TW201401945A - 開孔位置決定裝置、開孔位置決定方法及程式 - Google Patents
開孔位置決定裝置、開孔位置決定方法及程式 Download PDFInfo
- Publication number
- TW201401945A TW201401945A TW102111201A TW102111201A TW201401945A TW 201401945 A TW201401945 A TW 201401945A TW 102111201 A TW102111201 A TW 102111201A TW 102111201 A TW102111201 A TW 102111201A TW 201401945 A TW201401945 A TW 201401945A
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- color
- value
- region
- determining
- center
- Prior art date
Links
Landscapes
- Image Processing (AREA)
- Image Analysis (AREA)
- Control Of Cutting Processes (AREA)
Abstract
[課題]適當地決定在印刷基板上開設導引孔之預定位置。[解決手段]開孔位置決定裝置具備:攝影包含被賦予在印刷基板之標記之畫像的攝影手段(161);當對畫像之亮度值施予微分過濾器而取得之微分值超過特定之臨界值之時,判定成標記之邊緣位置之判定手段(162);記憶表示邊緣位置之座標的記憶手段(163);以邊緣位置為中心,設定由特定之畫素數所構成之區域的設定手段(164);比較被設定之區域之中心亮度值和平均亮度值之比較手段(165);於中心亮度值未滿平均亮度值之時,將其區域之中心位置之色彩賦予第1色彩,於中心亮度值為平均亮度值以上之時,將其區域之中心位置之色彩賦予第2色彩,並將無被設定之區域之色彩賦予第2色彩之彩色手段(166),和將被賦予第1色彩之區域決定成開設導引孔之預定位置的決定手段(167)。
Description
本發明係關於開孔位置決定裝置、開孔位置決定方法以及程式。
電路基板(印刷基板)之製作係進行在一片大面積之基板印刷多數電路圖案之後,切斷、分離成各電路圖案而取得多數電路基板之方法。於該切斷之時,在基板至少設置一對導引孔,使被設置在加工裝置之導引銷插裝於該導引孔等,來進行順序切斷。因此,導引孔成為決定切斷位置之基礎,必須形成在正確位置。
就以形成該導引孔之開孔裝置而言,使用有於印刷電路圖案之時,也同時印刷事先表示開孔位置之標記,對藉由被設置在開孔裝置之X射線攝影機等攝影該標記而取得之畫像進行畫像處理而使鑽頭移動至其結果所得之位置而進行開孔的裝置。在專利文獻1揭示有該種類的開孔裝置之一例。
印刷基板上之標記係使玻璃環氧樹脂浸漬於例如玻璃纖維之芯材,於僅在形成板狀之樹脂構件之一面
張貼銅箔之印刷基板之時,該銅箔被蝕刻形成殘留圓形狀。當藉由X射線攝影機觀察透過此之印刷基板之X射線時,X射線之透過率高的樹脂構件攝影之影像為白色,X射線之透過率低的標記部攝影之影像為黑色。
對標記形成導引孔之時,於取得畫像之後,求出X射線攝影機之每個攝影元件的亮度值,根據特定臨界值將所取得之亮度值篩選成白色或黑色而對畫像施予二進制。接著,藉由檢測出被二進制之畫像中之從白色變化成黑色之部分即是邊緣部分,特定標記之外形,從被特定之標記的外形決定形成導引孔之座標,而在其位置開設導引孔。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本特開9-57695號公報
印刷基板之樹脂構件之主要素材的玻璃纖維,並非均等地分布在印刷基板之全面。因此,依印刷配線板之場所不同,X射線之透過率有所差異。再者,X射線攝影機之攝像元件各自的敏感度具有偏差。由於該些原因,即使為僅攝影例如樹脂構件之畫像,其亮度也由於場所不同而有所差異。
例如,基本上樹脂構件攝影之影像為白色,其亮度值取各種值。即是,在某場所中取得像亮度值(255)之值,在不同之場所中取得像亮度值(250)之值等,其值因場所不同則有各種。即使針對標記部也產生相同之現象。
被攝影到的畫像中之標記之外形和印刷基板之對比差大之時,因如此之偏差藉由適當地設定臨界值而被除去,各可以正確地特定標記之外形。因此,在正確之位置開設導引孔。
但是,如第3圖(a)、(b)所示般,於畫像全體之亮度具有梯度,被攝影到之標記和印刷基板之樹脂部之對比差不一樣之時,難以決定根據亮度值之臨界值。如此一來,因難以特定成為標記之外形的邊緣部分,故有藉由畫像處理所決定之導引孔之加工座標之位置精度變差之情形。或是,有無法檢測出邊緣,且無法特定標記之外形而成為錯誤的情形。
如上述般,在以往般對所攝影到之畫像設定根據亮度值之臨界值之方法中,則有無法對應之情形。因此,求出可以適當地決定在印刷基板開設導引孔之位置的新方法。
本發明係鑒於上述問題點而創作出,其目的為提供可以適當地決定在印刷基板開設導引孔之位置的開孔位置決定裝置、開孔位置決定方法及程式。
為了達成上述目的,與本發明之第1觀點有關之開孔位置決定裝置具備:攝影手段,其係用以攝影包含標記之畫像,該標記係被賦予在對印刷基板開設導引孔的預定位置上;判定手段,其係用以求出藉由上述攝影手段所攝影到之畫像的亮度值,當對所求出之亮度值施予微分過濾器而取得之微分值超過特定之臨界值時,則判定成上述標記之邊緣位置;記憶手段,其係用以記憶表示上述判定手段所判定的邊緣位置之座標;設定手段,其係用以對上述記憶手段所記憶的所有邊緣位置,以各自的邊緣位置為中心,設定由特定之畫素數所構成之區域:比較手段,其係用以針對藉由上述設定手段所設定之各個區域,求出區域之中心位置之中心亮度值和區域之平均亮度值,比較所求出之中心亮度值和平均亮度值;彩色手段,其係依藉由上述比較手段所比較之結果,於中心亮度值未滿平均亮度值之時,將其區域之中心位置之色彩賦予第1色彩,於中心亮度值為平均亮度值以上之時,將其區域之中心位置之色彩賦予第2色彩,將不藉由上述設定手段被設定之區域之色彩賦予上述第2色彩;及決定手段,其係用以將藉由上述彩色手段被賦予第1色彩之區域決定成開設上述導引孔之預定位置。
上述判定手段也可於上述微分值不超過上述特定之臨界值之時,將藉由上述攝影手段所攝影到之畫像判定成不鮮明之畫像。
由上述特定之畫素數所構成之區域亦可由5×5畫素所構成之區域。
上述判定手段亦可判定與藉由上述彩色手段被賦予第2色彩之區域鄰接之鄰接區域之色彩,所判定的所有鄰接區域之色彩為上述第1色彩之時,縮小上述特定之臨界值。
上述第1色彩亦可為黑色,上述第2色彩亦可為白色。
上述微分過濾器亦可為索貝爾過濾器(Sobel filter)。
本發明之第2觀點所涉及之開孔位置決定方法具備:攝影步驟,其係用以攝影包含標記之畫像,該標記係被賦予在對印刷基板開設導引孔的預定位置上;判定步驟,其係用以求出藉由上述攝影步驟所攝影到之畫像的亮度值,當對所求出之亮度值施予微分過濾器而取得之微分值超過特定之臨界值時,則判定成上述標記之邊緣位置;記憶步驟,其係用以記憶表示藉由上述判定步驟所判定之邊緣位置的座標;設定步驟,其係用以對上述記憶步驟所記憶的所有邊
緣位置,以各自的邊緣位置為中心,設定由特定之畫素數所構成之區域:比較步驟,其係用以針對藉由上述設定步驟所設定之各個區域,求出區域之中心位置之中心亮度值和區域之平均亮度值,比較所求出之中心亮度值和平均亮度值;彩色步驟,其係依藉由上述比較步驟所比較之結果,於中心亮度值未滿平均亮度值之時,將其區域之中心位置之色彩賦予第1色彩,於中心亮度值為平均亮度值以上之時,將其區域之中心位置之色彩賦予第2色彩,將不藉由上述設定步驟被設定之區域之色彩賦予上述第2色彩;及決定步驟,其係用以將藉由上述彩色步驟被賦予第1色彩之區域決定成開設上述導引孔之預定位置。
本發明之第3觀點所涉及之程式係使電腦以下述手段發揮功能:攝影手段,其係用以攝影包含標記之畫像,該標記係被賦予在對印刷基板開設導引孔的預定位置上;判定手段,其係用以求出藉由上述攝影手段所攝影到之畫像的亮度值,當對所求出之亮度值施予微分過濾器而取得之微分值超過特定之臨界值時,則判定成上述標記之邊緣位置;記憶手段,其係用以記憶表示上述判定手段所判定的邊緣位置之座標;設定手段,其係用以對上述記憶手段所記憶的所有邊緣位置,以各自的邊緣位置為中心,設定由特定之畫素數
所構成之區域:比較手段,其係用以針對藉由上述設定手段所設定之各個區域,求出區域之中心位置之中心亮度值和區域之平均亮度值,比較所求出之中心亮度值和平均亮度值;彩色手段,其係依藉由上述比較手段所比較之結果,於中心亮度值未滿平均亮度值之時,將其區域之中心位置之色彩賦予第1色彩,於中心亮度值為平均亮度值以上之時,將其區域之中心位置之色彩賦予第2色彩,將不藉由上述設定手段被設定之區域之色彩賦予上述第2色彩;及決定手段,其係用以將藉由上述彩色手段被賦予第1色彩之區域決定成開設上述導引孔之預定位置。
若藉由本發明時,可以適當地決定在印刷基板上開設導引孔之位置。
10‧‧‧開孔位置決定裝置
11‧‧‧作業台
11a‧‧‧處理區域
11b‧‧‧搬運路
12R、12L‧‧‧X射線照射源
13R、13L‧‧‧X射線攝影機
14R、14L‧‧‧開孔鑽頭
15‧‧‧基板檢測感測器
16‧‧‧控制部
17‧‧‧台
18‧‧‧搬入口
161‧‧‧攝影手段
162‧‧‧判定手段
163‧‧‧記憶手段
164‧‧‧設定手段
165‧‧‧比較手段
166‧‧‧彩色手段
167‧‧‧決定手段
200‧‧‧畫像
201‧‧‧標記
202‧‧‧邊緣
第1圖(a)為與本發明之實施型態有關之開孔位置決定裝置之主要部的俯視圖,(b)為(a)之I-I線之剖面圖。
第2圖為控制部之功能方塊圖。
第3圖(a)為表示包含攝影手段所攝影到之標記的畫像,(b)為表示通過(a)之畫像中之座標Y1之A-A’線上之亮度值(亮度梯度)之圖示,(c)為表示對(b)之亮度值施予微分
過濾器之微分值的圖示。
第4圖為用以說明中心亮度值未滿平均亮度值之時之區域的彩色方法之圖示。
第5圖為用以說明中心亮度值為平均亮度值以上之時之區域的彩色方法之圖示。
第6圖(a)為表示以X射線攝影機所攝影到之標記的畫像之圖示,(b)為表示對(a)進行畫像處理的畫像之圖示。
第7圖為用以說明決定開孔位置之動作的流程圖。
第8圖(a)為表示包含攝影手段所攝影到之標記的亮度差少的畫像,(b)為表示通過(a)之畫像中之座標Y1之A-A’線上之亮度值(亮度梯度)之圖示,(c)為表示對(b)之亮度值施予微分過濾器之微分值的圖示。
第9圖為表示為了檢測出標記之邊緣位置而變更臨界值之圖示。
第10圖為用以說明彩色方法之變形例的圖式。
以下,針對本發明之實施型態,參照圖面予以說明。
與本實施型態有關之開孔位置決定裝置10係如第1圖(a)以俯視圖所示般,如在第1圖(b)以I-I線之剖面圖表示般,具備作業台11、一對X射線照射源12R、12L、一對X射線攝影機13R、13L、一對開孔鑽頭14R、
14L、基板檢測感測器15和控制部16。
作業台11略水平地被配置在台17上。在作業台11上載置處理對象之印刷基板101,具備用以進行X射線之照射及開孔作業之處理區域11a,和載置處理對象之印刷基板101,且用以搬運至處理區域11a之搬運路11b。印刷基板101係在第1圖之Y軸方向被搬運搬出。
一對X射線照射源12R、12L各自被配置在作業台11上側,根據控制部16之控制,產生X射線,朝向下方(作業台11上之印刷基板101)照射。
一對X射線攝影機13R、13L各自依照控制部16之控制,從所對應之X射線照射源12R、12L被照射,接收透過處理對象之印刷基板101之X射線,攝影印刷基板101上之定位用標記之畫像。
一對開孔鑽頭14R、14L係依控制部16之控制,藉由汽缸等,在上下方向(Z軸方向)移動,藉由馬達等旋轉,在印刷基板101之特定位置開設孔。
X射線照射源12R和X射線攝影機13R和開孔鑽頭14R被構成藉由X、Y平台等,能夠以一組在X軸方向及Y軸方向移動。同樣,X射線照射源12L和X射線攝影機13L和開孔鑽頭14L被構成藉由X、Y平台等,能夠以一組在X軸方向及Y軸方向移動。
基板檢測感測器15係由光感測器、微開關等所構成,檢測出沿著搬運路11b而被搬運之印刷基板101,對控制部16發送檢測訊號。
控制部16係由CPU(中央處理裝置)、記憶裝置等所構成,依照記憶於記憶裝置之控制程式而動作,控制各部。控制部16係如第2圖所示般,當作攝影手段161、判定手段162、記憶手段163、設定手段164、比較手段165、彩色手段166、決定手段167而發揮功能。接著,針對各手段之功能予以說明。
攝影手段161係當收到從基板檢測感測器15發送之檢測訊號時,控制一對X射線照射源12R、12L、一對X射線攝影機13R、13L,如第3圖(a)所示般,攝影事先賦予在印刷基板101上之定位用之標記201之畫像200。定位用之標記201被使用於決定在印刷基板101開設導引孔之位置,根據攝影手段161所攝影到之被賦予標記201的位置,藉由後述處理,決定開設導引孔之位置。再者,在此,標記201係如上述般,在銅箔僅被張貼在形成板狀之樹脂構件之一面的印刷基板,被蝕刻形成銅箔殘留成圓形狀。因此,當以X射線攝影機攝影該標記201時,樹脂構件攝影的影像為白色,標記201攝影之影像為黑色。
判定手段162係求出藉由攝影手段161所攝影到之標記201之畫像200之亮度值(亮度梯度),根據對亮度值(亮度梯度)施予微分過濾器而求出之微分值是否超過特定之臨界值,判定畫像200上之標記201之邊緣202。在此,微分過濾器係例如索耳爾過濾器(Sobel filter)、普魯伊特過濾器(Prewitt filter)、拉普拉斯過濾器
(Laplacian filter)等,用於抽出標記之邊緣202之任意的過濾器。再者,特定之臨界值係藉由所使用之微分過濾器或微分值而變化,為任意。再者,標記之邊緣為畫像200上之標記201之邊,境界位置。具體而言,判定手段162係掃描畫像200而求出亮度值之結果,在通過例如畫像200之Y方向之座標Y1之A-A’線,取得如第3圖(b)所示般之亮度值之分布圖。
當對畫像200之亮度值施予微分過濾器而求出微分值之時,在例如通過畫像200之Y方向之座標Y1之A-A’線中,取得如第3圖(c)所示般之結果。接著,判定手段162係判定各畫素中之微分值是否超過特定之臨界值。然後,當微分值超過特定之臨界值時,判定手段162係如第3圖(c)所示般,當微分值超過特定臨界值時,將求出微分值之畫素之位置判定成標記201之邊緣202之位置。
第3圖(c)之時,當位於從標記201之左端側邊緣XL1至左端側邊緣XL2之範圍的畫素以邊緣被檢測出時,並且位於右端側邊緣XR1至右端側邊緣XR2之範圍的畫素以邊緣被檢測出。因此,判定手段162係將位於從座標(XL1,Y1)至(XL2,Y1)之範圍內的所有畫素之座標,及位於從座標(XR1,Y1)至(XR2,Y1)之範圍內的所有畫素之座標,當作A-A’線上之邊緣202之座標而記憶其值。
在第3圖(c)中,將從左端邊緣XL1至左端側邊緣XL2之範圍設為A-A’線上之右端側邊緣範圍b1。再
者,將從右端側邊緣XR1至右端側邊緣XR2之範圍設為A-A’線上之右端側邊緣範圍b2。
並且,當微分值不超過特定臨界值之時,判定手段162將求出微分值之畫素的位置在畫像200中當作不鮮明之畫像位置,成為錯誤之判定。
記憶手段163在掃描畫像200之過程中,記憶全部表示判定手段162判定成標記201之邊緣202之畫素的座標。
控制部16係僅以畫像200中存在於表示記憶手段163所記憶之邊緣202之座標的畫像為對象而施予適應二進制處理。例如,在第3圖(c)所示之A-A’線上,僅以存在於邊緣範圍b1及邊緣範圍b2之畫素為對象而施予適應二進制處理。
具體而言,首先設定手段164係以存在於表示A-A’線上之左端側邊緣XL1之座標(XL1、Y1)之畫素(被稱為注目畫素)為中心而設定由例如5×5畫素所構成之區域。
接著,比較手段165係從位於區域之中心位置的注目畫素之亮度值(中心亮度值),和從形成區域之各畫素之亮度值,求出平均之亮度值(平均亮度值)。在此,中心亮度值係指從複數之畫素所構成之區域之中心畫素之亮度值(注目畫素之亮度值)。再者,平均亮度值係指使由複數畫素組成之區域所構成的各畫素之亮度值予以平均之值。如第4圖所示般,於區域為5×5畫素所構成之時,設
定手段164係求出位於5×5畫素之中心的畫素之亮度值以作為中心亮度值,並求出使25個之各畫素之亮度值予以平均之值以作為平均亮度值。然後,比較手段165在各區域中,藉由比較中心亮度值和平均亮度值,求出中心亮度值和平均亮度值之大小關係。
彩色手段166在藉由比較手段165比較之結果下,如第4圖所示般,中心亮度值(50)未滿平均亮度值(85=(255×5+80×5+50×5+20×10)/25)之時,將中心亮度值之色彩設定成第1色彩(例如,黑色)。再者,彩色手段166係如第5圖所示般,於中心亮度值(150)為平均亮度值(144.8=(255×10+150×5+50×4+20×6)/25)以上之時,將中心亮度值之色彩設定成第2色彩(例如,白色)。
接著,控制部16係在邊緣範圍b1內,並且此次決定與進行適應二進制處理之座標(XL1,Y1)鄰接之畫素以作為新的注目畫素,並將以其注目畫素為中心,設定由例如5×5畫素所構成之區域。然後,控制部16係使用比較手段165,根據新的中心亮度值和新的平均亮度值之結果,設定新的注目畫素之色彩。
至到達邊緣範圍b1之+X端側之座標(XL2,Y1)為止,控制部16對位於邊緣範圍b1之所有畫素進行相同的處理。當對邊緣範圍b1內之所有畫素進行適應二進制處理之時,判斷控制部16之情況下,完成對邊緣範圍b1進行的適應二進制處理,並開始對邊緣範圍b2進行的適應二進制處理。
如此一來,控制部16針對根據記憶手段163所記憶之邊緣202之座標的所有邊緣範圍,施予上述適應二進制處理。
再者,彩色手段166係將記憶手段163所記憶之邊緣範圍以外之區域之色彩賦予第2色彩。彩色手段166係將包含標記201之邊緣202的邊緣範圍內之色彩賦予第1色彩,將該區域以外之色彩賦予第2色彩,依此變更賦予標記201之畫像200之色彩。
色彩被變更之畫像200係如第6圖(b)所示般,構成中空之環狀。
決定手段167係從第6圖(b)所示之色彩被變
更之畫像200,特定被賦予第1色彩之標記201之位置,將該標記201之位置決定成開設導引孔之位置。
接著,說明具有上述構成、功能之開孔位置決定裝置10之動作。
於在印刷基板101進行開孔之時,作業者如第1圖所示般,將印刷基板101載置在作業台11上,例如以手作業,沿著搬運路11b將印刷基板101搬運至Y軸方向,並從搬入口18插入至處理區域11a。
當印刷基板101到達至基板檢測感測器15上時,基板檢測感測器15將檢測訊號發送至控制部16。控制部16回應檢測訊號,開始進行第7圖所示之處理。
首先,當作攝影手段161發揮功能之控制部16係X射線源12R、12L、X射線攝影機13R、13L接通
(ON),如第3圖(a)所示般,攝影被賦予使用於開設導引孔之定位用之標記201的印刷基板101之透過畫像200(步驟S101)。
接著,作業者進行印刷基板101之概略的定位。在該階段,如上述般,藉由控制部16之處理,X射線照射源12R和12L產生X射線,X射線攝影機13R和13L各自取得印刷基板101之透過畫像。控制部16係在監視器顯示X射線攝影機13R和13L之取得畫像。
作業者邊觀看監視器之顯示,邊使印刷基板101在前後(Y軸方向)、橫方向(X軸方向)移動,使得定位標記201位於例如監視器之中心。
控制部16係當定位標記201位於監視器之略中心,檢測出停止時,藉由無圖示之推壓構件,將印刷基板101推壓固定在作業台11。
接著,當作判定手段162而發揮功能之控制部16,係掃描攝影到之畫像200,如第3圖(b)所示般,求出畫像200之各畫素之亮度值(各掃描線之亮度梯度),藉由對亮度值(亮度梯度)施予微分過濾器,求出各畫素中之微分值(步驟S102)。然後,控制部16係判動是否求出所有之畫素的微分值(步驟S103)。
當不判定所有之畫素之微分值時(步驟S103:No),控制部16係如第3圖(c)所示般,判定所求出之微分值是否超過特定之臨界值(步驟S104)。控制部16係藉由判定微分值是否超過特定之臨界值,在畫像200中
,特定求出微分值之畫素之位置。
當微分值超過特定臨界值之時(步驟S104:Yes),控制部16係將對應於求出之微分值之畫素之位置,判定(特定)成畫像200上之標記201之邊緣202(步驟S105),持續畫像之掃描,求出其他畫素之微分值(步驟S102)。
當微分值不超過特定臨界值之時(步驟S104:No),控制部16係將對應於求出之微分值之畫素之位置,判定(特定)成畫像200上之不鮮明的畫像位置(步驟S106),持續畫像之掃描,求出其他畫素之微分值(步驟S102)。控制部16係藉由重複從步驟S102至S106之處理,針對畫像200之所有的畫素之微分值,判定是否超過特定之臨界值。
所有的畫素之微分值被判定之時(步驟S103;Yes)、當作記憶手段163而發揮功能之控制部16記憶在步驟S105被特定之畫像200上之所有邊緣202之座標(步驟S107)。
接著,作為設定手段164而揮發功能之控制部16係如第3圖、第4圖所示般,為了將位於畫像200中記憶著座標的邊緣202之畫像當作注目畫素而進行適應二進制,設定以注目畫素為中心之由5×5畫素所構成之區域(步驟S108)。例如,控制部16係設定以存在於第3圖(c)所示之A-A’線上之邊緣範圍b1之所有畫素及存在於邊緣範圍b2之所有畫素為中心之由5×5畫素所構成之區
域。
接著,以比較手段165發揮功能之控制部16係求出位於區域中心之注目畫素之中心亮度值和形成區域之各畫素之平均亮度值(步驟S109)。然後,控制部16係在各區域中判定中心亮度值是否為平均亮度值以上(步驟S110)。控制部16係僅針對包含標記201之邊緣202的各區域,求出中心亮度值和平均亮度值之大小關係,而進行適應二進制處理。藉由將進行適應二進制處理之範圍限定成以標記201之邊緣202而被特定之畫素,可以減輕畫像處理之負擔,並縮短畫像處理時間。
當判定中心亮度值非平均亮度值以上,即是中心亮度值未滿平均亮度值之時(步驟S110;No),作為彩色手段166而發揮功能之控制部16係將注目畫素之色彩(中心亮度值)設定成第1色彩(步驟S111)。具體而言,如第4圖所示般,例如中心亮度值為50,平均亮度值為平均亮度值(85=(255×5+80×5+50×5+20×10)/25)之時,因中心亮度值未滿平均亮度值,故控制部16係將判定亮度值之大小關係的成為5×5畫素之中心的注目畫素之亮度值設定成第1色彩(例如黑色(亮度值0))。
中心亮度值被判定成平均亮度值以上之時(步驟S110;Yes),控制部16係將注目畫素之色彩(中心亮度值)設定成第2色彩(步驟S112)。具體而言,如第5圖所示般,例如中心亮度值為150,平均亮度值為平均亮度值(144.8=(255×10+150×5+50×4+20×6)/25)之時,因中心亮度
值為平均亮度值以上,故控制部16係將判定亮度值之大小關係的成為5×5畫素之中心的注目畫素之亮度值設定成第2色彩(例如白色(亮度值255))。
接著,控制部16係針對在步驟S107中以邊緣202被記憶之所有畫素,判定是否判定有中心亮度值和平均亮度值之大小關係(步驟S113)。
在以邊緣202被記憶的所有畫素中不判定中亮度值和平均亮度值之大小關係之時(步驟S113;No),控制部16針對不判定大小關係之畫素,判定中心亮度值是否為平均亮度值以上(步驟S110)。控制部16係藉由重複從步驟S110至S113之處理,針對在步驟S107當作邊緣202被記憶的所有畫素,判定中心亮度值和平均亮度值之大小關係。
在以邊緣202被記憶之所有畫素中判定中心亮度值和平均亮度值之大小關係之時(步驟S113;Yes),控制部16不包含邊緣202的畫素,即是在步驟S107不以邊緣202被記憶,且在步驟S108不被設定之所有畫素之色彩賦予第2色彩(步驟S114)。
然後,就以決定手段167發揮功能之控制部16係從包含在步驟S111、S112、S114中被賦予色彩之標記201的畫像200,特定以第1色彩被著色的區域,從特定之結果,將該區域之特定之座標決定成開設導引孔之開孔位置(步驟S115)。
藉由上述處理,當決定導引孔之開孔位置時
,控制部16係在X軸方向及Y軸方向移動開孔鑽頭14R、14L,在開孔位置進行開孔鑽頭14R、14L之定位,當結束定位時,一面使開孔鑽頭14R、14L旋轉一面使下降,在印刷基板101開口導引孔。
當完成開孔時,控制部16係使開孔鑽頭14R、14L上升之後停止,於進行開孔位置之測量等之後處理之後,解除藉由推壓構件之推壓,並且關閉X射線照射源12R、12L、X射線攝影機13R、13L。
如上述說明般,若藉由與該實施型態有關之開孔位置決定裝置10時,可以正確地特定事先被設置在印刷基板101之定位用之標記201的位置。再者,藉由對包含邊緣202之區域進行適應二進制,縮小畫像200之對比差,再者,即使並不一樣之時,亦可以特定標記201之位置。再者,藉由僅針對特定邊緣202之畫素,進行適應二值化處理,可以減輕畫像處理之負擔,並可以縮短進行畫像處理之時間。
並且,該發明並不限定於上述實施型態,亦可做各種變更及應用。
如第8圖(a)~(c)所示般,因畫像200之亮度值(亮度梯度)之變化少,故有微分值不超過特定臨界值之情形。如此一來,判定手段162係如第9圖所示般,藉由以存在超越臨界值之微分值之方式,根據邊緣範圍b1及邊緣範圍b2之微分值之最大值,自動性地修正縮小臨界值,依此也可以判定標記201之邊緣202。
再者,如第10圖所示般,存在於邊緣範內之畫素,即是與被賦予第2色彩(白色)之畫素鄰接的所有畫素被賦予第1色彩(黑色)之時,彩色手段166亦可以將被賦予該第2色彩(白色)之畫素著色第1色彩(黑色)。於攝影印刷基板101之時,標記201因係以黑色被攝影,故存在於邊緣範圍之畫素因被賦予原來的第1色彩。但是,於被攝影到之畫像200含有雜訊之時,比較手段165執行錯誤判定,有賦予錯誤色彩之情形。因此,彩色手段166係存在於邊緣範圍內之畫素,與被賦予白色之區域鄰接之所有鄰接區域的色彩為黑色之時,也可以將該被賦予白色之區域的色彩著上黑色。此時,判定手段162係判定與藉由彩色手段166被賦予白色之區域鄰接之鄰接區域之色彩。然後,判定手段162於鄰接之所有的鄰接區域之色彩為黑色之時,如第9圖所示般,亦可以縮小特定之臨界值。
當判定手段162在畫像200中錯誤判定成不鮮明之畫像位置之時,攝影手段161再次亦可以攝影被錯誤判定之位置的畫像。再者,控制部16亦可以對作業者發出不鮮明畫像之訊息的警告。再者,判定手段162亦可以縮小特定臨界值,判定是否超過縮小微分值之特定臨界值。
設定手段164所設定之區域並不限定於由5×5畫素所構成之區域,若為求出中心亮度值和平均亮度值之區域(例如,由3×5畫素所構成之區域,由3×10畫素所構成之區域等)時,則為任意。
中心亮度值並不限定於位於區域中心之畫素之亮度值,也廣泛地包含位於區域之中心附近的畫素之亮度值、中心附近之複數畫素之亮度值之平均值等。再者,平均亮度值並不限定於各畫素之亮度值之相加平均值,也廣泛包含相乘平均值、調和平均值等。
第1色彩、第2色彩若為互相不同之色彩時,則不限定於黑色、白色,為任意。
再者,本說明書中之X射線並不限定於一般所指的X光線(波場為1pm-10nm左右之電磁波),廣泛地包含γ線、α線、β線等、對人體有害的電磁波、放射線。再者,即使可視光亦可。
上述之構成除了開孔位置決定裝置以外,亦可廣泛地適用於使用X射線而進行任何處理(攝影、照射能量、分析)之裝置。
並且,在上述實施型態中,藉由被實行之程式係儲存分配於軟碟、CD-ROM(Compact Disc Read-Only Memory)、DVD、MO(Magneto-Optical Disc)等之電腦可讀取之記憶媒體,並安裝其程式,實行上述處理亦可。
再者,即使將程式儲存在網際網路等之通訊網絡上之特定伺服器裝置所具有之光碟裝置等,例如使重疊於載波重疊而取得等亦可。
以上,雖然針對本發明之較佳實施型態予以說明,但是本發明並不限定於上述的特定的實施型態,本發明也包含記載於申請專利範圍之發明和與其均等之範圍。
16‧‧‧控制部
161‧‧‧攝影手段
162‧‧‧判定手段
163‧‧‧記憶手段
164‧‧‧設定手段
165‧‧‧比較手段
166‧‧‧彩色手段
167‧‧‧決定手段
Claims (8)
- 一種開孔位置決定裝置,其特徵為:具備攝影手段,其係用以攝影包含標記之畫像,該標記係被設在對印刷基板開設導引孔的預定位置上;判定手段,其係用以求出藉由上述攝影手段所攝影到之畫像的亮度值,當對所求出之亮度值施予微分過濾器而取得之微分值超過特定之臨界值時,則判定成上述標記之邊緣位置;記憶手段,其係用以記憶表示上述判定手段所判定的邊緣位置之座標;設定手段,其係用以對上述記憶手段所記憶的所有邊緣位置,以各自的邊緣位置為中心,設定由特定之畫素數所構成之區域:比較手段,其係用以針對藉由上述設定手段所設定之各個區域,求出區域之中心位置之中心亮度值和區域之平均亮度值,比較所求出之中心亮度值和平均亮度值;彩色手段,其係依藉由上述比較手段所比較之結果,於中心亮度值未滿平均亮度值之時,將其區域之中心位置之色彩賦予第1色彩,於中心亮度值為平均亮度值以上之時,將其區域之中心位置之色彩賦予第2色彩,將不藉由上述設定手段被設定之區域之色彩賦予上述第2色彩;及決定手段,其係用以將藉由上述彩色手段被賦予第1色彩之區域決定成開設上述導引孔之預定位置。
- 如申請專利範圍第1項所記載之開孔位置決定裝置 ,其中上述判定手段於上述微分值不超過上述特定之臨界值之時,將藉由上述攝影手段所攝影到之畫像判定成不鮮明之畫像。
- 如申請專利範圍第1或2項所記載之開孔位置決定裝置,其中由上述特定之畫素數所構成之區域係由5×5畫素所構成之區域。
- 如申請專利範圍第1至3項中之任一項所記載之開孔位置決定裝置,其中上述判定手段係判定與藉由上述彩色手段被賦予第2色彩之區域鄰接之鄰接區域之色彩,所判定的所有鄰接區域之色彩為上述第1色彩之時,縮小上述特定之臨界值。
- 如申請專利範圍第1至4項中之任一項所記載之開孔位置決定裝置,其中上述第1色彩為黑色,上述第2色彩為白色。
- 如申請專利範圍第1至5項中之任一項所記載之開孔位置決定裝置,其中上述微分過濾器為索貝爾過濾器(Sobel filter)。
- 一種開孔位置決定方法,其特徵為:具備攝影步驟,其係用以攝影包含標記之畫像,該標記係被賦予在對印刷基板開設導引孔的預定位置上;判定步驟,其係用以求出藉由上述攝影步驟所攝影到之畫像的亮度值,當對所求出之亮度值施予微分過濾器而 取得之微分值超過特定之臨界值時,則判定成上述標記之邊緣位置;記憶步驟,其係用以記憶表示藉由上述判定步驟所判定之邊緣位置的座標;設定步驟,其係用以對上述記憶步驟所記憶的所有邊緣位置,以各自的邊緣位置為中心,設定由特定之畫素數所構成之區域:比較步驟,其係用以針對藉由上述設定步驟所設定之各個區域,求出區域之中心位置的中心亮度值和區域之平均亮度值,比較所求出之中心亮度值和平均亮度值;彩色步驟,其係依藉由上述比較步驟所比較之結果,於中心亮度值未滿平均亮度值之時,將其區域之中心位置之色彩賦予第1色彩,於中心亮度值為平均亮度值以上之時,將其區域之中心位置之色彩賦予第2色彩,將不藉由上述設定步驟被設定之區域之色彩賦予上述第2色彩;及決定步驟,其係用以將藉由上述彩色步驟被賦予第1色彩之區域決定成開設上述導引孔之預定位置。
- 一種程式,其特徵為:使電腦以下述手段發揮功能:攝影手段,其係用以攝影包含標記之畫像,該標記係被賦予在對印刷基板開設導引孔的預定位置上;判定手段,其係用以求出藉由上述攝影手段所攝影到之畫像的亮度值,當對所求出之亮度值施予微分過濾器而取得之微分值超過特定之臨界值時,則判定成上述標記之 邊緣位置;記憶手段,其係用以記憶表示上述判定手段所判定的邊緣位置之座標;設定手段,其係用以對上述記憶手段所記憶的所有邊緣位置,以各自的邊緣位置為中心,設定由特定之畫素數所構成之區域:比較手段,其係用以針對藉由上述設定手段所設定之各個區域,求出區域之中心位置的中心亮度值和區域之平均亮度值,比較所求出之中心亮度值和平均亮度值;彩色手段,其係依藉由上述比較手段所比較之結果,於中心亮度值未滿平均亮度值之時,將其區域之中心位置之色彩賦予第1色彩,於中心亮度值為平均亮度值以上之時,將其區域之中心位置之色彩賦予第2色彩,將不藉由上述設定手段被設定之區域之色彩賦予上述第2色彩;及決定手段,其係用以將藉由上述彩色手段被賦予第1色彩之區域決定成開設上述導引孔之預定位置。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012143201A JP5908351B2 (ja) | 2012-06-26 | 2012-06-26 | 穴開け位置決定装置、穴開け位置決定方法、及び、プログラム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW201401945A true TW201401945A (zh) | 2014-01-01 |
TWI513384B TWI513384B (zh) | 2015-12-11 |
Family
ID=49890797
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW102111201A TWI513384B (zh) | 2012-06-26 | 2013-03-28 | The hole position determining means, the opening position determining method and the program |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5908351B2 (zh) |
CN (1) | CN103507108B (zh) |
TW (1) | TWI513384B (zh) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019174288A (ja) * | 2018-03-28 | 2019-10-10 | リコーエレメックス株式会社 | 検査システム |
JP7126849B2 (ja) * | 2018-04-13 | 2022-08-29 | 株式会社ディスコ | 加工装置 |
CN113894445B (zh) * | 2021-12-09 | 2022-02-15 | 广东佛智芯微电子技术研究有限公司 | 一种基于光学检测及自动修正一体化的芯片表面打孔方法 |
CN117415883B (zh) * | 2023-12-18 | 2024-02-23 | 工业云制造(四川)创新中心有限公司 | 一种云制造环境下的工艺智能决策优化方法 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2561166B2 (ja) * | 1990-03-26 | 1996-12-04 | 株式会社精工舎 | プリント基板の穴明け方法及びその装置 |
JP2985045B2 (ja) * | 1994-11-30 | 1999-11-29 | セイコープレシジョン株式会社 | X線を用いた穴明け方法及びx線穴明け装置 |
JP3499080B2 (ja) * | 1995-06-06 | 2004-02-23 | セイコープレシジョン株式会社 | プリント基板の穴明け装置及びこれを用いた穴明け方法 |
JP3372419B2 (ja) * | 1996-02-26 | 2003-02-04 | 松下電工株式会社 | 物体認識方法 |
JP3689587B2 (ja) * | 1999-04-16 | 2005-08-31 | 日本特殊陶業株式会社 | プリント配線基板 |
FR2802847B1 (fr) * | 1999-12-24 | 2002-03-29 | Lectra Systemes Sa | Systeme de traitement avec dispositif de protection pour table de traitement securisee. |
JP2003266384A (ja) * | 2002-03-11 | 2003-09-24 | Kasai Kogyo Co Ltd | ピアスカット装置 |
JP4165871B2 (ja) * | 2002-03-15 | 2008-10-15 | キヤノン株式会社 | 位置検出方法、位置検出装置及び露光装置 |
WO2004040281A1 (ja) * | 2002-10-30 | 2004-05-13 | Toppan Printing Co., Ltd. | 配線パターンの検査装置、検査方法、検出装置および検出方法 |
JP4338405B2 (ja) * | 2003-01-15 | 2009-10-07 | パナソニック株式会社 | サイズ測定システムおよびサイズ測定装置 |
JP4566883B2 (ja) * | 2005-10-27 | 2010-10-20 | 王子製紙株式会社 | 平判カッターのジャミング防止装置並びにジャミング防止方法 |
JP4542046B2 (ja) * | 2006-01-30 | 2010-09-08 | セイコープレシジョン株式会社 | 穴開け方法及び穴開け装置 |
-
2012
- 2012-06-26 JP JP2012143201A patent/JP5908351B2/ja active Active
-
2013
- 2013-03-28 TW TW102111201A patent/TWI513384B/zh active
- 2013-06-17 CN CN201310240030.5A patent/CN103507108B/zh active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2014006803A (ja) | 2014-01-16 |
JP5908351B2 (ja) | 2016-04-26 |
TWI513384B (zh) | 2015-12-11 |
CN103507108B (zh) | 2015-11-18 |
CN103507108A (zh) | 2014-01-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI513384B (zh) | The hole position determining means, the opening position determining method and the program | |
EP0669792A2 (en) | Drill coordinate optimization for multi-layer printed circuit board | |
TW571081B (en) | Method and apparatus for examining foreign matters in through holes | |
JP2009016455A (ja) | 基板位置検出装置及び基板位置検出方法 | |
US9743527B2 (en) | Stencil programming and inspection using solder paste inspection system | |
TWI824071B (zh) | 中心檢測方法 | |
JP2015078852A (ja) | アライメント方法 | |
JP2006300875A (ja) | 液面検出方法、液量検出方法、液面検出装置、液量検出装置および分注装置 | |
CN110744920B (zh) | 一种印品定位方法及系统 | |
JP2002288678A (ja) | 円形マークの中心位置測定方法及び基板露光装置における位置合わせ方法 | |
JP2006267191A (ja) | 露光装置 | |
CN113160259B (zh) | 边缘检测方法、装置、计算机设备及存储介质 | |
JP5200813B2 (ja) | 測定用マークと基板エッジの距離測定方法 | |
KR101665764B1 (ko) | 묘화 장치, 기판 처리 시스템 및 묘화 방법 | |
JPH0794971B2 (ja) | 断面形状検知方法 | |
JP2006292864A (ja) | 被描画体用治具 | |
KR102177329B1 (ko) | 피듀셜 마크 인식 방법 | |
CN114324405B (zh) | 基于菲林检测的数据标注系统 | |
TWI773035B (zh) | 影像辨識系統及方法 | |
KR20150027929A (ko) | 인쇄회로기판(pcb)의 역설계 장치 및 방법 | |
Kunte | Automatic Optical Inspection of Printed Circuit Boards | |
KR101966017B1 (ko) | 반도체소자의 불량분석을 위한 그라인딩 제어 방법 및 장치 | |
JP2002015303A (ja) | パターンの欠陥検出方法と装置 | |
TWI579557B (zh) | Image detection method for printed substrate | |
JP3638551B2 (ja) | セラミック基板用寸法測定装置及びそれを用いた分類装置 |