TW201441567A - 乾燥膜之裝置 - Google Patents

乾燥膜之裝置 Download PDF

Info

Publication number
TW201441567A
TW201441567A TW102138042A TW102138042A TW201441567A TW 201441567 A TW201441567 A TW 201441567A TW 102138042 A TW102138042 A TW 102138042A TW 102138042 A TW102138042 A TW 102138042A TW 201441567 A TW201441567 A TW 201441567A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
film
unit
heater
nth
temperature
Prior art date
Application number
TW102138042A
Other languages
English (en)
Inventor
Kyu-Bum Kim
Jae-Seok Park
Original Assignee
Samsung Display Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Samsung Display Co Ltd filed Critical Samsung Display Co Ltd
Publication of TW201441567A publication Critical patent/TW201441567A/zh

Links

Classifications

    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F26DRYING
    • F26BDRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
    • F26B3/00Drying solid materials or objects by processes involving the application of heat
    • F26B3/28Drying solid materials or objects by processes involving the application of heat by radiation, e.g. from the sun
    • F26B3/30Drying solid materials or objects by processes involving the application of heat by radiation, e.g. from the sun from infrared-emitting elements
    • GPHYSICS
    • G09EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
    • G09FDISPLAYING; ADVERTISING; SIGNS; LABELS OR NAME-PLATES; SEALS
    • G09F9/00Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F26DRYING
    • F26BDRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
    • F26B25/00Details of general application not covered by group F26B21/00 or F26B23/00
    • F26B25/001Handling, e.g. loading or unloading arrangements
    • F26B25/003Handling, e.g. loading or unloading arrangements for articles
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F26DRYING
    • F26BDRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
    • F26B3/00Drying solid materials or objects by processes involving the application of heat
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F26DRYING
    • F26BDRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
    • F26B9/00Machines or apparatus for drying solid materials or objects at rest or with only local agitation; Domestic airing cupboards
    • F26B9/06Machines or apparatus for drying solid materials or objects at rest or with only local agitation; Domestic airing cupboards in stationary drums or chambers
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F26DRYING
    • F26BDRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
    • F26B2200/00Drying processes and machines for solid materials characterised by the specific requirements of the drying good

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Microbiology (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Drying Of Solid Materials (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)

Abstract

一種膜乾燥裝置,包括一室、一位於該室中且配置來固定一膜之膜固定單元、以及一位於該室中且配置來對該膜施加熱之加熱器。

Description

乾燥膜之裝置
本發明實施態樣之方面係關於一種裝置;更特定言之,係關於一種乾燥膜之裝置。
行動或可攜電子設備係廣為人使用,行動電子設備包括小型電子裝置,如廣為人使用之行動電話及最近的平板電腦(PCs)。此種行動電子設備包括一顯示單元,用以提供使用者例如影像之視覺資訊,以支持各種功能。近來,因為供驅動顯示單元的其他部分變的更小,電子設備中的顯示單元的重要性隨之增加,且可彎曲以具有一給定角度的結構亦隨著發展。
此顯示單元可以各種形式形成。在此情況中,可根據製造方法或根據製造後的操作環境,來使用膜作為顯示單元的一個組件。舉例言之,在製造顯示單元的方法中,可使用各種形式的膜以簡化製造方法並縮短製造時間。於此情況中,若膜包含不純物質、或不純物質沉澱在膜表面,則顯示單元的品質可能會降低。
本發明之實施態樣提供一種乾燥膜之裝置,其可快速且有效的乾燥膜。
根據本發明之一方面,膜乾燥裝置包括一室、一位 於該室中且配置來固定一膜之膜固定單元、以及一位於該室中且配置來對該膜施加熱之加熱器。
該室可配置來選擇性地維持一真空狀態。
該膜固定單元包括一第一夾器(clamp);以及一第二夾器,樞接於該室及該第一夾器之至少一者,其中該第二夾器係配置成選擇性地耦合至該第一夾器,以局限(confine)該膜。
該膜固定單元可更包括一本體單元,可移動式地固定於該第一夾器上。
該本體單元可具有一開口。
該膜固定單元可更包括一張力維持單元,位於該本體單元及該第一夾器之至少一者上。
該張力維持單元可包括一第一磁性單元,位於該本體單元上;以及一第二磁性單元,位於該第一夾器上且配置來產生一定向成排斥該第一磁性單元的斥力。
該加熱器可配置來發出遠紅外線。
該加熱器可包括一第一板;一加熱線,位於該第一板中;以及一第二板,位於該第一板上。
該第一板可包括鋁。
該第二板可配置來發出遠紅外線。
該第二板可包括一陶瓷材料。
該加熱器可包括複數個區域,且其中該加熱器之各該複數個區域之溫度係配置成彼此獨立控制。
該膜乾燥裝置可更包括複數個加熱器及複數個該膜固定單元,且其中該等加熱器及該等膜固定單元可交替安置。
該膜乾燥裝置可更包括一膜溫度測量單元,位於該在該複數個膜固定單元之一者上的膜上,該膜溫度測量單元係配置來測量該膜的溫度。
該複數個加熱器之至少一者的操作可依該膜溫度測量單元所測得之膜的溫度來調整。
該膜乾燥裝置可更包括一反射單元,配置來反射由該加熱器所發出的熱。
該反射單元可包括一第一反射板;以及一第二反射板,樞接至該第一反射板。
該反射單元可更包括一旋轉角度調整單元,將該第一反射板耦合至該第二反射板,並配置來控制該第一反射板與該第二反射板間的角度。
根據本發明之另一方面,係提供一種膜乾燥方法,包括:將複數個膜進給至一真空室中,然後於一溫度下操作複數個加熱器之每一者;使用一耦合至該複數個膜之一者的膜溫度測量單元來測量膜的表面溫度;以及根據所測得之膜的表面溫度,控制反射板及該等加熱器之一者之至少一者的操作。
每一加熱器可為一板形且可包括複數個區域,各該區域具有一溫度,且各該溫度可獨立控制。
每一加熱器之複數個區域的溫度可依所測得之表面溫度控制。
該反射板之至少一部分係可樞接的,其中該反射板之至少一部分之旋轉角度可依所測得之表面溫度控制。
該膜乾燥方法可進一步包括在膜之表面溫度達到目 標溫度時,停止加熱器之操作。
100‧‧‧膜乾燥裝置
110‧‧‧室
120-1‧‧‧第一加熱器
120-N‧‧‧第N加熱器
130-1‧‧‧第一膜固定單元
130-N‧‧‧第N膜固定單元
140-1‧‧‧第一反射單元
140-N‧‧‧第N反射單元
190‧‧‧膜溫度測量單元
F1‧‧‧第一膜
FN‧‧‧第N膜
S1‧‧‧第一槽
S2‧‧‧第二槽
SN‧‧‧第N槽
131-1‧‧‧第一夾器
132-1‧‧‧第二夾器
133-1‧‧‧本體單元
134-1‧‧‧第一張力維持單元
134-1a‧‧‧第一磁性單元
134-1b‧‧‧第二磁性單元
A1‧‧‧第一區域
A2‧‧‧第二區域
121-1‧‧‧第一板
122-1‧‧‧第一加熱線
123-1‧‧‧第二板
141-1‧‧‧第一反射板
142-1‧‧‧第二反射板
143-1‧‧‧第一旋轉角度調整單元
143-1a‧‧‧第一旋轉軸
143-1b‧‧‧第一驅動單元
本發明之上述及其他特徵與優點將透過參考所附圖式詳細描述例示性實施態樣而變的清楚,其中:第1圖係根據本發明之一實施態樣之膜乾燥裝置之示意圖;第2圖係第1圖所示之實施態樣對應於一槽(slot)之部分的擴大示意圖;第3圖係第2圖所示之實施態樣之第一本體單元的透視圖;第4圖係第1圖所示之實施態樣之第一加熱器的透視圖;第5圖係沿著第4圖所示之實施態樣之V-V線所取之截面圖;第6圖係第1圖所示之實施態樣之第一反射單元的透視圖;以及第7圖係第1圖所示之實施態樣之膜乾燥裝置之第一槽之操作狀態的概念圖。
以下將參考依所附圖式描述之實施態樣描述本發明之實施態樣。然而,本發明之實施態樣尚可以不同形式體現,並不限於此處之實施態樣。相反的,這些實施態樣係用來使得本揭露徹底且完整,並充分地傳達本發明範圍予本領域具通常知識者。此外,本發明係由申請專利範圍之範圍而定。此處所採用之用語係用來描述特定實施態樣,並非意欲限制本發明之實施態樣。除非參考本文清楚顯示並非如此,否則以單數表示之用語可包括複數形式。於本案中,應了解「包括」、「包含」、或「具有」旨在指出係存在說明書所示之特徵、圖式、步驟、操作、元件、 部件或其組合,而非意欲排除可能之其他特徵、圖式、步驟、操作、元件、部件或其組合,或排除所可添加者。再者,雖然諸如「第一」、「第二」等詞係用於描述各種元件,所述文件不應受到該等用語之限制,該等用語可能用於區分一元件與其它元件。當「…中之至少一者」之表示方式出現在一串元件之前時,係用於修飾整串的元件,而非修飾整串中的個別元件。
第1圖係根據本發明之一實施態樣之膜乾燥裝置100之示意圖。
參考第1圖,膜乾燥裝置100包括一室110。在此情況中,室110包括一內部空間,且室110裡面可選擇性地維持一真空狀態。
膜乾燥裝置100之室110裡面可隔成複數個空間以形成複數個槽(S1至SN)。例如,複數個槽從室110下面到其上面可包括一第一槽S1至第N槽SN。在所示之實施態樣中,第一槽S1係相當於一控制膜乾燥裝置100之操作的參考槽,且第二槽S2至第N槽SN可相當於乾燥膜(例如,一真實的膜或待製造的裝置)的空間。
膜乾燥裝置100可包括一膜固定單元,將膜固定於該室中。此外,膜乾燥裝置100可包括一加熱器,安裝於室110中且對膜施加能量(例如,熱)。
膜乾燥裝置100可包括一反射單元,安裝於室110中且反射由該加熱器所發出的熱。此外,該膜乾燥裝置可包括一膜溫度測量單元190,安裝於膜上並測量膜的溫度。在此情況中,膜溫度測量單元190可位於複數個膜之一者,且可測量膜的每個 區域的溫度。舉例言之,膜溫度測量單元190可安置在第一槽S1。
該膜固定單元、加熱器及反射單元可為複數個。舉例而言,膜固定單元、加熱器及反射單元可安裝在第一槽S1至第N槽SN的每一者,或可位於低於全部的槽。
例如,該複數個膜固定單元可包括第一膜固定單元130-1(安置在第一槽S1)至第N膜固定單元130-N(安置在第N槽SN)。在此情況中,固定至各膜固定單元的膜可包括一第一膜F1(安置在或位在第一槽S1)至第N膜FN(安置在或位在第N槽SN)。
該複數個加熱器可包括第一加熱器120-1(安置在或位在第一槽S1)至第N加熱器120-N(安置在或位在第N槽SN)。此外,該複數個反射單元可包括第一反射單元140-1(安置在或位在第一槽S1)至第N反射單元140-N(安置在或位在第N槽SN)。
膜乾燥裝置100可包括一控制單元,控制第一加熱器120-1至第N加熱器120-N以及第一反射單元140-1至第N反射單元140-N。在此情況中,該控制單元可基於透過膜溫度測量單元190所測得之第一膜F1的狀態,控制第一加熱器120-1至第N加熱器120-N以及第一反射單元140-1至第N反射單元140-N。
以下將依序更詳細地描述該膜固定單元、加熱器及反射單元。此外,為了描述方便,將更詳細地描述安置於第一槽S1中的第一膜固定單元130-1、第一加熱器120-1及第一反射單元140-1。
第2圖係第1圖對應於槽S1之部分的擴大示意圖。第3圖係第2圖之第一本體單元133-1的透視圖。
參考第2圖及第3圖,第一膜固定單元130-1可包括一第一夾器(clamp)131-1(或一第一夾器部分)及一第二夾器132-1(或一第二夾器部分),該第二夾器樞接於室110及第一夾器131-1之至少一者。於此情況中,第一夾器131-1可安裝成固定於室110。此外,第二夾器132-1可配置成選擇性地耦合至該第一夾器,以局限(或夾住、保護、握住、抓住)第一膜F1。
第一膜固定單元130-1可包括一本體單元133-1,可移動式地固定於第一夾器上131-1。本體單元133-1可成形為板形且可具有一中空部分(或視窗或開口),由第一加熱器120-1所釋放之能量(或熱)可由此通過。
此外,第一膜固定單元130-1可包括一張力維持單元134-1,安裝於第一本體單元133-1及第一夾器131-1之至少一者上。在此情況中,張力維持單元134-1可包括一安裝於第一本體單元133-1上之第一磁性單元134-1a,以及一安裝於第一夾器上131-1之第二磁性單元134-1b。舉例而言,第一磁性單元134-1a及第二磁性單元134-1b可安裝成面向彼此且可產生一斥力。
在此情況中,第一磁性單元134-1a及第二磁性單元134-1b可成形為各種形狀。例如,第一磁性單元134-1a及第二磁性單元134-1b可包括一永久性磁鐵或一電磁鐵。然而,為了方便起見,以下將描述第一磁性單元134-1a及第二磁性單元134-1b包括永久性磁鐵之實施態樣。
第4圖係第1圖之第一加熱器120-1的透視圖,而第5圖係一沿著第4圖之V-V線之截面圖。
參考第4圖及第5圖,第一加熱器120-1可安裝在 室110之第一槽S1處。在此情況中,第一加熱器120-1可向外面發出遠紅外線。
舉例而言,第一加熱器120-1可包括一第一板121-1及一形成於第一板121-1中的第一加熱線122-1。此外,第一加熱器120-1可包括一形成於第一板121-1上的第二板123-1。
在此情況中,第一板121-1可包括鋁材料。此外,第二板123-1可包括產生遠紅外線的材料,舉例言之,第二板123-1可包括陶瓷材料。
此第一加熱器120-1可分成複數個區域。在此情況中,該等第一加熱器120-1之複數個區域的溫度可調整(或控制)成彼此不同,例如,第一加熱器120-1之第一區域A1的溫度可調整成(或控制成)一第一溫度,第一加熱器120-1之第二區域A2的溫度可調整成(或控制成)一與第一溫度不同的第二溫度。
第一加熱器120-1的區域可視需要以各種方式設置,例如,第一加熱器120-1之區域的形狀、數目及位置可根據使用者設置而以各種方式形成。在此情況中,第一加熱器120-1各區域的溫度可透過可區隔地或單獨地安裝於各區域上的第一加熱線122-1(例如,每一區域可具有自己對應的第一加熱線122-1,其係有別其他第一加熱線122-1而單獨地控制)而實施成彼此不同。
第6圖係第1圖所示之實施態樣之第一反射單元140-1的透視圖。參考第6圖,第一反射單元140-1可安置成面向第一加熱器120-1,在此情況中,第一反射單元140-1可反射由第一加熱器120-1所發出的能量。
第一反射單元140-1包括一第一反射板141-1及一第二反射板142-1,其係旋轉地(或樞接地)連結至第一反射板141-1。於第6圖所示之實施態樣中,第二反射板142-1為複數個且可安裝在第一反射板141-1的每個末端。
第一反射單元140-1可包括一第一旋轉角度調整單元143-1,以將第一反射板141-1連結至第二反射板142-1。於此情況中,第一旋轉角度調整單元143-1可調節(或控制或限制)第二反射板142-1的旋轉角度。
舉例言之,第一旋轉角度調整單元143-1係配置來旋轉且包括一連結至第二反射板142-1的第一旋轉軸143-1a;此外,第一旋轉角度調整單元143-1包括一連結至第一旋轉軸143-1a且旋轉第一旋轉軸143-1a的第一驅動單元143-1b。
以上述方式形成(或配置)之第一驅動單元143-1b可順時鐘或逆時鐘旋轉第一旋轉軸143-1a,以調整(或控制)由第一反射板141-1及第二反射板142-1所構成之角度,在此情況中,第一反射板141-1可維持其原始狀態,僅旋轉第二反射板142-1。
以下將更詳細描述膜乾燥裝置100之操作。
第7圖係第1圖之膜乾燥裝置100之第一槽S1之操作狀態的概念圖。
參考第1圖及第7圖,在開始操作膜乾燥裝置100前,可打開室110以將第一膜F1至第N膜FN進給至室110中。於此情況中,第一膜F1至第N膜FN可分別固定至第一膜固定單元130-1至第N膜固定單元130-N。然而,由於固定第一膜F1至 第N膜FN的方式都是一樣的,因此以下僅就固定第一膜F1的方式做詳細描述。
舉例而言,為了固定第一膜F1,可旋轉第二夾器132-1以在第一夾器131-1及第二夾器132-1之間獲得一間隙,在此情況中,第一膜F1之一端可安置在一第一夾器131-1及一第二夾器132-1之間,另外,第一膜F1之另一端可安置在對面的第一夾器131-1及第二夾器132-1之間。
當完成上述過程後,可旋轉第二夾器132-1至與第一夾器131-1相接觸。在此情況中,第一夾器131-1及第二夾器132-1可藉由一單獨構件固定。由此,第一夾器131-1之一表面可與第二夾器132-1完全緊密接觸,從而支撐(或抓住)第一膜F1。
以此方式固定第一膜F1後,第一膜F1中央部分會因其重量而下垂,在此情況下,可使用第一張力維持單元134-1維持第一膜F1的張力。
舉例言之,在以上述方式安裝第一膜F1後,可將第一磁性單元134-1a及第二磁性單元134-1b安置成面向彼此,在此情況下,第一磁性單元134-1a及第二磁性單元134-1b會因為前面提到的斥力而彼此推擠(或排斥)。例如,由於第二磁性單元134-1b施加至第一磁性單元134-1a之斥力,本體單元133-1的中央部分會受施加一力,且由於第一磁性單元134-1a施加至第二磁性單元134-1b之斥力,本體單元133-1的周圍會受施加一力;從而,由於該力方向相反,固定第一膜F1之兩端(如相對端)之第一夾器131-1間的間隔(或空間或距離)會增大,因此得以維持第一膜F1的張力。
以上述方式固定第一膜F1後,可操作第一加熱器120-1,在此情況中,在操作第一加熱器120-1時,可同時操作第一加熱器120-1至第N加熱器120-N。
此外,在操作第一加熱器120-1至第N加熱器120-N時,可操作第一反射單元140-1至第N反射單元140-N,在此情況中,由於第一反射單元140-1至第N反射單元140-N之操作彼此相似,因此以下僅描述第一反射單元140-1之操作。換句話說,可操作第一旋轉角度調整單元143-1來旋轉第二反射板142-1。舉例言之,該控制單元可控制第一旋轉角度調整單元143-1,使得第二反射板142-1旋轉至一旋轉角度(例如一預先設定的旋轉角度)。
在此情況中,當膜固定於各膜固定單元時,各膜的中央部分會由於其本身的重量(或其所有的重量)而變的較為接近各加熱器。於是,因為各加熱器發出的能量變的不均勻,因此更多的輻射熱會從各加熱器施加在各膜的中央部分。
在上述情況中,各加熱器發出的能量可能穿過各膜並傳送至各反射單元,且可由各反射單元反射回各膜。在每一反射單元的第一反射板141-1及第二反射板142-1形成一平面時,所反射的全部(或實質上全部或幾乎全部)的能量係實質上均勻地導向膜的各部分。
舉例而言,在上述情況中,由各加熱器發出的能量予由各反射單元反射的能量的總和在各膜的中央部分可能最大,且在各膜的邊緣部分最小。在此情況中,由於能量並非均勻地傳送至各膜的表面,會產生膜表面在乾燥後不均勻的限制(或缺陷)。於是,透過相對於第一反射板141-1旋轉第二反射板142-1, 得以減少第二反射板142-1與該膜間的間隔並由此增加第二反射板142-1所反射的能量(或熱),因此能夠均勻產生到達各膜的能量(例如,實質上均勻地在各膜供給熱)。
完成上述第一反射單元140-1至第N反射單元140-N之操作後,以上述方式操作第一加熱器120-1至第N加熱器120-N,由此乾燥第一膜F1至第N膜FN。在此情況中,第一加熱器120-1至第N加熱器120-N係如前述般分成複數個區域,且該控制單元可個別地控制第一加熱器120-1各區的溫度至第N加熱器120-N各區的溫度,例如,該控制單元可控制各該第一加熱器120-1至第N加熱器120-N,使得第一加熱器120-1各區的溫度至第N加熱器120-N各區的溫度係對應於溫度(例如,預先設定的溫度)。
在乾燥第一膜F1至第N膜FN時,該控制單元可接收由第一溫度測量單元190所測得之關於第一膜F1之表面溫度的回饋,在此情況中,該控制單元可判定所測得之第一膜F1之表面溫度是否與目標溫度(例如,預定之目標溫度)相同。
例如,當判定所測得之第一膜F1之表面溫度與目標溫度不同時,該測量單元可控制第一加熱器120-1至第N加熱器120-N及第一反射單元140-1至第N反射單元140-N的至少一者。
例如,當判定所測得之第一膜F1之表面溫度與目標溫度不同時,該測量單元可控制第一加熱器120-1及第一反射單元140-1之至少一者的操作。在該控制單元係控制第一加熱器120-1之操作的情況中,該控制單元可控制第二加熱器120-2至第N加熱器120-N,使其操作係與第一加熱器120-1相同。
舉例來說,當判定第一膜F1之表面溫度係低於目標溫度(例如,預定之目標溫度)時,該控制單元可增加由第一加熱器120-1至第N加熱器120-N所發出的能量;相反地,當判定第一膜F1之表面溫度係高於目標溫度時,該控制單元可停止第一加熱器120-1至第N加熱器120-N的操作。
在此實施態樣中,目標溫度可對應於第一膜F1之各區域來設置,例如,該控制單元可將第一膜F1各區域之表面溫度與各區域之目標溫度相比較,然後控制從第一加熱器120-1至第N加熱器120-N之各區域所發出的能量。例如,當第一膜F1各區域之表面溫度低於各區域之目標溫度,該控制單元可控制第一加熱器120-1至第N加熱器120-N,以增加由第一加熱器120-1至第N加熱器120-N之相應部分所發出的能量;相反地,當第一膜F1各區域之表面溫度高於各區域之目標溫度,該控制單元可控制第一加熱器120-1至第N加熱器120-N,以停止第一加熱器120-1至第N加熱器120-N之相應部分的操作。從而,由第一加熱器120-1至第N加熱器120-N所發出的能量係依區域來控制,由此能均勻地傳送能量制各膜表面。
此外,在該控制單元係控制第一反射單元140-1之操作的實施態樣中,該控制單元可控制第二反射單元至第N反射單元140-N,使其操作係與第一反射單元140-1相同。舉例言之,當第一膜F1存在一表面溫度低於目標溫度(例如,預定之目標溫度)之區域,該控制單元可控制第一驅動單元143-1b之操作以旋轉第二反射板142-1,從而將反射的能量集中在第一膜F1之該表面溫度低於目標溫度的區域。再者,當第一膜F1存在一表面溫度 高於目標溫度(例如,預定之目標溫度)之區域,該控制單元可控制第一驅動單元143-1b以旋轉第二反射板142-1,從而避免反射的能量集中在第一膜F1之該表面溫度高於目標溫度的區域。在此情況中,該控制單元亦可控制該第二反射單元至第N反射單元140-N,使其以上述方式操作。
另外,在控制單元係控制第一加熱器120-1及第一反射單元140-1之操作的實施態樣中,該控制單元亦可控制第二加熱器至第N加熱器120-N及第二反射單元至第N反射單元140-N之操作,使其操作係與第一加熱器120-1及第一反射單元140-1相同。在此情況中,透過該控制單元控制第一加熱器120-1至第N加熱器120-N與第一反射單元140-1至第N反射單元140-N之方式實質上前述說明相同,於此不重複詳細描述。
上述過程可在乾燥各膜時反覆進行。在透過此等回饋依序重複此等過程後經過一段時間(例如,一預定時間),該控制單元可停止第一加熱器120-1至第N加熱器120-N的操作。在此情況中,該控制單元可將室110的內部空間由真空狀態變為一大氣壓力狀態。
例如,當室110的內部空間變為一大氣壓力狀態,使用者可打開室110,然後將各膜自室110移走。膜係以與上述順序相反的方式移走,因此在此不另相關詳細描述。
由此,根據膜乾燥裝置100以及膜乾燥方法,得以在室110中插入並乾燥複數個膜,因此能增加所需工作時間並增加工作效率。此外,膜乾燥裝置100以及膜乾燥方法可接收關於安裝在第一槽S1之第一膜F1之狀態的回饋,調整第二槽S2至第 N槽SN的乾燥環境,並因此控制精準且正確地控制乾燥環境。
雖然已以上述例示性實施態樣描述本發明,但仍可在不背離本發明之標的及範圍之情況下進行各種變化及改良。因此,以下申請專利範圍將包括此等屬於本發明之標的之改良或變化及其等效物。
100‧‧‧膜乾燥裝置
110‧‧‧室
120-1‧‧‧第一加熱器
120-N‧‧‧第N加熱器
130-1‧‧‧第一膜固定單元
130-N‧‧‧第N膜固定單元
140-1‧‧‧第一反射單元
140-N‧‧‧第N反射單元
190‧‧‧膜溫度測量單元
F1‧‧‧第一膜
FN‧‧‧第N膜
S1‧‧‧第一槽
S2‧‧‧第二槽
SN‧‧‧第N槽

Claims (10)

  1. 一種膜乾燥裝置,包含:一室;一膜固定單元,位於該室中且配置來固定一膜;以及一加熱器,位於該室中且配置來對該膜施加熱。
  2. 如請求項1所述之膜乾燥裝置,其中該膜固定單元包含:一第一夾器(clamp);以及一第二夾器,樞接於該室及該第一夾器之至少一者,其中該第二夾器係配置成選擇性地耦合至該第一夾器,以局限(confine)該膜。
  3. 如請求項2所述之膜乾燥裝置,其中該膜固定單元更包含一本體單元,可移動式地固定於該第一夾器上。
  4. 如請求項3所述之膜乾燥裝置,其中該膜固定單元更包含一張力維持單元,位於該本體單元及該第一夾器之至少一者上。
  5. 如請求項1所述之膜乾燥裝置,其中該加熱器係配置來發出遠紅外線。
  6. 如請求項1所述之膜乾燥裝置,其中該加熱器包含複數個區域,且其中該加熱器之各該複數個區域之溫度係配置成彼此獨立控制。
  7. 如請求項1所述之膜乾燥裝置,更包含複數個加熱器及複數個該膜固定單元,且其中該等加熱器及該等膜固定單元係交替安置。
  8. 如請求項7所述之膜乾燥裝置,更包含一膜溫度測量單元,位於該在該複數個膜固定單元之一者上的膜上,該膜溫度測 量單元係配置來測量該膜的溫度。
  9. 如請求項8所述之膜乾燥裝置,其中該複數個加熱器之至少一者的操作係依該膜溫度測量單元所測得之膜的溫度來調整。
  10. 如請求項1所述之膜乾燥裝置,更包含一反射單元,配置來反射由該加熱器所發出的熱。
TW102138042A 2013-04-16 2013-10-22 乾燥膜之裝置 TW201441567A (zh)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020130041832A KR102255195B1 (ko) 2013-04-16 2013-04-16 필름 건조 장치 및 필름 건조 방법

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW201441567A true TW201441567A (zh) 2014-11-01

Family

ID=51687097

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW102138042A TW201441567A (zh) 2013-04-16 2013-10-22 乾燥膜之裝置

Country Status (4)

Country Link
US (1) US9194624B2 (zh)
KR (1) KR102255195B1 (zh)
CN (1) CN104110942B (zh)
TW (1) TW201441567A (zh)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102255195B1 (ko) * 2013-04-16 2021-05-25 삼성디스플레이 주식회사 필름 건조 장치 및 필름 건조 방법
CN105823315A (zh) * 2015-01-09 2016-08-03 泰兴市兴港毛纺机械有限公司 一种纺织用烘干箱
CN107263891A (zh) * 2017-05-31 2017-10-20 成都金宝马数码技术有限公司 用于制作亚克力马桶的应力释放箱
CN107588596A (zh) * 2017-10-18 2018-01-16 江苏瑞德斯环保科技有限公司 一种固液分离系统及具有该系统的设备
CN109341215B (zh) * 2018-09-19 2020-08-04 嘉善龙翔人造毛绒有限公司 一种用于人造毛绒的风干装置

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06146024A (ja) * 1992-06-30 1994-05-27 Toshiba Corp 表面処理装置
KR100368765B1 (ko) * 1999-07-09 2003-01-24 한석진 피사체 추적 원적외선 가열장치
JP2003188078A (ja) * 2001-12-19 2003-07-04 Shibaura Mechatronics Corp 基板乾燥装置
KR20040015849A (ko) * 2002-08-13 2004-02-21 얼라이드레이테크놀로지 주식회사 근적외선히터 모듈과 이를 갖는 건조시스템 및 이의 제어 방법
JP2004271889A (ja) * 2003-03-07 2004-09-30 Shinto Giken Co Ltd フィルム乾燥器
WO2005091683A1 (en) * 2004-03-22 2005-09-29 Doosan Dnd Co., Ltd. Substrate depositing method and organic material depositing apparatus
KR20070100245A (ko) * 2004-11-03 2007-10-10 아크리온 테크놀로지즈 인코포레이티드 단일-기판 처리 동안에 기판으로부터 미소량의 액체를제거하는 장치 및 방법
JP4866020B2 (ja) * 2005-05-02 2012-02-01 大日本スクリーン製造株式会社 熱処理装置
JPWO2007046228A1 (ja) 2005-10-19 2009-04-23 コニカミノルタオプト株式会社 光学フィルムの製造方法、光学フィルムの製造装置、及び光学フィルム
US8956457B2 (en) * 2006-09-08 2015-02-17 Tokyo Electron Limited Thermal processing system for curing dielectric films
US8273404B2 (en) * 2008-05-19 2012-09-25 Cordis Corporation Extraction of solvents from drug containing polymer reservoirs
TWI432306B (zh) * 2008-07-08 2014-04-01 Gala Inc 利用熱及大氣壓控制之熱塑材料給料系統以達成配方及反應聚合作用之方法及裝置
DE102008063229A1 (de) * 2008-12-19 2010-07-01 Dehn, Michael C. Filzmaterial mit Sperrfunktion und Bauteil aus Filz
EP2230703A3 (en) * 2009-03-18 2012-05-02 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Manufacturing apparatus and manufacturing method of lighting device
KR20110017532A (ko) * 2009-08-14 2011-02-22 주식회사 에너지코리아 원적외선 기능이 구비된 애완동물용 사우나
KR101079772B1 (ko) 2009-11-25 2011-11-03 제일모직주식회사 디스플레이 패널용 프리프레그 필름 제조 장치 및 제조 방법
JP5377666B2 (ja) 2009-12-28 2013-12-25 株式会社アルバック 真空排気装置及び真空排気方法及び基板処理装置
KR20120023975A (ko) 2010-09-03 2012-03-14 삼성코닝정밀소재 주식회사 수지 필름 건조 장치
DE102011117831A1 (de) * 2011-02-15 2012-08-16 Huhtamaki Forchheim Zweigniederlassung Der Huhtamaki Deutschland Gmbh & Co. Kg Trennfolie mit rauher Oberflächenstruktur
KR101941489B1 (ko) * 2011-08-18 2019-01-23 세메스 주식회사 기판 가열 장치 및 방법
CN102800618A (zh) * 2012-08-01 2012-11-28 东莞宏威数码机械有限公司 夹持装置及减少水平放置的玻璃基板变形的方法
KR102255195B1 (ko) * 2013-04-16 2021-05-25 삼성디스플레이 주식회사 필름 건조 장치 및 필름 건조 방법

Also Published As

Publication number Publication date
US9194624B2 (en) 2015-11-24
CN104110942A (zh) 2014-10-22
KR102255195B1 (ko) 2021-05-25
US20140308871A1 (en) 2014-10-16
CN104110942B (zh) 2018-07-20
KR20140124282A (ko) 2014-10-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW201441567A (zh) 乾燥膜之裝置
US11821088B2 (en) Multi zone spot heating in EPI
US7045746B2 (en) Shadow-free shutter arrangement and method
US8823404B2 (en) Evaluation device and evaluation method for substrate mounting apparatus and evaluation substrate used for the same
US11177144B2 (en) Wafer spot heating with beam width modulation
TWI578425B (zh) 具有底座以幫助減少加熱燈附近的氣流之加熱燈
JP6343100B2 (ja) 基板処理用ヒーター装置及びこれを備えた基板液処理装置
JP6545532B2 (ja) ヒーターブロックおよび基板熱処理装置
JPH036367A (ja) 真空蒸着器における蒸着基板加熱装置ならびにボートの支持構造
JP2013219381A (ja) マスクに与えられている構造を基板上に転写するための装置
JP2010135508A (ja) 基板加熱装置、基板加熱方法及び記憶媒体
KR102099451B1 (ko) 무기물 증착용 시트 타입 히터 및 무기물 증착용 진공 증착원 장치
JPH06177141A (ja) 熱処理装置
KR101632587B1 (ko) 수직 배열의 열원을 갖는 기판의 급속열처리 장치
TWI685914B (zh) 工件固持加熱設備
KR102082151B1 (ko) 기판 처리용 히터장치 및 이를 구비한 기판 액처리 장치
KR101528346B1 (ko) 레이저를 이용한 기판 결정화 장치 및 이를 이용한 기판 결정화 방법
US20200350189A1 (en) Heating device
JP2003166785A (ja) 乾燥装置
KR20070051605A (ko) 베이킹 장치
BR112015032873B1 (pt) Aparelho para aplicação de radiação uv a substratos em uma área de aplicação e método para fabricação do aparelho
RU2015152551A (ru) Устройство оптического нагрева образца в установках магнетронного напыления
KR20070051614A (ko) 기판과 핫 플레이트 사이의 간격 조정 장치
JP2006245164A (ja) ランプ加熱装置