TW201301298A - 帶電粒子束照射裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種可實現裝置的小型化，並且能夠防止來自電磁鐵(41)的放射線進入照射室內之帶電粒子束照射裝置。本發明的帶電粒子束照射裝置，係具備：輸送帶電粒子束之輸送管道、朝被照射體照射帶電粒子束之照射部、及具有支承輸送管道(31)和照射部且能夠繞旋轉軸線P旋轉之筒體之旋轉支架，配置成使輸送管道的傾斜部通過筒體內。藉此，減小朝徑向伸出之輸送管道的伸出量。並且具有屏蔽來自電磁鐵(41)的放射線之屏蔽構件(61)。

Description

帶電粒子束照射裝置
本發明係有關一種照射帶電粒子束之帶電粒子束照射裝置。
對患者照射質子束等帶電粒子束來進行癌症治療之設備是已知的。這種設備係具備：加速帶電粒子而射出帶電粒子束之迴旋加速器(加速器)、安裝有從任意方向對患者照射帶電粒子束之旋轉自如的照射部之旋轉支架(旋轉體)、及將從迴旋加速器射出之帶電粒子束輸送至照射部之輸送管道。
照射部成為相對於患者旋轉自如之結構，朝照射部輸送帶電粒子束之輸送管道形態已知有各種態樣。例如專利文獻1中所記載的安裝於旋轉支架之射束輸送管道配置成如下：使朝旋轉支架的旋轉軸線方向行進之帶電粒子束以離開旋轉軸線的方式傾斜行進之後，使帶電粒子束沿旋轉軸線的旋轉方向迴旋而行進既定距離，使行進既定距離後之該帶電粒子束朝旋轉軸線側彎曲而輸送至照射部(nozzle 32)。而且，如此配置之射束輸送管道是藉由桁架狀結構體(旋轉支架)支承。
(先前技術文獻) (專利文獻)
專利文獻1：美國專利第5039057號說明書
然而，專利文獻1中所記載的射束輸送管道雖然旋轉軸線方向的長度縮短而實現了小型化，但成為與旋轉軸線交叉之方向亦即徑向上的大小非常大者。而且，形成射束輸送管道之電磁鐵等藉由形成為朝徑向的外側伸出之桁架狀結構體支承，因此整個旋轉支架裝置成為在徑向上非常大者。因此，容納旋轉支架之容納空間亦擴大，導致設置旋轉支架之建築物的大型化，很難降低建設成本。
並且，為了實現帶電粒子束照射裝置的小型化，靠近被照射體配置射束輸送管道時，要求減少從射束輸送管道朝向被照射體釋放之放射線。
本發明以解決以上課題為目的，其目的在於實現帶電粒子束照射裝置的小型化及降低向被照射體所在之一方前進之放射線。
本發明係一種向被照射體照射帶電粒子束之帶電粒子束照射裝置，其特徵為，係具備：輸送帶電粒子束之輸送管道、及能夠繞旋轉軸線旋轉之旋轉支架；輸送管道，係具有使朝旋轉軸線方向行進之帶電粒子束以離開旋轉軸線的方式傾斜行進之傾斜部，且形成為使在傾斜部內行進後 之帶電粒子束沿旋轉軸線的旋轉方向迴旋，並使沿旋轉方向迴旋後之帶電粒子束朝旋轉軸線側彎曲；旋轉支架由能夠容納被照射體且支承輸送管道之筒體形成；輸送管道的傾斜部配置於旋轉支架的筒體內，進一步具備屏蔽來自配置於筒體內之輸送管道的放射線之屏蔽構件。
本發明之帶電粒子束照射裝置，具備設有能夠繞旋轉軸線旋轉之筒體之旋轉支架，是形成為使輸送帶電粒子束之輸送管道的一部分通過旋轉支架的筒體內。是配置成使作為輸送管道的一部分、即傾斜部通過筒體內，該傾斜部是使朝旋轉軸線方向行進之帶電粒子束以離開旋轉軸線的方式傾斜行進。如此，若配置成使朝徑向離開旋轉軸線之輸送管道的傾斜部以通過旋轉支架的筒體內，與輸送管道避開筒體內(例如外殼、照射室)而配置之情況相比，能夠抑制輸送管道在徑向上的伸出量，並能夠縮小整個裝置在徑向上的大小。因此，能夠縮小用於容納帶電粒子束照射裝置的空間且實現建築物的小型化。由於能夠藉由使建築物小型化來例如減少用於放射線屏蔽壁之混凝土的使用量，因此能夠降低建築物的建設成本。
並且，由於為具備屏蔽來自配置於筒體內之輸送管道的放射線之屏蔽構件之結構，因此能夠藉由屏蔽構件屏蔽從輸送管道釋放之放射線。藉此，能夠抑制來自輸送管道的放射線進入照射室內(外殼內)。
並且亦可為，配置於筒體內之輸送管道具備用於使帶電粒子束通過且調整帶電粒子束的電磁鐵，該電磁鐵具有 向內側突出之複數個磁軛，屏蔽構件配置於鄰接之前述磁軛之間。這樣，若屏蔽構件配置於磁軛之間，能夠藉由屏蔽構件填補有放射線通過之顧慮之磁軛之間的間隙。藉此，能夠減少向電磁鐵的外部釋放之放射線。
並且，亦可為具備設置於電磁鐵的外表面之屏蔽構件。若為這種結構，則能夠藉由設置於電磁鐵的外表面之屏蔽構件屏蔽放射線，能夠防止放射線進入治療室。
並且，亦可為具備由不同材質形成之複數個屏蔽構件之結構。若像這樣具備有由不同材質構成之複數個屏蔽構件，則能夠按照放射線的能量等級配置複數個屏蔽構件，能夠適當屏蔽放射線。
依本發明能夠實現帶電粒子束照射裝置的小型化，並能夠抑制裝置的容納空間，實現建築物的小型化。因此，有助於降低設置帶電粒子束照射裝置之建築物的建設成本。並且，依本發明能夠抑制來自電磁鐵的放射線進入被照射體所在之照射室內。
以下參照附圖對本發明之帶電粒子束照射裝置的較佳實施方式進行說明。本實施方式中對具備質子束治療裝置(帶電粒子束照射裝置)之質子束治療系統進行說明。質子束治療裝置係例如適用於癌症治療者，係對患者體內的 腫瘤(被照射體)照射質子束(帶電粒子束)之裝置。
如第1圖所示，質子束治療系統1具有：加速由離子源(未圖示)生成之離子來射出質子束之迴旋加速器(粒子加速器)2、輸送從迴旋加速器2射出之質子束之射束輸送管道3、及朝被照射體照射藉由射束輸送管道3輸送之質子束之質子束治療裝置10。而且，在建築物5內容納質子束治療系統1的各設備。
由迴旋加速器2加速之質子束，沿射束輸送管道3偏轉而供應給質子束治療裝置10。射束輸送管道3設置有用於偏轉質子束之偏轉磁鐵及進行聚束之四極電磁鐵等。作為用於調整帶電粒子束之電磁鐵包含進行聚束之四極電磁鐵、使射束偏轉之偏轉磁鐵等。
如第2圖~第8圖所示，質子束治療裝置10具備有：用來輸送藉由射束輸送管道3導入後的質子束之射束導入管道(輸送管道)31、朝被照射體照射藉由射束導入管道31輸送之質子束之射束照射噴嘴11、及支承射束導入管道31及射束照射噴嘴11並且能夠繞既定的旋轉軸線P旋轉之旋轉支架12。
如第4圖~第6圖所示，旋轉支架12具有沿旋轉軸線P方向依序配置之圓筒主體部13、錐狀部14及第2圓筒部15。將圓筒主體部13、錐狀部14及第2圓筒部15連結且配置在同軸(旋轉軸線P)上。另外，將配置有圓筒主體部13之一方作為旋轉支架12的正面側，將配置有第2圓筒部15之一方作為旋轉支架12的背面側。
圓筒主體部13及第2圓筒部15為薄壁結構的圓筒體，構成為能夠確保剛性及輕量化。第2圓筒部15的直徑小於圓筒主體部13，錐狀部14形成為圓錐狀，以便連結圓筒主體部13及第2圓筒部15。錐狀部14為薄壁結構的筒體，且以內徑隨著從正面側朝向背面側而變小的方式形成。而且，旋轉支架12在旋轉軸線P方向上之長度(從圓筒主體部13的正面側的端部到第2圓筒部15的背面側的端部的長度)例如為L2=4.6m左右。
圓筒主體部13在旋轉軸線P方向上的兩端部設置有截面形狀例如為矩形的環狀部13a，13b。如第2圖~第5圖所示，圓筒主體部13藉由配置於圓筒主體部13下方之滾筒裝置20支承成能夠旋轉。滾筒裝置20作為使旋轉支架12旋轉之驅動裝置發揮作用。
圓筒主體部13的正面側是開放的，成為能夠進入圓筒主體部13內之結構。另一方面，在圓筒主體部13的背面側設置有背面板(間隔壁)16。而且，藉由圓筒主體部13及背面板16構成照射室21。在照射室21內能夠配置供被照射體、即患者躺臥之床鋪(治療台)22。床鋪22能夠藉由機械手臂23移動。不進行治療之一般情況下，床鋪22配置於旋轉支架12(照射室21)的外側，實施治療時床鋪22配置於照射室21內側。另外，第7圖中省略床鋪22的圖示。
照射噴嘴11固定於圓筒主體部13的內面側，且隨著圓筒主體部13繞旋轉軸線P旋轉。照射噴嘴11隨著圓筒 主體部13的旋轉而移動，並且改變質子束的射出方向。
作為質子束治療裝置10的射束輸送管道之射束導入管道31，是與輸送從迴旋加速器2射出之質子束之射束輸送管道3連接，且朝照射噴嘴11導入藉由射束輸送管道3輸送之質子束。
第8圖係表示安裝於旋轉支架12之射束導入管道31及射束照射噴嘴11之立體圖。射束導入管道31具備：讓朝旋轉支架12的旋轉軸線P方向行進之質子束B偏轉之第1彎曲部32、設置於第1彎曲部32的下游且使質子束B相對於旋轉軸線P方向傾斜行進之傾斜部33、設置於傾斜部33的下游且朝與旋轉軸線P正交之方向讓質子束B偏轉之第2彎曲部34、設置於第2彎曲部34的下游且使質子束B向旋轉軸線P的旋轉方向迴旋之第3彎曲部35、設置於第3彎曲部35的下游且使質子束B朝照射噴嘴11的上方(如第2圖所示的狀態的上方)行進之直線部36、設置於直線部36的下游且使質子束B朝軸心側(旋轉軸線P側)彎曲之第4彎曲部37、及設置於第4彎曲部37的下游且使質子束B朝照射噴嘴11行進之直線部38。
質子束B在設置於射束導入管道31中之真空導管47(參照第9圖)中行進。射束導入管道31中的各電磁鐵以圍繞真空導管47的方式設置。射束導入管道31可為不具備直線部36之結構。當射束導入管道31上未設置直線部36時，在第3彎曲部35的下游設置第4彎曲部37。此 時，可使第3彎曲部35和第4彎曲部37成為一體。
第1彎曲部32由讓質子束B彎曲而偏轉45度之45度偏轉電磁鐵構成。傾斜部33具有四極電磁鐵41、轉向電磁鐵42、剖面監測器43等光學要件。四極電磁鐵41具有調整質子束B在照射位置的尺寸及光學焦點位置之功能。轉向電磁鐵42具有平行移動射束軸之功能。剖面監測器43具有檢測所通過之質子束B的形狀與位置之功能。傾斜部33及直線部36亦可為未設置有四極電磁鐵41、轉向電磁鐵42及剖面監測器43當中任一種之結構。
第2彎曲部34由讓質子束B彎曲而偏轉45度之45度偏轉電磁鐵構成。而且，第2彎曲部34與第3彎曲部35之間配置有剖面監測器43。第3彎曲部35由讓質子束B彎曲而偏轉135度之135度偏轉電磁鐵構成。能夠省略第2彎曲部34與第3彎曲部35之間的剖面檢測器43。
直線部36具有四極電磁鐵41、轉向電磁鐵42及剖面監測器43。第4彎曲部37由讓質子束B彎曲而使行進方向偏轉135度之135度偏轉電磁鐵構成。直線部38具有四極電磁鐵41和剖面監測器43。
在此，如第7圖所示，本實施方式的質子束治療裝置10中，安裝於旋轉支架12之射束導入管道31的一部分配置成通過旋轉支架12的筒體(圓筒主體部13、錐狀部14、第2圓筒部15)內。藉由射束輸送管道3輸送之質子束B從第2圓筒部15的背面側向內部導入，通過第2圓筒部15內、錐狀部14內、背面板16及圓筒主體部13內後 貫穿圓筒主體部13而朝圓筒主體部13的外部導出。
如第9圖所示，旋轉支架12具備有支承射束導入管道31之第1、第2支承構件51、52。第1彎曲部32藉由第1支承構件51固定於第2圓筒部15。傾斜部33藉由第2支承構件52固定於錐狀部14，並且貫穿背面板16而被背面板16支承。第2彎曲部34貫穿圓筒主體部13且藉由圓筒主體部13支承。
如第7圖所示，射束導入管道31配置成貫穿背面板16而進入圓筒主體部13內且通過照射室21內。而且，旋轉支架12具備有容納通過內部之射束導入管道31之殼體55。殼體55沿射束導入管道31配置且覆蓋射束導入管道31。殼體55一方的端部被背面板16支承，另一方的端部形成連續於圓筒主體部13的側壁。
而且，如第2圖所示，在圓筒主體部13的外周面設置有：用於支承比圓筒主體部13更向外側伸出之射束導入管道31的架台17。另外，將比圓筒主體部13更向外側伸出之射束導入管道31稱為射束導入管道伸出部31a。導入管道伸出部31a中包含第3彎曲部35、直線部36及第4彎曲部37。架台17固定於圓筒主體部13的外面且向徑向的外側伸出。架台17從徑向的內側支承射束導入管道伸出部31a。藉此，能夠藉由圓筒主體部13承受電磁鐵(四極電磁鐵41、135度偏轉電磁鐵)等的荷重。
而且，在圓筒主體部13的外周面設置有隔著旋轉軸線P而對置配置之平衡配重18。藉由設置平衡配重18， 來確保與配置於圓筒主體部13的外面之第3彎曲部35、直線部36、第4彎曲部37及架台17對應之重量平衡。
而且，旋轉支架12藉由未圖示之馬達旋轉滾筒裝置20的滾筒來旋轉驅動，並且藉由未圖示之制動裝置停止旋轉。
在此，如第7圖、第9圖及第10圖所示，質子束治療系統1的旋轉支架12中具備有屏蔽來自配置於圓筒主體部13內之射束導入管道31的放射線之屏蔽構件61、62。屏蔽構件61、62由屏蔽伽馬線或中子束等放射線之材質構成。作為屏蔽構件61、62的材質例如可以舉出鐵、聚乙烯、硼添加聚乙烯、不銹鋼、混凝土等。本實施方式中作為屏蔽構件61、62採用不銹鋼。
屏蔽構件61配置於四極電磁鐵41中的空間中，屏蔽構件62配置於45度偏轉電磁鐵(第1彎曲部32、第2彎曲部34)中的空間中。第10圖係表示四極電磁鐵之立體圖。如第10圖所示，在四極電磁鐵41的中央形成開口部，該開口部被讓帶電粒子束通過之真空導管47(參照第7圖)插通。四極電磁鐵41具備有向內側突出之複數個(四個)磁軛45及纏繞於磁軛45之線圈46。另外，第10圖中省略真空導管47的圖示。真空導管47係沿射束導入管道31配置，且形成讓質子束通過之真空空間。
並且，屏蔽構件61配置於以真空導管47為中心之既定的在周方向上鄰接之磁軛45之間。具體而言，屏蔽構件61以填補纏繞於磁軛45的線圈46之間的空間的方式 配置。屏蔽構件61沿真空導管47的長邊方向配置。屏蔽構件61例如抵接於鄰接之線圈46而被支承。
並且，與配置於四極電磁鐵41之屏蔽構件61相同，配置於45度偏轉電磁鐵32、34中之屏蔽構件62以填補鄰接之磁軛之間(線圈之間)的空間的方式配置。本實施方式的屏蔽構件61、62配置於磁軛45之間的空間當中第9圖中的箭頭A側、B側、C側(被照射體側、旋轉軸線P側)的空間，而不配置於D側(被照射體的相反側)。屏蔽構件61、62可為配置於整個磁軛45之間的空間之結構，亦可為僅配置於一部分空間之結構。
在這種質子束治療系統1，從迴旋加速器2射出之質子束B藉由射束輸送管道3輸送並到達質子束治療裝置10。到達質子束治療裝置10之質子束B藉由射束導入管道31輸送並到達照射噴嘴11來對患者的腫瘤進行照射。從照射噴嘴11照射之質子束B的照射方向能夠藉由旋轉旋轉支架12來進行調整。
在這種質子束治療裝置10，是形成讓輸送質子束B之射束導入管道31的一部分通過旋轉支架12的第2圓筒部15、錐狀部14及圓筒主體部13內。尤其，射束導入管道31的傾斜部33以通過照射室21(圓筒主體部13)內的方式傾斜配置，而能夠將從旋轉支架12的背面側導入後之射束導入管道31從旋轉支架12的側部導出。因此，與避開照射室21而形成射束輸送管道之情況相比，能夠縮小射束導入管道31的伸出量(從旋轉軸線P至最大外 徑的距離L1)。藉此，實現質子束治療裝置10的小型化，且能夠縮小設置質子束治療裝置10之設置空間。其結果，能夠實現容納質子束治療裝置10之建築物5的小型化。藉由小型化建築物，例如能夠減少用於建築物的放射線屏蔽壁之混凝土的使用量，因此能夠降低建築物的建設成本。另外，如第2圖所示，質子束治療裝置10的最大旋轉外徑能夠設為10.6m(L1×2)。
而且，在質子束治療裝置10，射束導入管道31的一部分(傾斜部)以通過背面板16及照射室21內的方式傾斜配置，因此，與以避開照射室21的方式配置射束導入管道31之情況相比，能夠縮短配置於照射室21的背面側之射束導入管道31的長度。亦即，質子束治療裝置10的裝置整體在旋轉軸線P方向上亦被小型化。
而且，本實施方式之質子束治療裝置10中，射束導入管道(射束輸送管道)31藉由旋轉支架12的圓筒主體部(筒體)13支承。藉此，作為構成射束導入管道31之光學要件之複數個電磁鐵藉由作為強度構件發揮作用之圓筒主體部13支承，能夠藉由圓筒主體部13承受電磁鐵的重量，因此能夠適當分散作用於圓筒主體部13之力。而且，由於背面板16設置於圓筒主體部13的一端側，因此能夠使該背面板16作為強度構件發揮作用。
並且，本實施方式之質子束治療裝置10中，在配置於旋轉支架12的圓筒主體部13內之射束導入管道31的電磁鐵(四極電磁鐵41、偏轉磁鐵32、34)設置有屏蔽 構件61、62。藉由該屏蔽構件61、62能夠抑制從射束導入管道31釋放之放射線進入照射室21內。
在射束導入管道31的真空導管47內行進之質子束可能碰到真空導管47而釋放伽馬線或中子線。本實施方式中，由於具備有屏蔽在電磁鐵41、32、34的內部的真空導管47中產生之放射線之屏蔽機構61、62，因此能夠抑制在真空導管47中產生之放射線進入照射室21內，降低患者被暴露的危險。因此，能夠靠近床鋪22配置射束導入管道31，而能夠實現旋轉支架12的小型化。
並且，由於屏蔽構件61、62配置於電磁鐵41、32、34內的磁軛45之間的空間，因此有效利用磁軛45之間的空間，能夠抑制放射線從真空導管47向照射室21釋放。
以上依該實施方式具體說明了本發明，但本發明並不限定於上述實施方式。例如能夠按照所希望之射束設計適當改變構成射束導入管道31之電磁鐵41等各要件的配置或個數。
而且，粒子加速器不限定於迴旋加速器，亦可為同步加速器或同步迴旋加速器。而且，帶電粒子束不限定於質子束，亦可為碳射束(重粒子射束)等。而且，旋轉支架12的筒體不限定於圓筒，亦可為其它筒狀體。而且，旋轉支架12的筒體在旋轉軸線P方向上可以為相同形狀。
旋轉支架12不限定於360°旋轉(擺動)者，亦可為進行未達360°的旋轉(擺動)者。
而且，亦可為在筒體的一部分例如側壁設置有缺口部 之結構。另外，以通過筒體之方式配置之情況，還包括在設置於筒體之缺口部配置射束導入管道31者。
而且，亦可為在背面板設置有缺口部之結構。另外，以通過背面板之方式配置之情況，還包括在設置於背面板之缺口部配置射束導入管道31者。只要以通過設置於背面板之缺口部或開口部的方式配置射束導入管道31即可。
而且，在上述實施方式中，傾斜部形成為直線狀，但例如亦可為稍微彎曲的傾斜部。
並且，屏蔽構件亦可為設置於電磁鐵的外表面者。例如可為屏蔽構件設置於電磁鐵內的間隙與電磁鐵的外表面雙方之結構，亦可為屏蔽構件僅配置於電磁鐵的外表面或電磁鐵內的間隙之結構。
並且，屏蔽構件亦可為配置於電磁鐵的外表面與殼體55(參照第7圖)之間的間隙之結構。此外，使殼體55本身作為屏蔽構件發揮作用亦可。
並且具備有複數個屏蔽構件時，可按照屏蔽構件的配置，採用不同材質。例如，配置於電磁鐵內之屏蔽構件中可採用不銹鋼，配置於電磁鐵的外表面之屏蔽構件中採用聚乙烯。這樣，接近真空導管且放射線的能量較高側採用不銹鋼，遠離真空導管且放射線的能量較低側採用聚乙烯，因此能夠有效地屏蔽放射線。可按照能量等級變更屏蔽構件的材質。並且，亦能夠由不同材質形成四極電磁鐵41的屏蔽構件61與偏轉電磁鐵32、34的屏蔽構件62。
並且，屏蔽構件不僅是筒體內所配置之射束導入管道31，亦可配置於與筒體鄰接之部分的射束導入管道31。例如，屏蔽構件可設置於比背面板16更靠背面側的射束導入管道31的電磁鐵上。
並且，作為配置於電磁鐵41、32、34內之屏蔽構件61、62採用非磁性體之材質，如此能夠防止對磁場造成不良影響。
〔產業上的可利用性〕
本發明之帶電粒子束照射裝置可實現裝置的小型化，抑制裝置的容納空間，且能夠實現建築物的小型化。因此，能夠降低設置有帶電粒子束照射裝置之建築物的建設成本。並且，依本發明，能夠抑制來自電磁鐵的放射線進入被照射體所在之照射室內。
1‧‧‧質子束治療系統
2‧‧‧迴旋加速器
3‧‧‧射束輸送管道
5‧‧‧建築物
10‧‧‧質子束治療裝置(帶電粒子束照射裝置)
11‧‧‧照射噴嘴(照射部)
12‧‧‧旋轉支架
13‧‧‧圓筒主體部
14‧‧‧錐狀部
15‧‧‧第2圓筒部
16‧‧‧背面板
21‧‧‧照射室
31‧‧‧射束導入管道(旋轉支架的射束輸送管道)
31a‧‧‧射束導入管道伸出部
32‧‧‧第1彎曲部
33‧‧‧傾斜部
34‧‧‧第2彎曲部
35‧‧‧第3彎曲部
36‧‧‧直線部
37‧‧‧第4彎曲部
38‧‧‧直線部
45‧‧‧磁軛
46‧‧‧線圈
55‧‧‧殼體
61、62‧‧‧屏蔽構件
B‧‧‧質子束
P‧‧‧旋轉軸線
第1圖係具備本發明的實施方式之質子束治療裝置之質子束治療系統的概略結構圖。
第2圖係本發明的實施方式之質子束治療裝置的前視圖。
第3圖係本發明的實施方式之質子束治療裝置的後視圖。
第4圖係本發明的實施方式之質子束治療裝置的右側視圖。
第5圖係本發明的實施方式之質子束治療裝置的左側視圖。
第6圖係從斜後方表示本發明的實施方式之質子束治療裝置之立體圖。
第7圖係本發明的實施方式之質子束治療裝置的旋轉支架的截面立體圖。
第8圖係表示安裝於旋轉支架之射束導入管道及射束照射噴嘴之立體圖。
第9圖係配置於旋轉支架內之射束導入管道的截面圖。
第10圖係構成射束導入管道之四極電磁鐵的立體圖。
41‧‧‧電磁鐵
45‧‧‧磁軛
46‧‧‧線圈
61‧‧‧屏蔽構件

Claims (4)

  1. 一種帶電粒子束照射裝置，係朝被照射體照射帶電粒子束，其特徵為，係具備：輸送前述帶電粒子束之輸送管道、及能夠繞旋轉軸線旋轉之旋轉支架；前述輸送管道，係具有使朝前述旋轉軸線方向行進之前述帶電粒子束以離開前述旋轉軸線的方式傾斜行進之傾斜部，且形成為使在前述傾斜部內行進後之前述帶電粒子束沿前述旋轉軸線的旋轉方向迴旋，並使沿前述旋轉方向迴旋後之前述帶電粒子束朝前述旋轉軸線側彎曲；前述旋轉支架由能夠容納前述被照射體且支承前述輸送管道之筒體形成；前述輸送管道的前述傾斜部配置於前述旋轉支架的前述筒體內；進一步具備屏蔽來自配置於前述筒體內之前述輸送管道的放射線之屏蔽構件。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之帶電粒子束照射裝置，其中，配置於前述筒體內之前述輸送管道，具備用於使前述帶電粒子束通過且調整前述帶電粒子束的電磁鐵；該電磁鐵具有朝內側突出之複數個磁軛；前述屏蔽構件配置於鄰接之前述磁軛之間。
  3. 如申請專利範圍第1或2項所述之帶電粒子束照射裝置，其中， 具備設置於前述電磁鐵的外表面之前述屏蔽構件。
  4. 如申請專利範圍第1或2項所述之帶電粒子束照射裝置，其中，具備藉由不同材質形成之複數個前述屏蔽構件。
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