TW201338977A - 光學積層體及影像顯示裝置 - Google Patents

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Masayuki Tsunekawa
Seiichi Isojima
Kana Yamamoto
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Abstract

本發明提供一種抗靜電性能之穩定性極高，於耐久性試驗後表面電阻率亦穩定的光學積層體。本發明之光學積層體係於透光性基材之一面上具有抗靜電層者，其特徵在於：上述抗靜電層係使用含有導電性微粒子、樹脂成分、及溶劑之抗靜電層用組成物而形成者，並且上述樹脂成分於分子中不具有反應性官能基，且具有對上述溶劑之溶解性及與上述導電性微粒子之相溶性。

Description

光學積層體及影像顯示裝置
本發明係關於一種光學積層體及影像顯示裝置。
於陰極射線管顯示裝置(CRT)、液晶顯示器(LCD)、電漿顯示器(PDP)、電致發光顯示器(ELD)、場發射顯示器(FED)、觸控面板等影像顯示裝置之最表面設置有由具有抗反射性、硬性或透明性等各種功能之功能層所構成之光學積層體。
作為該等功能層之基材，使用有透明性或硬度性優異之丙烯酸樹脂等。但是，此種功能層之基材由於絕緣特性高，故而存在如下問題：容易帶電，產生由灰塵等之附著引起之污染，不僅於使用時而且於顯示器之製造步驟中亦會因帶電而產生故障。
為了防止此種帶電，先前以來，業界嘗試於光學積層體之一部分設置含有導電性抗靜電劑之抗靜電層(例如參照專利文獻1、2)。
作為添加至抗靜電劑中之抗靜電劑之表現抗靜電功能之類型，先前分類為如下2種類型：電子經由孤立子(soliton)或極化子(polaron)等之載子而移動的電子傳導型、與離子本身於體系內移動的離子傳導型。
作為電子傳導型之抗靜電劑，例如已知有各種金屬氧化物或導電性聚合物等，另一方面，作為離子傳導型之抗靜電劑，例如已知有四級銨鹽或鋰鹽等。
其中，作為添加至抗靜電層中之抗靜電劑，可較佳地使用作為陽離子界面活性劑之四級銨鹽。
然而，具備使用四級銨鹽作為抗靜電劑而形成之抗靜電層的光學積層體存在因形成抗靜電層時之塗佈環境而使表面電阻率不穩定的問題。又，近年來，逐漸對光學積層體要求極高度之耐久性能(耐光性能及耐熱性能)，但形成抗靜電層時之表面電阻率之穩定性與具備抗靜電層之光學積層體之表面電阻率之穩定性相關聯，因此具備使用四級銨鹽所形成之抗靜電層的光學積層體存在於耐久性試驗前後表面電阻率不穩定的問題。具體而言，於將具備抗靜電層之光學積層體用於靜電電容方式之觸控面板之情形時，若耐久性試驗後之光學積層體之表面電阻率變得過低，則會產生觸控感測器變得無法充分感應的問題，若耐久性試驗後之光學積層體之表面電阻率變得過高，則有於觸控部分電荷暫時集中而對液晶分子產生影響，結果顯示畫面產生白濁現象之情況。
又，作為添加至抗靜電層中之抗靜電劑，先前已知亦使用導電性聚合物或導電性微粒子，但具備使用此種抗靜電劑所形成之抗靜電層的光學積層體亦存在藉由耐久性試驗而使表面電阻率惡化的問題。
專利文獻1：日本特開2006-126808號公報
專利文獻2：日本特開2005-31282號公報
鑒於上述現狀，本發明之目的在於提供一種抗靜電性能之穩定性極高，於耐久性試驗前後表面電阻率之變化亦較少的光學積層體、使用該光學積層體的影像顯示裝置。
即，本發明係一種光學積層體，其係於透光性基材之一面 上具有抗靜電層者，其特徵在於：上述抗靜電層係使用含有導電性微粒子、樹脂成分、及溶劑之抗靜電層用組成物而形成者，上述樹脂成分於分子中不具有反應性官能基，且具有對上述溶劑之溶解性及與上述導電性微粒子之相溶性。
於本發明之光學積層體中，較佳為上述導電性微粒子為鏈 狀或針狀。
又，本發明之光學積層體較佳為於80℃環境保持500小時的耐久性試驗(1)及照射氙弧燈(xenon arc)300小時的耐久性試驗(2)前後之表面電阻率之變化率即(試驗後之表面電阻率)/(試驗前之表面電阻率)均為0.5~2.0。
又，較佳為上述樹脂成分之重量平均分子量為2萬~20萬，玻璃轉移溫度為80~120℃。
又，較佳為上述樹脂成分為選自由丙烯酸系樹脂、纖維素 系樹脂、胺酯(urethane)系樹脂、氯乙烯系樹脂、聚酯系樹脂、聚烯烴系樹脂、聚碳酸酯、尼龍、聚苯乙烯及ABS樹脂組成之群中的至少1種。
又，較佳為上述導電性微粒子為錫銻氧化物(ATO)，上述樹脂成分為聚甲基丙烯酸甲酯，上述溶劑為丙二醇單甲醚。
又，較佳為於上述抗靜電層之與透光性基材相反之側的面上具有硬塗層。
又，較佳為上述硬塗層含有與抗靜電層所含之樹脂成分相同種類之樹脂成分。
又，較佳為上述硬塗層含有導通微粒子。
又，較佳為上述硬塗層含有紫外線吸收劑。
又，較佳為上述紫外線吸收劑之含量為3~15質量%。
又，本發明亦係一種影像顯示裝置，其特徵在於：具備本發明之光學積層體。
以下，對本發明進行詳細說明。
本發明人等對先前之光學積層體於進行耐久性試驗(耐光性試驗及耐熱性試驗)之後表面電阻率不穩定之情況進行潛心研究，結果發現其原因在於先前之光學積層體於耐久性試驗之前後，抗靜電層中所含之抗靜電劑移動，其位置發生變化。並且，為了解決此種問題而進一步研究，結果發現，藉由特定材料之組合構成抗靜電層，於耐久性試驗(耐光性試驗及耐熱性試驗)之前後表面電阻率之變化較小，從而完成了本發明。
本發明係於透光性基材之一面上具有抗靜電層之光學積層體。
於本發明之光學積層體中，上述抗靜電層係使用含有導電性微粒子、樹脂成分、及溶劑之抗靜電層用組成物而形成者。即，於本發明之光學積層體中，上述抗靜電層並非於層中含有單體成分者。
此處，上述單體成分係指於進行光學積層體之耐久性試驗，例如80℃之高溫試驗，使用碳弧燈之耐光試驗機(fade meter)、使用氙氣燈之氙氣耐氣候機的耐久性試驗時發生反應，而使抗靜電層產生硬化收縮的成分。
本發明之光學積層體於抗靜電層中不含此種單體成分，因此成為於耐久性試驗後抗靜電層不產生硬化收縮，於耐久性試驗之前後表面電阻率不 發生變化且穩定者。
具體而言，本發明之光學積層體較佳為於80℃環境保持500小時的耐久性試驗(1)及照射氙弧燈300小時的耐久性試驗(2)前後之表面電阻率之變化率{(試驗後之表面電阻率)/(試驗前之表面電阻率)}均為0.5~2.0。若未達0.5，則耐久性試驗後之本發明之光學積層體之表面電阻率低，導電性變高，因此於將本發明之光學積層體用於靜電電容方式之觸控面板之情形時，有以手指觸摸時表面之電荷擴散，感測器無法感應，而觸控感測器不運作之情況。另一方面，若超過2.0，則耐久性試驗後之本發明之光學積層體之表面電阻率高，導電性降低，因此於將本發明之光學積層體用於靜電電容方式之觸控面板之情形時，以手指觸摸時無法使表面之電荷充分地擴散，高電荷暫時集中，結果有對液晶分子產生影響，而產生顯示畫面白濁之現象之虞。
再者，於本發明之光學積層體中，所謂上述抗靜電層不含單體成分，係指除該抗靜電層中完全不含單體成分之情形以外，亦包含以下述範圍含有之情形：於耐久性試驗後將表面電阻率之差控制在上述範圍內。
進而，上述抗靜電層較佳為不含因紫外線而分解等之樹脂。作為上述因紫外線而分解等之樹脂，例如可列舉：具有極化較大之官能基之樹脂或主鏈上具有不飽和鍵之樹脂等。
上述導電性微粒子係確保本發明之光學積層體之抗靜電性能之材料。
作為此種導電性微粒子，並無特別限定，例如可使用金屬微粒子、金屬氧化物微粒子、奈米碳管、塗佈微粒子等先前公知之材料。其中，就耐 光性、耐熱性、環境依賴性良好而言，可適宜地使用金屬氧化物微粒子。
作為構成上述金屬微粒子之金屬，並無特別限定，例如可列舉：Au、Ag、Cu、Al、Fe、Ni、Pd、Pt等。
又，作為構成上述金屬氧化物微粒子之金屬氧化物，並無特別限定，例如可列舉：二氧化錫(SnO2)、五氧化二銻(Sb2O5)、錫銻氧化物(ATO)、氧化銦錫(ITO)、氧化鋅鋁(AZO)、氟摻雜氧化錫(FTO)、ZnO等。此處，本發明中之「金屬氧化物」係包含摻雜有不同種類金屬之金屬氧化物之概念。
又，作為上述塗佈微粒子，並無特別限定，例如可列舉：於核心微粒子之表面形成有導電性被覆層之構成的先前公知之微粒子。
作為上述核心微粒子，並無特別限定，例如可列舉：二氧化矽微粒子、玻璃微粒子等無機微粒子；氟樹脂微粒子、丙烯酸樹脂粒子、聚矽氧樹脂粒子等聚合物微粒子；有機質無機質複合體粒子等微粒子。又，作為構成上述導電性被覆層之材料，並無特別限定，例如可列舉：上述金屬或該等之合金、或上述金屬氧化物等。
上述導電性微粒子之平均一次粒徑較佳為6~40 nm。若未達6 nm，則為了對本發明之光學積層體賦予充分之抗靜電性能而必須增大添加量，而有透明性或與其他層之間之密合性較差之情況，又，由於導電性微粒子之電阻急遽增大，故而有上述抗靜電層之導電性能變差之情況。若超過40 nm，則雖然導電性微粒子本身之電阻低，但有導電性微粒子散佈於抗靜電層中，而無法獲得良好之電阻之虞。上述導電性微粒子之平均一次粒徑之更佳之下限為7 nm，更佳之上限為20 nm。
再者，上述導電性微粒子之「平均一次粒徑」係指於用以形成上述抗靜電層之抗靜電層用組成物中，使用日機裝公司製造之MICROTRAC粒度分析計而測得的值，係指於上述抗靜電層中，藉由該抗靜電層剖面之穿透式電子顯微鏡(TEM)照片或掃描穿透式電子顯微鏡(STEM)照片觀察到之10個導電性微粒子之平均值。
於本發明之光學積層體中，較佳為上述導電性微粒子為鏈 狀或針狀。此種形狀之導電性微粒子於抗靜電層中不易移動，即便於耐久性試驗時抗靜電層多少產生些硬化收縮之情形時，亦可使光學積層體之表面電阻率幾乎不發生變化而穩定地含有於抗靜電層中。又，亦可使於上述抗靜電層中鄰接之鏈狀或針狀之導電性微粒子容易產生接觸，而以少量之添加量製成具有充分之導電性能之抗靜電層。此處，若上述抗靜電層中之導電性微粒子為單粒子狀，則於抗靜電層中鄰接之導電性微粒子彼此不易產生接觸，為了發揮充分之抗靜電性能，而必須增大添加量。結果有時會產生如下問題：上述抗靜電層與其他層之密合性降低、導電性微粒子彼此之接觸點增大所引起之接觸電阻的惡化所導致的抗靜電層之導電性降低、及受到導電性隨時間經過而變化之影響的機率上升。
再者，上述鏈狀或針狀係指2個以上之上述導電性微粒子以直線狀或分支狀連結之形態。以下，將鏈狀或針狀之導電性微粒子稱為「鏈狀導電性微粒子」而進行說明。
述鏈狀導電性微粒子與上述導電性微粒子之一次粒子單 純因粒子間引力而凝聚者不同，較佳為導電性微粒子彼此結合，此種導電性微粒子可為直線狀，亦可為摺線狀，又，亦可成為彎曲狀。
上述鏈狀導電性微粒子只要為具有連結有2個以上上述導 電性微粒子之形態，則並無特別限定，較佳為2~50個上述導電性微粒子連結成直鏈狀。若上述導電性微粒子之連結個數未達2個，則有無法有效降低表面電阻率之情況，若上述導電性微粒子之連結個數超過50個，則有抗靜電層之透光率降低，霧度上升之情況。構成上述鏈狀導電性微粒子之導電性微粒子之連結數的更佳之下限為3個，更佳之上限為30個。
上述鏈狀導電性微粒子之平均長度較佳為12~500 nm。其 原因在於，若未達12 nm，則有接觸電阻增加，無法有效降低上述抗靜電層之表面電阻率之情況，若超過500 nm，則有無法獲得上述抗靜電層之透明性之虞。上述鏈狀導電性微粒子之平均長度的更佳之下限為20 nm，更佳之上限為300 nm。 再者，所謂「鏈狀導電性微粒子之平均長度」，係指藉由抗靜電層剖面之穿透式電子顯微鏡(TEM)照片或掃描穿透式電子顯微鏡(STEM)照片所觀察到的10個鏈狀導電性微粒子之長度之平均值。具體而言，例如於以可確認1個由2個以上導電性微粒子連結而成之鏈狀導電性微粒子之大小的倍率(例如20萬倍以上)所拍攝的抗靜電層剖面之穿透式電子顯微鏡(TEM)照片等中，選擇10個鏈狀導電性微粒子，分別測定所選擇的鏈狀導電性微粒子之最長部分之長度，求出其平均值，藉此可求出抗靜電層中之鏈狀導電性微粒子之平均長度。再者，鏈狀導電性微粒子係以曲線狀等多種形狀存在，於其長度測定中，係測定最遠2點間之長度。
上述鏈狀導電性微粒子例如可藉由以下方法獲得。
首先，對以0.1~5質量%之濃度含有金屬鹽或金屬烷氧化物之醇溶液 進行加熱，使該金屬鹽或金屬烷氧化物水解，而製備平均一次粒徑為1~100 nm之導電性微粒子之凝膠分散液。
此時，亦可視需要添加溫水或鹼。
繼而，將所獲得之凝膠分散液過濾分離、清洗，於空氣中，在200~800℃之溫度下進行燒成而製備導電性微粒子(金屬氧化物微粒子)。
繼而，使該經燒成之導電性微粒子之粉末分散於酸性或鹼性之水溶液及醇溶劑之至少一者中，製成濃度10~50質量%之分散液，視需要於有機穩定劑之存在下對該分散液進行機械分散處理。
再者，作為上述有機穩定劑，具體而言，可列舉：明膠、聚乙烯醇、聚乙烯吡咯啶酮、草酸、丙二酸、丁二酸、戊二酸、己二酸、癸二酸、順丁烯二酸、反丁烯二酸、鄰苯二甲酸、檸檬酸等多元羧酸及其鹽、雜環化合物或該等之混合物等。
藉由該機械分散處理，使所生成之凝膠解凝而獲得分散有鏈狀導電性微粒子之溶膠。作為上述機械分散處理，例如可列舉：砂磨機法、衝擊分散法等，可尤佳地使用衝擊分散法。
如此獲得之鏈狀導電性微粒子通常係藉由離心分離等方法自生成後之分散液中提取，並視需要利用酸等加以清洗。又，所獲得之含有鏈狀導電性微粒子之分散液亦可直接用於抗靜電層之形成。
作為含有上述鏈狀導電性微粒子之分散液之市售品，例如可列舉：日揮觸媒化成公司製造之ELCOM-V3560、DP1197、DP1203、DP1204、DP1207、DP1208等。
作為上述抗靜電層中之導電性微粒子之含量，可根據所使 用之導電性微粒子之種類、形狀及大小等而適當調整，例如相對於下述樹脂成分100質量份，較佳為100~300質量份。若未達100質量份，則有本發明之光學積層體之抗靜電性能變得不充分之情況，若超過300質量份，則有上述抗靜電層與其他層之密合性較差之情況，又，有產生如下問題之情況：導電性微粒子彼此之接觸點增大所引起之接觸電阻的惡化所導致的抗靜電層之導電性降低、及受到導電性隨時間經過之變化之影響的機率上升。上述導電性微粒子之含量的更佳之下限為150質量份，更佳之上限為250質量份。藉由設為該範圍內，可獲得穩定之電阻值，同時確保與透光性基材之密合性。
上述樹脂成分為聚合物，係發揮作為上述抗靜電層之黏合 劑成分之作用之材料，分子中不具有反應性官能基，且具有對下述溶劑之溶解性和對上述導電性微粒子之相溶性。
藉由使上述抗靜電層含有聚合物之樹脂成分作為黏合劑成分，本發明之光學積層體成為於耐久性試驗後抗靜電層不產生硬化收縮，表面電阻率不發生變化且穩定者。
因此，上述樹脂成分於分子中不具有反應性官能基。藉由上述樹脂成分於分子中不具有反應性官能基，而無該樹脂成分之二次反應，可維持將抗靜電層用組成物塗佈及乾燥之後所形成之抗靜電層之性能。於上述樹脂成分於分子中具有反應性基之情形時，有於將抗靜電層用組成物塗佈及乾燥之後所形成之抗靜電層中，因暗反應上述樹脂成分緩慢地進行反應之情況，若上述樹脂成分之反應長期緩慢地進行，則有因該反應而產生樹脂成分之結合，從而使樹脂成分所形成之物理距離收縮之情況。其結果為，產 生抗靜電層中之導電性微粒子之物理距離亦收縮，使導電通路增大，抗靜電層之導電性提高，電阻值降低的問題。又，若上述樹脂成分於分子中具有反應性官能基，則由於耐久性試驗而該反應性官能基發生反應，抗靜電層產生硬化收縮，表面電阻率發生變化。
再者，作為上述反應性，係指於耐久性試驗中有時會發生反應之官能基，例如可列舉：丙烯醯基、乙烯基等具有不飽和雙鍵之官能基，環氧環、氧雜環丁烷環等環狀醚基，內酯環等開環聚合基，形成胺酯之異氰酸酯基等。
再者，關於該等反應性官能基，較佳為於上述樹脂成分中完全不含有，但只要為於耐久性試驗後不會使抗靜電層產生硬化收縮之程度，則亦可含有。上述不會使抗靜電層產生硬化收縮之程度係指耐久性試驗後之表面電阻率之變化率處於上述範圍內之情形。
又，上述樹脂成分具有於下述溶劑中之溶解性和對上述導電性微粒子之相溶性。使用含有此種樹脂成分之抗靜電層用組成物所形成之抗靜電層成為導電性微粒子之分散性優異，並且表面電阻率之隨時間經過之穩定性亦優異者。
再者，於本說明書中，所謂「具有溶解性」，係指具有下述特性：於使上述樹脂成分溶解於下述溶劑中而成之樹脂溶液中，不存在產生凝膠成分之情況，且黏度隨著該樹脂溶液中之溶劑比率之增大而降低。又，所謂「具有相溶性」，係指於混合有上述樹脂溶液與上述導電性微粒子之抗靜電層用組成物中，相對於樹脂成分100質量份，於至少100~300質量份之範圍內以任意之比率混合上述導電性微粒子，均可不產生凝膠化物地均勻分散， 可無不均勻地塗覆上述抗靜電層用組成物而形成塗膜，使該塗膜乾燥而成之抗靜電層不產生霧度之上升等外觀惡化。
又，上述樹脂成分較佳為具有側鏈者。
上述具有側鏈之樹脂成分中，該側鏈成為立體位阻而於抗靜電層中變得不易移動，故而可更適宜地將本發明之光學積層體製成表面電阻率之穩定性優異者。
上述樹脂成分之重量平均分子量較佳為2萬~20萬。若未 達2萬，則有抗靜電層無法獲得充分之硬度，於耐久性試驗之前後表面電阻率變得不穩定之情況。另一方面，若超過20萬，則有下述之抗靜電層用組成物之黏度變得過高而無法塗佈之情況。上述重量平均分子量的更佳之下限為5萬，更佳之上限為10萬。
再者，上述重量平均分子量可藉由凝膠滲透層析法(GPC)以聚苯乙烯換算而求出。GPC流動相之溶劑可使用四氫呋喃或氯仿。測定用管柱可將四氫呋喃用或氯仿用之管柱之市售品管柱組合而使用。作為上述市售品管柱，例如可列舉：Shodex GPC KF-801、GPC KF-802、GPC KF-803、GPC KF-804、GPC KF-805、GPC KF-800D(均為商品名，昭和電工公司製造)等。檢測器可使用RI(示差折射率)檢測器及UV檢測器。可使用上述溶劑、管柱、檢測器，利用例如Shodex GPC-101(昭和電工公司製造)等GPC系統，適宜測定上述重量平均分子量。
又，上述樹脂成分之玻璃轉移溫度較佳為80~120℃。若未 達80℃，則有樹脂成分變得柔軟，電阻值變得不穩定之情況，另一方面，若超過120℃，則有樹脂成分變硬，與透光性基材之密合性降低之虞。上述 玻璃轉移溫度的更佳之下限為90℃，更佳之上限為110℃。藉由設為該範圍內，可獲得穩定之電阻值，並且可確保與透光性基材之密合性。
作為上述樹脂成分，較佳為選自由丙烯酸系樹脂、纖維素 系樹脂、胺酯系樹脂、氯乙烯系樹脂、聚酯系樹脂、聚烯烴系樹脂、聚碳酸酯、尼龍、聚苯乙烯及ABS樹脂所組成之群中的至少1種。
作為上述丙烯酸系樹脂，例如可列舉：聚甲基丙烯酸甲酯等。
又，作為上述纖維素系樹脂，例如可列舉：雙乙醯纖維素、乙酸丙酸纖維素(CAP)、乙酸丁酸纖維素(CAB)等。
又，作為上述胺酯系樹脂，例如可列舉：胺酯樹脂等。
又，作為上述氯乙烯系樹脂，例如可列舉：聚氯乙烯、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物等。
又，作為上述聚酯系樹脂，例如可列舉：聚對苯二甲酸乙二酯等。
又，作為上述聚烯烴系樹脂，例如可列舉：聚乙烯、聚丙烯等。
作為本發明之光學積層體中之上述樹脂成分，較佳為熱塑性樹脂，尤其就容易防止上述導電性微粒子之滲出，具有相溶性優異等特性，耐候性亦優異方面而言，可適宜地使用聚甲基丙烯酸甲酯。
上述抗靜電層之厚度較佳為0.1~1.0μm。若未達0.1μm，則有無法獲得充分之電阻值之虞，若超過1.0μm，則對透光性基材之密合性差，根據導電性微粒子之材料而有總透光率降低之情況。上述抗靜電層之厚度的更佳之下限為0.2μm，更佳之上限為0.5μm。再者，上述抗靜電層之厚度係使用電子顯微鏡(例如SEM、TEM、STEM等)對抗靜電層剖面進行觀測而測得的值。
作為上述溶劑，可適宜地使用顯示上述樹脂成分所述之溶 解性的有機溶劑，例如可列舉：酮類(丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環己酮等)、醚類(二烷、四氫呋喃等)、脂肪族烴類(己烷等)、脂環式烴類(環己烷等)、芳香族烴類(甲苯、二甲苯等)、鹵烴類(二氯甲烷、二氯乙烷等)、酯類(乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯等)、醇類(乙醇、異丙醇、丁醇、環己醇、丙二醇單甲醚等)、賽路蘇類(甲基賽路蘇、乙基賽路蘇等)、乙酸賽路蘇類、亞碸類(二甲基亞碸等)、醯胺類(二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺等)等，亦可為該等之混合溶劑。
此處，於上述導電性微粒子為上述鏈狀導電性微粒子之情 形時，該鏈狀導電性微粒子係如上所述般使用水或醇而製備。因此，於使用上述鏈狀導電性微粒子之情形時，作為上述抗靜電層用組成物之溶劑，最佳為醇。其原因在於，於使用極性基較少之溶劑、尤其是不具有羥基之溶劑之情形時，必須追加使上述鏈狀導電性微粒子分散之分散劑。因此，上述鏈狀導電性微粒子之粒子間距離趨向變遠之方向，結果所獲得之抗靜電層之表面電阻率上升。
另一方面，於上述樹脂成分為聚甲基丙烯酸甲酯之情形時，該聚甲基丙烯酸甲酯通常存在如下傾向：不溶於或不易溶於醇，無羥基，易溶於極性基較少之溶劑。具體而言，上述聚甲基丙烯酸甲酯存在容易溶解於酮類、脂肪族、烴類、脂環式烴類、芳香族烴類、酯類的傾向。因此，藉由選擇該等溶劑，可製備聚甲基丙烯酸甲酯溶液，藉由使用該溶液，可容易地製備上述抗靜電層用組成物。
於上述抗靜電層用組成物中，必須使上述導電性微粒子(鏈狀導電性 微粒子)與樹脂成分(聚甲基丙烯酸甲酯)穩定地存在。即，作為上述溶劑，若添加過多極性基較少之溶劑，則上述鏈狀導電性微粒子變得無法穩定地存在，而產生凝聚、凝膠化、沈澱等問題。另一方面，若添加過多醇等極性較高之溶劑，則作為樹脂成分之聚甲基丙烯酸甲酯變得無法穩定地存在，而產生析出、凝膠化等問題。其結果，無法用作上述抗靜電層用組成物，而變得無法達成本發明之目的。
因此，上述抗靜電層用組成物於使用聚甲基丙烯酸甲酯作為上述樹脂成分之情形時，例如，於使用甲基異丁基酮作為上述溶劑，與含有上述鏈狀導電性微粒子之醇分散液混合時，為了使上述聚甲基丙烯酸甲酯與鏈狀導電性微粒子更穩定地存在，較佳為追加混合具有甲基異丁基酮與醇之中間性質且蒸發速度較緩慢的二醇酯類作為溶劑。其中，更佳為追加混合丙二醇單甲醚。藉此，即便於上述抗靜電層用組成物之乾燥中，蒸發速度較緩慢之丙二醇單甲醚最後亦會殘留，聚甲基丙烯酸甲酯之凝膠化或鏈狀導電性微粒子之凝聚等對乾燥中造成不良影響之情況消失，所獲得之抗靜電層可穩定地獲得目標耐久性能。
含有此種材料之抗靜電層用組成物較佳為不含上述單體成 分，但如上所述，只要為所形成之抗靜電層於耐久性試驗後不產生硬化收縮之範圍，則亦可含有單體成分。
作為上述抗靜電層用組成物之製備方法，只要可使各成分 均勻地混合，則並無特別限定，例如可使用塗料振盪器、珠磨機、捏合機、混合機等公知之裝置而進行。
將上述抗靜電層用組成物塗佈於透光性基材上，形成塗膜 之後，對該塗膜進行乾燥，藉此可形成上述抗靜電層。
作為上述塗佈之方法，並無特別限定，例如可列舉：旋轉塗佈法、浸漬法、噴霧法、模具塗佈法、棒式塗佈法、輥式塗佈法、液面彎曲式塗佈法、軟版印刷法、網版印刷法、液滴塗佈法(bead coater method)等公知之方法。
本發明之光學積層體具有透光性基材。
作為上述透光性基材，較佳為具備平滑性、耐熱性，機械強度優異者。
作為形成上述透光性基材之材料之具體例，可列舉：聚酯(聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯)、三乙酸纖維素、二乙酸纖維素、乙酸丁酸纖維素、聚酯、聚醯胺、聚醯亞胺、聚醚碸、聚碸、聚丙烯、聚甲基戊烯、聚氯乙烯、聚乙烯醇縮乙醛、聚醚酮、聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、或聚胺酯等熱塑性樹脂，可較佳地列舉：聚酯(聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯)、三乙酸纖維素。
上述透光性基材較佳為以富有柔軟性之膜狀體之形式使用 上述材料，但根據要求硬化性之使用態樣，亦可使用上述材料之板，或者亦可使用玻璃板之板狀體者。
此外，作為上述透光性基材，亦可列舉具有脂環結構之非 晶質烯烴聚合物(Cyclo-Olefin-Polymer：COP，環烯烴聚合物)膜。其為使用有降莰烯系聚合物、單環之環狀烯烴系聚合物、環狀共軛二烯系聚合物、乙烯系脂環式烴系聚合物等之基材，例如可列舉：日本Zeon公司製造之Zeonex或Zeonor(降莰烯系樹脂)、Sumitomo Bakelite公司製造之Sumilite FS-1700、JSR公司製造之Arton(改質降莰烯系樹脂)、三井化學公司製造 之Apel(環狀烯烴共聚物)、Ticona公司製造之Topas(環狀烯烴共聚物)、日立化成公司製造之OPTOREZ OZ-1000系列(脂環式丙烯酸樹脂)等。
又，作為三乙酸纖維素之代替基材，亦較佳為旭化成化學公司製造之FV系列(低雙折射率、低光彈性模數膜)。
作為上述透光性基材之厚度，於膜狀體之情形時，較佳為 10~300μm，更佳為上限為200μm，下限為20μm。於上述透光性基材為板狀體之情形時，亦可為超過該等厚度之厚度。
關於上述透光性基材，於在其上形成上述抗靜電層時，為了提高接著性，除了電暈放電處理、氧化處理等物理處理或化學處理以外，亦可預先塗佈稱為增黏劑或底塗劑之塗料。
本發明之光學積層體較佳為於上述抗靜電層之與透光性基材相反之側的面上具有硬塗層。
上述抗靜電層存在於上述硬塗層與上述透光基材之間，可使本發明之光學積層體成為硬塗性能優異者，進而可使耐久性試驗後之表面電阻率變得更穩定。
作為上述硬塗層，係使用含有導通微粒子、單體成分、樹 脂成分及紫外線吸收劑之硬塗層用組成物而形成者，作為上述樹脂成分，可列舉上述抗靜電層中所含之樹脂成分，較佳為上述硬塗層用組成物中所含之樹脂成分與上述抗靜電層中所含之樹脂成分為相同種類。藉由含有與上述抗靜電層相同種類之樹脂成分，可成為抗靜電層與硬塗層之密合性優異者。
再者，上述硬塗層用組成物亦可含有與上述抗靜電層中所含之樹脂成 分相同種類、及不同種類之樹脂成分作為上述樹脂成分。其中，於該情形時，較佳為上述硬塗層用組成物中之樹脂成分之主成分(即全部樹脂成分之50質量%以上)為與上述抗靜電層中所含之樹脂成分相同種類之樹脂成分。
作為上述單體成分，可列舉：具有丙烯酸酯系官能基之化 合物等具有1個或2個以上之不飽和鍵之化合物。作為具有1個不飽和鍵之化合物，例如可列舉：(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸乙基己酯、苯乙烯、甲基苯乙烯、N-乙烯吡咯啶酮等。作為具有2個以上之不飽和鍵之化合物，例如可列舉：多羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、己二醇(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯等多官能化合物，或者上述多官能化合物與(甲基)丙烯酸酯等之反應產物(例如多元醇之聚(甲基)丙烯酸酯)等。
再者，於本說明書中，所謂單體成分，係指包含硬化性樹脂之前驅物者，亦包含所謂低聚物。
上述硬塗層用組成物除了上述化合物以外，亦可使用具有 不飽和雙鍵之分子量相對較低之聚酯樹脂、聚醚樹脂、丙烯酸樹脂、環氧樹脂、胺酯樹脂、醇酸樹脂、螺縮醛樹脂、聚丁二烯樹脂、聚硫醇聚烯樹脂等作為上述樹脂成分。
上述導通微粒子係用以確保本發明之光學積層體之抗靜電性能之微粒子，發揮將上述硬塗層之表面與抗靜電層之間導通之作用。
作為此種導通微粒子，並無特別限定，例如可適宜地使用於核心微粒 子之表面形成有導電性被覆層之塗佈微粒子。
作為構成上述塗佈微粒子之材料，例如可列舉與上述抗靜電層中之導電性微粒子中所說明者相同之材料。
作為上述導通微粒子之平均粒徑，較佳為3~10μm。若未 達3μm，則有所形成之硬塗層之厚度變得過薄，硬塗性能變得不充分之情況，另一方面，若超過10μm，則有產生硬塗層變得過厚而透明性較差，或導通微粒子脫落之問題之情況。上述導通微粒子之平均粒徑的更佳之下限為4μm，更佳之上限為7μm。
再者，上述導通微粒子較佳為與硬塗層之厚度相同或者超過硬塗層之厚度的大小。即，上述導通微粒子較佳為存在於硬塗層之表面附近或自該表面突出。於上述導通微粒子相對於硬塗層之厚度過小之情形時，有本發明之光學積層體之表面電阻率變高，抗靜電性能較差之情況。具體而言，上述導通微粒子之平均粒徑相對於硬塗層之厚度，較佳為0.8~1.5倍。若未達0.8倍，則有本發明之光學積層體之抗靜電性能變得不充分之情況，若超過1.5倍，則有上述導通微粒子自硬塗層脫落之情況。
作為上述導通微粒子之含量，相對於上述硬塗層中之樹脂 成分100質量份，較佳為0.5~2.0質量份。若未達0.5質量份，則有本發明之光學積層體之抗靜電性能變得不充分之情況，若超過2.0質量份，則有產生所形成之硬塗層變得渾濁(濁度變高)，光學特性較差之類的問題之情況，又，有硬塗層用組成物之黏度變高，塗覆性降低而表面產生不均或條紋之虞，進而有硬塗層之硬塗性能較差之情況。上述導通微粒子之含量的更佳之上限為1.5質量份。
上述紫外線吸收劑係發揮確保本發明之光學積層體之耐光 性之作用的材料。即，藉由含有上述紫外線吸收劑，本發明之光學積層體即便於耐久性試驗後亦可抑制表面電阻率之變化。
即，上述硬塗層中之紫外線吸收劑將上述耐久性試驗時所照射之紫外線吸收，藉此可抑制構成上述抗靜電層之樹脂成分之由紫外線引起的分解等劣化反應，從而維持抗靜電層中所含之導電性微粒子間之距離，其結果為，本發明之光學積層體之耐久性提高。再者，為了發揮此種效果，上述紫外線吸收劑係含有在可保護上述硬塗層之抗靜電層之位置。
作為上述紫外線吸收劑，並無特別限定，可使用有機系或 無機系之紫外線吸收劑。其中，可適宜地使用透明性優異之有機系紫外線吸收劑。
作為此種紫外線吸收劑，例如可列舉：2-(2'-羥基-3',5'-二第三丁基苯基)-5-氯苯并三唑、2-(2'-羥基-3'-第三丁基-5'-甲基苯基)-5-氯苯并三唑、2-(2'-羥基-3'-第三戊基-5'-甲基苯基)-5-氯苯并三唑、2-(2'-羥基-3'-異丁基-5'-甲基苯基)-5-氯苯并三唑、2-(2'-羥基-3'-異丁基-5'-丙基苯基)-5-氯苯并三唑等2'-羥基苯基-5-氯苯并三唑系紫外線吸收劑類，2-(2'-羥基-3',5'-二第三丁基苯基)苯并三唑、2-(2'-羥基-5'-甲基苯基)苯并三唑等2'-羥基苯基苯并三唑系紫外線吸收劑類等苯并三唑系紫外線吸收劑；2,2'-二羥基-4-甲氧基二苯甲酮、2,2'-二羥基-4,4'-二甲氧基二苯甲酮、2,2'-二羥基-4,4'-四羥基二苯甲酮等2,2'-二羥基二苯甲酮系紫外線吸收劑類，2-羥基-4-甲氧基二苯甲酮、2,4-二羥基二苯甲酮等2-羥基二苯甲酮系紫外線吸收劑類等二 苯甲酮系紫外線吸收劑；水楊酸苯酯、水楊酸4-第三丁基苯酯等水楊酸酯系紫外線吸收劑。其中，較佳為羥基苯基三口井系紫外線吸收劑。
此外，亦可使用在苯并三唑骨架上導入有丙烯醯基或甲基丙烯醯基之反應型紫外線吸收劑等。或者，於不要求較高之透明度之情形時，亦可添加無機系紫外線吸收劑。作為無機系紫外線吸收劑，可使用粒徑0.2μm以下之氧化鈦、氧化鈰、氧化鐵等。
上述紫外線吸收劑之紫外線透過率以380 nm之透過率計較 佳為2~40%。若未達2%，則有上述硬塗層之硬化性變得不充分，硬塗性能較差之情況，若超過40%，則有本發明之光學積層體之耐光性之隨時間經過之變化增大之情況，又，有本發明之光學積層體中之各層之密合性較差之情況。再者，上述紫外線透過率係使用含有透光性基材、抗靜電層及硬塗層之本發明之光學積層體，利用分光器測定波長380 nm之紫外線之透過率所得的值。
又，作為上述紫外線吸收劑之含量，可根據所使用之紫外 線吸收劑之紫外線吸收能力，以成為上述紫外線透過率之範圍之方式適當決定，例如於使用羥基苯基三口井作為上述紫外線吸收劑之情形時，較佳為於上述硬塗層中為3~15質量%。
上述硬塗層用組成物亦可含有熱硬化性樹脂作為上述樹脂 成分。作為上述熱硬化性樹脂，例如可列舉：酚樹脂、脲樹脂、鄰苯二甲酸二烯丙酯樹脂、三聚氰胺樹脂、胍胺樹脂、不飽和聚酯樹脂、環氧樹脂、胺基醇酸樹脂、三聚氰胺-脲共縮合樹脂、矽樹脂、聚矽氧烷樹脂等。
上述硬塗層用組成物較佳為進而含有光聚合起始劑。
作為上述光聚合起始劑，只要為公知者，則並無特別限定，例如可列舉：苯乙酮類(例如商品名Irgacure 184之BASF公司製造之1-羥基環己基苯基酮、商品名Irgacure 907之BASF公司製造之2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-嗎啉基丙烷-1-酮)、二苯甲酮類、9-氧硫類、安息香、安息香甲醚、芳香族重氮鎓鹽、芳香族鋶鹽、芳香族錪鹽、二茂金屬化合物、安息香磺酸酯等。其中，較佳為苯乙酮類。
上述光聚合起始劑之含量相對於硬塗層用組成物中之單體 成分100質量份，較佳為1~7質量份。若未達1質量份，則有光聚合起始劑之量不足，而導致硬化不足之虞。若超過7質量份，則有如下擔憂：光聚合起始劑變得過量，產生由過量引起之光聚合反應之差異，反而引起硬度不足，產生由溶解殘餘引起之缺點。
上述光聚合起始劑之含量相對於上述單體成分100質量份，更佳為2~5質量份。
上述硬塗層用組成物除上述成分以外，亦可視需要進而含 有其他成分。
作為上述其他成分，可列舉：熱聚合起始劑、光穩定化劑、交聯劑、硬化劑、聚合促進劑、黏度調整劑、抗氧化劑、防污劑、滑澤劑、折射率調整劑、分散劑、擴散劑、賦型劑及防眩劑等。該等可使用公知者。
上述硬塗層用組成物之總固形物成分較佳為20~45%。若 低於20%，則有殘留溶劑殘存或產生白化之虞。若超過45%，則有硬塗層用組成物之黏度變高，塗覆性降低而表面產生不均或條紋之虞。上述固形物成分更佳為20~30%。
上述硬塗層用組成物可將上述導通微粒子、單體成分、樹 脂成分及紫外線吸收劑、以及光聚合起始劑等其他成分混合分散於溶劑中而製備。
上述混合分散可使用塗料振盪器、珠磨機、捏合機等公知之裝置而進行。
作為上述溶劑，可列舉：醇(例如甲醇、乙醇、丙醇、異 丙醇、正丁醇、第二丁醇、第三丁醇、苄醇、PGME、乙二醇)、酮(例如丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環戊酮、環己酮、庚酮、二異丁基酮、二乙基酮)、脂肪族烴(例如己烷、環己烷)、鹵化烴(例如二氯甲烷、氯仿、四氯化碳)、芳香族烴(例如苯、甲苯、二甲苯)、醯胺(例如二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺、N-甲基吡咯啶酮)、醚(例如二乙醚、二烷、四氫呋喃)、醚醇(例如1-甲氧基-2-丙醇)等。其中，就對抗靜電層之影響較小，對單體、熱塑性樹脂之溶解性較高之方面而言，較佳為甲基異丁基酮。又，雖然原因尚不明確，但就於硬塗層表面不易產生不均等塗覆不良之方面而言，較佳為含有異丙醇。
將上述硬塗層用組成物塗佈於上述抗靜電層上而形成塗 膜，視需要進行乾燥之後，使上述塗膜硬化，藉此可形成硬塗層。
作為塗佈上述硬塗層用組成物而形成塗膜之方法，例如可 列舉：狹縫式反向塗佈法、旋轉塗佈法、浸漬法、噴霧法、模具塗佈法、棒式塗佈法、輥式塗佈法、液面彎曲式塗佈法、軟版印刷法、網版印刷法、液滴塗佈法等公知之各種方法。
又，塗佈量較佳為3~15 g/m2。若未達3 g/m2，則有無法 獲得所欲硬度之硬塗層之虞。若超過15 g/m2，則有捲曲或損傷之防止變得不充分之虞。上述塗佈量更佳為4~10 g/m2。
作為上述乾燥之方法，並無特別限定，通常可以乾燥溫度 30~100℃、乾燥時間3~120秒來進行。若上述乾燥溫度未達30℃，則有本發明之光學積層體之製造需要長時間，且製造成本升高之情況。另一方面，若上述乾燥溫度超過100℃，則有透光性基材之平面性或硬塗層表面之均勻性劣化之問題。上述乾燥溫度的更佳之上限為70℃。
又，若上述乾燥時間未達3秒，則有所形成之硬塗層與抗靜電層之密合性較差之情況。另一方面，若上述乾燥時間超過120秒，則有上述塗膜之乾燥需要長時間，而使製造成本升高之情況。
作為使上述塗膜硬化之方法，只要根據上述硬塗層用組成 物之內容等適宜選擇公知方法即可，例如可列舉藉由對上述塗膜照射紫外線而使之硬化之方法。
於照射上述紫外線之情形時，紫外線照射量較佳為30 mJ/cm2以上，更佳為50 mJ/cm2以上，進而較佳為80 mJ/cm2以上。
上述硬塗層之層厚度較佳為3~15μm。
若上述膜厚未達3μm，則有上述硬塗層之硬度變得不充分之虞。另一方面，若上述膜厚超過15μm，則有上述硬塗層殘存有殘留溶劑，或上述塗膜之密合性降低，或者捲曲或損傷之防止變得不充分之虞。上述硬塗層之層厚度更佳為3~10μm。
上述層厚度係藉由利用電子顯微鏡(SEM、TEM、STEM)對硬塗層之剖面進行觀察而測得的值。
上述硬塗層之硬度於依據JIS K5600-5-4(1999)之鉛筆 硬度試驗(荷重4.9 N)中，較佳為2B以上，更佳為B以上。
本發明之光學積層體之總透光率較佳為85%以上。若未達 85%，則於安裝於顯示器表面之情形時，有使顏色再現性或視認性受損之虞，此外，亦有無法獲得所需對比度之虞。上述總透光率更佳為88%以上。
上述總透光率可使用霧度計(村上色彩技術研究所公司製造，製品編號：HM-150)並藉由依據JIS K-7361之方法而測定。
又，本發明之光學積層體之霧度較佳為2%以下。若超過 2%，則無法獲得所需之光學特性，將本發明之光學積層體設置於影像顯示表面時之視認性降低。
上述霧度可使用霧度計(村上色彩技術研究所公司製造，製品編號：HM-150)並藉由依據JIS K-7136之方法而測定。
又，本發明之光學積層體於無損本發明之效果之範圍內，可視需要適宜形成1層或2層以上之其他層(防眩層、其他抗靜電層、低折射率層、防污層、接著劑層、其他硬塗層等)。其中，較佳為具有防眩層、低折射率層及防污層中之至少一層。該等層亦可採用與公知之抗反射用積層體相同者。
本發明之光學積層體可用於影像顯示裝置，使用此種本發明之光學積層體所形成之影像顯示裝置亦為本發明之一。
作為上述影像顯示裝置，例如可列舉：LCD、PDP、FED、ELD(有機EL、無機EL)、CRT、觸控面板、電子紙等。
上述LCD係具備透過性顯示體與自背面照射該透過性顯示 體之光源裝置而成者。於本發明之影像顯示裝置為LCD之情形時，係於該透過性顯示體之表面形成本發明之光學積層體而成者。
於本發明為具有上述光學積層體之液晶顯示裝置之情形 時，光源裝置之光源係自光學積層體之下側(基材側)照射。再者，於STN型液晶顯示裝置中，可於液晶顯示元件與偏光板之間插入相位差板。於該液晶顯示裝置之各層間，可視需要設置接著劑層。
上述PDP係具備表面玻璃基板及與該表面玻璃基板對向且 於其間封入放電氣體而配置之背面玻璃基板而成者。於本發明之影像顯示裝置為PDP之情形時，亦為於上述表面玻璃基板之表面或其前面板(玻璃基板或膜基板)具備上述光學積層體者。
其他影像顯示裝置亦可為將若施加電壓則發光之硫化鋅、 二胺類物質等發光體蒸鍍於玻璃基板，控制對基板所施加之電壓而進行顯示的ELD裝置，或者將電氣訊號轉換為光而產生人眼可觀察到之影像的CRT等影像顯示裝置。於該情形時，係於如上所述之各顯示裝置之最表面或其前面板之表面具備上述光學積層體者。
本發明之光學積層體於任一情形時，均可用於電視、電腦 等之顯示器顯示。可尤佳地用於液晶面板、PDP、ELD、觸控面板、電子紙等高精細影像用顯示器之表面。
本發明之光學積層體之抗靜電層係使用含有導電性微粒 子、樹脂成分、及溶劑之抗靜電層用組成物而形成者。因此，成為耐久性試驗後之表面電阻率之穩定性優異者。又，藉由使上述抗靜電層上具有使用含有導通微粒子、單體成分、與抗靜電層相同種類之樹脂成分及紫外線 吸收劑之組成物而成之硬塗層，可對本發明之光學積層體賦予硬塗性能，並且成為所構成之各層間之密合性優異、耐久性試驗前後之表面電阻率之變化較小者。
因此，本發明之光學積層體可適宜地用於陰極射線管顯示裝置(CRT)、液晶顯示器(LCD)、電漿顯示器(PDP)、電致發光顯示器(ELD)、觸控面板、電子紙等顯示器，尤其是高精細化顯示器。
以下，列舉實施例及比較例，對本發明進行更詳細說明，但本發明並不僅限定於該等實施例及比較例。
再者，文中之「份」或「%」只要無特別說明，則為質量基準。
(實施例1)
(抗靜電層之形成)
將HRAG Acryl(25)MIBK(熱塑性樹脂，聚甲基丙烯酸甲酯樹脂，固形物成分25%，MIBK溶液，重量平均分子量7萬，玻璃轉移溫度100℃：DNP Fine Chemical公司製造)溶解於丙二醇單甲醚中，添加V3560(ATO分散液：平均粒徑8μm，日揮觸媒化成公司製造)並進行攪拌，以最終固形物成分成為8%，熱塑性樹脂：ATO之比率成為100：200(質量比)之方式進行調整，而獲得抗靜電層用組成物。
藉由狹縫式反向塗佈將該抗靜電層用組成物塗佈於透光性基材(PET基材，三菱樹脂公司製造：T600E25N)，以乾燥塗佈厚度成為0.3 μm之方 式進行塗佈而形成塗膜。將所獲得之塗膜於70℃下乾燥1分鐘而形成抗靜電層。
(硬塗層之形成)
將Irgacure 184(光聚合起始劑，BASF Japan公司製造)4質量份添加至甲基異丁基酮(MIBK)/異丙醇(IPA)之混合溶劑中，並進行攪拌而使之溶解，製備最終固形物成分為25質量%之溶液。於該溶液中，以按照樹脂成分之質量比率計成為70：30之方式添加作為樹脂成分的新戊四醇三丙烯酸酯(PETA)與HRAG Acryl(25)MIBK(熱塑性樹脂：DNP Fine Chemical公司製造)，以相對於樹脂成分100質量份成為0.2質量份之方式添加作為調平劑的10-301(TL)(大日精化工業公司製造)並進行攪拌。於該溶液中，相對於作為最終組成物之硬塗層用組成物12 kg添加Bright分散液(導電性微粒子分散液，DNP Fine Chemical公司製造，平均粒徑4.6μm，固形物成分25%)100 g並進行攪拌，最後以相對於樹脂100質量份成為6質量份之方式添加紫外線吸收劑(TINUVI477：BASF Japan公司製造)並進行攪拌，而獲得總固形物成分25%之硬塗層用組成物。
藉由狹縫式反向塗佈將該硬塗層用組成物以乾燥塗佈量成為6 g/m2之方式塗佈於之前形成之抗靜電層上而形成塗膜。將所獲得之塗膜於70℃下乾燥1分鐘之後，以紫外線照射量80mJ/cm2照射紫外線而使塗膜硬化，形成厚度5μm之硬塗層而獲得光學積層體。
(實施例2)
將硬塗層用組成物中之紫外線吸收劑之摻合量設定為3質量份，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得光學積層體。
(實施例3)
將硬塗層用組成物中之紫外線吸收劑之摻合量設定為10質量份，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得光學積層體。
(實施例4)
將硬塗層用組成物中之紫外線吸收劑之摻合量設定為15質量份，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得光學積層體。
(實施例5)
使用重量平均分子量5萬、玻璃轉移溫度100℃之熱塑性樹脂代替HRAG Acryl(25)MIBK(熱塑性樹脂，重量平均分子量7萬，玻璃轉移溫度100℃：DNP Fine Chemical公司製造)，除此以外，以與實施例1相同之方式形成抗靜電層。其後，以與實施例1相同之方式形成硬塗層而獲得光學積層體。
(實施例6)
使用重量平均分子量10萬、玻璃轉移溫度100℃之熱塑性樹脂代替HRAG Acryl(25)MIBK(熱塑性樹脂，重量平均分子量7萬，玻璃轉移溫度100℃：DNP Fine Chemical公司製造)，除此以外，以與實施例1相同之方式形成抗靜電層。其後，以與實施例1相同之方式形成硬塗層而獲得光學積層體。
(實施例7)
使用重量平均分子量7萬、玻璃轉移溫度80℃之熱塑性樹脂代替HRAG Acryl(25)MIBK(熱塑性樹脂，重量平均分子量7萬，玻璃轉移溫度100℃：DNP Fine Chemical公司製造)，除此以外，以與實施例1相同之方式形 成抗靜電層。其後，以與實施例1相同之方式形成硬塗層而獲得光學積層體。
(實施例8)
使用重量平均分子量7萬、玻璃轉移溫度110℃之熱塑性樹脂代替HRAG Acryl(25)MIBK(熱塑性樹脂，重量平均分子量7萬，玻璃轉移溫度100℃：DNP Fine Chemical公司製造)，除此以外，以與實施例1相同之方式形成抗靜電層。其後，將總固形物成分設定為26%，除此以外，以與實施例1相同之方式形成硬塗層而獲得光學積層體。
(實施例9)
以熱塑性樹脂：ATO之比率成為100：150(質量比)之方式進行調整，除此以外，以與實施例1相同之方式形成抗靜電層。其後，將總固形物成分設定為26%，除此以外，以與實施例1相同之方式形成硬塗層而獲得光學積層體。
(實施例10)
以熱塑性樹脂：ATO之比率成為100：250(質量比)之方式進行調整，除此以外，以與實施例1相同之方式形成抗靜電層。其後，將總固形物成分設定為26%，除此以外，以與實施例1相同之方式形成硬塗層而獲得光學積層體。
(實施例11)
將厚度設定為0.2μm，除此以外，以與實施例1相同之方式形成抗靜電層，其後，以與實施例1相同之方式形成硬塗層而獲得光學積層體。
(實施例12)
將厚度設定為0.5 μm，除此以外，以與實施例1相同之方式形成抗靜電層，其後，以與實施例1相同之方式形成硬塗層而獲得光學積層體。
(實施例13)
以與實施例1相同之方式形成抗靜電層，其後，將厚度設定為4μm，除此以外，以與實施例1相同之方式形成硬塗層而獲得光學積層體。
(實施例14)
以與實施例1相同之方式形成抗靜電層，其後，將厚度設定為7μm，除此以外，以與實施例1相同之方式形成硬塗層而獲得光學積層體。
(比較例1)
將Irgacure 184(光聚合起始劑，BASF Japan公司製造)4質量份添加至丙二醇單甲醚(PGME)中，並進行攪拌而使之溶解，製備最終固形物成分為25質量%之溶液。於該溶液中添加作為樹脂成分的新戊四醇三丙烯酸酯(PETA)並進行攪拌。於該溶液中，以硬化後之PETA：ATO成為100：200之方式添加ATO並進行攪拌，而獲得總固形物成分25%之抗靜電層用組成物。
藉由狹縫式反向塗佈將該抗靜電層用組成物以乾燥塗佈厚度成為0.3μm之方式塗佈於透光性基材(PET基材，三菱樹脂公司製造：T600E25N)。將所獲得之塗膜於70℃下乾燥1分鐘之後，以紫外線照射量80 mJ/cm2照射紫外線而使塗膜硬化，形成抗靜電層。
其後，以與實施例1相同之方式形成硬塗層而獲得光學積層體。
(比較例2)
使用二新戊四醇六丙烯酸酯(DPHA)代替PETA，除此以外，以與比 較例1相同之方式形成抗靜電層。其後，以與實施例1相同之方式形成硬塗層而獲得光學積層體。
(比較例3)
使用1,6-己二醇(HDDA)代替PETA，除此以外，以與比較例1相同之方式形成抗靜電層。其後，以與實施例1相同之方式形成硬塗層而獲得光學積層體。
(比較例4)
使用丙烯酸胺酯(BS577，荒川化學公司製造)代替HRAG Acryl(25)MIBK(熱塑性樹脂，重量平均分子量7萬，玻璃轉移溫度100℃：DNP Fine Chemical公司製造)，除此以外，以與實施例1相同之方式形成抗靜電層。其後，以與實施例1相同之方式形成硬塗層而獲得光學積層體。
(比較例5)
使用以樹脂比率1：1(質量比)混合HRAG Acryl(25)MIBK與PETA而成之樹脂代替PETA，除此以外，以與比較例1相同之方式形成抗靜電層。其後，以與實施例1相同之方式形成硬塗層而獲得光學積層體。
(參考例1)
以與實施例1相同之方式形成抗靜電層。其後，不添加紫外線吸收劑，除此以外，以與實施例1相同之方式形成硬塗層而獲得光學積層體。
(參考例2)
以與實施例1相同之方式形成抗靜電層。其後，將紫外線吸收劑之摻合量設定為16質量份，除此以外，以與實施例1相同之方式形成硬塗層而獲得光學積層體。
(參考例3)
使用重量平均分子量1萬、玻璃轉移溫度110℃之熱塑性樹脂代替HRAG Acryl(25)MIBK(熱塑性樹脂，重量平均分子量7萬，玻璃轉移溫度100℃：DNP Fine Chemical公司製造)，除此以外，以與實施例1相同之方式形成抗靜電層。其後，以與實施例1相同之方式形成硬塗層而獲得光學積層體。
(參考例4)
使用重量平均分子量7萬、玻璃轉移溫度70℃之熱塑性樹脂代替HRAG Acryl(25)MIBK(熱塑性樹脂，重量平均分子量7萬，玻璃轉移溫度100℃：DNP Fine Chemical公司製造)，除此以外，以與實施例1相同之方式形成抗靜電層。其後，以與實施例1相同之方式形成硬塗層而獲得光學積層體。
(參考例5)
以熱塑性樹脂：ATO之比率成為100：50(質量比)之方式進行調整，除此以外，以與實施例1相同之方式形成抗靜電層。其後，將總固形物成分設定為26%，除此以外，以與實施例1相同之方式形成硬塗層而獲得光學積層體。
(參考例6)
以熱塑性樹脂：ATO之比率成為100：350(質量比)之方式進行調整，除此以外，以與實施例1相同之方式形成抗靜電層。其後，將總固形物成分設定為26%，除此以外，以與實施例1相同之方式形成硬塗層而獲得光學積層體。
(參考例7)
將厚度設定為0.09μm，除此以外，以與實施例1相同之方式形成抗靜電層，其後，以與實施例1相同之方式形成硬塗層而獲得光學積層體。
(參考例8)
將厚度設定為1.2μm，除此以外，以與實施例1相同之方式形成抗靜電層，其後，以與實施例1相同之方式形成硬塗層而獲得光學積層體。
(參考例9)
以與實施例1相同之方式形成抗靜電層，其後，將厚度設定為2μm，除此以外，以與實施例1相同之方式形成硬塗層而獲得光學積層體。
(參考例10)
以與實施例1相同之方式形成抗靜電層，其後，將厚度設定為12μm，除此以外，以與實施例1相同之方式形成硬塗層而獲得光學積層體。
針對實施例、比較例及參考例中所獲得之光學積層體進行以下評價。各評價分別於剛製造光學積層體後(初期性能)、耐久性試驗(1)(於80℃環境下保持500小時)後、及耐久性試驗(2)(照射氙弧燈300小時)後進行。再者，針對耐久性試驗(1)及(2)後之光學積層體之電阻值，算出相對於剛製造後(初期性能)之變化率(試驗後之表面電阻率)/(試驗前之表面電阻率)。將實施例之結果示於表1，將比較例及參考例之結果示於表2。
(透過率、霧度)
使用霧度計(村上色彩技術研究所公司製造，製品編號：HM-150)，藉由依據JIS K-7361(總透光率)之方法測定各光學積層體之透過率(總 透光率)及霧度。
(電阻值)
使用Hiresta UP MCP-HT450(三菱化學公司製造：R探針，施加電壓500 V)測定各光學積層體之表面電阻率(單位Ω/□)。
(密合性)
對各光學積層體進行方格試驗(cross cut test)，以下述基準對將膠帶剝離後殘存於基材上之切割份數相對於原切割份數(100)的比進行評價。
○：90/100~100/100
△：50/100~89/100
×：0/100~49/100
(鉛筆硬度)
於溫度25℃、相對濕度60%之條件下對各光學積層體進行2小時濕度控制之後，使用JIS S-6006中所規定之試驗用鉛筆(硬度2B~3H)，依據JIS K5600-5-4(1999)中所規定之鉛筆硬度評價方法，於4.9 N之荷重下，測定形成有硬塗層之表面之鉛筆硬度。
如表1所示，實施例之光學積層體於耐久性試驗之前後表面電阻率之變化率較小，抗靜電性能之穩定性極高。又，霧度、總透光率、密合性及鉛筆硬度之各評價亦優異。
相對於此，如表2所示，比較例之光學積層體於耐久性試驗(2)之前後表面電阻率之變化率較大，抗靜電性能之穩定性較差。
又，抗靜電層中之導電性微粒子之摻合量較少的參考例5之光學積層體、抗靜電層之厚度過厚的參考例7之光學積層體、及硬塗層之厚度過厚的參考例10之光學積層體之表面電阻率過高而抗靜電性不充分。又，其他參考例之光學積層體於耐久性試驗之前後表面電阻率之變化率較小，抗靜電性能之穩定性極高，但並非為霧度、總透光率、密合性及鉛筆硬度之各評價均優異者。
[產業上之可利用性]
本發明之光學積層體可適宜地用於陰極射線管顯示裝置(CRT)、液晶顯示器(LCD)、電漿顯示器(PDP)、電致發光顯示器(ELD)、觸控面板、電子紙等顯示器，尤其是高精細化顯示器。

Claims (12)

  1. 一種光學積層體，其係於透光性基材之一面上具有抗靜電層者，其特徵在於：該抗靜電層係使用含有導電性微粒子、樹脂成分、及溶劑之抗靜電層用組成物而形成者，該樹脂成分於分子中不具有反應性官能基，且具有對該溶劑之溶解性和對該導電性微粒子之相溶性。
  2. 如申請專利範圍第1項之光學積層體，其中，導電性微粒子為鏈狀或針狀。
  3. 如申請專利範圍第1或2項之光學積層體，其中，於80℃環境保持500小時的耐久性試驗(1)及照射氙弧燈(xenon arc)300小時的耐久性試驗(2)前後之表面電阻率之變化率{(試驗後之表面電阻率)/(試驗前之表面電阻率)}均為0.5~2.0。
  4. 如申請專利範圍第1、2或3項之光學積層體，其中，樹脂成分之重量平均分子量為2萬~20萬，玻璃轉移溫度為80~120℃。
  5. 如申請專利範圍第1、2、3或4項之光學積層體，其中，樹脂成分為選自由丙烯酸系樹脂、纖維素系樹脂、胺酯(urethane)系樹脂、氯乙烯系樹脂、聚酯系樹脂、聚烯烴系樹脂、聚碳酸酯、尼龍、聚苯乙烯及ABS樹脂組成之群中的至少1種。
  6. 如申請專利範圍第1、2、3、4或5項之光學積層體，其中，導電性微粒子為錫銻氧化物(ATO)，樹脂成分為聚甲基丙烯酸甲酯，溶劑為丙二醇單甲醚。
  7. 如申請專利範圍第1、2、3、4、5或6項之光學積層體，其中，於抗靜電層之與透光性基材相反之側的面上具有硬塗層。
  8. 如申請專利範圍第7項之光學積層體，其中，硬塗層含有與抗靜電層所含之樹脂成分相同種類的樹脂成分。
  9. 如申請專利範圍第7或8項之光學積層體，其中，硬塗層含有導通微粒子。
  10. 如申請專利範圍第7、8或9項之光學積層體，其中，硬塗層含有紫外線吸收劑。
  11. 如申請專利範圍第10項之光學積層體，其中，紫外線吸收劑之含量為3~15質量%。
  12. 一種影像顯示裝置，具備申請專利範圍第1、2、3、4、5、6、7、8、9、10或11項之光學積層體。
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