201213475 六、發明說明： 【發明所屬的技術領域】 本發明是有關偏光板、偏光板的評估方 一 製造方法’該偏光板是在由聚乙料所二光:: 膜之-*时接著顧㈣聽軸 ㈣成的偏λ 【先前技術】 偏光板已廣泛使用作為液晶顯示 元件或偏光的檢測元件。這種偏光板 ^光之供應 乙醢纖維素所構成的保護膜接著在由聚= 光膜而成的偏光板。近年來，液晶顯示器隨著二:= 或手機等朝向打動機器的開展，又朝向大 而對於偏光板即有薄質輕量化的要求。而且，二 擴大使用場關_，㈣時也要求提高細 例如專利文獻1中係提議僅在偏光膜 護膜的偏光板，以達_«化。此外； :提議僅在偏光膜的單-面積層保護膜的偏光= [先前技術文獻] [專利文獻] 「特開平 10-186133 「特開 2007-193333 [專利文獻1]日本公開特許公報 號公報（1998年7月14曰公開）」 [專利文獻2]日本公開特許公報 號公報（2007年8月2日公開）」 【發明内容】 322884 3 201213475 (發明所欲解決的問題） 然而，就如同專利文獻丨及專利文獻2中所述，保護 膜僅積層在偏細的單—_製造偏練時，會有在偏光 板產生條紋模樣的斑紋之問題。此斑紋係形成在偏光板全 面而可目視，如使螢光燈（flu〇rescent lamp)在偏光板表 面反射時，螢光燈的影像會明顯地扭曲。第1圖是表示在 產生斑紋之偏光板表面使螢光燈反射時的影像之圖像。如 該第1圖所不，可知螢光燈的影像明顯地扭曲。 本發明係有鑑於上述的問題而研創者，其主要目的是 實現抑制產生此等斑紋的偏光板、偏光板的評估方法及偏 光板的製造方法。 (解決問題的方式） 有鑑於上述的問題’本發明人等經過深入探討的結果， 發現偏光板的水分率與偏光板全面所產生的斑紋有關。而 且，在著眼於偏光板的水分率與斑紋之間的關係後，發現 只要使偏光板的水分率滿足特定條件，即可抑制偏光板全 面所產生之斑紋，而達成本發明。 亦即’為了解決上述問題，本發明的偏光板是一種在 由聚乙烯醇系樹脂所構成的偏光膜之—面隔介水系接著劑 而貼合保護膜的偏光板，偏光板的水分率A(%)及在23。〇、 濕度50%的環境下之偏光板的平衡含水率B(%)係滿足下述 式⑴。 I偏光板的水分率A(%)-偏光板的平衡含水率B(%) | <〇 2 〇) 此外’為了解決上述問題，本發明的偏光板之製造方 322884 4 201213475 法係包括下述步驟：在由聚乙埽醇系樹脂所構成的偏光膜 之-面隔Μ水祕㈣所構叙接著縣㈣合保護膜 之貼合步驟’與使偏光膜和保護膜之社人 腾之貼合物乾燥的乾燥步 驟；其中，在經過乾燥步驟後的偏光板之水分率α(%)係相 對於在23°C ϋ 5_環境下之平衡含水率Β(%)而滿足 下述式（1)。 丨偏光板的水为率Α(/〇-偏光板的平衡含水率β(%)丨<〇 2 (1) 為了解決上述的問題，本發明的偏光板之評估方法， 是評估在由聚乙烯醇系樹脂所構成的偏光膜之一面隔介水 系接著劑而貼合保護膜之偏光板的方法，其中，以偏光板 的水分率Α(«及在23°C、濕度50%的環境下之偏光板的平 衡含水率B(%)是否滿足下述式（1 )，來評估偏光板之品質。 I偏光板的水分率A(%)-偏光板的平衡含水率B(%) | <〇. 2 (1) (發明的效果） 依據本發明’因偏光板的水分率A(%)及偏光板的平衡 含水率B(%)滿足上述式（1)，故可抑制在偏光板全面所產 生之斑紋。 本發明的其他目的、特徵及優點係藉由以下所述而充 分瞭解。此外’本發明的有利之處，係藉由參照所附圖式 之後述說明而瞭解。 【實施方式】 基本上’本發明的偏光板之製造方法係包括下述步驟： 在由聚乙婦醇系樹脂所構成的偏光膜之一面隔介由水系接 著劑所構成之接著劑層而貼合保護膜之貼合步驟，以及使 5 322884 201213475 偏光膜與保護膜之貼合物乾燥的乾燥步驟；其中，在經過 乾燥步驟後的偏光板之水分率A(%)係相對於在23。〇濕度 50%的環境下之平衡含水率B(%)而滿足下述式（1)。 |偏光板的水分率A(%)-偏光板的平衡含水率β(%)丨<〇. 2 d) 如此，藉由使偏光板的水分率滿足上述式G), 而可抑制在偏光板全面所產生之斑紋。以下，針對本發明 的實施形Hit行詳細㈣。但是，本發明並不侷限於^等 範圍’在所述範圍内可依據施加各種變形的形態而實施。 此外’本說㈣_所記載之學術文獻及專利文獻的全部， 均可援用作為本說咖容中的參考。W，本說明書中，
除=特，的記述之外，顯示數值範_「a至 A 以上，B以下」。 (偏光臈） 及二色性色素二::乙膜― 稀醋系樹脂予以息化而得=^常是由將聚醋酸乙 乙烯顆的均聚物烯醋系樹脂而言，除了屬於_ ㈣可與之外，尚可列舉如醋酸乙 乙烯酯共聚物蓉、單體之共聚物’例如乙烯-醋圈 單趙，可：二共一 和•類等。聚乙烯醇系樹脂的聚合】，:=;，: 322884 6 201213475 ’ 〇〇0的範圍内，並以1，500至5, 000的範圍内為佳。 =聚乙烯醇㈣脂也可經㈣’例如也可使用經酸 系e質的聚乙婦縮f^(polyvinylf〇rmal)、聚乙稀縮乙 盤、聚乙烯縮谓等。製造偏光膜的起始材料，是使用厚 度為20至10Mm’較佳為3〇至8〇心的聚乙稀醇系樹脂 膜之未延伸膜。工業上，是以寬度為15()()至4，麵賴之 膜為實用。將此未延伸膜依義處理、染色處理、破處 理、水洗處理_序進行處理，並在直剩酸處理為止的 步驟中施予單轴延伸，最後再進行乾燥後，即得到偏光膜。 最後所得的偏光膜之厚度是例如5至50μπι。 在偏光膜的製作方法上’大別分為2種製造方法。第 1種方法’是使聚乙婦醇系樹脂膜在空氣或惰性氣體中進 行單軸延伸後，依膨潤處理步驟、染色處理步驟、硼酸處 理步驟及水洗處理步驟的順序進行溶液處理，最後再進行 乾燥的方法。第2種方法，是使未延伸的聚乙烯醇系樹脂 膜在水溶液中依膨潤處理步驟、染色處理步驟、硼酸處理 步驟及水洗處理步驟的順序進行溶液處理，並在硼酸處理 步驟及/或之前的步驟中以濕式進行單輛延伸，最後進行 乾燥的方法。 在任何方法中，可以1個步驟進行單軸延伸，也可以 2個以上的步驟進行單軸延伸’但以數個步驟進行為佳。 延伸方法可採用已周知的方法’例如在輸送薄膜的二個夾 輪（nip roll)間設置周速差而進行延伸的滚輪間延伸、例 如日本專利發行公報「特許第2731813號」中所述之熱滾 7 322884 201213475 輪延伸法、拉幅機（tenter)延伸法等。此外，某本上，步 驟的順序雖然是如同上述，但並未限制處理浴^個數或處 理條件等。並且，也可為了其他目的，而附加上述第！及 第2方法中未述之步驟。此種步驟之例，可列舉在刪酸處 理後以不含爛酸的破化物水溶液進行的浸潰處理（蛾化物 處理）、或以含有不含鑛的氯化鋅等之水溶液進行的浸潰 處理（鋅處理）等。 進行膨潤處理步驟的目的，是為了去除薄膜表面的異 物、去除溝膜中的可塑劑、賦予下—步驟中的易染色性、 薄膜之可塑化等。處理條件是以可達成此等目的的範圍， 且不產生基材薄膜的極端溶解、失透等不良現象的範圍決 定。如欲使已預先在氣體中延伸___，例如係將 薄膜浸潰在20至驚較佳為3Q至6()。⑽水溶液中進行 賴處理。_的浸潰時狀3G至_秒，並以⑽至⑽ 秒為此外，如欲使—開始即未延伸的原片賴膨潤時， 例如係將薄膜浸潰在1Q至抓，較佳為2q至桃的水溶 液中後進仃膨潤處理。薄膜的浸潰時間是3〇至獅秒，並 以60至240秒為佳。 在膨潤處理步驟中，容易發生使薄膜在寬度方向膨潤 而在薄膜產生皺紋專問題。因此，宜以擴寬滚輪（expander ro11)、螺旋滾輪、冠狀滾輪（crown roller)、導布器（cloth gulder)、彎條（bend bar)、拉幅夾（tenter clip)等周知 的擴寬器’ 一面消除薄膜的皺紋一面輸送薄膜。為了達成 穩定地輸送浴中的薄膜之目的時，以水中喷淋（sh〇wer)控 8 322884 201213475 弗JU1洛中的水流、或併用Ερ〇（Edge Position Control 裝置.檢測薄膜的端部，以防止薄膜蛇行的裝置）等亦為有 用。在本步驟中，由於薄膜也會在薄膜的輸送方向膨潤擴 大’故為了消除輸送方向的薄膜鬆弛，即宜採取例如控制 處理槽前後的輪送滚輪之速度等方式。此外，就膨潤處理 /谷而β，除了純水之外，也可使用添加0.01至〇. 1重量％ 的範圍内之硼酸（日本公開專利公報「特開平10-153709 號公報」中所述）、氣化物（日本公開專利公報「特開平 06 282816說公報」中所述）、無機酸、無機鹽、水溶性有 機溶劑、醇系等的水溶液。 進行二色性色素的染色處理步驟之目的，是為了使二 ，性色素在薄膜上吸附、配向等。處理條件是以可達成此 等目的的範圍，且不產生基材薄膜的極端溶解、失透等不 良現象的範固決定。如使用碘作為二色性色素時，是在例 如10至45 C，並宜為20至35°C的溫度條件下，使用重量 比為埃/硬化卸/水：請3至HO. 1至ίο/剛的濃 度之水办液，進行3〇至6〇〇秒，較佳為至秒的浸 潰處理。也可使用其他的碘化物取代碘化鉀，例如碘化鋅 等而且，也可將其他的碘化物與碘化鉀併用。並且，也 可使硤化物之外的化合物共存，例如硼酸、氣化鋅、氯化 钻專田添力σ碼酸時’可以含有蛾之特點而與下述的删酸 f里區別。相對於⑽重量份的水，只要使蛾為U03重 量份以上時，即可視為染色槽。 此外，在使用水溶性二色性染料作為二色性色素時， 322884 9 201213475 是在例如20至80°C，並宜為30至70°C的溫度條件下，使 用重量比為二色性染料/水=0. 001至0. 1/100的濃度之 水溶液，進行30至600秒，較佳為60至300秒的浸潰處 理。使用的二色性染料之水溶液，也可含有染色助劑等， 例如也可含有硫酸鈉等無機鹽、界面活性劑等。二色彳生$ 料可單獨使用，也可併用2種以上的二色性染料。 、 如同上述’也可使薄膜在染色槽中延伸。此延伸是以 使染色槽的前後夾輪間具有周速差等的方法進行。另夕卜， 與膨潤處理步驟相同地，也可在染色浴中及/或浴出入口 设置擴寬滚輪、螺旋滾輪、冠狀滚輪、導布器、彎條等。 硼酸處理係藉由在相對於100重量份水而含有丨至1〇 重量份硼酸之水溶液中’將經二色性色素染色之聚乙稀醇 系樹脂膜予以浸潰而進行。當二色性色素為峨時，以含有 1至30重量份之破化物為佳。鐵化物可列舉如碟化卸、嫌 化鋅等。此外，亦可使碟化物以外之化合物共存，例如氯 化鋅、氣化钻、氣化錯、硫代硫酸納、亞硫酸钟、硫駿納 等。 實施硼酸處理，是為了達成由交聯所致之耐水化或色 相調整（防止帶有藍色等）等。如為了達成由交聯所致的耐 水化而進行硼酸處理時，視需要而可在硼酸之外，或與硼 酸同時使用乙二醛、戊二醛等交聯劑等。而且，用以達成 耐水化的硼酸處理，也可稱為耐水化處理、交聯處理、固 定化處理等名稱。此外，用以調整色相的硼酸處理，也可 稱為補色處理、再染色處理等名稱。 10 322884 201213475 此硼酸處理，可依其目的而適宜變更硼酸及碘化物的 濃度、處理浴的溫度而進行。雖然用以耐水化的硼酸處理、 用以調整色相的硼酸處理並非經特別區別者，但可以下述 條件實施。在使原片薄膜進行膨潤處理、染色處理、硼酸 處理，且硼酸處理的目的為由交聯所致之耐水化時，係使 用相對於水100重量份而含有硼酸3至10重量份、碘化物 1至20重量份的硼酸處理浴，通常是以50至70°C，較佳 為55至65°C的溫度進行。浸潰時間是90至300秒。此外， 如欲使已預先延伸的薄膜進行染色處理、硼酸處理時，硼 酸處理的溫度通常是50至85°C，並以55至80°C時為佳。 在用以耐水化的硼酸處理之後，也可進行用以調整色 相的硼酸處理。例如，如二色性染料為碘時，為了此目的， 而使用相對於水100重量份而含有硼酸1至5重量份、碘 化物3至30重量份的硼酸處理浴，通常是以10至45°C的 溫度進行處理。浸潰時間通常是3至300秒，並以10至 240秒為佳。繼而，用以調整色相的硼酸處理，在與用以 耐水化的硼酸處理比較時，是以低硼酸濃度、高碘化物濛 度、低溫度進行。 此等硼酸處理也可由數個步驟所構成，通常大多是以 2至5個步驟進行。此時，所使用的各硼酸處理槽之水溶 液組成、溫度是在上述的範圍内，且可為相同也可為相異。 另外，上述用以耐水化的硼酸處理、用以調整色相的硼酸 處理也分別可以數個步驟進行。 此外，即使在硼酸處理步驟中，也可與染色步驟同樣 11 322884 201213475 地進行薄膜之延伸。最後的累計延伸倍率是4至7倍，並 以4. 5至6. 5倍為佳。此處所謂的累計延伸倍率，是指原 片薄膜的長度方向基準長度，在全部的延伸處理完畢後的 薄膜中會變得多長之意思。例如，若在原素材薄膜中為lm 的部份，在全部的延伸處理完畢後的薄膜中變成5m時，其 累計延伸倍率為5倍。 硼酸處理之後，進行水洗處理。水洗處理係藉由將為 了耐水化及/或調整色相而經進行硼酸處理之聚乙烯醇系 樹脂膜浸潰在水中，使水以喷淋方式喷霧、或併用浸潰與 喷霧而進行。水洗處理中的水溫通常是2至40°C，浸潰時 間是2至120秒。 此時，在延伸處理後的各步驟中，也可進行張力控制 以使薄膜的張力分別實質上達到一定。具體上，當延伸是 在染色處理步驟中結束時，則是在之後的硼酸處理步驟及 水洗步驟中進行張力控制。當延伸是在染色處理步驟之前 的步驟結束時，則是在包括染色處理步驟及硼酸處理步驟 的之後的步驟中進行張力控制。當硼酸處理步驟是由數個 硼酸處理步驟所構成時，是將前述薄膜在最初或由最初至 第2階段的硼酸處理步驟中延伸後，於進行延伸處理的硼 酸處理步驟之下一個硼酸處理步驟至水洗步驟為止的各步 驟中進行張力控制，或者是將前述薄膜在最初至第3階段 的硼酸處理步驟中延伸後，於進行延伸處理的硼酸處理步 驟之下一個硼酸處理步驟至水洗步驟為止的各步驟中進行 張力控制，但工業上，是以將前述薄膜在最初或最初至第 12 322884 201213475 的=翁㈣巾㈣後，於紐延伸處理的倾 處理步驟之下-個贿處理步水洗步料 中進行張力㈣為較佳。化，如在喊處理後 = =化減理或鋅處理時，切在料步财進行張力控 從膨潤處理至水洗處理為止的各步驟中的張力可相同， 也可得張力控財之對_之張力，並無特別的限制， 相對於母單位寬度而適宜設定在15()至2，_^，並更 且〇又疋在600至1，5〇〇N/m的範圍内。如張力低於15〇N/ m時，易使薄膜產生皺紋等。另一方面，如張力超過2，⑽⑽ /m時，則產生因薄膜破裂或軸承磨損而致減少壽命等問 題。此外，此每單位寬度的張力，係由該步驟的入口附近 之薄膜寬度與張力檢測器的張力值而計算出。而且，在進 行張力控制時，雖然有不可避免的若干延伸、收縮的情形， 但通常此等情形並不包含於延伸處理中。 製作偏光膜的最後步驟，是進行乾燥處理。乾燥處理 雖然宜為少量逐漸改變張力而多階段進行，但因受限於設 備等’故通常是以2至3階段進行。在以2階段進行時， 前段中的張力宜設定在600至l，500N/m的範圍，後段中 的張力宜設定在300至l，200N/m的範圍。如張力過大時， 使薄膜破裂之情形變多，如張力太小時，使皺紋之產生變 多，而不佳。此外，前段的乾燥溫度宜設定在30至90°C 的範圍，後段的乾燥溫度宜設定在50至110°C的範圍。如 溫度太高時，使薄膜破裂之情形變多，且使光學特性降低； 322884 201213475 如溫度太低時’使多處產生筋紋，故不佳。乾燥處理時間 可設在例如60至600秒，各階段的乾燥時間可相同，也可 不同。如時間過長時，在生產方面上為不佳，如時間太短 時，使乾燥不充分，故不佳。 如此，對於聚乙烯醇系樹脂膜施行單軸延伸、二色性 色素的染色處理及硼酸處理’即得到偏光膜。此偏光膜的 厚度通常是在5至40 的範圍内。 (保護膜） 本發明偏光板中’是在上述偏光膜之一面隔介接著劑 而積層保護膜。保護膜可列舉如環烯烴系樹脂膜、三乙醯 基纖維素、二乙醯基纖維素等醋酸纖維素系樹脂膜、聚對 苯二曱酸乙二酯、聚萘二曱酸乙二酯、聚對笨二曱酸丁二 酯等聚酯系樹脂膜、聚碳酸酯系樹脂膜、丙烯酸系樹脂膜、 聚丙烯系脂膜等在該領域中從以往即廣泛使用的膜。 本發明中的保護膜所可使用之環烯烴系樹脂，可適用 適宜的市售品，例如Topas(Ticona公司製，註冊商標）、 ARTONCJSR(股）製，註冊商標）、ZEONOR(日本ΖΕΟΝ(股）製， 註冊商標）、ΖΕ0ΝΕΧ(日本ΖΕΟΝ(股）製，註冊商標）、Appel (三井化學（股）製，註冊商標）等。在將此等環烯烴系樹脂 製膜而作為薄膜時，係適用溶劑鑄壓法、熔融擠壓法等已 周知的方法。此外，也可使用例如Esshina(音譯）（積水化 學工業（股）製）、SCA40(積水化學工業（股）製，註冊商標）、 Zeonor Film((股）0ptes製，註冊商標）等已預先製成膜的 環烯烴系樹脂製之膜的市售品。 14 322884 201213475 ·- 此外’環烯烴㈣频也可為經單軸延伸或雙軸延伸 ;-、的，。藉由延伸而可賦予環婦烴系樹脂臈任意的相位差值。 通常，延伸是在-邊使膜以滾輪捲出時一邊連續進行，於 加熱爐中，使其朝著滚輪的進行方向、與該進行方向的垂 直方向、或是該兩方向延伸。加熱爐的溫度，通常係採用 從％烯力工系樹脂的玻璃轉移溫度附近至玻璃轉移溫度 °C為止的範圍。延伸的倍率，通是丨·丨至6倍，並以^ 至3. 5倍為佳。 因環埽煙系樹脂膜一般係表面活性不佳，故對於其與 偏光膜接著的表面，宜進行電漿處理、電暈處理、紫外線 照射處理、火焰處理、皂化處理等表面處理。其中，並以 較容易實施的電漿處理、電暈處理為理想。 此外’本發明的保護膜中所可使用之醋酸纖維素系樹 月曰’可列舉Fujitac(註冊商標）TD80(富士 Film(股）製）、 Fujltac(註冊商標）TD80UF(富士 Film(股）製）、Fujitac (註冊商標）TD80UZ(富士 Film(股）製）、Fujitac(註冊商 標）TD40UZ(富士 Film(股）製）、KC8UX2M(Konica Minolta 〇pt〇(股）製）、KC4UY(K〇nica
Minolta Opto(股）製）等。 在醋酸纖維素系樹脂膜的表面，也可配合用途而施予 防眩處理、硬塗處理、抗靜電處理、抗反射處理等表面處 理。此外’也可形成液晶層等以改善視角特性。再者，也 可使酷酸纖維素系樹脂膜延伸以賦予相位差。並且，此醋 酸纖維素系樹脂膜通常係經施予皂化處理，以提高與偏光 膜之接著性。皂化處理可採用浸潰在如氫氧化鈉或氫氧化 15 322884 201213475 鉀的驗之水溶液中的方法。 上述保護膜若呈滚輪（roll)狀態時，會有使薄膜彼此 接著而易於產生結塊的傾向。因此，保護膜係在滾輪端部 施予凹凸加工、或在端部插入帶狀物、或貼合防護膜而捲 取。 保護膜的厚度雖然宜薄，但太薄時，會使強度降低而 加工性不良。如保護膜的厚度太厚時，會產生透明性降低、 或使積層後必要的養護（curing)時間變長等問題。所以， 保護膜的適當厚度係例如是5至100# m，以10至80# m 為佳，而以2 0至4 0 // m較佳。 (接著劑層） 本發明的偏光板中，偏光膜與保護膜是隔介由水系著 劑所構成的接著劑層而貼合。貼合偏光膜與保護膜的接著 劑，例如可使用水溶劑系接著劑、有機溶劑系接著劑、熱 溶（hot melt)系接著劑、無溶劑系接著劑等。水溶劑系接 著劑可舉例如聚乙烯醇系樹脂水溶液、水系二液型胺酯 (urethane)系乳液接著劑等。此外，有機溶劑系接著劑可 舉例如二液型胺酯系接著劑等。再者，無溶劑系接著劑可 舉例如一液型胺酯系接著劑等。 將與偏光膜的接著面以皂化處理等而經親水化處理 的醋酸纖維素系薄膜使用作為保護膜時，可適用聚乙烯醇 系樹脂水溶液作為接著劑。作為接著劑使用的聚乙烯醇系 樹脂，除了將屬於醋酸乙烯酯的均聚物之聚醋酸乙烯酯予 以皂化而得的乙烯醇均聚物之外，尚可列舉如將醋酸乙烯 16 322884 201213475 :!=聚聚物予料化而得的乙 質聚乙烯醇系聚合物等的經基:以部份改質而得的改 搭、水溶性環氧化合物、：2接者劑中’也可添加多元 物、鋅化合物等作為添加劑:合物、氧化锆化合 而得的接著則通常是在 使用此種接著劑時，由其 微鏡觀察截面，事實上也觀' p使& t的光學顯 (ρ方護膜） 倾察邱該接著劑層。 «貼光t中’在偏光膜之與保護膜相反側之面， :::=防此防護膜是在將偏先板貼合在液 之前為止’保護偏光膜之與保護助反側之面不 被刮傷。然後，在進行貼合時剝離。 防護膜與偏光膜之間的剝離力為〇 〇1至51^25顏， ^ 〇· G1 至 2N/25mm 為佳，而以 〇· G1 至 0. 5N/25mm 較 。如剝離力未達G.GH25mm時，因偏細與防護膜之 間的密著力小，而可能發生防護膜的部份剝離。此外，如 制離力超過5N/25mm時，因不易從偏光膜剝離防護膜，故 不佳。 就防護膜的材質而言，宜為容易處理（handling)且確 保某程度的透明性之聚乙烯系樹脂、聚丙烯系樹脂、聚苯 乙烯系樹脂、聚對笨二曱酸乙二酯系樹脂等。而且，可使 用由此等的1種或2種以上之樹脂成形為單層或多層狀之 薄膜作為防護膜。 此種防護膜’具體上可列舉如在聚乙烯樹脂膜表面形 17 322884 201213475 成有黏著劑層的Simytect (由（股）Sun A化研進行販售，註 冊商標）、在聚對苯二甲酸乙二g旨樹脂膜表面形成有黏著劑 層的E-Mask(日東電工（股）製’註冊商標）、在聚對苯二甲 酸乙二S旨樹賴表面形成有黏著劑層的㈣藤森工 業（股）製，註冊商標）等市售商品。 此等之中，單獨對於偏光膜具有黏著性之自黏性防護 膜，係因無需保護防護膜表面之黏著層而為簡便，而可更 適且使用。上述對於偏光膜顯示理想的剝離力之自黏性樹 脂膜的市售商品，可列舉由聚乙稀樹脂所構成的― (Toray(股）製，註冊商標） (貼合步驟） 本备明的偏光板之製造方法中，是在偏光膜的一面隔 ;ι由水系接著劑所構成的接著劑層而貼合保護膜（貼合步 驟）。 使偏光膜與保護膜貼合的方法，並無特別的限定，例 如可列舉：將接著劑均句塗布在偏光膜及/或保護膜的表 面，使另一者之膜重疊在塗布面，以滾輪等予以貼合後， 使其乾燥的方法等。通常，接著劑是在調製後於15至4〇 °C的溫度下塗布，貼合溫度通常是在15至30〇C的範圍中。 此外’貼合步驟中使用的水系接著劑之成分濃度未達 9. 2%，並以9. 0°/。以下為佳，而以3. 〇至8· 8%較佳。水系接 著劑的成分濃度的特佳範圍是7. 5%至8. 8%。如水系接著劑 的成分I度為9· 2%以上時，如後述實施例所述，因會在偏 光板全面產生斑纹，故^全。 18 322884 201213475 (乾燥步驟） 本發明的偏光板之製造方法中’在將偏光膜與保護膜 貼合之後，是使積層膜乾燥’以去除水系接著劑中所含的 水分。乾燥是藉由連續使其通過保持在適切溫度的乾燥爐 而進行，例如’可藉由一邊使其連續通過乾燥爐内，一邊 使乾燥後的偏光板捲取成滾輪狀而進行乾燥，但並+ 艮 於此種方式。本發明的偏光板之製造方法中，該乾燥步驟 宜包含：使滯留在溫度保持於未達50°C之溫度之乾燥爐内 的合計滯留時間達150秒以上的低溫乾燥步驟；與使滯留 在溫度保持在50°C以上之溫度之乾燥爐内的合計滯留時 間為150秒以下的高溫乾燥步驟。 低溫乾燥步驟是使滯留在溫度保持於未達5 〇 之溫 度之乾燥爐内的合計滯留時間達丨50秒以上而進行乾燥的 步驟。如低溫乾燥步驟中的乾燥溫度超過5(rc時，因低溫 乾燥步驟（該乾燥係屬於高溫乾燥步驟）不存在，而會觀察 到在所製得的偏光板有明顯的大幅的逆捲曲（在平面上設 置成使偏光膜側在下側且保護膜侧在上側時，成為凸形的 捲曲），且因條件而會有使偏紐不能保留板狀型態而形成 筒狀之情形。為了有效地抑概捲曲，低溫錢步驟中的 乾燥溫度宜為49Ϊ以下。此外，就防止偏光膜與保護膜容 易剝離而言，低溫乾燥步驟的乾燥溫度宜為3〇ΐ以上，旅 以40°C以上較佳。 雖然低溫乾燥步驟中的乾燥時間只要在15〇秒以上即 可，但就生產性之觀點而言，通常是在12〇〇秒以下。如 322884 19 201213475 乾燥夺間未達150秒時，在經過高溫乾燥步驟時 曲變大的傾向。 畀逆捲 此外’高溫乾燥步驟是使滯留在溫度保持於 之溫度之乾燥爐内的合計滯留時間為150秒以下的牛驟 如高溫乾燥㈣的賴溫度未達阶時n (該乾燥係屬於低溫賴步驟）不存在，故若欲二乾^步: 燥，則需要長時間的乾燥，而在生產上;問： 二偏光膜的收縮而產生明顯的彎曲之觀點而 °间，皿乾燥步驟中的乾燥溫度宜為6〇t以下。 雖然高溫乾燥步驟的乾燥時間只要在15 0秒以下即 可，但如在限制時間中進行乾燥，有因乾 面產生斑紋之傾向，故通常是在20秒以上。如“ Π的乾_間超過⑽秒，則可能有逆捲曲變乂二 ^ 如向溫乾燥步驟的乾燦時間為〇秒時（亦即，不 溫ί燥步驟時），軸不會產生逆捲曲，但因乾燥溫 ς二右欲充分進行偏光板的乾燥，則需要 的乾 紐’以致生產上有問題。 丁1㈣ 乾谭光板之製造方法中’低溫乾燥步驟及高溫 5=1序進行’也可逆向進行’也可將數次的 溫=步_’會使偏光板的光學特性，J是 2 :易㈣的傾向’故賴步驟宜先進行低溫乾燥步驟， 其且以低溫乾燥步驟、高溫乾燥步驟 順序進行。而且，如是進行數次的低溫乾燥步二= 322884 20 201213475 燥步驟時，上述的乾燥時間即為各別的低溫乾燥步驟之合 計時間、各別的高溫乾燥步驟之合計時間。亦即，如以上 述的低溫乾燥步驟、高溫乾燥步驟、低溫乾燥步驟的順序 進行乾燥步驟時，低溫乾燥步驟的乾燥時間是最初的低溫 乾燥步驟的乾燥時間與最後的低溫乾燥步驟的乾燥時間之 合計時間。 本發明的偏光板之製造方法的乾燥步驟中所使用之 乾燥爐，就適宜進行如上述的低溫乾燥步驟及高溫乾燥步 驟之觀點而言，宜使用乾燥溫度可設定在30至60°C的範 圍（並以40至60°C較佳）之乾燥爐。亦即，可適用可設定 在低溫乾燥步驟之較佳乾燥溫度之下限值30°C與高溫乾 燥步驟之較佳乾燥溫度之上限值60°C的範圍内而進行乾 燥的乾燥爐。如同上述，當上述溫度未達30°C時，偏光膜 與保護膜之間有容易剝離的傾向，並且，如超過60°C時， 則有因偏光膜的收縮而產生明顯彎曲之虞。積層膜在乾燥 爐中滯留的合計時間，例如可設為超過150秒且為1，200 秒以下，尤其就生產性之觀點而言，則宜為在170至600 秒的範圍内。 本發明的偏光板之製造方法中，在上述的乾燥步驟之 後，也可在室溫或較室溫稍高的溫度中，例如在約20至 45°C的溫度中養護大約12至600小時。養護時的溫度，一 般是設定在低於乾燥時採用的溫度。 (其他步驟） 由此而得之偏光板，通常係在至少一侧形成黏著劑 21 322884 201213475 層。在偏光板的偏光膜面形成黏著劑層時，所使用的黏著 劑宜為在23至80°C的溫度範圍中均具有0· 15至IMPa的 貝了存彈性模數（st〇rage elastic modulus)之黏著劑。一般 光學膜用途所使用的黏著劑，其貯存彈性模數至多為 0. IMPa左右’高於該值的黏著劑則適用於偏光膜面。藉由 使黏著劑的貯存彈性模數在上述的範圍内，而可減小高溫 J哀境中發生偏光臈的收縮時所伴隨的尺寸變化，獲得良好 的耐久性。黏著劑的貯存彈性模數係可藉由使用例如 DYNAMIC ANALYZER RDA II(REOMETETRIC 公司製），將試驗 片作成8辦><1咖厚的圓柱，頻率設在1Hz而求得。 ^方面在偏光板的保護膜面形成之黏著劑，除了 上述问貞了存彈f生模數的黏著劑之外，也可使用貯存彈性模 數較其為低的黏著劑，例如可使用—般的鮮膜所使用的 顯示大約（MMPa或其下之貯存彈性模數的黏著劑。 胺醋舉如丙烯酸系、橡膠系、 能量線硬彳—: 述高貯存彈性模數的黏著劑。在此等黏;== 性、耐候性、耐熱性等 知考劑之〒以透明 (base㈣之㈣劑為=馳系作為基質聚合物 雖然丙烯酸系黏著劑益 基）丙烯酸丁酯、（甲基）内歸酸二限制，但以使用如（甲 酯、（甲基）丙烯酸2-乙基己gt (甲基）丙烯酸異辛 合物，或使用2種以上^曰的(甲基）丙騎醋系基質聚 卞基）两烯酸酯等的共聚合系 322884 22 201213475 基質聚合物為理想。並且’在此等基f聚合物中有 體共聚合。極性單體可舉例M甲基）丙婦酸、（甲基= :2:5==曱基)丙埽酸經基乙醋、(曱基)_酿 胺、（甲基）丙烯酸N，N-二甲基胺基乙醋、（甲基 水甘㈣等具有減、基、胺基、環氧 能基的單體。 乳丞寺g 此等丙婦酸系黏著劑當然可單獨使用，但通常是歲丄 聯劑併用。交聯劑可舉例如：屬於2價或多價的金屬睡、乂 且與竣基之間形成㈣金屬鹽者；屬於多胺化合物，且邀 叛基之間軸_鍵者；屬於乡環減化合物❹ ^ 合物，且與絲之間形錢鍵者；屬於聚異氰咖旨化合物， 且^基之間形成_鍵者。其中，以聚異級酯化合物 係廣泛使用作為有機系交聯劑。 所謂能量線硬化型黏著劑，是指具有受到紫外線或電 :線荨能讀的照射而硬化的性f，在能量線照射前也且 ^著㈣密著於薄料被著體，且具有因能量線照㈣ 調整密著力的性質之點著劑。能量線硬化型黏著 :’尤宜使用紫外線硬化縣著劑。能量線硬化型黏著 =一，丙埽酸系黏著劑與能量線聚合性化合物為主 i=調配交聯劑’並且亦可配合要求而調配光 聚合起始劑或光增感劑。 之外在1著劑組成物中’除了上述的基質聚合物及交聯劑 類、黏=己合要求而調配例如天然物或合成物的樹脂 黏者性賦予樹酯、抗氧化劑、紫外線吸收劑、染料、 322884 23 201213475 顏料、消泡劑、腐蝕抑制劑、 劑’以調整黏著劑的黏著力、凝==等適宜的添加 成顯示光散射性之黏著^層^並且，亦可含有微粒子而製 目的宜為1至4一，但為了獲得本發明之 範園==層::不損及加工性、耐久性崎 光子的尺寸變化，因此，以^ =好的加工性，且慶制偏 太薄時，會使點著性降低，^ 交佳。如黏著劑層 出等不良情況。 _ 旱時，容易發生黏著性擠 齡法並卜無偏製造方法中，黏著劑層的形 首的II ^等兩者）塗布含有以上述基質聚合物為 施以聚矽離使其乾燥而形成黏著劑層之後，將經 獲得，也可在分離膜3膜(separator)積層而 面、保m i 讀，轉印到偏光膜 成勒為或料兩者而積層。並且’在偏光板上形 面料著可配合要求而在偏光板的黏著劑層形成 黏者劑層的至少一方施予密著處理，例如電晕處 元成的黏著劑層的表面，通常是以經離型處理的分 、所保遵’分離膜是在將此偏光板貼合到液 ^talee⑴或其他光賴之前被_。 （_H1 〔本發明的偏光板） 藉由本發明的製造方法而製得的偏光板，係水分率 322884 24 201213475 A(/〇及在23 c、濕度50%的壤境下之平衡含水率b(%)滿足 下述式（1)者。亦即，其水分率A與平衡含水率8之差之絕 對值未達0. 2。 I偏光板的水分率A(%)_偏光板的平衡含水率b(%) | <〇 2 (1) 此處所謂的「水分率A(%)」’是指以光穿透法測定經 過乾燥步驟而得的偏光板之值（使用紅外線水分率計而測 定之值）。偏光板的水分率（A)可例如依下述測定。 首先，以光穿透法測定偏光板的水分率，其次，由乾 燥重量法（於105 C乾燥1小時後，由乾燥前後的重量差求 得水分率）求得此偏光板之水分率。針對各種水分率的偏光 板進行相同的操作後，可獲得換算式。藉由使用所得之換 算式，並利用紅外線水分率計，以乾燥重量法即可估算於 105°C乾燥1小時後的水分率。 以紅外線水分率計測定水分率的方法，只要依照設備 廠商的使用說明書進行測定即可。紅外線水分率計可列舉
Kurabo RX-300 或 Fujiwork IM-3SCV 等。 此外，所謂「平衡含水率B00」，是指使偏光板在23 °C。、灣Η的環境中達到平衡時的水分率。如偏光板置於 23 C 5(URH的一疋環境中時，會使水分率變動而逐漸使 水分率達到平衡狀態。平衡含水率是指在此平衡狀態時的 水为率。具體上，是指使偏光板在23它、5〇%RH的無塵室 (clean room)中保持7天後的水分率。而且，「平衡含水率」 與上述「水分率a(°/q)」相同地，是以光穿透法測定之值（使 用In-line水分率計而測定之值）。此外，本發明的偏光板 322884 25 201213475 之水分率，並非指構成偏光板的各個零件之水分率，而是 指將各個構成零件（至少為偏域、接著劑層、以及保護膜） 組合而成的偏光板之「水分率」。 如後述的實施例所示，本發明之偏光板只要使上述定 義的「水分率AOO」及「平衡含水率B(%)」滿足上述式⑴， P可實現王面不產生斑紋的偏光板。「水分率A與平衡含水 率之差的絕對值」宜未達〇.15，並以未達Q12較佳，而 以未達0. 08尤佳。 此外，藉由本發_製造方W製得的偏光板 ，通1 ，、有大型的滾輪材料或板狀材料的形態，如欲得到具有戶, =的形狀與穿透軸之偏光板時，係藉由具有銳利刀刀# =ΓΓ進行切削(chip cut)。因此，在切削而細 光板=片’係在外圍端部中會產生偏光膜朝外露出的狀態 咖2狀態的偏光板切片施行例如熱衝擊（heat shock 久性倾後，麵—般難㈣偏妹比 ==素系樹脂膜等保護偏光膜之兩面 了 產生_或碎裂等不良現象之傾向。為 速切削（fi不本發明所得的偏光板切片，宜以快 逮切削（fly cut)料料圍 (本發明的偏光板之評估方法）Μ連續切削 上述式（1)可利用在偏光板的評 發明的偏光板之評估方法，是 / 亦Ρ ’本 構成的偏光狀1隔介水=財由聚乙烯耗樹脂所 板之方法，其是 以、接_賴合㈣膜的偏光 、 偏光板的水分率Α(«及在23。(：、濕 322884 26 201213475 度50%的環境下之平衡含水率B〇〇是否滿足下述式⑴來 評估偏光板的品質之方法。 丨偏光板的水分率A»)-偏光板的平衡含水率丨〈〇· 2 (1) 由此，即可確實評估偏光板全面是否有斑紋。 如上述，铺本發明，因偏光板的水分率4及偏光板 的平衡含水率B滿足上述式⑴，故可抑制偏光板全面所產 生之斑紋。 此外，本發明的偏光板中，上述保護膜宜為由醋酸纖 維素系樹脂所構成的膜。 並且，本發明的偏光板的製造方法中，上述貼合步驟 中使用的水系接著劑之成分濃度宜未達9. 2%。 ·、 再者’本發明的偏光板的製造方法中，上述乾燦步 宜包含：使滯留在溫度保持於未達50。〇之溫度之乾燥 的合a十滯留時間為1 5〇秒以上的低溫乾燥步驟，與使' 口 在溫度保持在50¾以上之溫度之乾燥爐内的合計滯留$邊 間為150秒以下的高溫乾燥步驟。 夺 [實施例] 以下’雖然是以實施例更詳細說明本發明，值 並不侷限於此等例之範圍内 。例中，只要未另外特發’ 則表示「含量」或「使用量」的「%」及「份」是重量：： 〈實施例1> 里基準 將平均聚合度約2,400、皂化度99. 9莫耳％以上 度75//in的聚乙烯醇膜以乾式方式進行單軸延伸至5*^厚 後，使其保持在緊張狀態下浸潰在6〇°C的純水中丨八β 刀在查 322884 27 201213475 後，再於28°C下浸潰在碘/碘化鉀/水的重量比為〇. 1/5 /100之水溶液中60秒。然後，於72°C下浸潰在碘化鉀/ 硼酸/水的重量比為10. 5/7. 5/100之水溶液中300秒。 繼而’以l〇°C的純水清洗5秒之後，以90°C乾燥180秒， 即得到使碘吸附配向在聚乙烯醇膜中的偏光膜。 另一方面’使完全皂化的聚乙烯醇（Kuraray Poval 1ΠΗ，（股）Kuraray製）3.2份、乙醯乙醯基改質聚乙烯醇 (Gohsefimer(註冊商標）Z-200,曰本合成化學工業（股）製） 3. 2份、氣化鋅（Nacalai Tesque(股）販售）〇. 19份、乙二 醛（Nacalai Tesque(股）販售）1.5份溶解於1〇〇份的水中， 調製成聚乙烯醇系樹脂接著劑。又，此接著劑中的成分濃 度是7.5%。 在先前所得的偏光膜之一面，隔介上述接著劑並藉由 夾輪，而將於三乙醯纖維素膜表面形成有抗反射層的厚度 40//m之保濩膜予以貼合。一邊使貼合物之張力保持在 430Ν/Π1，一邊以 40tl6 秒、55°C72 秒、45°C139 秒、45 °C140秒乾燥後，即得偏光板。亦即，使其以未達閒它乾 燥295秒（低溫乾燥步驟）、以5〇〇c以上乾燥72秒（高溫乾 〈實施例5> 除了將貼合在偏光膜的一面之保護膜的種類，取代為 於三乙喊維相表面形成有硬塗層的厚度之保護 膜（40CHC，凸版印刷（股）製；以下簡稱為保護膜2)以外， 其餘是以與實施例1相同的條件，製作成偏光板。 322884 28 201213475 〈實施例2至4、6及比較例1、2> 以下，如表1中所示，將保護膜的種類與接著劑的成 分濃度組合後，製作成偏光板，再評估水分率A、水分率A 與平衡含水率B之差、以及偏光板的外觀。表1中，表示 實施例1至6及比較例卜2中使用的聚乙烯醇系樹脂接著 劑之組成及成分濃度。此外，表中的「完全皂化的聚乙烯 醇」、「乙醯乙醯基改質聚乙烯醇」、「氯化鋅」及「乙二醛」， 是與實施例1中使用相同者。並且，此等化合物之組成， 是相對於100份的水之組成。 [表1 ] 完全皂化的聚乙烯 醇 乙醯乙醯基改質聚乙烯 醇 氯化鋅 乙二醛 成分濃度 實施例1 3. 2份 3. 2份 0.19 份 1.5份 7.5% 實施例2 3. 4份 3. 4份 0. 20 份 1.6份 7.9% 實施例3 3. 6份 3. 6份 0. 22 份 1.7份 8.3% 實施例4 3. 8份 3.8份 0.23 份 1.8份 8.8% 比較例1 4份 4份 0.24 份 1.9份 9.2% 實施例5 3. 2份 3. 2份 0.19 份 1.5份 7.5% 實施例6 3_4份 3.4份 0. 20 份 1.6份 7.9% 比較例2 4份 4份 0.24 份 1.9份 9. 2% 〈評估方法> 利用昌倉敷紡股份公司製的RX-300,測定實施例1至 6及比較例1、2中製作成的偏光板之水分率A。又，本裝 置已輸入事先求得之與乾燥重量法（1〇5〇C1小時）水分率 值的換算式，而表示相當於乾燥重量法的水分率。 從實施例1至6及比較例1、2中製作成的偏光板切 出試驗片’使該試驗片保持在23。(：、濕度50%RH的無塵室 29 322884 201213475 中7天後，以與上述相同的方法測定水分率，作為平衡含 水率B。然後，由所得的水分率A及平衡含水率B之測定 值，計算出水分率A與平衡含水率B之差。又，偏光板之 外觀是以目視觀察進行評估。 評估結果亦包含實施例1、5之結果，如表2中所示。 表中的「水分率A與平衡含水率B之差」，是針對上述方法 測定的平衡含水率B與水分率A之「水分率A-平衡含水率 B」的計算值。「+」的符號是指水分率A大於平衡含水率B， 「-」的符號是指水分率A小於平衡含水率B。又，括弧内 之數字是絕對值。 [表2]
保護膜 接著劑濃度 (%) 水分率A 平衡水分率B 水分率A與平衡 水分率B之差 (絕對值） 外觀斑紋 實施例1 保護膜1 7.5 2.46 2. 38 0.08(0. 08) OK 實施例2 保護膜1 7.9 2.5 2. 38 0.12(0.12) OK 實施例3 保護膜1 8.3 2.37 2. 38 -0.01(0.01) OK 實施例4 保護膜1 8.8 2.53 2.38 0.15(0.15) OK 比較例1 保護膜1 9.2 2. 67 2.38 0.29(0.29) NG 實施例5 保護膜2 7.5 2.23 2.22 0.01(0.01) OK 實施例6 保護膜2 7.9 2.29 2.22 0. 07(0. 07) OK 比較例2 保護膜2 9.2 2.46 2.22 0.24(0. 24) NG 如表2所示，在水分率A與平衡含水率B之差的絕對 值超過0.2的比較例1及2的偏光板中，在全面觀察到外 觀斑紋。另一方面，在水分率A與平衡含水率B之差的絕 對值未達0. 2的實施例1至6的偏光板中，全面未觀察到 外觀斑紋。所以，認為只要滿足水分率A與平衡含水率B 之差的絕對值未達0. 2的條件，即可抑制偏光板的全面所 30 322884 201213475 產生之外觀斑紋。 [產業上的可利用性] 本發明可提供製造抑制全面斑紋之產生的偏光板之方 式。此外，本發明可廣泛利用於利用偏光板的產業中。 【圖式簡單說明】 第1圖是表示在產生斑紋的偏光板之表面使螢光燈反 射時的影像之圖像。 【主要元件符號說明】 無 31 322884