TW201338913A - 研磨終點檢測裝置之遙控監視系統 - Google Patents

研磨終點檢測裝置之遙控監視系統 Download PDF

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TW201338913A TW102106503A TW102106503A TW201338913A TW 201338913 A TW201338913 A TW 201338913A TW 102106503 A TW102106503 A TW 102106503A TW 102106503 A TW102106503 A TW 102106503A TW 201338913 A TW201338913 A TW 201338913A
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Ryuichiro Mitani
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Abstract

本發明之目的在提供一種遙控監視複數個研磨終點檢測裝置,而且可進行遙控操作的遙控監視系統。本遙控監視系統係具備:複數個研磨終點檢測裝置10;及經由網路1連接於複數個研磨終點檢測裝置10的主電腦20。主電腦20係具有用以保存自複數個研磨終點檢測裝置10所傳來的研磨終點檢測資料的記憶體、及用以顯示研磨終點檢測資料的顯示畫面;主電腦20係用以將新的研磨終點檢測程序設定傳送至從複數個研磨終點檢測裝置10所選擇之至少1個研磨終點檢測裝置,且將該所選擇之至少1個研磨終點檢測裝置的研磨終點檢測程序設定予以重寫。

Description

研磨終點檢測裝置之遙控監視系統
本發明係關於一種研磨終點檢測裝置之遙控監視系統,尤有關於搭載在用以研磨晶圓(wafer)等之基板之研磨裝置之研磨終點檢測裝置的遙控監視系統。
半導體元件(device)的製造,係使用由CMP(Chemical Mechanical Polishing,化學機械研磨)裝置為代表的研磨裝置。半導體元件的配線構造係藉由在形成有沿著配線圖案(pattern)之溝的絕緣膜上形成金屬膜(銅膜等),之後再以研磨裝置將不需要的金屬膜予以去除而形成。研磨裝置係一面供給研磨液(slurry)至研磨工作台(table)上的研磨墊(pad),一面使基板與研磨墊相對移動,藉此來研磨基板的表面。
研磨裝置係具備偵測基板研磨終點的研磨終點檢測裝置。此研磨終點檢測裝置係根據顯示膜厚的研磨指標值(例如工作台轉矩(table torque)電流、渦電流式膜厚感測器(sensor)的輸出信號、光學式膜厚感測器的輸出信號)來監視基板的研磨,而將去除了金屬膜的時點決定為研 磨終點。
在半導體元件的製造工廠中,設置有許多(例如數十台)的研磨裝置。在此等研磨裝置中,係設有至少1台研磨終點檢測裝置,而此等研磨終點檢測裝置係經由網路(network)連接於操作中心(operation center)。當在某個研磨終點檢測裝置產生研磨終點的檢測錯誤時,錯誤信號即被傳送至操作中心。作業員藉由確認該錯誤信號,可得知在研磨終點檢測裝置已產生檢測錯誤。當檢測錯誤產生時,作業員即移動至該研磨終點檢測裝置,調查研磨終點檢測裝置的狀況,然後,視需要變更研磨終點檢測程序設定(recipe)(用以檢測研磨終點的各種設定)。
然而,研磨裝置通常係設定在無塵室(clean room)內,作業員從操作中心移動至無塵室要花費某些時間。而且,為了進入至無塵室,作業員需要更換為專用的作業服。當在複數個研磨終點檢測裝置中產生檢測錯誤的情形下,作業員需要對該所有的研磨終點檢測裝置進行存取,並進行用以解除檢測錯誤的作業。在變更所有研磨終點檢測裝置之研磨終點檢測程序設定時,也同樣地要對所有裝置進行存取,來進行變更程序設定的作業。由於此等情形,乃要求在1個位置集中監視多個研磨終點檢測裝置,而且進行操作。
本發明為解決上述之習知問題所研創,其 目的在提供一種遙控監視複數個研磨終點檢測裝置,而且可進行遙控操作的遙控監視系統。
為了達成上述目的,本發明之一態樣係一種研磨終點檢測裝置之遙控監視系統,係具備:複數個研磨終點檢測裝置,用以檢測基板的研磨終點;及主電腦(host computer),經由網路連接於前述複數個研磨終點檢測裝置;前述主電腦係具有用以保存自前述複數個研磨終點檢測裝置所傳來的研磨終點檢測資料的記憶體(memory)、及用以顯示前述研磨終點檢測資料的顯示畫面;前述主電腦係構成為將新的研磨終點檢測程序設定傳送至從前述複數個研磨終點檢測裝置所選擇之至少1個研磨終點檢測裝置,且將該所選擇之至少1個研磨終點檢測裝置的研磨終點檢測程序設定予以重寫。
本發明之較佳態樣為前述主電腦係將警報(alarm)顯示於前述顯示畫面,以可特別指定產生了研磨終點檢測錯誤的研磨終點檢測裝置。
本發明之較佳態樣為前述主電腦係具備用以作成及變更前述研磨終點檢測程序設定的研磨終點檢測程序設定管理工具(tool)。
本發明之較佳態樣為前述複數個研磨終點檢測裝置之各者,係具備有前述研磨終點檢測程序設定管理工具。
本發明之較佳態樣為在前述研磨終點檢測 資料中係包含有顯示前述基板之膜厚的研磨指標值;前述主電腦係構成為使用預先設定的重播程序設定(replay recipe)與前述研磨指標值,執行基板之研磨終點檢測的模擬。
本發明之較佳態樣為前述複數個研磨終點檢測裝置的各者,係構成為將新的研磨終點檢測程序設定傳送至從前述複數個研磨終點檢測裝置所選擇之至少1個研磨終點檢測裝置,且將該所選擇之至少1個研磨終點檢測裝置的研磨終點檢測程序設定予以重寫。
本發明之較佳態樣為前述複數個研磨終點檢測裝置的各者係具有用以顯示終點檢測視窗(window)的顯示畫面,該終點檢測視窗係用以顯示前述研磨終點檢測資料。
本發明之較佳態樣為前述主電腦係構成為可顯示與顯示在各研磨終點檢測裝置之前述終點檢測視窗相同的終點檢測視窗。
本發明之較佳態樣為前述主電腦係可變更顯示在其顯示畫面之前述終點檢測視窗的構成。
本發明之較佳態樣為前述複數個研磨終點檢測裝置的各者係構成為可將與顯示在其他研磨終點檢測裝置之前述終點檢測視窗相同的終點檢測視窗顯示於自身的顯示畫面。
本發明之較佳態樣為前述複數個研磨終點檢測裝置的各者,係可變更顯示在其顯示畫面之其他研磨 終點檢測裝置之前述終點檢測視窗的構成。
本發明之較佳態樣為前述主電腦係可遙控操作前述複數個研磨終點檢測裝置的各者。
本發明之較佳態樣為前述複數個研磨終點檢測裝置的各者係可遙控操作其他研磨終點檢測裝置。
依據本發明,作業員在不須移動至產生了研磨終點之檢測錯誤的研磨終點檢測裝置,就可從設置在操作中心等之主電腦調查研磨終點之檢測錯誤的原因,進而修正檢測程序設定,藉此而解除檢測錯誤。
1‧‧‧網路
2‧‧‧CR網路
3‧‧‧OC網路
4‧‧‧網際網路
10‧‧‧研磨終點檢測裝置
11‧‧‧顯示畫面
20‧‧‧主電腦
21‧‧‧顯示畫面
22‧‧‧記憶體
30‧‧‧研磨工作台
30a‧‧‧工作台軸
32‧‧‧研磨墊
32a‧‧‧研磨面
34‧‧‧頂環軸
35‧‧‧頂環
38‧‧‧研磨液供給機構
40‧‧‧工作台旋轉馬達
41‧‧‧頂環旋轉馬達
45‧‧‧工作台馬達電流檢測部
50‧‧‧曲線圖視窗
51‧‧‧實效值曲線圖
52‧‧‧微分值曲線圖
53‧‧‧狀態區域
60‧‧‧研磨終點檢測程序設定管理工具
71‧‧‧實效值曲線圖
72‧‧‧微分值曲線圖
73‧‧‧重播程序設定區域
74‧‧‧結果顯示區域
W‧‧‧基板
第1圖係為顯示本發明之一實施形態之研磨終點檢測裝置之遙控監視系統的示意圖。
第2圖係為顯示研磨裝置(CMP裝置)的示意圖。
第3圖係為顯示顯示在主電腦之顯示畫面之監視視窗的圖。
第4圖係為顯示顯示在研磨終點檢測裝置之顯示畫面之終點檢測視窗的圖。
第5圖係為顯示曲線圖視窗的圖。
第6圖係為顯示研磨終點檢測程序設定管理工具的圖。
第7圖係為顯示顯示在研磨終點檢測程序設定管理工具的樹狀構造圖。
第8圖係為顯示重播視窗的圖。
以下參照圖式來說明本發明的實施形態。
第1圖係為顯示本發明之一實施形態之研磨終點檢測裝置的遙控監視系統示意圖。如第1圖所示,此遙控監視系統係具備分別備置於複數個研磨裝置的複數個研磨終點檢測裝置10、及經由網路1連接於該等研磨終點檢測裝置10的主電腦20。主電腦20及所有研磨終點檢測裝置10係透過網路(network)1而可彼此存取。
研磨終點檢測裝置10一般係設置於半導體元件製造工廠的無塵室內。在無塵室內,係建構有CR網路2,而各研磨終點檢測裝置10係連接於該CR網路2。主電腦20係設置離開無塵室的操作中心內。在操作中心中,係建構有OC網路3,而主電腦20係連接於該OC網路3。CR網路2與OC網路3係經由網際網路(internet)4來連接。CR網路2與OC網路3雖係為獨立的網路,但亦可將此等構成為相同的網路。
第2圖係為顯示組入有研磨終點檢測裝置10之研磨裝置的示意圖。該研磨裝置係為將基板予以化學機械研磨的CMP裝置。如第2圖所示,研磨裝置係具備研磨工作台30、連結於頂環軸(top ring shaft)34之下端的頂環35、及用以檢測研磨終點的研磨終點檢測裝置10。頂環軸34係經由正時皮帶(timing belt)等的連結手段而連結於頂環旋轉馬達(motor)41而得以旋轉驅動。藉由該頂環軸34 的旋轉,頂環35即可以頂環軸34為中心朝箭頭所示的方向旋轉。待研磨的基板(例如晶圓)W係藉由真空吸附保持於頂環35的下面。
研磨工作台30係經由工作台軸30a而連結於配置在工作台軸30a下方的工作台旋轉馬達40,藉由該工作台旋轉馬達40而使研磨工作台30可以工作台軸30a為中心朝箭頭所示的方向旋轉。在該研磨工作台30的上面係黏附有研磨墊32,而研磨墊32的上面32a為構成研磨基板W的研磨面。在研磨工作台30的上方,係配置有用以供給研磨液(slurry)至研磨面32a的研磨液供給機構38。
基板W的研磨係以下列方式進行。頂環35及研磨工作台30係分別藉由馬達41、40來旋轉,而在研磨墊32的研磨面32a,係自研磨液供給機構38供給有研磨液。在此狀態下,頂環35係用以將基板W對研磨面32a壓緊。基板W係藉由與研磨墊32的滑接所產生的機械性作用與研磨液的化學性作用來研磨。
在工作台旋轉馬達40中,係連接有用以測量馬達電流的工作台馬達電流檢測部45。再者,工作台馬達電流檢測部45係連接於研磨終點檢測裝置10。在基板W研磨中,由於基板W的表面與研磨墊32的研磨面32a滑接,因此在基板W與研磨墊32之間會產生摩擦力。該摩擦力會作為阻力轉矩而作用在工作台旋轉馬達40。研磨終點檢測裝置10係根據由工作台馬達電流檢測部45所測量的馬達電流(轉矩電流)來檢測基板W的研磨終點。
在具有疊層構造的基板中,形成有種類不同的複數個膜。當藉由研磨去除最上層的膜時,底下的膜就出現在表面。通常此等膜具有不同的硬度,因此當去除上層的膜而使下層的膜出現時,基板W與研磨墊32之間的摩擦力就會變化。此摩擦力的變化,係可作為施加於工作台旋轉馬達40的阻力轉矩變化來檢測。研磨終點檢測裝置10係根據供給工作台旋轉馬達40之電流的變化,來檢測膜已被去除,亦即檢測研磨終點。另外,亦可不設置電流檢測部45,而可由研磨終點檢測裝置10來監視從連接於馬達40之馬達驅動器(motor driver)(未圖示)輸出的電流。
第2圖所示的研磨終點檢測裝置10雖構成為根據研磨工作台30的轉矩電流來檢測研磨終點,但本發明不限定於此例。例如,研磨終點檢測裝置10亦可使用檢測基板膜厚的膜厚感測器(例如渦電流感測器或光學式感測器)來檢測基板的研磨終點。使用此種膜厚感測器來檢測基板的研磨終點的構成,可採用公知的構成(請參照例如日本特開2005-203729號公報)。
回到第1圖,研磨終點檢測裝置10係藉由CR網路2彼此連接,而得以共享各研磨終點檢測裝置10所保有的研磨終點檢測資料(包含基板研磨資訊)。各研磨終點檢測裝置10係具有顯示畫面11,而得以在基板研磨中將上述的研磨終點檢測資料予以顯示於顯示畫面11。研磨終點檢測資料係為設置於無塵室內的所有研磨終點檢測 裝置10共享,各研磨終點檢測裝置10不僅可顯示自身的研磨終點檢測資料,還可顯示其他研磨終點檢測裝置10的研磨終點檢測資料。
再者,各研磨終點檢測裝置10的研磨終點檢測資料係經由網路1(由CR網路2、OC網路3、網際網路4所構成)而傳送至主電腦20,而所有研磨終點檢測裝置10的運轉狀況得以藉由主電腦20來監視。主電腦20係具有顯示畫面21,而在基板研磨中得以將與各研磨終點檢測裝置10相同的研磨終點檢測資料予以顯示於顯示畫面21上。自各研磨終點檢測裝置10所獲得的研磨終點檢測資料,係記憶在主電腦20的記憶體22(例如硬碟(harddisk))。
第3圖係為顯示顯示在主電腦20之顯示畫面21之監視視窗的圖。如第3圖所示,在監視視窗中,係顯示有所有研磨終點檢測裝置10(No.1至No.n)的曲線圖視窗(graph window)50。該曲線圖視窗50係用以顯示曲線圖,該曲線圖係顯示藉由各研磨終點檢測裝置10所取得之工作台轉矩電流(為了以設定旋轉速度使研磨工作台30旋轉所需的馬達電流)的時間變化。
當研磨終點檢測裝置10中之任一者產生研磨終點的檢測錯誤時,即在監視視窗顯示警報,以可特別指定在哪一個研磨終點檢測裝置10產生了檢測錯誤。具體而言,係使產生了檢測錯誤的研磨終點檢測裝置10的曲線圖視窗50得以閃爍。因此,作業員即可在主電腦20的顯 示畫面21上,得知已在哪一個研磨終點檢測裝置10產生了檢測錯誤。作為研磨終點之檢測錯誤的具體例,可列舉在某設定時間內未被檢測研磨終點的情形、或在某設定時間之前檢測出研磨終點的情形等。
研磨終點檢測錯誤的警報的方法,不限定於閃爍的例,也可以其他顏色來顯示產生了檢測錯誤之研磨終點檢測裝置10的曲線圖視窗50,或與檢測錯誤產生的訊息共同放大顯示(pop-up)曲線圖視窗50。第3圖所示的監視視窗亦可顯示於各研磨終點檢測裝置10的顯示畫面11。
第4圖係為顯示顯示在研磨終點檢測裝置10之顯示畫面11之終點檢測視窗的圖。該終點檢測視窗係由顯示工作台轉矩電流之時間變化的上述曲線圖視窗50、及顯示用以檢測研磨終點之各種設定項目的研磨終點檢測程序設定管理工具60所構成。
第5圖係為顯示第4圖所示之曲線圖視窗50的圖。如第5圖所示,在曲線圖視窗50中係顯示有用以顯示隨研磨時間變化之工作台轉矩電流的實效值曲線圖51、顯示工作台轉矩電流(實效值)之微分值的微分值曲線圖52、及顯示目前正研磨之基板之資訊的狀態區域(status area)53。在顯示於狀態區域53的項目中,係包含有基板的批量(lot)數、基板的編號等。
第6圖係為顯示第4圖所示之研磨終點檢測程序設定管理工具60的圖。如第6圖所示,研磨終點檢測 程序設定管理工具60的左側區域,係為顯示樹狀構造的區域,而右側區域則為顯示以樹狀構造所選擇之項目之詳細內容的區域。第7圖係為顯示顯示在研磨終點檢測程序設定管理工具60之樹狀構造的圖。樹狀構造的最上階層,係為用以選擇(特別指定)研磨終點檢測裝置10的階層,而底下的階層則係為用以選擇測量程序設定、歷程、重播的階層。
測量程序設定係由規定基板研磨方法的整體程序設定、及用以檢測基板研磨終點的研磨終點檢測程序設定所構成。整體程序設定係包含研磨工作台的旋轉速度、及研磨終點檢測後之過研磨時間等的設定項目。研磨終點檢測程序設定係包含用以檢測基板研磨終點的各種設定項目,而研磨終點檢測係依照該研磨終點檢測程序設定來執行。具體而言,係將工作台轉矩電流或其微分值到達預定的臨限值的時點決定為研磨終點。臨限值係可設定複數個。此時,係可以工作台轉矩電流或其微分值達到所有臨限值為條件決定研磨終點。
在研磨終點檢測程序設定的設定項目中,係包含工作台轉矩電流的臨限值、工作台轉矩電流之臨限值的數量、工作台轉矩電流之微分值的臨限值、及工作台轉矩電流之微分值之臨限值的數量等。整體程序設定及研磨終點檢測程序設定的作成、變更及刪除,係使用研磨終點檢測程序設定管理工具60來進行。
在歷程中係顯示關於過去所研磨之基板的 研磨終點檢測資料。此研磨終點檢測資料係保存於各研磨終點檢測裝置10的記憶體(未圖示),並且保存於主電腦20的記憶體22。研磨終點檢測資料係由包括在各基板研磨中所取得的工作台轉矩電流值(膜厚指標值)及其微分值、供檢測研磨終點用的設定項目(例如工作台轉矩電流的臨限值)、研磨基板的日期時間、研磨時間、檢測錯誤日誌(log)、及與研磨裝置之操作控制器(operation controller)的通訊日誌等的各種資料項目所構成。因此,從歷程可得知過去研磨之基板的研磨終點檢測是被如何進行。
重播係使用所保存的研磨終點檢測資料,在重播或模擬研磨終點的檢測時使用。在重播的設定項目中,係包含重播用的研磨終點檢測程序設定(以下稱重播程序設定)等。藉由將該重播程序設定應用在研磨終點檢測資料(工作台轉矩電流值及/或其微分值),即可進行研磨終點檢測的模擬。例如,當變更工作台轉矩電流值及/或其微分值的臨限值時,可預測可獲得哪一種研磨終點檢測結果。
使用重播程序設定之研磨終點檢測之模擬的結果,係顯示於重播(模擬)視窗。第8圖係為顯示重播視窗的圖。如第8圖所示,重播視窗係由顯示伴隨研磨時間而變化之工作台轉矩電流值的實效值曲線圖71、顯示工作台轉矩電流值之微分值的微分值曲線圖72、顯示成為模擬對象之基板資訊及重播程序設定之各種設定項目的重播程序設定區域73、及一覽顯示研磨終點檢測之模擬之結果 的結果顯示區域74所構成。
主電腦20係構成為可對設置在無塵室內的研磨終點檢測裝置10進行存取,而遙控操作各研磨終點檢測裝置10。再者,主電腦20係構成為可將各研磨終點檢測裝置10之終點檢測視窗(參照第4圖)顯示於顯示畫面21。具體而言,當點選顯示在第3圖所示之監視視窗之複數個曲線圖視窗50中之任一者時,主電腦20即對於與該曲線圖視窗50對應之研磨終點檢測裝置10進行存取,而將該終點檢測視窗顯示於顯示畫面21。例如,藉由點選閃爍的曲線圖視窗50,即可將產生了檢測錯誤之研磨終點檢測裝置10之更詳細的資訊予以顯示於顯示畫面21。
主電腦20係得以將與顯示在各研磨終點檢測裝置10之終點檢測視窗完全相同構成的終點檢測視窗予以顯示在其顯示畫面21。亦即,顯示在主電腦20之顯示畫面21的終點檢測視窗,係可在顯示在所選擇之1個研磨終點檢測裝置10之顯示畫面11的終點檢測視窗及其構成(小視窗的數量、配置)中設為完全相同。再者,主電腦20係構成為可視需要變更應顯示在其顯示畫面21之終點檢測視窗的構成。
同樣地,各研磨終點檢測裝置10係可將與顯示在其他研磨終點檢測裝置10之終點檢測視窗完全相同構成的終點檢測視窗予以顯示在其顯示畫面11上。再者,各研磨終點檢測裝置10係可視需要變更應顯示在其顯示畫面11之其他研磨終點檢測裝置10之終點檢測視窗的 構成。
再者,主電腦20係具有與研磨終點檢測裝置10相同的研磨終點檢測程序設定管理工具60,得以使用保存在各研磨終點檢測裝置10的研磨終點檢測資料來執行研磨終點檢測的模擬。再者,主電腦20係可經由顯示在其顯示畫面21的研磨終點檢測程序設定管理工具60來變更研磨終點檢測裝置10的研磨終點檢測程序設定。例如,在某研磨終點檢測裝置10中,產生研磨終點的檢測錯誤時,主電腦20係可藉由變更設定在其研磨終點檢測裝置10之研磨終點檢測程序設定,來消除檢測錯誤。因此,作業員不需移動至無塵室內,即可在短時間內解決研磨終點檢測錯誤。
再者,主電腦20係可對數個、或所有的研磨終點檢測裝置10進行存取,而同時變更設定在各研磨終點檢測裝置10的研磨終點檢測程序設定。因此,不需要對研磨終點檢測裝置10的每一台進行存取而各台變更研磨終點檢測程序設定,故可在極短時間內進行研磨終點檢測程序設定的重寫。
上述的顯示操作及程序設定操作,係構成為亦可在各研磨終點檢測裝置10進行。亦即,在任何研磨終點檢測裝置10均可顯示其他研磨終點檢測裝置10的終點檢測視窗(曲線圖視窗50及研磨終點檢測程序設定管理工具60),再者,在任何研磨終點檢測裝置10均可變更其他研磨終點檢測裝置10的研磨終點檢測程序設定。此外, 在任何研磨終點檢測裝置10均可遙控操作其他研磨終點檢測裝置10。
主電腦20及所有研磨終點檢測裝置10係共享保存在各個研磨終點檢測裝置10的研磨終點檢測資料,且可將該資料予以顯示在顯示畫面。依據本實施形態的遙控監視系統,可從設置在無塵室內的複數個研磨終點檢測裝置10取得研磨資訊,而且可遙控操作該等研磨終點檢測裝置10。
上述的實施形態係以本發明所屬技術領域中具有通常知識者可實施本發明為目的所記載者。上述實施形態的各種變形例,只要是該行業業者當然均可完成,本發明之技術思想也可適用在其他實施形態。因此,本發明不限定於所記載的實施形態,應在依照申請專利範圍所定義之技術思想的最廣範圍內作解釋。
10‧‧‧研磨終點檢測裝置
30‧‧‧研磨工作台
30a‧‧‧工作台軸
32‧‧‧研磨墊
32a‧‧‧研磨面
34‧‧‧頂環軸
35‧‧‧頂環
38‧‧‧研磨液供給機構
40‧‧‧工作台旋轉馬達
41‧‧‧頂環旋轉馬達
45‧‧‧工作台馬達電流檢測部
W‧‧‧基板

Claims (13)

  1. 一種研磨終點檢測裝置之遙控監視系統,係具備:複數個研磨終點檢測裝置,用以檢測基板的研磨終點;及主電腦,經由網路連接於前述複數個研磨終點檢測裝置;前述主電腦係具有用以保存自前述複數個研磨終點檢測裝置所傳來的研磨終點檢測資料的記憶體、及用以顯示前述研磨終點檢測資料的顯示畫面;前述主電腦係構成為將新的研磨終點檢測程序設定傳送至從前述複數個研磨終點檢測裝置所選擇之至少1個研磨終點檢測裝置,且將該所選擇之至少1個研磨終點檢測裝置的研磨終點檢測程序設定予以重寫。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之遙控監視系統,其中,前述主電腦係將警報顯示於前述顯示畫面,以可特別指定產生了研磨終點檢測錯誤的研磨終點檢測裝置。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之遙控監視系統,其中,前述主電腦係具備用以作成及變更前述研磨終點檢測程序設定的研磨終點檢測程序設定管理工具。
  4. 如申請專利範圍第3項所述之遙控監視系統,其中,前述複數個研磨終點檢測裝置之各者,係具備有前述研磨終點檢測程序設定管理工具。
  5. 如申請專利範圍第1所述之遙控監視系統,其中,在 前述研磨終點檢測資料中係包含有顯示前述基板之膜厚的研磨指標值;前述主電腦係構成為使用預先設定的重播程序設定與前述研磨指標值,執行基板之研磨終點檢測的模擬。
  6. 如申請專利範圍第1項所述之遙控監視系統,其中,前述複數個研磨終點檢測裝置的各者,係構成為將新的研磨終點檢測程序設定傳送至從前述複數個研磨終點檢測裝置所選擇之至少1個研磨終點檢測裝置,且將該所選擇之至少1個研磨終點檢測裝置的研磨終點檢測程序設定予以重寫。
  7. 如申請專利範圍第1項所述之遙控監視系統,其中,前述複數個研磨終點檢測裝置的各者係具有用以顯示終點檢測視窗的顯示畫面,該終點檢測視窗係用以顯示前述研磨終點檢測資料。
  8. 如申請專利範圍第7項所述之遙控監視系統,其中,前述主電腦係構成為可顯示與顯示在各研磨終點檢測裝置之前述終點檢測視窗相同的終點檢測視窗。
  9. 如申請專利範圍第8項所述之遙控監視系統,其中,前述主電腦係可變更顯示在其顯示畫面之前述終點檢測視窗的構成。
  10. 如申請專利範圍第7項所述之遙控監視系統,其中,前述複數個研磨終點檢測裝置的各者係構成為可將與顯示在其他研磨終點檢測裝置之前述終點檢測視窗相 同的終點檢測視窗顯示於自身的顯示畫面。
  11. 如申請專利範圍第10項所述之遙控監視系統,其中,前述複數個研磨終點檢測裝置的各者,係可變更顯示在其顯示畫面之其他研磨終點檢測裝置之前述終點檢測視窗的構成。
  12. 如申請專利範圍第1項所述之遙控監視系統,其中,前述主電腦係可遙控操作前述複數個研磨終點檢測裝置的各者。
  13. 如申請專利範圍第1項所述之遙控監視系統,其中,前述複數個研磨終點檢測裝置的各者係可遙控操作其他研磨終點檢測裝置。
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