TW201431997A - 透明導電層用水分散型黏著劑組合物、透明導電層用黏著劑層、附有黏著劑層之光學膜、及液晶顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明之目的在於提供一種透明導電層用水分散型黏著劑組合物，其可形成具有抑制透明導電性薄膜等各種被黏著體腐蝕之效果、尤其是抑制高溫及高溫多濕環境下腐蝕之效果，且可發揮優異之光學特性之透明導電層用黏著劑層。本發明之透明導電層用水分散型黏著劑組合物之特徵在於：其係含有使包含具有碳數4~14之烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯之單體成分於界面活性劑之存在下聚合而獲得的(甲基)丙烯酸系聚合物者，且上述界面活性劑為包含3個以下氧基伸烷基重複單元之反應性界面活性劑及/或不含氧基伸烷基重複單元之反應性界面活性劑。

Description

透明導電層用水分散型黏著劑組合物、透明導電層用黏著劑層、附有黏著劑層之光學膜、及液晶顯示裝置
本發明係關於一種透明導電層用水分散型黏著劑組合物、透明導電層用黏著劑層、附有黏著劑層之光學膜、及液晶顯示裝置。
近年來，於包含透明樹脂膜或玻璃板之透明基材之一面形成有氧化銦錫(ITO)薄膜等透明導電性薄膜之透明導電性積層體廣泛用於各種用途。
眾所周知上述透明導電性薄膜例如形成於使用橫向電場效應(IPS)方式等之液晶單元之液晶顯示裝置的與接觸於構成液晶單元之透明基板之液晶層側相反之側而作為防帶電層。此種液晶顯示裝置中，經由黏著劑層於上述透明導電性薄膜上形成偏光板。
又，包含樹脂膜等透明基材及透明導電性薄膜之透明導電性膜例如可用作觸控面板、液晶顯示器、有機EL(Electroluminescence，電致發光)顯示器、太陽電池等中所使用之透明電極等。上述透明導電性膜係於透明樹脂膜基材之一面利用金屬氧化物設置透明導電性薄膜，且於透明樹脂膜基材之另一面具有黏著劑層的構成，於將該透明導電性膜積層而使用之情形時，黏著劑層直接接觸於透明導電性薄膜。
於如此使透明導電性薄膜與黏著劑層直接接觸之情形時，有透明導電性薄膜被腐蝕，透明導電性薄膜表面之電阻值上升之情況。作 為該腐蝕之原因，可想到係由黏著劑層中所含之含羧基之丙烯酸系聚合物之羧基成分所致，或者黏著劑層中所含之界面活性劑轉移至透明導電性薄膜之界面等。
作為可消除此種透明導電性薄膜之腐蝕問題之黏著劑層，例如已知有如下黏著劑層，其由如下水分散型丙烯酸系黏著劑形成，該水分散型丙烯酸系黏著劑含有包含特定量之含羧基之單體作為單體單元之(甲基)丙烯酸系聚合物、及特定量之水溶性鹼性成分(例如參照專利文獻1)。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2012-31295號公報
上述專利文獻1之黏著劑層中所含之水溶性鹼性成分可中和存在於丙烯酸系聚合物中之羧基等酸成分，可抑制如上所述之透明導電性薄膜等各種被黏著體之腐蝕。然而，如上述液晶顯示裝置般使黏著劑層接觸於透明導電性薄膜與偏光板等光學膜兩者之情形時，雖然可對作為一被黏著體之透明導電性薄膜等發揮耐腐蝕性，但存在使作為另一被黏著體之光學膜之光學特性降低之問題。尤其是近年來，隨著對光學膜要求之光學特性之水準變得非常高，而期望開發對光學膜之光學特性之不良影響更少，且可抑制透明導電層之腐蝕的黏著劑層。
又，專利文獻1中使用之作為水溶性鹼性成分之銨成分容易揮發，黏著劑層中所含之銨成分之量容易根據塗敷、乾燥條件等變動，難以僅藉由調整銨成分之添加量來嚴密控制耐腐蝕性。就此種觀點而言，亦期望不藉由調整銨成分之添加量而抑制透明導電層之腐蝕之方法。
因此，本發明之目的在於提供一種透明導電層用水分散型黏著劑組合物，其可形成具有抑制透明導電性薄膜等各種被黏著體之腐蝕之效果、尤其是抑制高溫及高溫多濕環境下之腐蝕之效果，且可發揮優異之光學特性的透明導電層用黏著劑層。
本發明者等人為了解決上述課題，進行努力研究，結果發現藉由製成使用特定之反應性界面活性劑之黏著劑組合物，可達成上述目的，從而完成本發明。
即，本發明係關於一種透明導電層用水分散型黏著劑組合物，其特徵在於：其係含有使包含具有碳數4~14之烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯之單體成分於界面活性劑之存在下聚合而獲得的(甲基)丙烯酸系聚合物者，且 上述界面活性劑為包含3個以下氧基伸烷基重複單元之反應性界面活性劑及/或不含氧基伸烷基重複單元之反應性界面活性劑。
較佳為上述界面活性劑為不含氧基伸烷基重複單元之反應性界面活性劑。
較佳為上述界面活性劑之添加量相對於構成(甲基)丙烯酸系聚合物之全部單體成分100重量份為0.1~30重量份。
較佳為上述單體成分進而含有含羧基之單體，且上述含羧基之單體相對於上述具有碳數4~14之烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯100重量份為1~8重量份。
較佳為上述透明導電層用水分散型黏著劑組合物中進而含有水溶性鹼性成分，更佳為上述水溶性鹼性成分為氨。
較佳為上述透明導電層用水分散型黏著劑組合物中進而含有磷酸酯系化合物，更佳為上述磷酸酯系化合物為非聚合性化合物。
較佳為上述磷酸酯系化合物之添加量相對於構成上述(甲基)丙烯 酸系聚合物之全部單體成分100重量份為0.005~5重量份。
又，本發明係關於一種透明導電層用黏著劑層，其特徵在於：其係由上述透明導電層用水分散型黏著劑組合物形成。
於上述透明導電層用黏著劑層中，較佳為每1cm2之水溶性鹼性成分含量為1000ng以下。
進而，本發明係關於一種附有黏著劑層之光學膜，其特徵在於：於光學膜之一面具有上述透明導電層用黏著劑層；及一種液晶顯示裝置，其特徵在於使用有上述附有黏著劑層之光學膜。
於本發明中，於含有使包含具有碳數4~14之烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯之單體成分於界面活性劑之存在下聚合而獲得之(甲基)丙烯酸系聚合物的透明導電層用水分散型黏著劑組合物中，使用包含3個以下氧基伸烷基重複單元之反應性界面活性劑及/或不含氧基伸烷基重複單元之反應性界面活性劑作為上述界面活性劑，因此可形成具有抑制透明導電性薄膜等各種被黏著體之腐蝕之效果、尤其是抑制高溫及高溫多濕環境下之腐蝕之效果，且可發揮優異之光學特性的透明導電層用黏著劑層。
1‧‧‧光學膜
1'‧‧‧增黏層
2‧‧‧透明導電層用黏著劑層
3‧‧‧透明導電層
4‧‧‧液晶單元
5‧‧‧黏著劑層
6‧‧‧光學膜
圖1係表示本發明之附有黏著劑層之光學膜的剖面圖。
圖2係表示本發明之附有黏著劑層之光學膜的剖面圖。
圖3係表示本發明之液晶顯示裝置的剖面圖。
本發明係關於一種透明導電層用水分散型黏著劑組合物，其特徵在於：其係含有使包含具有碳數4~14之烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯之單體成分於界面活性劑之存在下聚合而獲得的(甲基)丙烯酸系聚合物者，且上述界面活性劑為包含3個以下氧基伸烷基重複單元之反 應性界面活性劑及/或不含氧基伸烷基重複單元之反應性界面活性劑。又，本發明係關於一種由上述透明導電層用水分散型黏著劑組合物形成之透明導電層用黏著劑層、附有黏著劑層之光學膜、及液晶顯示裝置。
1.透明導電層用水分散型黏著劑組合物
本發明之透明導電層用水分散型黏著劑組合物之特徵在於：含有使包含具有碳數4~14之烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯之單體成分於界面活性劑之存在下聚合而獲得的(甲基)丙烯酸系聚合物，且上述界面活性劑為包含3個以下氧基伸烷基重複單元之反應性界面活性劑及/或不含氧基伸烷基重複單元之反應性界面活性劑。
本發明中使用之(甲基)丙烯酸系聚合物較佳為分散含有於水中之水分散液，更佳為例如藉由使包含具有碳數4~14之烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯之單體成分於下述之反應性界面活性劑、自由基聚合起始劑等之存在下乳化聚合而獲得之聚合物乳液。再者，(甲基)丙烯酸烷基酯係指丙烯酸烷基酯及/或甲基丙烯酸烷基酯，與本發明之(甲基)含義相同。
作為具有碳數4~14之烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯之烷基，可使用直鏈狀或支鏈狀之各種烷基。作為上述(甲基)丙烯酸烷基酯之具體例，例如可例示：(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸第二丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸異戊酯(isopentyl(meta)acrylate)、(甲基)丙烯酸異戊酯(isoamyl(meta)acrylate)、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸庚酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸正壬酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸正癸酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、(甲基)丙烯酸正十二烷基酯、(甲基)丙烯酸異十四烷基酯、(甲基)丙烯酸正十三烷基酯、(甲基)丙烯酸十四烷基酯等。該等可單獨使 用或組合使用。該等之中，較佳為(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯，更佳為(甲基)丙烯酸正丁酯。
上述具有碳數4~14之烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯之含量較佳為形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單體成分中之60重量%以上，更佳為70重量%以上，進而較佳為80重量%以上，尤佳為90重量%以上。
本發明中使用之(甲基)丙烯酸系聚合物係藉由使含有上述具有碳數4~14之烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯之單體成分聚合而獲得者，較佳為藉由使含有具有碳數4~14之烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯、及含羧基之單體而成的單體成分聚合而獲得者。
作為含羧基之單體，可無特別限制地使用含有具有(甲基)丙烯醯基或乙烯基等不飽和雙鍵之聚合性之官能基，且具有羧基者。作為含羧基之單體，例如可列舉：丙烯酸、甲基丙烯酸、(甲基)丙烯酸羧基乙酯、(甲基)丙烯酸羧基戊酯、伊康酸、順丁烯二酸、反丁烯二酸、丁烯酸等，該等可單獨使用或組合使用。該等之中，較佳為丙烯酸、甲基丙烯酸，更佳為丙烯酸。
含羧基之單體較佳為以相對於具有碳數4~14之烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯100重量份為1~8重量份之比例使用，更佳為2~7重量份，進而較佳為3~7重量份。若含羧基之單體之比例未達1重量份，則有如下傾向：透明導電層用黏著劑層對被黏著體之密接性降低，或黏著劑組合物本身之凝集力變小，而變得容易於高溫及高溫多濕環境下發生髮泡、脫落，又，有如下傾向：水分散液之穩定性較差，變得容易引起對凝集物之塗敷外觀之惡化。另一方面，若超過8重量份，則有聚合時之分散穩定性之降低或水分散液之黏度之上升變得顯著，對塗敷造成影響之傾向，故而欠佳。
進而，上述單體成分除了上述(甲基)丙烯酸烷基酯及上述含羧基之單體以外，亦可使用可與上述(甲基)丙烯酸烷基酯及上述含羧基之 單體共聚的共聚單體作為單體成分。
上述共聚單體只要為具有(甲基)丙烯醯基或乙烯基等不飽和雙鍵之聚合性之官能基者，則並無特別限制，可列舉：例如具有碳數1~3或15以上之烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯；(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸異酯等(甲基)丙烯酸脂環式烴酯；例如(甲基)丙烯酸苯酯等(甲基)丙烯酸芳酯；例如乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯等乙烯酯類；例如烷氧基等烷氧基系單體；例如(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、(甲基)丙烯酸甲基縮水甘油酯等含環氧基之單體；例如丙烯酸2-羥基乙酯、丙烯酸2-羥基丙酯等含羥基之單體；例如(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基(甲基)丙烯醯胺、N-異丙基(甲基)丙烯醯胺、N-丁基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基丙烷(甲基)丙烯醯胺、(甲基)丙烯醯基啉、(甲基)丙烯酸胺基乙酯、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸第三丁基胺基乙酯等含氮原子之單體；例如(甲基)丙烯酸甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸乙氧基乙酯等含烷氧基之單體；例如丙烯腈、甲基丙烯腈等含氰基之單體；例如異氰酸2-甲基丙烯醯氧基乙酯等官能性單體；例如乙烯、丙烯、異戊二烯、丁二烯、異丁烯等烯烴系單體；例如乙烯醚等乙烯醚系單體；例如氯乙烯等含鹵素原子之單體；另外，亦可列舉：例如N-乙烯基吡咯啶酮、N-(1-甲基乙烯基)吡咯啶酮、N-乙烯基吡啶、N-乙烯基哌啶酮、N-乙烯基嘧啶、N-乙烯基哌、N-乙烯基吡、N-乙烯基吡咯、N-乙烯基咪唑、N-乙烯基唑、N-乙烯基啉等含乙烯基之雜環化合物或N-乙烯基羧醯胺類等。
又，作為共聚性單體，可列舉：例如N-環己基順丁烯二醯亞胺、N-異丙基順丁烯二醯亞胺、N-月桂基順丁烯二醯亞胺、N-苯基順丁烯二醯亞胺等順丁烯二醯亞胺系單體；例如N-甲基伊康醯亞胺、N-乙基伊康醯亞胺、N-丁基伊康醯亞胺、N-辛基伊康醯亞胺、N-2-乙 基己基伊康醯亞胺、N-環己基伊康醯亞胺、N-月桂基伊康醯亞胺等伊康醯亞胺系單體；例如N-(甲基)丙烯醯氧基亞甲基琥珀醯亞胺、N-(甲基)丙烯醯基-6-氧基六亞甲基琥珀醯亞胺、N-(甲基)丙烯醯基-8-氧基八亞甲基琥珀醯亞胺等琥珀醯亞胺系單體；例如苯乙烯磺酸、烯丙基磺酸、2-(甲基)丙烯醯胺-2-甲基丙磺酸、(甲基)丙烯醯胺丙磺酸、(甲基)丙烯酸磺丙酯、(甲基)丙烯醯氧基萘磺酸等含磺酸基之單體。
又，作為共聚性單體，可列舉含磷酸基之單體。作為含磷酸基之單體，例如可列舉下述通式(1)所表示之含磷酸基之單體：
(式中，R1表示氫原子或甲基，R2表示碳數1~4之伸烷基，m表示2以上之整數，M1及M2分別獨立地表示氫原子或陽離子)。
再者，通式(1)中，m為2以上之整數，較佳為4以上之整數，通常較佳為40以下之整數。該m表示氧基伸烷基之聚合度。又，作為聚氧伸烷基，例如可列舉：聚氧乙烯基、聚氧丙烯基等，該等聚氧伸烷基亦可為該等之無規、嵌段或接枝單元等。又，磷酸基之鹽之陽離子並無特別限制，可列舉：例如鈉、鉀等鹼金屬，例如鈣、鎂等鹼土金屬等無機陽離子，例如四級胺類等有機陽離子等。
又，作為共聚性單體，例如可列舉：聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯等二醇系丙烯酸酯單體；另外，例如亦可列舉：(甲基)丙烯酸四氫糠酯，或氟(甲基)丙烯酸酯等含有雜環或鹵素原子之丙烯酸酯系單體等。
進而，為了調整水分散型丙烯酸系黏著劑之凝膠分率等，共聚性單體可使用多官能性單體。作為多官能性單體，可列舉具有2個以上(甲基)丙烯醯基、乙烯基等不飽和雙鍵之化合物等。例如可列舉：乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯等(單或聚)乙二醇二(甲基)丙烯酸酯，或丙二醇二(甲基)丙烯酸酯等(單或聚)丙二醇二(甲基)丙烯酸酯等(單或聚)伸烷基二醇二(甲基)丙烯酸酯，另外，亦可列舉：新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸與多元醇之酯化物；二乙烯苯等多官能乙烯系化合物；(甲基)丙烯酸烯丙酯、(甲基)丙烯酸乙烯酯等具有反應性之不飽和雙鍵之化合物等。又，作為多官能性單體，亦可使用聚酯、環氧、胺基甲酸酯等骨架上加成有2個以上(甲基)丙烯醯基、乙烯基等不飽和雙鍵作為與單體成分相同之官能基的(甲基)丙烯酸聚酯、環氧(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯等。
上述含羧基之單體以外之共聚單體之比例相對於上述具有碳數4~14之烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯100重量份，較佳為40重量份以下，更佳為30重量份以下，進而較佳為20重量份以下，尤佳為10重量份以下。若上述共聚單體之比例變得過多，則有對由本發明之透明導電層用水分散型黏著劑組合物形成之黏著劑層之玻璃或膜、透明導電性薄膜等各種被黏著體的密接性降低等黏著特性降低之虞。
上述含羧基之單體以外之共聚單體之中，就確保水分散液(乳液等)之穩定化或由該水分散液形成之黏著劑層對各種被黏著體之密接性之觀點而言，較佳為使用含磷酸基之單體。於上述共聚性單體為含磷酸基之單體之情形時，其比例相對於上述(甲基)丙烯酸烷基酯100 重量份較佳為0.5~5重量份，更佳為1~4重量份，進而較佳為1~3重量份。藉由於該範圍內使用，可進一步抑制高溫及高溫多濕環境下之發泡、脫落、黃變或高溫多濕環境下對透明導電性薄膜之腐蝕。
上述單體成分之乳化聚合係藉由使上述單體成分於下述特定之界面活性劑之存在下聚合而進行。藉此，製備分散含有(甲基)丙烯酸系聚合物之水分散液。乳化聚合例如係與上述之單體成分一併將下述之界面活性劑、自由基聚合起始劑、視需要鏈轉移劑等適當調配於水中。更具體而言，例如可採用一次添加法(一次聚合法)、單體滴加法、單體乳液滴加法等公知之乳化聚合法。再者，單體滴加法可適當選擇連續滴加或分批滴加。該等方法可適當地組合。反應條件等可適當選擇，聚合溫度例如為20~90℃左右。
本發明中使用之界面活性劑係反應性界面活性劑。此處，所謂反應性界面活性劑，係指分子內具有1個以上可自由基聚合之不飽和雙鍵的界面活性劑。此處，作為可自由基聚合之不飽和雙鍵，例如可列舉：乙烯基、乙烯氧基、烯丙基、丙烯醯基、甲基丙烯醯基等。
上述反應性界面活性劑具有優異之單體乳化性，可製造穩定性優異之聚合物粒子之水分散體。又，於本發明中使用之反應性界面活性劑不含氧基伸烷基重複單元或包含氧基伸烷基重複單元之情形時，其重複單元數為3個以下(較佳為2個以下)。
作為可用於本發明中之反應性界面活性劑，例如可列舉下述通式(2)所表示之化合物：[化2]M3O3S-R3-CH=CH2 (2)
(式中，R3為包含3個以下氧基伸烷基重複單元或不含氧基伸烷基重複單元的可含有氧原子之2價有機基，M3為Na、K、NH4)。此處， 所謂氧基伸烷基重複單元，係指如下式所表示之基：
(式中，R4為碳數1~20之伸烷基)，本發明中使用之反應性界面活性劑不含上述氧基伸烷基重複單元，或上述氧基伸烷基重複單元數為3個以下(較佳為2個以下)。作為上述2價有機基，並無特別限定，可列舉可含有醚鍵或酯鍵之2價烴基等。
作為此種反應性界面活性劑之具體例，例如可列舉如下通式所表示之化合物，通式(3)：
(式中，M3與上述相同，R5為碳數1~20之烷基)，或通式(4)：
(式中，M3與上述相同，R6為碳數1~20之烷基)。
上述通式(2)~(4)中，M3較佳為Na、K、NH4。又，R5、R6為碳數1~20之烷基，其中，較佳為碳數10~20之烷基。
作為可用於本發明中之反應性界面活性劑之具體例，例如可列 舉：Eleminol JS-20(三洋化成工業股份有限公司製造)、Latemul S-180A(花王股份有限公司製造)等。
上述反應性界面活性劑之調配比例相對於上述構成(甲基)丙烯酸系聚合物之全部單體成分100重量份，例如較佳為0.1~30重量份，更佳為0.1~20重量份，進而較佳為0.1~10重量份，尤佳為0.5~5重量份。藉由反應性界面活性劑之調配比例為該範圍，能使聚合穩定性優異，亦可防止透明導電性薄膜等各種被黏著體之腐蝕，故而較佳。
自過去以來用作乳化劑的於含有氧乙烯鏈或氧丙烯鏈之界面活性劑之存在下進行聚合而成的包含含有羧基等酸成分之丙烯酸系聚合物之水分散型黏著劑組合物中，塊體黏著劑層中所含之界面活性劑容易轉移至被黏著體(透明導電膜)側，若引起此種轉移，則有產生透明導電膜之腐蝕問題。作為此種抑制腐蝕之方法，已知添加水溶性鹼性成分之方法，但若黏著劑層中水溶性鹼性成分較少(例如為1200μg/cm2以下)，則有產生透明導電膜之腐蝕之傾向。又，此種現象於高溫多濕環境下更顯著。
如上所述，認為透明導電膜之腐蝕之原因係源自此種界面活性劑轉移至透明導電性薄膜或黏著劑層中所含之羧基成分，根據本發明之構成，不管有無添加水溶性鹼性成分及添加量，均可維持該界面活性劑之良好分散，可有效地抑制透明導電膜之腐蝕。又，由於腐蝕得到抑制，故而亦可抑制被黏著體表面之電阻值之上升。
又，於本發明中，可於無損本發明效果之範圍內與通常用於乳化聚合之各種乳化劑併用。作為乳化劑，具體而言，可列舉：月桂基硫酸鈉、月桂基硫酸銨、十二烷基苯磺酸鈉、聚氧乙烯月桂基硫酸鈉、聚氧乙烯烷基醚硫酸鈉、聚氧乙烯烷基苯醚硫酸銨、聚氧乙烯烷基苯醚硫酸鈉、聚氧乙烯烷基磺基琥珀酸鈉等陰離子系乳化劑；例如聚氧乙烯烷基醚、聚氧乙烯烷基苯醚、聚氧乙烯脂肪酸酯、聚氧乙烯 聚氧丙烯嵌段聚合物等非離子系乳化劑等。
上述乳化劑之調配比例相對於以上述(甲基)丙烯酸烷基酯為主成分之單體成分100重量份，較佳為1重量份以下，較佳為0.5重量份以下，進而較佳為不添加。又，上述乳化劑之調配比例較佳為上述反應性界面活性劑之添加量之10重量%以下。
作為上述自由基聚合起始劑，並無特別限制，可使用通常用於乳化聚合之公知之自由基聚合起始劑。可列舉：例如2,2'-偶氮雙異丁腈、2,2'-偶氮雙(2-甲基丙脒)二硫酸鹽、2,2'-偶氮雙(2-甲基丙脒)二鹽酸鹽、2,2'-偶氮雙(2-脒基丙烷)二鹽酸鹽、2,2'-偶氮雙[2-(2-咪唑啉-2-基)丙烷]二鹽酸鹽等偶氮系起始劑；例如過硫酸鉀、過硫酸銨等過硫酸鹽系起始劑；例如過氧化苯甲醯、氫過氧化第三丁基、過氧化氫等過氧化物系起始劑；例如苯基取代乙烷等取代乙烷系起始劑；例如芳香族羰基化合物等羰基系起始劑等。該等聚合起始劑可適當單獨使用或併用。
又，自由基聚合起始劑之調配比例可適當選擇，並無特別限定，例如相對於單體成分100重量份較佳為0.01~0.5重量份左右。若未達0.01重量份，則有作為自由基聚合起始劑之效果降低之傾向，若超過0.5重量份，則有水分散型之(甲基)丙烯酸系聚合物之分子量減少，水分散型黏著劑組合物之黏著性降低之傾向。
鏈轉移劑係視需要調節(甲基)丙烯酸系聚合物之分子量者，且通常使用用於乳化聚合之鏈轉移劑。例如可列舉：1-十二烷硫醇、巰基乙酸、2-巰基乙醇、硫代乙醇酸2-乙基己酯、2,3-二巰基-1-丙醇、巰基丙酸酯類等硫醇類等。該等鏈轉移劑可適當地單獨使用或併用。又，鏈轉移劑之調配比例相對於單體成分100重量份，例如較佳為0.3重量份以下，更佳為0.001~0.3重量份。
可藉由此種乳化聚合，以水分散液(乳液)之形式製備水分散型之 (甲基)丙烯酸系聚合物。此種水分散型之(甲基)丙烯酸系聚合物中，其平均粒徑例如較佳為調整為0.05~3μm，更佳為0.05~1μm。
就耐熱性、耐濕性之觀點而言，本發明中使用之(甲基)丙烯酸系聚合物之重量平均分子量較佳為100萬以上，更佳為100萬~400萬。又，由乳化聚合獲得之黏著劑與其聚合機構相比，分子量變得非常高，故而較佳。但是，由乳化聚合獲得之黏著劑通常凝膠分較多，無法利用GPC(凝膠滲透層析法)進行測定，故而多數情況下在與分子量相關之實際測定下不易證明。
本發明之水分散型黏著劑組合物除了上述水分散型之(甲基)丙烯酸系聚合物以外，亦可含有水溶性鹼性成分。水溶性鹼性成分係可藉由上述水分散型之(甲基)丙烯酸系聚合物所具有之羧基與酸/鹼之中和反應而形成鹽之化合物，通常係於溶解於水中之水溶液之狀態下顯示鹼性的化合物。作為水溶性鹼性成分，例如可列舉：2-二甲基胺基乙醇、二乙醇胺、三乙醇胺、胺基甲基丙醇等烷醇胺類；三甲基胺、三乙基胺、丁基胺等烷基胺類；伸乙基二胺、二伸乙基三胺、三伸乙基四胺、四伸乙基五胺等聚伸烷基聚胺類；另外，亦可列舉：伸乙亞胺、聚伸乙基亞胺、咪唑、2-甲基咪唑、吡啶、苯胺、啉等有機胺系化合物等。又，作為水溶性鹼性成分，可列舉：氫氧化鈉、氫氧化鉀等氫氧化鹼金屬類；氫氧化鋇、氫氧化鈣、氫氧化鋁等氫氧化鹼土金屬類等無機鹼系化合物或氨等。該等之中，就藉由利用添加水溶性鹼性成分之中和作用使上述水分散液之分散穩定化有效果，不產生由水分散型丙烯酸系黏著劑引起之塗敷條紋、不均等的適當黏度控制容易度，及塗敷乾燥後之黏著劑層之耐腐蝕性與耐久性等之平衡方面而言，較佳為氨。
上述水溶性鹼性成分之量較佳為於由本發明之水分散型黏著劑組合物形成之黏著劑層每1cm2控制為2500ng以下，更佳為控制為10 ~1500ng，進而較佳為控制為10~750ng。於上述水溶性鹼性成分之量超過2500ng之情形時，於使用偏光板作為光學膜之情況下，有偏光板之偏光度降低，容易對光學特性造成不良影響之傾向。
作為具體例，針對使用氨或氫氧化鈉作為水溶性鹼性成分之情況進行說明。氨係以氨水之形式使用，上述氨水之調配量通常相對於含有上述(甲基)丙烯酸系聚合物之水分散液之水中所含之固形物成分100重量份，較佳為以使氨水中所含之氨成為0.1~20重量部左右、進而較佳為成為0.2~5重量份之方式進行調配。氫氧化鈉係以氫氧化鈉水溶液之形式使用，上述氫氧化鈉水溶液之調配量通常相對於含有上述(甲基)丙烯酸系聚合物之水分散液之水中所含之固形物成分100重量份，較佳為以使氫氧化鈉水溶液中所含之氫氧化鈉成為0.05~5重量部左右、進而較佳為成為0.1~3重量份之方式進行調配。
本發明之水分散型黏著劑組合物除了上述水分散型之(甲基)丙烯酸系聚合物以外，亦可含有磷酸酯系化合物。藉由添加該磷酸酯系化合物，可發揮更高之抑制腐蝕之效果。可認為其原因在於，磷酸酯系化合物之移動性較高，又，對ITO薄膜等透明導電性薄膜具有與上述界面活性劑相同程度以上之親和性，因此黏著劑組合物中所含之磷酸酯系化合物選擇性地吸附於透明導電層表面而形成被膜，可發揮抑制透明導電性薄膜等之腐蝕之效果、尤其是抑制高溫及高溫多濕環境下之腐蝕之效果。
作為上述磷酸酯系化合物，較佳為非聚合性化合物。所謂上述非聚合性化合物，係指不具有聚合性基，於包含於水分散型黏著劑組合物之情形時不進行聚合的化合物。因此，例如不包含使含有含磷酸基之單體的單體成分聚合時未反應之殘存物(含磷酸基之單體)等。又，於本發明中，上述非聚合性化合物亦不包含例如使含有含磷酸基之單體的單體成分聚合而獲得之聚合物、由該單體成分獲得之低聚物 等。
又，磷酸酯系化合物較佳為不與上述單體成分反應。若磷酸酯系化合物不與單體成分反應，則難以取入至(甲基)丙烯酸系聚合物中，黏著劑組合物中良好之移動性得到確保，故而較佳。
作為上述磷酸酯系化合物，例如可列舉下述通式(5)所表示之磷酸酯系化合物及其鹽。
(式中，R7為碳數2~18之烷基或烯基，R8為氫原子或-(CH2CH2O)nR9(R9為碳數2~18之烷基或烯基)，n為0~15之整數)
R7為碳數2~18之烷基或烯基，較佳為碳數2~18之烷基，更佳為碳數4~15之烷基。又，R8可為直鏈狀亦可為支鏈狀，較佳為直鏈狀。
R8為氫原子或-(CH2CH2O)nR9，作為R9，可列舉與R7相同者。若R8為氫原子，則通式(5)之化合物為單酯，若R8為-(CH2CH2O)nR9，則通式(5)之化合物為雙酯。又，於R8為-(CH2CH2O)nR9之情形時，R7與R9可相同亦可不同。
n為0~15之整數，較佳為0~10之整數。又，於本發明中，作為通式(5)所表示之磷酸酯系化合物，可混合2種以上R7不同者而使用，又，亦可使用單酯(R8：H)與雙酯(R8：-(CH2CH2O)nR9)之混合物。通常，通式(5)所表示之磷酸酯系化合物可以單酯與雙酯之混合物之形式獲得。
於本發明中，亦可較佳地使用通式(5)所表示之磷酸酯化合物之 鹽(鈉、鉀、及鎂等金屬鹽、銨鹽等)。
作為上述通式(5)所表示之磷酸酯系化合物之市售品，可列舉：東邦化學工業股份有限公司製造之「Phosphanol SM-172」(R7=R9=C8H17，單/雙混合物，n=0)、「Phosphanol GF-185」(R7=R9=C13H27，單/雙混合物，n=0)、「Phosphanol BH-650」(R7=R9=C4H9，單/雙混合物，n=1)、「Phosphanol RS-710」(R7=C13H27，R9=C13H27，單/雙混合物，n=10)、「Phosphanol ML-220」(R7=R9=C12H25，單/雙混合物，n=2)、「Phosphanol ML-200」(R7=R9=C12H25，單/雙混合物，n=0)、「Phosphanol ED-200」(R7=R9=C8H17，單/雙混合物，n=1)、「Phosphanol RL-210」(R7=R9=C18H37，單/雙混合物，n=2)、「Phosphanol RS-410」(R7=R9=C13H27，單/雙混合物，n=3)、「Phosphanol GF-339(R7=R9=C6H13~C10H21之混合，單/雙混合物，n=0)、「Phosphanol GF-199」(R7=R9=C12H25，單/雙混合物，n=0)、「Phosphanol RL-310」(R7=R9=C18H37，單/雙混合物，n=3)、Nikko Chemicals股份有限公司製造之「Nikkol DDP-2」(R7=R9=C12H25~C15H31之混合物，n=2)等以及該等之鹽。再者，所謂上述「單/雙混合物」，係表示單酯(R8=H)與雙酯(R8=-(CH2CH2O)nR9)之混合物。
上述磷酸酯系化合物之添加量相對於單體成分100重量份較佳為0.005~5重量份，更佳為0.01~2重量份，進而較佳為0.01~1.5重量份。藉由使磷酸酯系化合物之添加量為上述範圍內，可進一步抑制透明導電性薄膜之表面電阻值之上升，故而較佳。
上述磷酸酯系化合物較佳為添加於聚合前之單體組合物中。其原因在於藉由於聚合前添加磷酸酯系化合物，黏著劑層中之分散性優異，容易獲得上述效果。
為了提高高溫多濕條件下之密接性，可於本發明之水分散型黏 著劑組合物中添加各種矽烷偶合劑。作為矽烷偶合劑，可使用具有任意適當之官能基者。作為官能基，例如可列舉：乙烯基、環氧基、胺基、巰基、(甲基)丙烯醯氧基、乙醯乙醯基、異氰酸酯基、苯乙烯基、多硫基等。具體而言，例如可列舉：乙烯基三乙氧基矽烷、乙烯基三丙氧基矽烷、乙烯基三異丙氧基矽烷、乙烯基三丁氧基矽烷等含乙烯基之矽烷偶合劑；γ-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷、γ-縮水甘油氧基丙基三乙氧基矽烷、3-縮水甘油氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、2-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷等含環氧基之矽烷偶合劑；γ-胺基丙基三甲氧基矽烷、N-β-(胺基乙基)-γ-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷、N-(2-胺基乙基)3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷、γ-三乙氧基矽烷基-N-(1,3-二甲基亞丁基)丙基胺、N-苯基-γ-胺基丙基三甲氧基矽烷等含胺基之矽烷偶合劑；γ-巰基丙基甲基二甲氧基矽烷等含巰基之矽烷偶合劑；對苯乙烯基三甲氧基矽烷等含苯乙烯基之矽烷偶合劑；γ-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、γ-甲基丙烯醯基丙基三乙氧基矽烷等含(甲基)丙烯酸基之矽烷偶合劑；3-異氰酸酯基丙基三乙氧基矽烷等含異氰酸酯基之矽烷偶合劑；雙(三乙氧基矽烷基丙基)四硫醚等含多硫基之矽烷偶合劑等。
上述矽烷偶合劑之中，較佳為可藉由與乙烯基、(甲基)丙烯醯氧基、苯乙烯基等上述單體成分進行自由基聚合而共聚者，尤其是就反應性之方面而言，較佳為具有(甲基)丙烯醯氧基者。可列舉：例如(甲基)丙烯醯氧基甲基-三甲氧基矽烷、(甲基)丙烯醯氧基甲基-三乙氧基矽烷、2-(甲基)丙烯醯氧基乙基-三甲氧基矽烷、2-(甲基)丙烯醯氧基乙基-三乙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-三甲氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-三乙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-三丙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-三異丙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-三丁氧基矽烷等(甲基)丙烯醯氧基烷基-三烷氧基矽烷；例 如(甲基)丙烯醯氧基甲基-甲基二甲氧基矽烷、(甲基)丙烯醯氧基甲基-甲基二乙氧基矽烷、2-(甲基)丙烯醯氧基乙基-甲基二甲氧基矽烷、2-(甲基)丙烯醯氧基乙基-甲基二乙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-甲基二甲氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-甲基二乙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-甲基二丙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-甲基二異丙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-甲基二丁氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-乙基二甲氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-乙基二乙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-乙基二丙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-乙基二異丙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-乙基二丁氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-丙基二甲氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-丙基二乙氧基矽烷等(甲基)丙烯醯氧基烷基-烷基二烷氧基矽烷，或者與該等對應之(甲基)丙烯醯氧基烷基-二烷基(單)烷氧基矽烷等。
上述矽烷偶合劑可單獨使用，又，亦可混合2種以上而使用，全部含量相對於上述(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份，較佳為1重量份以下，更佳為0.01~1重量份，進而較佳為0.02~0.8重量份，尤佳為0.05~0.7重量份。若矽烷偶合劑之調配量超過1重量份，則會產生未反應偶合劑成分，就耐久性方面而言欠佳。
再者，於上述矽烷偶合劑可藉由與上述單體成分進行自由基聚合而共聚之情形時，可使用該矽烷偶合劑作為上述單體成分。其比例較佳為相對於上述(甲基)丙烯酸烷基酯100重量份為0.005~0.7重量份。
進而，本發明之水分散型黏著劑組合物亦可視需要於不脫離本發明之目的之範圍內適當使用各種如下添加劑：黏度調整劑、交聯劑、剝離調整劑、黏著賦予劑、塑化劑、軟化劑、玻璃纖維、玻璃珠、金屬粉、包含其他無機粉末等之填充劑、顏料、著色劑(顏料、 染料等)、pH值調整劑(酸或鹼)、抗氧化劑、紫外線吸收劑等。該等添加劑亦可以乳液之形式進行調配。
尤其，交聯劑可賦予與黏著劑之耐久性相關的凝集力，故而較佳。作為交聯劑，使用多官能性之化合物，可列舉有機系交聯劑或多官能性金屬螯合物。作為有機系交聯劑，可列舉：環氧系交聯劑、異氰酸酯系交聯劑、碳二醯亞胺系交聯劑、亞胺系交聯劑、唑啉系交聯劑、氮丙啶系交聯劑等。作為有機系交聯劑，較佳為異氰酸酯系交聯劑、碳二醯亞胺系交聯劑。多官能性金屬螯合物係使多價金屬與有機化合物共價鍵結或配位鍵結而成者。作為多價金屬原子，可列舉：Al、Cr、Zr、Co、Cu、Fe、Ni、V、Zn、In、Ca、Mg、Mn、Y、Ce、Sr、Ba、Mo、La、Sn、Ti等。作為進行共價鍵結或配位鍵結之有機化合物中之原子，可列舉氧原子等，作為有機化合物，可列舉：烷基酯、醇化合物、羧酸化合物、醚化合物、酮化合物等。
水分散型黏著劑組合物中之交聯劑之調配比例並無特別限定，通常相對於上述(甲基)丙烯酸系聚合物(固形物成分)100重量份，以交聯劑(固形物成分)10重量份左右以下之比例進行調配。上述交聯劑之調配比例較佳為0.01~10重量份，進而較佳為0.1~5重量份左右。
2.透明導電層用黏著劑層
本發明之透明導電層用黏著劑層係由上述透明導電層用水分散型黏著劑組合物形成者。
本發明之透明導電層用黏著劑層之製造方法並無特別限定，可於各種基材上塗佈上述透明導電層用水分散型黏著劑組合物，利用熱烘箱等乾燥器進行乾燥，去除水分或使多餘之水溶液鹼性成分揮散而形成黏著劑層。作為上述基材，並無特別限定，例如可列舉脫模膜、透明樹脂膜基材等各種基材，又，下述光學膜亦可較佳地作為基材而使用。
作為對上述透明導電層用水分散型黏著劑組合物之基材之塗佈方法，可使用各種方法。具體而言，例如可列舉：輥塗、接觸輥式塗佈、凹版塗佈、反向塗佈、輥式刷塗、噴塗、浸輥塗佈、棒式塗佈、刮塗、氣刀塗佈、淋幕式塗佈、模唇塗佈、利用模具塗佈機等之擠壓塗佈法等方法。
乾燥條件(溫度、時間)並無特別限定，可根據透明導電層用水分散型黏著劑組合物之組成、濃度等而適當設定，例如為80~170℃左右，較佳為90~150℃，為1~60分鐘，較佳為3~30分鐘。
黏著劑層之厚度(乾燥後)例如較佳為10~100μm，更佳為15~80μm，進而較佳為20~60μm。若黏著劑層之厚度未達10μm，則有對被黏著體之密接性變差，高溫、高溫多濕下之耐久性不充分之傾向。另一方面，於黏著劑層之厚度超過100μm之情形時，有如下傾向：於形成黏著劑層時塗佈透明導電層用水分散型黏著劑組合物並使之乾燥，此時水分未充分完全乾燥，氣泡殘存或於黏著劑層之面發生厚度不均，而容易使外觀上之問題變得明顯。
作為上述脫模膜之構成材料，例如可列舉：聚乙烯、聚丙烯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚酯膜等樹脂膜，紙、布、不織布等多孔質材料，網狀物、發泡片材、金屬箔、及該等之層壓體等適當之薄片體等，就表面平滑性優異之方面而言，較佳為使用樹脂膜。
作為該樹脂膜，例如可列舉：聚乙烯膜、聚丙烯膜、聚丁烯膜、聚丁二烯膜、聚甲基戊烯膜、聚氯乙烯膜、氯乙烯共聚物膜、聚對苯二甲酸乙二酯膜、聚對苯二甲酸丁二酯膜、聚胺基甲酸酯膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物膜等。
上述脫模膜之厚度通常為5~200μm，較佳為5~100μm左右。亦可視需要對上述脫模膜進行如下處理：利用聚矽氧系、氟系、長鏈烷基系或脂肪醯胺系之脫模劑、二氧化矽粉等的脫模及防污處理，或 者塗佈型、混入型、蒸鍍型等防帶電處理。尤其，藉由對上述脫模膜之表面適當進行聚矽氧處理、長鏈烷基處理、氟處理等剝離處理，可進一步提高自上述黏著劑層之剝離性。
作為上述透明樹脂膜基材，並無特別限制，可使用具有透明性之各種樹脂膜。該樹脂膜可由1層膜形成。例如，作為其材料，可列舉：聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系樹脂、乙酸酯系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚烯烴系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、聚氯乙烯系樹脂、聚偏二氯乙烯系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、聚芳酯系樹脂、聚苯硫醚系樹脂等。該等之中，尤佳為聚酯系樹脂、聚醯亞胺系樹脂及聚醚碸系樹脂。
上述膜基材之厚度較佳為15~200μm，更佳為25~188μm。
又，於本發明之透明導電層用黏著劑層由含有水溶性鹼性成分之透明導電層用水分散型黏著劑組合物形成之情形時，其含量較佳為於黏著劑層每1cm2控制為2500ng以下，更佳為控制為10~1500ng，進而較佳為控制為10~750ng。於上述水溶性鹼性成分之量超過2500ng之情形時，在使用偏光板作為光學膜之情況下，有偏光板之偏光度降低，容易對光學特性造成不良影響之傾向。
起因於上述黏著劑層之經測得的水溶性鹼性成分之量可藉由於製備水分散型丙烯酸系黏著劑時對上述水分散液之調配量，或者水分散型丙烯酸系黏著劑之塗佈、乾燥時之乾燥條件、黏著劑層之厚度而進行控制。
又，於上述樹脂膜基材上形成有本發明之黏著劑層之附有黏著劑層之樹脂膜可藉由於不與樹脂膜基材之黏著劑層接觸之側進而形成透明導電性薄膜層，而用於觸控面板之電極用途。
3.附有黏著劑層之光學膜
本發明之附有黏著劑層之光學膜係於光學膜之一面形成有上述透明導電層用黏著劑層者。該附有黏著劑層之光學膜具有本發明之黏著劑層，因此即便與藉由金屬氧化物形成之透明導電性薄膜直接貼合，亦可抑制透明導電性薄膜之腐蝕。
使用圖1對本發明之附有黏著劑層之光學膜詳細地進行說明，圖1表示本發明之附有黏著劑層之光學膜之一例，但並不限定於此。
本發明之附有黏著劑層之光學膜於光學膜1之一面具有透明導電層用黏著劑層2(以下有時亦稱為黏著劑層2)(圖1)。
作為於本發明之附有黏著劑層之光學膜使用之光學膜1，可使用用於形成液晶顯示裝置等圖像顯示裝置者，其種類並無特別限制。例如，作為光學膜1，可列舉偏光板。偏光板通常使用於偏光元件之單面或兩面具有透明保護膜者。
偏光元件並無特別限定，可使用各種偏光元件。作為偏光元件，例如可列舉於聚乙烯醇系膜、部分縮甲醛化聚乙烯醇系膜、乙烯．乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等親水性高分子膜上吸附碘或二色性染料之二色性物質並進行單軸延伸而成者、聚乙烯醇之脫水處理物或聚氯乙烯之脫鹽酸處理物等多烯系配向膜等。該等之中，較佳為包含聚乙烯醇系膜與碘等二色性物質之偏光元件。該等偏光元件之厚度並無特別限制，通常為5~80μm左右。
利用碘將聚乙烯醇系膜染色並進行單軸延伸而成之偏光元件例如可藉由如下方式製作：藉由將聚乙烯醇浸漬於碘之水溶液中進行染色，並延伸至原長之3~7倍。亦可視需要浸漬於硼酸或可含有硫酸鋅、氯化鋅等的碘化鉀等水溶液中。進而，亦可視需要於染色前將聚乙烯醇系膜浸漬於水中而進行水洗。藉由將聚乙烯醇系膜水洗，可將聚乙烯醇系膜表面之污垢或抗結塊劑洗淨，此外，藉由使聚乙烯醇系膜膨潤，亦有防止染色之不均等不均勻之效果。延伸可於利用碘進行 染色後進行，可一面染色一面延伸，又，亦可於延伸後利用碘進行染色。亦可於硼酸或碘化鉀等水溶液或水浴中延伸。
作為形成設置於上述偏光元件之單面或兩面之透明保護膜的材料，較佳為透明性、機械強度、熱穩定性、水分阻斷性、各向同性等優異者。例如可列舉：聚對苯二甲酸乙二酯或聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系聚合物，二乙醯纖維素或三乙醯纖維素等纖維素系聚合物，聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸系聚合物，聚苯乙烯或丙烯腈-烷氧基共聚物(AS樹脂)等烷氧基系聚合物，聚碳酸酯系聚合物等。又，亦可列舉：聚乙烯、聚丙烯、具有環系或降烯結構之聚烯烴、乙烯-丙烯共聚物等聚烯烴系聚合物，氯乙烯系聚合物、尼龍或芳香族聚醯胺等醯胺系聚合物，醯亞胺系聚合物、碸系聚合物、聚醚碸系聚合物、聚醚醚酮系聚合物、聚苯硫醚系聚合物、乙烯醇系聚合物、偏二氯乙烯系聚合物、乙烯丁醛系聚合物、芳酯系聚合物、聚甲醛系聚合物、環氧系聚合物、或上述聚合物之摻合物等作為形成上述透明保護膜之聚合物之例。透明保護膜亦可形成為丙烯酸系、胺基甲酸酯系、丙烯酸胺基甲酸酯系、環氧系、聚矽氧系等熱硬化型、紫外線硬化型之樹脂之硬化層。
保護膜之厚度可適當地決定，通常，就強度或操作性等作業性、薄膜性等方面而言，為1~500μm左右。
作為保護膜，就偏光特性或耐久性等方面而言，較佳為三乙醯纖維素等纖維素系聚合物。尤佳為三乙醯纖維素膜。再者，於在偏光元件之兩側設置保護膜之情形時，可於其正面及背面使用包含相同聚合物材料之保護膜，亦可使用包含不同聚合物材料等之保護膜。上述偏光元件與保護膜通常經由水系接著劑等進行密接。作為水系接著劑，可例示：異氰酸酯系接著劑、聚乙烯醇系接著劑、明膠系接著劑、乙烯系乳膠系、水系聚胺基甲酸酯、水系聚酯等。
亦可對不與上述透明保護膜之偏光元件接著之面實施如下處理：硬塗層或抗反射處理、以抗沾黏或擴散或抗眩為目的之處理。
又，作為偏光板以外之光學膜，例如可列舉：反射板或反透射板、相位差板(包含1/2或1/4等波長板)、視角補償膜、亮度提高膜等用於形成液晶顯示裝置等之某一光學層。該等可單獨用作光學膜，此外，亦可於實際使用時用於將上述偏光板積層1層或2層以上。
又，可對上述光學膜實施活性化處理。活性化處理可採用各種方法，例如可採用電暈處理、低壓UV(ultraviolet，紫外線)處理、電漿處理等。
於光學膜上形成黏著劑層之方法係如上所述。
又，於上述黏著劑層露出之情形時，可在供於實際使用之前以脫模膜(隔片)保護黏著劑層。作為脫模膜，可列舉上述者。於在製作上述黏著劑層時使用脫模膜作為基材之情形時，藉由將脫模膜上之黏著劑層與光學膜貼合，該脫模膜可用作附有黏著劑層之光學膜之黏著劑層之脫模膜，可於步驟方面簡略化。
又，於光學膜1與透明導電層用黏著劑層2之間可具有增黏層1'(圖2)。形成增黏層之材料並無特別限定，例如可列舉各種聚合物類、金屬氧化物之溶膠、二氧化矽溶膠等。該等之中，尤佳為使用聚合物類。上述聚合物類之使用形態可為溶劑可溶型、水分散型、水溶解型中任一者。
作為上述聚合物類，例如可列舉聚胺基甲酸酯系樹脂、聚酯系樹脂、丙烯酸系樹脂、聚醚系樹脂、纖維素系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、聚乙烯吡咯啶酮、聚苯乙烯系樹脂等。該等之中，尤佳為聚胺基甲酸酯系樹脂、聚酯系樹脂、丙烯酸系樹脂。可於該等樹脂中適當調配交聯劑。該等其他黏合劑成分可適當根據其用途使用1種或2種以上。
於藉由水分散型材料形成增黏層之情形時，使用水分散型聚合物。作為水分散型聚合物，可列舉：使用乳化劑將聚胺基甲酸酯、聚酯等各種樹脂乳液化而成者，或於上述樹脂中導入水分散性之陰離子基、陽離子基或非離子基並進行自乳化而成者等。
又，上述增黏劑可含有防帶電劑。防帶電劑只要為可賦予導電性之材料，則並無特別限制，例如可列舉：離子性界面活性劑、導電性聚合物、金屬氧化物、碳黑及碳奈米材料等，該等之中，較佳為導電性聚合物，更佳為水分散性導電聚合物。
作為水溶性導電性聚合物，可列舉聚苯胺磺酸(利用聚苯乙烯換算之重量平均分子量150000，Mitsubishi Rayon股份有限公司製造)等，作為水分散性導電聚合物，可列舉聚噻吩系導電性聚合物(Nagase chemteX公司製造，Denatron系列)等。
上述防帶電劑之調配量例如相對於增黏劑中使用之上述聚合物類100重量份為70重量份以下，較佳為50重量份以下。就防帶電效果之方面而言，較佳為設為10重量份以上，進而較佳為設為20重量份以上。
增黏層之厚度並無特別限定，較佳為5~300nm。
作為上述增黏層之形成方法，並無特別限定，通常可藉由公知之方法進行。又，可於形成增黏層時，對上述光學膜實施活性化處理。活性化處理可採用各種方法，例如可採用電暈處理、低壓UV處理、電漿處理等。
光學膜上之黏著劑層形成於增黏層上的方法係如上所述。
4.液晶顯示裝置
本發明之附有黏著劑層之光學膜之黏著劑層即便直接貼附於透明導電性薄膜層，亦可抑制透明導電性薄膜之腐蝕，因此亦可貼附於具有透明導電性薄膜層之液晶單元等。因此，本發明之附有黏著劑層 之光學膜可較佳地用於各種液晶顯示裝置。
液晶顯示裝置中、尤其是採用IPS方式之液晶單元之液晶顯示裝置中，有於與接觸於構成液晶單元之透明基板之液晶層側相反之側形成透明導電性薄膜層作為防帶電層之情況，藉由於該透明導電性薄膜層上貼附本發明之附有黏著劑層之光學膜之黏著劑層，可抑制作為防帶電層之透明導電性薄膜層之腐蝕，故而較佳。
將使用本發明之附有黏著劑層之光學膜的液晶表裝置之一例示於圖3。圖3之液晶顯示裝置包括光學膜1、透明導電層用黏著劑層2、透明導電層3、液晶單元4、黏著劑層5、光學膜6。但是，本發明之液晶顯示裝置並不限定於此，該構成亦可包括用於液晶顯示裝置中之各種層。
上述光學膜1與透明導電用黏著劑層2相當於上述附有黏著劑層之光學膜。又，光學膜6可列舉與上述光學膜1相同者。
作為液晶單元，並無特別限定，例如可應用TN(Twisted Nematic，扭轉向列)型或STN(Super Twisted Nematic，超扭轉向列)型、π型、VA(Vertical Aligned，垂直配向)型、IPS(In-Plane Switching，橫向電場效應)型等任意類型者，於本發明中，藉由上述原因，尤其於使用IPS方式之液晶單元之情形時，可發揮優異之效果。
又，黏著劑層5可為本發明之黏著劑層，只要為通常用於液晶圖像顯示裝置中之黏著劑層即可，並無特別限定。例如可使用包含以丙烯酸系聚合物、聚矽氧系聚合物、聚酯、聚胺基甲酸酯、聚醚、氟系或合成橡膠系等聚合物為基底聚合物之黏著劑的黏著劑層，該等之中，尤其，丙烯酸系黏著劑較佳為使用光學透明性優異，顯示出適度之潤濕性、凝集性及接著性之黏著特性，耐候性或耐熱性等優異者。
又，作為設置於液晶單元上之透明導電層3之構成材料，並無特 別限定，例如可列舉金屬氧化物。作為金屬氧化物，較佳為含有氧化錫之氧化銦。該金屬氧化物較佳為含有氧化銦80~99重量%及氧化錫1~20重量%。
透明導電層3之厚度並無特別限制，厚度較佳為設為10nm以上。若膜厚過厚，則會造成透明性之降低等，因此較佳為15~35nm，更佳為20~30nm之範圍內。若厚度未達15nm，則表面電阻變高，且變得不易連續形成被膜。又，若超過35nm，則會造成透明性之降低等。
作為透明導電層3之形成方法，並無特別限定，可採用先前公知之方法。具體而言，例如可例示真空蒸鍍法、濺鍍法、離子鍍著法。又，亦可依據必要之膜厚採用適宜之方法。
又，可於形成透明導電層3時設置底塗層，底塗層可藉由無機物、有機物或無機物與有機物之混合物而形成。例如，作為無機物，可列舉：NaF(1.3)、Na3AlF6(1.35)、LiF(1.36)、MgF2(1.38)、CaF2(1.4)、BaF2(1.3)、SiO2(1.46)、LaF3(1.55)、CeF3(1.63)、Al2O3(1.63)等無機物[上述各材料之( )內之數值為光之折射率]。該等之中，較佳為使用SiO2、MgF2、Al2O3等。尤佳為SiO2。除了上述以外，亦可使用氧化銦中含有氧化鈰10~40重量份左右、氧化錫0~20重量份左右之複合氧化物。
由無機物形成之底塗層可藉由真空蒸鍍法、濺鍍法、離子鍍著法等乾燥製程或者濕式法(塗敷法)等而形成。作為形成底塗層之無機物，如上所述較佳為SiO2。濕式法可藉由塗敷二氧化矽溶膠等而形成SiO2膜。
又，本發明之液晶顯示裝置中，除了上述構成以外，亦可於圖3所示之各層間及/或外側包含任意光學補償層、接著層等通常用於液晶顯示裝置中之各種層。
[實施例]
以下，對本發明使用實施例詳細地進行說明，但本發明只要不脫離其主旨，則並不限定於以下實施例。又，於各例中，份、%均為重量基準。
實施例1
(水分散液之製備)
於容器中添加作為原料之丙烯酸丁酯1000份、丙烯酸70份、單[聚(環氧丙烷)甲基丙烯酸酯]磷酸酯(環氧丙烷之平均聚合度5.0)28份、及3-甲基丙烯醯氧基丙基-三乙氧基矽烷(信越化學工業股份有限公司製造，KBM-503)0.69份並進行混合，而獲得單體混合物。繼而，相對於以上述比例製備之單體混合物600份，添加作為反應性界面活性劑之Eleminol JS-20(三洋化成工業股份有限公司製造)10份(以固形物成分量計為4份)、離子交換水360份，使用均化器(特殊機化工業股份有限公司製造)以7000rpm攪拌3分鐘，製備單體乳液。
繼而，於具備冷凝管、氮氣導入管、溫度計、滴液漏斗及攪拌葉片之反應容器中，添加上述製備之單體乳液中之200份及離子交換水350份，繼而，以氮氣充分置換反應容器後，添加過硫酸銨0.1份，於65℃下聚合2小時。繼而，歷時3小時將剩餘之單體乳液滴加至反應容器中，其後，聚合3小時。進而，其後，一面進行氮氣置換一面於75℃下聚合5小時，獲得固形物成分濃度42%之水分散液(乳液)。水分散液(乳液)中之(甲基)丙烯酸系聚合物之平均粒徑為0.10μm。
(水分散型黏著劑組合物之製備)
繼而，於上述水分散液(乳液)100重量份中添加濃度10%之氨水3份，製備水分散型黏著劑組合物。
(透明導電層用黏著劑層之形成)
將上述水分散型黏著劑組合物以乾燥後之厚度成為25μm之方式 利用敷料器塗佈於脫模膜(三菱化學聚酯股份有限公司製造，Diafoil MRF-38，聚對苯二甲酸乙二酯基材)上之後，藉由熱風循環式烘箱於150℃下乾燥10分鐘，形成透明導電層用黏著劑層(附有透明導電層用黏著劑層之脫模膜)。
(附有黏著劑層之偏光板之製作)
使厚度80μm之聚乙烯醇膜於40℃之碘水溶液中延伸至5倍後，於50℃下乾燥4分鐘而獲得偏光元件。使用聚乙烯醇系接著劑將三乙醯纖維素膜接著於該偏光元件之兩側而獲得偏光板。
以水與異丙醇(IPA)之混合溶液(體積比：水/IPA=1/1)將Epocros WS-700(含唑啉基之丙烯酸系聚合物，日本觸媒股份有限公司製造)稀釋成固形物成分濃度0.25重量%，製備底塗劑溶液(增黏劑)。使用邁耶棒(Meyer bar)#5將該底塗劑溶液以乾燥後之厚度成為50nm之方式塗佈於上述偏光板之單面，於40℃下乾燥3分鐘而設置底塗層。
將上述(透明導電層用黏著劑層之形成)中所獲得之附有透明導電層用黏著劑層之脫模膜之黏著劑層貼合於上述增黏層之表面，而製作附有黏著劑層之偏光板。
實施例2
於實施例1之(水分散液之製備)中，將反應性界面活性劑之添加量自4份變更為13份，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附有黏著劑層之偏光板。
實施例3
於實施例2之(水分散液之製備)中，相對於單體混合物600份，添加含磷酸基之酯(商品名：Phosphanol SM-172，東邦化學工業股份有限公司製造)0.6份，除此以外，以與實施例2相同之方式製作附有黏著劑層之偏光板。
實施例4
於實施例3之(水分散液之製備)中，將含磷酸基之酯之添加量自0.6份變更為6份，除此以外，以與實施例3相同之方式製作附有黏著劑層之偏光板。
實施例5
於實施例3之(水分散液之製備)中，將含磷酸基之酯之種類自Phosphanol SM-172(商品名，東邦化學工業股份有限公司製造)變更為Phosphanol BH-650(商品名，東邦化學工業股份有限公司製造)，除此以外，以與實施例3相同之方式製作附有黏著劑層之偏光板。
實施例6
於實施例1之(水分散液之製備)中，將反應性界面活性劑之添加量自4份變更為13份，於(水分散型黏著劑組合物之製備)中，將氨水之添加量自3份變更為0.5份，於(透明導電層用黏著劑層之形成)中，將乾燥條件自150℃、10分鐘變更為135℃、2分鐘，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附有黏著劑層之偏光板。
實施例7
於實施例1之(水分散液之製備)中，將反應性界面活性劑之添加量自4份變更為13份，於(水分散型黏著劑組合物之製備)中，不添加氨水，於(透明導電層用黏著劑層之形成)中，將乾燥條件自150℃、10分鐘變更為135℃、2分鐘，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附有黏著劑層之偏光板。
實施例8
於實施例1之(水分散液之製備)中，將反應性界面活性劑之添加量自4份變更為30份，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附有黏著劑層之偏光板。
實施例9
於實施例1之(水分散液之製備)中，將反應性界面活性劑之種類 自Eleminol JS-20(三洋化成工業股份有限公司製造)變更為Latemul S-180A(花王股份有限公司製造)，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附有黏著劑層之偏光板。
實施例10
於實施例1之(水分散液之製備)中，將反應性界面活性劑自Eleminol JS-20(三洋化成工業股份有限公司製造)4份變更為Latemul S-180A(花王股份有限公司製造)13份，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附有黏著劑層之偏光板。
實施例11
於實施例1之(水分散液之製備)中，將反應性界面活性劑自Eleminol JS-20(三洋化成工業股份有限公司製造)4份變更為Latemul S-180A(花王股份有限公司製造)13份，於(水分散型黏著劑組合物之製備)中，不添加氨水，於(透明導電層用黏著劑層之形成)中，將乾燥條件自150℃、10分鐘變更為135℃、2分鐘，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附有黏著劑層之偏光板。
實施例12
於實施例1之(水分散液之製備)中，將反應性界面活性劑自Eleminol JS-20(三洋化成工業股份有限公司製造)4份變更為Latemul S-180A(花王股份有限公司製造)13份，於(水分散型黏著劑組合物之製備)中，將氨水之添加量自3份變更為0.5份，於(透明導電層用黏著劑層之形成)中，將乾燥條件自150℃、10分鐘變更為135℃、2分鐘，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附有黏著劑層之偏光板。
實施例13
於實施例1之(水分散液之製備)中，將反應性界面活性劑自Eleminol JS-20(三洋化成工業股份有限公司製造)4份變更為Latemul S-180A(花王股份有限公司製造)30份，除此以外，以與實施例1相同之 方式製作附有黏著劑層之偏光板。
比較例1
於實施例1之(水分散液之製備)中，將反應性界面活性劑自Eleminol JS-20(三洋化成工業股份有限公司製造)4份變更為Latemul PD-104(花王股份有限公司製造)13份，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附有黏著劑層之偏光板。
比較例2
於比較例1之(水分散液之製備)中，相對於單體混合物600份，添加含磷酸基之酯(商品名：Phosphanol SM-172，東邦化學工業股份有限公司製造)0.6份，除此以外，以與比較例相同之方式製作附有黏著劑層之偏光板。
比較例3
於實施例1之(水分散液之製備)中，將反應性界面活性劑自Eleminol JS-20(三洋化成工業股份有限公司製造)4份變更為Latemul PD-104(花王股份有限公司製造)13份，於(水分散型黏著劑組合物之製備)中，不添加氨水，於(透明導電層用黏著劑層之形成)中，將乾燥條件自150℃、10分鐘變更為135℃、2分鐘，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附有黏著劑層之偏光板。
比較例4
於實施例1之(水分散液之製備)中，將反應性界面活性劑自Eleminol JS-20(三洋化成工業股份有限公司製造)4份變更為Adeka Reasoap SE-10(ADEKA股份有限公司製造)13份，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附有黏著劑層之偏光板。
比較例5
於實施例1之(水分散液之製備)中，將反應性界面活性劑自Eleminol JS-20(三洋化成工業股份有限公司製造)4份變更為Adeka Reasoap SE-10(ADEKA股份有限公司製造)13份，於(水分散型黏著劑組合物之製備)中，不添加氨水，於(透明導電層用黏著劑層之形成)中，將乾燥條件自150℃、10分鐘變更為135℃、2分鐘，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附有黏著劑層之偏光板。
比較例6
於實施例1之(水分散液之製備)中，將反應性界面活性劑自Eleminol JS-20(三洋化成工業股份有限公司製造)4份變更為Antox MS-60(日本乳化劑股份有限公司製造)13份，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附有黏著劑層之偏光板。
比較例7
於實施例1之(水分散液之製備)中，將反應性界面活性劑自Eleminol JS-20(三洋化成工業股份有限公司製造)4份變更為Antox MS-60(日本乳化劑股份有限公司製造)13份，於(水分散型黏著劑組合物之製備)中，不添加氨水，於(透明導電層用黏著劑層之形成)中，將乾燥條件自150℃、10分鐘變更為135℃、2分鐘，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附有黏著劑層之偏光板。
比較例8
於實施例1之(水分散液之製備)中，將作為反應性界面活性劑之Eleminol JS-20(三洋化成工業股份有限公司製造)4份變更為非反應性Latemul E-150(花王股份有限公司製造)13份，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附有黏著劑層之偏光板。
比較例9
於實施例1之(水分散液之製備)中，將作為反應性界面活性劑之Eleminol JS-20(三洋化成工業股份有限公司製造)4份變更為非反應性Emal 2F-30(花王股份有限公司製造)13份，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附有黏著劑層之偏光板。
比較例10
於實施例1之(水分散液之製備)中，將反應性界面活性劑自Eleminol JS-20(三洋化成工業股份有限公司製造)4份變更為Latemul PD-104(花王股份有限公司製造)13份，於(透明導電層用黏著劑層之形成)中，將乾燥條件自150℃、10分鐘變更為135℃、2分鐘，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附有黏著劑層之偏光板。
比較例11
於實施例1之(水分散液之製備)中，將反應性界面活性劑自Eleminol JS-20(三洋化成工業股份有限公司製造)4份變更為Latemul PD-104(花王股份有限公司製造)13份，於(透明導電層用黏著劑層之形成)中，將乾燥條件自150℃、10分鐘變更為100℃、2分鐘，除此以外，以與實施例1相同之方式製作附有黏著劑層之偏光板。
再者，比較例1~8、10、11中使用之界面活性劑均為具有4個以上氧基伸烷基重複單元者。
對實施例及比較例中獲得之透明導電層用黏著劑層之厚度、偏光特性、腐蝕性進行下述評價。將結果示於表1、表2。
<黏著劑層之厚度之測定方法>
黏著劑層之厚度係藉由如下方式求出：使用針盤量規對形成於脫模膜上之透明導電層用黏著劑層之總體厚度進行測定，自其總體厚度減去脫模膜之厚度。
<偏光特性>
將附有黏著劑層之偏光板切割為15英尺，製作樣品。將該樣品貼合於玻璃板，對偏光度進行測定。將此時之偏光度設為初期偏光度(A)。又，於80℃之環境下及60℃、90%R.H.之環境下分別放置上述樣品500小時後，以與上述相同之方式測定偏光度。將此時之偏光度設為處理後偏光度(B)。偏光度係利用分光光度計(DOT-3C，村上色彩研究所股份有限公司製造)進行測定。根據初期偏光度(A)與處理後偏光度(B)算出偏光度變化量(A-B)。
<耐腐蝕性> (具有結晶性ITO薄膜之膜之準備)
作為厚度22nm之具有結晶性ITO薄膜之膜，使用日東電工股份有限公司製造之ELECRYSTA V270L-TFME。該具有結晶性ITO薄膜之膜係於評價試驗前於140℃下進行90分鐘加熱處理。處理後之膜之ITO薄膜進行了結晶化。
(具有非晶性ITO薄膜之膜之準備)
作為厚度22nm之具有非晶性ITO薄膜之膜，使用日東電工股份有限公司製造之ELECRYSTA P400L-TNME。該具有非晶性ITO薄膜之膜係於評價試驗前於140℃下進行90分鐘加熱處理。處理後之膜之ITO薄膜係非晶質。
將實施例及比較例中獲得之附有透明導電層用黏著劑層之脫模 膜切割成8mm×8mm。又，製備上述具有ITO薄膜之膜(15mm×15mm)之ITO膜上積層有黏著劑層面的樣品。該樣品中，藉由電洞試驗機對具有ITO薄膜之膜之ITO膜之電阻值(將其稱為投入前之電阻值)進行測定。又，於60℃、95%R.H.之環境將該樣品放置500小時。針對上述放置後之樣品，以與上述相同之方式對具有ITO薄膜之膜之ITO膜之電阻值(將其稱為投入後之電阻值)進行測定。根據上述結果，利用以下之式算出上述環境下投入樣品前後之電阻值之上升率。
電阻值之上升率(%)=(投入後電阻值/投入前電阻值)×100
上述電阻值之上升率越低越佳，若上述電阻值之上升率為130%以下，則可判斷為滿足耐腐蝕性。
○：電阻值之上升率為130%以下
×：電阻值之上升率超過130%
<銨成分之測定方法>
將附有黏著劑層之偏光板切割成9cm×9cm，將脫模膜剝離後，於純水中以120℃進行1小時之煮沸萃取。藉由離子層析圖(DIONEX公司製造，DX-500)自該萃取液中定量銨離子。對5個檢體進行測定，根據其值導出平均值，並將使其換算成每1cm2之值設為銨成分量。
關於實施例之附有黏著劑層之偏光板可知與銨之添加量無關，又，亦不取決於ITO之結晶狀態，可抑制ITO薄膜之腐蝕，且偏光特性亦優異。另一方面，使用具有4個以上氧基伸烷基重複單元之反應性界面活性劑，且將黏著劑層中之銨成分含量設為與實施例相同程度的比較例1~8中，耐腐蝕性明顯較差。又，使用不具有氧基伸烷基重複單元或反應基之界面活性劑的比較例9中，耐腐蝕性亦較差。又，根據乾燥條件增加黏著劑層中之銨成分量的比較例10、11中，亦與使用具有4個以上氧基伸烷基重複單元之反應性界面活性劑無關，為耐腐蝕性優異者，但偏光特性較差。
1‧‧‧光學膜
2‧‧‧透明導電層用黏著劑層

Claims (13)

  1. 一種透明導電層用水分散型黏著劑組合物，其特徵在於：其係含有使包含具有碳數4~14之烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯之單體成分於界面活性劑之存在下聚合而獲得的(甲基)丙烯酸系聚合物者，且上述界面活性劑為包含3個以下氧基伸烷基重複單元之反應性界面活性劑及/或不含氧基伸烷基重複單元之反應性界面活性劑。
  2. 如請求項1之透明導電層用水分散型黏著劑組合物，其中上述界面活性劑為不含氧基伸烷基重複單元之反應性界面活性劑。
  3. 如請求項1之透明導電層用水分散型黏著劑組合物，其中上述界面活性劑之添加量相對於構成(甲基)丙烯酸系聚合物之全部單體成分100重量份為0.1~30重量份。
  4. 如請求項1之透明導電層用水分散型黏著劑組合物，其中上述單體成分進而含有含羧基之單體，且上述含羧基之單體相對於上述具有碳數4~14之烷基之(甲基)丙烯酸烷基酯100重量份為1~8重量份。
  5. 如請求項1之透明導電層用水分散型黏著劑組合物，其進而含有水溶性鹼性成分。
  6. 如請求項5之透明導電層用水分散型黏著劑組合物，其中上述水溶性鹼性成分為氨。
  7. 如請求項1之透明導電層用水分散型黏著劑組合物，其進而含有磷酸酯系化合物。
  8. 如請求項7之透明導電層用水分散型黏著劑組合物，其中上述磷酸酯系化合物為非聚合性化合物。
  9. 如請求項7或8之透明導電層用水分散型黏著劑組合物，其中上述磷酸酯系化合物之添加量相對於構成上述(甲基)丙烯酸系聚合物之全部單體成分100重量份為0.005~5重量份。
  10. 一種透明導電層用黏著劑層，其特徵在於：其係由如請求項1至9中任一項之透明導電層用水分散型黏著劑組合物形成者。
  11. 如請求項10之透明導電層用黏著劑層，其中每1cm2之水溶性鹼性成分含量為1000ng以下。
  12. 一種附有黏著劑層之光學膜，其特徵在於：於光學膜之一面具有如請求項10或11中任一項之透明導電層用黏著劑層。
  13. 一種液晶顯示裝置，其特徵在於：其係使用如請求項12之附有黏著劑層之光學膜。
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