TW201509903A - 聚合性組成物溶液、及使用其之光學異向體 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種保存穩定性優異之聚合性組成物溶液，其塗佈於基材上，於乾燥過程中去除溶劑後，可使聚合性組成物中之聚合性化合物無缺陷地良好配向，並且提供一種使用該溶液之無缺陷地良好配向之光學異向體。 本發明提供一種溶液、及使用該溶液之光學異向體，該溶液含有聚合性組成物與有機溶劑，且含有聚合性組成物中之90質量%以上之通式(1)所表示之分子內具有2-甲基-1,4-伸苯基之聚合性化合物。

Description

聚合性組成物溶液、及使用其之光學異向體
本案發明係關於一種作為液晶裝置、顯示器、光學元件、光學零件、著色劑、安全用標記、雷射發光用構件、及液晶顯示器等光學補償所使用之光學異向體之構成構件而有用的聚合性組成物溶液、及使用該溶液之光學異向體。
聚合性組成物溶液係作為光學異向體之構成構件而有用，光學異向體例如以相位差膜(film)、相位差圖案化膜、沿面配向液晶膜之形式應用於各種液晶顯示器。相位差膜可藉由如下方式而獲得：將聚合性組成物溶液塗佈於基板上，於藉由配向膜等使聚合性組成物溶液配向之狀態下進行加熱或者照射活性能量射線，來使聚合性組成物硬化。
通常，用以塗佈之聚合性組成物溶液係以於有機溶劑中溶解有聚合性組成物之狀態使用，故而塗佈於基板上之後，需要藉由加熱等而去除溶劑之乾燥過程。而且，於乾燥過程中去除有機溶劑後，必須使聚合性組成物中之聚合性液晶化合物於基板上配向，但由於獲得相位差膜之製程多樣，故而需要於更廣之溫度範圍內以較長之時間無缺陷地良好配向。
迄今為止，作為聚合性液晶組成物之配向性良好之例，提出 有使用(甲基)丙烯酸酯化合物之組成物，但配向性並不充分(專利文獻1)。又，揭示有具有吖骨架之聚合性液晶化合物、及使用該聚合性液晶化合物之組成物，但僅揭示有聚合性液晶組成物相對於基板呈螺旋狀地配向之狀態下之配向性，關於聚合性液晶組成物相對於基板水平地配向之狀態下之配向性、或垂直地配向之狀態下之配向性並不明確，且該具有吖骨架之聚合性液晶化合物由於會著色，故而存在不適於相位差膜之問題(專利文獻2)。
此外，作為使聚合性液晶組成物良好配向之方法，改良配向膜之液晶配向性之情形較多，例如專利文獻3中揭示有含有烷氧基矽烷化合物之水解物、具有羥基之高分子材料、及交聯劑的配向膜溶液，專利文獻4中揭示有含有具有烷基矽氧烷骨架之矽氧烷化合物的配向膜。
如此，業界謀求開發出如下之聚合性組成物溶液，其塗佈於基材上，於乾燥過程中去除溶劑後，可使聚合性組成物中之聚合性化合物無缺陷地良好配向。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2009-184974號公報
[專利文獻2]日本特開2008-291218號公報
[專利文獻3]日本特開2006-308725號公報
[專利文獻4]日本特開2010-250172號公報
本發明所欲解決之課題在於提供一種保存穩定性優異之聚合性組成物溶液，其塗佈於基材上，於乾燥過程中去除溶劑後，可使聚合性組成物中之聚合性化合物無缺陷地良好配向，並且提供一種使用該溶液之無缺陷地良好配向之光學異向體。
本發明為了解決上述課題，潛心研究了各種聚合性化合物之組合，結果發現，製成含有聚合性組成物中之90質量%以上之具有特定之結構之聚合性化合物的聚合性組成物溶液，藉此保存穩定性優異，又，藉由使用該溶液，可獲得無缺陷地良好配向之光學異向體，從而完成本發明。
即，提供一種溶液、及使用該溶液之光學異向體，該溶液含有聚合性組成物與有機溶劑，且含有聚合性組成物中之90質量%以上之分子內具有2-甲基-1,4-伸苯基之聚合性化合物。
藉由使用本發明之聚合性組成物溶液，可獲得保存穩定性良好之溶液、及無缺陷地良好配向之光學異向體。
以下，對本發明之聚合性組成物溶液之最佳形態進行說明。本發明之聚合性組成物溶液含有聚合性組成物與有機溶劑。又，該聚合性組成物中之90質量%以上係由選自通式(1)所表示之聚合性化合物中1種或2種以上之聚合性化合物構成。
(式中，R1及R2分別獨立地表示氫原子、鹵基、氰基、碳原子數1~8之烷基或P-Sp-基(式中，P表示聚合性官能基，Sp表示碳原子數0~18之間隔基，P於分子內存在複數個之情形時可相同亦可不同，Sp於分子內存在複數個之情形時可相同亦可不同)，該烷基中1個或不鄰接之2個以上-CH2-可分別獨立地被取代為-CH=CH-、-C≡C-、-O-、-CO-、-COO-或-OCO-，該烷基中1個或2個以上氫原子可被取代為氟原子或氯原子，R1及R2之至少一者表示P-Sp-基，A1及A2分別獨立地表示選自由
(a)1,4-伸環己基(存在於該基中之1個-CH2-或不鄰接之2個以上-CH2-亦可被取代為-O-或-S-)及
(b)1,4-伸苯基(存在於該基中之1個-CH=或不鄰接之2個以上-CH=亦可被取代為-N=)
(c)1,4-伸環己烯基、2,4-環戊二烯-2,5-二基、噻吩-2,5-二基、呋喃-2,5-二基、哌啶-2,5-二基、萘-2,6-二基、萘-1,4-二基、萘-
1,5-二基、1,2,3,4-四氫萘-2,6-二基及十氫萘-2,6-二基
組成之群中之基，且上述基(a)、基(b)或基(c)可分別獨立地經氰基、氟原子、氯原子或碳原子數1~4之烷基取代，Z1及Z2分別獨立地表示單鍵、-CH2CH2-、-(CH2)4-、-OCH2-、-CH2O-、-OCF2-、-CF2O-、-COO-、-OCO-或-C≡C-、或-C=C-COO-、-OCO-C≡C-，m及n分別獨立地表示0、1、2、3或4，但m+n為4以下；又，於m為2~4而A1及Z1存在複數個之情形時分別可相同亦可不同，於n為2~4而A2及Z2存在複數個之情形時分別可相同亦可不同)
作為P所表示之聚合性官能基，較佳為乙烯基、乙烯醚基、丙烯酸基、(甲基)丙烯酸基、環氧丙基、氧雜環丁基(oxetanyl)、馬來亞醯胺基、硫醇基，就生產性之觀點而言，尤佳為乙烯醚基、丙烯酸基、(甲基)丙烯酸基、環氧丙基。
又，Sp表示碳原子數0~18之間隔基，具體而言，表示單鍵或伸烷基(該伸烷基亦可經1個以上之鹵素原子或CN取代，存在於該基中之1個CH2基或不鄰接之2個以上CH2基可分別相互獨立地以氧原子相互不直接鍵結之形式被取代為-O-、-S-、-NH-、-N(CH3)-、-CO-、-COO-、-OCO-、-OCOO-、-SCO-、-COS-或-C≡C-)。
於本發明之聚合性組成物中，為了獲得保存穩定性優異之聚合性組成物溶液，較佳為含有90質量%以上之通式(1)所表示之聚合性化合物，更佳為含有91質量%以上，進而更佳為含有93質量%以上，尤佳為 含有95質量%以上。又，通式(1)所表示之聚合性化合物之含量之上限值並無特別限定，亦較佳為含有100質量%。
於本發明之聚合性組成物中，較佳為含有通式(1)所表示 之聚合性化合物中R1及R2均為P-Sp-基的下述通式(1-1)所表示之聚合性化合物。
(A1、A2、Z1、Z2、m1、n1、P、Sp分別表示與上述通式(1)中所定義之A1、A2、Z1、Z2、m、n、P、Sp相同者)
該具有2個聚合性官能基之化合物由於在聚合後具有交聯結構，故而為了獲得良好配向之光學異向體，較佳為使用1種或2種。
又，於通式(1-1)所表示之化合物中之A1、A2之各環結構中，就與其他化合物之相溶性之方面而言，較佳為不具有甲基以外之取代基。
作為通式(1-1)所表示之化合物之例示化合物，示於以下，但並不限定於該等。
(式中，p及q分別獨立地表示1~18之整數，R3表示氫原子、或甲基)該等化合物可單獨使用，或者亦可混合2種以上而使用。
通式(1-1)所表示之化合物之合計含量就製成溶液之情形時之保存穩定性之觀點而言，較佳為含有聚合性組成物整體之含量中之30~90質量%，更佳為含有35~85質量%，尤佳為含有40~80質量%。
於本發明之聚合性組成物中，較佳為含有通式(1)所表示之聚合性化合物中R1為P-Sp-基的下述通式(1-2)所表示之聚合性化合物。
(A1、A2、Z1、Z2、m2、n2、P、Sp分別表示與上述通式(1)中所定義之A1、A2、Z1、Z2、m、n、P、Sp相同者，R4及R5之任一者表示氫原子，另一者表示甲基，R22表示氫原子、鹵基、氰基、碳原子數1~8之烷基，且該烷基中1個或不鄰接之2個以上-CH2-可分別獨立地被取代為-CH=CH-、-C≡C-、-O-、-CO-、-COO-或-OCO-，該烷基中1個或2個以上氫原子可被取代為氟原子或氯原子)
該具有1個聚合性官能基之化合物就製成溶液之情形時之相溶性的觀點而言，較佳為使用1種或2種。
又，於通式(1-2)所表示之化合物中之A1、A2之各環結構中，就與其他化合物之相溶性之方面而言，較佳為不具有甲基以外之取代基。
尤其於上述通式(1-1)及通式(1-2)所表示之化合物中之A1、A2之各環結構中，不具有甲基以外之取代基的情形時，由於兩者之化合物之主骨架部分具有相同結構，故而彼此之相溶性優異，製成溶液之情形時之保存穩定性提高，故而較佳。
作為通式(1-2)所表示之化合物之例示化合物，示於以下，但並不限定於該等。
(式中，t表示1~18之整數，r表示1~18之整數，s表示0 ~18之整數，R6表示氫原子、或甲基)該等液晶化合物可單獨使用，或者亦可混合2種以上而使用。
通式(1-2)所表示之化合物之合計含量就製成溶液之情形 時之相溶性的觀點而言，較佳為含有聚合性組成物整體之含量中之0~70質量%，更佳為含有10~60質量%，尤佳為含有20~60質量%。
又，通式(1)所表示之聚合性化合物具體而言，較佳為式 (1-3)所表示之化合物。
(R13、R23、A1、A2、m3、n3分別表示與上述通式(1)中所定 義之R1、R2、A1、A2、m、n相同者，R7及R8之任一者表示氫原子，另一者表示甲基)如此，藉由含有1種或2種以上具有-COO-、-OCO-作為 連結具有甲基之環結構之連結基的聚合性化合物，製成溶液之情形時之保存穩定性優異，又，即便於將溶液塗佈於基材上並利用乾燥步驟去除有機溶劑後之狀態下，亦觀察不到固形物之析出，可長時間維持液晶狀態。
進而，於通式(1-3)所表示之化合物中之A1、A2之各環結構中，就與其他化合物之相溶性之方面而言，較佳為不具有取代基。
又，於本發明之聚合性組成物中，可含有上述通式(1)所示之聚合性化合物以外之聚合性化合物。具體而言，可列舉通式(2)所表示之化合物。
(式中，P表示聚合性官能基，Sp表示碳原子數0~18之間隔基，M4表示0或1，MG表示液晶元基或液晶元性支持基，R9表示鹵素原子、氰基或碳原子數1~18之烷基、或通式(2-a)
(式中，P表示反應性官能基，Sp表示碳原子數0~18之間隔基，m5表示0或1)，該烷基亦可經1個以上之鹵素原子或CN取代，存在於該基中之1個CH2基或不鄰接之2個以上CH2基可分別相互獨立地以氧原子相互不直接鍵結之形式被取代為-O-、-S-、-NH-、-N(CH3)-、-CO-、-COO-、-OCO-、-OCOO-、-SCO-、-COS-或- C≡C-)
更具體而言，於通式(2)中，可列舉Sp表示伸烷基(該伸烷基亦可經1個以上之鹵素原子或CN取代，存在於該基中之1個CH2基或不鄰接之2個以上CH2基亦可分別相互獨立地以氧原子相互不直接鍵結之形式被取代為-O-、-S-、-NH-、-N(CH3)-、-CO-、-COO-、-OCO-、-OCOO-、-SCO-、-COS-或-C≡C-)
MG以通式(2-b)表示之化合物。
(式中，A1、A2及A3分別獨立地表示1,4-伸苯基、1,4-伸環己基、1,4-環己烯基、四氫吡喃-2,5-二基、1,3-二烷-2,5-二基、四氫噻喃-2,5-二基、1,4-雙環(2,2,2)伸辛基、十氫萘-2,6-二基、吡啶-2,5-二基、嘧啶-2,5-二基、吡-2,5-二基、噻吩-2,5-二基、1,2,3,4-四氫萘-2,6-二基、2,6-伸萘基、菲-2,7-二基、9,10-二氫菲-2,7-二基、1,2,3,4,4a,9,10a-八氫菲-2,7-二基、1,4-伸萘基、苯并[1,2-b：4,5-b']二噻吩-2,6-二基、苯并[1,2-b：4,5-b']二硒吩-2,6-二基、[1]苯并噻吩并[3,2-b]噻吩-2,7-二基、[1]苯并硒吩并[3,2-b]硒吩-2,7-二基、或茀-2,7-二基，亦可具有1個以上之F、Cl、CF3、OCF3、CN基、碳原子數2~8之烷基、烷氧基、烷醯基、烷醯氧基、碳原子數2~8之烯基、烯氧基、烯醯基或烯醯氧基作為取代基，Z0、Z1、Z2及Z3分別獨立地表示-COO-、-OCO-、-CH2CH2-、 -OCH2-、-CH2O-、-CH=CH-、-C≡C-、-CH=CHCOO-、-OCOCH=CH-、-CH2CH2COO-、-CH2CH2OCO-、-COOCH2CH2-、-OCOCH2CH2-、-CONH-、-NHCO-、碳數2~10之可具有鹵素原子之烷基或單鍵，n4表示0、1或2)
聚合性官能基較佳為乙烯基、乙烯醚基、丙烯酸基、(甲基)丙烯酸基、環氧丙基、氧雜環丁基、馬來亞醯胺基、硫醇基，就生產性之觀點而言，尤佳為乙烯醚基、丙烯酸基、(甲基)丙烯酸基、環氧丙基。
進而，於通式(2)所表示之化合物中之MG之各環結構中，就與其他化合物之相溶性之方面而言，較佳為不具有取代基。
進而，較佳為通式(2-1)所表示之化合物、
(式中，Z4表示氫原子、鹵素原子、氰基或碳原子數1~18之烴基，Z5表示氫原子或甲基，u表示0或1，B、C及D分別獨立地表示1,4-伸苯基、不鄰接之CH基被取代為氮之1,4-伸苯基、1,4-伸環己基、1個或不鄰接之2個CH2基被取代為氧或硫原子之1,4-伸環己基、1,4-環己烯基、1,4-雙環(2,2,2)伸辛基、十氫萘-2,6-二基、吡啶-2,5-二基、嘧啶-2,5-二基、吡-2,5-二基、1,2,3,4-四氫萘-2,6-二基、2,6-伸萘基、1,4-伸萘基，該等基亦可經一 個以上之碳原子數2~7之烷基、烷氧基、烷醯基、氰基或鹵素原子取代，Y3及Y4分別獨立地表示單鍵、-CH2CH2-、-CH2O-、-OCH2-、-COO-、-OCO-、-C≡C-、-CH=CH-、-CF=CF-、-(CH2)4-、-CH2CH2CH2O-、-OCH2CH2CH2-、-CH=CHCH2CH2-、-CH2CH2CH=CH-、-CH=CHCOO-、-OCOCH=CH-、-CH2CH2COO-、-CH2CH2OCO-、-COOCH2CH2-或-OCOCH2CH2-，Y5表示單鍵、-O-、-COO-、-OCO-或-CH=CHCOO-)
及通式(2-2)所表示之化合物、
(式中，Z6表示氫原子、鹵素原子、氰基或碳原子數1~18之烴基，Z7表示氫原子或甲基，W3表示單鍵、-O-、-COO-或-OCO-，v表示1~18之整數，w表示0或1，E、F及G分別獨立地表示1,4-伸苯基、不鄰接之CH基被取代為氮原子之1,4-伸苯基、1,4-伸環己基、1個或不鄰接之2個CH2基被取代為氧原子或硫原子之1,4-伸環己基、1,4-環己烯基、1,4-雙環(2,2,2)伸辛基、十氫萘-2,6-二基、吡啶-2,5-二基、嘧啶-2,5-二基、吡-2,5-二基、1,2,3,4-四氫萘-2,6-二基、2,6-伸萘基、1,4-伸萘基，該等基亦可經一 個以上之碳原子數2~7之烷基、烷氧基、烷醯基、氰基或鹵素原子取代，Y6及Y7分別獨立地表示單鍵、-CH2CH2-、-CH2O-、-OCH2-、-COO-、-OCO-、-C≡C-、-CH=CH-、-CF=CF-、-(CH2)4-、-CH2CH2CH2O-、-OCH2CH2CH2-、-CH=CHCH2CH2-、-CH2CH2CH=CH-、-CH=CHCOO-、-OCOCH=CH-、-CH2CH2COO-、-CH2CH2OCO-、-COOCH2CH2-或-OCOCH2CH2-，Y8表示單鍵、-O-、-COO-、-OCO-或-CH=CHCOO-)
及通式(2-3)所表示之化合物。
(式中，y表示0或1，W1及W2分別獨立地表示單鍵、-O-、-COO-或-OCO-，Y1及Y2分別獨立地表示單鍵、-C≡C-COO-、-OCO-C≡C-、-COO-或-OCO-，x及z分別獨立地表示0~18之整數，R10表示氫原子、或甲基，R20、R21、R24~R33分別選自氫原子、碳原子數2~7之烷基、烷氧基、烷醯基、氰基、或鹵素原子)
作為例示化合物，示於以下，但並不限定於該等。
(式中，e及f分別獨立地表示1~18之整數，R34表示氫原 子或甲基，R35表示氫原子、鹵素原子、碳數2~6之烷基、碳數1~6之烷氧基、氰基；於該等基為碳數2~6之烷基、或碳數1~6之烷氧基之情形時，可全部未經取代，亦可經1個或2個以上之鹵素原子取代)該等化合物可單獨使用，或者亦可混合2種以上而使用。
通式(2)所表示之化合物之合計含量就製成溶液之情形時 之相溶性之觀點而言，較佳為含有聚合性組成物整體之含量中之0~10質量%。
於本發明之聚合性組成物溶液中，亦可含有上述通式(1) 所示之聚合性化合物以外之可顯示液晶性、亦可為非液晶性的聚合性手性 化合物。
作為本發明中使用之聚合性手性化合物，較佳為具有1個以 上聚合性官能基。作為此種化合物，例如可列舉：日本特開平11-193287號公報、日本特開2001-158788號公報、日本特表2006-52669號公報、日本特開2007-269639號公報、日本特開2007-269640號公報、2009-84178號公報等中所記載之含有異山梨酯(isosorbide)、異甘露醇、葡糖苷等手性之糖類，且具有1,4-伸苯基、1,4-伸環己基等剛性之部位、及乙烯基、丙烯醯基、(甲基)丙烯醯基、或馬來亞醯胺基之聚合性官能基的聚合性手性化合物；日本特開平8-239666號公報中所記載之由類萜衍生物構成之聚合性手性化合物；NATURE VOL35 467~469頁(1995年11月30日發行)、NATURE VOL392 476~479頁(1998年4月2日發行)等中所記載之由具有液晶元基(mesogen group)與手性部位之間隔基構成之聚合性手性化合物；或者日本特表2004-504285號公報、日本特開2007-248945號公報中所記載之含有聯萘基之聚合性手性化合物。其中，螺旋扭轉力(HTP)大之手性化合物對於本發明之聚合性液晶組成物而言較佳。
聚合性手性化合物之摻合量需根據化合物之螺旋扭轉力而 適當調整，較佳為含有聚合性組成物中之0~10質量%。
作為聚合性手性化合物之通式之一例，可列舉通式(3-1) ~(3-4)，但並不限定於下述通式。
式中，Sp3a、及Sp3b分別獨立地表示碳原子數0~18之伸烷基，該伸烷基亦可經1個以上之鹵素原子、CN基、或具有聚合性官能基之碳原子數1~8之烷基取代，存在於該基中之1個CH2基或不鄰接之2個以上CH2基可分別相互獨立地以氧原子相互不直接鍵結之形式被取代為-O-、-S-、-NH-、-N(CH3)-、-CO-、-COO-、-OCO-、-OCOO-、-SCO-、-COS-或-C≡C-，A1、A2、A3、A4、及A5分別獨立地表示1,4-伸苯基、1,4-伸環己基、1,4-環己烯基、四氫吡喃-2,5-二基、1,3-二烷-2,5-二基、四氫噻喃-2,5-二基、1,4-雙環(2,2,2)伸辛基、十氫萘-2,6-二基、吡啶-2,5-二基、嘧啶-2,5-二基、吡-2,5-二基、噻吩-2,5-二基、1,2,3,4-四氫萘-2,6-二基、2,6-伸萘基、菲-2,7-二基、9,10-二氫菲-2,7-二基、1,2,3,4,4a,9,10a-八氫菲-2,7-二基、1,4-伸萘基、苯并[1,2-b：4,5-b']二噻吩-2,6-二基、苯并[1,2-b：4,5-b']二硒吩-2,6-二基、[1]苯并噻吩并[3,2 -b]噻吩-2,7-二基、[1]苯并硒吩并[3,2-b]硒吩-2,7-二基、或茀-2,7-二基，n、l及k分別獨立地表示0或1，且成為0≦n+l+k≦3，Z0、Z1、Z2、Z3、Z4、Z5、及Z6分別獨立地表示-COO-、-OCO-、-CH2CH2-、-OCH2-、-CH2O-、-CH=CH-、-C≡C-、-CH=CHCOO-、-OCOCH=CH-、-CH2CH2COO-、-CH2CH2OCO-、-COOCH2CH2-、-OCOCH2CH2-、-CONH-、-NHCO-、碳數2~10之可具有鹵素原子之烷基或單鍵，n5、及m5分別獨立地表示0或1，R3a及R3b表示氫原子、鹵素原子、氰基或碳原子數1~18之烷基，但該烷基亦可經1個以上之鹵素原子或CN取代，存在於該基中之1個CH2基或不鄰接之2個以上CH2基可分別相互獨立地以氧原子相互不直接鍵結之形式被取代為-O-、-S-、-NH-、-N(CH3)-、-CO-、-COO-、-OCO-、-OCOO-、-SCO-、-COS-或-C≡C-，或者R3a及R3b為通式(3-a)，-P 3a (3-a)
(式中，P3a表示聚合性官能基，Sp3a表示與Sp1相同之含義)
P5a較佳為表示選自下述式(P-1)至式(P-20)所表示之聚合性基中之取代基。
該等聚合性官能基中，就提高聚合性及保存穩定性之觀點而言，較佳為式(P-1)或式(P-2)、(P-7)、(P-12)、(P-13)，更佳為式(P-1)、(P-7)、(P-12)。
作為聚合性手性化合物之具體例，可列舉化合物(3-5)~(3-25)之化合物，但並不限定於下述化合物。
式中，m、n、k、l分別獨立地表示1~18之整數，R1~R4分別獨立地表示氫原子、碳數1~6之烷基、碳數1~6之烷氧基、羧基、氰基。於該等基為碳數1~6之烷基、或碳數1~6之烷氧基之情形時，可全部 未經取代，亦可經1個或2個以上之鹵素原子取代。
於本發明之聚合性組成物溶液中，亦可含有上述通式(1)所示之聚合性化合物以外之可顯示液晶性、亦可為非液晶性的聚合性盤形化合物。
作為本發明中使用之聚合性盤形化合物，較佳為具有1個以上聚合性官能基。作為此種化合物，例如可列舉：日本特開平7-281028號公報、日本特開平7-287120號公報、日本特開平7-333431號公報、日本特開平8-27284號公報中所記載之聚合性化合物。
聚合性盤形化合物之摻合量需根據化合物而適當調整，較佳為含有聚合性組成物中之0~10質量%。
作為聚合性盤形化合物之通式之一例，可列舉通式(4-1)~(4-3)，但並不限定於下述通式。
式中，Sp4表示碳原子數0~18之伸烷基，該伸烷基亦可經1個以上之鹵素原子、CN基、或具有聚合性官能基之碳原子數1~8之烷基取代，存在於該基中之1個CH2基或不鄰接之2個以上CH2基可分別相互獨立地以氧原子相互不直接鍵結之形式被取代為-O-、-S-、-NH-、- N(CH3)-、-CO-、-COO-、-OCO-、-OCOO-、-SCO-、-COS-或-C≡C-，A4表示1,4-伸苯基、1,4-伸環己基、1,4-環己烯基、四氫吡喃-2,5-二基、1,3-二烷-2,5-二基、四氫噻喃-2,5-二基、1,4-雙環(2,2,2)伸辛基、十氫萘-2,6-二基、吡啶-2,5-二基、嘧啶-2,5-二基、吡-2,5-二基、噻吩-2,5-二基、1,2,3,4-四氫萘-2,6-二基、2,6-伸萘基、菲-2,7-二基、9,10-二氫菲-2,7-二基、1,2,3,4,4a,9,10a-八氫菲-2,7-二基、1,4-伸萘基、苯并[1,2-b：4,5-b']二噻吩-2,6-二基、苯并[1,2-b：4,5-b']二硒吩-2,6-二基、[1]苯并噻吩并[3,2-b]噻吩-2,7-二基、[1]苯并硒吩并[3,2-b]硒吩-2,7-二基、或茀-2,7-二基，n5表示0或1，Z4a表示-CO-、-CH2CH2-、-CH2O-、-CH=CH-、-CH=CHCOO-、-CH2CH2COO-、-CH2CH2OCO-、-COCH2CH2-、碳數2~10之可具有鹵素原子之烷基或單鍵，Z4b表示-COO-、-OCO-、-OCH2-、-CH2O-、-CH=CH-、-C≡C-、-CH=CHCOO-、-OCOCH=CH-、-CH2CH2COO-、-CH2CH2OCO-、-COOCH2CH2-、-OCOCH2CH2-、-CONH-、-NHCO-、-OCOO-、碳數2~10之可具有鹵素原子之烷基或單鍵，R4表示氫原子、鹵素原子、氰基或碳原子數1~18之烷基，但該烷基亦可經1個以上之鹵素原子或CN取代，存在於該基中之1個CH2基或不鄰接之2個以上CH2基可分別相互獨立地以氧原子相互不直接鍵結之形式被取代為-O-、-S-、-NH-、-N(CH3)-、-CO-、-COO-、- OCO-、-OCOO-、-SCO-、-COS-或-C≡C-，或者R4為通式(4-a)，-P 4a (4-a)
(式中，P4a表示聚合性官能基，Sp3a表示與Sp1相同之含義)
P4a較佳為表示選自下述式(P-1)至式(P-20)所表示之聚合性基中之取代基。
該等聚合性官能基中，就提高聚合性及保存穩定性之觀點而言，較佳為式(P-1)或式(P-2)、(P-7)、(P-12)、(P-13)，更佳為式(P-1)、(P-7)、(P-12)。
作為聚合性盤形化合物之具體例，可列舉化合物(4-4)~ (4-8)之化合物，但並不限定於下述化合物。
式中，n表示1~18之整數。
(有機溶劑)
作為本發明之聚合性組成物溶液中使用之有機溶劑，並無特別限定，較佳為聚合性化合物顯示良好之溶解性之溶劑，且較佳為可於100℃以下之溫度下乾燥去除之溶劑。作為此種溶劑，例如可列舉：甲苯、二甲苯、異丙苯、1,3,5-三甲苯等芳香族系烴；乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丙酯、乙酸丁酯等酯系溶劑；甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環己酮、環戊酮等酮系溶劑；四氫呋喃、1,2-二甲氧基乙烷、苯甲醚等醚系溶劑；N,N-二甲基甲醯胺、N-甲基-2-吡咯啶酮等醯胺系溶劑；丙二醇單甲醚乙酸酯、二乙二醇單甲醚乙酸酯、γ-丁內酯、氯苯等。該等可單獨使用，或者亦可混合2種以上而使用，較佳為使用酮系溶劑、醚系溶劑、酯系溶劑、芳香族烴系溶劑中任一種以上，於混合2種而使用之情形時，就溶液穩定性之方面而言，較佳為混合甲苯與丙二醇單甲醚乙酸酯而使用。
關於聚合性組成物溶液中之有機溶劑之比率，由於本發明中所使用之聚合性組成物通常藉由塗佈而進行，故而只要不明顯損害塗佈後之狀態則無特別限制，聚合性組成物之固形物成分較佳為10~60質量%，更佳為20~50質量%。
(聚合性起始劑)
本發明之聚合性組成物溶液較佳為含有至少1種以上聚合性起始劑。作為聚合起始劑，較佳為光聚合起始劑，具體而言，可列舉：BASF公司之「Irgacure 651」、「Irgacure 184」、「Irgacure 907」、「Irgacure 127」、「Irgacure 369」、「Irgacure 379」、「Irgacure 819」、「Irgacure OXE01」、「Irgacure OXE02」、「Lucirin TPO」、「Darocure 1173」或LAMBSON公司之「Esacure 1001M」、「Esacure KIP150」、「Speedcure BEM」、「Speedcure BMS」、「Speedcure PBZ」、「二苯甲酮」等。
光聚合起始劑之使用量相對於聚合性組成物，較佳為0.1~ 10質量%，尤佳為0.5~5質量%。該等可單獨使用或者亦可混合2種以上而使用，又，亦可添加增感劑等。
(界面活性劑)
為了降低製成光學異向體之情形時之膜厚不均，本發明之聚合性組成物溶液較佳為含有至少1種以上界面活性劑。作為可含有之界面活性劑，可列舉烷基羧酸鹽、烷基磷酸鹽、烷基磺酸鹽、氟烷基羧酸鹽、氟烷基磷酸鹽、氟烷基磺酸鹽、聚氧乙烯衍生物、氟烷基環氧乙烷衍生物、聚乙二醇衍生物、烷基銨鹽、氟烷基銨鹽類、聚矽氧衍生物等，尤佳為含氟界面活性劑、聚矽氧衍生物。更具體而言，可列舉「MEGAFAC F-110」、「MEGAFAC F-113」、「MEGAFAC F-120」、「MEGAFAC F-812」、「MEGAFAC F-142D」、「MEGAFAC F-144D」、「MEGAFAC F-150」、「MEGAFAC F-171」、「MEGAFAC F-173」、「MEGAFAC F-177」、「MEGAFAC F-183」、「MEGAFAC F-195」、「MEGAFAC F-824」、「MEGAFAC F-833」、「MEGAFAC F-114」、「MEGAFAC F-410」、「MEGAFAC F-493」、「MEGAFAC F-494」、「MEGAFAC F-443」、「MEGAFAC F-444」、「MEGAFAC F-445」、「MEGAFAC F-446」、「MEGAFAC F-470」、「MEGAFAC F-471」、「MEGAFAC F-474」、「MEGAFAC F-475」、「MEGAFAC F-477」、「MEGAFAC F-478」、 「MEGAFAC F-479」、「MEGAFAC F-480SF」、「MEGAFAC F-482」、「MEGAFAC F-483」、「MEGAFAC F-484」、「MEGAFAC F-486」、「MEGAFAC F-487」、「MEGAFAC F-489」、「MEGAFAC F-554」、「MEGAFAC F-172D」、「MEGAFAC F-178K」、「MEGAFAC F-178RM」、「MEGAFAC R-08」、「MEGAFAC R-30」、「MEGAFAC F-472SF」、「MEGAFAC BL-20」、「MEGAFAC R-61」、「MEGAFAC R-90」、「MEGAFAC ESM-1」、「MEGAFAC MCF-350SF」(以上，DIC股份有限公司製造)、 「Ftergent 100」、「Ftergent 100C」、「Ftergent 110」、「Ftergent 150」、「Ftergent 150CH」、「Ftergent A」、「Ftergent 100A-K」、「Ftergent 501」、「Ftergent 300」、「Ftergent 310」、「Ftergent 320」、「Ftergent 400SW」、「FTX-400P」、「Ftergent 251」、「Ftergent 215M」、「Ftergent 212MH」、「Ftergent 250」、「Ftergent 222F」、「Ftergent 212D」、「FTX-218」、「FTX-209F」、「FTX-213F」、「FTX-233F」、「Ftergent 245F」、「FTX-208G」、「FTX-240G」、「FTX-206D」、「FTX-220D」、「FTX-230D」、「FTX-240D」、「FTX-207S」、「FTX-211S」、「FTX-220S」、「FTX-230S」、「FTX-750FM」、「FTX-730FM」、「FTX-730FL」、「FTX-710FS」、「FTX-710FM」、「FTX-710FL」、「FTX-750LL」、「FTX-730LS」、「FTX-730LM」、「FTX-730LL」、「FTX-710LL」(以上，NEOS公司製造)、 「BYK-300」、「BYK-302」、「BYK-306」、「BYK-307」、「BYK-310」、「BYK-315」、「BYK-320」、「BYK-322」、「BYK-323」、「BYK-325」、「BYK-330」、「BYK-331」、「BYK-333」、「BYK-337」、「BYK-340」、「BYK-344」、「BYK-370」、「BYK-375」、「BYK-377」、「BYK-350」、「BYK -352」、「BYK-354」、「BYK-355」、「BYK-356」、「BYK-358N」、「BYK-361N」、「BYK-357」、「BYK-390」、「BYK-392」、「BYK-UV3500」、「BYK-UV3510」、「BYK-UV3570」、「BYK-Silclean 3700」(以上，BYK-Chemie Japan公司製造)、「TEGO Rad 2100」、「TEGO Rad 2200N」、「TEGO Rad 2250」、「TEGO Rad 2300」、「TEGO Rad 2500」、「TEGO Rad 2600」、「TEGO Rad 2700」(以上，TEGO公司製造)、「N215」、「N535」、「N605K」、「N935」(以上，Solvay Solexis公司製造)等之例。
界面活性劑之添加量相對於聚合性組成物，較佳為0.01~2質量%，更佳為0.05~0.5質量%。
g)(其他成分)
為了有效地減少製成光學異向體之情形時之空氣界面之傾斜角，本發明之聚合性組成物溶液較佳為含有至少1種以上具有下述通式(5)所表示之重複單元且重量平均分子量為100以上的化合物。
(式中，R36、R37、R38及R39分別獨立地表示氫原子、鹵素原子或碳原子數1~20之烴基，該烴基中之氫原子可被1個以上之鹵素原子取代)
作為該通式(5)所表示之較佳之化合物，例如可列舉聚乙 烯、聚丙烯、聚異丁烯、石蠟(paraffin)、液態石蠟、氯化聚丙烯、氯化石蠟、氯化液態石蠟等。
該通式(5)所表示之化合物之添加量相對於聚合性組成物，較佳為0.01~1質量%，更佳為0.05~0.5質量%。
對於本發明之聚合性組成物溶液，為了進一步提高製成光學異向體之情形時之與基材之密接性，亦較佳為添加鏈轉移劑。作為鏈轉移劑，較佳為硫醇化合物，更佳為單硫醇、二硫醇、三硫醇、四硫醇化合物，進而更佳為三硫醇化合物。具體而言，較佳為下述通式(6-1)~(6-12)所表示之化合物。
(式中，R65表示碳原子數2~18之烷基，該烷基可為直鏈亦可為支鏈，該烷基中之1個以上亞甲基可以氧原子及硫原子相互不直接鍵結之形式被取代為氧原子、硫原子、-CO-、-OCO-、-COO-、或-CH=CH-，R66表示碳原子數2~18之伸烷基，該伸烷基中之1個以上亞甲基可以氧原子及硫原子相互不直接鍵結之形式被取代為氧原子、硫原子、-CO-、-OCO-、-COO-、或-CH=CH-)
硫醇化合物之添加量相對於聚合性組成物，較佳為0.5~10質量%，更佳為1.0~5.0質量%。
又，為了提高本發明之聚合性組成物溶液之溶液穩定性，亦較佳為添加聚合抑制劑、抗氧化劑等。作為此種化合物，可列舉對苯二酚衍生物、受阻酚系抗氧化劑等，更具體而言，可列舉對甲氧基苯酚、BASF 公司之「IRGANOX 1010」、「IRGANOX 1035」、「IRGANOX 1076」、「IRGANOX 1098」、「IRGANOX 1135」、「IRGANOX 1330」、「IRGANOX 1425」、「IRGANOX 1520」、「IRGANOX 1726」、「IRGANOX 245」、「IRGANOX 259」、「IRGANOX 3114」、「IRGANOX 3790」、「IRGANOX 5057」、「IRGANOX 565」等。
聚合抑制劑、抗氧化劑之添加量相對於聚合性組成物，較佳為0.01~1.0質量%，更佳為0.05~0.5質量%。
進而為了調整物性，亦可視需要添加非聚合性之液晶化合物、或無液晶性之聚合性化合物等。該等化合物之添加量相對於聚合性組成物，較佳為20質量%以下，更佳為10質量%以下，進而更佳為5質量%以下。
(光學異向體之製造方法)
(光學異向體)
本發明之光學異向體係依序積層基材、視需要之配向膜、及聚合性組成物溶液之聚合物而成者。或者係依序積層基材、視需要之配向膜、及聚合性組成物溶液之聚合物，並於其上依序積層視需要之配向膜、及上述聚合性組成物溶液或亦可與上述不同之聚合性組成物溶液而成者。進而亦可於其上依序積層視需要之配向膜、及上述聚合性組成物溶液或亦可與上述不同之聚合性組成物溶液。
本發明之光學異向體所使用之基材係液晶裝置、顯示器、光學元件、光學零件、著色劑、安全用標記、雷射發光用構件、及光學膜中通常使用之基材，只要為具有可耐受本發明之聚合性組成物溶液之塗佈後之乾燥時之加熱的耐熱性之材料，則無特別限制。作為此種基材，可列舉 玻璃基材、金屬基材、陶瓷基材或塑膠基材等有機材料。尤其於基材為有機材料之情形時，可列舉纖維素衍生物、聚烯烴、聚酯、聚烯烴、聚碳酸酯、聚丙烯酸酯、聚芳酯、聚醚碸、聚醯亞胺、聚苯硫醚、聚苯醚、尼龍或聚苯乙烯等。其中較佳為聚酯、聚苯乙烯、聚烯烴、纖維素衍生物、聚芳酯、聚碳酸酯等塑膠基材。
為了提高本發明之聚合性組成物溶液之塗佈性或接著性，亦 可進行該等基材之表面處理。作為表面處理，可列舉臭氧處理、電漿處理、電暈處理、矽烷偶合處理等。又，為了調節光之透過率或反射率，而於基材表面藉由蒸鍍等方法設置有機薄膜、無機氧化物薄膜或金屬薄膜等，或者為了賦予光學附加價值，基材亦可為讀取透鏡(pickup lens)、棒形透鏡(rod lens)、光碟、相位差膜、光擴散膜、濾色器等。其中較佳為附加價值更高之讀取透鏡、相位差膜、光擴散膜、濾色器。
又，為了在上述基材塗佈本發明之聚合性組成物溶液並加以乾燥時使聚合性組成物配向，通常實施配向處理，或者亦可設置配向膜。作為配向處理，可列舉延伸處理、摩擦處理、偏光紫外可見光照射處理、離子束處理等。於使用配向膜之情形時，配向膜係使用公知慣用者。作為此種配向膜，可列舉聚醯亞胺、聚矽氧烷、聚醯胺、聚乙烯醇、聚碳酸酯、聚苯乙烯、聚苯醚、聚芳酯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚醚碸、環氧樹脂、環氧丙烯酸酯樹脂、丙烯酸樹脂、香豆素化合物、查耳酮化合物、肉桂酸酯化合物、俘精酸酐(fulgide)化合物、蒽醌化合物、偶氮化合物、芳基乙烯化合物等化合物。藉由摩擦進行配向處理之化合物較佳為藉由配向處理、或者藉由於配向處理後加入加熱步驟而促進材料之結晶化者。於進行 摩擦以外之配向處理之化合物中，較佳為使用光配向材料。
(塗佈)
作為用以獲得本發明之光學異向體之塗佈法，可進行敷料器法、棒式塗佈法、旋轉塗佈法、凹版印刷法、軟版印刷法、噴墨法、模具塗佈法、覆塗法、浸漬等公知慣用之方法。於塗佈聚合性組成物溶液後使之乾燥。
(聚合步驟)
經乾燥之聚合性組成物之聚合處理係於該聚合性組成物中之通式(1)所表示之聚合性化合物進行平面配向之狀態下通常藉由紫外線等之光照射、或加熱而進行。於以光照射進行聚合之情形時，具體而言，較佳為照射390nm以下之紫外光，最佳為照射250~370nm之波長之光。然而，於聚合性組成物因390nm以下之紫外光而引起分解等之情形時，亦存在較佳為利用390nm以上之紫外光進行聚合處理之情形。該光較佳為擴散光、且未偏光之光。
(相位差膜)
本發明之相位差膜係以與本發明之光學異向體相同之方式製成。於在聚合性組成物中之通式(1)所表示之聚合性化合物進行平面配向之狀態下聚合之情形時，可獲得對基材於面內具有雙折射性之相位差膜。上述相位差膜可用作沿面液晶膜。於在聚合性組成物中之通式(1)所表示之聚合性化合物、及聚合性手性化合物進行平面配向之狀態下聚合之情形時，可獲得對基材於面外具有雙折射性之相位差膜。於含有聚合性盤形化合物之聚合性組成物中之通式(1)所表示之聚合性化合物進行平面配 向之狀態下聚合的情形時，可獲得對基材於面內面外均具有雙折射性之相位差膜。
又，於基材具有相位差之情形時，可獲得具有將基材所具有 之雙折射性、及本發明之相位差膜之雙折射性相加之雙折射性的相位差膜。上述相位差膜中，基材所具有之雙折射性與相位差膜所具有之雙折射性於基材之面內有為相同方向之情形，亦有為不同方向之情形。根據液晶裝置、顯示器、光學元件、光學零件、著色劑、安全用標記、雷射發光用構件、光學膜、及補償膜等用途，而以適於用途之形式應用。
(相位差圖案化膜)
本發明之相位差圖案化膜係與本發明之光學異向體同樣 地，依序積層基材、配向膜、及聚合性組成物溶液之聚合物而成者，但係於聚合步驟中，以可獲得部分不同之相位差之方式圖案化而成者。圖案化亦存在線狀之圖案化、格子狀之圖案化、圓狀之圖案化、多邊形狀之圖案化等不同方向之情形。根據液晶裝置、顯示器、光學元件、光學零件、著色劑、安全用標記、雷射發光用構件、光學膜、及補償膜等用途而應用。
作為獲得部分不同之相位差之方法，於基材設置配向膜，並 於進行配向處理時，以於塗佈本發明之聚合性組成物溶液並加以乾燥時使聚合性組成物圖案化配向的方式進行處理。此種配向處理可列舉微細摩擦處理、經由光罩之偏光紫外可見光照射處理、微細形狀加工處理等。配向膜係使用公知慣用者。作為此種配向膜，可列舉聚醯亞胺、聚矽氧烷、聚醯胺、聚乙烯醇、聚碳酸酯、聚苯乙烯、聚苯醚、聚芳酯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚醚碸、環氧樹脂、環氧丙烯酸酯樹脂、丙烯酸樹脂、香豆素化 合物、查耳酮化合物、肉桂酸酯化合物、俘精酸酐化合物、蒽醌化合物、偶氮化合物、芳基乙烯化合物等化合物。藉由微細摩擦進行配向處理之化合物較佳為藉由配向處理、或者藉由於配向處理後加入加熱步驟而促進材料之結晶化者。於進行摩擦以外之配向處理之化合物中，較佳為使用光配向材料。
[實施例]
以下，藉由合成例、實施例、及比較例對本發明進行說明， 當然本發明並不限定於該等。再者，只要無特別說明，則「份」及「%」為質量基準。
(聚合性組成物溶液(1)之製備)
將式(A-1)所表示之聚合性化合物30份、式(A-2)所 表示之聚合性化合物30份、式(B-1)所表示之聚合性化合物20份、式(B-2)所表示之聚合性化合物20份、Irgacure 907(D-1)4份、對甲氧基苯酚(E-1)0.1份、液態石蠟(F-1)0.2份、MEGAFAC F-554(F-2)0.1份於甲苯/丙二醇單甲醚乙酸酯(60/40)混合溶劑(C-1)400份中加以混合，並於50℃加熱1小時。其後，以0.1μm之薄膜過濾器加以過濾而獲得本發明之聚合性組成物溶液(1)。
(聚合性組成物溶液(2)~(70)之製備)
以與本發明之聚合性組成物溶液(1)之製備相同之方式獲 得本發明之聚合性組成物溶液(2)~(45)、(57)~(70)及非本發明之(46)~(56)聚合性組成物溶液。表1~表5中表示本發明之聚合性組成物溶液(1)~(70)之具體組成。
甲苯/丙二醇單甲醚乙酸酯(60/40)(C-1)
丙二醇單甲醚乙酸酯(C-2)
丙二醇二乙酸酯(C-3)
丙二醇單甲醚(C-4)
甲苯(C-5)
甲基異丁基酮(C-6)
苯甲醚(C-7)
Irgacure 907(D-1)
Irgacure OXE01(D-2)
Irgacure 651(D-3)
對甲氧基苯酚(E-1)
液態石蠟(F-1)
MEGAFAC F-554(F-2)
TECNOFLON N535(F-3)
(實施例1)
觀察將所製備之聚合性組成物溶液於0℃保管1週後之溶液狀態。未確認到沈澱物，維持與製備後之時間點相同之狀態。
於室溫下以棒式塗佈機#4將所製備之聚合性組成物溶液塗佈於TAC(三乙醯纖維素)膜上後，於80℃乾燥2分鐘。其後，於室溫下放置15分鐘後，使用輸送帶式之高壓水銀燈，以照度成為500mJ/cm2之方式設置並照射UV光(配向性1)。
同樣地，於室溫下以棒式塗佈機#4將所製備之聚合性組成物溶液塗佈於利用絨毛質地之布進行摩擦處理之TAC膜上後，於80℃乾燥 2分鐘。其後，於室溫下放置15分鐘後，使用輸送帶式之高壓水銀燈，以照度成為500mJ/cm2之方式設置並照射UV光(配向性2)。
使用旋轉塗佈法將配向膜用聚醯亞胺溶液塗佈於厚度0.7mm之玻璃基板上，並於100℃乾燥10分鐘後，於200℃燒成60分鐘，藉此獲得塗膜，對所獲得之塗膜進行摩擦處理而獲得基材。於以旋轉塗佈機將所製備之聚合性組成物溶液塗佈於該基材上之後，於80℃乾燥2分鐘。其後，立即以照度成為500mJ/cm2之方式設置並照射UV光(配向性3)。
以旋轉塗佈機於玻璃基板上塗佈LIA-01(DIC股份有限公司製造)，並於80℃乾燥1分鐘，以超高壓水銀燈經由波長截止濾光鏡、帶通濾波器、及偏光濾光器，對乾燥膜厚15nm之塗膜自與基材垂直之方向照射(照射量：100mJ/cm2)波長365nm附近之可見紫外光(照射強度：20mW/cm2)之直線偏光且平行光，而獲得光配向膜。於以旋轉塗佈機將所製備之聚合性組成物溶液塗佈於所獲得之光配向膜之後，於80℃乾燥2分鐘。其後，立即以照度成為500mJ/cm2之方式設置並照射UV光(配向性4)。
其結果為，成為於任一配向性試驗中均顯示良好之配向性的結果。將所獲得之結果示於表6。
(溶液穩定性)
○：完全無沈澱物，為均勻溶液之狀態
×：部分確認到沈澱物
(配向性)
○：目視下完全無缺陷，於偏光顯微鏡觀察下亦完全無缺陷
△：目視下無缺陷，但於偏光顯微鏡觀察下整體上存在無配向部分
×：目視下部分產生缺陷，於偏光顯微鏡觀察下整體上亦存在無配向部分
-：未確認
(實施例2~59、比較例1~11)
以與實施例1相同之方式，觀察將實施例2~59、比較例1 ~11之發明之聚合性組成物溶液於0℃保管1週後之溶液狀態。又，使用所獲得之聚合性組成物溶液，對配向性1~配向性4進行確認。將所獲得之結果示於表6~9。
其結果為，本發明之聚合性組成物溶液均未確認到沈澱物， 維持與製備之時間點相同之狀態。又，成為於任一配向性試驗中均顯示良好之配向性的結果，本發明之聚合性組成物溶液均於溶液穩定性方面優異，且配向性均良好，故而可認為生產性優異。
另一方面，根據比較例1~11之結果，於不含有90質量% 以上之分子內具有2-甲基-1,4-伸苯基之聚合性化合物之情形時，未獲得溶液穩定性、及配向性優異之聚合性組成物溶液。

Claims (15)

  1. 一種溶液，其含有聚合性組成物與有機溶劑，該聚合性組成物中90質量%以上為選自通式(1)所表示之聚合性化合物中1種或2種以上之聚合性化合物， (式中，R1及R2分別獨立地表示氫原子、鹵基、氰基、碳原子數1~8之烷基或P-Sp-基(式中，P表示聚合性官能基，Sp表示單鍵或間隔基，P於分子內存在複數個之情形時可相同亦可不同，Sp於分子內存在複數個之情形時可相同亦可不同)，該烷基中1個或不鄰接之2個以上-CH2-可分別獨立地被取代為-CH=CH-、-C≡C-、-O-、-CO-、-COO-或-OCO-，該烷基中之1個或2個以上氫原子亦可被取代為氟原子或氯原子，R1及R2之至少一者表示P-Sp-基，A1及A2分別獨立地表示選自由(a)1,4-伸環己基(存在於該基中之1個-CH2-或不鄰接之2個以上-CH2-亦可被取代為-O-或-S-)及(b)1,4-伸苯基(存在於該基中之1個-CH=或不鄰接之2個以上-CH=亦可被取代為-N=)(c)1,4-伸環己烯基、2,4-環戊二烯-2,5-二基、噻吩-2,5-二基、呋喃-2,5-二基、哌啶-2,5-二基、萘-2,6-二基、萘-1,4-二基、萘-1,5-二基、1,2,3,4-四氫萘-2,6-二基及十氫萘-2,6-二基 組成之群中之基，且該基(a)、基(b)或基(c)可分別獨立地經氰基、氟原子、氯原子或碳原子數1~4之烷基取代，Z1及Z2分別獨立地表示單鍵、-CH2CH2-、-(CH2)4-、-OCH2-、-CH2O-、-OCF2-、-CF2O-、-COO-、-OCO-或-C≡C-，m及n分別獨立地表示0、1、2、3或4，但m+n為4以下；又，於m為2~4而A1及Z1存在複數個之情形時分別可相同亦可不同，於n為2~4而A2及Z2存在複數個之情形時分別可相同亦可不同)。
  2. 如申請專利範圍第1項之溶液，其中，聚合性組成物含有1種或2種以上R1及R2均為P-Sp-基之聚合性化合物。
  3. 如申請專利範圍第1或2項之溶液，其中，聚合性組成物中所含之R1及R2均為P-Sp-基之聚合性化合物之濃度為30質量%~90質量%。
  4. 如申請專利範圍第1至3項中任一項之溶液，其中，有機溶劑為酮系溶劑、醚系溶劑、酯系溶劑、芳香族烴系溶劑中任一種以上。
  5. 如申請專利範圍第1至4項中任一項之溶液，其中，通式(1)所表示之聚合性化合物之A1及A2分別獨立地為選自由(a)1,4-伸環己基(存在於該基中之1個-CH2-或不鄰接之2個以上-CH2-亦可被取代為-O-或-S-)及(b)1,4-伸苯基(存在於該基中之1個-CH=或不鄰接之2個以上-CH=亦可被取代為-N=)(c)1,4-伸環己烯基、2,4-環戊二烯-2,5-二基、噻吩-2,5-二基、呋喃-2,5-二基、哌啶-2,5-二基、萘-2,6-二基、萘-1,4-二 基、萘-1,5-二基、1,2,3,4-四氫萘-2,6-二基及十氫萘-2,6-二基組成之群中之基。
  6. 如申請專利範圍第1至5項中任一項之溶液，其進而含有聚合性起始劑。
  7. 如申請專利範圍第1至6項中任一項之溶液，其進而含有聚合性手性化合物。
  8. 如申請專利範圍第1至6項中任一項之溶液，其進而含有聚合性盤形化合物。
  9. 如申請專利範圍第1至8項中任一項之溶液，其進而含有界面活性劑。
  10. 一種光學異向體，其係使用申請專利範圍第1至9項中任一項之溶液而製成。
  11. 一種相位差膜，其係使用申請專利範圍第1至9項中任一項之溶液而製成。
  12. 一種光學補償膜，其係使用申請專利範圍第1至9項中任一項之溶液而製成。
  13. 一種相位差圖案化膜，其係使用申請專利範圍第1至9項中任一項之溶液而製成。
  14. 一種沿面配向液晶膜，其係使用申請專利範圍第1至9項中任一項之溶液而製成。
  15. 一種積層光學異向體，其積層有複數層申請專利範圍第10項之光學異向體。
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Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102626269B1 (ko) * 2015-03-19 2024-01-16 니폰 제온 가부시키가이샤 액정성 조성물, 위상차층의 제조 방법 및 원편광판
KR20160117258A (ko) 2015-03-31 2016-10-10 제이엔씨 주식회사 중합성 액정 조성물 및 광학 이방체
WO2017007007A1 (ja) * 2015-07-09 2017-01-12 富士フイルム株式会社 重合性化合物を含む重合性組成物、フィルム、投映像表示用ハーフミラー、および重合性化合物
KR102320490B1 (ko) * 2016-06-03 2021-11-02 디아이씨 가부시끼가이샤 치환 또는 비치환 알릴기 함유 말레이미드 화합물 및 그 제조 방법, 그리고 상기 화합물을 사용한 조성물 및 경화물
JP6590075B2 (ja) * 2016-09-09 2019-10-16 Dic株式会社 重合性液晶組成物、及び、それを用いた光学フィルム
KR102365131B1 (ko) * 2016-11-10 2022-02-17 삼성에스디아이 주식회사 유기막 조성물, 유기막, 및 패턴형성방법
JP6191754B1 (ja) * 2016-11-22 2017-09-06 日本ゼオン株式会社 重合性化合物、混合物、重合性液晶組成物、高分子、光学フィルム、光学異方体、偏光板、表示装置および反射防止フィルム
US20200199452A1 (en) * 2017-06-09 2020-06-25 Dic Corporation Polymerizable liquid crystal composition, optical film including the same, and method for producing optical film
WO2019225465A1 (ja) * 2018-05-24 2019-11-28 Dic株式会社 重合性組成物、その硬化物、フォトスペーサー、表示素子用オーバーコート、表示素子用層間絶縁材料、及び液晶表示素子
CN113260909A (zh) * 2018-12-27 2021-08-13 日产化学株式会社 液晶取向处理剂、液晶取向膜以及液晶显示元件
CN116444732B (zh) * 2023-04-27 2024-04-05 成都瑞波科材料科技有限公司 可聚合组合物、相位差膜、制备方法以及显示器件

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4036076B2 (ja) * 2001-12-12 2008-01-23 チッソ株式会社 液晶性フルオレン誘導体およびその重合体
JP2006308725A (ja) 2005-04-27 2006-11-09 Sony Corp 光学補償シート及びその製造方法、偏光シート、並びに液晶表示装置
JP5401822B2 (ja) 2007-04-24 2014-01-29 日本ゼオン株式会社 重合性液晶化合物、重合性液晶組成物、液晶性高分子および光学異方体
EP2143710B1 (en) * 2007-04-24 2014-07-09 Zeon Corporation Polymerizable liquid crystal compound, polymerizable liquid crystal composition, liquid crystalline polymer, and optically anisotropic material
JP2009184974A (ja) * 2008-02-06 2009-08-20 Fujifilm Corp （メタ）アクリレート化合物、液晶組成物、光学異方性膜、及び光学異方性膜の製造方法
JP2010250172A (ja) 2009-04-17 2010-11-04 Konica Minolta Opto Inc 光学フィルム、光学フィルムの製造方法、偏光板、及び液晶表示装置
JP2012256007A (ja) * 2011-06-10 2012-12-27 Nippon Zeon Co Ltd パターン位相差フィルム用液晶組成物、パターン位相差フィルム及び立体表示装置
JP5774518B2 (ja) * 2011-07-27 2015-09-09 富士フイルム株式会社 化合物、ヘイズ低下剤、液晶組成物、高分子材料およびフィルム

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