TW201511827A - 伴隨氣體成分之生成的反應方法 - Google Patents

伴隨氣體成分之生成的反應方法 Download PDF

Info

Publication number
TW201511827A
TW201511827A TW103126158A TW103126158A TW201511827A TW 201511827 A TW201511827 A TW 201511827A TW 103126158 A TW103126158 A TW 103126158A TW 103126158 A TW103126158 A TW 103126158A TW 201511827 A TW201511827 A TW 201511827A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
reaction
compound
flow path
boiling point
gas
Prior art date
Application number
TW103126158A
Other languages
English (en)
Other versions
TWI562826B (en
Inventor
Masaaki Shinohata
Takeharu Sasaki
Nobuhisa Miyake
Original Assignee
Asahi Kasei Chemicals Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Kasei Chemicals Corp filed Critical Asahi Kasei Chemicals Corp
Publication of TW201511827A publication Critical patent/TW201511827A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI562826B publication Critical patent/TWI562826B/zh

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D19/00—Degasification of liquids
    • B01D19/0042—Degasification of liquids modifying the liquid flow
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D1/00—Evaporating
    • B01D1/04—Evaporators with horizontal tubes
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D19/00—Degasification of liquids
    • B01D19/0005—Degasification of liquids with one or more auxiliary substances
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D3/00—Distillation or related exchange processes in which liquids are contacted with gaseous media, e.g. stripping
    • B01D3/009—Distillation or related exchange processes in which liquids are contacted with gaseous media, e.g. stripping in combination with chemical reactions
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J14/00—Chemical processes in general for reacting liquids with liquids; Apparatus specially adapted therefor
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J19/0093—Microreactors, e.g. miniaturised or microfabricated reactors
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C263/00—Preparation of derivatives of isocyanic acid
    • C07C263/06—Preparation of derivatives of isocyanic acid from or via ureas
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C265/00—Derivatives of isocyanic acid
    • C07C265/14—Derivatives of isocyanic acid containing at least two isocyanate groups bound to the same carbon skeleton
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C269/00—Preparation of derivatives of carbamic acid, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atom not being part of nitro or nitroso groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C269/00—Preparation of derivatives of carbamic acid, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atom not being part of nitro or nitroso groups
    • C07C269/04—Preparation of derivatives of carbamic acid, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atom not being part of nitro or nitroso groups from amines with formation of carbamate groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C271/00—Derivatives of carbamic acids, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atom not being part of nitro or nitroso groups
    • C07C271/02—Carbamic acids; Salts of carbamic acids
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C271/00—Derivatives of carbamic acids, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atom not being part of nitro or nitroso groups
    • C07C271/06—Esters of carbamic acids
    • C07C271/40—Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings
    • C07C271/42—Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings with the nitrogen atoms of the carbamate groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms
    • C07C271/44—Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings with the nitrogen atoms of the carbamate groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms to hydrogen atoms or to carbon atoms of unsubstituted hydrocarbon radicals
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C271/00—Derivatives of carbamic acids, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atom not being part of nitro or nitroso groups
    • C07C271/06—Esters of carbamic acids
    • C07C271/40—Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings
    • C07C271/42—Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings with the nitrogen atoms of the carbamate groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms
    • C07C271/52—Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings with the nitrogen atoms of the carbamate groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms to carbon atoms of hydrocarbon radicals substituted by nitrogen atoms not being part of nitro or nitroso groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C67/00—Preparation of carboxylic acid esters
    • C07C67/08—Preparation of carboxylic acid esters by reacting carboxylic acids or symmetrical anhydrides with the hydroxy or O-metal group of organic compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C69/00—Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
    • C07C69/02—Esters of acyclic saturated monocarboxylic acids having the carboxyl group bound to an acyclic carbon atom or to hydrogen
    • C07C69/12—Acetic acid esters
    • C07C69/14—Acetic acid esters of monohydroxylic compounds
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/10—Process efficiency

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

本發明係關於一種反應方法，其係具備下述步驟：供給含有至少1種原料化合物、具有比該原料化合物之標準沸點低的標準沸點之低沸點化合物之液體至流徑之步驟；加熱液體並藉由原料化合物之反應而生成液狀反應生成物及氣體成分之步驟；以及將含有反應生成物之液相、與含有氣體成分及低沸點化合物之氣相分離之步驟。

Description

伴隨氣體成分之生成的反應方法
本發明係關於一種有效率地實施伴隨氣體成分之生成的平衡反應之方法。
以往所實施之反應中多數的反應係正反應與逆反應以一定的比例存在之平衡反應。平衡反應之平衡對生成系側不利時，一般係進行將生成物中之至少1種從反應系分離，使上述平衡對生成系有利以提高反應效率(平衡轉化率)。就從反應系分離生成物之方法而言，已知有多種方法，但最一般的施行方法之一係蒸餾分離。一邊藉由蒸餾從反應系去除生成物一邊使平衡反應偏向生成側而進行反應之方法係根據反應蒸餾，例如非專利文獻1中記載呈示具體例以說明反應蒸餾。
一般而言，反應蒸餾係藉由使用連續式多段蒸餾塔(反應蒸餾裝置)等蒸餾塔而實施。在該蒸餾塔內進行反應蒸餾時，伴隨著反應進行，反應液所含之較高沸點之成分多數分布於蒸餾塔之下段側，並且較低沸點之成分多數分布於蒸餾塔之上段側。因此，該蒸餾塔中，隨著 從塔底往塔頂，塔內之溫度(液溫)係變低。平衡反應之反應速度溫度越低則越慢。因此，在上述蒸餾塔內進行反應蒸餾時，隨著從塔底往塔頂，反應速度變慢。亦即，在該蒸餾塔內進行反應蒸餾時，隨著從塔底往塔頂，平衡反應之反應效率會降低。
在此，為了提高反應效率，亦即為了加速反應速度，而檢討更進一步提高塔內溫度。例如，專利文獻1揭示將溶劑供給至反應蒸餾塔並提高該反應蒸餾塔內之溫度使反應有利地進行之方法，其係作為有效率地進行以原料(P)+原料(Q)生成物(R)+生成物(S)所表示之平衡反應，尤其酯交換反應之方法。
又，已知使用稱為微通道反應器之流徑形成體，其係作為用以提升反應生成物之收率及純度、或安全地實施伴隨危險性之反應之反應裝置(參照專利文獻2)。微通道反應器與一般的反應容器相比，可更有效率地散熱，因此即使在高溫仍可安全地進行硝化等之危險的反應。又，可迅速進行反應系之加熱及冷卻，反應調控容易。可使用實驗室所使用之微通道反應器處理之化合物之量少，但可增加微通道數目來放大工業製程。因此，若可使用微通道反應器來實施如上述之反應蒸餾，則工業價值高。
然而，使用微通道反應器之方法，會有無法實施如反應蒸餾之部分成分成為氣體之反應之問題。若係如上述之連續式多層蒸餾塔(反應蒸餾裝置)，由於氣體成分總是從液相脫離，為了使液相中之濃度低於平衡值而 可使目的之反應平衡偏向生成側，但在微通道反應器因生成之氣體的氣泡積在流徑，而藉由流徑內之氣體成分的氣液平衡，使液相中之氣體成分的濃度達到平衡，欲依液相中之濃度而實施之反應的平衡係受到支配。
針對該課題，例如專利文獻3所揭示之方法係：供給氣體至流徑內，在流徑內之液相的上側形成氣體層，一邊使副產氣體吸進該氣體層中而與該氣體層一起排出流徑外一邊進行反應之方法。該方法係使反應所產生之副產氣體立即吸進氣體層並排出流徑外，而謀求流徑內之液體的流動之安定化並企圖使反應平衡偏向生成側。
(先前技術文獻) (專利文獻)
[專利文獻1]日本特開平10-301號公報
[專利文獻2]日本特開2008-168173號公報
[專利文獻3]日本特開2005-224764號公報
[非專利文獻]
[非專利文獻1]「化學工學」，第57卷，第1號，第77至79頁(1993年)
然而，專利文獻3所揭示之方法難以調控流徑內之氣體層與液體層。又，必須設置將氣體導入流徑及 從流徑排出用之出入口、與將液體導入流徑及從流徑排出用之出入口，惟裝置本身之設計/加工係屬困難。工業實施時增加流徑數量，但須要針對各流徑之氣體層與液體層之調控、及裝置之加工，不適宜工業上之實施。
本發明之目的係提供一種可使用簡便的裝置而有效率地回收反應生成物之反應方法。
本發明者們深入檢討之結果，發現藉由在實施反應之流徑供給含有原料化合物之液體、與由流徑內之加熱而形成氣相之低沸點化合物，於該流徑內形成含有低沸點化合物之氣相，由反應所生成之氣體成分脫離至氣相，由反應所生成之氣體成分與低沸點化合物一起排出流徑外之方法，而解決上述課題，完成本發明。
亦即，本發明係提供下述者。
[1]一種伴隨氣體成分之生成的反應方法，其係具備下述步驟：將含有至少1種原料化合物、與具有比該原料化合物之標準沸點低的標準沸點之低沸點化合物之液體供給至流徑之步驟；加熱前述液體並藉由前述原料化合物之反應而生成液狀反應生成物及氣體成分之步驟；以及將含有前述反應生成物之液相、與含有前述氣體成分及前述低沸點化合物之氣相進行分離之步驟。
[2]如[1]所述之方法，其中，前述液體中，前述原料化合物與前述反應生成物之化學量論比係原料化合物：反應生成物=100：0至80：20。
[3]如[1]或[2]所述之方法，其中，前述流徑具有10m2/m3以上且未達1000m2/m3之比表面積。
[4]如[1]至[3]中任一項所述之方法，其係將前述低沸點化合物作為前述氣相及/或前述液相所含之成分而回收。
[5]如[1]至[4]中任一項所述之方法，其係在前述流徑內生成含有前述氣體成分及前述低沸點化合物之氣相。
[6]如[1]至[5]中任一項所述之方法，其中，前述低沸點化合物之標準沸點比前述原料化合物之標準沸點低10℃以上。
[7]如[1]至[6]所述之方法，其中，前述氣體成分包含選自水、氨、胺化合物、羥基化合物及硫醇化合物所成群組之至少1種。
[8]如[7]所述之方法，其中，前述氣體成分包含水，前述反應包含選自下述式(1)及(2)所示之官能基之反應所成群組之至少1種反應。
(式中，X及Y分別獨立地表示氧原子或硫原子)
[8]如[7]所述之方法，其中，前述氣體成分包含氨，前述反應包含選自下述式(3)至(8)所示之官能基之反應所成群組之至少1種反應。
(式中，X、Y及Z分別獨立地表示氧原子或硫原子)
[10]如[7]所述之方法，其中，前述氣體成分包含胺化合物，前述反應包含選自下述式(9)至(11)所示之官能基之反應所成群組之至少1種反應。
(式中，X、Y及Z分別獨立地表示氧原子或硫原子)
[11]如[7]所述之方法，其中，前述氣體成分包含羥基化合物或硫醇化合物，前述反應包含選自下述式(12)及(13)所示之官能基之反應所成群組之至少1種官能基之反應。
(式中，X及Y分別獨立地表示氧原子或硫原子)
[12]如[7]所述之方法，其中，前述氣體成分包含羥基化合物或硫醇化合物，前述反應係羥基化合物或硫醇化合物與酯化合物的反應之酯交換反應，該酯化合物係選自羧酸酯、硫羧酸酯、碳酸酯、胺甲酸酯及硫胺甲酸酯所成群組之至少1種酯。
[13]如[1]至[12]中任一項所述之方法，其中，前述流徑係加熱到80℃以上，前述低沸點化合物係具有50℃以上之標準沸點之化合物。
[14]如[1]至[13]中任一項所述之方法，其中，前述流徑之相當直徑係50mm以下。
[15]一種裝置，其係用以進行[1]至[14]中任一項所述之方法之裝置，其中，含有前述反應生成物之液相、與含有前述氣體成分及前述低沸點化合物之氣相的分離係使用氣液分離器來進行，氣液分離器與前述流徑之連接部中之前述流徑係由水平面傾斜5度以上。
[16]一種反應生成物，其係由[1]至[14]中任一項所述之方法所得者。
依據本發明，可提供一種可使用簡便的裝 置且有效率地回收反應生成物之反應方法。
1、2、3、4、5‧‧‧流徑
101‧‧‧儲槽
102‧‧‧泵
103‧‧‧加熱器
104‧‧‧氣液分離器
105、106‧‧‧儲槽
107‧‧‧冷凝器
第1圖係示意性表示反應步驟之一實施形態之圖。
以下，詳細說明用以實施本發明之形態(以下，稱為「本實施形態」)。再者，本發明係不限於以下實施形態，在其主旨之範圍內可施以各種變形而實施。
本發明係關於一種反應方法，其係具備下述步驟：將含有至少1種原料化合物、具有該原料化合物之標準沸點低的標準沸點之低沸點化合物之液體供給至流徑之步驟(以下，稱為「供給步驟」)；加熱上述液體，由原料化合物之反應生成液狀反應生成物及氣體成分之步驟(以下，稱為「反應步驟」)；以及將含有反應生成物之液相、與含有氣體成分及低沸點化合物之氣相進行分離之步驟(以下，稱為「分離步驟」)。
第1圖係示意性表示本實施形態之反應步驟之一實施形態之圖。使用第1圖說明本實施形態之反應方法。
[供給步驟]
首先，含有至少1種原料化合物、與低沸點化合物之液體係從儲槽101供給至流徑1。然後，供給至流徑1之液體係藉由泵102供給至流徑2。
[反應步驟]
流徑2係藉由使用加熱器103加熱。供給至流徑2之液體係受到加熱，藉由原料化合物之反應而生成含有液狀反應生成物及氣體成分之反應液。
<原料化合物>
原料化合物係包含至少1種化合物，且以液狀供給至流徑1及2。原料化合物為液狀係意指沸點比流徑1及2之溫度高。原料化合物在流徑1內存在於液相中。再者，供給至流徑2之液體中，原料化合物與反應生成物之化學量論比較佳係原料化合物：反應生成物=100：0至80：20。
<低沸點化合物>
本實施形態之低沸點化合物係標準沸點比全部的原料化合物之標準沸點低且對原料化合物不具有反應性之化合物。低沸點化合物係在進行反應步驟之流徑2內藉由加熱而成為氣體且形成氣相。低沸點化合物之標準沸點較佳係比原料化合物之標準沸點低10℃以上。低沸點化合物為氣體係指低沸點化合物之沸點比反應溫度低之情形。低沸點化合物是否為藉由在進行反應步驟之流徑2內之加熱而形成氣相之化合物，係參考例如反應條件之化合物之蒸氣壓及該化合物之標準沸點等，只要為該領域中具有一般知識者即可容易地決定。
低沸點化合物係在流徑2內形成氣相，惟在與含有原料化合物之混合物一起供給至進行反應步驟之流徑2時，係以液體為佳。亦即，低沸點化合物係以液體供給至流徑2，藉由在流徑2之加熱而形成氣相。使用低沸 點化合物之效果推論如下。藉由在流徑2內形成氣相，與液相之間形成氣液平衡狀態(理想為蒸餾理論板數1板份)，可使由反應所生成之氣體成分從液相迅速移動至氣相，藉此達到可使反應平衡偏向生成側之效果。
又，較佳係低沸點化合物選擇為與含有原料化合物之混合液相溶成為單一溶液之化合物，調製含有低沸點化合物與原料化合物之混合液，將該混合液供給至流徑2。藉由該方法，達到流徑2內之氣液混相流之狀態安定、反應調控變容易、反應效率提升等效果。
反應步驟較佳係在80℃以上實施。亦即，進行反應步驟之流徑2係加熱到80℃以上。從此種較佳反應溫度與處理之觀點來看，低沸點化合物之標準沸點較佳係50℃以上。
低沸點化合物可列舉選自：(A)具有直鏈狀、分支鏈狀或環構造之烴化合物、(B)同種或不同種之具有直鏈狀、分支鏈狀或環構造之烴化合物經由醚鍵或硫醚鍵而鍵結之化合物(亦即，2個烴化合物經由醚鍵或硫醚鍵而鍵結之化合物。上述烴化合物具有直鏈狀、分支鏈狀或環構造，2個烴化合物可為同種者，亦可為不同種者)、(C)可具有包括烴基之取代基之芳香族烴化合物、(D)同種或不同種之芳香族烴化合物經由醚鍵或硫醚鍵而鍵結之化合物、及(E)具有直鏈狀、分支鏈狀或環構造之烴化合物與芳香族烴化合物經由醚鍵或硫醚鍵而鍵結之化合物、(F)構成具有直鏈狀、分支鏈狀或環構造之烴化合物之至少1個氫 原子、或構成可具有包括烴基之取代基之芳香族烴化合物之至少1個氫原子經鹵原子取代之鹵化物、(G)羥基化合物(醇、芳香族羥基化合物)所成群組之至少一種化合物。
低沸點化合物之較佳具體例可列舉：戊烷、己烷、庚烷、辛烷、壬烷、癸烷、十二烷、十四烷、十五烷、十六烷、十八烷、十九烷等烴化合物；二甲基醚、二乙基醚、四氫呋喃、四氫哌喃等醚類；二甲基硫醚、二乙基硫醚、二丁基硫醚、二己基硫醚等烴化合物經由硫醚鍵而鍵結之硫醚類；苯、甲苯、乙基苯、丁基苯、戊基苯、己基苯、聯苯、二苯基乙烷、二甲基聯苯、苄基甲苯等芳香族烴化合物；二苯基醚、二(甲基苄基)醚、二(乙基苄基)醚、二(丁基苄基)醚、二(戊基苄基)醚、二(己基苄基)醚、二(辛基苄基)醚、二苄基醚等芳香族烴化合物經由醚鍵而鍵結之芳香族醚類；二苯基硫醚、二(甲基苄基)硫醚、二(乙基苄基)硫醚、二(丁基苄基)硫醚、二(戊基苄基)硫醚、二(己基苄基)硫醚、二(辛基苄基)硫醚、二(甲基苯基)硫醚、二苄基硫醚等芳香族烴化合物經由硫醚鍵而鍵結之芳香族硫醚類；甲氧基苯、乙氧基苯、丁氧基苯、二甲氧基苯、二乙氧基苯、二丁氧基苯等烴化合物與芳香族烴化合物經由醚鍵而鍵結之化合物；氯甲烷、氯乙烷、氯戊烷、氯辛烷、溴甲烷、溴乙烷、溴戊烷、溴辛烷、二氯乙烷、二氯戊烷、二氯辛烷、二溴乙烷、二溴戊烷、二溴辛烷、氯苯、溴苯、二氯苯、二溴苯、氯甲苯、溴甲苯等鹵化物；甲醇、乙醇、丙醇、丁醇、己醇等醇；酚、乙基酚、丙基酚、丁基酚、 戊基酚、己基酚、庚基酚、辛基酚、壬基酚等單取代酚類、二甲基酚、二乙基酚、二丙基酚等二取代酚類。
該等中，如(B)、(D)或(E)之具有醚鍵或硫醚鍵之化合物依條件會有生成氧化物及過氧化物之情形。從熱安定之觀點來看，該等中，較佳係(A)具有直鏈狀、分支鏈狀或環構造之烴化合物、(C)可具有包括烴基之取代基之芳香族烴化合物、(F)構成具有直鏈狀、分支鏈狀或環構造之烴化合物之至少1個氫原子、或構成可具有包括烴基之取代基之芳香族烴化合物之至少1個氫原子經鹵原子取代之鹵化物。又，如(F)之含有鹵原子之化合物依條件會分解、或產生鹵素自由基，由於生成物中有鹵化物混入之情形，因此更佳係(A)具有直鏈狀、分支鏈狀或環構造之烴化合物、(C)可具有包括烴基之取代基之芳香族烴化合物、(G)羥基化合物。
低沸點化合物之使用量無特別限制，但若使用過多的低沸點化合物，則相對於流徑2內之液相體積，氣相體積會過大，反而會有成為使生產量降低之原因之情形，因此相對於含有原料化合物之混合物，較佳係0.5重量%至50重量%，更佳係1重量%至40重量%。
<流徑>
本實施形態所使用之進行反應步驟用之流徑2可為任意者，可為金屬製或樹脂製之管所成之流徑，亦可為由複數平板所構成之流徑。又，可為單一流徑所成，亦可為組合複數個流徑者。
流徑2較佳係具有10m2/m3以上且未達1000m2/m3之比表面積。若流徑2之比表面積超過1000m2/m3，則在流徑中氣體或液體合為一體使氣液界面積減少而有無法充分發揮本實施形態之效果之情形。從該等觀點來看，流徑2之比表面積更佳係未達700m2/m3，再更佳係未達500m2/m3。另一方面，若流徑2之比表面積未達10m2/m3，則在流徑內之流動阻力過大而有處理效率降低之情形。從該等觀點來看，流徑2之比表面積更佳係20m2/m3以上，再更佳係50m2/m3以上。
流徑2之內徑，作為相當直徑，較佳之下限為5μm以上，更佳係10μm以上，再更佳係50μm以上，最佳係100μm以上。又，流徑2之內徑之上限較佳係50mm以下，更佳係5000μm以下，最佳係2500μm以下。若微小管狀反應器之相當直徑超過50mm，則在流徑中氣體或液體合為一體使氣液界面積減少而有無法充分發揮本實施形態之效果之情形。另一方面，若未達5μm則在流徑內之流動阻力過大而有處理效率降低之情形。
本實施形態之相當直徑係定義為具有與垂直於流徑之流動方向之剖面相同面積之圓的直徑。剖面為正圓時，其直徑為相當直徑。本實施形態之流徑之剖面形狀無特別限制，可使用圓狀、橢圓狀、正方形、長方形等、以及其他多角形狀等各種形狀者。
流徑2之長度係以使反應流體有足以進行反應之充分長的時間滯留在反應器內之方式來決定。從使 滯留時間變長之目的來看，為了避免反應器之長度變長時使裝置變大型之情形，可將反應器設為線圈狀。
從流徑的壁面高效率供給反應所需之熱量之目的來看，構成流徑2之材質較佳係熱傳導率高的材質。又，依反應條件須確保對於流徑內壓之強度，較佳係機械強度優異之材質。具體上可列舉金屬、玻璃、石英、有機高分子。金屬係單體或合金皆可，可使用鐵、銅、鎳、不鏽鋼、赫史特合金(hastelloy)，其中，適宜使用不鏽鋼管。該等材料所成之反應器的壁厚無特別限定。
本實施形態中，流動在流徑2內之氣液混相流之狀態可適用氣栓(gas plug)、液栓(liquid plug)交替流動之栓狀流(plug flow)、氣栓與液栓交替流動之塊狀流(slug flow)、氣泡流、攪動流(churn flow)、環狀流、環狀噴霧流、線狀流、分層流、波狀流，尤其具有幾乎填滿流徑剖面之大的氣體栓之栓狀流、或塊狀流，其氣體體積減少所致之滯留時間之增加效果大，就氣液混相流之狀態而言較佳。
反應器中之氣液混相流之狀態可藉由連接具有穿透部之流徑並藉由目視或攝影、或使用高速X射線CT使內部可視化之直接手法、從流徑之差壓波動訊號之統計性質之分類來確認之測定氣液混相流之物理狀態之手法、計算機模擬之手法等來確認。
<反應條件>
進行反應步驟時之反應壓力可為減壓、常壓或加壓之任一種，可配合實施之反應及使用之低沸點成分的性狀而 選擇。反應溫度可使用以往使用之條件，可在：下限較佳係80℃以上，更佳係100℃以上，再更佳係130℃以上，上限較佳係1000℃以下，更佳係500℃以下，再更佳係300℃以下，最佳係250℃以下之範圍中選擇。
關於供給原料化合物及低沸點化合物至進行反應步驟之流徑2，可分別供給含有原料化合物之混合物與低沸點化合物，亦可如上述，作為含有原料化合物與低沸點化合物之單一混合物來供給。
供給至流徑2之混合物可含有反應溶劑。反應溶劑在反應步驟係包含於液相中。反應溶劑為液體係指原料之沸點比反應溫度高之情形。
就反應溶劑而言，例如：戊烷、己烷、庚烷、辛烷、壬烷、癸烷等烷類；苯、甲苯、二甲苯、乙基苯、二異丙基苯、二丁基苯、萘等芳香族烴及烷基取代芳香族烴類；乙腈、苄腈等腈化合物；氯苯、二氯苯、溴苯、二溴苯、氯萘、溴萘、硝基苯、硝基萘等經鹵素或硝基取代之芳香族化合物類；聯苯、取代聯苯、二苯基甲烷、聯三苯、蒽、二苄基甲苯等多環烴化合物類；環己烷、環戊烷、環辛烷、乙基環己烷等脂肪族烴類；甲基乙基酮、苯乙酮等酮類；酞酸二丁酯、酞酸二己酯、酞酸二辛酯、酞酸苄基丁酯等酯類；四氫呋喃、1,4-二噁烷、1,2-二甲氧基乙烷、二苯基醚、二苯基硫醚等醚類及硫醚類；丙酮、甲基乙基酮等酮化合物；乙酸乙酯、苄酸乙酯等酯化合物；二甲基亞碸、二苯基亞碸等亞碸類等適宜作為反應溶劑使 用。不待多言，該反應中過量使用1種或複數種之原料，可將剩餘份作為反應溶劑使用。
又，可依反應並因應需要而於含有原料化合物與低沸點化合物之混合物中添加觸媒。
含有原料化合物與低沸點化合物之液體之供給速度無特別限制，可考慮流徑2之體積、滯留時間、加熱所需之時間而決定。
反應步驟中，藉由加熱反應而製造反應生成物及氣體成分。本步驟之情形，較佳係低沸點化合物之氣化。更具體而言，反應步驟中，低沸點化合物氣化，從原料化合物藉由加熱反應而生成反應生成物及氣體成分，流徑2內形成含有氣體成分與氣化之低沸點化合物之氣相。
反應步驟之溫度較佳係超過低沸點溶劑之沸點且未達原料化合物之沸點。惟，含有2種類以上低沸點化合物或原料化合物時，係針對具有最高沸點之化合物之沸點設定反應步驟之溫度。
[分離步驟]
通過流徑2之反應液係供給至氣液分離器104。氣液分離器104之中，反應液係分離為含有反應生成物之液相、含有氣體成分及低沸點化合物之氣相。再者，液相亦有含有未反應之原料化合物之情形。液相與氣相之分離較佳係藉由氣液分離而分離。氣液分離之方法及裝置無特別限制，可使用公知方法，例如可將流徑2連接瞬間蒸發槽 (flash tank)及蒸餾塔等，然後進行氣液分離。氣相成分係因應需要而與從流徑3所供給之氮氣一起通過流徑4，並使用冷凝器107冷卻，再回收至槽105。另一方面，液相成分係通過形成U型管之流徑5並回收至槽106。較佳係使用氣液分離器104進行含有反應生成物之液相、與含有氣體成分及低沸點化合物之氣相之分離，氣液分離器104與流徑2之連接部中之流徑2可為由水平面傾斜5度以上之狀態。傾斜5度以上係朝上方向或下方向皆可，較佳係朝下方向。
亦即，用以進行本實施形態之方法之裝置係具備分離含有反應生成物之液相、與含有氣體成分及低沸點化合物之氣相之氣液分離器104，氣液分離器104與流徑2之連接部中之流徑2可為由水平面傾斜5度以上。若使用此種裝置則氣液分離性會提升。雖然達成如此效果之機制尚未明瞭，但本發明者們推測可能係因反液相與氣相從流徑2供給至氣液分離器104時，促進容易受重力影響之液相成分之液滴、與不易受重力影響之氣相的分離之傾向增強。從此種觀點來看，由水平面之傾斜較佳係10度以上，更佳係20度以上。
<反應生成物>
本實施形態之反應生成物係藉由從包括1種或複數種化合物之原料化合物生成氣體成分所伴隨之加熱反應而製造。
<氣體成分>
氣體成分係在進行反應步驟之條件下成為氣體之成分，可依實施反應之條件而有各種選擇。可參考例如反應條件中之化合物之蒸氣壓來決定是否為在進行反應步驟之條件下成為氣體之成分。
本實施形態之製造方法中由反應所生成之氣體成分較佳係選自水、氨、胺化合物、羥基化合物、硫醇化合物及氫所成之群組之至少1種。
胺化合物可舉例如：甲基胺、乙基胺、丙基胺、丁基胺、己基胺等單烷基胺，二甲基胺、二乙基胺、二丙基胺、二丁基胺、二己基胺等二烷基胺，苯胺、甲基苯胺、二甲基苯胺等芳香族單胺，二苯基胺等芳香族二胺等。再者，本說明書中具體列舉之化合物存在有複數種異構物時，係包含該等之異構物。
羥基化合物可列舉甲醇、乙醇、丙醇、丁醇、己醇、辛醇等醇，酚等芳香族羥基化合物。
硫醇化合物可列舉甲烷硫醇、乙烷硫醇、丙烷硫醇、丁烷硫醇、己烷硫醇、苯基硫醇等硫醇化合物。
以下，例示本實施形態中之反應生成物及氣體成分之生成之反應例。
<生成水之反應>
就反應所生成之氣體成分為水之反應而言，可列舉選自下述式(1)及(2)所示之官能基之反應所成群組之至少1種反應。
式中，X及Y分別獨立地表示氧原子或硫原子。
上述式(1)及(2)係著眼於官能基而記載反應，但具有該等官能基之化合物可為單官能亦可為多官能。
例如，上述式(1)及(2)中之化合物皆為單官能時，上述式(1)及(2)可分別記載為下述式(1)’及(2)’。
式中，R1、R2及R3分別獨立地表示脂肪族基或芳香族基，X及Y分別獨立地表示氧原子或硫原子。
又，例如上述式(1)及(2)中之化合物皆為2官能時，上述式(1)及(2)可分別記載為下述式(1)"及(2)"。
式中，R4、R5及R6分別獨立地表示2價之脂肪族基或芳香族基，X及Y分別獨立地表示氧原子或硫原子。
再者，包含上述式(1)及(2)所示之官能基之反應的反應係如上述式(1)’及(2)’、(1)”及(2)”所示，反應之化合物(各反應式之左邊的化合物)不須同時為單官能或多官能，可為單官能化合物與多官能化合物之組合。
上述式中，就R1至R6而言，較佳可列舉碳數1至20之脂肪族基或碳數6至20之芳香族基。
上述式中，就R1至R6而言，較佳可列舉：源自甲烷、乙烷、丙烷、丁烷、戊烷、己烷、辛烷等直鏈烴之基；源自環戊烷、環己烷、環庚烷、環辛烷、雙(環己基)烷等脂環式烴之基；源自甲基環戊烷、乙基環戊烷、甲基環己烷、乙基環己烷、丙基環己烷、丁基環己烷、戊基環己烷、己基環己烷等取代環己烷之基；源自二甲基環己烷、二乙基環己烷、二丁基環己烷等二烷基取代環己烷之基；源自1,5,5-三甲基環己烷、1,5,5-三乙基環己烷、1,5,5-三丙基環己烷、1,5,5-三丁基環己烷等三烷基取代環己烷之基；源自甲苯、乙基苯、丙基苯等單烷基取代苯之基；源自二甲苯、二乙基苯、二丙基苯等二烷基取代苯之基；源自二苯基烷、苯等芳香族烴等之基。
<生成氨之反應>
就反應所生成之氣體成分為氨之反應而言，可列舉選自下述式(3)至(8)所示之官能基之反應所成群組之至少1 種反應。式中，X、Y及Z表示上述所定義之基。
上述式(3)至(8)係著眼於官能基而記載反應，但具有該等官能基之化合物可為單官能亦可為多官能。
例如，上述式(3)至(8)中之化合物皆為單官能時，上述式(3)至(8)可分別記載為下述式(3)’至(8)’。式中，R1、R2、R3、X、Y及Z表示上述所定義之基。
又，例如上述式(3)之左邊第1項、式(6)之左邊第2項、式(7)之左邊第1項、第2項、式(8)之左邊之化合物皆為2官能時，上述式(3)、(6)、(8)可分別記載為下述式(3)”、(6)”、(8)”。式中，R2、R4、X及Y表示上述所定義之基。
再者，包含上述式(3)至(8)所示之官能基之反應的反應，不必須為如上述式(3)’至(8)’、(3)”、(6)”、 (8)”所示之單官能化合物與多官能化合物之組合而可適用。
<生成胺之反應>
就反應所生成之氣體成分為胺之反應而言，可列舉包含選自下述式(9)至(11)所示之官能基之反應所成群組之至少1種反應之反應。式中，X、Y及Z表示上述所定義之基。
上述式(9)至(11)係著眼於官能基而記載反應，但具有該等官能基之化合物可為單官能亦可為多官能。
例如，上述式(9)至(11)中之化合物皆為單官
能時，上述式(9)至(11)可分別記載為下述式(9)’至(11)’。式中，R1、R2、R3、X、Y及Z表示上述所定義之基。
再者，包含上述式(9)至(11)所示之官能基之反應的反應，可為多官能化合物之反應，亦可為多官能化合物與單官能化合物之反應。
<生成羥基化合物或硫醇化合物之反應>
就反應所生成之氣體成分為羥基化合物或硫醇化合物之反應而言，可列舉包含選自下述式(12)及(13)所示之官能基之反應所成群組之至少1種反應之反應。式中，X及Y表示上述所定義之基。
上述式(12)至(13)係著眼於官能基而記載反應，但具有該等官能基之化合物可為單官能亦可為多官能。
例如，上述式(12)至(13)中之化合物皆為單官能時，上述式(12)至(13)可分別記載為下述式(12)’至(13)’。式中，R1、R2、R3、X、Y表示上述所定義之基。
又，例如，上述式(13)之左邊及右邊第1項為2官能化合物且右邊第2項為單官能化合物時，上述式(13)可記載為下述式(13)”。式中，R3、R4、X、Y表示上述所定義之基。
再者，包含上述式(12)及(13)所示之官能基之反應的反應可為多官能化合物之反應亦可為多官能化合物與單官能化合物之反應。
又，就反應所生成之氣體成分為羥基化合物或硫醇化合物之反應而言，為羥基化合物或硫醇化合物、與酯化合物之反應之酯交換反應，亦可為該酯化合物係選自羧酸酯、硫羧酸酯、碳酸酯、胺甲酸酯及硫胺甲酸酯所成群組之至少1種酯化合物之酯交換反應。
具體反應例可列舉下述式(14)至(16)所示之反應。再者，下述式(14)至(16)係記載單官能化合物之反應，但在多官能化合物中可以同樣方式適用。式中，R1、R2、R3、X、Y、Z表示上述所定義之基。
若依照本發明，可提供藉由使流徑內存在氣相，將導入流徑之液體設為含有原料化合物與低沸點化合物之單一液體，用以分別供給氣相與液相之裝置之加工及流徑內之氣相與液相之調控容易之反應方法。又，若依照本發明，可提供為了工業實施而容易增加流徑數量之反應方法。
(實施例)
依據實施例及比較例而更詳細說明本發明，但本發明之技術範圍及其實施態樣不受限於該等者。
[實施例1]
使用第1圖所示之裝置。流徑1、流徑2皆為外徑1/16英寸、內徑0.5mm之SUS316製管。流徑2係藉由電加熱器103加熱，加熱之流徑2之長度係50m。
混合酚100g(1.09mol)、尿素43g(0.72mol)及甲苯10g，投入儲槽101中。藉由泵102將混合物以每分鐘10g供給至儲槽101。流徑2之加熱溫度設為160℃。供給通過流徑2之反應液至保溫100℃之氣液分離器104。氣液分離器104之含有氨與甲苯之氣相成分係與由流徑3所 供給之氮氣一起通過流徑4並以冷凝器107冷卻，抽出至儲槽105。另一方面，液相成分係通過形成U型管之流徑5抽出至儲槽106。使用液相層析分析抽出至儲槽106之混合物，結果該混合物含有胺甲酸苯酯，相對於尿素之收率係42%。
[比較例1]
除了混合酚100g(1.09mol)與尿素43g(0.72mol)，且不使用甲苯以外，施行與實施例1相同之方法。抽出至儲槽106之混合物含有胺甲酸苯酯，相對於尿素之收率係6%。
[實施例2]
除了使用乙酸100g(1.67mol)、異戊醇300g(3.40mol)、與四氫呋喃20g，並將流徑2之加熱溫度設為105℃以外，施行與實施例1相同之方法。含有四氫呋喃與水之氣相成分係通過流徑4並以冷凝器107冷卻，抽出至儲槽105。抽出至儲槽106之混合物含有乙酸異戊酯，相對於乙酸之收率係81%。
[比較例2]
除了使用乙酸100g(1.67mol)與異戊醇300g(3.40mol)，且不使用四氫呋喃以外，施行與實施例2相同之方法。相對於乙酸之乙酸異戊酯之收率係34%。
[實施例3]
除了使用六亞甲二胺116g(1.00mol)、尿素150g(2.50mol)、酚1840g(20.0mol)與甲苯110g，並將流徑2之加熱設為180℃以外，施行與實施例1相同之方法。含有 甲苯與氨之氣相成分係通過流徑4並以冷凝器107冷卻，抽出至儲槽105。抽出至儲槽106之混合物含有N,N’-己烷二基-二(胺甲酸苯酯)，相對於六亞甲二胺之收率係32%。
[比較例3]
除了使用六亞甲二胺116g(1.00mol)與尿素150g(2.50mol)與酚1840g(20.0mol)，且不使用甲苯以外，施行與實施例3相同之方法。相對於六亞甲二胺之N,N’-己烷二基-二(胺甲酸苯酯)之收率係4%。
[實施例4]
除了使用1,6-己烷二脲202g(1.00mol)、4-第三辛基酚2470g(12.0mol)與甲苯180g，並將流徑2之加熱設為220℃以外，施行與實施例1相同之方法。含有甲苯與氨之氣相成分係通過流徑4並以冷凝器107冷卻，抽出至儲槽105。抽出至儲槽106之混合物含有N,N’-己烷二基-二(胺甲酸(4-第三辛基苯酯))，相對於六亞甲二胺之收率係44%。
[比較例4]
除了使用1,6-己烷二脲202g(1.00mol)與4-第三辛基酚2470g(12.0mol)，且不使用甲苯180g以外，施行與實施例4相同之方法。相對於六亞甲二胺之N,N’-己烷二基-二(胺甲酸(4-第三辛基苯酯))之收率係5%。
[實施例5]
除了使用2,4-甲苯二脲50g、二苄基醚820g與四氫呋喃20g，並將流徑2之加熱設為200℃以外，施行與實施例1相同之方法。含有四氫呋喃與氨之氣相成分係通過流徑4 並以冷凝器107冷卻，抽出至儲槽105。抽出至儲槽106之混合物含有2,4-甲苯二異氰酸酯，相對於2,4-甲苯二脲之收率係89%。
[比較例5]
除了使用2,4-甲苯二脲50g與二苄基醚820g，且不使用四氫呋喃以外，施行與實施例5相同之方法。相對於2,4-甲苯二脲之2,4-甲苯二異氰酸酯之收率係15%。
1、2、3、4、5‧‧‧流徑
101‧‧‧儲槽
102‧‧‧泵
103‧‧‧加熱器
104‧‧‧氣液分離器
105、106‧‧‧儲槽
107‧‧‧冷凝器

Claims (16)

  1. 一種伴隨氣體成分之生成的反應方法，其係具備下述步驟：將含有至少1種原料化合物、與具有比該原料化合物之標準沸點低的標準沸點之低沸點化合物之液體供給至流徑之步驟；加熱前述液體，藉由前述原料化合物之反應而生成液狀反應生成物及氣體成分之步驟；以及將含有前述反應生成物之液相、與含有前述氣體成分及前述低沸點化合物之氣相進行分離之步驟。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之反應方法，其中，前述液體中，前述原料化合物與前述反應生成物之化學量論比係原料化合物：反應生成物=100：0至80：20。
  3. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之反應方法，其中，前述流徑具有10m2/m3以上且未達1000m2/m3之比表面積。
  4. 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述之反應方法，其係將前述低沸點化合物作為前述氣相及/或前述液相所含之成分而回收。
  5. 如申請專利範圍第1項至第4項中任一項所述之反應方法，其係在前述流徑內生成含有前述氣體成分及前述低沸點化合物之氣相。
  6. 如申請專利範圍第1項至第5項中任一項所述之反應方法，其中，前述低沸點化合物之標準沸點比前述原 料化合物之標準沸點低10℃以上。
  7. 如申請專利範圍第1項至第6項中任一項所述之反應方法，其中，前述氣體成分包含選自水、氨、胺化合物、羥基化合物及硫醇化合物所成群組之至少1種。
  8. 如申請專利範圍第7項所述之反應方法，其中，前述氣體成分包含水，前述反應包含選自下述式(1)及(2)所示之官能基之反應所成群組之至少1種反應； 式中，X及Y分別獨立地表示氧原子或硫原子。
  9. 如申請專利範圍第7項所述之反應方法，其中，前述氣體成分包含氨，前述反應包含選自下述式(3)至(8)所示之官能基之反應所成群組之至少1種反應； 式中，X、Y及Z分別獨立地表示氧原子或硫原子。
  10. 如申請專利範圍第7項所述之反應方法，其中，前述氣體成分包含胺化合物，前述反應包含選自下述式(9)至(11)所示之官能基之反應所成群組之至少1種反應； 式中，X、Y及Z分別獨立地表示氧原子或硫原子。
  11. 如申請專利範圍第7項所述之反應方法，其中，前述氣體成分包含羥基化合物或硫醇化合物，前述反應包含選自下述式(12)及(13)所示之官能基之反應所成群組 之至少1種官能基之反應； 式中，X及Y分別獨立地表示氧原子或硫原子。
  12. 如申請專利範圍第7項所述之反應方法，其中，前述氣體成分包含羥基化合物或硫醇化合物，前述反應係羥基化合物或硫醇化合物、與酯化合物之反應之酯交換反應，該酯化合物係選自羧酸酯、硫羧酸酯、碳酸酯、胺甲酸酯及硫胺甲酸酯所成群組之至少1種酯。
  13. 如申請專利範圍第1項至第12項中任一項所述之反應方法，其中，前述流徑係加熱到80℃以上，前述低沸點化合物係具有50℃以上之標準沸點之化合物。
  14. 如申請專利範圍第1項至第13項中任一項所述之反應方法，其中，前述流徑之相當直徑係50mm以下。
  15. 一種裝置，其係用以進行申請專利範圍第1項至第14項中任一項所述之反應方法之裝置，其係具備進行含有前述反應生成物之液相、與含有前述氣體成分及前述低沸點化合物之氣相之分離之氣液分離器，前述氣液分離器與前述流徑之連接部中之前述流徑係由水平面傾斜5度以上。
  16. 一種反應生成物，其係由申請專利範圍第1項至第14 項中任一項所述之反應方法所得者。
TW103126158A 2013-08-02 2014-07-31 Reaction method accompanying with generation of gas component TWI562826B (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013161172 2013-08-02

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201511827A true TW201511827A (zh) 2015-04-01
TWI562826B TWI562826B (en) 2016-12-21

Family

ID=52431793

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW103126158A TWI562826B (en) 2013-08-02 2014-07-31 Reaction method accompanying with generation of gas component

Country Status (5)

Country Link
US (1) US10118110B2 (zh)
EP (1) EP3029015B1 (zh)
JP (1) JP6159801B2 (zh)
TW (1) TWI562826B (zh)
WO (1) WO2015016263A1 (zh)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016147204A1 (en) * 2015-03-13 2016-09-22 Council Of Scientific And Industrial Research Novel configuration and its use in process for synthesis of alkyl carbamates from alkyl alcohol and urea in a tubular reactor
JP6449099B2 (ja) * 2015-05-25 2019-01-09 株式会社神戸製鋼所 放出処理装置及び放出処理方法
JP7269761B2 (ja) * 2019-03-15 2023-05-09 三菱重工業株式会社 原料流体の処理プラント、及び原料流体の処理方法
CN111514832A (zh) * 2020-05-30 2020-08-11 侯梦斌 一种介入微界面強化反应的水热碳化设备与工艺

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5346791B2 (zh) * 1972-07-31 1978-12-16
JPH07157463A (ja) 1993-12-03 1995-06-20 Asahi Chem Ind Co Ltd 脂肪族ポリｏ−アリールウレタンの製造法
JPH08277255A (ja) * 1995-04-06 1996-10-22 Asahi Chem Ind Co Ltd ウレタンの連続的製造方法
JPH10301A (ja) 1996-06-14 1998-01-06 Nippon Shokubai Co Ltd 反応蒸留装置および反応蒸留方法
JP2002142747A (ja) * 2000-11-08 2002-05-21 Nagasaki Prefecture 低アルコール清酒の製造方法
US7470308B2 (en) 2004-02-10 2008-12-30 Fujifilm Corporation Method of producing magnetic particles and reaction method using microreactor and microreactor
JP2005224764A (ja) 2004-02-16 2005-08-25 Fuji Photo Film Co Ltd マイクロリアクターを用いた反応方法及びマイクロリアクター
US7169213B2 (en) * 2004-10-29 2007-01-30 Corning Incorporated Multi-channel cross-flow porous device
EP1866073A1 (en) 2005-03-29 2007-12-19 FUJIFILM Corporation Reaction method and apparatus and method and apparatus for manufacturing chemical substance using the same
JP2006272132A (ja) * 2005-03-29 2006-10-12 Fuji Photo Film Co Ltd 化学物質の製造方法及び装置
JP2006272131A (ja) * 2005-03-29 2006-10-12 Fuji Photo Film Co Ltd 反応方法及び装置
BRPI0616023A2 (pt) * 2005-07-20 2011-06-07 Dow Global Technologies Inc processo para a preparação de carbamatos aromáticos e processo para a formação de um isocianato
JP4970959B2 (ja) 2007-01-09 2012-07-11 株式会社神戸製鋼所 反応装置及び反応方法

Also Published As

Publication number Publication date
EP3029015A1 (en) 2016-06-08
US10118110B2 (en) 2018-11-06
US20160166950A1 (en) 2016-06-16
JP6159801B2 (ja) 2017-07-05
TWI562826B (en) 2016-12-21
EP3029015A4 (en) 2016-07-27
EP3029015B1 (en) 2018-06-27
WO2015016263A1 (ja) 2015-02-05
JPWO2015016263A1 (ja) 2017-03-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW201511827A (zh) 伴隨氣體成分之生成的反應方法
US10899715B2 (en) Continuous flow carboxylation reaction
US8614356B2 (en) Method for producing toluylenediamine by hydrogenating dinitrotoluene
ES2536801T3 (es) Procedimiento de preparación de compuestos fluorados
TWI552982B (zh) 異氰酸酯的製造方法
JP6774970B2 (ja) １，２，３，４−テトラクロロ−ヘキサフルオロ−ブタンの合成方法
US8227647B2 (en) Method of producing alcohols
TWI457315B (zh) 在氣相中製備異氰酸酯之方法
CN108997127A (zh) 一种合成1,3-二-(2-氯-4-三氟甲基苯氧基)-4-硝基苯的生产工艺
US20230097182A1 (en) Process for Producing Ethylene Oxide from Ethane by Oxidative Dehydrogenation and Epoxidation Using a Recycle Reactor Design
TW201111042A (en) Metering ring
JP2010523705A5 (zh)
JPS6314742A (ja) 高純度パラブロモフルオロベンゼンの製造方法
JP2005314373A (ja) 酸化反応方法
JP2016204286A (ja) カルバメート化合物の製造方法
TWI663158B (zh) 環狀碳酸酯之製造裝置及製造方法
JP5753380B2 (ja) ウレイド基を有する化合物の製造方法
JP7494442B2 (ja) イソプロピルアルコールの製造方法
CN111377795B (zh) 通过直接氟化制备氟苯的工艺
JP2019532993A (ja) フッ素化シクロブタンを生成するためのプロセス
JP6140405B2 (ja) Ｎ−置換カルバミン酸エステルの製造方法
US9193656B2 (en) Process for the manufacture of halogenated precursors of alkenones and of alkenones
CN111744441A (zh) 连续反应装置和连续制备一溴代物的方法
PL225792B1 (pl) Sposób ciągłego otrzymywania bezwodnej chlorohydryny etylenowej
JP2013151453A (ja) Ｎ−置換カルバミン酸エステルの製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees