布液相同。底漆層，係塗布在塗布聚乙烯醇系樹脂層形成用的塗布液之面(基材膜30的單面或雙面)。包含底漆層形成用塗布液的塗布層之乾燥溫度及乾燥時間，係配合塗布液中含有的溶劑種類而設定。乾燥溫度，係例如50至200℃，以60至150℃為佳。溶劑含水時，乾燥溫度是以80℃以上為佳。乾燥時間，係例如30秒至20分鐘。
設置底漆層時，對基材膜30的塗布順序並無特別的限制，例如可在基材膜30的兩面形成底漆層之 後，在兩面形成聚乙烯醇系樹脂層，也可在基材膜30的一面依序形成底漆層及聚乙烯醇系樹脂層之後，在基材膜30的另一面依序形成底漆層及聚乙烯醇系樹脂層。
(2)延伸步驟S20
參照第5圖，本步驟是將包含基材膜30及聚乙烯醇系樹脂層61、62之積層膜100延伸，獲得包含經延伸之基材膜30’及聚乙烯醇系樹脂層61’、62’之延伸膜200的步驟。延伸處理，通常是一軸延伸。
積層膜100的延伸倍率，可配合所要求的偏光特性而適宜的選擇，惟相對於積層膜100的原長。以超過5倍且17倍以下為佳，以超過5倍且8倍以下更佳。延伸倍率為5倍以下時，因將使聚乙烯醇系樹脂層61、62不能充分配向，而有偏光片51、52的偏光度不能充分變高的情形。另一方面，延伸倍率超過17倍時，除了在延伸時容易造成膜之破裂，也將使延伸膜200的厚度變薄至必要以上，而有使後步驟中的加工性及處理性降低之虞。
延伸處理，並不限於一階段的延伸，也可用多階段進行。此時多階段的延伸處理可全部在染色步驟S30之前進行，也可將二階段之後的延伸處理與染色步驟S30中的染色處理及/或交聯處理同時進行。如此的以多階段進行延伸處理時，係以使延伸處理的全段合計超過5倍的延伸倍率進行延伸處理為佳。
延伸處理，除了膜長度方向(膜運送方向)延伸的縱向延伸以外，也可以是膜寬度方向延伸之横向延 伸或斜向延伸等。縱向延伸方式，可舉出使用滾輪而延伸的滾輪間延伸、壓縮延伸、使用夾頭(夾子)的延伸等，横向延伸方式，可舉出拉幅機法等。延伸處理，可採用濕潤式延伸方法、乾式延伸方法的任一方法，使用乾式延伸方法時，因可廣範圍的選擇延伸溫度而佳。
延伸溫度，係設定於使聚乙烯醇系樹脂層61、62及基材膜30整體可延伸的程度而顯示流動性的溫度以上，並以基材膜30的相轉移溫度(熔點或玻璃轉移溫度)之-30℃至+30℃的範圍為佳，以-30℃至+5℃的範圍更佳，以-25℃至+0℃的範圍又更佳。基材膜30包含複數層樹脂層時，上述相轉移溫度是指該複數層樹脂層表示的相轉移溫度之中的最高相轉移溫度。
如延伸溫度低於相轉移溫度之-30℃時，將難以達成超過5倍的高倍率延伸，或使基材膜30的流動性過低而趨使延伸處理變得困難。延伸溫度超過相轉移溫度的+30℃時，將使基材膜30的流動性過大而趨使延伸處理變得困難。由於更容易達成超過5倍的高延伸倍率，故延伸溫度為上述範圍內，並以120℃以上更佳。延伸溫度為120℃以上時，即使是超過5倍的高延伸倍率，延伸處理上也不會有困難。
延伸處理中的積層膜100之加熱方法，有區域加熱法(例如，如吹送熱風調整至設定溫度的加熱爐之以延伸區域內加熱的方法。)；在使用滾輪延伸時，將滾輪本身加熱的方法；加熱器加熱法(將紅外線加熱器、鹵素加熱 器、平板加熱器等設置在積層膜100的上下以輻射熱加熱的方法)等。就延伸溫度的均勻性而言，滾輪間延伸方式中是以區域加熱法為佳。此時，二個夾輥對可設置在已調溫的延伸區域內，也可設置在延伸區域外，但為防止積層膜100與夾輥之黏著，係以設置在延伸區域外者為佳。
又，延伸溫度在區域加熱法時，係指區域內(例如加熱爐內)的環境溫度，在加熱器加熱法中以爐內進行加熱時，係指爐內的環境溫度。同時，在加熱滾輪本身的方法時，係指滾輪的表面溫度。
在延伸步驟S20之前，可設立預熱積層膜100的預熱處理步驟。預熱方法，可使用與延伸處理中的加熱方法相同的方法。延伸處理方式為滾輪間延伸時，預熱可在通過上游側的夾輥之前、通過中、通過之後的任何時機進行。延伸處理方式為熱滾輪延伸時，預熱是以通過熱滾輪之前的時機進行為佳。延伸處理方式為使用夾頭延伸時，預熱是以使夾頭間距離變寛之前的時機進行為佳。預熱溫度，係以延伸溫度的-50℃±0℃的範圍為佳，以延伸溫度的-40℃至-10℃的範圍更佳。
同時，延伸步驟S20中的延伸處理之後，也可設計熱固定處理步驟。熱固定處理，係一邊以夾子將延伸膜200的端部握持的狀態維持在張力狀態，一邊以結晶化溫度以上進行熱處理。由此熱固定處理，可促進聚乙烯醇系樹脂層61’、62’的結晶化。熱固定處理的溫度，係以延伸溫度的-0℃至-80℃的範圍為佳，以延伸溫度的-0℃至 -50℃的範圍更佳。
(3)染色步驟S30
參照第6圖，本步驟係用二色性色素將延伸膜200的聚乙烯醇系樹脂層61’、62’染色，使其吸附配向，而獲得偏光片51、52的步驟。經過本步驟，可獲得在基材膜30’的兩面層積有偏光片51、52的偏光性積層膜300。
染色步驟，係藉由將延伸膜200整體浸泡在含有二色性色素的溶液(染色溶液)中進行。染色溶液，可使用上述二色性色素溶解於溶劑中的溶液。染色溶液的溶劑，通常是使用水，但也可再添加與水有相溶性的有機溶劑。染色溶液中的二色性色素之濃度，係以0.01至10重量%為佳，以0.02至7重量%更佳，以0.025至5重量%又更佳。
使用碘為二色性色素時，可更加提高染色效率，故宜在含有碘的染色溶液中再添加碘化物。碘化物，可列舉：例如碘化鉀、碘化鋰、碘化鈉、碘化鋅、碘化鋁、碘化鉛、碘化銅、碘化鋇、碘化鈣、碘化錫、碘化鈦等。染色溶液中的碘化物之濃度，係以0.01至20重量%為佳。碘化物之中，係以添加碘化鉀為佳。添加碘化鉀時，碘與碘化鉀的比例，係以重量比1：5至1：100的範圍為佳，並以1：6至1：80的範圍更佳，而以1：7至1：70的範圍又更佳。
延伸膜200浸泡在染色溶液的浸泡時間，通常是15秒至15分鐘的範圍，以30秒至3分鐘為佳。同時， 染色溶液的溫度是以10至60℃的範圍為佳，並以20至40℃的範圍更佳。
又，可在延伸步驟S20之前進行染色步驟S30，也可使此等步驟同時進行，但為了使聚乙烯醇系樹脂層所吸附的二色性色素可良好地配向，係以對積層膜100至少施予某種程度的延伸處理之後進行染色步驟S30為佳。即，除了將延伸處理進行至成為延伸步驟S20中的目標倍率而得的延伸膜200，提供作染色步驟S30之外，也可在延伸步驟S20中進行低於目標倍率的延伸處理之後，在染色步驟S30中進行延伸處理直到總延伸倍率成為目標倍率。後者的實施形態，可舉出：1)以較低於延伸步驟S20中的目標倍率進行延伸處理之後，在染色步驟S30中進行延伸處理直到總延伸倍率成為目標倍率的形態，或如後述的在染色處理之後進行交聯處理時，2)以較低於延伸步驟S20中的目標倍率進行延伸處理之後，在染色步驟S30中的染色處理中，進行延伸處理直到總延伸倍率尚未達到目標倍率，接著，在交聯處理中進行延伸處理直到最後的總延伸倍率成為目標倍率的形態。
染色步驟S30，可包含在染色處理後接續進行的交聯處理步驟。交聯處理，可藉由將已染色的膜浸泡在含有交聯劑的溶液(交聯溶液)中進行。交聯劑，可使用傳統已知的物質，可列舉：例如硼酸、硼砂的硼化合物、乙二醛、戊二醛等。交聯劑可單獨僅使用一種，也可將二種以上組合使用。
交聯溶液，具體上可為交聯劑溶解於溶劑中的溶液。溶劑，例如可使用水，並可含有與水有相溶性的有機溶劑。交聯溶液中的交聯劑之濃度，係以1至20重量%的範圍為佳，以6至15重量%的範圍更佳。
交聯溶液可含有碘化物。藉由碘化物的添加，可使偏光片51、52的面內之偏光性能更為均勻。碘化物，可列舉：例如碘化鉀、碘化鋰、碘化鈉、碘化鋅、碘化鋁、碘化鉛、碘化銅、碘化鋇、碘化鈣、碘化錫、碘化鈦等。交聯溶液中的碘化物濃度，係以0.05至15重量%為佳，以0.5至8重量%更佳。
染色的膜浸泡在交聯溶液的浸泡時間，通常是15秒至20分鐘，以30秒至15分鐘為佳。同時，交聯溶液的溫度是以10至90℃的範圍為佳。
交聯處理，也可藉由將交聯劑調配在染色溶液中，而與染色處理同時進行。同時，也可在交聯處理中進行延伸處理。在交聯處理中實施延伸處理的具體形態，係如同上述。同時，也可使用二種以上不同組成的交聯溶液，在交聯溶液中進行二次以上的浸泡處理。
染色步驟S30之後，係以在後述的貼合步驟S40之前進行洗淨步驟及乾燥步驟為佳。洗淨步驟，通常是包含水洗淨步驟。水洗淨處理，可藉由將染色處理後或交聯處理後之膜浸泡在如離子交換水、蒸餾水的純水中進行。水洗淨溫度，通常是3至50℃，以4至20℃的範圍為佳。浸泡在水中的時間，通常是2至300秒，並以3至240 秒為佳。
洗淨步驟，也可以是水洗淨步驟與以碘化物溶液的洗淨步驟之組合。同時，使用以水洗淨步驟及或以碘化物溶液的洗淨處理之洗淨液中，除了水以外，也可適宜含有如甲醇、乙醇、異丙醇、丁醇、丙醇的液體醇。
洗淨步驟之後進行的乾燥步驟，可採用自然乾燥、送風乾燥、加熱乾燥等任意的適當方法。例如加熱乾燥時，乾燥溫度通常是20至95℃，乾燥時間通常是1至15分鐘左右。
(4)貼合步驟S40
參照第7圖，本步驟是在偏光性積層膜300的偏光片51上，亦即，在與偏光片51的基材膜30’側相反的面上，獲得透過接著劑層貼合保護膜10的貼合膜400之步驟。
保護膜10，係透過接著劑層15而貼合偏光片51。透過接著劑層的保護膜之貼合，可列舉：例如使用已知的方式將接著劑塗布在保護膜10及或偏光片51的貼合面，透過該接著劑之塗布層而使保護膜10與偏光片51重疊，利用貼合滾輪等而貼合的方法。
接著劑中使用光硬化性接著劑時，係在實施上述的貼合之後，進行藉由照射活化能射線使光硬化性接著劑硬化的硬化步驟。雖然無特別限定活化能射線的種類，但以波長400nm以下具有峰波長的活化能射線(紫外線)為佳，以波長280至320nm之間具有峰波長的UV-B更佳。
活化能射線之光源，並無特別的限定，但 宜使用高壓水銀燈、低壓水銀燈、中壓水銀燈、超高壓水銀燈、化學燈、黑光燈、微波激發水銀燈、金屬鹵化物燈等。
對光硬化性接著劑的光照射強度，雖然可依光硬化性接著劑的組成而適宜的決定，但是以設定成使對聚合起始劑的活化有效的波長區域之照射強度成為0.1至6,000mW/cm2為佳。照射強度為0.1mW/cm2以上時，反應時間不會變得過長，為6000mW/cm2以下時，即可減少自光源的輻射熱及光硬化性接著劑的硬化時之放熱而致光硬化性接著劑的黃變或偏光片51、52的劣化之虞。
對光硬化性接著劑的光照射時間，可依光硬化性接著劑的組成而適宜的決定，但是以使上述照射強度與照射時間之積表示的累積光量成為10至10,000mJ/cm2之方式設定為佳。累積光量為10mJ/cm2以上時，可足量產生來自聚合起始劑的活性種而更確實地進行硬化反應，為10,000mJ/cm2以下時，則不會使照射時間變得過長，而可維持良好的產率。
保護膜10貼合在偏光片51上時，可在保護膜10的偏光片51側表面進行電漿處理、電暈處理、紫外線照射處理、火焰處理、皂化處理等表面處理(易接著處理)，俾使其與偏光片51之間的接著性提昇，其中並以進行電漿處理、電暈處理或皂化處理為佳。例如當保護膜係包含環狀聚烯烴系樹脂時，通常可進行電漿處理或電暈處理。同時，在包含纖維素酯系樹脂時，通常可進行皂化處 理。皂化處理，可舉出浸泡在如氫氧化鈉或氫氧化鉀的鹼性水溶液中之方法。
(5)剝離步驟S50
本步驟，係自貼合保護膜而得的貼合膜400上剝離去除基材膜30’(及偏光片52)的步驟。經此步驟，即可獲得偏光片51的單面積層有保護膜10的單面附有保護膜之偏光板1。
剝離去除基材膜30’的方法，並無特別的限定，可使用與一般附有黏着劑的偏光板中進行的分離膜(剝離膜)之剝離步驟相同的方法剝離。基材膜30’是在貼合步驟S40之後，就可即刻剝離，也可在貼合步驟S40之後，一度捲成捲筒狀，再在之後的步驟中一邊捲出一邊剝離。
<製造本發明的偏光片之較佳實施形態>
達成本發明中規定的偏光片之吸光度的方法，並無特別的控制，例如，以進行由調整染色步驟中使用的染色液中之碘化鉀含有量的控制、及/或調整交聯步驟中使用的交聯溶液中之硼酸含有量及碘化鉀含有量，即可有效地控制偏光片之吸光度。同時，染色步驟中的交聯步驟後之洗淨步驟中使用的洗淨液之溫度，也可依洗淨液中的停留時間而有效地控制偏光片之吸光度。
染色液中的碘化鉀含有量，雖因染色的實施方法而不同，但相對於溶劑(水等)100重量份時，碘化鉀之量以10重量份以下為佳，以7重量份以下更佳，以5重量份以下又更佳。因將染色液中的碘化鉀之含有量變 少，故容易使偏光片的吸光度控制在本發明的範圍中。
同時，利用二種類的交聯槽(交聯溶液)以二階段實施交聯步驟，可由調整第二槽之交聯溶液中的硼酸含有量與碘化鉀含有量之比例，而有效地將偏光片之吸光度控制在本發明的範圍中。具體上，在第二槽的交聯溶液中，相對於溶劑(水等)100重量份，硼酸含有量是以5.0至10.0重量份為佳，碘化鉀含有量是以10重量份以下為佳，並以7重量份以下更佳，而以5重量份以下又更佳。又，硼酸含有量與碘化鉀含有量之間有相互關係，因硼酸較多時碘化鉀較少，故可有效地控制偏光片之吸光度。反之，在硼酸較少時，即便使碘化鉀的份量增多時，也可趨使偏光片的吸光度控制在本發明的範圍中。
洗淨步驟中使用的洗淨液之溫度，由於是以較高者容易使偏光片的吸光度控制在本發明的範圍中，故以5℃以上為佳，以7℃以上更佳。但，如太過於提高洗淨液的溫度，則有因交叉尼科爾(音譯)的色相明顯變藍，或耐熱試驗時產生黃變的缺陷。因此，宜使用洗淨槽及洗淨淋灑器的二階段進行洗淨步驟，將洗淨槽內的洗淨液溫度設為較低的溫度，將自洗淨淋灑器噴出的洗淨液溫度設為較高的溫度。此時，係以將洗淨槽內的洗淨液溫度設定在5至13℃，將自洗淨淋灑器噴出的洗淨液溫度設定在13至20℃為佳。同時，洗淨步驟的時間，係以合計5至60秒左右為佳。
但是，對偏光片的吸光度影響的因素，還 存在若干其他的因素，由於也可因該等因素而使吸光度變化，所以並非只是單純的配合上述條件即可。此種因素，可列舉：例如延伸倍率、延伸縮幅、延伸溫度等。
具體上，因延伸倍率過高而難以控制吸光度，故最終的合計延伸倍率以6.0倍以下為佳。另一方面，由於倍率過低時，將不能良好的形成錯合物，故最終的合計延伸倍率以5.0倍以上為佳。同時，延伸溫度過高時，由於會進行聚乙烯醇的結晶化而難以控制偏光片的吸光度，故延伸溫度以170℃以下為佳。
又，此處所舉的範圍為其一例。由於可依此等的組合而決定最終之吸光度，故即使部分的製造條件超出上述範圍，也可發現達成本發明的吸光度之製造條件，此時也可獲得本發明的目的之效果。
<顯示器>
本發明的偏光板，可適用於顯示器上。參照第2圖，此顯示器，係可包含顯示用單元4與配置在其至少一面的上述本發明之偏光板1者。
偏光板1，係可使用設於偏光片5的外表面之黏著劑層2而配置、貼合在顯示用單元4。此種顯示器中，偏光板1的保護膜10係形成顯示器的外表面(典型上是最外表面)。
顯示器的代表例係顯示用單元4為液晶單元之液晶顯示器，也可以是如有機EL裝置的其他顯示器。顯示器中的偏光板，可配置在顯示用單元4的至少一面， 也可配置在兩面。
顯示器為液晶顯示器時，通常偏光板是配置在液晶單元的兩面。此時，兩面的偏光板可為本發明的偏光板，亦可為僅有一方的偏光板是本發明的偏光板。後者中，本發明的偏光板可為以液晶單元為基準的前側(辨識側)之偏光板，亦可為後側(背光側)的偏光板。液晶單元，可使用傳統已知型式之液晶單元。
[實施例]
以下，呈示實施例及比較例以更具體地說明本發明，但本發明並不侷限於此等例之範圍。
<實施例1>
(1)底漆層形成步驟
將聚乙烯醇粉末(日本合成化學工業(股)製的「Z-200」，平均聚合度1,100、皂化度99.5莫耳%)溶解於95℃的熱水中，調製成濃度3重量%的聚乙烯醇水溶液。在所得的水溶液中，相對於聚乙烯醇粉末6重量份，以5重量份之比例混合交聯劑(田岡化學工業(股)製的「SUMIREZ RESIN650」)，獲得底漆層形成用塗布液。
其次，準備作為基材膜的厚度90μm之未延伸聚丙烯(PP)膜(熔點：163℃)，在基材膜的兩面施予電暈處理。然後，使用小徑凹板塗佈機，將上述底漆層形成用塗布液塗佈在基材膜的一方之電暈處理面，以80℃使其乾燥10分鐘後，形成厚度0.2μm的底漆層。並且也在基材膜的相反側之面形成相同的底漆層。
(2)積層膜的製作(樹脂層形成步驟)
將聚乙烯醇粉末((股)Kuraray製的「PVA124」，平均聚合度2,400、皂化度98.0至99.0莫耳%)溶解於95℃的熱水中，調製濃度8重量%的聚乙烯醇水溶液，將此液作為聚乙烯醇系樹脂層形成用塗布液。
利用唇塗布機，將上述聚乙烯醇系樹脂層形成用塗布液塗布在上述(1)中在基材膜的兩面形成之底漆層表面之後，以80℃使其乾燥20分鐘後，在底漆層上形成聚乙烯醇系樹脂層，獲得包含聚乙烯醇系樹脂層/底漆層/基材膜/底漆層/聚乙烯醇系樹脂層的積層膜。
(3)延伸膜的製作(延伸步驟)
利用浮動的縱向一軸延伸裝置，以160℃對上述(2)中製作的積層膜進行5.8倍的自由端一軸延伸，獲得延伸膜。延伸後的聚乙烯醇系樹脂層之厚度，一共是6.1μm。
(4)偏光性積層膜的製作(染色步驟)
將上述(3)中製作的延伸膜浸泡在含有碘與碘化鉀之30℃的染色水溶液(每100重量份之水含有0.6重量份的碘、10重量份的碘化鉀。)中大約180秒，進行聚乙烯醇系樹脂層的染色處理之後，以10℃的純水沖洗多餘的染色水溶液。
接著，浸泡在含有硼酸的78℃之第1交聯水溶液(每100重量份之水含有硼酸9.5重量份。)中120秒，接著，浸泡在含有硼酸及碘化鉀的70℃之第2交聯水溶液(每100重量份之水含有硼酸9.5重量份、碘化鉀4重 量份。)中60秒，進行交聯處理。之後，以10℃的純水洗淨10秒，最後經40℃乾燥300秒後，獲得包含偏光片/底漆層/基材膜/底漆層/偏光片之偏光性積層膜。偏光片的厚度，一共是6.7μm。
(5)偏光板的製作(貼合步驟及剝離步驟)
準備環狀聚烯烴系樹脂膜(日本Zeon(股)製的「ZD12」，厚度50μm)，作為將偏光板配置在顯示用單元上時可配置在外側(辨識側)的保護膜。此保護膜的波長365nm中之光線穿透率，係2.6%。又，光線穿透率的測定，係利用(股)島津製作所製的分光光度計(UV2450)實施。
在此保護膜的貼合面施予電暈處理之後，利用小徑凹板塗佈機在該電暈處理面塗布光硬化性接著劑((股)ADEKA製的「KR-70T」)，透過該接著劑的塗布層，將保護膜配置在上述(4)中製作的偏光性積層膜之一方的偏光片上之後，利用貼合滾輪貼合。
接著，利用高壓水銀燈，由與保護膜相反側之偏光片側，以UVB的累積光量成為250mJ/cm2之方式，藉由將紫外線照射光硬化性接著劑上，(即，使紫外線通過二片偏光片照射在接著劑層上)，使接著劑硬化而形成接著劑層，獲得包含保護膜/接著劑層/偏光片/底漆層/基材膜/底漆層/偏光片之層構成的貼合膜(貼合步驟)。
接著，自所得的貼合膜剝離去除基材膜/底漆層/偏光子(與保護膜相反側的偏光片)之層構成(剝 離步驟)。含有基材膜的該層構成容易剝離，獲得包含保護膜/接著劑層/偏光片/底漆層之層構成的單面附保護膜之偏光板。
<實施例2至6、比較例1至4>
除了第2交聯水溶液中含有的硼酸及碘化鉀之量(每100重量份之水的份數)，與水洗槽及水洗淋灑器的溫度係如表1中所示以外，其餘進行與實施例1相同的操作，製作成偏光性積層膜及偏光板。
〔偏光片的吸光度測定〕
將實施例1至6及比較例1至4中所得的偏光性積層膜(未貼合保護膜)的單側之偏光片自基材膜剝離，測定殘留在基材膜上的偏光片(即，包含「基材膜/底漆層/偏光片」之層構成的試料膜)之吸光度。吸光度是利用吸光光度計(日本分光(股)製：V7100)測定，進行波長280nm至波長320nm的各波長之測定。V7100，係使用可測定紫外區域的型式(窗材為石英玻璃者)。波長280nm至波長320nm的各波長之測定中，在V7100設置偏光分離元件之格蘭湯姆森稜鏡，求得使試料膜配置成相對於該格蘭湯姆森稜鏡的交叉尼科爾位置時之穿透率，與將該狀態的試料膜旋轉90度配置時的穿透率之平均值，將此平均值作為試料的穿透率。
另外，利用下述式計算出各波長中的吸光度。
各波長中的吸光度=-log10(各波長中的穿透率(%)/ 100)
然後，在波長280nm至波長320nm中的吸光度之中，採用最大值作為該試料的最大吸光度。將各試料膜的最大吸光度表示於表1中。
〔棋盤格附著性試驗〕
將與實施例1至6及比較例1至4中獲得的偏光板之保護膜的相反側之面，利用感壓式接著劑(琳得科(股)製：P-3132)貼合在玻璃板上，利用裁刀自保護膜側僅將保護膜切出可形成100個1mm的正方形之棋盤格狀，依據「JIS D0202 4.15棋盤格附著性試驗方法」進行交叉切割試驗。將試驗後未剝離而留下的正方形數示於表1中。
〔耐濕熱試驗〕
進行耐濕熱試驗，以評估接著劑層中的光硬化性接著劑之單體反應率。如在接著劑層中有未反應單體殘留時，將因耐濕熱試驗而造成偏光片的脫色。利用黏著劑(琳得科(股)製：P-3132)，將實施例1至6及比較例1至4中所得的偏光板之保護膜與相反側之面貼合在無鹼玻璃板之後，於溫度80℃、濕度90% RH的環境下放置48小時。
然後，將未施予耐濕熱試驗的相同偏光板與無鹼玻璃的試驗之偏光板相反的面以成為交叉尼科爾的關係之方式貼合，在暗室中以背光觀察此貼合。造成脫色者，係脫色至無色透明而使全面漏光。反之，未造成脫色者，就是初期狀態的呈全黑。將觀察結果示於表1中。
1‧‧‧偏光板
5‧‧‧偏光片
10‧‧‧保護膜
15‧‧‧接著劑層

Claims (6)

  1. 一種偏光片，其在波長280至320nm中的最大吸光度為0.70以下。
  2. 一種偏光板，其具有申請專利範圍第1項所述之偏光片，與透過由光穿透性接著劑的硬化物所形成之接著劑層而層積在前述偏光片上的保護膜。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之偏光板，其中，前述保護膜的波長365nm中之光線穿透率未達5%。
  4. 如申請專利範圍第2或3項所述之偏光板，其中，前述光硬化性接著劑含有最大吸收波長為280至320nm之間的光聚合起始劑。
  5. 如申請專利範圍第2至4項中任一項所述之偏光板，其中，前述偏光片的厚度為10μm以下。
  6. 一種偏光性積層膜，其具有基材膜與設在該基材膜之兩面上的申請專利範圍第1項所述之偏光片。
TW103145448A 2013-12-26 2014-12-25 偏光板與貼合膜以及其製造方法 TWI630111B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013-269552 2013-12-26
JP2013269552 2013-12-26

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201531405A true TW201531405A (zh) 2015-08-16
TWI630111B TWI630111B (zh) 2018-07-21

Family

ID=53478591

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW103145448A TWI630111B (zh) 2013-12-26 2014-12-25 偏光板與貼合膜以及其製造方法

Country Status (6)

Country Link
US (1) US10132975B2 (zh)
JP (3) JP6279615B2 (zh)
KR (1) KR101903869B1 (zh)
CN (1) CN105849601B (zh)
TW (1) TWI630111B (zh)
WO (1) WO2015098734A1 (zh)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6560999B2 (ja) * 2016-03-09 2019-08-14 日東電工株式会社 硬化性樹脂組成物、偏光フィルムおよびその製造方法、光学フィルムならびに画像表示装置
JP7278075B2 (ja) 2016-05-17 2023-05-19 日東電工株式会社 偏光フィルムおよびその製造方法、光学フィルム、画像表示装置ならびに易接着処理偏光子
JP2018091980A (ja) * 2016-12-02 2018-06-14 住友化学株式会社 偏光フィルム及び偏光性積層フィルムの製造方法
KR102476698B1 (ko) * 2018-10-15 2022-12-14 닛토덴코 가부시키가이샤 위상차층 부착 편광판 및 이를 이용한 화상 표시 장치
KR102659449B1 (ko) * 2020-08-04 2024-04-19 삼성에스디아이 주식회사 편광판 및 이를 포함하는 광학표시장치
JP7159375B2 (ja) * 2021-03-10 2022-10-24 住友化学株式会社 光学積層体及び表示装置、並びに光学積層体の製造方法

Family Cites Families (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2825157B2 (ja) 1988-03-22 1998-11-18 ジェイエスアール株式会社 重合体の製造方法
JP2881751B2 (ja) 1989-03-10 1999-04-12 三井化学株式会社 メッキ用組成物およびメッキ物
JP2712643B2 (ja) 1989-10-06 1998-02-16 日本合成ゴム株式会社 熱可塑性樹脂成形品
JP3825508B2 (ja) 1996-09-17 2006-09-27 住友化学株式会社 ヨウ素系偏光フィルムの製造方法
JP4726145B2 (ja) 2007-01-11 2011-07-20 日東電工株式会社 偏光板用接着剤、偏光板、その製造方法、光学フィルムおよび画像表示装置
JP5204608B2 (ja) 2007-10-10 2013-06-05 日東電工株式会社 偏光板、光学フィルムおよび画像表示装置
JP2009134121A (ja) 2007-11-30 2009-06-18 Nitto Denko Corp 偏光板、光学フィルムおよび画像表示装置
JP2009139585A (ja) 2007-12-05 2009-06-25 Nitto Denko Corp 偏光板、光学フィルムおよび画像表示装置
JP2010085626A (ja) 2008-09-30 2010-04-15 Sumitomo Chemical Co Ltd 偏光板、ならびにそれを用いた液晶パネルおよび液晶表示装置
JP2010091603A (ja) * 2008-10-03 2010-04-22 Sumitomo Chemical Co Ltd 偏光板および液晶表示装置
CN101713838A (zh) 2008-10-03 2010-05-26 住友化学株式会社 偏振片和液晶显示装置
JP2010091602A (ja) 2008-10-03 2010-04-22 Sumitomo Chemical Co Ltd 偏光板および液晶表示装置
JP5430126B2 (ja) * 2008-11-13 2014-02-26 キヤノン株式会社 偏光子
JP5337467B2 (ja) * 2008-12-16 2013-11-06 日東電工株式会社 偏光板の製造方法
CN201615978U (zh) * 2009-12-16 2010-10-27 深圳市三利谱光电科技有限公司 宽视角tft型液晶显示器用偏光片
KR20120002815A (ko) 2010-07-01 2012-01-09 동우 화인켐 주식회사 편광자의 제조방법
US20130208201A1 (en) * 2010-10-12 2013-08-15 Sharp Kabushiki Kaisha Display device
JP5313297B2 (ja) 2010-12-24 2013-10-09 日東電工株式会社 活性エネルギー線硬化型接着剤組成物、偏光板、光学フィルムおよび画像表示装置
JP5143918B2 (ja) * 2011-02-02 2013-02-13 住友化学株式会社 偏光性積層フィルム、偏光板または基材フィルム付き偏光板の製造方法
JP2012203211A (ja) 2011-03-25 2012-10-22 Sumitomo Chemical Co Ltd 偏光板および液晶表示装置
CN102759758A (zh) * 2011-04-21 2012-10-31 富士胶片株式会社 光学膜、偏振片和液晶显示装置
JP5682517B2 (ja) * 2011-09-12 2015-03-11 コニカミノルタ株式会社 偏光板保護フィルム及び偏光板
JP5855947B2 (ja) * 2012-01-12 2016-02-09 住友化学株式会社 光硬化性接着剤、それを用いた偏光板および積層光学部材
JP5840959B2 (ja) * 2012-01-16 2016-01-06 エムテックスマート株式会社 塗布方法及び装置
JP6308721B2 (ja) 2012-03-30 2018-04-11 日東電工株式会社 偏光フィルム、光学フィルムおよび画像表示装置
JP6327659B2 (ja) 2012-03-30 2018-05-23 日東電工株式会社 偏光板のセットおよび液晶表示装置
JP6237764B2 (ja) * 2013-03-21 2017-11-29 コニカミノルタ株式会社 光学フィルム、円偏光板及び有機エレクトロルミネッセンス表示装置
WO2014188935A1 (ja) * 2013-05-21 2014-11-27 コニカミノルタ株式会社 位相差フィルム、該位相差フィルムを用いた円偏光板および画像表示装置

Also Published As

Publication number Publication date
US10132975B2 (en) 2018-11-20
JP6279615B2 (ja) 2018-02-14
JP2018097373A (ja) 2018-06-21
WO2015098734A1 (ja) 2015-07-02
CN105849601B (zh) 2019-04-12
KR101903869B1 (ko) 2018-10-02
JP6855398B2 (ja) 2021-04-07
KR20160102478A (ko) 2016-08-30
TWI630111B (zh) 2018-07-21
JPWO2015098734A1 (ja) 2017-03-23
CN105849601A (zh) 2016-08-10
JP2020042298A (ja) 2020-03-19
US20160320538A1 (en) 2016-11-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI555629B (zh) 延伸膜及其製造方法
US9709719B2 (en) Polarizer and polarizing plate including same
US9703025B2 (en) Polarizer and polarizing plate including same
KR101435358B1 (ko) 편광성 적층 필름과 편광판의 제조 방법
US10126592B2 (en) Polarizing plate and display apparatus
US20190369295A1 (en) Polarizing plate
JP6855398B2 (ja) 偏光板、貼合フィルム、及びこれらの製造方法
WO2014088122A1 (ja) 偏光性積層フィルムおよび偏光板の製造方法、偏光性積層フィルム、ならびに偏光板セット
TWI592705B (zh) 偏光片及含有該偏光片的偏光板