TW201336008A - 基板處理裝置及基板處理方法 - Google Patents

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Abstract

基板處理裝置(1)包括處理槽(3)、蓋部(5)、及升降部。貯存有處理液之處理槽具有上部開口(30)。蓋部包括捲繞有片狀之連續構件(50)之兩端部之一對輥(51、52)，作為一對輥間之連續構件之部位之中間部(501)係於上部開口之附近與上部開口之開口面平行地配置，藉由使輥旋轉而使中間部沿開口面移動。於連續構件形成有作為開口之通過口(502)。升降部係使基板(9)於處理槽內之處理位置與處理槽外之撤回位置之間升降。於使基板在處理位置與撤回位置之間升降時，通過口配置於上部開口之正上方。又，於在處理槽內對基板進行處理時，通過口配置於自上部開口之正上方偏移之位置，藉由連續構件而堵住上部開口。藉由節省空間之蓋部而謀求基板處理裝置之小型化。

Description

基板處理裝置及基板處理方法
本發明係關於一種對基板進行處理之基板處理裝置及基板處理方法。
先前以來，使用有採用純水或化學品等處理液對基板進行處理之基板處理裝置，例如於日本專利特開2001-135710號公報之基板處理裝置中，相互平行地排列之豎立狀態之複數個基板配置於處理槽內，對複數個基板統一地進行處理液之處理。
再者，於日本專利特開2000-150609號公報中揭示有基板搬出搬入裝置，基板搬出搬入裝置包括載置收納有基板之盒體之載置部、及自盒體進行基板之移載之移載部。載置部係具有複數個載置單元而構成，各載置單元係裝卸自如地安裝於移載部。於進行載置單元之修理、維護時，將該載置單元自移載部卸除，藉由卷片遮蔽移載部中之安裝載置單元之區域。
且說，於在基板處理裝置中在處理槽內對基板進行處理時，為了防止處理液之飛濺或處理液環境之擴散，較佳為將處理槽之上部開口堵住。例如，考慮設置分別配置於上部開口之左半部分及右半部分之一組鉸鏈門(hinged door)，採用以設置於上部開口之左右兩端之鉸鏈為軸分別向相反方向 旋轉而開關上部開口之機構(所謂包括左右對開門狀之構造之機構)，而於處理時將上部開口堵住，但於此種機構中，伴隨上部開口之開關，需要使鉸鏈門通過之空間，基板處理裝置實質上大型化。
本發明係有關於基板處理裝置，其目的在於謀求基板處理裝置之小型化。
本發明之基板處理裝置包括：處理槽，其以處理液對基板進行處理並且具有上部開口；蓋部，其具有捲繞有連續之片狀或蛇形折曲狀之連續構件之兩端部之一對輥，且於上述上部開口之附近與上述上部開口之開口面平行地配置有作為於上述一對輥間之上述連續構件之部位之中間部，藉由使上述一對輥旋轉，而使上述中間部沿上述開口面移動；支撐部，其至少於上述處理槽內支撐豎立狀態之基板；升降部，其使上述基板於上述處理槽內之處理位置與上述處理槽外之撤回位置之間升降；以及控制部，其於在上述連續構件形成有作為開口之通過口，且使上述基板在上述處理位置與上述撤回位置之間升降時，將上述通過口配置於上述上部開口之正上方，使上述基板通過上述通過口及上述上部開口，於在上述處理槽內對上述基板進行處理時，將上述通過口配置於自上述上部開口之正上方偏移之位置，藉由上述連續構件堵住上述上部開口。
根據本發明，可謀求基板處理裝置之小型化。
於本發明之一較佳之形態中，上述支撐部包括：爪部，其自下方支撐相互平行地排列之豎立狀態之複數個基板，並且於垂直於上述複數個基板之主面之前後方向較長；以及支撐本體，其固定有上述爪部之端部，並且自上述爪部之固定位置向上方延伸；且設置於上述處理槽之外部之上述升降部使上述支撐本體升降，於在上述處理槽內對基板進行處理時，上述中間部於上述前後方向移動，上述通過口之邊緣接近上述支撐本體而藉由上述連續構件而大致地堵住上述上部開口。
於上述形態中，較佳為，上述支撐本體為於上下方向較長且垂直於上述前後方向之板狀構件，於在上述處理槽內對基板進行處理時，藉由使上述通過口之垂直於上述前後方向之直線狀之邊緣接近上述板狀構件之一主面，而堵住由上述板狀構件隔開之上述上部開口之上述一主面側之部分，上述基板處理裝置進而包括堵住上述板狀構件之另一主面側之上述上部開口之部分之遮蔽部。藉此，可更確實地抑制處理液之飛濺及處理液環境之擴散。
於上述形態中，上述基板處理裝置亦可進而包括：另一個蓋部，其具有與上述蓋部相同之構造，且使一對輥間之連續構件之中間部於上述蓋部之上述中間部之上方附近沿上述上部開口之上述開口面移動。此情形時，上述支撐本體為於 上下方向較長且垂直於上述前後方向之板狀構件，於在上述處理槽內對基板進行處理時，藉由使上述蓋部中之上述通過口之垂直於上述前後方向之直線狀之邊緣接近上述板狀構件之一主面，而堵住由上述板狀構件隔開之上述上部開口之上述一主面側之部分，且藉由使上述另一個蓋部中之連續構件之通過口之與上述前後方向垂直之直線狀之邊緣接近上述板狀構件之另一主面，而堵住由上述板狀構件隔開之上述上部開口之上述另一主面側之部分。藉此，可更確實地抑制處理液之飛濺及處理液環境之擴散。
本發明亦面向基板處理裝置中之基板處理方法。
上述之目的及其他目的、特徵、態樣及優勢係藉由以下參照隨附圖式進行之本發明之詳細之說明而明確。
圖1係表示基板處理裝置1之內部構成之圖，圖2係表示基板處理裝置1之一部分之外觀之立體圖。基板處理裝置1係對複數個圓板狀之矽基板9(以下僅稱為「基板9」)統一地進行純水或氫氟酸(HF)等化學品即處理液之處理之所謂批次式之裝置。於圖1及圖2中，將相互正交之2個水平方向表示為X方向及Y方向，將垂直於X方向及Y方向之鉛垂方向(重力方向)表示為Z方向。
基板處理裝置1包括：處理槽3，其於內部收容複數個基板9，且貯存有特定之處理液並且具有上部開口30；支撐部 4，其支撐相互平行地排列之豎立狀態之複數個基板9；以及升降部2，其使複數個基板9升降。如圖1所示般，於處理槽3內設置有噴出處理液之複數個處理液噴嘴31、及安裝於處理槽3之排出口之排出閥32，將基板9浸漬於處理液中而實施洗淨、蝕刻等各種處理。處理液噴嘴31係經由供給管而連接於處理液供給部33，排出閥32係經由排出管而連接於排液處理部34。對於處理液供給部33，可將數種處理液選擇性地供給至處理液噴嘴31。於處理槽3之上部之周圍設置有接收自處理槽3溢出之處理液之輔助槽35，形成於輔助槽35之排出口亦經由排出管而連接於排液處理部34。
支撐部4包括：複數個爪部41，其於垂直於複數個基板9之主面之方向(圖1中之Y方向，以下亦稱為「前後方向」)較長；及支撐本體42，其為固定有複數個爪部41之端部並且自爪部41之固定位置向上方延伸之板狀構件。升降部2係設置於處理槽3之外部，且使支撐本體42於圖1之上下方向(Z方向)升降。於支撐部4中，藉由複數個爪部41自下方支撐相互平行地排列之豎立狀態之複數個基板9(即排列於前後方向之複數個基板9)，複數個基板9係藉由升降部2而於處理槽3內之處理位置(圖1中所示之位置)與處理槽3外之(處理槽3上方之)撤回位置之間移動。
基板處理裝置1進而包括開關處理槽3之上部開口30之 蓋部5。如圖2所示般，蓋部5包括捲繞有連續之片狀之連續構件50之兩端部之一對輥51、52，一對輥51、52係以於前後方向(Y方向)夾持處理槽3及輔助槽35之方式配置。連續構件50係由氟樹脂(例如鐵氟龍(註冊商標))所形成，具有耐熱性及耐化學品性。作為一對輥51、52間之連續構件50之部位之中間部501係於上部開口30之附近與上部開口30之開口面(即，包含形成上部開口30之處理槽3之上端之大致整體之面)平行地配置。中間部501為除下述之通過口502之部位以外覆蓋處理槽3及輔助槽35之整體之大小。
又，各輥51、52係連接於下述之圖3所示之馬達53、54(例如步進馬達或伺服馬達)。相互同步驅動之馬達53、54使輥51、52一併向相同之旋轉方向旋轉，藉此中間部501於沿著上部開口30之開口面之前後方向移動。此時，以對連續構件50始終作用有固定之張力(張力(tension))之方式控制馬達53、54。又，於連續構件50形成有沿X方向及Y方向之矩形之開口502，開口502之外緣(即4條直線狀之邊緣)於俯視時包圍支撐本體42、複數個爪部41及複數個基板9之周圍。如下所述，由爪部41支撐之複數個基板9係通過開口502而搬入至處理槽3內或自處理槽3搬出，故而以下將開口502稱為「通過口502」。
圖3係表示基板處理裝置1之功能構成之方塊圖。基板處理裝置1進而包括控制各構成要素之控制部10。於圖3中， 僅圖示有上述之升降部2及蓋部5(之馬達53、54)，實際上，控制部10亦連接於處理液供給部33等。
圖4係表示基板處理裝置1對基板9進行處理之動作之流程之圖。又，圖5係用以說明基板處理裝置1之動作之圖。於圖5中，將垂直於輥51、52之長度方向之面之基板處理裝置1之剖面簡略化表示，藉由虛線表示連續構件50之通過口502(對於下述之圖6至圖13為相同)。
於基板處理裝置1對基板9進行處理時，首先，藉由驅動馬達53、54，而如圖5所示般將連續構件50中之通過口502配置於上部開口30之正上方(步驟S11)。又，如於圖5中二點劃線所示般，於配置在處理槽3之上方之爪部41上載置有豎立狀態之複數個基板9，藉由升降部2使支撐部4下降，藉此使複數個基板9經過通過口502及上部開口30，而配置於處理位置(於圖5中實線所示之位置)(步驟S12)。此時，於俯視時因通過口502與上部開口30之重疊而形成之開口之外緣(即兩者之開口重疊之區域之外緣)為包圍爪部41、支撐本體42及複數個基板9之周圍之大小，故而不會妨礙複數個基板9之移動。
繼而，藉由驅動馬達53、54，而如圖6所示般將通過口502配置於自上部開口30之正上方偏移之位置。詳細而言，連續構件50之中間部501自配置於沿前後方向延伸之爪部41之自由端側((+Y)側)之一個輥51(以下亦稱為「前輥51」) 朝向配置於爪部41之固定端側((-Y)側)之另一個輥52(以下亦稱為「後輥52」)之方向移動。而且，垂直於通過口502之前後方向之直線狀之邊緣503(前輥51側之邊緣)接近設置有支撐本體42之爪部41之主面421(以下稱為「前面421」)。藉此，藉由連續構件50覆蓋由支撐本體42隔開之上部開口30之前面421側之部分，大致地堵住上部開口30(步驟S13)。其後，於處理槽3內對基板9進行處理液之特定之處理(步驟S14)。此時，由於藉由連續構件50大致地堵住上部開口30，故而可抑制處理液之飛濺及處理液環境之擴散。
若處理液之處理結束，則圖6所示之連續構件50之中間部501自後輥52向朝向前輥51之方向移動，如圖5所示般將連續構件50中之通過口502配置於上部開口30之正上方，而使上部開口30敞開(步驟S15)。繼而，藉由升降部2使支撐部4上升，藉此使複數個基板9通過上部開口30及通過口502，而配置於撤回位置(於圖5中二點劃線所示之位置)(步驟S16)。如此，將複數個基板9自處理槽3內搬出，基板處理裝置1中之處理結束。再者，撤回位置之複數個基板9係自爪部41交付給外部之搬送機構，視需要向下一個處理裝置搬送。
圖7係表示比較例之基板處理裝置之圖。於比較例之基板處理裝置中，設置有分別配置於圖7中之上部開口92之左 半部分及右半部分之一組鉸鏈門91，以設置於上部開口92之左右兩端之鉸鏈911為軸分別向相反方向旋轉而開關上部開口92。於此種比較例之基板處理裝置中，伴隨上部開口92之開關，需要用以使作為堵住構件之鉸鏈門91移動之特別之空間。因此，為了使基板於處理槽之上方沿圖7中之橫方向移動，需要使基板上升至較大致豎立之鉸鏈門91(二點劃線所示之鉸鏈門91)更上方，故而基板處理裝置於高度方向大型化。特別是，於大型之基板用之基板處理裝置中，堵住構件亦變得更大，故而裝置之高度進而變大。
與此相對，於圖2之基板處理裝置1中，於處理槽3之上部開口30之附近與上部開口30之開口面平行地配置捲繞有連續構件50之兩端部之一對輥51、52間之連續構件50之部位。而且，於使基板9在處理位置與撤回位置之間升降時，藉由輥51、52之旋轉而將形成於連續構件50之通過口502配置於上部開口30之正上方。又，於在處理槽3內對基板9進行處理時，藉由輥51、52之旋轉而將通過口502配置於自上部開口30之正上方偏移之位置，藉由連續構件50堵住上部開口30。藉此，無需設置用於上部開口30之開關動作時之堵住構件之移動之特別之空間，便可實現處理槽3之上部開口30之開關(即可實現節省空間之蓋部5)。又，即便於使基板9在處理槽3之上方水平移動之情形時，亦僅使基板9上升至中間部501之稍微上方為止便可(即可將撤 回位置設置於處理槽3之附近)，故而可謀求對大型之基板9(例如直徑450 mm之基板9)進行處理之基板處理裝置1之小型化(特別是高度方向上之小型化)。
又，支撐部4包括作為於上下方向較長且垂直於前後方向之板狀構件之支撐本體42，於在處理槽3內對基板9進行處理時，通過口502之直線狀之邊緣503接近支撐本體42之前面421(亦可抵接)。藉此，可藉由連續構件50而牢固地堵住由支撐本體42隔開之上部開口30之前面421側之部分。
於圖5之基板處理裝置1中，將一對輥51、52設置於輔助槽35之(+Y)側及(-Y)側，但亦可如圖8所示般，將前輥51配置於輔助槽35之(+Y)側之部位之下方，將後輥52配置於輔助槽35之(-Y)側之部位之下方。此情形時，將較前輥51更細之輔助輥511配置於輔助槽35之(+Y)側，中間部501之(+Y)側之部位係經由輔助輥511而連續於前輥51。同樣地，將較後輥52更細之輔助輥521配置於輔助槽35之(-Y)側，中間部501之(-Y)側之部位係經由輔助輥521而連續於後輥52。
又，如於圖8中二點劃線所示般，亦可將後輥52配置於輔助槽35之(-Y)側之部位之上方(對於前輥51為相同)。此情形時，亦將較後輥52更細之輔助輥521配置於輔助槽35之(-Y)側，中間部501中之(-Y)側之部位係經由輔助輥521 而連續於後輥52。如上所述，於基板處理裝置1中，可根據其設計將輥51、52配置於空餘之空間，而謀求空間之有效利用。
圖9係表示基板處理裝置之其他例之圖。於圖9之基板處理裝置1a中，於前後方向(Y方向)之輔助槽35之兩外側分別設置有2個液滴去除部61，並且設置有收容處理槽3之槽11。其他構成與圖1之基板處理裝置1相同，且附上相同符號。
一個液滴去除部61係設置於輔助槽35之(+Y)側之部位與前輥51之間，另一個液滴去除部61係設置於輔助槽35之(-Y)側之部位與後輥52之間。各液滴去除部61例如為由橡膠或塑膠所形成之刮板，關於X方向遍及連續構件50之寬度整體，並抵接於中間部501之處理槽3側之面500。
於圖9之基板處理裝置1a中，即便於處理槽3內之處理液之液滴附著於上部開口30之上方之中間部501之面500之區域之情形時，亦可於即將被前輥51及後輥52捲取之前，藉由液滴去除部61將面500上之液滴去除。藉此，可防止因處理液之液滴之影響而導致蓋部5劣化之情況。再者，於圖9之基板處理裝置1a中，由液滴去除部61去除之液體係由槽11接住，自設置於槽11之底部之排出口排出。
圖10係表示基板處理裝置之進而其他例之圖。於圖10之基板處理裝置1b中，於與支撐本體42之前面421為相反 側之主面422(以下稱為「後面422」)上，設置有向(-Y)側突出之板狀之遮蔽部62。其他構成與圖1之基板處理裝置1相同，且附上相同符號。
遮蔽部62包括與上部開口30之開口面平行之面。該面為關於X方向遍及連續構件50之寬度整體，覆蓋輔助槽35之(-Y)側之部位之整體之大小。又，於將基板9配置於處理位置之狀態下，遮蔽部62係成為接近處理槽3之(-Y)側之上端之位置。於圖10之基板處理裝置1b中，於在處理槽3內對基板9進行處理時，藉由使通過口502之垂直於前後方向之直線狀之邊緣503接近支撐本體42之前面421，而藉由連續構件50堵住由支撐本體42隔開之上部開口30之前面421側之部分。又，藉由遮蔽部62堵住支撐本體42之另一主面422(即後面422)側之上部開口30之部分。藉此，於圖10之基板處理裝置1b中，可將上部開口30之大致整體堵住，而更確實地抑制處理液之飛濺及處理液環境之擴散。又，藉由節省空間之蓋部5，亦可謀求基板處理裝置1b之小型化。
於圖10之基板處理裝置1b中，將遮蔽部62設置於支撐本體42，但例如亦可如圖11所示之基板處理裝置1c般，將遮蔽部62a設置於收容處理槽3之槽11。於圖11之基板處理裝置1c中，藉由圖示省略之旋動機構使遮蔽部62a以與X方向平行之軸621為中心旋動。具體而言，於藉由升 降部2使支撐部4升降時，如圖11中二點劃線所示般，遮蔽部62a成為豎立姿勢，防止了支撐部4之升降動作因遮蔽部62a而受到妨礙。
又，於將爪部41配置於處理液中之狀態(即，將基板9配置於處理位置之狀態)下，遮蔽部62a旋動，如圖11中實線所示般成為水平姿勢。此時，遮蔽部62a之前端(與軸621為相反側之端部)抵接或接近於支撐本體42之後面422。因此，可藉由遮蔽部62a而堵住支撐本體42之後面422側之上部開口30之部分，且可更確實地抑制處理液之飛濺及處理液環境之擴散。再者，遮蔽部62a無需為以軸621為中心旋動者，例如，亦可藉由使遮蔽部62a於水平方向移動，而堵住支撐本體42之後面422側之上部開口30之部分。
圖12係表示基板處理裝置之進而其他例之圖。於圖12之基板處理裝置1d中，設置有包括與蓋部5為相同之構造之另一個蓋部5a(以下稱為「輔助蓋部5a」)。其他構成係與圖1相同，且附上相同符號。
輔助蓋部5a之一對輥51a、52a係於前後方向(Y方向)配置於蓋部5之一對輥51、52之外側，一對輥51a、52a間之連續構件50a之中間部501a係位於蓋部5之中間部501之上方附近。於輔助蓋部5a中，各輥51a、52a亦連接於馬達(圖示省略)，藉由馬達之驅動，中間部501a沿上部開口30之開口面移動。又，於連續構件50a中形成有與連續構件 50之通過口502為相同形狀之通過口502a。
於基板處理裝置1d中，於使基板9在處理位置與撤回位置之間升降時，如圖12所示般將蓋部5之通過口502配置於上部開口30之正上方，並且亦將輔助蓋部5a之通過口502a配置於上部開口30之正上方。繼而，使支撐部4與複數個基板9一併經過通過口502、502a及上部開口30。此時，於俯視時因通過口502、通過口502a及上部開口30之重疊而形成之開口之外緣成為包圍爪部41、支撐本體42及複數個基板9之周圍之大小，不會妨礙複數個基板9之移動。於圖12之基板處理裝置1d中，於上下方向，蓋部5之通過口502之整體、輔助蓋部5a之通過口502a之整體、及上部開口30之整體重疊。
又，於在處理槽3內對基板9進行處理時，蓋部5中之連續構件50之中間部501於(-Y)方向移動，如圖13所示般，通過口502之垂直於前後方向之直線狀之邊緣503(即，中間部501之移動方向之後側之邊緣)接近於支撐本體42之前面421。藉此，藉由連續構件50堵住由支撐本體42隔開之上部開口30之前面421側之部分。又，輔助蓋部5a中之連續構件50a之中間部501a於(+Y)方向移動，通過口502a之垂直於前後方向之直線狀之邊緣503a(即，中間部501a之移動方向之後側之邊緣)接近於支撐本體42之後面422。藉此，藉由連續構件50a堵住由支撐本體42隔開之上部開口 30之後面422側之部分。其結果，對於基板處理裝置1d，可將上部開口30之大致整體堵住，且可更確實地抑制處理液之飛濺及處理液環境之擴散。又，亦可藉由節省空間之蓋部5、5a，而謀求基板處理裝置1d之小型化。
以上，對本發明之實施形態進行說明，但本發明並不限定於上述實施形態，可進行各種變形。
於蓋部5中，將一對輥51、52配置於處理槽3之X方向(為與基板9之主面平行之水平方向，且為垂直於複數個基板9所排列之前後方向的方向)之兩外側，連續構件50之中間部501亦可於沿著上部開口30之開口面之X方向移動(對於輔助蓋部5a為相同。以下相同。)。
於上述實施形態中，使馬達連接於一對輥51、52之兩者，但例如亦可於一個輥中設置藉由發條彈簧之動力而將連續構件50捲繞於該輥之機構，且僅對另一個輥設置馬達。此情形時，藉由僅控制該另一個輥之馬達之驅動，上部開口30之敞開及堵住成為可能。
於基板處理裝置中，亦可設置有使一對輥51、52於上下方向移動之機構，於在處理槽3內對基板9進行處理時，使一對輥51、52下降並使中間部501接近於處理液之液面，藉此將處理槽3之上部開口30牢固地堵住。
連續構件50係除氟樹脂以外，亦可由尼龍等樹脂而形成者。又，片狀之連續構件50亦可為布，此情形時，可使用 GORE-TEX(註冊商標)等防水性之素材。進而，若可將兩端部捲繞於一對輥51、52，則連續構件50亦可為連續之蛇形折曲狀之構件。
支撐部4中之支撐本體42亦可為除板狀以外之形狀(例如棒狀)。然而，為了牢固地堵住上部開口30，較佳為支撐本體42為垂直於前後方向之板狀構件，於在處理槽3內對基板9進行處理時，通過口502之垂直於前後方向之直線狀之邊緣接近於板狀構件之一主面。
根據基板處理裝置1、1a~1d之設計，於支撐部4中，亦可將複數個爪部41安裝於處理槽3，而省略支撐本體42。此情形時，例如設置有包括可變更X方向之間隔之一對支撐構件的升降部。於升降部中，藉由一對支撐構件支撐基板9，並且使基板9於處理槽3內之處理位置與處理槽3外之撤回位置之間升降。當藉由該升降部，將複數個基板9移載至安裝於處理槽3內之複數個爪部41上時，僅升降部自處理槽3撤回。繼而，藉由蓋部5堵住上部開口30。如上所述，支撐部可為至少於處理槽3內支撐豎立狀態之基板9者，又，升降部可為與支撐部分離之構成。
又，作為處理槽3，並非限定於貯存處理液並對基板9進行浸漬處理者，例如亦可為使處理液呈噴霧狀供給至基板9者。即，處理槽3只要為藉由處理液對基板9進行處理者即可。又，亦可為不於排液處理部34廢棄處理液，而於進行 過濾等後再次使用於基板處理之循環型之系統。於基板處理裝置1中進行處理之基板9並不限定於矽基板，亦可為玻璃基板等其他種類之基板。
上述實施形態及各變化例中之構成只要不相互矛盾便可適當組合。
對發明進行詳細地描寫並說明，但上述之說明為例示性而並非限定性者。因此，可認為只要不脫離本發明之範圍，多數之變形或態樣為可能。
1、1a~1d‧‧‧基板處理裝置
2‧‧‧升降部
3‧‧‧處理槽
4‧‧‧支撐部
5‧‧‧蓋部
5a‧‧‧輔助蓋部
9‧‧‧基板
10‧‧‧控制部
11‧‧‧槽
30‧‧‧上部開口
31‧‧‧處理液噴嘴
32‧‧‧排出閥
33‧‧‧處理液供給部
34‧‧‧排液處理部
35‧‧‧輔助槽
41‧‧‧爪部
42‧‧‧支撐本體
50、50a‧‧‧連續構件
51、52、51a、52a‧‧‧輥
53、54‧‧‧馬達
61‧‧‧液滴去除部
62、62a‧‧‧遮蔽部
91‧‧‧鉸鏈門
92‧‧‧上部開口
911‧‧‧鉸鏈
421‧‧‧前面
422‧‧‧後面
500‧‧‧面
501、501a‧‧‧中間部
502、502a‧‧‧通過口
503、503a‧‧‧邊緣
511、521‧‧‧輔助輥
621‧‧‧軸
X、Y、Z‧‧‧方向
圖1係表示基板處理裝置之構成之圖。
圖2係表示基板處理裝置之一部分之立體圖。
圖3係表示基板處理裝置之功能構成之方塊圖。
圖4係表示對基板進行處理之動作之流程之圖。
圖5係用以說明基板處理裝置之動作之圖。
圖6係用以說明基板處理裝置之動作之圖。
圖7係表示比較例之基板處理裝置之圖。
圖8係表示基板處理裝置之其他例之圖。
圖9係表示基板處理裝置之進而其他例之圖。
圖10係表示基板處理裝置之進而其他例之圖。
圖11係表示基板處理裝置之進而其他例之圖。
圖12係表示基板處理裝置之進而其他例之圖。
圖13係用以說明基板處理裝置之動作之圖。
1‧‧‧基板處理裝置
3‧‧‧處理槽
4‧‧‧支撐部
5‧‧‧蓋部
9‧‧‧基板
30‧‧‧上部開口
35‧‧‧輔助槽
42‧‧‧支撐本體
50‧‧‧連續構件
51‧‧‧輥
52‧‧‧輥
421‧‧‧前面
501‧‧‧中間部
502‧‧‧通過口
503‧‧‧邊緣

Claims (9)

  1. 一種基板處理裝置，其包括：處理槽，其以處理液對基板進行處理並且具有上部開口；蓋部，其具有捲繞有連續之片狀或蛇形折曲狀之連續構件之兩端部之一對輥，且於上述上部開口之附近與上述上部開口之開口面平行地配置有作為上述一對輥間之上述連續構件之部位，藉由旋轉上述一對輥而使上述中間部沿上述開口面移動；支撐部，其至少於上述處理槽內支撐豎立狀態之基板；升降部，其使上述基板於上述處理槽內之處理位置與上述處理槽外之撤回位置之間升降；控制部，其於在上述連續構件形成有作為開口之通過口，且使上述基板於上述處理位置與上述撤回位置之間升降時，將上述通過口配置於上述上部開口之正上方，使上述基板通過上述通過口及上述上部開口，於在上述處理槽內對上述基板進行處理時，將上述通過口配置於自上述上部開口之正上方偏移之位置，藉由上述連續構件堵住上述上部開口。
  2. 如申請專利範圍第1項之基板處理裝置，其中，上述支撐部包括：爪部，其自下方支撐相互平行地排列之豎立狀態之複數個基板，並且於垂直於上述複數個基板之主面之前後方向較長；以及 支撐本體，其固定有上述爪部之端部，並且自上述爪部之固定位置向上方延伸；且設置於上述處理槽之外部之上述升降部使上述支撐本體升降，於在上述處理槽內對基板進行處理時，上述中間部於上述前後方向移動，上述通過口之邊緣接近上述支撐本體而藉由上述連續構件大致地堵住上述上部開口。
  3. 如申請專利範圍第2項之基板處理裝置，其中，上述支撐本體為於上下方向較長且垂直於上述前後方向之板狀構件，於在上述處理槽內對基板進行處理時，藉由使上述通過口之垂直於上述前後方向之直線狀之邊緣接近上述板狀構件之一主面，而堵住由上述板狀構件隔開之上述上部開口之上述一主面側之部分，且上述基板處理裝置進而包括：堵住上述板狀構件之另一主面側之上述上部開口之部分之遮蔽部。
  4. 如申請專利範圍第2項之基板處理裝置，其中，進而包括：另一個蓋部，其具有與上述蓋部相同之構造，使一對輥間之連續構件之中間部，於上述蓋部之上述中間部之上方附近沿上述上部開口之上述開口面移動，上述支撐本體為於上下方向較長且垂直於上述前後方向 之板狀構件，於在上述處理槽內對基板進行處理時，藉由使上述蓋部中之上述通過口之垂直於上述前後方向之直線狀之邊緣接近上述板狀構件之一主面，而堵住由上述板狀構件隔開之上述上部開口之上述一主面側之部分，且藉由使上述另一個蓋部中之連續構件之通過口之垂直於上述前後方向之直線狀之邊緣接近上述板狀構件之另一主面，而堵住由上述板狀構件隔開之上述上部開口之上述另一主面側之部分。
  5. 如申請專利範圍第1至4項中任一項之基板處理裝置，其中，進而包括：液滴去除部，其抵接於上述中間部之上述處理槽側之面，將附著於上述面之液滴去除。
  6. 一種基板處理裝置之基板處理方法，上述基板處理裝置包括：處理槽，其以處理液對基板進行處理並且具有上部開口；蓋部，其具有捲繞有連續之片狀或蛇形折曲狀之連續構件之兩端部之一對輥，於上述上部開口之附近與上述上部開口之開口面平行地配置有作為上述一對輥間之上述連續構件之部位之中間部，藉由使上述一對輥旋轉，而使上述中間部沿上述開口面移動；支撐部，其至少於上述處理槽內支撐豎立狀態之基板；以及升降部，其使上述基板於上述處理槽內之處理位置與上述 處理槽外之撤回位置之間升降；且於上述連續構件中形成有作為開口之通過口，且上述基板處理方法包括如下步驟：a)將上述通過口配置於上述上部開口之正上方；b)使上述基板通過上述通過口及上述上部開口，將上述撤回位置之上述基板配置於上述處理位置；c)將上述通過口配置於自上述上部開口之正上方偏移之位置，藉由上述連續構件堵住上述上部開口；d)於上述處理槽內對上述基板進行處理；e)將上述通過口配置於上述上部開口之正上方；以及f)使上述基板通過上述通過口及上述上部開口，將上述處理位置之上述基板配置於上述撤回位置。
  7. 如申請專利範圍第6項之基板處理方法，其中，上述支撐部包括：爪部，其自下方支撐相互平行地排列之豎立狀態之複數個基板，並且於垂直於上述複數個基板之主面之前後方向較長；及支撐本體，其固定有上述爪部之端部，並且自上述爪部之固定位置向上方延伸；設置於上述處理槽之外部之上述升降部使上述支撐本體升降，於上述c)步驟中，上述中間部於上述前後方向移動，上述 通過口之邊緣接近於上述支撐本體而藉由上述連續構件將上述上部開口大致堵住。
  8. 如申請專利範圍第7項之基板處理方法，其中，上述支撐本體為於上下方向較長且垂直於上述前後方向之板狀構件，於上述c)步驟中，藉由使上述通過口之垂直於上述前後方向之直線狀之邊緣接近上述板狀構件之一主面，而堵住由上述板狀構件隔開之上述上部開口之上述一主面側之部分，藉由遮蔽部將上述板狀構件之另一主面側之上述上部開口之部分堵住。
  9. 如申請專利範圍第7項之基板處理方法，其中，上述基板處理裝置進而包括：另一個蓋部，其具有與上述蓋部相同之構造，使一對輥間之連續構件之中間部於上述蓋部之上述中間部之上方附近沿上述上部開口之上述開口面移動，上述支撐本體為於上下方向較長且垂直於上述前後方向之板狀構件，於上述c)步驟中，藉由使上述蓋部中之上述通過口之垂直於上述前後方向之直線狀之邊緣接近於上述板狀構件之一主面，而將由上述板狀構件隔開之上述上部開口之上述一主面側之部分堵住，藉由使上述另一個蓋部中之連續構件之通過口之垂直於上述前後方向之直線狀之邊緣接近於上述板 狀構件之另一主面，而堵住由上述板狀構件隔開之上述上部開口之上述另一主面側之部分。
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