201234057 * 六、發明說明： 1 【發明所屬之技術領域】 ’ 本發明係關於一種光擴散膜，其係於基材膜上積層光 ‘ 擴散層而成者。此外，本發明亦關於使用該光擴散臈之偏 光板以及晝像顯示裝置。 【先前技術】 近年來，液晶顯示裝置適用於行動電話、電腦用顯示 器、電視、液晶投影機等急速增加。一般而言，液晶顯示 裝置係以 TN(Twisted Nematic)模式、VA(Vertical A1 ignment)模式、IPS(In-Plane Switching)模式等顯示模 式使液晶動作，以電控制穿過該液晶的光而在畫面上顯示 不同的明暗，藉此顯示文字以及畫像。 一直以來，指出在液晶顯示裝置中，當由顯示晝面斜 方向觀看時，因為有無法得到高對比度，以及晝像的明暗 逆轉之階調反轉現象等，而有無法得到良好顯示特性等問 題，亦即，視角狹窄之類的問題。 作為用以解決上述問題點之方法，已知有在液晶顯示 裝置的目視側表面設置光擴散膜之技術。舉例而言，專利 文獻1及2揭示具有藉由將含有微粒子之塗佈液塗佈於基 材上所形成之高霧度值光擴散層之光擴散膜（光擴散薄板）。 藉由將此種光擴散膜配置在液晶顯示裝置的目視側表面’ 在由斜側觀察液晶顯示裝置的顯示晝面時，藉由改善晝像 的對比度降低以及階調反轉現象，可拓展視角。然而，如 專利文獻1及2所記載之含有微极子之光擴散膜，會有起 323662 201234057 * 因於微粒子所造成之表面凹凸之散射，使得顯示面全體變 白，顯示變得顏色混濁，產生所謂的白濁（Wh i te turb i di ty ) 之問題。 ' 另一方面，專利文獻3記載於設置於光穿透性基材上 具有表面凹凸之防眩層上，藉由使其含有膠體氧化矽等流 動性調整劑，形成對防眩層表面之凹凸形狀有良好追隨性 的表面調整層，以控制表面凹凸構造，使其兼具艷黑感 (glossy black)與防眩性。專利文獻3中所謂的「絶黑感」 係與上述白濁有關連，可藉由提升艷黑感而謀求降低白 濁，然而關於白濁的降低尚有改善的餘地。 [先前技術文獻] [專利文獻] .[專利文獻1]日本特開2007-94369號公報 [專利文獻2]日本特開2002-107512號公報 [專利文獻3]日本特開2008-32845號公報 【發明内容】 (發明欲解決之課題） 本發明之目的係提供一種光擴散膜，其係在基材膜上 具備分散有透光性微粒子之光擴散層之光擴散膜，可獲得 高正面對比度，同時亦可有效防止白濁的產生。此外，本 發明之其他目的係提供適用該光擴散膜之偏光板及晝像顯 示裝置。 (解決課題之手段） 本發明提供一種光擴散膜，係具備：基材膜、積層於 5 323662 201234057 备 前述基材膜上之光擴散層、積層於前述光擴散層上之覆蓋 1 層。前述光擴散層含有第1透光性樹脂以及分散於前述第 1透光性樹脂中之透光性微粒子，前述覆蓋層含有第2透 • 光性樹脂。自前述覆蓋層側以入射角30。、波長543. 5nm 之雷射光入射至光擴散膜時，在反射角30。之光擴散膜的 反射率R3。為2%至5%，在反射角40。之光擴散膜的反射率 R40 為 〇· 0001%以下。 本發明之光擴散膜係以在前述光擴散膜中自前述基 材膜側’在前述光擴散膜之法線方向，以波長543. 5nm之 雷射光入射時之相對散射光強度T4〇為0.00008%至0.001% 者為佳。前述相對散射光強度Τ4。係相對於入射至前述光擴 散膜之波長543. 5nm之前述雷射光的強度，自前述光擴散 膜之前述覆蓋層側’由前述光擴散膜之法線傾斜4〇。之方 向所射出之雷射光的強度比。 本發明之光擴散膜以使用寬度分別為〇. 5nim、1. Omm 及2. 〇mm之光學梳所測定之反射鮮明度的和為200%以上者 為佳。此外，以使用寬度分別為〇. 125mm、〇. 5mm、1. 0mm 及2. 〇mm之光學梳所測定之穿透鮮明度的和為7〇%至230% 者為佳。 本發明之光擴散膜中，其覆蓋層表面的中心線平均粗 才造度Ra以0. 1 y m以下為佳。此外’本發明之光擴散膜以 具有全霧度值40%至70%、内部霧度值40%至70%以及起因 於前述覆蓋層表面形狀之表面霧度值未達1%者為佳。 構成光擴散層之第1透光性樹脂的折射率與構成覆蓋 323662 6 201234057 m % 層之第2透光性樹脂的折射率之差的絕對值較佳為〇. 〇2 . 以下。此外，覆蓋層的厚度較佳為1 μ m至l〇M IQ。此外， 本發明提供一種抗反射性光擴散膜，更具備積層於上述本 發明之光擴散膜以及光擴散膜的覆蓋層上之抗反射層。 此外’本發明提供一種偏光板，係具備偏光膜及上述 本發明之光擴散膜或抗反射性光擴散膜，並以使前述偏光 膜比前述覆蓋層更靠近前述基材臈的方式配置前述光擴散 膜或前述抗反射性光擴散膜。 再者，本發明提供一種晝像顯示裝置，具備上述本發 明之偏光板與晝像顯示元件。在該晝像顯示裝置中，偏光 板係以使前述偏光膜比前述覆蓋層更靠近前述晝像顯示元 件的方式配置於晝像顯示元件上。 (發明之效果） 根據本發明可提供一種光擴散膜及光擴散性的偏光板， 在獲得高正面對比度的同時能有效地防止白濁的產生。使 用此種具備優良光學特性之光擴散膜或偏光板之液晶顯示 裝置，可顯示高正面對比度，同時能有效地防止表面丁 所引起的白濁，其辨識性佳。 【實施方式】 <光擴散膜> 第1圖係表示本發明之光擴散膜較佳例之概略 圖。如本發明相關的第1圖所示之光擴散膜1〇〇，係具Φ 基材膜10卜積層於基材膜101上之光擴散層1〇2、#、備· 光擴散層102上之覆蓋層1〇5。光擴散層1〇2係以第1層| 7 323662 201234057 光性樹脂103作為基材之層，由第1透光性樹脂i〇3與分 散於第1透光性樹脂103中之透光性微粒子1〇4所形成。 典型的光擴散層102為在表面具有凹凸形狀之層。覆蓋層 105係以埋入於光擴散層1〇2表面凹凸的凹部的方式積層 於光擴散層102上’且由第2透光性樹脂所形成之層。覆 蓋層10 5的表面較佳為平滑面（中心線平均粗糙度為 0. 1 //m以下）。以下，更詳細說明有關本發明之光擴散膜 100。 〔基材膜〕 基材膜101只要是透光性者即可，可使用例如玻璃以 及塑膠膜等。塑膠膜只要具有適當的透明性、機械強度即 可。具體而言’例如可列舉三醋酸纖維素（TAC)等醋酸纖維 素酯系樹脂；丙烯酸系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚對酞酸 乙二酯等聚酯系樹脂；聚乙烯、聚丙烯等聚烯烴系樹脂等。 基材膜101的厚度例如為10至500//Π1，較佳為20至300 // m。 〔光擴散層〕 本發明之光擴散膜100具備積層於基材膜101上之光 擴散層102。光擴散層102係以第1透光性樹脂103作為 基材之層；由第1透光性樹脂103與分散於第1透光性樹 脂103中之透光性微粒子104所形成。並且’光擴散膜1〇〇 在基材膜101與光擴散層102之間亦可具有其他的層（包括 接著劑層）。 (1)第1透光性樹脂 8 323662 201234057 作為第1透光性樹脂103，只要是具有透光性者則無 % 特別限制，可使用例如紫外線硬化型樹脂、電子射線硬化 型樹脂等活性能量線硬化型樹脂以及熱硬化型樹脂之硬化 物、熱塑性樹脂之硬化物、金屬烧氧化物（metal alkoxide) 之硬化物等。此等之中，由於具有高硬度、可作為設置於 畫像顯示裝置表面之光擴散膜而賦予高耐擦傷性，因此以 活性能量線硬化型樹脂較適合。當使用活性能量線硬化型 樹脂、熱硬化型樹脂或金屬烷氧化物時’藉由活性能量線 的照射或加熱使該樹脂硬化，而形成第1透光性樹脂1〇3。 活性能量線硬化型樹脂可為含有多官能基（甲基）丙 烯酸酯化合物者。多官能基（甲基）丙烯酸酯化合物係於分 子中具有至少2個（曱基）丙烯醯氧基之化合物。 多官能基（曱基）丙烯酸酯化合物之具體例，例如可列 舉多元醇與（曱基）丙烯酸之酯化合物、胺酯（urethane)(曱 基）丙烯酸酯化合物、聚酯（甲基）丙烯酸酯化合物、環氧基 (甲基）丙烯酸酯化合物等含有2個以上（甲基）丙烯醯基之 多官能基聚合性化合物等。 作為多元醇，例如可列舉乙二醇、二乙二醇、三乙二 醇、四乙一醇、聚乙二醇、1,2-1¾二醇（propylene glycol)、 二丙二醇、三丙二醇、四丙二醇、聚丙二醇、1，3-丙二醇 (propanediol)、丁二醇、戊二醇、己二醇、新戊二醇、2-乙基-1，3-己二醇、2,2’ -硫二乙醇（2,2，-thiodiethanol)、 1，4-環己烧二甲醇等2元醇；三經曱基丙烧 (trimethylolpropane)、丙三醇、新戊四醇 9 323662 201234057 (pentaerythritol)、二丙三醇、二新戍四醇、二（三經甲 基）丙烧等3元以上的醇。 ’ 作為多元醇與（甲基）丙烯酸之酯化物’具體而言’可 ’ 列舉如乙二醇二（曱基）丙烯酸酯、二乙二醇二（曱基）丙烯 酸酯、1,6-己二醇二（曱基）丙埽酸酯、新戍二醇二（曱基） 丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三（甲基）丙烯酸酯、三羥曱基乙 烷三（曱基）丙烯酸酯、四羥甲基曱烷三（甲基）丙烯酸酯、 1,6-己二醇二（甲基）丙烯酸酯、四羥曱基甲烷四（曱基）丙 烯酸酯、五丙三醇三（曱基）丙烯酸酯、新戊四醇三（曱基） 丙烯酸酯、新戊四醇四（曱基）丙烯酸酯、丙三醇三（甲基） 丙烯酸酯、二新戊四醇三（甲基）丙烯酸酯、二新戊四醇四 (曱基）丙烯酸酯、二新戊四醇五（曱基）丙烯酸酯、二新戊 四醇六（甲基）丙烯酸酯。 作為胺酯（曱基）丙烯酸酯化合物，可列舉如1分子中 具有複數個異氰酸酯基之異氰酸酯與具有羥基之（曱基）丙 烯酸衍生物之胺酯化反應物。1分子中具有複數個異氰酸 酯基之有機異氰酸酯，可列舉如六亞曱基二異氰酸酯、異 佛酮二異氰酸酯、曱伸苯基（tolylene)二異氰酸酯、萘二 異氰酸酯、二苯基甲烧二異氰酸酯、伸苯二曱基（xylylene) 二異氰酸酯、二環己基甲烷二異氰酸酯等1分子中具有2 個異氰酸酯基之有機異氰酸酯；此等有機異氰酸酯經異三 聚氰酸酯（isocyanurate)改質、加成物（adduct)改質、二 縮脲（biuret)改質之1分子中具有3個異氰酸酯基之有機 異氰酸酯等。具有經基之（曱基）丙稀酸衍生物，可列舉如 323662 10 201234057 t (甲基）丙婦酉义2、經基乙醋、（曱基）丙稀酸2-經基丙g旨、（甲 •基）丙烯酸4、經基丁醋、（甲基）丙稀酸2—m基丁醋、（甲基） 丙稀酸2-尹!基苯氧基丙醋、新戍四醇三丙歸駿醋。 作為聚§旨（甲基）丙烯酸酷化合物，較佳係含有經基之 聚醋與（曱基）丙烯酸反應所得之聚醋（曱基）丙烯酸醋。較 佳可使用之合有經基之聚酉旨，係多元醇與敌酸或具有複數 個魏基之化合物及/或其酸酐經自旨化反應所得之含有經基 的聚酉曰’元醇可列舉如與前述之化合物相同者。此外， 除了多元醇以外，亦可列舉如作為酚（Phenol)類之雙酚八 等。羧酸可列舉如甲酸、醋酸、丁基羧酸、笨甲酸等。具 有複數個羧基之化合物及/或其酸酐，可列舉如馬來酸、酞 酸、富馬酸、伊康酸（itaconic acid)、己二酸、對欧酸、 馬來酸肝、酜酸酐、偏苯三曱酸（trimellitic acid)、環 己烷二曱酸酐等。 以上之多官能基（甲基）丙稀酸酯化合物中，從提升硬 化物（覆膜）之強度以及容易取得之觀點來看，較佳為己二 醇二（甲基）丙烯酸酯、新戊二醇二（曱基）丙烯酸酯、二乙 二醇二（曱基）丙烯酸酯、三丙二醇二（曱基）丙烯酸酯、三 羥甲基丙烷三（甲基）丙烯酸酯、新戊四醇三（曱基）丙烯酸 酯、二新戊四醇六（曱基）丙烯酸酯等酯化合物；六亞曱基 二異氰酸酯與（甲基）丙烯酸2-羥基乙酯之加成物；異佛酮 二異氰酸酯與（曱基）丙烯酸2_羥基乙酯之加成物；甲伸苯 基二異氰酸酯與（曱基）丙烯酸2-羥基乙醋之加成物；加成 物改質之異佛酮二異氰酸酯與（曱基）丙烯酸2-羥基乙酯 11 323662 201234057 之加成物；以及二縮脲改質之異佛酮二異氰酸酯與（曱基） 丙稀酸2-經基乙酯之加成物。再者，由於活性能量線硬化 型樹脂在厚膜化時顯示良好的可撓性（顯示柔軟性之性質）， • 因此以含有胺酯（曱基）丙烯酸酯化合物為佳。此等多官能 基（曱基）丙婦酸酯化合物可分別單獨使用或將2種以上併 用。 活性能量線硬化型樹脂，除了上述多官能基（甲基）丙 烯酸酯化合物以外’亦可含有單官能基（曱基）丙烯酸酯化 合物。單官能基（曱基）丙稀酸酯化合物例如可列舉（曱基） 丙稀酸曱S旨、（曱基）丙烯酸乙醋、（曱基）丙稀酸丁醋、（甲 基）丙烯酸異丁酯、（甲基）丙烯酸第三丁酯、（曱基）丙烯 2-羥基乙酯、（甲基）丙烯酸2-羥基丙酯、（曱基）丙烯酸羥 基丁酯、（曱基）丙烯酸2-羥基丁酯、（甲基）丙烯酸2-羥基 -3-苯氧基丙酯、（曱基）丙浠酸環氧丙基酯、丙烯醯嗎琳 (acryloyl morpholine)、N-乙烯基吡咯烧酮 (vinylpyrrolidone)、（甲基）丙烯酸四氫糠酯、（曱基）丙 烯酸環己酯、（曱基）丙烯酸2-乙基己酯、（曱基）丙烯酸異 莰酯、（甲基）丙烯酸乙酿酯、（曱基）丙稀酸笨曱酯、（曱 基）丙烯酸2-乙氧基乙酯、（甲基）丙稀酸3-甲氧基丁酯、 乙基卡必醇（曱基）丙烯酸酯、苯氧基（甲基）丙烯酸酯、環 氧乙烷（ethylene oxide)改質之苯氧基（甲基）丙烯酸酯、 環氧丙烷（甲基）丙烯酸酯、壬基酚（甲基）丙烯酸酯、環氧 乙烷改質（曱基）丙烯酸酯、環氧丙烷改質壬基酚（曱基）丙 烯酸酯、甲氧基二乙二醇（甲基）丙烯酸酯、欧酸2_(甲基） 12 323662 201234057 丙烯醯氧基乙基-2-羥基丙酯、（曱基）丙烯酸二曱基胺基乙
I 醋、曱氧基三乙二醇（甲基）丙烯酸酯等（曱基）丙烯酸酯類。 此等化合物可分別單獨使用或將2種以上併用。 活性能量線硬化型樹脂亦可含有聚合性寡聚物。藉由 使其含有聚合性寡聚物，可調整光擴散層1〇2之硬度。聚 合性寡聚物例如可為前述多官能基（曱基）丙烯酸酯化合 物’亦即’多元醇與（甲基）丙烯酸之酯化合物、胺酯（甲基） 丙稀酸酯化合物、聚酯（曱基）丙稀酸酯化合物或環氧基（曱 基）丙烯酸酯等2聚體、3聚體等寡聚物。 此外，其他的聚合性寡聚物，可列舉如分子中具有至 > 2個異氰酸酯基之聚異氰酸酯與具有至少！個（曱基）丙 烯醯氧基之多元醇反應所得之胺酯（甲基）丙烯酸酯寡聚 物。聚異氰㈣可列舉如六亞甲基二異氰㈣、異佛綱二 異氰酸醋、曱伸苯基二異氰酸§旨、二苯基甲烧二異氛酸醋、 伸笨二甲基二異氰酸酯之聚合物等，具有至少⑽（甲基） 丙稀醯氧基之多it醇係多元醇與⑽ 所得的含有經基之（甲基）丙埽酸醋，多元醇例如可列舉 U:丁二醇、“―丁二醇、"_己二醇、二乙二醇、三乙 一醇、新戊二醇、聚乙二醇、聚而_辟 _ ^ > 丙—醇、三羥甲基丙烷、 ^醇、新戍啡、二新戊四醇等。此種具有至以個（甲 基）丙烯醯氧基之多元醇係將多元醇 (甲美)_…… P份醇性羥基與 中甲者基）丙騎進心化反應，同時使醇性祕殘存於分子 可列舉如藉由將 再者，其他的聚合性寡聚物之實例， 323662 13 201234057 具有複數個羧基之化合物及/或其酸肝與具有至少1個（甲 基）丙烯醯氧基之多元醇反應所得之聚酯（曱基）丙烯酸酯 寡聚物。具有複數個羧基之化合物及/或其酸酐，可列舉與 作為前述多官能基（甲基）丙烯酸酯化合物之聚酿（甲基）丙 烯酸酯所述相同者。此外，具有至少丨個（曱基）丙烯醯氧 基之多元醇，可列舉與作為上述胺酯（甲基）丙烯酸酯寡聚 物所述相同者。 除了以上之各聚合性寡聚物之外，作為胺酯（甲基）丙 烯酸酯寡聚物之實例，可列舉如含有羥基之聚酯、含有羥 基之聚醚或含有羥基之（甲基）丙烯酸酯之羥基與異氰酸酯 類反應所得之化合物。可使用之較佳含有羥基之聚酯，係 多元醇與羧酸或具有複數個羧基之化合物及/或其酸酐藉 由酯化反應所得之含有羥基之聚酯。作為多元醇及具有複 數個羧基之化合物及/或其酸酐，可分別列舉與作為多官能 基（甲基）丙婦酸醋化合物之聚醋（曱基）丙烯酸醋化合物所 述相同者。可使用之較佳含有經基之聚鍵，係在多元醇加 成1種或2種以上的環氧貌（alkylene 〇xide)及/或ε己 内酉旨所得之含有經基之聚鱗。多元醇係與前述含有輕基之 聚醋中可使用相同者。可使用之較佳含有經基之（甲基）丙 稀酉夂自曰可列舉如與作為聚合性寡聚物之胺醋（甲基）丙稀 酸醋寡聚物所述相同者。異氰酸醋類較佳為分子中具有i 個以上異氰酸Sa基之化合物’特佳為甲伸苯基二異氛酸 酉曰’、亞曱基一異氰酸賴、異佛酮二異氛酸醋等2元異氮 酸酯化合物。 14 323662 201234057 • 此等聚合性寡㈣化合物可分別單獨使用或將2種以 上併用。 • 作為熱硬化型樹脂，除了由丙烯醯基多元醇 (acrylpolyol)與異氰酸酯預聚物所調製之熱硬化型胺酯 樹脂以外，可列舉如紛樹脂、尿素三聚氮胺樹脂、環氧樹 脂、不飽和聚酯樹脂、石夕酮樹脂。 作為熱塑性樹脂，可列舉如醋酸纖維素、硝基纖維 素、醋酸丁酯纖維素、乙基纖維素、甲基纖維素等纖維素 衍生物；醋酸乙烯酯及其共聚物、氣乙烯及其共聚物、偏 二氯乙烯（vinylidene chloride)及其共聚物等乙烯系樹 脂；聚乙烯曱醛（p〇lyvinyl f0rmal)、聚乙烯丁醛等縮醛 系樹脂；丙烯酸樹脂及其共聚物、曱基丙烯酸樹脂及其共 聚物等丙烯酸系樹脂；聚苯乙烯系樹脂；聚醯胺系樹脂； 聚酯系樹脂；聚碳酸酯系樹脂等。 作為金屬烧氧化物’可使用以梦烧氧化物（silic〇n alkoxide)系之材料作為原料之氧化矽系基質等。具體而 言’係四曱氧基矽烷、四乙氧基矽烷等，可藉由加水分解 或脫水縮合使其成為無機系或有機無機複合系基質（第1 透光性樹脂）。 (2)透光性微粒子 作為透光性微粒子104，只要具有透光性則無特別限 制，且可使用習知者。例如可列舉由丙烯酸系樹脂、三聚 氰胺樹脂、聚乙烯、聚苯乙烯、有機矽酮樹脂、丙稀酸一 苯乙烯共聚物等所成之有機微粒子，或由碳酸j弓、二氧化 323662 15 201234057 矽、氧化鋁、碳酸鋇、硫酸鋇、氧化鈦、玻璃等所成之無 機微粒子等。此外，可使用有機聚合物之氣球或玻璃中空 珠粒。此等微粒子可單獨使用1種，亦可將2種以上混合 使用。透光性微粒子104的形狀可為球狀、扁平狀、板狀、 針狀、不定形狀等之任一種’然而’以球狀或略球狀為佳。 透光性微粒子104之重量平均粒徑並無特別限制，但 較佳為0.5/zm至20/zm’更佳為1/zm至15/zm。當重量平 均粒徑未達〇· 5/zm時，無法充分表現内部霧度值，使光擴 散性變得不充分’其結果有不易得到廣視角的情形。另一 方面’當重量平均粒徑超過2〇//m時，光擴散性變得過大， 有容易使正面對比度降低的情形。並且，透光性微粒子i 〇4 的重量平均粒徑係以使用庫爾特（Coulter)原理（細孔電阻 法）之庫爾特計數器（Coulter Multisizer，Beckman coulter公司製）進行測定。 光擴散層102中透光性微粒子1〇4的含量，相對於第 1透光性樹脂103為1〇〇重量份，以3重量份至6〇重量份 為佳’以5重量份至50重量份為更佳。當相對於1〇〇重量 份第1透光性樹脂103，透光性微粒子1〇4的含量未達3 重量份時，光擴散膜100的光擴散性變得不足，有不易得 到廣視角的情形。此外，當相對於第1透光性樹脂1〇3為 100重量份，透光性微粒子104的含量超過60重量份時， 光擴散性變得過大，而有使正面對比度降低的情形。此外， 有容易損害光擴散膜100的透明性的情形。 透光性微粒子104的折射率與第1透光性樹脂1〇3的 16 323662
201234057 折射率之差的絕對值，以〇· 04至〇15為佳。藉此可得到 • 適當的内部霧度值（因此，有適當的光擴散性）。 本說明書中「光擴散層的厚度」係指由光擴散層1〇2 之與基材膜101相接的面至相反側的面為止的最大厚度。 因此，當本發明之光擴散膜100中光擴散層1〇2具有凹凸 時，相當於第1圖所示之A最厚的部分為光擴散層1〇2的 厚度。光擴散層102的厚度a較佳為1；(/111至3〇/zm。當光 擴散層102的厚度A未達時，配置於液晶顯示裝置的 辨識側表面之光擴散膜100有無法賦予所要求的充分耐擦 傷性的情形。此外，當厚度A超過3〇_時，所製作之光 擴散膜100產生麵曲的量會變大，當貼合於其他膜或基板 等時，有操作性惡化的傾向。在從光擴散層1〇2之與基材 膜101相接的面至相反側的面為止的厚度非最大的部分 (例如具有凹凸之光擴散層1Q2的凹部分），光擴散層1〇2 的厚度可以不用到達lam以上。 光擴散層102表面（與基材膜101相反側（第1圖中、 z軸的正方向側）的表面）根據JISB隨之中心線平均粗 糖度Ra並無特別限制，為了不使覆蓋層的厚度過厚，較佳 為0. 5 # m以下更佳為〇· 2以旧以下。所謂根據jIS B 〇6〇1 之中。線平均粗縫度Ra係、指從粗輪度曲線，於其平均線的
方向取樣早位長度7，此取樣部分的平均線的方向作為X 軸’縱向放大率的方向作為y軸，當粗链度曲線以) 表不時，由下述式⑴所求得之值，以微来（/zm)為單位表 示者： 17 323662 201234057 [數1]
中心線平均粗糙度Ra，可使用以JIS B 0601為基準的共 輛焦干涉顯微鏡（例如Optical Solutions股份有限公司 製的「PLe 2300」） 以上述計算式（1)為基礎，藉由可計算Ra的程式軟體算出。 〔覆蓋層〕 本發明之光擴散膜100具有覆蓋層105，係以埋入於 光擴散層102表面凹凸的凹部的方式積層於光擴散層1〇2 上’並具備如後述特定的表面反射特性。在光擴散膜藉由 將賦予特定的表面反射特性之覆蓋層105積層於光擴散層 102上，可有效地防止光擴散膜1〇Q的白濁。 覆蓋層105係由第2透光性樹脂所成之層，為了避免 賦予光擴散層102之光擴散特性脫離所設計的範圍，以實 質上不具有内部霧度值為佳。亦即，不賦予覆蓋層1〇5光 擴政性，僅賦予光擴散層102光擴散性，另一方面，僅蜱 予覆蓋層105表面反射特性，較佳為獨立地控制光擴散特 眭與表面反射特性。藉此，可容易地設計並製造能得到高 正面對比度與廣視角特性，同時可有效地防止白濁的產生 之光擴散膜。 ^作為樹脂層表現内部霧度值之態樣，例如當含有光擴 政劑（微粒子）時以及在樹脂層產生相分離時（例如 ，當結晶 18 323662 201234057 性區域與非結晶性區域混在時）等的情況，覆蓋層1〇5較佳 為不含有此等内部霧度值之表現要素。 作為構成覆蓋層105之第2透光性樹脂，可使用與第 1透光性樹月曰103所述相同者。然而，第1透光性樹脂 的折射率與第2透光性樹脂的折射率之差的絕對值較佳為 0.02以下，更佳為0 01以下。當該折射率差大時，在光 擴散層102與覆蓋層105界面之光擴散變得無法忽視，變 得難以獨立地控制光擴散特性與表面反射特性，有不易尸 到期望的光擴散特性的情形^ 本說明書中「覆蓋層的厚度」係指自覆蓋層105的表 面（與光擴散層102相反侧的表面）至與光擴散層1〇2相接 的面為止的最小厚度。因此，當本發明之光擴散臈1〇〇中 光擴散層102具有凹凸時，相當於第1圖所示之B最薄的 部分作為覆蓋層105的厚度。只要覆蓋層1〇5的厚度B可 埋入於光擴散層1〇2的表面凹凸的凹部則無特別限制，然 而，較佳為1/zm至1〇/ζιη，更佳為2/zm至當覆蓋 層105的厚度B未達1#1〇時’無法完全地排除因光擴散層 102表面凹凸所造成的表面散射的影響，可能容易產生白 濁。此外，當厚度B超過10yam時，所製作之光擴散膜產 生翹曲的量變大，此外，製造成本亦變高。在覆蓋層i 〇5 的表面（與光擴散層1〇2相反側的表面）至與光擴散層1〇2 相接的面為止的厚度非最小的部分（例如，與光擴散層1〇2 的凹部分相接的部分），覆蓋層105的厚度可以不用在1〇 β m以下。 323662 201234057 % 覆蓋層1〇5表面（與光擴散層102相反側的表面）根據 JISB 〇601之中心線平均粗糙度Ra，為了得到後述特定的 • 表面反射特性（反射率^及較佳為〇.1/zm以下。此 外，藉由將中心線平均粗糙度Ra調整在此範圍，在覆蓋層 105上設置抗反射層，可更有效地防止外光的反射。 〔光擴散膜之光學特性〕 (1)覆蓋層表面的反射率 本發明之光擴散膜1〇〇’自覆蓋層1〇5側以入射角3〇。、 波長543· 5nm之雷射光入射至光擴散膜時，在反射角3〇。 之光擴散膜的反射率匕為2%至5%，較佳為3%至5%，在反 射角40之光擴散膜的反射率I。為〇〇〇〇1%以下，較佳為 0· 00008%以下。藉由使反射率匕。及反射率R4q在上述範圍 内，可充分抑制因表面反射造成的映入等，同時能有效地 防止白濁。當反射率Rm超過5%時，無法充分地抑制因表 面反射所造成的映入，因此辨識性降低。另一方面，當反 射率R3。未達2%時，正面對比度降低。此外，當反射率R4〇 超過0.0001%時，產生白濁因而辨識性降低。 說明關於自覆蓋層105側以入射角3〇。之雷射光入射 至光擴散膜時之反射率。第2圖係用以說明反射率R3Q及反 射率R4。之圖，係示意性表示自覆蓋層1〇5側之雷射光的入 射方向與反射方向之斜視圖。第2圖中，在光擴散膜2〇〇 的覆蓋層105側（第2圖中，Z軸的正方向侧），自相對於光 擴散膜200之法線202傾斜30°之方向使雷射光205 (He-Ne 雷射的平行光、波長543. 5nm)入射，在包含入射光205與 323662 20 201234057 法線202之平面209，測定自法線202與入射光205相反 側傾斜p °之方向所反射之反射光206的強度。φ =30。之反 射光（朝向正反射方向的反射光）的強度除以光源的光強度 之値為反射率R3。，φ =40°之反射光的強度除以光源的光強 度之値為反射率R4。。欲調整反射率fU與R4。，調整光擴散 層的厚度與透光性微粒子的粒子徑的比或覆蓋層的厚度等 即可。 反射率的測定可使用光功率計（例如，橫河電機股份 有限公司製的「3292 03光功率感測器」及同公司製的「3292 光功率計」）。此外，反射率的測定，為了排除自光擴散膜 内面之反射影響測定値之可能性或防止光擴散膜翹曲，較 佳為採用以光學性透明黏著劑將光擴散膜之基材膜侧貼合 於黑色板者作為測定用試樣者。藉此，可提高測定精度及 測定再現性。 並且’光擴散層102上未積層覆蓋層1〇5時之反射率 尺30及R4°(亦即’光擴散層102表面的反射率R3。及r4。）以分 別為 0· 05%至 2%、0. 0001%至 〇. 1%為佳。 (2)相對散射光強度 本發明的光擴散膜’於光擴散膜自基材膜101侧在光 擴散膜之法線方向，以波長543. 5nm之雷射光入射時之相 對散射光強度T4。較佳為〇. 00008%至〇. 〇〇1%，更佳為 0. 0001%至〇. 0006%。相對散射光強度T4Q係相對於入射至 光擴散膜之波長543.5nm的上述雷射光的強度，自光擴散 膜的覆蓋層105側，從光擴散膜之法線傾斜40。之方向所 21 323662 201234057 • 射出之雷射光的強度之比。當相對散射光強度T40未達 G.GG_%時’光散射性不足，有視角狹窄的傾向 。此外， 當超過0.001%時’光散射過強，因此有正面對比度降低的 傾向。 參照第3圖以說明相對散射光強度。第3圖係示意性 地表示自基材膜侧在光擴散膜之法線方向使雷射光入射， 測定在覆蓋層側從法線傾斜4〇。之方向所穿透之雷射光的 穿透散射光強度時’雷射光的入射方向與測定光強度之穿 透散射光的方向之斜視圖。第3圖中，在光擴散膜300， 從光擴散膜300的基材膜ιοί側（第3圖中，Z軸的負方向 側），在光擴散膜之法線301方向，使雷射光（He-Ne雷射 的平行光、波長543. 5nm)入射，在包含光擴散膜300的切 線305與光擴散膜300的覆蓋層105侧之法線302之平面 309内，自光擴散膜300的覆蓋層105侧，測定從光擴散 膜300之法線302傾斜40°之方向303所射出之雷射光， 亦即穿透散射光的強度。穿透散射光的強度除以光源的光 強度之値係相對散射光強度T40。欲調整相對散射光強度 T40，調整透光性微粒子的粒子徑、光擴散層的厚度與透光 性微粒子的粒子徑之比、光擴散層與透光性微粒子的折射 率差、光擴散層與覆蓋層的折射率差、覆蓋層的厚度等即 可。 相對散射光強度T4D的測定可使用光功率計（例如，橫 河電機股份有限公司製的「3292 03光功率感測器」及同 公司製的「3292光功率計」。此外，相對散射光強度T4〇 22 323662 201234057 « 的測定，為了防止光擴散膜的翹曲，較佳為使用以光學性 Μ 透明黏著劑將光擴散膜之基材膜側貼合於玻璃基板者作為 測定用試樣。藉此，可提高測定精度及測定再現性。 並且’光擴散層102上未積層覆蓋層1〇5時之相對散 射光強度Ιο係與積層有覆蓋層1〇5時相同，較佳為 0· 00008%至 〇. 〇〇1〇%。 (3)反射鮮明度 本發明的光擴散膜’分別通過〇. 5mm、1. 〇賴及2. 〇mm 之光學梳所獲得，亦即，使用光學梳所測定之反射鮮明度 的和（以下，簡稱為「反射鮮明度」）較佳為200%以上，且 較佳為300%以下。「使用〇· 5mm、1. 〇mm及2· 〇mm的光學梳 所測定之反射鮮明度的和」係指以jISK 7105為基準，暗 部與亮部的寬度比為1 : 1，使用其寬度為0 5_、1〇mm 及2. 〇mm之3種光學梳所測定之反射鮮明度（像鮮明度）之 和。因此，此處所指的「反射鮮明度」的最大値為3〇〇0/〇。 當光擴散膜的反射鮮明度未達200%時，朝向覆蓋層 1〇5表面的入射光的散射過強，因此當此光擴散膜使用在 液晶顯示裝置時，例如在顯示黑晝面時，有產生白濁的傾 向。光擴散膜的反射鮮明度較佳為240%至300%。欲調整反 射鮮明度，調整光擴散層的厚度與透光性微粒子的粒子徑 的比’或覆蓋層的厚度等即可。 反射鮮明度的測定，較佳以使用與反射率的測定相同 的光學性透明黏著劑，將光擴散膜之基材膜101側貼合於 黑色板之測定用試樣進行。藉此，可提高測定精度及測定 323662 23 201234057 再現性。測定裝置可使用以JISK 7105為基準之影像清晰 性測定器（例如，Suga試驗機股份有限公司製的 「ICM-1DP」）。 ' 並且，光擴散層102上未積層覆蓋層105時之反射鮮 明度較佳為10%至150%。 (4)穿透鮮明度 本發明的光擴散膜，分別通過寬度0. 125mm、0. 5mm、 1. 0mm及2. Omm的光學梳所獲得，亦即，使用光學梳所測 定之穿透鮮明度的和（以下，簡稱為「穿透鮮明度」）較佳 為 70%至 230%。「使用 0· 125mm、0. 5mm、1. 0mm 及 2. Omm 的光學梳所測定之穿透鮮明度的和」係指以JIS K 7105 為基準’使暗部與亮部的寬度比為1 : 1，使用其寬度為 〇. 125mm、0. 5mm、1. 0mm及2. 0mm之4種光學梳所測定之 穿透鮮明度（像鮮明度）的和。因此，此處所指的「穿透鮮 明度」的最大値為400%。 當光擴散膜的穿透鮮明度未達70%時，由於光散射過 強’因此當此光擴散膜使用在液晶顯示裝置時，例如在顯 示白畫面時，液晶顯示裝置的正面方向的光因光擴散層而 過度散射等原因而使正面對比度降低，顯示品質有劣化的 傾向。此外’當穿透鮮明度超過23〇%時，因液晶顯示農置 的背光源側的稜鏡膜的表面凹凸構造與液晶單元的彩色據 光片所具有之規則的陣列構造之干涉，而有產生穿透光的 摩爾波紋（moire)的傾向。光擴散膜的穿透鮮明度更佳為 70%至200%，又更佳為9〇%至200%。欲調整穿透鮮明度， 24 323662 201234057 調整透光性微粒子的粒子徑、光擴散層的厚度與透光性微 粒子的粒子徑之比、光擴散層與透光性微粒子的折射率 差、覆蓋層的厚度等即可。 穿透鮮明度的測定較佳係使用與相對散射光強度的 測定相同的光學性透明黏著劑’將光擴散膜在其基材膜 101側貼合於玻璃基板之測定用試樣進行。藉此，可防止 在測疋時膜的龜曲’可提咼測定再現性。測定裝置可使用 以JIS K 7105為基準之影像清晰性測定器（例如，Suga試 驗機股份有限公司製的「ICM-1DP」）。 並且，光擴散層102上未積層有覆蓋層1〇5時的穿透 鮮明度較佳為50%至200%。 (5)霧度值 本發明之光擴散膜，較佳為全霧度值為4〇%至7〇%， 並且内部霧度值為40%至70%。此外，較佳為覆蓋層ι〇5 的表面（與光擴散層102相反侧的表面）的形狀所造成之表 面霧度值未達1%。在此，「全霧度值」係將表示光擴散膜 照射光時穿透的光線的全量之全光線穿透率（Tt)與藉由光 擴散膜擴散而穿透之擴散光線穿透率（Td)之比，藉由下述 式（2)而求得： 全霧度值（°/Q) = (Td/Tt)xl00 。 全光線穿透率（Tt)係與入射光維持同軸的方式穿透 之平行光線穿透率（Tp)與擴散光線穿透率（Td)之和。全光 線穿透率（Tt)及擴散光線穿透率（Td)係以jISK 7361為基 準所測定之値。 323662 25 201234057 此外’光擴散膜的「内部霧度值」係全霧度值中因覆 蓋層105的表面形狀所造成之霧度值（表面霧度值）以外之 ' 霧度值。 • 全霧度值及/或内部霧度值未達40%時，光擴散性並不 充分，而有視角變狹窄的傾向。此外，當全霧度值及/或内 部霧度值超過70%時，由於光擴散過強，因此有正面對比 度降低的傾向。此外，當全霧度值及/或内部霧度值超過 70%時，有損害光擴散膜的透明性的傾向。全霧度值及内部 霧度值較佳分別為45%至65%。欲調整全霧度值及内部霧度 值，調整透光性微粒子的粒子徑、光擴散層的厚度與透光 性微粒子的粒子徑之比、光擴散層與透光性微粒子的折射 率差、光擴散層與覆蓋層的折射率差、覆蓋層的厚度等即 可。 此外’當因覆蓋層105的表面形狀所造成之表面霧度 值超過1%時’會有因表面散射而產生白濁的傾向。為了更 有效地防止白濁’表面霧度值較佳為〇, 9%以下。欲調整表 面霧度值，調整光擴散層的厚度與透光性微粒子的粒子徑 之比、覆蓋層的厚度等即可。 光擴散膜的全霧度值、内部霧度值及表面霧度值，具 體而言’如以下之方式測定。亦即，首先為了防止膜的翹 曲，使用光學性透明黏著劑，將光擴散膜以覆蓋層1〇5作 為表面的方式’將基材膜101侧貼合於玻璃基板製作測定 用試樣’測定有關該測定甩試樣之全霧度值。全霧度值係 使用以JIS K 7136為基準之霧度值穿透率計（例如，村上 26 323662 201234057 色彩技術研究所股份有限公司製的霧度計「HM-150」），測 定全光線穿透率（Tt)及擴散光線穿透率（Td)，藉由上述式 (2)算出。 接著’在覆蓋層105的表面，將霧度值幾乎為〇%之三 醋酸纖維素膜使用丙三醇貼合，與上述全霧度值的測定相 同的方式測定霧度值。該霧度值雖為因覆蓋層丨〇5的表面 形狀所造成的表面霧度值，但藉由所貼合之三醋酸纖維素 膜而幾乎被抵消，因此可視為光擴散膜的「内部霧度值」。 因此，光擴散膜的「表面霧度值」係藉由下述式而求得： 表面霧度值（％)=全霧度值（％)_内部霧度值（％) (3)。 並且，光擴散層102上未積層有覆蓋層1〇5時之全霧 度值及内部霧度值與積層有覆蓋層1〇5時相同，較佳為4〇% 至 70%。 〔光擴散膜的製造方法〕 接著’說明有關製造本發明光擴散膜的方法。本發明 的光擴散膜藉由包含以下步驟（A)及⑻的方法可適當的 如後述之步驟（A)及（B)可同時進行。 (A)於基材膜1〇1上形成光擴散層⑽之步驟； ⑻於光擴散層102上形成覆蓋層1()5之步驟。 上述步驟（A) ’首先，準備含有透光性微粒子 1透光性樹脂或形成此等之樹脂（例如 _第 :型_、熱硬化德旨1紐獅或金屬^=硬 再視需要含有有機溶劑等溶劑、調平劑、分=)’ 机靜電 323662 201234057 劑、防污劑等其他成分之樹脂液，將此等塗佈在基材膜1 01 上。當使用紫外線硬化型樹脂作為形成第1透光性樹脂1〇3 之樹脂時·’上述樹脂液復含有光聚合起始劑（自由基聚合起 始劑）。 作為光聚合起始劑，可使用例如乙醯苯（acetophenone) 系光聚合起始劑、安息香（benzoin)系光聚合起始劑、二苯 基酮（benzophenone)系光聚合起始劑、硫雜蒽酮 (thioxanthone)系光聚合起始劑、三哄（triazine)系光聚 合起始劑、噚二唑系光聚合起始劑等。此外，作為光聚合 起始劑，亦可使用例如2, 4, 6-三曱基苯曱醯基二苯基氧化 膦、2,2’ -雙（鄰-氣苯基）-4,4’，5,5’ -四苯基-1，2，- 雙咪唑、10-丁基-2-氯吖啶酮、2-乙基蒽醌、二苯乙二酮 (benzil)、9, 10-菲酿（phenanthrenequinone)、樟腦酿 (camphor quinone)、苯基乙醛酸甲酯、二茂鈦（titan〇cene) 化合物等。通常，相對於樹脂液所含有之樹脂為1〇〇重量 份時，光聚合起始劑的使用量為〇 5至2〇重量份，較佳為 1至5重量份。 作為有機溶劑，可從己院、環己烧、找等脂肪族煙； 甲苯、一曱苯等芳香族烴；乙醇、卜丙醇、異丙醇、卜丁 醇、環己料甲基乙基_、甲基異丁基酮、環己嗣 等酮類；醋酸乙§旨、醋酸丁0旨、⑽酸異丁 S旨等S旨類；乙二 每單甲醚、乙二醇單乙醚、二己二醇單乙醚、丙二醇單甲 醚、丙二醇單乙醚等二醇醚類；己二醇單甲醚醋酸酿、丙 -醇單曱醚醋_旨等g旨化二_類；2_曱氧基乙醇、2_乙 323662 28 201234057 氧基乙醇、丁氧基乙醇等赛璐蘇（cel losolve)類；2-(2-甲氧基乙氧基）乙醇、2-(2-乙氧基乙氧基）乙醇、2-(2-丁 氧基乙氧基）乙醇等卡必醇類等，考慮黏度等而選擇使用。 此等溶劑可單獨使用，必要時亦可混合複數種使用。塗佈 後有必要使上述有機溶劑蒸發。因此，希望有機溶劑的沸 點在60°C至160°C的範圍。此外，有機溶劑在2〇。(：之飽和 蒸氣壓較佳在〇. lkPa至20kPa的範圍。 並且’為了使光擴散膜100的光學特性及表面形狀成 為均質者’樹脂液中的透光性微粒子104的分散較佳為等 方（equant)分散。 上述樹脂液對基材膜101之塗佈，例如可藉由凹板塗 佈法、微凹板塗佈法、棒塗佈法、刮刀塗佈法、空氣刮刀 塗佈法、接觸塗佈法（kiss coating)、模具塗佈法（die coating)等進行。 以改良樹脂液的塗佈性或改良與光擴散層1〇2之接著 性為目的’亦可在基材膜101的表面（光擴散層102側表面） 實施各種表面處理。表面處理可列舉如電暈放電處理、輝 光（glow)放電處理、酸表面處理、鹼表面處理、紫外線照 射處理等。此外，亦可於基材膜1〇1上，形成例如底塗 (primer)層等其他層’在該其他層上塗佈樹脂液。 此外’本發明的光擴散膜100作為如後述之偏光膜的 保護膜使用時，為了提升基材膜101與偏光膜的接著性， 以基材膜101的表面（與光擴散層102相反側的表面）藉由 各種表面處理使其親水化為佳。 29 323662 201234057 接著，形成使塗佈層固著於基材膜101上之光擴散層 102。具體而言，當使用活性能量線硬化型樹脂、熱硬化型 樹脂或金屬烷氧化物作為形成第1透光性樹脂103之樹月旨 時，必要時在進行乾燥（去除溶劑）後，藉由對塗佈層進行 活性能量線的照射（當使用活性能量線硬化型樹脂時）或加 熱（當使用熱硬化型樹脂或金屬烷氧化物時），使塗佈層硬 化。活性能量線可對應樹脂液中所含的樹脂種類，從紫外 線、電子射線、近紫外線、可見光、近紅外線、紅外線、χ 射線等適當選擇，然而，此等之中，較佳為紫外線、電子 射線，特別是因為操作簡便且可得到高能量，以紫外線為 佳。 紫外線的光源’例如可使用低壓水銀燈、中壓水銀 燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、碳弧燈、金屬齒化物燈、 氙氣燈等。此外，亦可使用ArF準分子雷射、KrF準分子 雷射、準分子燈或同步加速器放射光等。此等之中，較佳 為使用超高壓水銀燈、高壓水銀燈、低壓水銀燈、氙弧燈、 金屬鹵化物燈。 此外’電子射線可列舉如自柯克考羅夫特—華登 (Cockcroft-Walton)型、凡得格拉夫（van de Graaff)型、 共振變壓型、絕緣芯變壓型、直線型、高頻高壓（dynamitr^n) 型尚頻型專各種電子射線加速器所發射之具有50至 lOOOkeV，較佳為1〇〇至3〇〇keV，能量之電子射線。 另一方面’使用熱塑性樹脂作為第1透光性樹脂1〇3 時，可在必要時進行乾燥（去除溶劑）、或必要時進行乾燥 30 323662 201234057 後，使塗佈層軟化或熔融，隨後將塗佈層冷卻，藉此形成 光擴散層102。 以使用例如紫外線硬化型樹脂時為例，藉由包含：將 捲成輥狀之基材膜101連續地送出之步驟；將含有透光性 微粒子104及紫外線硬化型樹脂之樹脂液塗佈在基材膜 101上，必要時使其乾燥之步驟；使塗佈層硬化而形成光 擴散層102之步驟；以及捲取形成有光擴散層1〇2之基材 膜ιοί之步驟之方法，可連續地進行光擴散層1〇2的形成。 並且，當覆蓋層105接續光擴散層102之形成，或同時進 行時，則不需要捲取步驟。 具體的實施形態係如下述。首先，藉由捲出裝置將基 材膜101連續地捲出。接著，在捲出之基材膜101上使 用塗佈f置及與此相對的支撐輥，塗佈含有透光性微粒子 104及紫外線硬化型樹脂之樹脂液。接著，樹脂液中含有 '合劑時’藉由通過乾燥機*乾燥。接著’設置有塗佈層之 基材膜101 ’在基材膜1〇1侧與支撐輥接觸之狀態，藉由 照1來自紫外線照射裝置之紫外線使塗佈層硬化。二藉 由紫外線照射使照射面變成高溫，因此，較佳為支標輥在 其内^具備有用以調整其表面温度為室温至8〇ΐ左右之 冷卻裝置。❹卜’紫外線歸裝置可錢丨台或複數台。 如上述所得之光擴散層102之基材膜101朝捲取 聚置捲取。此時’以保護光擴散層102為目的，亦可隔著 具^再剝離性之黏著劑層’―邊在光擴散層102表面貼附 由聚對轉乙二S旨絲乙烯等所成之賴膜，-邊捲取。 323662 31 201234057 接著，說明關於步驟（B)，作為於光擴散層1〇2上形 成覆蓋層105之方法，例如可列舉如下述之方法：將含有 ' 第2透光性樹脂或形成此等之樹脂（例如，活性能量線硬化 • 型樹脂、熱硬化型樹脂、熱塑性樹脂或金屬烷氧化物）之樹 脂液塗佈在光擴散層102上’必要時在乾燥後，使塗佈層 固著在光擴散層102上。該樹脂液與光擴散層形成用樹脂 液相同’在必要時可含有有機溶劑等溶劑、調平劑、分散 劑、抗靜電劑、防污劑、光聚合起始劑（自由基聚合起始劑） 等其他成分。 樹脂液的塗佈方法、塗佈層固著在光擴散層1〇2的方 法（例如，當使用紫外線硬化型樹脂時之硬化方法）等，可 與形成上述光擴散層102時相同。此外，為了得到表面平 ;月性更南的覆蓋層105，亦可在塗佈層表面壓附模具的鏡 面之狀態，使塗佈層固著在光擴散層1〇2。 此外，在基材膜101上可同時積層光擴散層1〇2與覆 蓋層105。用以同時積層之方法，可列舉如使用在i條路 線上具備2個塗佈機的塗佈裝置之方法、或在丨個塗佈機 設置有2狹縫、使用可同時塗佈2層之塗佈機之方法。作 為此種塗佈機之實例，可列舉如多層縫鑄模（sl〇t以幻塗 佈機、多層滑執（slide)塗佈機、多層簾幕（curtain)塗佈 機等。使用如上述之裝置進行2層塗佈後，與上述相同， 必要時進行乾燥，接著藉由進行2層的固着（硬化等），可 得到光擴散膜100。 <抗反射性光擴散膜> 323662 32 201234057 藉由在本發明之光擴散膜的覆蓋層105上（與光擴散 層102相反侧的面）復積層抗反射層，可成為抗反射性光擴 散膜。抗反射性光擴散膜具備本發明之光擴散膜以及積層 於光擴散膜的覆蓋層上之抗反射層。抗反射層可直接形成 於覆蓋層105上，亦可另外準備在透明膜上形成抗反射層 而成之抗反射膜，使用黏著劑或接著劑將其積層於覆蓋層 105上。抗反射層不僅是為了降低反射率而設置者，藉由 抗反射層的形成，可更有效地防止對顯示畫面的映入。抗 反射層可列舉如由折射率低於覆蓋層1〇5的材料所構成之 低折射率層；高折射率層與折射率低於此高折射率層的材 料所構成之低折射率層之積層構造等。抗反射膜使用黏著 劑或接著劑積層於覆蓋層105時，可使用市售的抗反射膜。 當設置有抗反射層時，具有抗反射層之抗反射性光擴 散膜的反射率R3。’亦即抗反射層表面的反射率R3。較佳為 2%以下。 … <偏光板> 接著’參照第4圖’說明本發明的偏光板4〇〇。本發 明之偏光板4GG係具備：偏光賴、前述的光擴散膜1〇〇， 光擴散膜1GG係以使基材㈣丨側與該偏域41為相對的 方式，亦即基材膜m比覆蓋層則更靠近偏光膜4ι的方 式’積層於該偏光膜41上者。偏光臈41係具有自入射光 取出直線偏光之功能者，其種類並無特別㈣卜作 的偏光膜之實例，可列舉如於聚乙烯醇系樹脂吸附配向二 色性色素之偏光膜。作為聚乙烯醇系樹脂，除了作為醋酸 323662 33 201234057 乙烯酯的皂化物之聚乙烯醇之外，可列舉如部分縮醛化聚 乙烯醇、乙烯/醋酸乙烯酯共聚物的皂化物等。二色性色素 可使用碘或二色性的有機染料。此外，聚乙烯醇的脫水處 理物或聚氣乙烯的脫鹽酸處理物的多稀（polyene)配向膜 亦可成為偏光膜41。偏光膜41的厚度通常為5至80//m 左右。 本發明之偏光板可為在上述偏光膜41的單面或雙面 (通常為在單面）積層本發明光擴散膜100者，亦可為如第 4圖所示，在上述偏光膜41的一面積層透明保護層42，在 另一面積層本發明之光擴散膜100者。此時’光擴散膜l〇Q 亦具有作為偏光膜41的透明保護層之功能。當在光擴散膜 100的光擴散層102賦予表面凹凸形狀時，此光擴散層1〇2 亦具有作為防眩層之功能。透明保護層42可藉由將透明樹 脂膜使用接著劑等貼合的方法或將含有透明樹脂之塗佈液 塗佈的方法等，形成於偏光膜41上》同樣地，本發明之光 擴散膜100可使用接著劑等貼合於偏光膜41。 成為透明保護層42之透明樹脂膜，較佳為透明性或 機械強度、熱安定性、水分遮蔽性等良好’作為此種者， 例如可列示由三錯酸纖維素、二醋酸纖維素、醋酸丙酸纖 維素（cellulose acetate propi〇nate)等醋酸纖維素醋等 纖維素系樹脂；聚碳酸醋系樹脂；聚丙烯酸酯、聚曱基丙 烯酸甲酯等（曱基）丙烯酸系樹脂；聚對酞酸乙二酯、聚萘 二曱酸乙二酯等聚酯系樹脂；聚乙烯、聚丙烯等鏈狀聚烯 烴系樹脂；環狀聚烯烴系樹脂；笨乙烯系樹脂；聚砜；聚 323662 34 201234057 醚砜；聚氯乙烯系樹脂等所形成之膜。此等透明樹脂膜可 為光學性等方向性者，以組裝至晝像顯示裝置時之視角補 償作為目的，亦可為具有光學性異方向性者。 <畫像顯示裝置> 本發明之晝像顯示裝置係組合有上述本發明之偏光 板400與將各種資訊映出成畫面之畫像顯示元件者。第5 圖為表示本發明晝像顯示裝置500之一例之概略圖。第5 圖的畫像顯示裝置500係依序具備：背光源裝置52、晝像 顯示元件51、本發明之偏光板400。使用畫像顯示元件之 本發明之晝像顯示裝置500的種類並無特定限制，除了使 用液晶面板之液晶顯示器（LCD)以外，可列舉如使用布勞恩 管（陰極射線管：CRT)之布勞恩管（Braun tube)顯示器、使 用電漿顯示器面板（PDP)之電漿顯示器、使用電場放射元件 之電場放射顯示器（FED)、使用表面傳導型電子發射元件之 表面傳導型電子發射元件顯示器（SED)、使用有機EL元件 之有機EL顯示器、使用雷射元件之雷射顯示器等。此外， 將具備本發明之偏光板400之螢幕與具備晝像顯示元件之 投影電視加以組合，亦可作為本發明的晝像顯示裝置。 例如，將本發明之偏光板400配置於液晶單元上製造 液晶面板顯示器時，偏光板400係以其覆蓋層105作為外 側，亦即，以偏光膜41比覆蓋層105更靠近液晶單元的方 式配置於液晶單元上。其他的晝像顯示裝置亦相同。偏光 板400可配置於晝像顯示元件51的辨識侧，亦可配置於背 光源裝置52側，或亦可配置在此二處。當偏光板400配置 35 323662 201234057 於辨識側時’亦即光擴散膜100配置於辨識側時，光擴散 膜有效地防止眩光（glare)或外光的映入、白濁，同時藉由 光擴散功能’維持充分的正面對比度並改善視角等。另一 * 方面，當偏光板400配置於背光源裝置側時，亦即光擴散 膜100配置於背光源裝置52側時’光擴散膜100使入射至 液晶皁元之光擴散’有作為防止摩爾波紋等之擴散板（戍擴 散薄板）的功能。並且，偏光板400之外，光擴散膜1〇〇 亦可另外單獨設置於辨識側或背光源裝置側。 (實施例） 以下’列舉實施例以更詳細說明本發明，然而，本發 明並不限定於此等實施例。各種物性的測定方法係如下所 述。 (a) 光擴散層及覆蓋層的厚度 由未積層有覆蓋層之基材膜與光擴散層所形成之積 層體的厚度，使用接觸式膜厚計〔NIKON公司製digimicr〇 本體）及ZC-101(計數器）〕測定，從該值扣除基材 膜的厚度8〇em，藉此測定光擴散層的厚度。此外，使用 同-裝置測定光擴散膜的厚度，從該值扣除由上述基材膜 與光擴散層所形成之積層體的厚度，藉此測定覆蓋層的严 度。 予 (b) 透光性微粒子的重量平均粒徑及標準偏差 使用以庫爾特原理（細孔電阻法）為基礎之
Multisizer(Beckman coulter 公司製）測定。 (c)覆蓋層表面的反射率R3。及r4。 323662 36 201234057 採用以光學性透明黏著劑將光擴散膜之基材膜側貼 合於黑色板之測定用試樣進行測定。在測定用試樣的覆蓋 層侧相對於光擴散膜之法線傾斜30。 之方向，使He-Ne雷 射的平行光（波長 543. 5nm)入射，在包含入射光與法線之 平面内’測定以法線為基準與入射光為相反側傾斜30。及 40之方向所反射之反射光的強度’算出將各別的反射光強 度除以光源的光強度之値作為反射率R3。及r4。。測定係使 用橫丨可電機股份有限公司製的「3292 03光功率感測器」 及同公司製的「3292光功率計」。 當進行此測定時，照射He-Ne雷射之光源係配置於距 離上述黑色板430mm的位置。作為受光器之功率計係配置 於距離覆蓋層上的雷射光射出點280mm的位置，將此功率 計移動至上述預定角度，測定反射雷射光的強度。此外， 在光擴散膜所照射之雷射光的強度’亦即來自光源所照射 之雷射光的強度，未設置測定用試樣，由測定從光源直接 入射至功率計之入射光的強度求得。並且，該強度的測定 係將功率計配置在距離光源71 〇mm(=43Omm+28Omm)的位置 進行。 (d)相對散射光強度τ4〇 採用以光學性透明黏著劑將光擴散膜之基材膜侧貼 合於玻璃基板之測定用試樣進行測定。自測定用試樣的玻 璃基板面侧，在光擴散膜之法線方向入射He-Ne雷射的平 行光（波長543· 5nm)，在包含光擴散膜的切線與光擴散膜 的覆蓋層侧之法線之平面内，測定在由法線傾斜4〇。之方 37 323662 201234057 向穿透光擴散膜之穿透散射光的強度，算出將穿透散射光 的強度除以光源的光強度之値作為相對散射光強度Τ4〇。測 定係使用橫河電機股份有限公司製的「3292 03光功率感 測器」及同公司製的「3292光功率計」。 當進行此測定時，照射He-Ne雷射之光源係配置於距 離上述玻璃基板430mm的位置。作為受光器之功率計係配 置於距離覆蓋層上的雷射光射出點280mm的位置，將此功 率計移動至上述預定角度，測定穿透散射光的強度。此外， 在光擴散膜所照射之雷射光的強度，亦即來自光源所照射 之雷射光的強度’並未設置測定用試樣，由測定從光源直 接入射至功率計之光的強度求得。並且，該強度的測定係 將功率計配置在距離光源710mm(=430mm+280mm)的位置進 行。 (e)反射鮮明度 使用以JIS K 7105為基準之影像清晰性測定器（Suga 試驗機股份有限公司製）「ICM-1DP」，以jis K 7105為基 準，算出使暗部與亮部之寬度比為1:1，使用寬度為〇. 5min、 1 · 0mm及2. Omni的光學梳所測定之反射鮮明度的和。測定 係採用以光學性透明黏著劑將光擴散臈之基材膜侧貼合於 黑色板之測定用試樣進行。 (Ο穿透鮮明度 使用以JIS K 7105為基準之影像清晰性測定器（Suga 試驗機股份有限公司製）「ICM-1DP」，以jis K 7105為基 準，算出暗部與亮部之寬度的比為1 : 1，使用寬度為 323662 38 201234057 0. 125mm、0. 5mm、1. Omm及2. Omm之光學梳所測定之穿透 ' 鮮明度的和。測定係採用以光學性透明黏著劑將光擴散膜 * 之基材膜侧貼合於玻璃基板之測定用試樣進行。 * (g)霧度值 採用以光學性透明黏著劑將光擴散臈之基材膜側貼 合於玻璃基板之測定用試樣進行測定。全霧度值及内部霧 度值的測定係使用以JISK 7136為基準之霧度值穿透率計 (村上色彩技術研究所股份有限公司製的霧度計 「HM-150」）’以此結果為基準，藉由上述式（3)算出表面 霧度值。 (h)中心線平均粗糙度Ra 使用以JIS B 0601為基準之共軛焦干涉顯微鏡 (Optical Solutions股份有限公司製的rpL/z 2300」）進 行測定。 〔光擴散膜的作製〕 <實施例1> (1)光擴散層的形成 將下述成分混合，調製成紫外線硬化性的光擴散層形 成用樹脂液。 〔i〕新戊四醇二丙烯酸酯6〇重量份與多官能基胺酯化丙 烯酸酯（六亞甲基二異氰酸酯與新戊四醇三丙烯酸酯的反 應生成物）40重量份之混合物合計1〇〇重量份、 〔11〕聚苯乙烯系粒子（重量平均粒徑：6 9/zm、標準偏差： 1. 3em)40重量份、 39 323662 201234057 〔iii〕光聚合起始劑「Lucirin TPO」（BASF公司製、化 學名：2, 4, 6_三甲基苯甲醯基二苯基氧化膦重量份、 〔iv〕稀釋溶劑（丙二醇單曱醚）8〇重量份。 « 將上述光擴散層形成用樹脂液，於厚度的=^ * J二赠 酸纖維素（TAC)膜（基材膜）上，以使硬化後的厚度為1〇“ 左右的方式藉由模具塗佈機塗佈形成塗佈層，得到基材犋 與塗佈層之積層體。將所得積層體在乾燥爐乾燥後，以使 在UVA之光累積光量為4〇〇mJ/cm2的方式照射紫外線，藉 由使塗佈層硬化’得到基材膜與光擴散層之積層體。光擴 散層的厚度為10/zm。 (2)覆蓋層的形成 將下述成分混合，調製成紫外線硬化性的覆蓋層形成 用樹脂液。 〔1〕新戊四醇三丙烯酸酯60重量份與多官能基胺酯化丙 埽酸酯（六亞甲基二異氰酸酯與新戊四醇三丙烯酸酯的反 應生成物）40重量份之混合物合計1〇〇重量份、 〔ii〕光聚合起始劑「Lucirin TPO」（BASF公司製、化 學名：2, 4, 6-三甲基苯曱醯基二苯基氧化膦）5重量份、 〔iii〕稀釋溶劑（醋酸乙酯）1〇〇重量份。 將上述覆蓋層形成用樹脂液，於上述基材膜與光擴散 層之積層體的光擴散層表面，以使硬化後的厚度成為約3 至4/zm的方式藉由模具塗佈機塗佈形成塗佈層。將所得之 積層體在乾燥爐乾燥後，以使在UVA之光累積光量為 400mJ/cm2的方式照射紫外線，藉由使塗佈層硬化，得到作 40 323662 201234057 為基材膜與光擴散層與覆蓋層之積層體之光擴散膜。覆蓋 層的厚度為4. 6//πι。 • <實施例2> ' 除了將覆蓋層形成用樹脂液，以使硬化後的厚度為約 7至8# m的方式塗佈以外，與實施例1同樣製作光擴散 膜。覆蓋層的厚度為7. 8"m。 <實施例3> 除了將光擴散層形成用樹脂液中聚苯乙烯系粒子的 調配量變更為20重量份以外，與實施例1同樣製作光擴散 膜。覆蓋層的厚度為2.5#m。 <實施例4 > 除了將光擴散層形成用樹脂液中聚苯乙烯系粒子的 配合量變更為20重量份以外，與實施例2同樣製作光擴散 膜。覆蓋層的厚度為8.6/zm。 <比較例1> 除了未設置覆蓋層以外，與實施例1同樣製作光擴散 膜。 <比較例2 > 除了未設置覆蓋層以外，與實施例2同樣製作光擴散 膜。 〔光擴散膜之評估〕 對所得之光擴散膜測定反射率R3。、R4〇、相對散射光強 度T40、反射鮮明度、穿透鮮明度、霧度值、中心線平均粗 糙度Ra。結果表示於表1中。此外，依照下述的方法，評 41 323662 201234057 估白濁的程度及使用於液晶顯示裝置時之正面對比度。結 • 果表示於表1。 (1) 白濁（White turbidity) • 以光學性透明黏著劑將光擴散膜之基材膜側貼合在 黑色板，在點亮螢光燈的明亮室内以目視觀察’評估白濁 的程度。評估基準係如下所述。 〇：未觀測到光擴散膜有變白，確認無白濁。 X:觀測到光擴散膜有變白，確認有白濁。 (2) 正面對比度 液晶顯示裝置依以下的順序製作。首先，在VA模式 的SUMSUNG製32型液晶電視「UN32C6500」的背光源裝置 上，使用2片頂角為95°之複數條線狀棱鏡為平行配列之 棱鏡膜，將此等配置於背光源裝置的導光板與背光源側偏 光板之間。此時，一側的稜鏡膜（靠近背光源裝置侧的稜鏡 膜）以使其線狀稜鏡的稜線方向與背光源側偏光板的穿透 軸大致平行的方式配置，另一側的稜鏡膜（靠近背光源側偏 光板的稜鏡膜）以使其線狀稜鏡的稜線方向與後述辨識侧 偏光板的穿透軸大致平行的方式配置。此外，將辨識侧偏 光板剝離，蛾系偏光板（住友化學公司製之「TRW842AP7」） 以相對於背光源侧偏光板呈正交偏光的方式貼合於液晶單 元，於其上隔著黏著劑層貼合在實施例i至4或比較例i 至2製作的光擴散膜，作為辨識侧偏光板，得到液晶顯示 裝置。 將所得液晶顯示裝置在暗舍
牡9至啟動’使用亮度計BM5A 323662 42 201234057 型（Topcon公司製），測定在黑色顯示狀態及白色顯示狀態 之正面亮度，算出正面對比度。正面對比度係在白色顯示 狀態之正面亮度相對於在黑色顯示狀態之正面亮度的比。 [表1 ] 實施例1 實施例2 實施例3 實施例4 比較例1 比較例2 覆蓋層的厚度 (Am) 4.6 7.8 2.5 8.6 — — 反射率R% (%) 4.4 4.3 4.3 4.4 0.5 0· 1 反射率R«) (%) 0.00005 0. 00004 0. 00005 0. 00006 0. 001 0. 004 相對散射光強度 丁4〇 (%) 0. 00053 0, 00057 0. 00027 0. 00029 0.00064 0.00036 反射鮮明度 (¾) 288 296 250 295 110 26 穿透鮮明度 (%) 141 147 203 210 121 188 中心線平均粗糙度 Ra(Mm) 0.05 0.04 0.05 0.05 0.14 0.13 全霧度值 (%) 61.4 61.9 48.0 49. 1 67· 6 57.7 内部霧度值 (%) 61,0 61. I 47.5 48.2 61.6 49.2 表面霧度值 (%> 0.4 0.8 0-5 0.9 6.0 8.5 白濁 〇 〇 〇 〇 X X 正面對比度 3000 2990 3440 3430 2870 3320 如表1所示’可確認根據本發明相關的光擴散膜（實 施例1至4)，可得到高正面對比度，同時能有效防止白濁。 另一方面，由於未具有覆蓋層，因此不具有特定的表面反 射特性之比較例1及2之光擴散膜，無法防止白濁。此外， 比較例1的光擴散膜其正面對比度降低。 43 323662 201234057 【圖式簡單說明】 * 第1圖係概略表示本發明之光擴散膜較佳你丨 . ▲ 』之剖面圖。 第2圖為用以說明反射率R3。及反射率θ • <圖，係矛 意性表示自覆蓋層側之雷射光的入射方向與反射方^ : 視圖。 第3圖係示意性表示自基材膜側之法線方向入射 光，測定由覆蓋層侧法線方向傾斜40。之方向所穿透雷射 射光的穿透散射光強度時，雷射光的入射方向與穿透 光強度測定方向之斜視圖。 第4圖係概略表示本發明之偏光板之一例之剖 第5圖係概略表示本發明晝像顯示裝置之—例之 圖。 面 【主要元件符號說明】 41 偏光膜 42 透明保護層 51 晝像顯示元件 52 背光源裝置 100、 200、300 光擴散膜 101 基材膜 102 光擴散層 103 第1透光性樹脂 104 透光性微粒子 105 覆蓋層 202 光擴散膜之法線 205 自相對於光擴散膜之法線傾斜3〇。之方向入射之 雷射光 206 在相對於光擴散膜之法線傾斜φ。之方向所反射 之反射光 209 包含入射光（雷射光）與光擴散獏之法線之平面 44 323662 201234057 301 光擴散膜的基材膜側法線 * 302 光擴散膜的覆蓋層側法線 * 303 自光擴散膜的覆蓋層側法線傾斜40°之方向 ' 305 光擴散膜的切線 309 包含光擴散膜的切線與覆蓋層側之法線之平面 400 偏光板 500 晝像顯示裝置 45 323662