TWI725114B - 偏光件、單面保護偏光薄膜、附黏著劑層之偏光薄膜、以及影像顯示裝置及其連續製造方法 - Google Patents

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Abstract

本發明之偏光件係用於附黏著劑層之偏光薄膜，該附黏著劑層之偏光薄膜係在偏光件之單面上具有黏著劑層；前述偏光件含有硼酸及聚乙烯醇系樹脂，且厚度為10μm以下，並構造成為以單體透射率T及偏光度P表示的光學特性會滿足下式之條件： P＞-(100.929T-42.4 -1)×100(惟T＜42.3)，或 P≧99.9(惟T≧42.3)； 並且，前述偏光件中，自設置前述黏著劑層側之單面所測定的硼酸含量(a)乃低於自另一單面所測定的硼酸含量(b)。如此本發明之偏光件具有預定光學特性，且即便厚度為10μm以下，亦可抑制貫通裂紋及奈米細縫所致缺陷。

Description

偏光件、單面保護偏光薄膜、附黏著劑層之偏光薄膜、以及影像顯示裝置及其連續製造方法
發明領域 本發明是有關於偏光件及單面保護偏光薄膜。又，本發明是有關於使用前述偏光件或單面保護偏光薄膜的附黏著劑層之偏光薄膜。前述偏光件、單面保護偏光薄膜或附黏著劑層之偏光薄膜可以其單獨或作成將其積層的光學薄膜，來形成液晶顯示裝置(LCD)、有機EL顯示裝置等影像顯示裝置。
背景技術 於液晶顯示裝置中，由於其影像形成方式，在形成液晶面板表面的玻璃基板兩側配置偏光薄膜是必要而不可或缺的。偏光薄膜一般是使用以下偏光薄膜：藉由聚乙烯醇系接著劑等，在由聚乙烯醇系薄膜與碘等二色性材料所構成的偏光件之單面或雙面上黏合透明保護薄膜。
在將前述偏光薄膜黏貼於液晶晶胞等時，通常會使用黏著劑。又，由於具有可瞬間固定偏光薄膜，以及固著偏光薄膜時無須乾燥步驟等優點，黏著劑乃預先作為黏著劑層設置於偏光薄膜之單面。即，在黏貼偏光薄膜時，一般是使用附黏著劑層之偏光薄膜。
又，偏光薄膜或附黏著劑層之偏光薄膜乃具有以下問題：在熱衝擊(例如反覆-30℃與80℃之溫度條件的熱震試驗，或是100℃的高溫下試驗)之嚴苛環境下，由於偏光件收縮應力的變化，於偏光件之吸收軸方向全體容易產生裂紋(貫通裂紋)。即，附黏著劑層之偏光薄膜在前述嚴苛環境下對熱衝擊的耐久性不足。特別是由薄型化之觀點來看，若是附黏著劑層之偏光薄膜使用了僅於偏光件之單面設置保護薄膜的單面保護偏光薄膜，則對於前述熱衝擊的耐久性不足。又，藉由前述熱衝擊而產生的貫通裂紋容易在偏光薄膜之尺寸變大時發生。
為了抑制前述貫通裂紋的發生，舉例言之，目前提出一種附黏著劑層之偏光薄膜，其於單面保護偏光薄膜上設置拉伸彈性模數100MPa以上的保護層，更在該保護層上設置黏著劑層(專利文獻1)。又，提出了一種附黏著劑層之偏光薄膜，其於厚度25μm以下之偏光件之單面具有由硬化型樹脂組成物之硬化物所構成的保護層，且於偏光件之另一單面具有透明保護薄膜，並於前述保護層之外側具有黏著劑層(專利文獻2)。若由抑制貫通裂紋的發生觀點來看，則前述專利文獻1、2中記載的附黏著劑層之偏光薄膜是有效的。又，若由抑制貫通裂紋的發生，同時薄層化、輕量化之觀點來看，則有人提出在偏光件之至少單面設置由水溶性皮膜形成性組成物(聚乙烯醇系樹脂組成物)所構成的保護層(專利文獻3)。又，薄型化亦針對偏光件進行，舉例言之，目前提出一種薄型偏光件，其控制單體透射率、偏光度之光學特性，並顯示高定向性(專利文獻4)。
先前技術文獻 專利文獻 專利文獻1：日本特開2010-009027號公報 專利文獻2：日本特開2013-160775號公報 專利文獻3：日本特開2005-043858號公報 專利文獻4：日本專利第4751481號說明書
發明概要 發明欲解決之課題 於專利文獻1、2中，藉由使用僅於偏光件之單面具有透明保護薄膜的單面保護偏光薄膜而達成薄型化，同時另一方面，藉由設置保護層，抑制因使用單面保護偏光薄膜而產生的偏光件於吸收軸方向的貫通裂紋的發生。又，於專利文獻3中，藉由於偏光件設置保護層，抑制偏光件於吸收軸方向的貫通裂紋的發生。
另一方面，薄型化亦針對偏光件進行。在將運用於單面保護偏光薄膜或附黏著劑層之偏光薄膜的偏光件薄化時(例如作成厚度10μm以下之情形)，偏光件收縮應力的變化會減小。故，已知的是若薄型化利用偏光件，則可抑制前述貫通裂紋的發生。
然而，於前述貫通裂紋的發生業已受到抑制的單面保護偏光薄膜或使用其之附黏著劑層之偏光薄膜中，在如專利文獻4般控制光學特性且將偏光件薄化時(例如作成厚度10μm以下之情形)，已知的是當單面保護偏光薄膜或使用其之附黏著劑層之偏光薄膜負載了機械衝擊時(包括偏光件側有凸折所致負載之情形)，於偏光件之吸收軸方向會局部地發生極細之細縫(以下亦稱作奈米細縫)。亦得知前述奈米細縫的產生乃與單面保護偏光薄膜之尺寸無關。再者，亦得知當使用於偏光件之雙面具有透明保護薄膜的雙面保護偏光薄膜時，不會產生前述奈米細縫。又，已知的是當偏光件產生貫通裂紋時，由於貫通裂紋周邊的應力被釋放，因此，貫通裂紋不會比鄰而生，然而，奈米細縫除了單獨產生之外，也會比鄰而生。又，亦得知貫通裂紋乃具有朝業已產生裂紋的偏光件之吸收軸方向延伸的前進性，但奈米細縫則無前述前進性。如此可知，前述奈米細縫是在貫通裂紋的發生業已受到抑制的單面保護偏光薄膜中，在將偏光件薄化且將光學特性控制在預定範圍時所產生的新課題，與迄今已知的前述貫通裂紋乃藉由不同的現象而產生的課題。
又，由於前述奈米細縫極細，因此，在一般的環境下並無法檢出。故，即便是偏光件業已發生奈米細縫，僅憑一眼便要確認單面保護偏光薄膜及使用其之附黏著劑層之偏光薄膜的漏光所致缺陷是困難的。即，一般而言，單面保護偏光薄膜乃製作成長條薄膜狀，並藉由自動光學檢查進行缺陷檢查，然而，欲藉由該缺陷檢查檢測出奈米細縫作成缺陷是困難的。亦得知，前述奈米細縫所致缺陷可於單面保護偏光薄膜或附黏著劑層之偏光薄膜黏合於影像顯示面板之玻璃基板等後置於加熱環境下時，藉由奈米細縫朝寬度方向擴展而檢出(例如前述漏光之有無)。
依此，於偏光件之厚度為10μm以下的單面保護偏光薄膜或使用其之附黏著劑層之偏光薄膜中，不僅是貫通裂紋，亦宜抑制奈米細縫所致缺陷。
本發明之目的在提供一種偏光件，其應用於附黏著劑層之偏光薄膜中，又，前述偏光件乃具有預定光學特性，且即便厚度為10μm以下，亦可抑制貫通裂紋及奈米細縫所致缺陷。又，本發明之目的在提供一種使用前述偏光件的單面保護偏光薄膜，並提供一種具有前述偏光件或單面保護偏光薄膜以及黏著劑層的附黏著劑層之偏光薄膜。再者，本發明之目的在提供一種具有前述偏光件、單面保護偏光薄膜或附黏著劑層之偏光薄膜的影像顯示裝置，更提供其連續製造方法。
用以解決課題之手段 發明人精心探討之結果，發現藉由下述偏光件等，可解決上述課題，遂而完成本發明。
即，本發明是有關於一種偏光件，係用於附黏著劑層之偏光薄膜，且該附黏著劑層之偏光薄膜係於偏光件之單面上具有黏著劑層；其特徵在於： 前述偏光件含有硼酸及聚乙烯醇系樹脂，且厚度為10μm以下，並構造成為以單體透射率T及偏光度P表示的光學特性會滿足下式之條件： P＞-(100.929T-42.4 -1)×100(惟T＜42.3)，或 P≧99.9(惟T≧42.3)； 並且，前述偏光件中，自設置前述黏著劑層側之單面所測定的硼酸含量(a)乃低於自另一單面所測定的硼酸含量(b)。
於前述偏光件中，前述硼酸含量(a)與前述硼酸含量(b)之差宜為0.5重量%以上。再者，前述差宜為3重量%以上。
於前述偏光件中，硼酸含量(b)宜為20重量%以下。
於前述偏光件中，在前述偏光件之黏著劑層側之單面上可具有透明樹脂層(形成物)，該透明樹脂層(形成物)是藉由含有聚乙烯醇系樹脂之形成材所形成。就該偏光件而言，乃透過透明樹脂層來設置黏著劑層。
於前述偏光件中，前述透明樹脂層之厚度宜為0.2μm以上。又，前述透明樹脂層之厚度宜為6μm以下。
於前述偏光件中，形成前述透明樹脂層的聚乙烯醇系樹脂其皂化度宜為99莫耳%以上、平均聚合度宜為2000以上。
又，本發明是有關於一種單面保護偏光薄膜，其特徵在於具有：前述偏光件，以及僅於前述偏光件中設置黏著劑層側之相反面具有保護薄膜。
又，本發明是關於一種偏光件之製造方法，係用以製造下述偏光件的方法，該偏光件係在前述偏光件之設置黏著劑層側之單面上具有透明樹脂層，該透明樹脂層是含有聚乙烯醇系樹脂之形成材的形成物； 其中，前述偏光件含有硼酸及聚乙烯醇系樹脂，且厚度為10μm以下，並構造成為以單體透射率T及偏光度P表示的光學特性會滿足下式之條件： P＞-(100.929T-42.4 -1)×100(惟T＜42.3)，或 P≧99.9(惟T≧42.3)； 並且，前述偏光件中，自設置前述黏著劑層側之單面所測定的硼酸含量(a)乃低於自另一單面所測定的硼酸含量(b)；且 藉由於前述偏光件中設置黏著劑層側之單面上直接塗佈前述透明樹脂層之形成材，設置前述透明樹脂層。
又，本發明是有關於一種單面保護偏光薄膜之製造方法，係用以製造下述單面保護偏光薄膜的方法，該單面保護偏光薄膜是在前述單面保護偏光薄膜中，於前述偏光件之設置黏著劑層側之單面上具有透明樹脂層，該透明樹脂層是含有聚乙烯醇系樹脂之形成材的形成物； 其中，前述偏光件含有硼酸及聚乙烯醇系樹脂，且厚度為10μm以下，並構造成為以單體透射率T及偏光度P表示的光學特性會滿足下式之條件： P＞-(100.929T-42.4 -1)×100(惟T＜42.3)，或 P≧99.9(惟T≧42.3)； 並且，前述偏光件中，自設置前述黏著劑層側之單面所測定的硼酸含量(a)乃低於自另一單面所測定的硼酸含量(b)；且 藉由於前述偏光件中設置黏著劑層側之單面上直接塗佈前述透明樹脂層之形成材，設置前述透明樹脂層。
又，本發明是有關於一種附黏著劑層之偏光薄膜，其特徵在於具有：前述偏光件或單面保護偏光薄膜，以及在前述偏光件或單面保護偏光薄膜之設置黏著劑層之單面上具有黏著劑層。
於前述附黏著劑層之偏光薄膜中，在前述黏著劑層可積層分隔件。業已設置分隔件的附黏著劑層之偏光薄膜可作成捲繞體使用。
又，本發明是有關於一種影像顯示裝置，其具有：前述偏光件、單面保護偏光薄膜、或前述附黏著劑層之偏光薄膜。
又，本發明是有關於一種影像顯示裝置之連續製造方法，包含有以下步驟：將附黏著劑層之偏光薄膜透過前述黏著劑層連續地黏合於影像顯示面板之表面；該附黏著劑層之偏光薄膜是業已自前述附黏著劑層之偏光薄膜之捲繞體紡出並藉由前述分隔件搬送者。
發明效果 本發明之偏光件為厚度10μm以下且薄型化。又，相較於偏光件之厚度大之情形，前述厚度10μm以下的薄型偏光件藉由熱衝擊而施加於偏光件的收縮應力之變化小，因此，可抑制貫通裂紋的發生。
另一方面，具有預定光學特性的薄型偏光件容易在偏光件發生奈米細縫。一般認為奈米細縫是在單面保護偏光薄膜之製造步驟、於單面保護偏光薄膜設置黏著劑層的附黏著劑層之偏光薄膜之製造步驟、製造附黏著劑層之偏光薄膜後的各種步驟中，對前述單面保護偏光薄膜或使用其之附黏著劑層之偏光薄膜負載了機械衝擊時所產生，一般推想乃藉由與利用熱衝擊而產生的貫通裂紋不同的機制而產生。又，前述奈米細縫所致缺陷可於單面保護偏光薄膜或附黏著劑層之偏光薄膜黏合於影像顯示面板之玻璃基板等後置於加熱環境下時，藉由奈米細縫朝寬度方向擴展而檢出(例如前述漏光之有無)。
本發明之偏光件含有硼酸及聚乙烯醇系樹脂。舉例言之，一般的偏光件製作乃藉由對聚乙烯醇系樹脂(薄膜)施行延伸步驟、利用硼酸之交聯步驟來進行，因此，所製得偏光件中的硼酸含量會構成具有一定程度均一性之狀態。另一方面，本發明之偏光件乃控制成在偏光件中硼酸含量具有濃度梯度，且自設置前述黏著劑層側之單面所測定的硼酸含量(a)低於自另一單面所測定的硼酸含量(b)。藉由將依此在厚度方向具有硼酸濃度梯度的偏光件運用於附黏著劑層之偏光薄膜中，可抑制前述奈米細縫的發生。舉例言之，在將附黏著劑層之偏光薄膜黏貼於液晶面板時，即便是在偏光件變成凸狀之情形時，亦可減低黏著劑層側的偏光件之損傷，並抑制奈米細縫的發生。
又，由於前述奈米細縫極細，因此，在一般的環境下並無法檢出。故，即便是偏光件業已發生奈米細縫，僅憑一眼便要確認單面保護偏光薄膜及使用其之附黏著劑層之偏光薄膜的漏光所致缺陷是困難的。亦得知前述奈米細縫所致缺陷可於單面保護偏光薄膜或附黏著劑層之偏光薄膜置於加熱環境下時，藉由奈米細縫朝寬度方向擴展而檢出(例如前述漏光之有無)。若藉由前述透明樹脂層，則即便是在設置透明樹脂層前的單面保護偏光薄膜狀態之偏光件業已發生前述奈米細縫時，亦可抑制此種奈米細縫朝寬度方向擴展所致缺陷的發生。
用以實施發明之形態 以下，一面參照圖1、圖2，一面說明本發明之偏光件、單面保護偏光薄膜、附黏著劑層之偏光薄膜。圖1(A)之偏光件1乃運用作為如圖1(C)、(D)般具有黏著劑層A的附黏著劑層之偏光薄膜，並設計成前述偏光件1中，自前述黏著劑層側之單面(a)所測定的硼酸含量(a)會低於自另一單面(b)所測定的硼酸含量(b)。於圖2(A)中揭示附透明樹脂層之偏光件10，其於偏光件1之單面(直接) 上具有透明樹脂層2。於附透明樹脂層之偏光件10中，透明樹脂層2之表面會構成前述偏光件1中的前述黏著劑層側之單面(a)，並自該單面(a)測定硼酸含量(a)。如圖2(C)、(D)，附透明樹脂層之偏光件10乃於偏光件1中的前述透明樹脂層2側設置黏著劑層A。
又，如圖1(B)、圖2(B)所示，圖1(A)所示之偏光件1、圖2(A)所示之附透明樹脂層之偏光件10亦可於偏光件1之另一單面(b)設置樹脂基材3。樹脂基材3例如可列舉：製造薄型偏光件1時使用的樹脂基材。樹脂基材亦可使用作為保護薄膜。
又，圖1(C)、圖2(C)是顯示附黏著劑層之偏光薄膜12、12’，其於圖1(B)、圖2(B)之偏光件1或附透明樹脂層之偏光件10之單面(a)側具有黏著劑層A。又，圖1(D)、圖2(D)是設置保護薄膜4以取代圖1(C)、圖2(C)中的樹脂基材3之情形。圖1(C)、圖2(C)、圖1(D)、圖2(D)是附黏著劑層之偏光薄膜12、12’僅於偏光件之單側具有保護薄膜4的附黏著劑層之單面保護偏光薄膜。
保護薄膜4可以僅設置於偏光件1之另一單面(b)，但保護薄膜4亦可積層二片以上來使用。另，圖1(D)、圖2(D)中雖未圖示，但偏光件1與保護薄膜4乃透過接著劑層、黏著劑層、底塗層(底漆層)等中介層而積層。又，雖未圖示，但亦可對保護薄膜4設置易接著層或施行活性化處理，並積層該易接著層與接著劑層。
又，雖未圖示，但圖1、圖2之黏著劑層A上可設置分隔件。又，於圖1、圖2之樹脂基材3、保護薄膜4上，可設置表面保護薄膜。至少具有分隔件的附黏著劑層之偏光薄膜(進一步是具有表面保護薄膜)可作成捲繞體使用，舉例言之，可應用於以下方式中，連續地製造影像顯示裝置：將業已自捲繞體紡出並藉由分隔件搬送的附黏著劑層之偏光薄膜，透過黏著劑層黏合於影像顯示面板之表面(亦稱作「捲材至面板方式」。代表而言為日本專利第4406043號說明書)。
於本發明之偏光件1或附透明樹脂層之偏光件10中，自前述黏著劑層側之單面(a)所測定的硼酸含量(a)乃設計成低於自另一單面(b)所測定的硼酸含量(b)。前述硼酸含量(a：重量%)與前述硼酸含量(b：重量%)之差(b)-(a)宜為0.5重量%以上，更為理想的是3重量%以上。前述差(b)-(a)越大，前述硼酸含量(a)越是小於硼酸含量(b)，在抑制當將附黏著劑層之偏光薄膜黏合於液晶面板時生成於偏光件的奈米細縫等的發生方面是較為理想的。
欲如前述般將測定自圖1(A)所示偏光件1之黏著劑層側之單面(a)的硼酸含量(a)設計成低於測定自另一單面(b)的硼酸含量(b)時，舉例言之，可藉由下述薄型偏光件製造方法，於樹脂基材3上製造偏光件1後，藉由施行水洗淨步驟來進行。藉由僅讓形成於樹脂基材3上的偏光件1之單面(a)側接觸水，僅自所製得偏光件中構成單面(a)的表面除去硼酸，藉此，可將硼酸含量設計成低於偏光件中構成單面(b)的表面(與樹脂基材3之接觸面)。
又，如圖2(A)所示，藉由含有聚乙烯醇系樹脂之形成材，於偏光件1之單面形成透明樹脂層2，藉此，可將測定自附透明樹脂層之偏光件10之前述單面(a)的硼酸含量(a)，設計成低於另一單面(b)的硼酸含量(b)。為了使測定自前述附透明樹脂層之偏光件10之單面(a)側的前述硼酸含量(a)與硼酸含量(b)之差擴大，可於偏光件1中賦予硼酸含量濃度梯度，且可更有效地抑制前述奈米細縫的發生。在將前述硼酸含量(a)與前述硼酸含量(b)之差(b)-(a)設計成3重量%以上方面，設置透明樹脂層2是較為理想的。另，一般認為當設置前述透明樹脂層2時，形成透明樹脂層2的材料之一部分會滲入偏光件1中，同時偏光件1表面附近的硼酸成分於透明樹脂層2側滲出，藉此，偏光件1表面附近的硼酸比例會減少，前述硼酸含量(a)可設計成低於單面之硼酸含量(b)。
前述偏光件或附透明樹脂層之偏光件中測定自單面(a)的硼酸含量(a)、測定自另一單面(b)的硼酸含量(b)可藉由實施例中所記載的方法來測定。
圖3為對比生成於偏光件的奈米細縫a與貫通裂紋b的示意圖。圖3(A)中顯示生成於偏光件1的奈米細縫a，圖3(B)中顯示生成於偏光件1的貫通裂紋b。奈米細縫a乃藉由機械衝擊而發生，且於偏光件1之吸收軸方向局部地發生，奈米細縫a並無法在發生當時即予以確認，但可於熱環境下(例如80℃或60℃、90%RH)，藉由朝寬度方向之擴展而予以確認。另一方面，一般認為奈米細縫a不具有朝偏光件之吸收軸方向延伸的前進性。又，一般認為前述奈米細縫a的產生乃與單面保護偏光薄膜之尺寸無關。奈米細縫a除了單獨產生之外，有時也會比鄰而生。另一方面，貫通裂紋b乃藉由熱衝擊(例如熱震試驗)而產生。貫通裂紋乃具有朝業已產生裂紋的偏光件之吸收軸方向延伸的前進性。當發生貫通裂紋b時，由於周邊的應力被釋放，因此，貫通裂紋不會比鄰而生。
＜偏光件＞ 於本發明中，使用厚度10μm以下的偏光件。若由薄型化及抑制貫通裂紋的發生觀點來看，則偏光件之厚度宜為8μm以下，更為理想的是7μm以下，進而為6μm以下。另一方面，偏光件之厚度宜為2μm以上，進而為3μm以上。此種薄型偏光件之厚度不均少，且辨識性優異，又，由於尺寸變化少，因此，對熱衝擊的耐久性優異。
偏光件並無特殊之限制，可使用各種偏光件。偏光件例如可列舉：使聚乙烯醇系薄膜、局部縮甲醛化聚乙烯醇系薄膜、乙烯．醋酸乙烯酯共聚物系局部皂化薄膜等親水性高分子薄膜吸附碘或二色性染料之二色性物質且進行單軸延伸者；聚乙烯醇之脫水處理物或聚氯乙烯之脫鹽酸處理物等聚烯系定向薄膜等。於該等之中，由聚乙烯醇系薄膜與碘等二色性物質所構成的偏光件是較為合適的。
用碘將聚乙烯醇系薄膜染色並進行單軸延伸的偏光件例如可依下述來製作：藉由將聚乙烯醇系薄膜浸漬於碘之水溶液中進行染色，並延伸成原長的3~7倍。視需要，亦可含有硼酸、硫酸鋅或氯化鋅等，亦可浸漬於碘化鉀等之水溶液中。再者，視需要，亦可於染色前將聚乙烯醇系薄膜浸漬於水中並水洗。藉由將聚乙烯醇系薄膜水洗，除了可洗淨聚乙烯醇系薄膜表面的髒汙或抗結塊劑外，藉由使聚乙烯醇系薄膜膨潤，亦具有防止染色不均等不均一的效果。延伸可於用碘染色後進行，亦可一面染色一面延伸，又，亦可於延伸之後再用碘染色。於硼酸或碘化鉀等之水溶液或水浴中亦可進行延伸。
若由延伸安定性或光學耐久性之觀點來看，則偏光件含有硼酸是較為理想的。若由抑制貫通裂紋等裂紋的發生觀點來看，則前述硼酸含量(b)宜為20重量%以下，更為理想的是18重量%以下，進而為16重量%以下。當硼酸含量(b)大於20重量%時，即便是在將偏光件之厚度控制在10μm以下時，偏光件之收縮應力亦提高，且容易發生貫通裂紋等裂紋，因此較不理想。另一方面，若由偏光件之延伸安定性或光學耐久性之觀點來看，則相對於偏光件總量的硼酸含量(b)宜為10重量%以上，更為理想的是12重量%以上。前述硼酸含量(b)宜為10~20重量%，更為理想的是12~18重量%。
另，測定自圖1所示偏光件1之黏著劑層側之單面(a)的硼酸含量(a)宜為9.5~小於20重量%，更為理想的是12~19.5重量%。再者，理想的是14~18重量%，更為理想的是16~18重量%。於前述硼酸含量(a)、硼酸含量(b)中，宜將硼酸含量(a)設計成低於硼酸含量(b)。
厚度15μm以下的薄型偏光件代表上可列舉如：日本專利第4751486號說明書、日本專利第4751481號說明書、日本專利第4815544號說明書、日本專利第5048120號說明書、日本專利第5587517號說明書、國際公開第2014/077599號說明書、國際公開第2014/077636號說明書等中所記載的薄型偏光件，或製得自該等中所記載製造方法的薄型偏光件。
前述偏光件宜構造成為以單體透射率T及偏光度P表示的光學特性會滿足下式之條件：P＞-(100.929T-42.4 -1)×100(惟T＜42.3)，或P≧99.9(惟T≧42.3)。在根本意義上，構成為滿足前述條件的偏光件乃具有：使用大型顯示元件的液晶電視用顯示器所要求之性能。具體而言為對比度1000：1且最大亮度500cd/m2 以上。舉例言之，其他用途乃黏合於有機EL顯示裝置之辨識側。
作為前述薄型偏光件，於包含有以積層體狀態進行延伸之步驟及染色步驟的製法中，若由可延伸成高倍率而可提升偏光性能之觀點來看，則較為理想的是：像是日本專利第4751486號說明書、日本專利第4751481號說明書、日本專利4815544號說明書中所記載，藉由包含有於硼酸水溶液中進行延伸之步驟的製法所製得薄型偏光件，且特別理想的是：日本專利第4751481號說明書、日本專利4815544號說明書中所記載，藉由包含有於硼酸水溶液中進行延伸前輔助性地進行空中延伸之步驟的製法所製得薄型偏光件。該等薄型偏光件可利用包含有以下步驟的製法製得：將聚乙烯醇系樹脂(以下亦稱作PVA系樹脂)層與延伸用樹脂基材以積層體狀態進行延伸之步驟；及染色步驟。若為該製法，則即使PVA系樹脂層薄，亦可藉由支持於延伸用樹脂基材，不會發生延伸所致破裂等問題而進行延伸。
＜樹脂基材＞ 另，圖1、圖2所示之樹脂基材(延伸用樹脂基材)可使用被應用在前述薄型偏光件之製造中的樹脂基材。樹脂基材之形成材料可使用各種熱可塑性樹脂。熱可塑性樹脂例如可列舉：聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂等酯系樹脂、降莰烯系樹脂等環烯烴系樹脂、聚丙烯等烯烴系樹脂、聚醯胺尼胺龍樹脂(Polyamide Leona Resin，ポリアミドレオ樹脂)、聚碳酸酯系樹脂、該等之共聚合樹脂等。於該等之中，若由製造容易度及減輕成本之觀點來看，則宜為酯系樹脂。酯系熱可塑性樹脂基材可使用非晶性酯系熱可塑性樹脂基材或結晶性酯系熱可塑性樹脂基材。
＜透明樹脂層＞ 透明樹脂層由含有聚乙烯醇系樹脂之形成材所形成。形成透明樹脂層的聚乙烯醇系樹脂只要是「聚乙烯醇系樹脂」，則可與偏光件所含聚乙烯醇系樹脂相同或相異。
透明樹脂層可藉由將前述形成材例如塗佈於偏光件而形成。透明樹脂層是藉由塗佈前述形成材所形成的塗佈層，與形成偏光件的延伸聚乙烯醇系樹脂層不同，屬於未經延伸之層體。在僅於偏光件之單面具有保護薄膜的單面保護偏光薄膜中，透明樹脂層乃設置於偏光件之另一單面(未具有保護薄膜的面)。前述單面保護偏光薄膜黏合於影像顯示面板後，處理時會有偏光件朝影像顯示面板側凸起彎曲而賦予機械衝擊之情形。此時，應力會集中在偏光件之凸側(設置黏著劑層之單面)之前端，且偏光件破裂，因而構成奈米細縫。當前述透明樹脂層乃利用由聚乙烯醇樹脂所構成的形成材來構成時，舉例言之，於偏光件之凸側(設置黏著劑層之單面)形成透明樹脂層。前述透明樹脂層是由硼酸含量低的聚乙烯醇所構成的層體，因此，對於應力或彎曲不易發生損害。即使應力集中在偏光件之凸起部分，藉由形成前述透明樹脂層，透明樹脂層會緩和應力，因此，可抑制偏光件之奈米細縫的發生。又，若使用聚乙烯醇系樹脂作為透明樹脂層，則於透明樹脂層之形成過程中，偏光件所含硼酸會局部滲出至透明樹脂層，因此，偏光件中的硼酸含量減低，故，偏光件本身亦不易發生奈米細縫。又，前述透明樹脂層可抑制當置於加熱環境下時奈米細縫朝寬度方向擴展的發生。生成於偏光件的奈米細縫乃藉由機械衝擊而產生，於熱環境下奈米細縫雖會朝寬度方向擴展，然而，由含有前述聚乙烯醇系樹脂之形成材所形成的透明樹脂層即便於熱環境下，亦可維持透明樹脂層的機械保持能力，並抑制奈米細縫朝寬度方向之擴展。
另，測定自圖2所示附透明樹脂層之偏光件10的黏著劑層側(透明樹脂層側)之單面(a)的硼酸含量(a)宜為0~小於20重量%，更為理想的是2~19.5重量%。再者，理想的是3~16重量%，更為理想的是4~10重量%。於前述硼酸含量(a)、硼酸含量(b)中，宜將硼酸含量(a)設計成低於硼酸含量(b)。
透明樹脂層之厚度宜為0.2μm以上。藉由該厚度的透明樹脂層，可抑制奈米細縫的發生。前述透明樹脂層之厚度宜為0.5μm以上，更為理想的是0.7μm以上。另一方面，若透明樹脂層過厚，則光學可靠性與耐水性降低，因此，透明樹脂層之厚度一般宜為6μm以下，較為理想的是5μm以下，更為理想的是3μm以下。
前述聚乙烯醇系樹脂例如可列舉聚乙烯醇。聚乙烯醇可藉由將聚醋酸乙烯酯皂化而製得。又，聚乙烯醇系樹脂可列舉如：醋酸乙烯酯與具有共聚性之單體的共聚物之皂化物。當前述具有共聚性之單體為乙烯時，可製得乙烯-乙烯醇共聚物。又，前述具有共聚性之單體可列舉如：(無水)馬來酸、延胡索酸、巴豆酸、伊康酸、(甲基)丙烯酸等不飽和羧酸及其酯類；乙烯、丙烯等α-烯烴、(甲基)烯丙基磺酸(鈉)、磺酸鈉(單烷基蘋果酸酯)、二磺酸鈉烷基蘋果酸酯、N-羥甲基丙烯醯胺、丙烯醯胺烷基磺酸鹼鹽、N-乙烯基吡咯啶酮、N-乙烯基吡咯啶酮衍生物等。該等聚乙烯醇系樹脂可單獨一種或併用二種以上。若由滿足耐濕熱性或耐水性之觀點來看，則宜為將聚醋酸乙烯酯皂化所製得的聚乙烯醇。
前述聚乙烯醇系樹脂之皂化度例如可使用95莫耳%以上的皂化度，若由滿足耐濕熱性或耐水性之觀點來看，則皂化度宜為99莫耳%以上，更為理想的是99.7莫耳%以上。皂化度是表示在可藉由皂化而轉換成乙烯醇單位的單位中，實際上皂化成乙烯醇單位的單位之比例，殘基為乙烯酯單位。皂化度可根據JIS K 6726-1994來求取。
前述聚乙烯醇系樹脂之平均聚合度例如可使用500以上的平均聚合度，若由滿足耐濕熱性或耐水性之觀點來看，則平均聚合度宜為1000以上，較為理想的是1500以上，更為理想的是2000以上。聚乙烯醇系樹脂之平均聚合度可根據JIS-K6726來測定。
又，前述聚乙烯醇系樹脂可使用：在前述聚乙烯醇或其共聚物之側鏈具有親水性官能基的改質聚乙烯醇系樹脂。前述親水性官能基例如可列舉：乙醯乙醯基、羰基等。除此之外，可使用業已將聚乙烯醇系樹脂進行縮醛化、胺基甲酸酯化、醚化、接枝化、磷酸酯化等的改質聚乙烯醇。
本發明之透明樹脂層是由含有前述聚乙烯醇系樹脂作為主成分的形成材所形成，惟前述形成材中可含有硬化性成分(交聯劑)等。透明樹脂層或形成材(固形成分)中的聚乙烯醇系樹脂之比例宜為80重量%以上，更為理想的是90重量%以上，進而為95重量%以上。不過，較為理想的是前述形成材中並未含有硬化性成分(交聯劑)。
交聯劑可使用：具有至少2個與聚乙烯醇系樹脂具有反應性的官能基之化合物。舉例言之，可列舉如：伸乙二胺、三伸乙二胺、六亞甲二胺等具有伸烷基與2個胺基的伸烷基二胺類；甲苯二異氰酸酯、氫化甲苯二異氰酸酯、三羥甲基丙烷甲苯二異氰酸酯加成物、三苯基甲烷三異氰酸酯、亞甲基雙(4-苯基甲烷三異氰酸酯、異佛酮二異氰酸酯及該等之酮肟嵌段物或苯酚嵌段物等異氰酸酯類；乙二醇二環氧丙基醚、聚乙二醇二環氧丙基醚、丙三醇二或三環氧丙基醚、1,6-己二醇二環氧丙基醚、三羥甲基丙烷三環氧丙基醚、二環氧丙基苯胺、二環氧丙基胺等環氧類；甲醛、乙醛、丙醛、丁醛等單醛類；乙二醛、丙二醛、丁二醛、戊二醛、順丁烯二醛、苯二醛等二醛類；羥甲基尿素、羥甲基三聚氰胺、烷基化羥甲基尿素、烷基化羥甲基化三聚氰胺、乙醯胍胺、苯并胍胺與甲醛之縮合物等胺基-甲醛樹脂；己二酸二醯肼、草酸二醯肼、丙二酸二醯肼、琥珀酸二醯肼、戊二酸二醯肼、異酞酸二醯肼、癸二酸二醯肼、馬來酸二醯肼、延胡索酸二醯肼、伊康酸二醯肼等二羧酸二醯肼；乙烯-1,2-二肼、丙烯-1,3-二肼、丁烯-1,4-二肼等水溶性二肼。於該等之中，較為理想的是胺基-甲醛樹脂或水溶性二肼。胺基-甲醛樹脂宜為具有羥甲基之化合物。其中，屬於具有羥甲基之化合物的羥甲基三聚氰胺是特別合適的。
若由提升耐水性之觀點來看，則可使用前述硬化性成分(交聯劑)，惟其比例宜相對於聚乙烯醇系樹脂100重量份為20重量份以下、10重量份以下、5重量份以下。
又，除了前述聚乙烯醇系樹脂外，本發明之透明樹脂層可含有硼酸。藉由使透明樹脂層中含有硼酸，可控制硼酸自偏光件滲入透明樹脂層中的比例，並將測定自附透明樹脂層之偏光件之單面(a)的硼酸含量(a)，控制在所期望之範圍。前述硼酸之比例宜相對於聚乙烯醇系樹脂100重量份為20重量份以下，更為理想的是15重量份以下，進而為10重量份以下。
前述形成材可調整作為使前述聚乙烯醇系樹脂溶解於溶劑中的溶液。溶劑例如可列舉：水、二甲亞碸、二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺N-甲基吡咯啶酮、各種二醇類、三羥甲基丙烷等多元醇類、伸乙二胺、二伸乙三胺等胺類。該等可單獨或組合二種以上使用。於該等之中，較為理想的是作成使用水作為溶劑的水溶液使用。前述形成材(例如水溶液)中的前述聚乙烯醇系樹脂之濃度並無特殊之限制，若考慮塗覆性或放置安定性等，則為0.1~15重量%，較為理想的是0.5~10重量%。
另，於前述形成材(例如水溶液)中，亦可適當地加入添加劑。添加劑例如可列舉：可塑劑、界面活性劑等。可塑劑例如可列舉：乙二醇或丙三醇等多元醇。界面活性劑例如可列舉：非離子界面活性劑。再者，亦可摻合矽烷耦合劑、鈦耦合劑等耦合劑、各種賦黏劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、耐熱安定劑、耐水解安定劑等安定劑等。
前述透明樹脂層可藉由將前述形成材塗佈於偏光件之單面(a：設置黏著劑層側)並進行乾燥而形成。前述形成材之塗佈宜以乾燥後之厚度構成0.2μm以上來進行。塗佈操作並無特殊之限制，可採用任意適切之方法。舉例言之，可採用輥塗法、旋轉塗佈法、線棒塗佈法、浸塗法、壓鑄模塗佈法、簾塗佈法、噴塗法、刀式塗佈法(刮刀塗佈法等)等各種方法。乾燥溫度通常宜為60~120℃，更為理想的是70~100℃。乾燥時間宜為10~300秒鐘，更為理想的是20~120秒鐘。
＜保護薄膜＞ 構成前述保護薄膜的材料宜為透明性、機械強度、熱安定性、水分隔離性、等方性等優異的材料。舉例言之，可列舉如：聚對苯二甲酸乙二酯或聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系聚合物、二醋酸纖維素或三醋酸纖維素等纖維素系聚合物、聚甲基甲基丙烯酸脂等丙烯酸系聚合物、聚苯乙烯或丙烯腈．苯乙烯共聚物(AS樹脂)等苯乙烯系聚合物、聚碳酸酯系聚合物等。又，像是聚乙烯、聚丙烯、環系或具有降莰烯構造之聚烯烴、乙烯．丙烯共聚物之聚烯烴系聚合物、氯乙烯系聚合物、耐綸或芳香族聚醯胺等醯胺系聚合物、醯亞胺系聚合物、碸系聚合物、聚醚碸系聚合物、聚醚醚酮系聚合物、聚苯硫系聚合物、乙烯醇系聚合物、二氯亞乙烯系聚合物、乙烯丁醛系聚合物、芳酯系聚合物、聚甲醛系聚合物、環氧系聚合物或上述聚合物之摻合物等，亦可列舉作為形成上述保護薄膜的聚合物例。
另，於保護薄膜中，亦可含有一種以上任意適切之添加劑。添加劑例如可列舉：紫外線吸收劑、抗氧化劑、滑劑、可塑劑、脫模劑、防著色劑、阻燃劑、成核劑、抗靜電劑、顏料、著色劑等。保護薄膜中的上述熱可塑性樹脂之含量宜為50~100重量%，較為理想的是50~99重量%，更為理想的是60~98重量%，特別理想的是70~97重量%。當保護薄膜中的上述熱可塑性樹脂之含量為50重量%以下時，會有無法充分地顯現熱可塑性樹脂原本所具有的高透明性等之虞。
前述保護薄膜亦可使用相位差薄膜、增亮薄膜、擴散薄膜等。相位差薄膜可列舉如：具有正面相位差為40nm以上及/或厚度方向相位差為80nm以上的相位差之相位差薄膜。正面相位差通常控制在40~200nm之範圍，厚度方向相位差通常控制在80~300nm之範圍。當使用相位差薄膜作為保護薄膜時，由於該相位差薄膜亦具有作為偏光件保護薄膜的機能，因此，可達成薄型化。
相位差薄膜可列舉如：將熱可塑性樹脂薄膜進行單軸或雙軸延伸處理所構成的雙折射性薄膜。上述延伸之溫度、延伸倍率等可依照相位差值、薄膜之材料、厚度適當地設定。
保護薄膜的厚度可適當地決定，一般而言，若由強度或處理性等作業性、薄層性等觀點來看，則為1~500μm。尤其宜為1~300μm，更為理想的是5~200μm，進而為5~150μm，尤其是在20~100μm之薄型情形時是特別合適的。
在前述保護薄膜未接著偏光件之面上，可設置硬塗層、防反射層、防黏層、擴散層或防眩層等機能層。另，上述硬塗層、防反射層、防黏層、擴散層或防眩層等機能層除了可設置於保護薄膜本身之外，亦可另外設置成有別於保護薄膜的個體。
＜中介層＞ 前述保護薄膜與偏光件乃透過接著劑層、黏著劑層、底塗層(底漆層)等中介層而積層。此時，宜藉由中介層無空氣間隙地積層兩者。
接著劑層乃藉由接著劑來形成。接著劑之種類並無特殊之限制，可使用各種接著劑。前述接著劑層只要是光學上呈透明，則無特殊之限制，可使用水系、溶劑系、熱熔膠系、活性能量線硬化型等各種形態的接著劑作為接著劑，惟理想的是水系接著劑或活性能量線硬化型接著劑。
水系接著劑可例示：異氰酸酯系接著劑、聚乙烯醇系接著劑、明膠系接著劑、乙烯基系乳膠系、水系聚酯等。水系接著劑通常作成由水溶液所構成的接著劑使用，通常含有0.5~60重量%之固形成分。
活性能量線硬化型接著劑乃藉由電子射線、紫外線(自由基硬化型、陽離子硬化型)等活性能量線進行硬化的接著劑，舉例言之，可使用電子射線硬化型、紫外線硬化型之態樣。活性能量線硬化型接著劑例如可使用光自由基硬化型接著劑。當紫外線硬化型使用光自由基硬化型之活性能量線硬化型接著劑時，該接著劑乃含有自由基聚合性化合物及光聚合起始劑。
接著劑之塗覆方式可依照接著劑之黏度或目標厚度適當地選擇。塗覆方式之例子例如可列舉：逆轉塗佈機、凹版塗佈機(直接、逆轉或平版)、棒式逆轉塗佈機、輥塗機、壓鑄模塗佈機、棒式塗佈機、刮棒塗佈機等。除此之外，塗覆可適當地使用浸漬方式等方式。
又，前述接著劑之塗覆在使用水系接著劑等之情形時，宜以最終所形成接著劑層之厚度構成30~300nm來進行。前述接著劑層之厚度更宜為60~250nm。另一方面，在使用活性能量線硬化型接著劑之情形時，宜以前述接著劑層之厚度構成0.1~200μm來進行。較為理想的是0.5~50μm，更為理想的是0.5~10μm。
另，在積層偏光件與保護薄膜時，於保護薄膜與接著劑層間可設置易接著層。易接著層可藉由例如具有聚酯骨架、聚醚骨架、聚碳酸酯骨架、聚胺基甲酸酯骨架、聚矽氧系、聚醯胺骨架、聚醯亞胺骨架、聚乙烯醇骨架等的各種樹脂來形成。該等聚合物樹脂可單獨一種或組合二種以上使用。又，在形成易接著層時，亦可加入其他添加劑。具體而言，亦可進一步地使用賦黏劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、耐熱安定劑等安定劑等。
易接著層通常預先設置於保護薄膜上，且藉由接著劑層，積層該保護薄膜之易接著層側與偏光件。易接著層之形成乃依下述來進行：藉由公知技術，將易接著層之形成材塗覆於保護薄膜上並乾燥。易接著層之形成材通常會調整為業已考量乾燥後厚度、塗覆圓滑性等而稀釋成適當濃度的溶液。易接著層之乾燥後厚度宜為0.01~5μm，較為理想的是0.02~2μm，更為理想的是0.05~1μm。另，易接著層可設置複數層，然而，即便是在此種情形時，易接著層之總厚度亦宜作成上述範圍。
黏著劑層乃由黏著劑所形成。黏著劑可使用各種黏著劑，舉例言之，可列舉如：橡膠系黏著劑、丙烯酸系黏著劑、聚矽氧系黏著劑、胺基甲酸酯系黏著劑、乙烯基烷基醚系黏著劑、聚乙烯吡咯啶酮系黏著劑、聚丙烯醯胺系黏著劑、纖維素系黏著劑等。視前述黏著劑之種類，選擇黏著性的基礎聚合物。於前述黏著劑中，若由光學透明性優異、顯示適當潤濕性、凝結性與接著性之黏著特性而耐氣候性或耐熱性等優異之觀點來看，則宜使用丙烯酸系黏著劑。
底塗層(底漆層)乃用以提升偏光件與保護薄膜之密接性而形成。構成底漆層的材料只要是可於基材薄膜與聚乙烯醇系樹脂層兩者發揮一定程度強力密接力之材料，則無特殊之限制。舉例言之，可使用透明性、熱安定性、延伸性等優異的熱可塑性樹脂等。熱可塑性樹脂例如可列舉：丙烯酸系樹脂、聚烯烴系樹脂、聚酯系樹脂、聚乙烯醇系樹脂或該等之混合物。
＜黏著劑層＞ 於前述偏光件或單面保護偏光薄膜上可設置黏著劑層，並作成附黏著劑層之偏光薄膜使用。黏著劑層可設置於偏光件之前述單面(a)，或者於附透明樹脂層之偏光件之情形時透過透明樹脂層而設置。於附黏著劑層之偏光薄膜之黏著劑層上可設置分隔件。
在形成黏著劑層時，可使用適當的黏著劑，其種類並無特殊之限制。黏著劑可列舉如：橡膠系黏著劑、丙烯酸系黏著劑、聚矽氧系黏著劑、胺基甲酸酯系黏著劑、乙烯基烷基醚系黏著劑、聚乙烯醇系黏著劑、聚乙烯吡咯啶酮系黏著劑、聚丙烯醯胺系黏著劑、纖維素系黏著劑等。
於該等黏著劑中，宜使用光學透明性優異、顯示適當潤濕性、凝結性與接著性之黏著特性而耐氣候性或耐熱性等優異的黏著劑。作為顯示此種特徵的黏著劑，宜使用丙烯酸系黏著劑。
作為形成黏著劑層的方法，舉例言之，可藉由下述方法等來製作：將前述黏著劑塗佈於業經剝離處理的分隔件等，並乾燥除去聚合溶劑等，形成黏著劑層後進行轉印之方法；或直接塗佈前述黏著劑，並乾燥除去聚合溶劑等，於偏光件或透明樹脂層形成黏著劑層之方法。另，在塗佈黏著劑時，亦可適當地新加入聚合溶劑以外的一種以上之溶劑。
業經剝離處理的分隔件宜使用聚矽氧剝離襯墊。在將本發明之黏著劑塗佈於此種襯墊上並使其乾燥而形成黏著劑層之步驟中，使黏著劑乾燥的方法可依照目的適當地採用適切之方法。較為理想的是使用將上述塗佈膜過熱乾燥之方法。加熱乾燥溫度宜為40℃~200℃，更為理想的是50℃~180℃，特別理想的是70℃~170℃。藉由將加熱溫度作成上述範圍，可製得具有優異黏著特性的黏著劑。
乾燥時間可適當地採用適切之時間。上述乾燥時間宜為5秒~20分，更為理想的是5秒~10分，特別理想的是10秒~5分。
黏著劑層之形成方法可使用各種方法。具體而言，例如可列舉：輥塗、接觸輥塗佈、凹版塗佈、逆轉塗佈、滾動刷塗、噴塗、浸漬式輥塗、棒式塗佈、刀式塗佈、氣動刮刀塗佈、簾塗佈、唇口塗佈、利用壓鑄模塗佈機等的押出塗佈法等方法。
黏著劑層之厚度並無特殊之限制，例如為1~100μm。理想的是2~50μm，較為理想的是2~40μm，更為理想的是5~35μm。
當前述黏著劑層露出時，直至供實際使用為止，亦可藉由業經剝離處理的片材(分隔件)來保護黏著劑層。
分隔件之構成材料例如可列舉：聚乙烯、聚丙烯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚酯薄膜等塑膠薄膜；紙、布、不織布等多孔質材料；網狀物、發泡片、金屬箔及該等之積層體等適當之薄片體等，若由表面平滑性優異之觀點來看，則適合使用塑膠薄膜。
其他塑膠薄膜只要是得以保護前述黏著劑層的薄膜，則無特殊之限制，舉例言之，可列舉如：聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜、聚丁烯薄膜、聚丁二烯薄膜、聚甲基戊烯薄膜、聚氯乙烯薄膜、氯乙烯共聚物薄膜、聚對苯二甲酸乙二酯薄膜、聚對苯二甲酸丁二酯薄膜、聚胺基甲酸酯薄膜、乙烯-醋酸乙烯酯共聚物薄膜等。
前述分隔件之厚度通常為5~200μm，較為理想的是5~100μm。視需要，亦可對前述分隔件進行利用聚矽氧系、氟系、長鏈烷基系或脂肪酸醯胺系脫模劑、矽粉等的脫模及防汙處理，或是塗佈型、揉合型、蒸鍍型等的抗靜電處理。特別是藉由於前述分隔件之表面適當地進行聚矽氧處理、長鏈烷基處理、氟處理等剝離處理，可進一步地提高自前述黏著劑層之剝離性。
＜表面保護薄膜＞ 於前述偏光件、單面保護偏光薄膜上可設置表面保護薄膜。表面保護薄膜通常具有基材薄膜及黏著劑層，並透過該黏著劑層，保護偏光件。
若由檢查性或管理性等觀點來看，則表面保護薄膜之基材薄膜可選擇具有等方性或接近等方性的薄膜材料。該薄膜材料例如可列舉：聚對苯二甲酸乙二酯薄膜等聚酯系樹脂、纖維素系樹脂、醋酸酯系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚烯烴系樹脂、丙烯酸系樹脂般的透明聚合物。於該等之中，較為理想的是聚酯系樹脂。基材薄膜亦可使用一種或二種以上薄膜材料的積層體，又，亦可使用前述薄膜之延伸物。基材薄膜之厚度一般為500μm以下，較為理想的是10~200μm。
形成表面保護薄膜之黏著劑層的黏著劑可適當地選擇、使用將(甲基)丙烯酸系聚合物、聚矽氧系聚合物、聚酯、聚胺基甲酸酯、聚醯胺、聚醚、氟系或橡膠系等之聚合物作成基礎聚合物的黏著劑。若由透明性、耐氣候性、耐熱性等觀點來看，則宜為將丙烯酸系聚合物作成基礎聚合物的丙烯酸系黏著劑。黏著劑層之厚度(乾燥膜厚)可依照所必須之黏著力來決定。通常為1~100μm，較為理想的是5~50μm。
另，於表面保護薄膜上，可於基材薄膜中設置黏著劑層面之相反面上，藉由聚矽氧處理、長鏈烷基處理、氟處理等低接著性材料，設置剝離處理層。
＜其他光學層＞ 本發明之偏光件、單面保護偏光薄膜在實際使用時可作成與其他光學層積層的光學薄膜使用。該光學層並無特殊之限制，舉例言之，可使用一層或二層以上的反射板、半透射板、相位差板(包含1/2或1/4等的波長板)或視角補償薄膜等用以形成液晶顯示裝置等的光學層。特別理想的是：於本發明之單面保護偏光薄膜上更積層反射板或半透射反射板而形成的反射型偏光薄膜或半透射型偏光薄膜；於單面保護偏光薄膜上更積層相位差板而形成的橢圓偏光薄膜或圓偏光薄膜；於單面保護偏光薄膜上更積層視角補償薄膜而形成的廣視野角偏光薄膜；或於單面保護偏光薄膜上更積層增亮薄膜而形成的偏光薄膜。
於偏光件、單面保護偏光薄膜上積層有上述光學層的光學薄膜雖然亦可於液晶顯示裝置等之製造過程中以依序個別積層的方式來形成，然而，預先積層而作成光學薄膜者具有品質安定性或組裝作業等優異而可提升液晶顯示裝置等的製造步驟之優點。積層時可使用黏著劑層等適當之接著機構。接著上述單面保護偏光薄膜或其他光學薄膜時，該等之光學軸可依照目標相位差特性等，作成適當之配置角度。
本發明之偏光件、單面保護偏光薄膜或光學薄膜可適當地使用在液晶顯示裝置等各種裝置之形成等。液晶顯示裝置之形成可依循常法來進行。即，液晶顯示裝置一般是藉由下述來形成：適當地組裝液晶晶胞與偏光件、單面保護偏光薄膜或光學薄膜以及視需要的照明系統等構成零件，並裝入驅動電路等，然而，於本發明中，除了使用本發明之偏光件、單面保護偏光薄膜或光學薄膜外，並無特殊之限制，可依循常法。液晶晶胞亦可使用例如IPS型、VA型等任意形式之液晶晶胞，惟特別合適的是IPS型。
可形成以下液晶顯示裝置：於液晶晶胞之單側或兩側配置有偏光件、單面保護偏光薄膜或光學薄膜的液晶顯示裝置；或於照明系統中使用背光源或反射板等適當之液晶顯示裝置。此時，本發明之偏光件、單面保護偏光薄膜或光學薄膜可設置於液晶晶胞之單側或兩側。於兩側設置偏光件、單面保護偏光薄膜或光學薄膜時，該等可為相同或相異。再者，於形成液晶顯示裝置時，可將例如擴散板、防眩層、防反射膜、保護板、稜鏡陣列、透鏡陣列片、光擴散板、背光源等適當之零件，於適當位置上配置一層或二層以上。
＜影像顯示裝置之連續製造方法＞ 上述影像顯示裝置宜藉由包含有以下步驟的連續製造方法(捲材至面板方式)來製造：將業已自本發明附黏著劑層之偏光薄膜之捲繞體(捲材)紡出並藉由前述分隔件搬送的前述附黏著劑層之偏光薄膜，透過前述黏著劑層連續地黏合於影像顯示面板之表面。本發明之附黏著劑層之偏光薄膜屬於非常薄的薄膜，因此，若利用切割成片狀(薄片切割)後一片一片地黏合於影像顯示面板的方式(亦稱作「片材至面板方式」)，則片材之搬送或黏合於顯示面板時的處理困難，於該等過程中附黏著劑層之偏光薄膜(片材)承受巨大機械衝擊(例如吸附所致撓曲等)的風險提高。為了減低此種風險，必須另外具有因應對策，例如使用基材薄膜之厚度為50μm以上的厚層表面保護薄膜等。另一方面，若藉由捲材至面板方式，則附黏著劑層之偏光薄膜毋須切割成片狀(薄片切割)而可藉由連續狀之分隔件，自捲材安定地搬送至影像顯示面板，並直接黏合於影像顯示面板，因此，毋須使用厚層表面保護薄膜而可大幅地減低上述風險。其結果，可高速連續生產一種影像顯示面板，其可藉由膜厚與儲存模數業已控制成滿足預定關係式的黏著劑層來緩和機械衝擊，與此相輔相成而有效地抑制奈米細縫的發生。
圖5是顯示採用了捲材至面板方式的液晶顯示裝置之連續製造系統之一例的示意圖。 如圖5所示，液晶顯示裝置之連續製造系統100包含有：搬送液晶顯示面板P的一連串搬送部X、第1偏光薄膜供給部101a、第1黏合部201a、第2偏光薄膜供給部101b及第2黏合部201b。 另，第1附黏著劑層之偏光薄膜之捲繞體(第1捲材)20a及第2附黏著劑層之偏光薄膜之捲繞體(第2捲材)20b乃於長向具有吸收軸，且使用圖2(A)中所記載的態樣。
(搬送部) 搬送部X乃搬送液晶顯示面板P。搬送部X構成為具有複數個搬送輥及吸附板等。搬送部X乃於第1黏合部201a與第2黏合部201b間含有配置調換部300，其相對於液晶顯示面板P之搬送方向，調換液晶顯示面板P之長邊與短邊之配置關係(例如使液晶顯示面板P水平旋轉90°)。藉此，可相對於液晶顯示面板P，以正交偏光之關係黏合第1附黏著劑層之偏光薄膜21a及第2附黏著劑層之偏光薄膜21b。
(第1偏光薄膜供給部) 第1偏光薄膜供給部101a乃將業已自第1捲材20a紡出並藉由分隔件5a搬送的第1附黏著劑層之偏光薄膜(附表面保護薄膜)21a，連續地供給至第1黏合部201a。第1偏光薄膜供給部101a乃具有第1紡出部151a、第1切割部152a、第1剝離部153a、第1捲繞部154a及複數個搬送輥部、浮動輥等累積部等。
第1紡出部151a乃具有設置第1捲材20a的紡出軸，並自第1捲材20a，紡出業已設置分隔件5a的帶狀附黏著劑層之偏光薄膜21a。
第1切割部152a乃具有切斷機、雷射裝置等切割機構及吸附機構。第1切割部152a是留下分隔件5a，並以預定長度朝寬度方向切割帶狀的第1附黏著劑層之偏光薄膜21a。不過，當第1捲材20a使用以下捲材時，無需第1切割部152a(後述第2切割部152b亦相同)：於分隔件5a上積層了業已以預定長度於寬度方向形成複數條切割線的帶狀附黏著劑層之偏光薄膜21a的捲材(有切痕的光學薄膜捲材)。
第1剝離部153a乃藉由將分隔件5a作成內側而翻折，自分隔件5a剝離第1附黏著劑層之偏光薄膜21a。第1剝離部153a可列舉如：楔型構件、輥等。
第1捲繞部154a是捲繞業已剝離第1附黏著劑層之偏光薄膜21a的分隔件5a。第1捲繞部154a乃具有設置用以捲繞分隔件5a之捲材的捲繞軸。
(第1黏合部) 第1黏合部201a乃將業已藉由第1剝離部153a剝離的第1附黏著劑層之偏光薄膜21a，透過第1附黏著劑層之偏光薄膜21a之黏著劑層連續地黏合於藉由搬送部X搬送的液晶顯示面板P(第1黏合步驟)。第1黏合部81構成為具有一對黏合輥，黏合輥之至少一者乃藉由驅動輥來構成。
(第2偏光薄膜供給部) 第2偏光薄膜供給部101b乃將業已自第2捲材20b紡出並藉由分隔件5b搬送的第2附黏著劑層之偏光薄膜(附表面保護薄膜)21b，連續地供給至第2黏合部201b。第2偏光薄膜供給部101b乃具有第2紡出部151b、第2切割部152b、第2剝離部153b、第2捲繞部154b及複數個搬送輥部、浮動輥等累積部等。另，第2紡出部151b、第2切割部152b、第2剝離部153b、第2捲繞部154b分別具有與第1紡出部151a、第1切割部152a、第1剝離部153a、第1捲繞部154a相同的構造及機能。
(第2黏合部) 第2黏合部201b乃將業已藉由第2剝離部153b剝離的第2附黏著劑層之偏光薄膜21b，透過第2附黏著劑層之偏光薄膜21b之黏著劑層連續地黏合於藉由搬送部X搬送的液晶顯示面板P(第2黏合步驟)。第2黏合部201b構成為具有一對黏合輥，黏合輥之至少一者乃藉由驅動輥來構成。
實施例 以下，列舉實施例來說明本發明，惟本發明並不受限於以下所示之實施例。另，各例中的份及%皆為重量基準。以下未特別規定的室溫放置條件皆為23℃65%RH。
實施例1 ＜偏光件A0之製作：圖1(B)之態樣＞ 於吸水率0.75%、Tg75℃之非晶質異酞酸共聚合聚對苯二甲酸乙二酯(IPA共聚合PET)薄膜(厚度：100μm)基材之單面上，施行電暈處理，並於25℃下，於該電暈處理面塗佈以9：1之比例含有聚乙烯醇(聚合度4200，皂化度99.2莫耳%)及乙醯乙醯基改質PVA(聚合度1200，乙醯乙醯基改質度4.6%，皂化度99.0莫耳%以上，日本合成化學工業公司製，商品名「GOHSEFIMER Z200」)的水溶液，並進行乾燥而形成厚度11μm之PVA系樹脂層，且製作積層體。 將所製得積層體於120℃之烘箱內在周速不同的輥筒間朝縱向(長向)進行自由端單軸延伸成2.0倍(空中輔助延伸處理)。 其次，使積層體浸漬於液溫30℃之不溶化浴(相對於水100重量份摻合硼酸4重量份所製得的硼酸水溶液)中30秒鐘(不溶化處理)。 接著，一面調整碘濃度、浸漬時間，一面浸漬於液溫30℃之染色浴中，以使偏光件構成預定透射率。於本實施例中，浸漬於相對於水100重量份摻合碘0.2重量份並摻合碘化鉀1.0重量份所製得的碘水溶液中60秒鐘(染色處理)。 接著，浸漬於液溫30℃之交聯浴(相對於水100重量份摻合碘化鉀3重量份並摻合硼酸3重量份所製得的硼酸水溶液)中30秒鐘(交聯處理)。 然後，一面使積層體浸漬於液溫70℃之硼酸水溶液(相對於水100重量份摻合硼酸4.00重量份並摻合碘化鉀5重量份所製得的水溶液)中，一面在周速不同的輥筒間朝縱向(長向)進行單軸延伸，以使總延伸倍率構成5.5倍(水中延伸處理)。 然後，使積層體浸漬於液溫15℃之洗淨浴(相對於水100重量份摻合碘化鉀4重量份所製得的水溶液)中3秒鐘(洗淨處理)。 藉由上述，可製得含有厚度5μm之偏光件的光學薄膜積層體A0。所製得光學薄膜積層體A0之光學特性為透射率42.8%、偏光度99.99%。光學薄膜積層體A0乃使用作為單面保護偏光薄膜。
實施例2 ＜偏光件A1之製作＞ 於光學薄膜積層體A0之製作中，除了將水中延伸處理中摻合於硼酸水溶液之硼酸變更成3.75重量份外，作成與光學薄膜積層體A0之製作方法相同而製得偏光件A1。所製得偏光件之厚度為5μm。所製得光學薄膜積層體A1之光學特性為透射率42.8%、偏光度99.99%。
實施例3 ＜偏光件A2之製作＞ 於光學薄膜積層體A0之製作中，除了形成厚度16μm之PVA系樹脂層並製作積層體、將水中延伸處理中摻合於硼酸水溶液之硼酸變更成3.75重量份外，作成與光學薄膜積層體A0之製作方法相同而製得偏光件A2。所製得偏光件之厚度為7μm。所製得光學薄膜積層體A2之光學特性為透射率42.8%、偏光度99.99%。
實施例4 ＜偏光件A3之製作＞ 於光學薄膜積層體A0之製作中，除了將水中延伸處理中摻合於硼酸水溶液之硼酸變更成3.00重量份外，作成與光學薄膜積層體A0之製作方法相同而製得偏光件A2。所製得偏光件之厚度為5μm。所製得光學薄膜積層體A3之光學特性為透射率42.8%、偏光度99.99%。
實施例5 ＜聚乙烯醇系形成材A＞ 相對於聚合度2500、皂化度99.0莫耳%之聚乙烯醇樹脂100重量份摻合硼酸15重量份後，溶解於純水中，並調製固形成分濃度4重量%之水溶液。
＜單面保護偏光薄膜之製作：圖2(B)之態樣＞ 於上述光學薄膜積層體A0的偏光件表面(未設置樹脂基材的偏光件面)上，藉由線棒塗佈機，將業已調整為25℃的上述聚乙烯醇系形成材A塗佈成乾燥後之厚度構成0.5μm後，以80℃熱風乾燥30秒鐘而形成透明樹脂層，並製作單面保護偏光薄膜。
實施例6、7 於實施例5中，除了如表1所示般變更透明樹脂層之厚度外，作成與實施例5相同而形成透明樹脂層，並製作單面保護偏光薄膜。
實施例8 ＜聚乙烯醇系形成材B＞ 將聚合度2500、皂化度99.0莫耳%之聚乙烯醇樹脂溶解於純水中，並調製固形成分濃度4重量%之水溶液。
＜單面保護偏光薄膜之製作：圖2(B)之態樣＞ 於上述光學薄膜積層體A0的偏光件表面(未設置樹脂基材的偏光件面)上，藉由線棒塗佈機，將業已調整為25℃的上述聚乙烯醇系形成材B塗佈成乾燥後之厚度構成0.5μm後，以80℃熱風乾燥30秒鐘而形成透明樹脂層，並製作單面保護偏光薄膜。
實施例9、10 於實施例8中，除了如表1所示般變更透明樹脂層之厚度外，作成與實施例8相同而形成透明樹脂層，並製作單面保護偏光薄膜。
比較例1 ＜偏光件A4之製作＞ 於光學薄膜積層體A0之製作中，除了將水中延伸處理中摻合於硼酸水溶液之硼酸變更成4.00重量份、將洗淨處理中的浸漬時間變更成6秒鐘外，作成與光學薄膜積層體A0之製作方法相同而製得偏光件A4。所製得偏光件之厚度為5μm。所製得光學薄膜積層體A4之光學特性為透射率42.8%、偏光度99.99%。
比較例2 ＜偏光件A5之製作＞ 於光學薄膜積層體A0之製作中，除了將水中延伸處理中摻合於硼酸水溶液之硼酸變更成4.25重量份、將洗淨處理中的浸漬時間變更成6秒鐘外，作成與光學薄膜積層體A0之製作方法相同而製得偏光件A5。所製得偏光件之厚度為5μm。所製得光學薄膜積層體A5之光學特性為透射率42.8%、偏光度99.99%。
比較例3 ＜偏光件A6之製作＞ 於光學薄膜積層體A0之製作中，除了將水中延伸處理中摻合於硼酸水溶液之硼酸變更成4.00重量份、將洗淨處理中的浸漬時間變更成6秒鐘外，作成與光學薄膜積層體A0之製作方法相同而製得偏光件A6。所製得偏光件之厚度為5μm。所製得光學薄膜積層體A6之光學特性為透射率42.8%、偏光度99.99%。
＜聚乙烯醇系形成材C＞ 相對於聚合度2500、皂化度99.0莫耳%之聚乙烯醇樹脂100重量份摻合硼酸25重量份後，溶解於純水中，並調製固形成分濃度4重量%之水溶液。
＜單面保護偏光薄膜之製作：圖2(B)之態樣＞ 於上述光學薄膜積層體A6的偏光件表面(未設置樹脂基材的偏光件面)上，藉由線棒塗佈機，將業已調整為25℃的上述聚乙烯醇系形成材C塗佈成乾燥後之厚度構成1.0μm後，以80℃熱風乾燥30秒鐘而形成透明樹脂層，並製作單面保護偏光薄膜。
比較例4 ＜偏光件A7之製作＞ 於光學薄膜積層體A0之製作中，除了將水中延伸處理中摻合於硼酸水溶液之硼酸變更成2.00重量份外，作成與光學薄膜積層體A0之製作方法相同而製得偏光件A7。所製得偏光件之厚度為5μm。所製得光學薄膜積層體A8之光學特性為透射率42.3%、偏光度99.99%。
比較例5 ＜偏光件B之製作＞ 將平均聚合度2400、皂化度99.9莫耳%的厚度30μm之聚乙烯醇薄膜浸漬於30℃之溫水中60秒鐘，並使其膨潤。接著，浸漬於碘/碘化鉀(重量比=0.5/8)之濃度0.3%的水溶液中，一面延伸至3.5倍，一面將薄膜染色。然後，於65℃之硼酸酯水溶液中進行延伸，以使總延伸倍率構成6倍。延伸後，藉由40℃之烘箱進行3分鐘乾燥，並製得PVA系偏光件B。所製得偏光件之厚度為12μm。
＜保護薄膜之製作＞ 保護薄膜：對厚度40μm具有內酯環構造的(甲基)丙烯酸樹脂薄膜之易接著處理面施行電暈處理而使用。
＜應用在保護薄膜的接著劑之製作＞ 混合N-羥乙基丙烯醯胺(HEAA)40重量份、丙烯醯基嗎福林(ACMO)60重量份及光起始劑「IRGACURE 819」(BASF公司製)3重量份，並調製紫外線硬化型接著劑。
＜單面保護偏光薄膜之製作＞ 於偏光件B之單側表面上，將上述紫外線硬化型接著劑塗佈成硬化後的接著劑層厚度構成0.5μm，並黏合上述保護薄膜後，照射活性能量線，使接著劑硬化，並製得單面保護偏光薄膜。活性能量線乃照射紫外線，並使接著劑硬化。紫外線照射是使用封入鎵的金屬鹵素燈，照射裝置：輻深紫外線系統(Fusion UV Systems,Inc)公司製的Light HAMMER10，燈泡：V型燈泡，峰值照度：1600mW/cm2 ，累積照射量1000/mJ/cm2 (波長380~440nm)，紫外線之照度是使用索拉特爾(Solatell)公司製的Sola-Check系統來測定。所製得單面保護偏光薄膜之光學特性為透射率42.8%、偏光度99.99%。
比較例6 ＜偏光件C之製作＞ 將平均聚合度2400、皂化度99.9莫耳%的厚度75μm之聚乙烯醇薄膜浸漬於30℃之溫水中60秒鐘，並使其膨潤。接著，浸漬於碘/碘化鉀(重量比=0.5/8)之濃度0.3%的水溶液中，一面延伸至3.5倍，一面將薄膜染色。然後，於65℃之硼酸酯水溶液中進行延伸，以使總延伸倍率構成6倍。延伸後，藉由40℃之烘箱進行3分鐘乾燥，並製得PVA系偏光件C。所製得偏光件之厚度為23μm。
＜單面保護偏光薄膜之製作＞ 於比較例5中，除了使用上述偏光件C以取代偏光件B外，作成與比較例5相同而製得單面保護偏光薄膜。所製得單面保護偏光薄膜之光學特性為透射率42.5%、偏光度99.99%。
《附黏著劑層之單面保護偏光薄膜之製作：圖1(C)、圖2(C)之態樣》 ＜丙烯酸系聚合物之調製＞ 於具備攪拌槳、溫度計、氮氣導入管、冷卻器的四口燒瓶中，注入含有丁基丙烯酸酯99份及丙烯酸4-羥丁酯1份的單體混合物。再者，相對於前述單體混合物(固形成分)100份，將作為聚合起始劑的2,2’-偶氮雙異丁腈0.1份與醋酸乙酯一同注入，一面緩慢地攪拌，一面導入氮氣而進行氮取代後，將燒瓶內的液溫維持在60℃左右，進行7小時的聚合反應。然後，在所製得反應液中加入醋酸乙酯，調製業已調整為固形成分濃度30%的重量平均分子量140萬之丙烯酸系聚合物溶液。
＜黏著劑組成物之調製＞ 相對於上述丙烯酸系聚合物溶液之固形成分100份，摻合三羥甲基丙烷伸茬基二異氰酸酯(三井化學公司製：TAKENATE D110N)0.1份、二苯甲醯基過氧化物0.3份及γ-環氧丙氧基丙基甲氧基矽烷(信越化學工業公司製：KBM-403)0.075份，並調製丙烯酸系黏著劑溶液。
＜黏著劑層之形成＞ 接著，藉由噴注式塗佈機，於業已藉由聚矽氧系剝離劑進行處理的聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(分隔件薄膜)之表面上均一地塗覆上述丙烯酸系黏著劑溶液，且於155℃之空氣循環式恆溫烘箱中乾燥2分鐘，並於分隔件薄膜之表面形成厚度20μm之黏著劑層。
於藉由上述實施例或比較例所製得單面保護偏光薄膜(包含光學薄膜積層體)的偏光件(未設置樹脂基材的偏光件面)或透明樹脂層之表面上，黏合業已形成於上述脫模片(分隔件)之剝離處理面的黏著劑層，並製作附黏著劑層之偏光薄膜。
針對藉由上述實施例及比較例所製得單面保護偏光薄膜或附黏著劑層之偏光薄膜進行下述評價。表1顯示結果。
＜偏光件之單體透射率T及偏光度P＞ 使用附積分球之分光透射率測定器(村上色彩技術研究所之Dot-3c)，測定所製得單面保護偏光薄膜之單體透射率T及偏光度P。 另，偏光度P乃藉由將以下透射率應用在下式中來求取：將二片相同的單面保護偏光薄膜疊合成兩者之透射軸構成平行時的透射率(平行透射率：Tp)，以及疊合成兩者之透射軸呈正交時的透射率(正交透射率：Tc)。偏光度P(%)={(Tp-Tc)/(Tp+Tc)}1/2 ×100 各透射率是將經由格蘭-泰勒稜鏡偏光件所獲得的完全偏光作成100%，並藉由業已利用JIS Z8701之二度視野(C光源)進行視感度補正之Y值來表示。
＜偏光件中的硼酸含量之測定＞ 針對藉由實施例及比較例所製得的偏光件，使用傅立葉轉換紅外分光光度計(FTIR)(珀金埃爾默(Perkin Elmer)公司製，商品名「SPECTRUM2000」)，藉由將偏光作成測定光的全反射衰減分光(ATR)測定，測定硼酸峰值(665cm-1 )之強度及參照峰值(2941cm-1 )之強度。藉由下式，自所獲得硼酸峰值強度及參照峰值強度算出硼酸量指數，再藉由下式，自所算出硼酸量指數決定硼酸含量(重量%)。 (硼酸量指數)=(硼酸峰值665cm-1 之強度)/(參照峰值2941cm-1 之強度) (硼酸含量(重量%))=(硼酸量指數)×5.54+4.1
前述偏光件中的硼酸含量(a)之測定乃藉由利用上述裝置直接測定單面保護偏光薄膜(或光學薄膜積層體)的偏光件面來進行。又，於附透明樹脂層之偏光件之情形時，則自透明樹脂層面進行測定。 另一方面，硼酸含量(b)乃藉由利用上述裝置直接測定業已自所製得附黏著劑層之偏光薄膜剝離保護薄膜(或樹脂基材)的面來進行。
＜奈米細縫的發生抑制：吉他彈片試驗＞ 將所製得附黏著劑層之偏光薄膜裁切成50mm×150mm之尺寸(吸收軸方向為50mm)作為試樣12。試樣12乃將藉由下述方法所製作的表面保護薄膜6黏合於保護薄膜3側而使用。 (試驗用表面保護薄膜) 將基材層成形材料供給至共押出用充氣成形機，且該基材層成形材料是由190℃中熔流速率為2.0g/10min的密度0.924g/cm3 之低密度聚乙烯所構成。 同時將黏著劑層成形材料供給至壓鑄模溫度為220℃的充氣成形機，並進行共押出成形，而前述黏著劑層成形材料是由230℃中熔流速率為10.0g/10min的密度0.86g/cm3 之丙烯-丁烯共聚物(以質量比計，丙烯：丁烯=85：15，雜排構造)所構成。 藉此，製造由厚度33μm之基材層與厚度5μm之黏著劑層所構成的表面保護薄膜。
其次，如圖4(A)的示意圖、圖4(B)的截面圖所示，自該試樣剝離脫模片(分隔件)，並透過業已露出的黏著劑層A黏貼於玻璃板20上。接著，藉由吉他彈片(歷史(HISTORY)公司製，型號「HP2H(HARD)」)，對試樣12(表面保護薄膜6側)之中央部施加荷重200g，於試樣12中與偏光件1之吸收軸呈正交之方向，在100mm之距離反覆進行來回50次的荷重負載。前述荷重負載是在一處進行。 接著，於80℃之環境下將試樣12放置1小時後，藉由下述基準，確認試樣12有無漏光之裂紋。 A：未發生100個以下。 B：101~500個。 C：501個至1000個。 D：1001個以上。
＜貫通裂紋的確認：熱震試驗＞ 將所製得附黏著劑層之偏光薄膜裁切成50mm×150mm(吸收軸方向為50mm)與150mm×50mm(吸收軸方向為150mm)，並於正交偏光之方向黏合於0.5mm厚的無鹼玻璃之雙面上而作成試樣。將該試樣投入至進行-40~85℃之熱震各30分鐘×100次之環境下後，取出並以目視確認附黏著劑層之偏光薄膜上是否發生貫通裂紋(條數)。將該試驗進行5次。評價乃根據下述來進行。 ○：無貫通裂紋。 ×：有貫通裂紋。
＜耐濕熱性：偏光度之變化率(光學可靠性試驗)＞ 將所製得單面保護偏光薄膜裁切成25mm×50mm之尺寸(吸收軸方向為50mm)。將該單面保護偏光薄膜(試樣)投入至85℃/85%RH之恆溫恆濕機中150小時。使用附積分球之分光透射率測定器(村上色彩技術研究所之Dot-3c)，測定投入前與投入後的單面保護偏光薄膜之偏光度，並求取： 偏光度之變化率(%)=(1-(投入後的偏光度/投入前的偏光度))。 另，偏光度P乃藉由將以下透射率應用在下式中來求取：將二片相同的單面保護偏光薄膜疊合成兩者之透射軸構成平行時的透射率(平行透射率：Tp)，以及疊合成兩者之透射軸呈正交時的透射率(正交透射率：Tc)。偏光度P(%)={(Tp-Tc)/(Tp+Tc)}1/2 ×100 各透射率是將經由格蘭-泰勒稜鏡偏光件所獲得的完全偏光作成100%，並藉由業已利用JIS Z8701之二度視野(C光源)進行視感度補正之Y值來表示。 表1中記載偏光度之變化率，同時藉由下述基準來判斷該變化率。 ○：偏光度之變化率為0.5%以下。 △：偏光度之變化率大於0.5%且5.0%以下。 ×：偏光度之變化率大於5.0%。
＜搬送性＞ 搬送性乃利用目視，藉由下述基準來判斷在製造單面保護偏光薄膜(或光學薄膜積層體)時可否搬送單面保護偏光薄膜，以及所製得單面保護偏光薄膜中偏光件表面之損傷狀態。 ○：可搬送單面保護偏光薄膜，偏光件表面並無損傷。 △：可搬送單面保護偏光薄膜，偏光件表面並無明顯損傷。 ×：無法搬送單面保護偏光薄膜。
[表1]
Figure 02_image001
實施例11 除了單面保護偏光薄膜使用長條狀、使用微凹版塗佈機來塗覆形成材、上述脫模片(分隔件)及下述表面保護薄膜使用長條狀外，與實施例10相同。藉此，製作於單面保護偏光薄膜之偏光件側積層有分隔件以及於透明保護薄膜側積層有表面保護薄膜的附黏著劑層之單面保護偏光薄膜(圖2(D)之態樣)之捲繞體。另，附黏著劑層之單面保護偏光薄膜之捲繞體乃藉由細縫加工來準備寬度分別對應於32吋無鹼玻璃之短邊及長邊者作為套組，而前述細縫加工乃藉由附黏著劑層之單面保護偏光薄膜之連續搬送來進行切割。
(捲材至面板用表面保護薄膜) 於附抗靜電處理層之聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(商品名：Diafoil T100G38，三菱樹脂公司製，厚度38μm)的抗靜電處理面之相反面上，將丙烯酸系黏著劑塗佈形成為厚度構成15μm，並製得表面保護薄膜。
其次，使用如圖5所示捲材至面板方式之連續製造系統，將連續供給自附黏著劑層之單面保護偏光薄膜之捲繞體套組的附黏著劑層之單面保護偏光薄膜，以正交偏光之關係連續地黏合於0.5mm厚的32吋無鹼玻璃100片之雙面上。
＜奈米細縫的發生確認：加熱試驗＞ 將雙面黏合有附黏著劑層之單面保護偏光薄膜的無鹼玻璃100片投入至80℃之烘箱中24小時，然後，利用目視來確認有無發生奈米細縫。並未看見有奈米細縫所致缺陷(漏光)的發生。
1‧‧‧偏光件 2‧‧‧透明樹脂層 3‧‧‧樹脂基材 4‧‧‧保護薄膜 A‧‧‧黏著劑層 10‧‧‧附透明樹脂層之偏光件 11、11’‧‧‧單面保護偏光薄膜 12、12’‧‧‧附黏著劑層之偏光薄膜 a‧‧‧奈米細縫 (a)‧‧‧偏光件設置黏著劑層側之單面 b‧‧‧貫通裂紋 (b)‧‧‧偏光件設置黏著劑層側之相反側之單面 5、5a、5b‧‧‧分隔件 6、6a、6b‧‧‧表面保護薄膜 10‧‧‧偏光薄膜 11‧‧‧附黏著劑層之偏光薄膜 20‧‧‧玻璃板 20a、20b‧‧‧附黏著劑層之偏光薄膜之捲繞體(捲材) 21a、21b‧‧‧附黏著劑層之偏光薄膜(附表面保護薄膜) 100‧‧‧液晶顯示裝置之連續製造系統 101a、101b‧‧‧偏光薄膜供給部 151a、151b‧‧‧紡出部 152a、152b‧‧‧切割部 153a、153b‧‧‧剝離部 154a、154b‧‧‧捲繞部 201a、201b‧‧‧黏合部 300‧‧‧配置調換部 P‧‧‧液晶顯示面板 X‧‧‧液晶顯示面板之搬送部
圖1(A)~(D)為本發明之偏光件等的示意截面圖之一例。 圖2(A)~(D)為本發明之偏光件等的示意截面圖之一例。 圖3(A)、(B)為對比生成於偏光件的奈米細縫與貫通裂紋的示意圖之一例。 圖4(A)、(B)為說明有關實施例及比較例之奈米細縫之評價項目的示意圖。 圖5為影像顯示裝置之連續製造系統的示意截面圖之一例。
1‧‧‧偏光件
3‧‧‧樹脂基材
4‧‧‧保護薄膜
11‧‧‧單面保護偏光薄膜
12‧‧‧附黏著劑層之偏光薄膜
A‧‧‧黏著劑層
(a)‧‧‧偏光件設置黏著劑層側之單面
(b)‧‧‧偏光件設置黏著劑層側之相反側之單面

Claims (15)

  1. 一種偏光件，係用於偏光件單面上具有黏著劑層之附黏著劑層之偏光薄膜；其特徵在於：前述偏光件含有硼酸及聚乙烯醇系樹脂，且厚度為10μm以下，並構造成為以單體透射率T及偏光度P表示的光學特性會滿足下式之條件：P>-(100.929T-42.4-1)×100(惟T<42.3)，或P≧99.9(惟T≧42.3)；並且，前述偏光件中，自要設置前述黏著劑層側之單面所測定的硼酸含量(a)乃低於自另一單面所測定的硼酸含量(b)；在前述偏光件要設置黏著劑層側之單面上具有透明樹脂層，該透明樹脂層是含有聚乙烯醇系樹脂之形成材的形成物。
  2. 如請求項1之偏光件，其中前述硼酸含量(a)與前述硼酸含量(b)之差為0.5重量%以上。
  3. 如請求項1之偏光件，其中前述硼酸含量(a)與前述硼酸含量(b)之差為3重量%以上。
  4. 如請求項1至3中任一項之偏光件，其中前述硼酸含量(b)為20重量%以下。
  5. 如請求項1之偏光件，其中前述透明樹脂層之厚度為0.2μm以上。
  6. 如請求項1之偏光件，其中前述透明樹脂層之厚度為6μm以下。
  7. 如請求項1之偏光件，其中形成前述透明樹脂層的聚乙烯醇系樹脂其皂化度為99莫耳%以上、平均聚合度為2000以上。
  8. 一種單面保護偏光薄膜，其特徵在於具有：如請求項1至7中任一項之偏光件，以及僅於前述偏光件中要設置黏著劑層側之相反面具有保護薄膜。
  9. 一種偏光件之製造方法，係用以製造下述偏光件的方法，該偏光件係在如請求項1至7中任一項之偏光件之要設置黏著劑層側之單面上具有透明樹脂層，該透明樹脂層是含有聚乙烯醇系樹脂之形成材的形成物；其中，前述偏光件含有硼酸及聚乙烯醇系樹脂，且厚度為10μm以下，並構造成為以單體透射率T及偏光度P表示的光學特性會滿足下式之條件：P>-(100.929T-42.4-1)×100(惟T<42.3)，或P≧99.9(惟T≧42.3)；並且，前述偏光件中，自要設置前述黏著劑層側之單面所測定的硼酸含量(a)乃低於自另一單面所測定的硼酸含量(b)；且藉由於前述偏光件中要設置黏著劑層側之單面上直接塗佈前述透明樹脂層之形成材，設置前述透明樹脂層。
  10. 一種單面保護偏光薄膜之製造方法，係用以製造下述單面保護偏光薄膜的方法，該單面保護偏光薄膜是在如請求項8之單面保護偏光薄膜中，於如請求項1至7中任一項之偏光件之要設置黏著劑層側之單面上具有透 明樹脂層，該透明樹脂層是含有聚乙烯醇系樹脂之形成材的形成物；其中，前述偏光件含有硼酸及聚乙烯醇系樹脂，且厚度為10μm以下，並構造成為以單體透射率T及偏光度P表示的光學特性會滿足下式之條件：P>-(100.929T-42.4-1)×100(惟T<42.3)，或P≧99.9(惟T≧42.3)；並且，前述偏光件中，自要設置前述黏著劑層側之單面所測定的硼酸含量(a)乃低於自另一單面所測定的硼酸含量(b)；且藉由於前述偏光件中要設置黏著劑層側之單面上直接塗佈前述透明樹脂層之形成材，設置前述透明樹脂層。
  11. 一種附黏著劑層之偏光薄膜，其特徵在於具有如請求項1至7中任一項之偏光件或如請求項8之單面保護偏光薄膜，且在前述偏光件或單面保護偏光薄膜之要設置黏著劑層之單面上具有黏著劑層。
  12. 如請求項11之附黏著劑層之偏光薄膜，其中於前述黏著劑層積層有分隔件。
  13. 如請求項12之附黏著劑層之偏光薄膜，其為捲繞體。
  14. 一種影像顯示裝置，具有：如請求項1至7中任一項之偏光件、如請求項8之單面保護偏光薄膜、或如請求項11之附黏著劑層之偏光薄膜。
  15. 一種影像顯示裝置之連續製造方法，包含 有以下步驟：將附黏著劑層之偏光薄膜透過前述黏著劑層連續地黏合於影像顯示面板之表面；該附黏著劑層之偏光薄膜是業已自如請求項13之前述附黏著劑層之偏光薄膜之捲繞體紡出並藉由前述分隔件搬送者。
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