TW201335303A - 黏著劑組成物、黏著劑層、附黏著劑層之偏光板及影像顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明係有關於一種黏著劑組成物，其含有：(甲基)丙烯酸系聚合物(A)，以及具有陰離子成分及陽離子成分之離子性化合物(B)；其特徵在於前述陰離子成分係以下述通式(1)及下述通式(2)所表示之至少1種的陰離子成分：(CnF2n+1SO2)2N- (1) (通式(1)中，n係3至10之整數；)CF2(CmF2mSO2)2N- (2) (通式(2)中，m係2至10之整數)。

Description

黏著劑組成物、黏著劑層、附黏著劑層之偏光板及影像顯示裝置 發明領域
本發明係有關於一種抗靜電機能優異之黏著劑組成物、由該黏著劑組成物所構成之黏著劑層，以及具有偏光板及該黏著劑層之附黏著劑層的偏光板。進一步而言，本發明係有關於一種使用前述附黏著劑層之偏光板的液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置、PDP等的影像顯示裝置。
發明背景
液晶顯示裝置等，尤其影像顯示方式看來，將偏光元件配置在液晶胞兩側是必要而不可缺的，一般而言係黏附有偏光板。在將前述偏光板黏附於液晶胞時，通常係使用黏著劑。又，偏光板與液晶胞的接著，通常，為了減低光的損失，係使用黏著劑將各種材料緊密接著。在這種情形中，因有在要使偏光板固著時無須乾燥步驟等優點，故一般係使用黏著劑以黏著劑層的形式被預先設置在偏光板單側之附黏著劑層的偏光板。在附黏著劑層之偏光板的黏著劑層上，通常係黏貼有脫模膜。
液晶顯示裝置之製造時，在將前述附黏著劑層之 偏光板黏貼於液晶胞時，雖將脫模膜從附黏著劑層之偏光板的黏著劑層剝離，仍會因該脫模膜之剝離而產生靜電。如此所產生的靜電將對液晶顯示裝置內部的液晶之配向造成影響，而招致不良。又，在液晶顯示裝置使用時有時會因靜電而產生顯示不均。靜電的發生雖可藉由例如在偏光板外面形成抗靜電層來抑制，但其效果不大，而有無法根本地防止靜電產生這樣的問題點。因此，為了要在靜電產生的根本位置上抑制其產生，要求對黏著劑層提供抗靜電機能。就對黏著劑層提供抗靜電機能的方法而言，係提案有例如在以黏著劑層所形成之黏著劑中，調配離子性化合物。(專利文獻1~6)。
習知技術文獻 專利文獻
【專利文獻1】日本專利特開2005-306937號公報
【專利文獻2】日本專利特表2006-111846號公報
【專利文獻3】日本專利特開2008-517138號公報
【專利文獻4】日本專利特表2010-523806號公報
【專利文獻5】日本專利特開2011-016990號公報
【專利文獻6】日本專利特開2011-017000號公報
發明概要
在專利文獻1及2中，將具有雙(五氟乙烷磺醯基)亞醯胺陰離子之離子性化合物作為陰離子成分添加於黏著 劑組成物中，藉以提供黏著劑層的抗靜電機能。又，在專利文獻3及4中，將具有雙三氟甲烷磺醯基亞醯胺陰離子或雙三氟乙烷磺醯基亞醯胺陰離子之離子性化合物作為陰離子成分添加於黏著劑組成物中，藉以提供黏著劑層的抗靜電機能。然而，由含有該等離子性化合物之黏著劑組成物所形成之黏著劑層，若暴露於常溫常濕以上之條件，例如60℃、90%RH或60℃、95%RH等的濕熱條件中，則表面電阻值上升，其抗靜電機能將受損。
又，在下述專利文獻5及6中，係記載有下述點：若將包含具碳原子的全氟烷基之具有亞醯胺陰離子的離子性化合物添加於黏著劑組成物中，則無法充分地提高黏著劑層的抗靜電機能，而在將具有雙(氟化磺醯)亞醯胺陰離子地離子性化合物添加於黏著劑組成物中的情況，則可提高黏著劑層的抗靜電機能。然而，在該等專利文獻所記載之發明中，由於並非是以抑制加濕試驗後之表面電阻值的提高為課題之故，關於暴露於濕熱條件時的表面電阻值，並沒有具體的記載亦無暗示。
本發明的目的在於提供一種黏著劑組成物，其係可形成耐久性等的主要特性優異，且特別是抗靜電機能之加濕耐久性優異的黏著劑層者；一種黏著劑層；及一種附黏著劑層之偏光板。
又，本發明之目的在於，提供一種影像顯示裝置，其係使用前述附黏著劑層之偏光板者。
本發明者等為了解決前述課題而反覆致力研討，結果發現下述黏著劑組成物，終至完成了本發明。
亦即本發明係有關於一種黏著劑組成物，係含有：(甲基)丙烯酸系聚合物(A)，以及具有陰離子成分及陽離子成分之離子性化合物(B)；其特徵在於前述陰離子成分係以下述通式(1)：(CnF2n+1SO2)2N- (1)
(通式(1)中，n係3~10之整數)及下述通式(2)：CF2(CmF2mSO2)2N- (2)
(通式(2)中，m係2~10之整數)所表示之至少1種的陰離子成分。
在上述黏著劑組成物中，前述離子性化合物(B)具有之陽離子成分係以鹼金屬陽離子及有機陽離子之至少1種為佳。
在上述黏著劑組成物中，前述離子性化合物(B)具有之陽離子成分係以鋰陽離子為佳。
在上述黏著劑組成物中，前述離子性化合物(B)具有之陰離子成分係宜為雙(七氟丙烷磺醯基)亞醯胺陰離子、雙(九氟丁烷磺醯基)亞醯胺陰離子、及環狀-六氟丙烷-1,3-雙(磺醯基)亞醯胺陰離子之至少一種。
在上述黏著劑組成物中，相對於前述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，係宜含有前述離子性化合物(B)0.001~10重量份。
在上述黏著物組成物中，前述(甲基)丙烯酸系聚 合物(A)，係宜以含(甲基)丙烯酸烷基酯及含有羧基之單體作為單體單位。
在上述黏著物組成物中，係宜進一步含有交聯劑(C)，相對於前述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，係較宜含有前述交聯劑(C)0.01~20重量份，且前述交聯劑(C)係更宜為異氰酸酯系化合物及過氧化物之至少1種。
在上述黏著物組成物中，相對於前述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，宜進一步含有矽烷耦合劑(D)0.001~5重量份，又，相對於前述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，宜進一步含有聚醚改質矽(E)0.001~10重量份。
在上述黏著物組成物中，前述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)之重量平均分子量係宜為50萬~300萬。
又，本發明係有關於一種黏著劑層，其特徵在於係由前述任一者所記載之黏著劑組成物所形成。
又，本發明係有關於一種附黏著劑層之偏光板，其特徵在於至少具有偏光板與前述記載之黏著劑層。在前述附黏著劑層之偏光板中，於前述偏光板與前述黏著劑層之間，係宜具有易接著層。
進一步，本發明係有關於一種影像顯示裝置，其特徵在於使用至少1個本發明之前述記載之附黏著劑層的偏光板。
在使用丙烯酸系聚合物作為基底聚合物之黏著 劑組成物中，藉由在該黏著劑中配入離子性化合物，可提供抗靜電機能。另一方面，在黏著劑層的表面存在有離子性化合物的情形，會有黏著劑層與黏附體之接著力降低的情況，而暴露於濕熱條件下時，會有試驗後之表面電阻值上升而有損於抗靜電機能的情況。
本發明之黏著劑組成物除了含有屬基底聚合物 之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)，更含有可提供抗靜電機能之離子性化合物(B)，由該黏著劑組成物所形成之黏著劑層係抗靜電機能優異。特別是，本發明之黏著劑組成物因含有陰離子成分之分子量較大的離子性化合物(B)，或具有環狀構造之陰離子成分之離子性化合物(B)之故，即便是在加濕試驗後，仍可保持黏著劑層的低表面電阻值。因此，由本發明之黏著劑組成物所形成之黏著劑層及具有該黏著劑層之附黏著劑層的偏光板，在耐久性等的主要特性優異的同時，係特別在抗靜電機能之加濕耐久性上優異。
用於實施發明的型態
本發明之黏著劑組成物係含有(甲基)丙烯酸系聚合物(A)作為基底聚合物。(甲基)丙烯酸系聚合物(A)通常係含有(甲基)丙烯酸烷基酯作為主成分。再者，(甲基)丙烯酸酯係指丙烯酸酯及/或甲基丙烯酸酯，本發明知(甲基)係為相同的意義。
就構成(甲基)丙烯酸系聚合物(A)之主骨架的烷基(甲基)丙烯酸酯而言，係可例示如直鏈狀或支鏈狀之烷基的碳數為1~18者。例如，作為前述烷基，係可例示如：甲 基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、戊基、己基、環己基、庚基、2-乙基己基、異辛基、壬基、癸基、異癸基、十二基、異十四基、月桂基、十三基、十五基、十六基、十七基、十八基等。該等係可單獨或組合使用。該等烷基之平均碳數係以3~9為佳。
又，從黏著特性、耐久性、位相差的調整、折射 率之調整等的點看來，可使用如(甲基)丙烯酸苯氧乙酯、(甲基)丙烯酸苄酯等含有芳香族環的(甲基)丙烯酸烷酯。含有芳香族環之(甲基)丙烯酸烷基酯係雖可將使其聚合而成之聚合物混合到前述例示之(甲基)丙烯酸系聚合物來使用，但從透明性的觀點看來，含有芳香族環之(甲基)丙烯酸烷基酯係宜與前述(甲基)丙烯酸烷基酯共聚合來使用為佳。
(甲基)丙烯酸系聚合物(A)中含有前述芳香族環 之(甲基)丙烯酸烷基酯的比例在(甲基)丙烯酸系聚合物(A)之全構成單體(100重量%)的重量比率中，係可以50重量%以下之比例含有。進一步而言，含有芳香族環之(甲基)丙烯酸烷基酯的含有率係以1~35重量%為佳，以5~30重量%為較佳，且以10~25重量%為更佳。
在前述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)中，以改善接著 性及耐熱性為目的，可將具有具(甲基)丙烯醯基或乙烯基等的不飽和雙鍵之聚合性的官能基之1種類以上的共聚合單體藉由共聚合來導入。作為該種共聚合單體之具體例，係可舉例如(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸3-羥丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥丁酯、(甲基)丙烯酸6-羥幾酯、(甲基)丙 烯酸8-羥辛酯、(甲基)丙烯酸10-羥癸酯、(甲基)丙烯酸12-羥月桂酯及(4-羥甲基環己基)-甲基丙烯酸酯等的含羥基單體；(甲基)丙烯酸、羧乙基(甲基)丙烯酸酯、羧戊基(甲基)丙烯酸酯、伊康酸、順丁烯二酸、反丁烯二酸、巴豆酸等的含羧基單體；順丁烯二酸酐、伊康酸酐等的含酐基單體；丙烯酸的己內酯加合物；苯乙烯磺酸或芳基磺酸、2-(甲基)丙烯醯胺-2-甲基丙烷磺酸、(甲基)丙烯醯胺丙烷磺酸、磺丙基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯醯基氧萘磺酸等的含磺酸基單體；2-羥乙基丙烯醯基磷酸酯等的含磷酸基單體等。
又，亦可列舉下列以改質為目的之單體例：(甲 基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N-丁基(甲基)丙烯醯胺及N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基丙烷(甲基)丙烯醯胺等的(N-置換)醯胺系單體；(甲基)丙烯酸胺乙酯、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺乙酯、(甲基)丙烯酸第三丁基胺乙酯等的(甲基)丙烯酸烷基胺烷基酯系單體；(甲基)丙烯酸甲氧乙酯、(甲基)丙烯酸乙氧乙酯等的(甲基)丙烯酸烷氧基烷基系單體；N-(甲基)丙烯醯基甲醛丁二醯亞胺及N-(甲基)丙烯醯基-6-氧基六亞甲丁二醯亞胺、N-(甲基)丙烯醯基-8-氧基八亞甲丁二醯亞胺、N-丙烯醯基嗎福啉等的丁二醯亞胺系單體；N-環己基順丁烯二醯亞胺N-異丙基順丁烯二醯亞胺、N-月桂基順丁烯二醯亞胺及N-苯基順丁烯二醯亞胺等的順丁烯二醯亞胺系單體；N-甲基伊康亞醯胺、N-乙基伊康亞醯胺、N-丁基伊康亞醯胺、N-辛基伊康亞醯胺、N-2-乙基己基伊康亞醯胺、N-環己基伊康亞醯胺、N-月桂 基伊康亞醯胺等的伊康亞醯胺系單體等。
進一步，亦可使用下述單體作為改質單體：醋酸 乙烯酯、丙酸乙烯酯、N-乙烯基乙烯吡咯啶酮、甲基乙烯基乙烯吡咯啶酮、乙烯吡啶、乙烯哌啶酮、乙烯基嘧啶、乙烯基六氫吡嗪、乙烯基吡嗪、乙烯基吡咯、乙烯基咪唑、乙烯基噁唑、乙烯基嗎福啉、N-乙烯基羧酸醯胺類、苯乙烯、α-甲基苯乙烯、N-乙烯基己內醯胺等的乙烯基系單體；丙烯腈、甲基丙烯腈等的氰基丙烯酸酯系單體；環氧(甲基)丙烯酸酯等的環氧基含有丙烯酸系單體；聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯等的二醇系丙烯酸酯單體；(甲基)丙烯酸四氫糠酯、氟(甲基)丙烯酸酯、矽氧(甲基)丙烯酸酯及2-甲氧乙基丙烯酸酯等的丙烯酸酯系單體等。進一步係可列舉如異戊二烯、丁二烯、異丁烯、乙烯基醚等。
進一步，作為上述以外之可共聚合的單體，係可 舉如含有矽原子的矽烷矽單體。作為矽烷矽單體，係可舉例如：3-丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、4-乙烯基丁基甲氧基矽烷、4-乙烯基丁基三乙氧基矽烷、8-乙烯基辛基三甲氧基矽烷、8-乙烯基辛基三乙氧基矽烷、10-甲基丙烯醯氧癸基三甲氧基矽烷、10-丙烯醯基氧癸基三甲氧基矽烷、10-甲基丙烯醯氧癸基三乙氧基矽烷、10-丙烯醯基氧癸基三乙氧基矽烷等。
又，亦可使用下述作為共聚合單體：雙(甲基)丙 烯酸三伸丙二醇酯、雙(甲基)丙烯酸四乙二醇酯、1,6-己二醇雙(甲基)丙烯酸酯、丙二酚A二環氧甘油醚雙(甲基)丙烯酸酯、雙(甲基)丙烯酸新戊二醇酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、己內酯改質二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等的(甲基)丙烯酸與多價醇之酯化物等具有2個以上的(甲基)丙烯醯基、乙烯基等的不飽和雙鍵之多官能性單體；及在聚酯、環氧、胺甲酸乙酯等的骨架上附加2個以上的(甲基)丙烯醯基、乙烯基等的不飽和雙鍵作為與單體成分相同的官能基所形成的聚酯(甲基)丙烯酸酯、環氧(甲基)丙烯酸酯、胺甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯等。
(甲基)丙烯酸系聚合物(A)在全構成單體的重量 比率中，係以烷基(甲基)丙烯酸酯為主成分，且(甲基)丙烯酸系聚合物(A)中之前述共聚合單體的比例雖無特別限制，但前述共聚合單體的比例在全構成單體的重量比率中係以0~20%左右、0.1~15%左右，甚至是0.1~10%左右為佳。
即便是在該等共聚合單體中，從接著性、耐久性 的點看來，係宜使用含羥基單體、含羧基單體。含羥基單體及含羧基單體係可併用。該等共聚合單體在黏著劑組成物含有交聯劑的情況下，將成為與交聯劑的反應點。含羥基單體、含羧基單體等因與分子間交聯劑之反應性豐富之故，被適宜的使用於提高所獲得之黏著劑層的凝集性及耐 熱性。含羥基單體從再加工性的點看來為佳，又含羧基單體係在耐久性與再加工性並立的點上為佳。
作為共聚合單體，再含有含羥基單體的情形，其 比例宜為0.01~15重量%，較宜為0.03~10重量%，更宜為0.05~7重量%。作為共聚合單體，在含有含羧基單體的情形，其比例宜為0.05~10重量%，較宜為0.1~8重量%，更宜為0.2~6重量%。
本發明之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)通常係使用 重量平均分子量在50萬~300萬之範圍者。若考慮耐久性，特別是耐熱性，則宜使用重量平均分子量為70萬~270萬者。更宜為80萬~250萬。重量平均分子量若小於50萬，則在耐熱性的點上不宜。又，重量平均分子量若大於300萬，則為了要調整到用於塗布的黏度故需要大量的稀釋溶劑，而造成成本提高因而不宜。再者，重量平均分子量係利用GPC(gel permeation chromatography(凝膠滲透層析術))來測定，利用聚苯乙烯換算所算出的值。
該種(甲基)丙烯酸系聚合物(A)之製造係可適宜 地選擇溶液聚合、塊狀聚合、乳化聚合、各種自由基聚合等的公知的製造方法。又，所獲得之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)係可為隨機共聚物、嵌段共聚物、接枝共聚物等任一者。
再者，在溶液聚合中，作為聚合溶媒係可使用例 如醋酸乙酯、甲苯等。就具體的溶液聚合例而言，反應係在氮等的惰性氣體氣流下，加入聚合起始劑，通常是以在50~70℃左右，5~30小時左右之反應條件來進行。
自由基聚合所使用的聚合起始劑、鏈轉移劑、乳 化劑等係可無特別限定地適宜選擇來使用。再者，(甲基)丙烯酸系聚合物(A)的重量平均分子量係可藉由聚合起始劑、鏈轉移劑之使用量、反應條件來控制，並視該等之種類來調整其適宜的使用量。
作為聚合起始劑，係可舉例如：2,2’-偶氮雙異丁 腈、2,2’-偶氮(2-甲脒基丙烷)二鹽酸鹽、2,2’-偶氮雙[2-(5-甲基-2二氫咪唑-2-基)丙烷]二鹽酸鹽、2,2’-偶氮雙(2-甲基丙脒)二硫酸鹽、2,2’-偶氮雙(N,N’-二伸甲基異丁基脒)、2,2’-偶氮雙[N-(2-羧乙基)-2-甲基丙脒]水合物(和光醇藥公司製，VA-057)等的偶氮系起始劑、過硫酸鉀、過硫酸銨等的過硫酸鹽、二(2-乙基己基)過氧二碳酸酯、二(4-第三丁基環己基)過氧二碳酸酯、二-第二丁基過氧二碳酸酯、過氧新癸酸第三丁酯、過氧異丁酸第三己酯、過氧異丁酸第三丁酯、二月桂醯過氧化物、二正辛醯過氧化物、1,1,3,3-四甲基丁基過氧-2-乙基己酸酯、二(4-甲基苯甲醯)過氧化物、二苯甲醯過氧化物、過氧乙丁酸第三丁酯、1,1-二(第三己基過氧)環己烷、第三丁基氫過氧化物、過氧化氫等的過氧化物系起始劑、過硫酸鹽與亞硫酸氫鈉的組合，過氧化物與與抗壞血酸鈉之組合等的過氧化物與還原劑所組合而成的氧化還原系起始劑等，但並非受限於該等者。
前述聚合起始劑係可單獨使用，亦可將2種以上 混合使用，整體而言的含有量相對於單體100重量份宜為0.005~1重量份左右，且較宜為0.02~0.5重量份左右。
再者，作為聚合起始劑，例如在使用2,2’-偶氮雙 異丁腈來製造前述重量平均分子量之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)時，聚合起始劑的使用量相對於單體成分之全量100重量份，係宜設為0.06~0.2重量份左右，更宜設為0.08~0.175重量份左右。
作為鏈轉移劑，係可舉例如：月桂基硫醇、環氧 丙基硫醇、巰乙酸、2-巰乙醇、硫乙醇酸、硫乙醇酸2-乙基己酯、2,3-二氫硫丙-1-醇等。鏈轉移劑係可單獨使用，或將2種以上混合使用，但以全體計之含量相對於單體成分的全量100重量份係0.1重量份左右以下。
又，作為乳化聚合時所用的乳化劑，係可舉例如 月桂基硫酸鈉、月桂基硫酸銨、十二基苯磺酸鈉、聚氧乙烯烷基醚硫酸銨、聚氧乙烯烷基苯基醚硫酸鈉等的陰離子系乳化劑、聚氧乙烯烷基醚、聚氧乙烯烷基苯基醚、聚氧乙烯脂肪酸酯、聚氧乙烯-聚氧丙烯嵌段聚合物等的非離子系乳化劑等。該等的乳化劑係可單獨使用亦可將2種以上併用。
進一步，作為反應性乳化劑，作為將丙烯基、芳 基醚基等的自由基聚合性官能基導入而成之乳化劑，具體而言係例如：Aqualon HS-10、HS-20、KH-10、BC-05、BC-10、BC-20(以上任一者皆第一工業製藥公司製)、Adekariasoap SE10N(旭電化工公司製)等。反應性乳化劑由於是在聚合後才被聚合物鏈拉進來之故，耐水性變好而為佳。乳化劑的使用量相對於單體成分之全量100重量份為 0.3~5重量份，從聚合安定性及機械的安定性看來，以0.5~1重量份為較佳。
本發明之黏著劑組成物，除了前述(甲基)丙烯酸 系聚合物(A)之外，還含有離子性化合物(B)，該離子性化合物(B)係具有陰離子成分及陽離子成分。
(離子性化合物(B)之陰離子成分)
在本發明中，其特徵在於其陰離子成分係以下述通式(1)：(CnF2n+1SO2)2N- (1)
(通式(1)中，n係3~10之整數)及下述通式(2)：CF2(CmF2mSO2)2N- (2)
(通式(2)中、m2~10之整數)所表示之至少1種的陰離子成分。
作為上述通式(1)所表示之陰離子成分，具體而言，係可舉如雙(七氟丙烷磺醯基)亞醯胺陰離子、雙(九氟丁烷磺醯基)亞醯胺陰離子、雙(十一氟戊烷磺醯基)亞醯胺陰離子、雙(十三氟己烷磺醯基)亞醯胺陰離子、雙(十五氟庚烷磺醯基)亞醯胺陰離子等。該等之中尤其以雙(七氟丙烷磺醯基)亞醯胺陰離子或雙(九氟丁烷磺醯基)亞醯胺陰離子為特佳。
作為以上述通式(2)所表示之陰離子成分，具體而言，可舉例如環狀-六氟丙烷-1,3-雙(磺醯基)亞醯胺陰離子，可適宜地使用。
(離子性化合物(B)之陽離子成分)
就離子性化合物(B)的陽離子成分而言，可列舉如鋰、 鈉、鉀之鹼金屬離子，與上述的陰離子成分一起，構成作為離子性化合物(B)之鹼金屬鹽。鹼金屬離子之中尤其，在由含有具鋰離子之離子性化合物(B)的黏著劑組成物所構成之黏著劑層中，初期的表面電阻值有上升的傾向。另一方面，在含有具鋰離子之離子性化合物(B)的情形，可抑制黏著劑層之初期的表面電阻值及加濕後的表面電阻值之上升。
一般而言，黏著劑組成物中之離子性化合物(B) 的比例若提高，抗靜電性能雖提高，但卻有耐久性變得不足之傾向，抗靜電機能與耐久性係有二律背反的傾向。然而，在使用具鋰離子之離子性化合物(B)的情形，即便離子性化合物(B)的比例降低，仍可提高抗靜電機能，特別是抗靜電機能之加濕耐久性。因此，在本發明中，特別是考慮到抗靜電機能之加濕耐久性的情形，係以具有鋰離子之離子性化合物(B)為佳。
作為鹼金屬鹽，具體而言係可列舉如：雙(七氟 丙烷磺醯基)亞醯胺鋰、雙(七氟丙烷磺醯基)亞醯胺鈉、雙(七氟丙烷磺醯基)亞醯胺鉀、雙(九氟丁烷磺醯基)亞醯胺鋰、雙(九氟丁烷磺醯基)亞醯胺鈉、雙(九氟丁烷磺醯基)亞醯胺鉀、環狀-六氟丙烷-1,3-雙(磺醯基)亞醯胺鋰、環狀-六氟丙烷-1,3-雙(磺醯基)亞醯胺鈉、環狀-六氟丙烷-1,3-雙(磺醯基)亞醯胺鉀等。該等之中尤其以雙(七氟丙烷磺醯基)亞醯胺鋰、雙(九氟丁烷磺醯基)亞醯胺鋰、環狀-六氟丙烷-1,3-雙(磺醯基)亞醯胺鋰為特佳。
進一步，作為離子性化合物(B)之陽離子成分， 可舉如有機陽離子，與上述之陰離子成分一起，構成作為離子性化合物(B)之有機陽離子-陰離子鹽。「有機陽離子-陰離子鹽」亦可指離子性液體、離子性固體而言。作為有機陽離子，具體而言，吡啶陽離子、六氫哌啶陽離子、咯烷陽離子、具有二氫吡咯骨架的陽離子、具有吡咯骨架的陽離子、咪唑陽離子、四氫嘧啶鎓陽離子、二氫嘧啶鎓陽離子、唑陽離子、二氫吡唑陽離子、四烷基銨陽離子、三烷基鋶陽離子、四烷基鏻陽離子等。
作為有機陽離子-陰離子鹽之具體例，係可適宜 選擇由上述陽離子成分與陰離子成分之組合所構成之化合物來使用，可舉例如：1-丁基-3-甲基吡啶雙(七氟丙烷磺醯基)亞醯胺、1-丁基-3-甲基吡啶雙(九氟丁烷磺醯基)亞醯胺、1-丁基-3-甲基吡啶環狀-六氟丙烷-1,3-雙(磺醯基)亞醯胺、1-乙基-3-甲基咪唑雙(七氟丙烷磺醯基)亞醯胺亞醯胺、1-乙基-3-甲基咪唑雙(九氟丁烷磺醯基)亞醯胺、1-乙基-3-甲基咪唑環狀-六氟丙烷-1,3-雙(磺醯基)亞醯胺等。
本發明之黏著劑組成物之離子性化合物(B)的比 例，相對於(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，係宜為0.001~10重量份。前述化合物(B)未滿0.001重量份的情況，有時會有抗靜電性能的提高效果不充分的情形。前述化合物(B)係以0.01重量份以上為佳，更以0.1重量份以上為佳。另一方面，前述離子性化合物(B)若較10重量份多，則有耐久性變得不充分的情況。前述化合物(B)係以5重量份以下 為佳，進一步係以3重量份以下為佳。前述化合物(B)之比例係可採用前述上限值或下限值來設定較佳範圍。
進一步，在本發明之黏著劑組成物中，可含有交 聯劑(C)。就交聯劑(C)而言，可使用有機系交聯劑及多官能性金屬螯合物。作為有機系交聯劑，係可舉如異氰酸酯系交聯劑、過氧化物系交聯劑、環氧系交聯劑、亞胺系交聯劑等。多官能性金屬螯合物係多價金屬與有機化合物共價鍵結或配位鍵結而成者。作為多價金屬原子係可列舉如：Al、Cr、Zr、Co、Cu、Fe、Ni、V、Zn、In、Ca、Mg、Mn、Y、Ce、Sr、Ba、Mo、La、Sn、Ti等。作為共價鍵結或配位鍵結之有機化合物中的原子係可舉如氧原子等，作為有機化合物係可舉如烷基酯、醇類化合物、羧酸化合物、醚化合物、酮化合物等。
作為交聯劑(C)，係以異氰酸酯系交聯劑及/或過 氧化物系為佳。就異氰酸酯系交聯劑之化合物而言，係可舉例如二異氰酸甲苯酯、氯伸苯基二異氰酸酯、四伸甲基二異氰酸酯、二甲苯二異氰酸酯、二苯基甲烷二異氰酸酯、經氫化之二苯基甲烷二異氰酸酯等的異氰酸酯單體，及將該等異氰酸酯單體與三羥甲基丙烷等加成而得之異氰酸酯化合物或異氰酸化物、滴定型化合物，進一步，聚醚聚醇或聚酯聚醇、丙烯基多元醇、聚丁二烯多元醇、聚異戊二烯多元醇等經加成反應而得之胺甲酸乙酯預聚合物型的異氰酸酯等。特別適宜的是聚異氰酸酯化合物，係由六伸甲基二異氰酸酯、氫化二甲苯二異氰酸酯、及異佛酮二異氰 酸酯所構成之群所選出之1種或由其衍生而來之聚異氰酸酯化合物。在此，就由六伸甲基二異氰酸酯、氫化二甲苯二異氰酸酯、及異佛酮二異氰酸酯所構成之群所選出之1種或由其衍生而來之聚異氰酸酯化合物而言，係包含六伸甲基二異氰酸酯、氫化二甲苯二異氰酸酯、異佛酮二異氰酸酯、多元醇改質六伸甲基二異氰酸酯、多元醇改質氫化二甲苯二異氰酸酯、三聚物型氫化二甲苯二異氰酸酯及多元醇改質異佛酮二異氰酸酯等。所例示之聚異氰酸酯化合物與氫氧基的反應，特別是以聚合物中所包含之酸、鹼基為觸媒，而得以迅速地進行之故，特別有助於交聯的快速進行而為佳。
作為過氧化物，只要是藉由加熱或光照射使自由 基活性種產生來進行黏著劑組成物之基底聚合物的交聯者，即可適宜地使用，考慮到作業性及安定性，宜使用1分鐘半衰期溫度為80℃~160℃之過氧化物，且較宜使用1分鐘半衰期溫度為90℃~140℃之過氧化物。
作為可用的過氧化物，可列舉例如：二(2-乙基 己基)過氧二碳酸酯(1分鐘半衰期溫度：90.6℃)、二(4-第三丁基環己基)過氧二碳酸酯(1分鐘半衰期溫度：92.1℃)、二-第二丁基過氧二碳酸酯(1分鐘半衰期溫度：92.4℃)、第三丁基過氧新癸酸(1分鐘半衰期溫度：103.5℃)、過氧異丁酸第三己酯(1分鐘半衰期溫度：109.1℃)、過氧異丁酸第三丁酯(1分鐘半衰期溫度：110.3℃)、二月桂醯過氧化物(1分鐘半衰期溫度：116.4℃)、二正辛醯過氧化物(1分鐘半衰期溫 度：117.4℃)、1,1,3,3-四甲基丁基過氧-2-乙基己酸酯(1分鐘半衰期溫度：124.3℃)、二(4-甲基苯甲醯)過氧化物(1分鐘半衰期溫度：128.2℃)、二苯甲醯過氧化物(1分鐘半衰期溫度：130.0℃)、第三丁基過氧乙丁酸酯(1分鐘半衰期溫度：136.1℃)、1,1-二(第三己基過氧)環己烷(1分鐘半衰期溫度：149.2℃)等。其中特別是從交聯反應效率優異的點看來，係可適宜地使用二(4-第三丁基環己基)過氧二碳酸酯(1分鐘半衰期溫度：92.1℃)、二月桂醯過氧化物(1分鐘半衰期溫度：116.4℃)、二苯甲醯過氧化物(1分鐘半衰期溫度：130.0℃)等。
再者，過氧化物的半衰期係表示過氧化物之分解 速度的指標，指的是過氧化物的殘存量變成一半為止的時間。關於為了以任意時間為半衰期之分解溫度，或在任意溫度之半衰期時間，係記載於製造商型錄等中，例如，記載於日本油脂股份公司的「有機過氧化物型錄第9版(2003年5月)」等。
交聯劑(C)的使用量，相對於(甲基)丙烯酸系聚合 物(A)100重量份，係以0.01~20重量份為佳，進一步係以0.03~10重量份為佳。再者，交聯劑(C)未滿0.01重量份時，黏著劑的凝集力會有不足的傾向，在加熱時有產生發泡的疑慮，另一方面，若較20重量份多，則耐濕性就不充分，而變得容易在信賴性試驗等中產生剝離的情形。
上述異氰酸酯系交聯劑係可單獨使用1種，又亦 可將2種以上混合使用，就全體而言之含有量，相對於前述 (甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，前述聚異氰酸酯化合物交聯劑係宜為0.01~2重量份，較宜為0.02~2重量份，更宜為0.05~1.5重量份。考慮在凝集力、耐久性試驗中剝離的阻止等，可使其適宜地含有。
前述過氧化物係可單獨使用1種，亦可混合2種以 上來使用，但就全體的含量而言，相對於前述前述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，前述過氧化物為0.01~2重量份，且以0.04~1.5重量份為佳，以0.05~1重量份為較佳。為了調整加工性、再加工性、交聯安定性、剝離性等，可在該範圍內適宜選擇。
再者，就反應處理後之殘存的過氧化物分解量的 測定方法而言，例如，可藉由HPLC(高速液體層析法)來測定。
較具體而言，例如，將反應處理後的黏著劑組成 物約每0.2g份別取出，浸漬於10ml醋酸乙酯中，利用振動機在25℃下、以120rpm進行3小時振動萃取之後，在室溫下靜置3天。接著，加入乙腈10ml，在25℃下以120rpm振動30分鐘，將利用膜過濾器(0.45μm)過濾所得之萃取液約10μl注入HPLC進行分析，可設為反應處理後之過氧化物量。
進一步，本發明的黏著劑組成物中，可含有矽烷耦合劑(D)。藉由使用矽烷耦合劑(D)，可使耐久性提高。具體而言，作為矽烷耦合劑可列舉例如：3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、2-(3,4-環氧環己基)乙基三 甲氧基矽烷等含環氧基矽烷耦合劑、3-胺丙基三甲氧基矽烷、N-2-(胺乙基)-3-胺丙基甲基二甲氧基矽烷、3-三乙氧基矽基-N-(1,3-二甲基亞丁基)丙胺、N-苯基-γ-胺丙基三甲氧基矽烷之含胺基矽烷耦合劑、3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷之含(甲基)丙烯醯基矽烷耦合劑、3-異氰酸酯丙基三乙氧基矽烷等之含異氰酸酯基矽烷耦合劑等。
前述矽烷耦合劑(D)係可單獨使用，或將2種以上 混合使用，但就全體而言的含有量，相對於前述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，前述矽烷耦合劑係以0.001~5重量份為佳，更以0.01~1重量份為佳，且以0.02~1重量份為較佳，進一步更以0.05~0.6重量份為佳。為使耐久性提高，並適度地保持對液晶胞之光學構件的接著力之量。
進一步，在本發明之黏著劑組成物中，可配入聚 醚改質矽(E)。聚醚改質矽(E)係可使用例如在日本專利特開2010-275522號公報中所揭示者。
聚醚改質矽(E)係具有聚醚骨架，且在至少1末端 具有以下述通式(3)：-SiRaM3-a
(式中，R亦可具有取代基，係碳數1~20之1價的有機基，M為氫氧基或可水解基，a為0~2之整數。但當R複數存在時，複數之R彼此可相同或不同，當M複數存在時，複數之M彼此可相同或不同。)所表示之反應性矽烷基。)
作為前述聚醚改質矽(E)，係可舉如由通式(4)：RaM3-aSi-X-Y-(AO)n-Z
(式中，R亦可具有取代基，為碳數1~20之1價的有機基，M為氫氧基或可水解基，a為0~2之整數。但當R複數存在時，複數之R彼此可相同或不同，當M複數存在時，複數之M彼此可相同或不同。)所表示之反應性矽烷基。AO係表示直鏈或支鏈的碳數1~10之氧伸烷基，n係1~1700，表示氧伸烷基之平均加成莫耳數。X係表示碳數1~20之直鏈或支鏈的伸烷基。Y係醚鍵、酯鍵、胺甲酸乙酯鍵、或碳酸酯鍵示。
Z係氫原子、1價之碳數1~10的烴基、由通式(4A)：-Y1-X-SiRaM3-a
(式中、R、M、X、a係與前述相同。Y1係表示單鍵、-CO-鍵、-CONH-鍵、或-COO-鍵。)、或由通式(4B)：-Q{-(OA)n-Y-X-SiRaM3-a}m
(式中R、M、X、Y、a係與前述相同。OA係與前述的AO相同，n係與前述相同。Q係2價以上之碳數1~10的烴基，m係與該烴基的價數相同。)所表示之基團。)所表示之化合物。
作為聚醚改質矽(E)之具體例，係可舉例如：KANEKA公司製的MS聚合物S203、S303、S810；SILYL EST250、EST280；Silyl SAT10、Silyl SAT200、Silyl SAT220、Silyl SAT350、Silyl SAT400、旭硝子公司製的EXCESTAR S2410、S2420或S3430等。
進一步在本發明之黏著劑組成物中，亦可含有其他公知的添加劑，例如，視使用用途可適宜添加：著色劑、 顏料等的粉體、染料、界面活性劑、可塑劑、黏著性賦予劑、表面潤滑劑、均染劑、軟化劑、抗氧化劑、抗老化劑、光安定劑、紫外線吸收劑、聚合抑制劑、無機或有機的充填劑、金屬粉、粒子狀、箔狀物等。又，在可控制的範圍內，亦可採用加入還原劑之氧化還原系。
利用前述黏著劑組成物來形成黏著劑層，在黏著劑層之形成時，宜一邊調整交聯劑全體的添加量，一邊充分考慮交聯處理溫度及交聯處理時間的影響。
藉由所使用的交聯劑，可調整交聯處理溫度及交聯處理時間。交聯處理溫度係以170℃以下為佳。
又，該交聯處理係可在黏著劑層之乾燥步驟時的溫度下進行，亦可在乾燥步驟後設置另外的交聯處理步驟。
又，關於交聯處理時間，可考慮生產性及作業性來進行設定，但通常為0.2~20分鐘左右，且宜為0.5~10分鐘左右。
本發明之附黏著劑層的偏光板係在偏光板之至少單面，利用前述黏著劑組成物來形成黏著劑層者。
作為形成黏著劑層之方法，係可利用下述方法來製作：將前述黏著劑組成物塗布於經剝離處理之隔板等上，將聚合溶劑等乾燥去除而形成黏著劑層後，轉印至偏光板的方法，或在偏光板上塗布前述黏著劑組成物，將聚合溶劑等乾燥去除而將黏著劑層形成於偏光板上的方法等。再者，在黏著劑塗布時，亦可適當地重新添加聚合溶劑以外之一種以上的溶劑。
作為經剝離處理之隔板，可適宜地使用矽剝離墊 片。在該種墊片上塗布本發明之接著劑組成物，使其乾燥而形成黏著劑層之步驟中，使黏著劑乾燥的方法係可視目的採用適宜、適切的方法。較佳係使用將上述塗布膜過熱乾燥的方法。加熱乾燥溫度係以40℃~200℃為佳，以50℃~180℃為較佳，且以70℃~170℃為特佳。藉由將加熱溫度設在上述的範圍內，可獲得具有優異黏著特性之黏著劑。
乾燥時間係可採用適宜、適切的時間。上述乾燥 時間係以5秒~20分鐘為佳，且以5秒~10分鐘為更佳，且以10秒~5分鐘為特佳。
又，在偏光板的表面上形成固定層，並在施行電 暈處理、電漿處理等的各種易接著處理後形成黏著劑層。又，亦可在黏著劑層的表面進行易接著處理。
作為黏著劑層的形成方法，係使用各種方法。具 體而言，可舉例如：輥塗布、接觸輥塗布、凹版塗布、逆塗布、輥刷、噴塗、浸漬輥塗布、棒式塗布、刮刀塗布、浮刀塗布、簾式塗布、噴嘴塗布、利用模具塗布機等之壓出塗布法等的方法。
黏著劑層的厚度並無特別限制，例如在1~100μm左右。宜為2~50μm較宜為2~40μm，更宜為5~35μm。
在前述黏著劑層露出的情況中，直到供實際使用之前，亦可以經剝離處理之薄片(隔板)來保護黏著劑層。
作為隔板的構成材料，可舉例如聚乙烯、聚丙 烯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚酯膜等的塑膠膜，紙、布、不織布等的多孔質材料，網、發泡薄片、金屬箔及該等之積層體等的適宜的薄層體等，但從表面平滑性優異的點看來，可適宜地使用塑膠膜。
作為該塑膠膜，只要是可保護前述黏著劑層的膜 便無特別限制，可舉例如聚乙烯膜、聚丙烯膜、聚丁烯膜、聚丁二烯膜、聚甲基戊烯膜、聚氯乙烯膜、氯乙烯共聚物膜、聚對苯二甲酸乙二酯膜、聚對苯二甲酸丁二酯膜、聚胺甲酸乙酯膜、乙烯-醋酸乙烯酯共聚物膜等。
前述隔板的厚度通常為5~200μm，較宜為 5~100μm左右。在前述隔板上，可視需要利用矽系、氟系、長鏈烷基系或脂肪酸醯胺系的脫模劑、矽粉等來進行脫模及防汙處理，亦可進行塗布型、捏揉型、蒸鍍型等的抗靜電處理。特別是，藉由在前述隔板之表面適宜地進行矽處理、長鏈烷基處理、氟處理等的剝離處理，可更加提高從前述黏著劑層的剝離性。
再者，上述之附黏著劑層之偏光板的製作時所使 用之經剝離處理的薄片，係可直接作為附黏著劑層之偏光板的隔板來使用，而可在工程面上簡略化。
本發明之附黏著劑層之偏光板係至少具有偏光 板與前述記載之黏著劑層者，偏光板通常係使用在偏光子之單面或兩面有透明保護膜者。
偏光子並無特別限定，而可使用各種樣式。作為 偏光子，係可舉例如在聚乙烯醇系膜、部分縮甲醛化聚乙 烯醇系膜、乙烯/醋酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等的親水性高分子膜上，使碘或二色性染料之二色性物質吸附，經單軸拉伸而得者，聚乙烯醇之脫水處理物及聚氯乙烯之脫鹽酸處理物等聚烯系配向膜等。該等之中尤其是以由聚乙烯醇系膜與碘等的二色性物質所構成之偏光子為適宜。該等偏光子的厚度並無特別限制，一般而言係在80μm左右以下。
將聚乙烯醇系膜以碘染色而經單軸拉伸之偏光 子，例如可將聚乙烯醇浸漬於碘的水溶液中來染色，藉由拉伸為原長之3~7倍來作成。還能浸漬於亦可視需要含有硼酸或硫酸鋅、氯化鋅等之碘化鉀等的水溶液中。視需要亦可進一步在染色前將聚乙烯醇系膜浸漬在水中進行水洗。除了可藉由水洗聚乙烯醇系膜來將聚乙烯醇系膜表面的汙垢或抗結塊劑洗淨之外，藉由使聚乙烯醇系膜膨潤，還有防止染色不均等不均一的效果。拉伸係可在以碘染色後進行，亦可一邊染色一邊拉伸，又亦可在拉伸後再以典染色。亦可在硼酸或碘化鉀等的水溶液或水浴中拉伸。
又，就偏光子的厚度而言，係可使用厚度在10μm以下的薄型偏光子。就薄型化的觀點而言，該厚度宜為1~7μm。該種薄型的偏光子係少有厚度不均，而視見度優異，又因尺寸變化少故耐久性優異，而且就偏光板的厚度而言，亦以謀求薄型化的點為佳。
作為薄型的偏光子，代表性的係可列舉如：日本專利特開昭51-069644號公報、特開2000-338329號公報、 WO2010/100917號手冊、PCT/JP2010/001460的說明書，或特願2010-269002號說明書及特願2010-263692號說明書所記載之薄型偏光膜。該等薄型偏光膜係可藉由包含將聚乙烯醇系樹脂(以下亦稱為PVA系樹脂)層與拉伸用樹脂基材在積層體的狀態下拉伸的步驟，與染色的步驟之製法來獲得。若為此製法，則即便PVA系樹脂層薄，因受拉伸用樹脂基材支持，而能在無斷裂等不佳狀況的情形下拉伸。
作為前述薄型偏光膜，即便是在含有以積層體狀 態拉伸的步驟與染色步驟之製法中，從可以高倍率地拉伸而使偏光性能提高的點看來，係以WO2010/100917號手冊、PCT/JP2010/001460的說明書、或特願2010-269002號說明書及特願2010-263692號說明書所記載之包含在某硼酸水溶液中之拉伸步驟的製法所製得者為佳，特別是以在特願2010-269002號說明書及特願2010-263692號說明書中記載的硼酸水溶液中拉伸前，含有輔助性空中拉伸步驟之製法所製得者為佳。
在上述PCT/JP2010/001460之說明書中記載的薄 型高機能偏光膜係由在樹脂基材上以一體的方式製膜，使二色性物質經配向而得之PVA系樹脂所構成之厚度在7μm以下的薄型高機能偏光膜，具有單體透過率在42.0%以上及偏光度在99.95%以上之光學特性。
上述薄型高機能偏光膜係可藉由在具有至少 20μm之厚度的樹脂基材上，藉由PVA系樹脂的塗布及乾燥來生成PVA系樹脂層，將所生成之PVA系樹脂層浸漬於二色 性物質的染色液中，在PVA系樹脂層上使二色性物質吸附，將吸附有二色性物質的PVA系樹脂層，在硼酸水溶液中，與樹脂基材以一體且總拉伸倍率為原長之5倍以上的方式來製造。
又，一種製造含有配向有二色性物質之薄型高機能偏光膜的積層體膜的方法，藉由具備下述步驟可製造上述薄型高機能偏光膜：生成積層體膜的步驟，該積層體膜係具有至少具20μm厚度的樹脂基材，與在樹脂基材之單面上塗布含PVA系樹脂水溶液及乾燥所形成之PVA系樹脂層；將前述包含樹脂基材與在樹脂基材單面上所形成的PVA系樹脂層，浸漬於含有二色性物質的染色液中，藉此使二色性物質吸附於積層體膜所含有的PVA系樹脂層的步驟；將含有吸附有二色性物質之PVA系樹脂層的前述積層體膜，置於硼酸水溶液中，以總拉伸倍率為原長5倍以上的方式拉伸的步驟；積層體膜製造步驟，該積層體膜係使下述偏光膜製膜而成者，將吸附有二色性物質之PVA系樹脂層與樹脂基材以一體的方式被拉伸，藉此可製造由在樹脂基材的單面上配向有二色性物質之PVA系樹脂層所構成，厚度在7μm以下，且具有單體透過率在42.0%以上、偏光度在99.95%以上之光學特性的薄型高機能偏光膜。
在本發明中，如上所述，在上述附黏著劑層之偏光板中，作為厚度在10μm以下之偏光子，可使用由配向有二色性物質之PVA系樹脂所構成之連續波的偏光膜，係在熱可塑性樹脂基材上製膜而得之含有聚乙烯醇系樹脂層的 積層體利用由空中補助拉伸與硼酸水中拉伸所構成之2段拉伸步驟來拉伸而得者。作為前述熱可塑性樹脂基材，係以非晶性酯系熱可塑性樹脂基材或結晶性酯系熱可塑性樹脂基材為佳。
上述之特願2010-269002號說明書或特願 2010-263692號說明書之薄型偏光膜，係由配向有二色性物質之PVA系樹脂所構成之連續波的偏光膜，含有在非晶性酯系熱可塑性樹脂基材上經製膜而得之PVA系樹脂層的積層體，利用由空中補助拉伸與硼酸水中拉伸所構成之2段拉伸步驟來拉伸，可使其成為厚度10μm以下者。該薄型偏光膜將單體透過率設為T、偏光度設為P時，係宜為以具有滿足下述條件之光學特性的方式來形成者：P>-(100.929T-42.4-1)×100(惟T<42.3)、及P≧99.9(惟T≧42.3)。
具體而言，前述薄型偏光膜係可藉由包含下述步 驟之薄型偏光膜的製造方法來製造：藉由對在連續波的非晶性酯系熱可塑性樹脂基材上製膜而成之PVA系樹脂層進行空中高溫拉伸，來生成由經配向之PVA系樹脂層所構成之拉伸中間生成物；藉由二色性物質對拉伸中間生成物之吸附，來生成由配向有二色性物質(宜為碘或碘與有機染料之混合物)之PVA系樹脂層所構成之著色中間生成物的步驟；藉由對著色中間生成物之硼酸水中拉伸，來生成由配向有二色性物質之PVA系樹脂層所構成之，厚度10μm以下的偏光膜之步驟。
在該製造方法中，藉由空中高溫拉伸與硼酸水中 拉伸在非晶性酯系熱可塑性樹脂基材上製膜而得之PVA系樹脂層的總拉伸倍率期望成為5倍以上。用於硼酸水中拉伸之硼酸水溶液的液溫可設為60℃以上。在硼酸水溶液中拉伸著色中間生成物前，期望對著色中間生成物施行不溶化處理，該種情形，期望藉由在液溫不超過40℃之硼酸水溶液中浸漬前述著色中間生成物來進行。上述非晶性酯系熱可塑性樹脂基材係可設為使異酞酸共聚合所形成之共聚合聚對苯二甲酸乙二酯、使環己烷二甲醇共聚合所得之共聚合聚對苯二甲酸乙二酯或其他含有共聚合聚對苯二甲酸乙二酯之非晶性聚對苯二甲酸乙二酯，以由透明樹脂所構成者為佳；其厚度係可設為經製膜之PVA系樹脂層厚度的7倍以上。又，空中高溫拉伸之拉伸倍率係宜為3.5倍以下，空中高溫拉伸之拉伸溫度係在PVA系樹脂之玻璃轉移溫度以上，具體而言係以95℃~150℃之範圍為佳。將空中高溫拉伸以自由端單軸拉伸來進行的情況，在非晶性酯系熱可塑性樹脂基材上經製膜而得之PVA系樹脂層的總拉伸倍率係以5倍以上7.5倍以下為佳。又，將空中高溫拉伸以固定端單軸拉伸來進行的情況，在非晶性酯系熱可塑性樹脂基材上經製膜而得之PVA系樹脂層的總拉伸倍率係宜在5倍以上8.5倍以下。
更具體而言，可藉由下述的方法來製造薄型偏光膜。
製作將6mol%異酞酸共聚合而得之異酞酸共聚合聚對苯二甲酸乙二酯(非晶性PET)之連續波的基材。非晶性PET的玻璃轉移溫度為75℃。將由連續波的非晶性PET基 材與聚乙烯醇(PVA)層所構成之積層體，如下述方法製作。另外，PVA的玻璃轉移溫度為80℃。
準備200μm厚之非晶性PET基材，與將聚合度1000以上、皂化度99%以上的PVA粉末溶解於水中所得之4~5%濃度的PVA水溶液。接著，在200μm厚的非晶性PET基材上塗布PVA水溶液，以50~60℃之溫度乾燥，獲得在非晶性PET基材上製膜7μm厚的PVA層的積層體。
將含7μm厚PVA層的積層體，經包含空中補助拉伸及硼酸水中拉伸之2段拉伸步驟之以下的步驟，來製造3μm厚的薄型高機能偏光膜。藉由第1段的空中補助拉伸步驟，將含7μm厚PVA層的積層體與非晶性PET基材以一體的方式拉伸，生成含5μm厚之PVA層的拉伸積層體。具體而言，該拉伸積層體係將含7μm厚之PVA層的積層體，掛在配備於設定成130℃之拉伸溫度環境的爐中之拉伸裝置上，以使拉伸倍率成為1.8倍的方式，從自由端單軸拉伸而得者。藉由該拉伸處理，使拉伸積層所包含之PVA層變化為PVA分子經配向之5μm厚的PVA層。
接著，藉由染色步驟，生成在PVA分子經配向之5μm厚之PVA層上使碘吸附而得的著色積層體。具體而言，該著色積層體係將拉伸積層體於液溫30℃之含碘及碘化鉀的染色液中浸漬任意時間，以期構成最終要生成之高機能偏光膜的PVA層之單體透過率成為40~44%，藉此使碘吸附於拉伸積層體所含之PVA層而得者。在本步驟中，染色液係以水為溶媒，將碘濃度設在0.12~0.30重量%之範圍內， 將碘化鉀濃度設在0.7~2.1重量%之範圍內。碘與碘化鉀濃度之比係1比7。另外，要將碘溶於水中是需要碘化鉀的。較詳細而言，藉由在碘濃度0.30重量%、碘化鉀濃度2.1重量%之染色液中，將拉伸積層體浸漬60秒，使碘吸附於PVA分子經配向之5μm厚的PVA層，而生成著色積層體。
進一步，藉由第2段之硼酸水中拉伸步驟，將著色積層體與非晶性PET基材以一體的方式進一步拉伸，生成光學膜積層體；該光學膜積層體係含有構成3μm厚之高機能偏光膜的PVA層。具體而言，該光學膜積層體係在將著色積層體掛在配備於含硼酸與碘化鉀之液溫範圍60~85℃的硼酸水溶液中且經設定之處理裝置中的拉伸裝置，以拉伸倍率成為3.3倍的方式，在自由端單軸拉伸而得者。較詳細而言，硼酸水溶液的液溫係65℃。除此之外，將硼酸含有量設成相對於水100重量份為4重量份，將碘化鉀含有量設成相對於水100重量份為5重量份。在本步驟中，將調整碘吸附量而得之著色積層體首先在硼酸水溶液中浸漬5~10秒。然後，將該著色積層體直接通過配備於處理裝置之拉伸裝置之周速互異的複數組輥之間，花30~90秒，以使拉伸倍率成為3.3倍的方式在自由端單軸拉伸。藉由該拉伸處理，使包含於著色積層體之PVA層變化成：經吸附之碘以聚碘離子錯合物的形式朝單一方向高次配向的3μm厚之PVA層。該PVA層係構成光學膜積層體之高機能偏光膜。
雖非光學膜積層體之製造所必須之步驟，但宜藉由洗淨步驟，將光學膜積層體從硼酸水溶液中取出，將於 非晶性PET基材上經製膜之3μm厚的PVA層的表面所附著之硼酸以碘化鉀水溶液來洗淨。然後，將經洗淨之光學膜積層體藉由利用60℃之溫風的乾燥步驟來進行乾燥。再者，洗淨步驟係用於解決硼酸析出等的外觀不良的步驟。
同樣地，雖稱不上是光學膜積層體之製造所必需的步驟，但可藉由貼合及/或轉印步驟，一邊在非晶性PET基材上經製膜之3μm厚的PVA層之表面塗布接著劑，在將80μm厚的三醋酸纖維素膜貼合之後，剝離非晶性PET基材，便可將3μm厚之PVA層轉印至80μm厚的三醋酸纖維素膜上。
[其他的步驟]
上述之薄型偏光膜的製造方法係可在上述步驟以外含有其他的步驟。作為其他的步驟係可舉例如：不溶化步驟、交聯步驟、乾燥(水分率的調節)步驟等。其他的步驟係可在任意的適切時機來進行。上述不溶化步驟，代表性地來說，可藉由在硼酸水溶液中浸漬PVA系樹脂層來進行。藉由施行不溶化處理，可賦予PVA系樹脂層耐水性。該硼酸水溶液的濃度，相對於水100重量份，係宜為1重量份~4重量份。不溶化浴(硼酸水溶液)的液溫係宜為20℃~50℃。偏好的是，不溶化步驟係於積層體製作後，在染色步驟或水中拉伸步驟之前進行。
上述交聯步驟中具代表性的是，藉由使PVA系樹脂層浸漬在硼酸水溶液中來進行。藉由施行交聯處理，可對PVA系樹脂層賦予耐水性。該硼酸水溶液的濃度，相對於水100 重量份，係以1重量份~4重量份為佳。又，在上述染色步驟後進行交聯步驟的情況，宜進一步配入碘化物。藉由配入碘化物，可抑制吸附於PVA系樹脂層之碘的溶出。碘化物配入量，相對於水100重量份，係宜為1重量份~5重量份。碘化物的具體例係如上所述。交聯浴(硼酸水溶液)的液溫係宜為20℃~50℃。較佳係交聯步驟在上述第2硼酸水中拉伸步驟之前進行。在較佳實施形態中，係以染色步驟、交聯步驟及第2硼酸水中拉伸步驟這樣的順序進行。
作為構成透明保護膜的材料，可使用例如透明性、機械的強度、熱安定性、水分阻斷性、等向性等優異之熱可塑性樹脂。作為該種熱可塑性樹脂的具體例，係可列舉如：三醋酸纖維素等的纖維素樹脂、聚酯樹脂、聚醚碸樹脂、聚碸樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚醯胺樹脂、聚亞醯胺樹脂、聚烯烴樹脂、(甲基)丙烯基樹脂、環狀聚烯烴樹脂(降莰烯系樹脂)、聚芳香酯樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚乙烯醇樹脂及該等的混合物。再者，在偏光子的單側，透明保護膜係藉由接著劑層來黏貼，但在另一個單側，係可使用(甲基)丙烯酸系、胺甲酸乙酯系、丙烯基胺甲酸乙酯系、環氧系、矽系等的熱硬化性樹脂或紫外線硬化型樹脂作為透明保護膜。在透明保護膜中亦可含有1種以上任意之適切的添加劑。作為添加劑，係可舉例如紫外線吸收劑、抗氧化劑、滑劑、可塑劑、脫模劑、著色防止劑、難燃劑、核劑、抗靜電劑、顏料、著色劑等。透明保護膜中上述熱可塑性樹脂的含有量係以50~100重量%為佳，以50~99重量%為較 佳，以60~98重量%為更佳，並以70~97重量%為特佳。透明保護膜中上述熱可塑性樹脂的含有量在50重量%以下的情況，恐有熱可塑性樹脂本來具有的高透明性等無法充分表現的疑慮。
對偏光子與透明保護膜之接著處理，係使用接著 劑。作為接著劑，係可例示如：異氰酸酯系接著劑、聚乙烯醇系接著劑、凝膠系接著劑、乙烯基系乳膠系、水系聚酯等。前述接著劑通常係作為由水溶液構成之接著劑來使用，其通常含有0.5~60重量%固形份。上述之外，作為偏光子與透明保護膜之接著劑，係可列舉如紫外硬化型接著劑、電子線硬化型接著劑等。電子線硬化型偏光板用接著劑，對上述各種的透明保護膜，係表現理想的接著性。又，本發明所使用之接著劑中，係可含有金屬化合物填料。
又，前述偏光板係可與其他的光學膜積層。作為 其他的光學膜，係可舉例如反射板及反透過板、位相差板(包含1/2及1/4等的波長板)、視覺補償膜、輝度提高膜等的液晶顯示裝置等的形成上有使用之形成光學層者。該等係在前述偏光板上，在要實際使用時進行積層，可使用1層或2層以上。
在偏光板上積層前述光學層而成之光學膜，雖可 在液晶顯示裝置等的製造過程中，依序以個別積層的方式來形成，但預先積層而形成光學膜者，具有品質安定性及組裝作業等優異，而能改善液晶顯示裝置等的製造步驟之優點。就積層而言係可使用黏著層等適宜的接著手段。前 述偏光板與其他光學層接著時，其等之光學軸係可視其目標位相差特性等，來調整成適宜的配置角度。
本發明之附黏著劑層的偏光板係可理想地使用於液晶顯示裝置等的各種影像顯示裝置之形成。液晶顯示裝置的形成係可依循常法來進行。亦即液晶顯示裝置一般而言，係藉由將液晶胞等的顯示面板與附黏著劑層之偏光板、及視需要之照明系統等的構成構件適宜地組裝，並組入驅動回路等來形成，在本發明中，除了要使用利用本發明之附黏著劑層之偏光板之外無特別限定，可依循常法。即便針對液晶胞，亦可使用例如TN型或STN型、π型、VA型、IPS型等之任意型的任意型者。
可形成在液晶胞等的顯示面板的單側或兩側配置了附黏著劑層之偏光板的液晶顯示裝置，及在照明系統使用了背光或反射板者等者等適宜的液晶顯示裝置。其情況，利用本發明之附黏著劑層的偏光板係可設置於液晶胞等的顯示面板的單側或兩側。在兩側設有光學膜時，其等可為相同者，亦可為相異者。進一步，在液晶顯示裝置之形成時，可將例如擴散板、抗炫光層、抗反射膜、保護板、稜鏡陣列、微透鏡陣列薄片、光擴散板、背光等適宜構件在適宜的位置上配置1層或2層以上。
實施例
以下係依據實施例來具體的說明本發明，但本發明並非受限於該等實施例者。再者，各例中的「份」及%之任一者皆為重量基準。
<(甲基)丙烯酸系聚合物(A)之重量平均分子量的測定>
(甲基)丙烯酸系聚合物(A)之重量平均分子量係可藉由GPC(gel permeation chromatography(凝膠滲透層析術))來測定。
．分析裝置：TOSOH社製、HLC-8120GPC
．管柱：TOSOH社製、G7000HXL+GMHXL+GMHXL
．管柱尺寸：各7.8mmφ×30cm計90cm
．管柱溫度：40℃
．流量：0.8ml/min
．注入量：100μl
．溶離液：四氫呋喃
．檢出器：示差折射計(RI)
．標準試料：聚苯乙烯
<偏光板(1)的作成>
一邊將厚度80μm的聚乙烯醇膜在速度比相異的輥間，在30℃、0.3%濃度的碘溶液中染色1分鐘，一邊拉伸至3倍為止。其後，在60℃、含4%濃度之硼酸、10%濃度之碘化鉀的水溶液中浸漬0.5分鐘，一邊拉伸使總和拉伸倍率成為6倍。接著，藉由在30℃下，在含有1.5%濃度之碘化鉀的水溶液中浸漬10秒鐘來洗淨之後，在50℃下進行4分鐘乾 燥，獲得厚度20μm的偏光子。在該偏光子的兩面，將經皂化處理之厚度40μm的三醋酸纖維素膜，分別利用聚乙烯醇系接著劑貼合來作成偏光板。以下，將其稱為TAC系偏光板(1)。
<偏光板(2)的作成>
為了製作薄型偏光膜，首先，將在非晶性PET基材上之9μm厚的PVA層經製膜而成的積層體藉由拉伸溫度130℃之空中補助拉伸來生成拉伸積層體，接著，藉由將拉伸積層體染色來生成著色積層體，進一步，將著色積層體藉由拉伸溫度65度之硼酸水中拉伸使總拉伸倍率成為5.94倍，生成含有與非晶性PET基材以一體方式拉伸而得之4μm厚之PVA層的光學膜積層體。得以生成含有構成高機能偏光膜之厚度4μm的PVA層之光學膜積層體；該高機能偏光膜係藉由該種2段拉伸在非晶性PET基材上經製膜而得的PVA層之PVA分子，經高度地配向，且因染色而被吸附的碘係以聚碘離子錯合物的形式，朝單一方向高度地配向而形成高機能偏光膜；進一步，在該光學膜積層體之偏光膜的表面塗布聚乙烯醇系接著劑，且在使經皂化處理之40μm厚的三醋酸纖維素膜貼合之後，將非晶性PET基材剝離之後，將厚度33μm的降莰烯系膜，分別利用聚乙烯醇系接著劑貼合到另一單面，製成了使用薄型偏光膜的偏光板。以下，將其稱為薄型偏光板(2)。
製造例1
<丙烯酸系聚合物(A-1)的調製>
在具備冷卻管、氮導入管、溫度計及攪拌裝置的反應容器中，加入丙烯酸丁酯95份、丙烯酸4-羥丁酯5份，並相對於AIBN單體(固形份)100份，加入作為起始劑之1份的醋酸乙酯，在氮氣體氣流下，於60℃使其反應7小時後，於其反應液中加入醋酸乙酯，獲得含重量平均分子量100萬之丙烯酸系聚合物(A-1)的溶液(固形份濃度30重量%)。
製造例2
<丙烯酸系聚合物(A-2)的調製>
在製造例1中，除了使用含丙烯酸丁酯95份、丙烯酸5份之單體混合物作為單體混合物以外，係與製造例1相同地來調製重量平均分子量200萬之丙烯酸系聚合物(A-2)的溶液。
製造例3
<丙烯酸系聚合物(A-3)之調製>
在製造例1中，除了使用含有丙烯酸丁酯90份、丙烯酸10份之單體混合物來作為單體混合物以外，係與製造例1相同地來進行，調製出重量平均分子量180萬之丙烯酸系聚合物(A-3)的溶液。
實施例1
(黏著劑組成物之調製)
製造例1所獲得之丙烯酸系聚合物(A-1)的固形份每100份，配入0.1份的三羥甲基丙烷二甲苯二異氰酸酯(三井化學(股)製：Takenate D110N)、二苯甲醯過氧化物0.3份、0.1份的γ-環氧丙氧基丙基甲氧基矽烷(信越化學工業(股)製： KBM-403)與環狀-六氟丙烷-1、3-雙(磺醯基)亞醯胺鋰(三菱材料電子化成製：EF-N305)0.2份，製得了丙烯酸系黏著劑溶液。
(附黏著劑層之光學膜的製作)
將前述丙烯酸系黏著劑溶液在經矽系剝離劑處理之聚對苯二甲酸乙二酯膜(基材)的表面，以泉式塗布機(fountain coater)均勻地塗上，以155℃的空氣循環式恆溫爐乾燥2分鐘，在基材的表面形成厚度20μm黏著劑層。接著，使形成了黏著劑層的隔板轉移到TAC系偏光板(1)上，製成附黏著劑層之偏光板。
實施例2~18、比較例1~6
實施例1中，在黏著劑組成物之調製時，將各成分的使用量依表1所示來改變，在附黏著劑層之偏光板的製作時，除了將偏光板的種類依表1所示來變化以外，與實施例1進行同樣的變化，來製作附黏著劑層之偏光板。
針對上述實施例及比較例所獲得之附黏著劑層的偏光板，進行了以下的評價。將評價結果表示於表1。
<表面電阻值：初期電阻值>
將附黏著劑層之偏光板的隔板膜剝除之後，使用三菱化學分析公司製MCP-HT450測定了黏著劑表面的表面電阻值(Ω/□)。
<靜電不均的評價>
將所製作之附黏著劑層的偏光板裁切成100mm×100mm的尺寸，黏貼在液晶面板上。將該面板置於具10000cd之輝度的背光上，使用屬靜電產生裝置之 ESD(SANKI公司製，ESD-8012A)，產生5kv的靜電，並藉此造成了液晶配向混亂。將因該配向不良所造成之顯示不良的回復時間(秒)，使用瞬間多通道測光檢出器(大塚電子公司製，MCPD-3000)來測定，並以下述基準進行了評價。
◎：表示不良不到1秒就消失了。
○：表示不良在1秒以上10秒未滿的範圍內消失了。
×：表示不良10秒以上才消失。
<表面電阻值：加濕試驗後的電阻值>
將實施例、比較例所獲得之附黏著劑層的偏光板投入60℃/95%RH的恆溫恆濕機，48小時後取出之後，在60℃下乾燥了2小時乾燥之後，將隔板膜剝除，使用(股)三菱化學分析製MCP-HT450測定了黏著劑表面的表面電阻值。
<耐久性>
剝下實施例、比較例所獲得之附黏著劑層之偏光板的隔板膜，貼合於無鹼玻璃上，在進行50℃、5atm、15分鐘的高壓滅菌處理之後，投入80℃的加熱爐及60℃/90%RH的恆溫恆濕機。確認500h後偏光板之剝離的有無，判定為完全未剝離者記為◎，無法以目視確認之程度的剝離記為○，可以目視確認之小的剝離記為△，被判定為明顯的剝離者記為×。
<光學信賴性>
剝下附黏著劑層之偏光板的隔板膜，使用積層裝置黏附在厚度0.7mm的無鹼玻璃(康寧公司製，1737)。接著，在50℃、0.5MPa下，進行15分鐘的高壓滅菌處理，使上述附 黏著劑層之偏光板完全地密著於無丙烯酸玻璃。接著，投入60℃/95%RH之恆溫恆濕機500小時。將投入前與投入後之偏光板的偏光度，使用日本分光(股)製之V7100來測定，求取變化量△P=(投入前的偏光度)-(投入後的偏光度)。
表1
在表1中，離子性化合物(B)中的「B-1」係表示環狀-六氟丙烷-1,3-雙(磺醯基)亞醯胺鋰(商品名「EF-N305」，三菱材料電子化成公司製)，「B-2」係表示雙(七氟丙烷磺醯基)亞醯胺鋰(和光純藥公司製)，「B-3」係表示雙(九氟丁烷磺醯基)亞醯胺鋰(商品名「EF-N445」，三菱材料電子化成公司製)，「B-4」係表示1-丁基-3-甲基吡啶雙全氟丁烷磺醯基)亞醯胺(商品名「BuMePy．N441」，三菱材料電子化成公司製)，「B-5」係表示雙(三氟甲烷磺醯基)亞醯胺鋰(和光純藥公司製)，「B-6」係表示1-丁基-3-甲基吡啶雙三氟甲烷磺醯基)亞醯胺(商品名「CIL-312」，日本Carlit公司製)，「B-7」係表示鋰雙(五氟乙烷磺醯基)亞醯胺(和光純藥公司製)。
在交聯劑(C)中，「C-1」係表示三井化學聚胺甲酸乙酯公司製的異氰酸酯交聯劑(商品名「Takenate D110N」，三羥甲基丙烷二甲苯二異氰酸酯)，「C-2」係表示(商品名「CORONATE L」，日本聚胺甲酸乙酯公司製)，「C-3」日本油脂公司製的苯甲醯過氧化物(NYPER BMT)。
矽烷耦合劑(D)中，「D-1」係表示信越化學工業公司製的KBM403。
聚醚化合物(E)中，「E-1」係表示(商品名「Silyl SAT10」，KANEKA公司製，「E-2」係表示(商品名「SIB1824.82」，GELEST公司製)。

Claims (16)

  1. 一種黏著劑組成物，含有：(甲基)丙烯酸系聚合物(A)，以及具有陰離子成分及陽離子成分之離子性化合物(B)；其特徵在於前述陰離子成分係以下述通式(1)及下述通式(2)所表示之至少1種陰離子成分：(CnF2n+1SO2)2N- (1)(通式(1)中，n係3至10之整數；)CF2(CmF2mSO2)2N- (2)(通式(2)中，m係2至10之整數)。
  2. 如申請專利範圍第1項之黏著劑組成物，其中前述離子性化合物(B)具有之陽離子成分係鹼金屬陽離子及有機陽離子之至少1種。
  3. 如申請專利範圍第1或2項之黏著劑組成物，其中前述離子性化合物(B)具有之陽離子成分係鋰陽離子。
  4. 如申請專利範圍第1或2項之黏著劑組成物，其中前述離子性化合物(B)具有之陰離子成分係雙(七氟丙烷磺醯基)亞醯胺陰離子、雙(九氟丁烷磺醯基)亞醯胺陰離子、及環狀-六氟丙烷-1,3-雙(磺醯基)亞醯胺陰離子之至少一種。
  5. 如申請專利範圍第1或2項之黏著劑組成物，其係相對於前述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，含有前述離子性化合物(B)0.001至10重量份。
  6. 如申請專利範圍第1或2項之黏著劑組成物，其中前述 (甲基)丙烯酸系聚合物(A)係含有(甲基)丙烯酸烷基酯及含羧基之單體作為單體單位。
  7. 如申請專利範圍第1或2項之黏著劑組成物，其進一步含有交聯劑。
  8. 如申請專利範圍第7項之黏著劑組成物，其係相對於前述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，含有前述交聯劑0.01至20重量份。
  9. 如申請專利範圍第7項之黏著劑組成物，其中前述交聯劑(C)係異氰酸酯系化合物及過氧化物之至少1種。
  10. 如申請專利範圍第1或2項之黏著劑組成物，其係相對於前述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，進一步含有矽烷耦合劑(D)0.001至5重量份。
  11. 如申請專利範圍第1或2項之黏著劑組成物，其係相對於前述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，進一步含有聚醚改質矽0.001至10重量份。
  12. 如申請專利範圍第1或2項之黏著劑組成物，其中前述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)之重量平均分子量係50萬至300萬。
  13. 一種黏著劑層，其特徵在於係由如申請專利範圍第1或2項之黏著劑組成物所形成。
  14. 一種附黏著劑層之偏光板，其特徵在於至少具有偏光板與如申請專利範圍第13項之黏著劑層。
  15. 如申請專利範圍第14項之附黏著劑層之偏光板，其係於前述偏光板與前述黏著劑層之間，具有易接著層。
  16. 一種影像顯示裝置，其特徵在於使用至少1個如申請專利範圍第14或15項之附黏著劑層之偏光板。
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