TW201514017A - 偏光板及圖像顯示裝置 - Google Patents

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Ryo Satake
Megumi Sekiguchi
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Abstract

本發明的課題在於提供一種即便在將外側層薄膜化的情況下亦可維持高硬度的偏光板及使用該偏光板的圖像顯示裝置。本發明的偏光板是依序包括黏著劑層、偏光元件及設置於較偏光元件更靠視認側的外側層的偏光板，且外側層的厚度超過3μm且為45μm以下，黏著劑層的貼合後的儲存彈性模數為0.1MPa~2.0MPa，在自外側層的與設置有偏光元件之側為相反側的表面A朝向外側層的設置有偏光元件之側的表面B，每1.5μm測定外側層的深度方向上的硬度，將第n次(其中，n表示1以上的整數)所測定的硬度與第n+1次所測定的硬度的差的絕對值定義為硬度差X，將外側層的表面A的硬度與外側層的表面B的硬度的差的絕對值定義為硬度差Y時硬度差X與硬度差Y的比率X/Y小於1。

Description

偏光板及圖像顯示裝置
本發明是有關於一種偏光板及圖像顯示裝置。
偏光板通常是使用於包含聚乙烯醇系膜(film)與碘等二色性材料的偏光元件的單面或兩面藉由聚乙烯醇系接著劑而貼合有使用三乙醯纖維素等的偏光元件用透明保護膜的偏光板。
另外，在將偏光板貼附(貼合)於液晶單元(liquid crystal cell)時，通常使用黏著劑，該黏著劑具有可將偏光板瞬時固定、固著偏光板時無需乾燥步驟等優點(merit)，因此預先以黏著劑層的形式設置於偏光板的單面。
進而，近年來，自薄型化的觀點考慮，使用僅於偏光元件的單面設置有透明保護膜，於偏光元件的另一單面設置有黏著劑層的偏光板。
例如，專利文獻1中，作為僅於偏光元件的單面具有透明保護膜，於另一單面具有黏著劑層，且即便在被置於低溫下及高溫下的嚴酷的環境下的情況下亦可滿足耐久性的黏著型偏光板([0007])，記載有「一種黏著型偏光板，其特徵在於：僅於偏光元件(P)的單面經由接著劑層(G)而設置有透明保護膜(E)， 於所述偏光元件(P)的另一單面經由拉伸彈性模數100MPa以上的保護層(H)而設置有黏著劑層(B)」([申請專利範圍第1項])。
[現有技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2010-009027號公報
本發明者等人對專利文獻1中記載的黏著型偏光板進行研究，結果明確顯示，根據貼合於顯示元件後的黏著劑層的硬度、或存在於較偏光元件更靠視認側的透明保護膜等(以下，稱為「外側層」)的厚度而有偏光板的硬度差的情況。
因此，本發明的課題在於提供一種即便在將外側層薄膜化的情況下亦可維持高硬度的偏光板及使用該偏光板的圖像顯示裝置。
本發明者等人為了達成所述課題而進行努力研究，結果發現，即便在將偏光板的外側層的厚度設為超過3μm且為45μm以下的薄膜的情況下，藉由以使黏著劑層的硬度於貼合後成為特定範圍內的方式進行設計，且規定外側層的深度方向上的硬度(分佈)與外側層的表面(視認側)及背面(偏光元件側)的硬度差的關係，可維持高硬度，從而完成本發明。
即，發現可藉由以下構成而達成所述目的。
[1]一種偏光板，其是依序包括黏著劑層、偏光元件、及設置於較偏光元件更靠視認側的外側層的偏光板，且外側層的厚度超過3μm且為45μm以下，黏著劑層的貼合後的儲存彈性模數為0.1MPa~2.0MPa，在自外側層的與設置有偏光元件之側為相反側的表面A朝向外側層的設置有偏光元件之側的表面B，每1.5μm測定外側層的深度方向上的硬度，將第n次所測定的硬度與第n+1次所測定的硬度的差的絕對值定義為硬度差X，將外側層的表面A的硬度與外側層的表面B的硬度的差的絕對值定義為硬度差Y時，硬度差X與硬度差Y的比率小於1；此處，n表示1以上的整數，比率是指硬度差X相對於硬度差Y的比例。
[2]如[1]所述的偏光板，其中外側層自視認側依序包括硬塗層(hard coat layer)及保護層，且於硬塗層與保護層之間包括硬塗層的構成材料與保護層的構成材料混合存在的混合層。
[3]如[1]所述的偏光板，其中外側層包括硬塗層的構成材料與保護層的構成材料混合存在的混合層。
[4]如[1]或[2]所述的偏光板，其中保護層的厚度與混合層的厚度的比率為2以上；此處，比率是指保護層的厚度相對於混合層的厚度的比例。
[5]一種圖像顯示裝置，其包括如[1]至[4]中任一項所述的偏光板、及顯示元件。
根據本發明，可提供一種即便在將外側層薄膜化的情況下亦可維持高硬度的偏光板及使用該偏光板的圖像顯示裝置。
1‧‧‧黏著劑層
2‧‧‧偏光元件
3‧‧‧外側層
4‧‧‧硬塗層
5‧‧‧保護層
6‧‧‧混合層
10‧‧‧偏光板
11‧‧‧液晶單元
20‧‧‧液晶顯示裝置
圖1是表示本發明的偏光板的一例的示意性剖面圖。
圖2是表示本發明的圖像顯示裝置的一例的示意性剖面圖。
以下，對本發明進行詳細說明。
以下記載的構成要件的說明有基於本發明的代表性的實施方式而完成的情況，但本發明並不限於此種實施方式。
此外，於本說明書中，使用「~」表示的數值範圍意指包含「~」的前後所記載的數值作為下限值及上限值的範圍。
[偏光板]
本發明的偏光板是依序包括黏著劑層、偏光元件、及設置於較偏光元件更靠視認側的外側層的偏光板，且外側層的厚度超過3μm且為45μm以下，黏著劑層的貼合後的儲存彈性模數為0.1MPa~2.0MPa，在自外側層的與設置有偏光元件之側為相反側的表面A(以下，亦簡稱為「表面A」)朝向外側層的設置有偏光元件之側的表面B(以下，亦簡稱為「表面B」)，每1.5μm測定外側層 的深度方向上的硬度，將第n次(其中，n表示1以上的整數)所測定的硬度與第n+1次所測定的硬度的差的絕對值定義為硬度差(X)，將外側層的表面A的硬度與外側層的表面B的硬度的差的絕對值定義為硬度差(Y)時，硬度差(X)與硬度差(Y)的比率(X/Y)小於1。
此處，「外側層的深度方向上的硬度」可藉由使用原子力顯微鏡(Atomic Force Microscope，AFM)的壓痕(Indentation)法(AFM壓痕法)進行測定，於本發明中，是指由壓痕深度計算的值，該壓痕深度可利用安裝有戴爾蒙德(DIAMOND)製造的伯克維奇壓頭(Berkovich indenter)的AFM(SPA400型，精工電子奈米科技(SIINT)公司製造)，針對藉由切片機(microtome)切削外側層所得的剖面，將伯克維奇壓頭以荷重400N/m壓入，其後拔出時確認。
此外，「外側層的深度方向上的硬度」不包括外側層的表面A及表面B的硬度，而是在自表面A向表面B的深度方向上，每1.5μm測定一次的硬度。
另外，「外側層的表面A的硬度」是指於與所述「外側層的深度方向上的硬度」的測定相同的條件下測定的表面A的硬度，「外側層的表面B的硬度」是指將外側層與偏光元件剝離而使外側層的表面B露出後，於與所述「外側層的深度方向上的硬度」的測定相同的條件下測定的表面B的硬度。
另外，所謂「硬度差(X)與硬度差(Y)的比率(X/Y) 小於1」，例如在外側層由多層(例如，後述硬塗層及保護層等)構成的情況下，是表示硬塗層與保護層的邊界附近的各層的硬度差小於硬塗層的表面(表面A)與保護層的表面(表面B)的硬度差，例如規定在外側層由多層構成的情況下特意使各層間存在硬度分佈。此外，在外側層由單層(例如，僅硬塗層)構成的情況下，所述比率(X/Y)成為小於1的0。
另外，「黏著劑層的貼合後的儲存彈性模數」是指製成圖像顯示裝置的狀態下的黏著劑層的儲存彈性模數，例如是指將黏著劑層貼合於液晶單元並根據實際的使用形態視需要使黏著劑硬化後的儲存彈性模數。
此外，於本發明中，「黏著劑層的貼合後的儲存彈性模數」是指使用黏著劑層(於來自圖像顯示裝置的分析中，為自圖像顯示裝置切取的黏著劑層)，製作直徑8mm、厚度1mm的圓柱試片，使用萊奧曼利酷(REOMETRIC)公司製造的測定器「DYNAMIC ANARYZER RDA II」，利用頻率1Hz的扭轉剪切法，於23℃下測定的儲存彈性模數。
具有此種構成的本發明的偏光板即便在將外側層薄膜化的情況下亦可維持高硬度。
對此，詳情尚不明確，但本發明者等人推測如下。
即，認為其原因在於，藉由硬度差(X)與硬度差(Y)的比率(X/Y)小於1，而於具有後述硬塗層及保護層的形態、或單獨使用後述硬塗層的形態中，厚度方向上的硬度幾乎無變化，或即 便在發生變化的情況下亦為緩和的變化，因此將硬度相對小的層所受的應力緩和地吸收。
於本發明中，就可將應力有効率地吸收且設計變得容易的觀點而言，所述硬度差(X)與硬度差(Y)的比率(X/Y)較佳為0.05~0.8，更佳為0.2~0.6。
圖1是示意性地表示本發明的偏光板的實施方式的一例的剖面圖。
圖1所示的偏光板10包括黏著劑層1、偏光元件2、及設置於較偏光元件2更靠視認側的外側層3。
另外，本發明的偏光板較佳為如圖1所示，包括硬塗層4與保護層5作為外側層，且於硬塗層4與保護層5之間包括硬塗層的構成材料與保護層的構成材料混合存在的混合層6。
以下，對構成本發明的偏光板的各層進行詳細說明。
[黏著劑層]
本發明的偏光板所具有的黏著劑層為用以將本發明的偏光板貼合於液晶單元而設置的層。
黏著劑層只要貼合於液晶單元後的儲存彈性模數成為0.10MPa~2.0MPa，則並無特別限定，例如可適當選擇使用現有公知的黏著劑。
另外，就不易產生裂紋(crack)或剝離，變得容易抑制液晶單元的尺寸變化的觀點而言，黏著劑層的所述儲存彈性模數較佳為0.15MPa~1.8MPa。
黏著劑例如可列舉：橡膠系黏著劑、丙烯酸系黏著劑、矽酮系黏著劑、胺基甲酸酯系黏著劑、乙烯基烷基醚系黏著劑、聚乙烯醇系黏著劑、聚乙烯基吡咯啶酮系黏著劑、聚丙烯醯胺系黏著劑、纖維素系黏著劑等。
該些之中，就透明性、耐候性、耐熱性等觀點而言，較佳為丙烯酸系黏著劑(感壓黏著劑)。
黏著劑層例如可藉由如下方法等而形成：將黏著劑的溶液塗佈於脫模片材(mold release sheet)上並乾燥後，將其轉印至偏光元件的表面(單面)的方法；將黏著劑的溶液直接塗佈於偏光元件的表面並使其乾燥的方法。
黏著劑的溶液例如可製備成於甲苯或乙酸乙酯等溶劑中溶解或分散有黏著劑的10質量%~40質量%左右的溶液。
塗佈法可採用反向塗佈(reverse coating)、凹版塗佈(gravure coating)等輥式塗佈法(roll coating method)、旋轉塗佈法(spin coating method)、網版塗佈法(screen coating method)、噴注式塗佈法(fountain coating method)、浸漬法(dipping method)、噴霧法(spray method)等。
另外，脫模片材的構成材料例如可列舉：聚乙烯、聚丙烯、聚對苯二甲酸乙二酯等合成樹脂膜；橡膠片材；紙；布；不織布；網狀物(net)；發泡片材；金屬箔等適當的薄片體等。
於本發明中，黏著劑層的厚度並無特別限定，較佳為3μm~50μm，更佳為4μm~40μm，進而較佳為5μm~30μm。
[偏光元件]
本發明的偏光板所具有的偏光元件並無特別限定，可使用各種偏光元件。
偏光元件例如可列舉如下者等：使聚乙烯醇系膜、部分縮甲醛化聚乙烯醇系膜、乙烯．乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等親水性高分子膜吸附碘或二色性染料等二色性物質並經單軸延伸而成者；聚乙烯醇的脫水處理物或聚氯乙烯的脫鹽酸處理物等多烯系配向膜。
該些之中，較佳為包含聚乙烯醇系膜與碘等二色性物質的偏光元件。
於本發明中，偏光元件的厚度並無特別限定，較佳為3μm~60μm，更佳為5μm~30μm，進而較佳為5μm~15μm。
[外側層]
本發明的偏光板所具有的外側層只要厚度(在具有後述硬塗層、保護層及混合層的情況下，為該些的合計厚度)超過3μm且為45μm以下，並且所述定義的硬度差(X)與硬度差(Y)的比率(X/Y)小於1，則並無特別限定。
本發明的偏光板如上所述，藉由硬度差(X)與硬度差(Y)的比率(X/Y)小於1，而即便在將外側層薄膜化的情況下亦可維持高硬度。
於本發明中，所述外側層亦可為單層(例如，僅硬塗層)，但就維持高硬度且容易進一步薄膜化的理由而言，較佳為自 視認側依序包括硬塗層及保護層，且於硬塗層與保護層之間包括硬塗層的構成材料與保護層的構成材料混合存在的混合層的形態；或不具有硬塗層及保護層而僅具有硬塗層的構成材料與保護層的構成材料混合存在的混合層的形態。
此處，表現所述理由的原因尚不明確，但可認為其原因在於，在所述混合層中，硬塗層的成分與保護層的成分以將各自的空隙填埋的方式纏結，結果結構變得緊密，與不具有混合層的形態相比硬度增大。
<硬塗層>
所述硬塗層是主要用以賦予偏光板的物理強度的層。
硬塗層較佳為藉由游離輻射硬化性化合物的交聯反應或聚合反應而形成。
例如，可藉由將包含游離輻射硬化性多官能單體(monomer)或多官能寡聚物(oligomer)的塗佈組成物塗佈於後述保護層上，使多官能單體或多官能寡聚物進行交聯或聚合而形成。
游離輻射硬化性多官能單體或多官能寡聚物的官能基較佳為光聚合性官能基、電子束聚合性官能基、輻射聚合性官能基，其中，較佳為光聚合性官能基。
光聚合性官能基可列舉：(甲基)丙烯醯基、乙烯基、苯乙烯基、烯丙基等不飽和的聚合性官能基等，其中，較佳為(甲基)丙烯醯基。
於本發明中，所述硬塗層的厚度只要為使外側層的厚度成為超過3μm且為45μm以下的厚度，則並無特別限定，較佳為 4μm~20μm，更佳為5μm~15μm。
另外，為了賦予內部散射性，亦可於硬塗層中含有平均粒徑為1.0μm~10.0μm、較佳為1.5μm~7.0μm的消光(mat)粒子、例如無機化合物粒子或樹脂粒子。
同樣地，為了控制硬塗層的折射率，可於硬塗層的黏合劑(binder)中添加高折射率單體或無機粒子或兩者。無機粒子除具有控制折射率的效果以外，亦具有抑制由交聯反應引起的硬化收縮的效果。於本發明中，包括形成硬塗層後所述多官能單體等進行聚合而生成的聚合物、分散於其中的無機粒子而稱為黏合劑。
<保護層>
所述保護層是主要用以保護偏光元件的層。
形成保護層的材料例如可列舉：纖維素系聚合物(polymer)；包含聚甲基丙烯酸甲酯、含內酯環的聚合物等丙烯酸酯聚合物的丙烯酸系聚合物；熱塑性降冰片烯系聚合物；聚碳酸酯系聚合物；聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系聚合物；聚苯乙烯、丙烯腈．苯乙烯共聚物(丙烯腈．苯乙烯(acrylonitrile styrene，AS)樹脂)等苯乙烯系聚合物；聚乙烯、聚丙烯、乙烯．丙烯共聚物等聚烯烴系聚合物；氯乙烯系聚合物；尼龍、芳香族聚醯胺等醯胺系聚合物；醯亞胺系聚合物；碸系聚合物；聚醚碸系聚合物；聚醚醚酮系聚合物；聚苯硫醚系聚合物；偏二氯乙烯系聚合物；乙烯醇系聚合物；乙烯醇縮丁醛系聚合物；芳酯(arylate)系聚合物；聚甲醛(polyoxymethylene)系聚合物；環氧系聚合物； 或將該些聚合物混合而成的聚合物。
另外，保護層亦可形成為丙烯酸系、胺基甲酸酯系、丙烯酸胺基甲酸酯系、環氧系或矽酮系等紫外線硬化型樹脂、熱硬化型樹脂的硬化層。
該些之中，可較佳地使用用作現有公知的偏光板的透明保護膜的以三乙醯纖維素為代表的纖維素系聚合物(以下，亦稱為「醯化纖維素」)。
另外，就加工性及光學性能的觀點而言，亦較佳為使用丙烯酸系聚合物。
丙烯酸系聚合物可列舉：聚甲基丙烯酸甲酯、或日本專利特開2009-98605號公報的段落[0017]~段落[0107]中記載的含內酯環的聚合物等。
於本發明中，所述保護層亦可與所述形成材料(尤其是醯化纖維素)一併含有至少一種塑化劑。其中，塑化劑通常會使膜的彈性模數降低，因此重要的是調整所使用的塑化劑的種類及添加量。若以低添加量添加糖酯及縮聚寡聚物系塑化劑，則有助於拉伸彈性模數的上升，故而較佳。其中，較佳為具有芳香族基的糖酯及縮聚寡聚物系塑化劑，更佳為糖酯。例如，藉由對包含糖酯的醯化纖維素膜進行延伸處理(較佳為雙軸延伸處理)，可使縱向(Machine Direction，MD)及橫向(Transverse Direction，TD)的拉伸彈性模數上升至所述範圍。另外，糖酯亦有助於改善醯化纖維素膜與硬塗層的密接性。
所述糖酯可列舉日本專利特開2012-215812號公報的段落[0022]~段落[0050]中記載的糖酯等。
另外，於本發明中，所述保護層的製作方法並無特別限定，例如聚合物膜(尤其是醯化纖維素膜)可利用溶液澆鑄法(solution cast method)(溶液流延法)、熔融擠出法、壓光法(calender method)、壓縮成形法等各種方法而製作。
該些製作方法之中，較佳為溶液澆鑄法(溶液流延法)、熔融擠出法，尤佳為溶液澆鑄法。另外，於溶液澆鑄法中，可使用將醯化纖維素溶解於有機溶劑中而成的溶液(濃液(dope))而製造膜。在使用所述添加劑的情況下，添加劑可於濃液製備的任一時間點(timing)添加。
具體而言，可參照日本專利特開2006-184640號公報的段落[0219]~段落[0224]中記載的醯化纖維素膜的製造方法、或日本專利特開2006-116936號公報的段落[0022]~段落[0046]及段落[0062]~段落[0088]以及圖式中記載的聚合物膜的溶液成膜方法等。
進而，於本發明中，所述保護層的厚度只要為使外側層的厚度成為超過3μm且為45μm以下的厚度，則並無特別限定，較佳為5μm~40μm，更佳為5μm~15μm。
<混合層>
所述混合層為所述硬塗層的構成材料與所述保護層的構成材料混合存在的層。
於本發明中，如上所述，在外側層由多層構成的情況下，藉 由具有此種混合層，可使所述定義的硬度差(X)與硬度差(Y)的比率(X/Y)小於1。
所述混合層的形成方法例如可列舉如下方法等：於所述保護層的視認側的表面形成所述硬塗層時，含有溶解所述保護層的有機溶劑作為包含游離輻射硬化性多官能單體或多官能寡聚物的塗佈組成物的方法；將使醯化纖維素與多官能丙烯酸系單體或寡聚物混合並延伸．硬化而製作的膜貼合於所述保護層的視認側的表面的方法。
此處，於前者的方法中，形成硬塗層的塗佈組成物的一部分使保護層的表面膨潤或溶解而與保護層的構成成分混合存在，藉此於使硬塗層硬化時形成混合層。
於此種前者的方法中，作為所述有機溶劑，例如在使用纖維素系聚合物作為所述保護層的形成材料的情況下，可列舉甲基乙基酮(Methyl Ethyl Ketone，MEK)、乙酸甲酯等，在使用丙烯酸系聚合物作為所述保護層的形成材料的情況下，可列舉正丁基溶纖劑等。
進而，於本發明中，所述混合層的厚度較佳為1μm~10μm，更佳為3μm~7μm。
尤其是，就可將偏光板的硬度維持得更高的理由而言，所述保護層的厚度與所述混合層的厚度的比率(保護層/混合層)較佳為2以上，更佳為2以上且30以下，進而較佳為3以上且20以下。
<其他層> (防眩層)
關於所述外側層，在具有所述硬塗層的情況下，就利用表面散射的防眩性或耐擦傷性的觀點而言，亦可於硬塗層的視認側的表面進而具有防眩層。
形成防眩層的方法例如已知有如日本專利特開平6-16851號公報記載般對表面具有微細凹凸的消光狀的賦型膜進行積層而形成的方法、如日本專利特開2000-206317號公報記載般藉由利用游離輻射照射量的差的游離輻射硬化型樹脂的硬化收縮而形成的方法、如日本專利特開2000-338310號公報記載般藉由利用乾燥使良溶劑相對於透光性樹脂的重量比減少而使透光性微粒子及透光性樹脂一面凝膠化一面固化而於塗膜表面形成凹凸的方法、如日本專利特開2000-275404號公報記載般藉由來自外部的壓力賦予表面凹凸的方法等，可利用該些公知的方法。
於本發明中，偏光板亦可在不脫離本發明的主旨的範圍內較佳地用作與具有用以提高顯示器(display)的視認性的抗反射膜、亮度提高膜等功能層的光學膜複合而成的功能化偏光板。該些的詳情可參考日本專利特開2012-082235號公報的段落0229~段落0242、段落0249~段落0250、日本專利特開2012-215812公報的段落0086~段落0103的記載，且該些內容被併入至本申請案說明書中。
[圖像顯示裝置]
本發明的圖像顯示裝置是包括所述本發明的偏光板、及顯示元件的圖像顯示裝置。
此處，本發明的圖像顯示裝置中所使用的顯示元件並無特別限定，例如可列舉：液晶單元、有機電致發光(Electroluminescence，EL)顯示面板(display panel)、電漿顯示面板(plasma display panel)等。
該些之中，較佳為液晶單元、有機EL顯示面板，更佳為液晶單元。即，本發明的圖像顯示裝置較佳為使用液晶單元作為顯示元件的液晶顯示裝置、使用有機EL顯示面板作為顯示元件的有機EL顯示裝置，更佳為液晶顯示裝置。
[液晶顯示裝置]
作為本發明的圖像顯示裝置的一例的液晶顯示裝置是包括所述本發明的偏光板、及液晶單元的液晶顯示裝置。
此外，於本發明中，設置於液晶單元的兩側的偏光板中，較佳為使用本發明的偏光板作為前(front)側的偏光板，更佳為使用本發明的偏光板作為前側及後側的偏光板。
圖2是示意性地表示本發明的圖像顯示裝置的實施方式的一例(液晶顯示裝置)的剖面圖。
圖2所示的液晶顯示裝置20包括液晶單元11、及設置於液晶單元11的兩側的偏光板10。此外，液晶單元是於未圖示的兩片電極基板之間擔載液晶層。
以下，對構成液晶顯示裝置的液晶單元進行詳細說明。
<液晶單元>
液晶顯示裝置中所利用的液晶單元較佳為垂直配向(Vertical Alignment，VA)模式(mode)、光學補償彎曲(Optically Compensated Bend，OCB)模式、共面切換(In-Plane Switching，IPS)模式、或扭轉向列(Twisted Nematic，TN)模式，但並不限定於該些。
於TN模式的液晶單元中，在未施加電壓時棒狀液晶性分子實質上水平配向，進而沿60°~120°扭轉配向。TN模式的液晶單元最多地被用作彩色(color)薄膜電晶體(Thin Film Transistor，TFT)液晶顯示裝置，於大量文獻中有記載。
於VA模式的液晶單元中，在未施加電壓時棒狀液晶性分子實質上垂直配向。VA模式的液晶單元包含(1)使棒狀液晶性分子在未施加電壓時實質上垂直配向、在施加電壓時實質上水平配向的狹義的VA模式的液晶單元(日本專利特開平2-176625號公報中記載)；以及(2)為了擴大視角而將VA模式多域化(multi-domain)而成的(多域垂直配向(Multi-domain Vertical Alignment，MVA)模式的)液晶單元(SID97，科技論文摘要(Digest of tech.Papers)(預稿集)28(1997)845中記載)；(3)使棒狀液晶性分子在未施加電壓時實質上垂直配向、在施加電壓時扭轉多域配向的模式(n-ASM模式)的液晶單元(日本液晶討論會的預稿集58~59(1998)中記載)及(4)SURVIVAL模式的液晶單元(國際液晶顯示器(LCD International)98中發表)。另外，亦可為圖案化垂直配向(Patterned Vertical Alignment，PVA)型、光配 向型(Optical Alignment)、及聚合物穩定配向(Polymer-Sustained Alignment，PSA)中的任一種。關於該些模式的詳情，於日本專利特開2006-215326號公報、及日本專利特表2008-538819號公報中有詳細的記載。
IPS模式的液晶單元中，棒狀液晶分子相對於基板實質上平行配向，藉由施加平行於基板面的電場而使液晶分子產生平面響應。IPS模式於未施加電場的狀態下成為黑顯示，上下一對偏光板的吸收軸正交。使用光學補償片材來減少斜向的黑顯示時的漏光而改良視角的方法於日本專利特開平10-54982號公報、日本專利特開平11-202323號公報、日本專利特開平9-292522號公報、日本專利特開平11-133408號公報、日本專利特開平11-305217號公報、日本專利特開平10-307291號公報等中有所揭示。
[有機EL顯示裝置]
作為本發明的圖像顯示裝置的一例的有機EL顯示裝置例如可較佳地列舉自視認側依序包括本發明的偏光板、具有λ/4功能的板(以下，亦稱為「λ/4板」)、及有機EL顯示面板的形態。
此處，所謂「具有λ/4功能的板」，是指具有將某特定波長的直線偏光轉換為圓偏光(或將圓偏光轉換為直線偏光)的功能的板，例如，作為λ/4板為單層結構的形態，具體而言，可列舉延伸聚合物膜、或於支持體上設置有具有λ/4功能的光學各向異性層的相位差膜等，另外，作為λ/4板為多層結構的形態，具體而言，可列舉將λ/4板與λ/2板積層而成的寬頻帶λ/4板。
另外，有機EL顯示面板是使用於電極間(陰極及陽極間)夾持有機發光層(有機電致發光層(organic electroluminescence layer))而成的有機EL元件構成的顯示面板。有機EL顯示面板的構成並無特別限制，可採用公知的構成。
[實施例]
以下，基於實施例對本發明進行更詳細的說明。以下的實施例所示的材料、使用量、比例、處理內容、處理順序等只要不脫離本發明的主旨則可適當變更。因此，本發明的範圍不應受以下所示的實施例限定地進行解釋。
<化合物(U-1)的合成>
於1L的三口燒瓶(flask with three necks)中添加25g的2-甲基戊烷-2,4-二醇、90mg的二乙酸二正丁基錫、及500ml的四氫呋喃(Tetrahydrofuran，THF)，於冰浴冷卻下將52.9g的異氰酸苯酯滴加至三口燒瓶中後，於40℃下反應2小時。
繼而，將反應混合物濃縮，藉由矽膠管柱層析法(silica gel column chromatography)(溶劑：乙酸乙酯/正己烷)進行精製而獲得白色固體，對所獲得的白色固體進行乾燥，藉此獲得下述式所表示的化合物(U-1)40g(產率53%)。
[實施例1~實施例22及實施例26~實施例35、比較例1~比較例14及比較例18~比較例25] (1)保護層的製作 <醯化纖維素膜(TAC-1)~醯化纖維素膜(TAC-4)的製膜> (醯化纖維素溶液T1的製備)
將下述組成物投入至混合槽(mixing tank)中，進行攪拌使各成分溶解，而製備醯化纖維素溶液T1。
添加劑(A-1)是使用下述化合物。使用下述結構式中， R表示苯甲醯基，平均取代度為5~7的化合物。
添加劑(A-2)是使用下述化合物(R9的各結構式及取代度如下所述)。
(丙烯酸系樹脂溶液P1的製備)
其次，將蒂阿諾(Dianal)BR88[三菱麗陽(Mitsubishi Rayon)股份有限公司製造]溶解於二氯甲烷及甲醇中，以成為與所述醯化纖維素溶液T1相同的黏度的方式進行濃度調整，而製備丙烯酸系樹脂溶液P1。
(共流延膜的製膜)
使用醯化纖維素溶液T1及丙烯酸系樹脂溶液P1進行溶液流延製膜，以成為下述表1的構成的方式製作剝離性積層膜。
具體而言，通過可進行兩層共流延的流延機(casting giesser)，以成為下述表1中記載的層構成的方式流延於金屬支持體上。
此時，以自金屬支持體面側依序成為下側層、上側層的方式進行流延，各層的黏度是以可進行共流延的方式根據各濃液的組合適當以固體成分濃度進行調整，以成為可進行均勻流延的狀態的方式進行設定。在處於金屬支持體上期間，藉由40℃的乾燥風將濃液乾燥而形成剝離性積層膜後將其剝去，利用針(pin)將剝離性積層膜的兩端固定，一面將其間以相同的間隔保持一面利用105℃的乾燥風乾燥5分鐘。將針卸除後，進而於130℃下乾燥20分鐘，以積層膜的狀態捲取。
繼而，將上層的薄膜自下層剝離，分別獲得具有下述表1中記載的膜厚的醯化纖維素膜(TAC-1)~醯化纖維素膜(TAC-4)。
<丙烯酸系聚合物膜(Acryl-1)的製膜>
於具備攪拌裝置、溫度感測器(sensor)、冷卻管及氮氣導入 管的內容積30L的反應釜中添加41.5質量份的甲基丙烯酸甲酯(MMA)、6質量份的2-(羥基甲基)丙烯酸甲酯(MHMA)、2.5質量份的2-[2'-羥基-5'-甲基丙烯醯氧基]乙基苯基]-2H-苯并三唑(大塚化學製造，商品名：RUVA-93)、作為聚合溶劑的50質量份的甲苯、0.025質量份的抗氧化劑(旭電化工業製造，Adekastab 2112)、及作為鏈轉移劑的0.025質量份的正十二烷基硫醇後，一面向反應釜通入氮氣，一面升溫至105℃。
在伴隨升溫的回流開始時，添加作為聚合起始劑的0.05質量份的過氧化異壬酸第三戊酯(阿科瑪吉富(Arkema Yoshitomi)製造，商品名：Luperox 570)，並且一面歷時3小時滴加0.10質量份的過氧化異壬酸第三戊酯，一面於約105℃~110℃的回流下進行溶液聚合，進而進行4小時的老化。
其次，於所獲得的聚合溶液中添加作為環化縮合反應的觸媒(環化觸媒)的0.05質量份的磷酸2-乙基己酯(堺化學工業製造，Phoslex A-8)，於約90℃~110℃的回流下進行2小時環化縮合反應後，藉由240℃的高壓釜(autoclave)將聚合溶液加熱30分鐘，使環化縮合反應進一步進行。
其次，於反應進行後的聚合溶液中混合作為紫外線吸收劑的CGL777MPA(汽巴精化(Ciba Specialty Chemicals)製造)0.94質量份。
其次，將所獲得的聚合溶液以樹脂量換算計為45kg/小時的處理速度導入至滾筒(barrel)溫度240℃、旋轉速度100rpm、 減壓度13.3hPa~400hPa(10mmHg~300mmHg)、後通氣孔(rear vent)數1個及前通氣孔(fore vent)數4個(自上流側起稱為第1通氣孔、第2通氣孔、第3通氣孔、第4通氣孔)、於前端部配置有葉片(leaf disc)型的聚合物過濾片(filter)(過濾精度5μm，過濾面積1.5m2)的通氣孔型螺桿(screw)雙軸擠出機(Φ=50.0mm，L/D=30)，進行去灰分。此時，將另外預先準備的抗氧化劑/環化觸媒失活劑的混合溶液以0.68kg/小時的投入速度自第1通氣孔後投入，將離子交換水(ion-exchange water)以0.22kg/小時的投入速度自第3通氣孔後投入。
抗氧化劑/環化觸媒失活劑的混合溶液是使用將50質量份的抗氧化劑(住友化學製造的Sumilizer GS)與作為失活劑的35質量份的辛酸鋅(日本化學產業製造，Nikka octhix Zinc 3.6%)溶解於甲苯質量200份中而成的溶液。
其次，去灰分結束後，將殘留於擠出機內的處於熱熔融狀態的樹脂自擠出機的前端一面伴隨利用聚合物過濾片的過濾一面排出，藉由造粒機(pelletizer)進行造粒化(pelletization)，而獲得包含主鏈上具有內酯環結構的丙烯酸系樹脂及紫外線吸收劑的透明樹脂組成物的顆粒。樹脂的重量平均分子量為145,000，樹脂及樹脂組成物的玻璃轉移溫度(glass transition temperature，Tg)為122℃。
使用雙軸擠出機將所述製作的包含主鏈上具有內酯環結構的丙烯酸系樹脂及紫外線吸收劑的透明的樹脂組成物的顆粒 自衣架(coat hanger)型T型模(T die)熔融擠出，而獲得厚度40μm的丙烯酸系聚合物膜(Acryl-1)。
<丙烯酸系聚合物膜(Acryl-2)的製膜>
將利用熔融擠出的厚度設為20μm，除此以外，利用與丙烯酸系聚合物膜(Acryl-1)相同的方法，獲得厚度20μm的丙烯酸系聚合物膜(Acryl-2)。
(2)硬塗層的製膜 <硬塗層用塗佈液(HC-1)的製備>
將各成分以如下所示的組成混合，利用孔徑30μm的聚丙烯製過濾片進行過濾而製備硬塗層用塗佈液(HC-1)。
將硬塗層用塗佈液(HC-1)的組成中所使用的化合物示於以下。
．DPHA：二季戊四醇六丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯的混合物[日本化藥股份有限公司製造]
．PET30：季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯的混合物[日本化藥股份有限公司製造]
．Irgacure 184：聚合起始劑[巴斯夫(BASF)公司製造]
．FP-13：日本專利特開2009-063983號公報[0341]中記載的氟系表面活性劑
<硬塗層用塗佈液(HC-2)~硬塗層用塗佈液(HC-11)的製備>
以與硬塗層用塗佈液(HC-1)相同的方式，將下述表2所示的各成分以下述表2所示的組成混合，利用孔徑30μm的聚丙烯製過濾片進行過濾而製備硬塗層用塗佈液(HC-2)~硬塗層用塗佈液(HC-11)。
將所述表2中與硬塗層用塗佈液(HC-1)中所使用的組成不同的化合物示於以下。
．DPHA-40H：DPHA與六亞甲基二異氰酸酯的反應物[日本化藥股份有限公司製造]
．BISCOAT 360：三羥甲基丙烷環氧丙烷(Propylene Oxide，PO)改質三丙烯酸酯[大阪有機化學工業股份有限公司製造]
．丙烯酸4-羥基丁酯：[日本化成股份有限公司製造]
．Irgacure 127：聚合起始劑[BASF公司製造]
<硬塗層的形成>
將下述表3及表4所示的醯化纖維素膜(TAC-1)~醯化纖維素膜(TAC-4)或丙烯酸系聚合物膜(Acryl-1)~丙烯酸系聚合物膜(Acryl-2)設為支持體，利用模具塗佈法(die coat method)設定為下述表3及表4所示的塗佈厚度而將下述表3及表4所示的硬塗層用塗佈液(HC-1)~硬塗層用塗佈液(HC-11)塗佈於支持體上。
繼而，於室溫下乾燥120秒、進而於60℃下乾燥150秒後，一面進行氮氣沖洗(nitrogen purge)(氧濃度0.5%以下)，一面使用160W/cm的空冷金屬鹵化物燈(air cooling metal halide lamp)(岩崎(Eye Graphics)股份有限公司製造)照射照度400mW/cm2、照射量150mJ/cm2的紫外線而使塗佈層硬化，形成硬塗層。
此處，實施例中所使用的硬塗層用塗佈液中的塗佈溶劑均是將醯化纖維素膜或丙烯酸系聚合物膜的表面溶解而使醯化纖維素 膜或丙烯酸系聚合物膜的一部分或全部形成為混合層。
<防眩層用塗佈液(AG-1)的製備>
以如下所示的組成製作各成分，利用孔徑30μm的聚丙烯製過濾片進行過濾而製備防眩層用塗佈液(AG-1)。
關於實施例21、實施例22及實施例25，形成硬塗層後，利用模具塗佈法以5μm的塗佈厚度塗佈防眩層用塗佈液(AG-1)。
繼而，於60℃下乾燥150秒後，一面進行氮氣沖洗(氧濃度0.5%以下)，一面使用160W/cm的空冷金屬鹵化物燈(岩崎股份有限公司製造)照射照度400mW/cm2、照射量150mJ/cm2的紫外線而使塗佈層硬化，形成厚度5μm的防眩層。
將防眩層用塗佈液(AG-1)的組成中所使用的化合物示於以下。
．PET30：季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯的混合物[日本化藥股份有限公司製造]
．BISCOAT 360：三羥甲基丙烷PO改質三丙烯酸酯[大阪有機化學工業股份有限公司製造]
．Irgacure 127：聚合起始劑[BASF公司製造]
．丙烯酸系粒子分散液：TECHPOLYMER[積水化成品工業股份有限公司製造]
．FP-13：日本專利特開2009-063983號公報[0341]中記載的氟系表面活性劑
(3)偏光板的製作 <醯化纖維素膜的皂化處理>
將以上製作的形成有硬塗層(在具有防眩層的情況下為防眩層)的醯化纖維素膜於2.3mol/L的氫氧化鈉水溶液中於55℃下浸漬3分鐘。
繼而，於室溫的水洗浴槽中進行洗淨，於30℃下使用0.05mol/L的硫酸進行中和。其後，再次於室溫的水洗浴槽中進行洗淨，進而利用100℃的溫風進行乾燥。
如此，對醯化纖維素膜進行表面的皂化處理。
<使用醯化纖維素膜的偏光板的製作>
使經延伸的聚乙烯醇膜吸附碘而製作偏光元件。
使用聚乙烯醇系接著劑將上述經皂化處理的醯化纖維素膜貼附於偏光元件的單側。此時，以使偏光元件的透射軸與醯化纖維素膜的慢軸平行的方式配置。
<使用丙烯酸系聚合物膜的偏光板的製作>
使用下述環氧系接著劑組成物將以上製作的形成有硬塗層的丙烯酸系聚合物膜的不具有硬塗層之側的表面貼附於所述製作的偏光元件的單側。此時，以使偏光元件的透射軸與丙烯酸系聚合物膜的慢軸平行的方式配置。
<環氧系接著劑組成物>
<黏著劑層的貼附>
將醯化纖維素膜或丙烯酸系聚合物膜貼附於偏光元件的單面後，將下述表3及表4所示的黏著劑A或黏著劑B貼附於偏光元件的與貼附有醯化纖維素膜或丙烯酸系聚合物膜之側為相反側的面，而製作偏光板。
(黏著劑A)
丙烯酸丁酯與丙烯酸的共聚物中添加有丙烯酸胺基甲酸酯寡聚物及異氰酸酯系交聯劑的黏著劑層於實施有脫模處理的聚對苯 二甲酸乙二酯膜(隔離膜(separator))的脫模處理面使用以5μm的厚度形成的片狀黏著劑。此外，藉由所述方法測定該黏著劑A的儲存彈性模數，結果黏著劑D的儲存彈性模數於23℃下為0.50MPa。
(黏著劑B)
利用模具塗佈機(die coater)將丙烯酸丁酯與丙烯酸的共聚物中添加異氰酸酯系交聯劑而成的有機溶劑溶液以乾燥後的厚度成為15μm的方式塗敷於實施有脫模處理的厚度38μm的聚對苯二甲酸乙二酯膜(隔離膜)的脫模處理面而成的附有隔離膜的片狀黏著劑。此外，藉由所述方法測定該黏著劑B的儲存彈性模數，結果黏著劑B的儲存彈性模數於23℃下為0.05MPa。
[實施例23]
於偏光元件與黏著劑層之間，使用硬塗層用塗佈液(HC-1)於與實施例1相同的條件下設置硬塗層，除此以外，藉由與實施例4相同的方法製作偏光板。
[實施例24]
於偏光元件與黏著劑層之間，使用硬塗層用塗佈液(HC-1)於與實施例1相同的條件下設置硬塗層，除此以外，藉由與實施例8相同的方法製作偏光板。
[實施例25]
於偏光元件與黏著劑層之間，使用硬塗層用塗佈液(HC-1)於與實施例1相同的條件下設置硬塗層，除此以外，藉由與實施 例21相同的方法製作偏光板。
[比較例15]
於偏光元件與黏著劑層之間，使用硬塗層用塗佈液(HC-1)於與實施例1相同的條件下設置硬塗層，除此以外，藉由與比較例4相同的方法製作偏光板。
[比較例16]
於偏光元件與黏著劑層之間，使用硬塗層用塗佈液(HC-1)於與實施例1相同的條件下設置硬塗層，除此以外，藉由與比較例10相同的方法製作偏光板。
[比較例17]
於偏光元件與黏著劑層之間，使用硬塗層用塗佈液(HC-1)於與實施例1相同的條件下設置硬塗層，除此以外，藉由與比較例14相同的方法製作偏光板。
<硬度差(X)>
針對所製作的各偏光板的外側層，以如下方式測定深度方向上的硬度。
首先，使用切片機將偏光板的外側層沿深度方向切削而使剖面露出。
繼而，利用安裝有戴爾蒙德製造的伯克維奇壓頭的AFM(SPA400型，SIINT公司製造)，針對所述剖面，沿深度方向每1.5μm將伯克維奇壓頭以荷重400N/m壓入，其後拔出，測定此時可確認到的壓痕深度(硬度)。
<硬度差(Y)>
針對所製作的各偏光板的外側層，以如下方式測定表面A(硬塗層或防眩層的表面)及表面B(保護層與偏光元件的界面)的硬度。
(表面A)
利用安裝有戴爾蒙德製造的伯克維奇壓頭的AFM(SPA400型，SIINT公司製造)，將伯克維奇壓頭以荷重400N/m壓入，其後拔出，測定此時可確認到的壓痕深度(硬度)。
(表面B)
將所製作的各偏光板中的保護層與偏光元件剝離而使保護層的表面(表面B)露出後，藉由與表面A相同的方法測定硬度。
<硬度差的比率(X/Y)>
計算硬度差(X)的各值(深度方向上的硬度的各差)與硬度 差(Y)的比率(X/Y)。
此處，下述表5及表6中，關於硬度差的比率(X/Y)，作為其代表值，表示硬度差(X)的各值的最大值與硬度差(Y)的比率、即比率(X/Y)的最大值。
<硬度的評價>
所製作的偏光板的硬度是藉由日本工業標準(Japanese Industrial Standards，JIS)K5400-5-4中記載的刮痕硬度(鉛筆法)而評價。
具體而言，將偏光板於溫度25℃、濕度60%RH的條件下進行2小時調濕後，使用JIS S6006中規定的2H及3H的試驗用鉛筆，以500g的荷重分別進行20次試驗，按照如下判定進行評價。
此外，鉛筆的試驗方向(刮劃方向)是設為與保護層(醯化纖維素膜)製膜時的搬送方向(長邊方向)、或硬塗層的塗佈方向平行。
(硬度判定基準)
A：20次試驗中，傷痕的個數為0個以上且3個以下。
B：20次試驗中，傷痕的個數為4個以上且6個以下。
C：20次試驗中，傷痕的個數為7個以上。
(評價基準)
5：2H的試驗及3H的試驗中硬度判定均為「A」等級(level)。
4：2H的試驗中的硬度判定為「A」等級，3H的試驗中的硬度判定為「B」等級。
3：『2H的試驗中的硬度判定為「A」等級，3H的試驗中的硬度判定為「C」等級』，或者『2H的試驗及3H的試驗中硬度判定均為「B」等級』。
2：2H的試驗中的硬度判定為「B」等級，3H的試驗中的硬度判定為「C」等級。
1：2H的試驗及3H的試驗中硬度判定均為「C」等級。
根據表1~表6所示的結果可知，在黏著劑層的貼合後的儲存彈性模數低的情況下、或於硬塗層與保護層之間無混合層而外側層的硬度差的比率(X/Y)的最大值為1以上的情況下、即 不滿足比率(X/Y)<1的情況下，偏光板的硬度均差(比較例1~比較例25)。
相對於此，可知，即便在將偏光板的外側層的厚度設為超過3μm且為45μm以下的薄膜的情況下，使用貼合後的儲存彈性模數成為特定範圍的黏著劑層設置硬塗層的構成材料與保護層的構成材料的混合層等而外側層的硬度差的比率(X/Y)的最大值小於1時、即滿足比率(X/Y)<1時，偏光板的硬度亦均變高(實施例1~實施例35)。
1‧‧‧黏著劑層
2‧‧‧偏光元件
3‧‧‧外側層
4‧‧‧硬塗層
5‧‧‧保護層
6‧‧‧混合層
10‧‧‧偏光板

Claims (5)

  1. 一種偏光板，其是依序包括黏著劑層、偏光元件、及設置於較所述偏光元件更靠視認側的外側層的偏光板，且所述外側層的厚度超過3μm且為45μm以下，所述黏著劑層的貼合後的儲存彈性模數為0.1MPa~2.0MPa，在自所述外側層的與設置有所述偏光元件之側為相反側的表面A朝向所述外側層的設置有所述偏光元件之側的表面B，每1.5μm測定所述外側層的深度方向上的硬度，將第n次所測定的硬度與第n+1次所測定的硬度的差的絕對值定義為硬度差X，將所述外側層的所述表面A的硬度與所述外側層的所述表面B的硬度的差的絕對值定義為硬度差Y時，所述硬度差X與所述硬度差Y的比率小於1；此處，所述n表示1以上的整數，所述比率是指所述硬度差X相對於所述硬度差Y的比例。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的偏光板，其中所述外側層自視認側依序包括硬塗層及保護層，且於所述硬塗層與所述保護層之間包括所述硬塗層的構成材料與所述保護層的構成材料混合存在的混合層。
  3. 如申請專利範圍第1項所述的偏光板，其中所述外側層包括硬塗層的構成材料與保護層的構成材料混合存在的混合層。
  4. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的偏光板，其中所述 保護層的厚度與所述混合層的厚度的比率為2以上；此處，所述比率是指所述保護層的厚度相對於所述混合層的厚度的比例。
  5. 一種圖像顯示裝置，其包括如申請專利範圍第1項至第4項中任一項所述的偏光板、及顯示元件。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106980148A (zh) * 2016-01-19 2017-07-25 住友化学株式会社 偏振板及图像显示装置

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104820309B (zh) * 2015-05-19 2018-04-17 京东方科技集团股份有限公司 一种光学组件及其制造方法、偏光片
KR20180033453A (ko) * 2015-07-28 2018-04-03 소켄 케미칼 앤드 엔지니어링 캄파니, 리미티드 편광판용 점착제 조성물, 점착제층 및 점착제층 부착 편광판
JP6680003B2 (ja) * 2016-03-11 2020-04-15 東レ株式会社 積層体
WO2017188428A1 (ja) * 2016-04-28 2017-11-02 富士フイルム株式会社 偏光板、偏光板の製造方法、液晶表示装置
KR102184392B1 (ko) * 2017-11-28 2020-11-30 주식회사 엘지화학 광학 디바이스
KR102458350B1 (ko) * 2017-12-27 2022-10-24 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치
KR102171277B1 (ko) * 2018-06-12 2020-10-28 주식회사 엘지화학 광학 디바이스
WO2020021931A1 (ja) * 2018-07-27 2020-01-30 富士フイルム株式会社 ハードコートフィルム、ハードコートフィルムを備えた物品、及び画像表示装置
JP7234654B2 (ja) * 2019-01-28 2023-03-08 株式会社リコー 電極及びその製造方法、電極素子、非水電解液蓄電素子
JP7198946B2 (ja) * 2019-12-05 2023-01-04 富士フイルム株式会社 光学積層体、偏光板、画像表示装置、抵抗膜式タッチパネル及び静電容量式タッチパネル
WO2021182486A1 (ja) * 2020-03-10 2021-09-16 株式会社トッパンＴｏｍｏｅｇａｗａオプティカルフィルム 偏光板及びこれを用いた表示装置
JP2021144076A (ja) * 2020-03-10 2021-09-24 株式会社トッパンＴｏｍｏｅｇａｗａオプティカルフィルム 偏光板及びこれを用いた表示装置
JP7315122B1 (ja) 2021-10-20 2023-07-26 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 ハードコートフィルムおよびその製造方法
JP7448067B1 (ja) 2023-04-19 2024-03-12 ａｒｔｉｅｎｃｅ株式会社 帯電防止性ハードコートフィルム

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006106714A (ja) * 2004-09-13 2006-04-20 Fuji Photo Film Co Ltd 反射防止フィルム、偏光板、および液晶表示装置
US20090061114A1 (en) 2004-09-13 2009-03-05 Fujifilm Corporation Anti-reflection film, polarizing plate, and liquid crystal display device
JP2006297914A (ja) * 2005-03-25 2006-11-02 Fuji Photo Film Co Ltd ポリマーフィルム
WO2006101251A1 (en) 2005-03-25 2006-09-28 Fujifilm Corporation Optical film
US7960018B2 (en) * 2006-03-29 2011-06-14 Fujifilm Corporation Optical film, polarizing plate, image display, and manufacturing method of optical film
EP2093594B1 (en) * 2006-12-01 2013-01-09 Kuraray Co., Ltd. Pressure-sensitive adhesive for optical films
JP5324316B2 (ja) 2008-05-27 2013-10-23 日東電工株式会社 粘着型偏光板、画像表示装置およびそれらの製造方法
JP2010044211A (ja) * 2008-08-12 2010-02-25 Sumitomo Chemical Co Ltd 偏光板及びそれを用いた画像表示装置
JP5532046B2 (ja) * 2009-03-31 2014-06-25 コニカミノルタ株式会社 ハードコートフィルムの製造方法及び液晶パネルの製造方法
JP2013195550A (ja) * 2012-03-16 2013-09-30 Toppan Printing Co Ltd 光学フィルム、光学表示装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106980148A (zh) * 2016-01-19 2017-07-25 住友化学株式会社 偏振板及图像显示装置
CN106980148B (zh) * 2016-01-19 2018-04-17 住友化学株式会社 偏振板及图像显示装置

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Publication number Publication date
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JPWO2015046225A1 (ja) 2017-03-09
US20160209552A1 (en) 2016-07-21
US9989675B2 (en) 2018-06-05

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