TWI743095B

TWI743095B - 附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜之製造方法、附黏著劑層之偏光薄膜之製造方法、光學積層體之製造方法

Info

Publication number: TWI743095B
Application number: TW106107936A
Authority: TW
Inventors: 上野友德; 三田聰司; 池嶋健太郎; 岸敦史; 茂手木佑輔
Original assignee: 日商日東電工股份有限公司
Priority date: 2016-03-17
Filing date: 2017-03-10
Publication date: 2021-10-21
Also published as: KR20180104081A; WO2017159454A1; CN108780179A; CN108780179B; KR102166983B1; JP6806453B2; JP2017167428A; TW201733806A

Abstract

本發明係一種附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜之製造方法，該附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜具有僅於偏光件之單面具有保護薄膜的單面保護偏光薄膜、及設於前述單面保護偏光薄膜之偏光件另一面的透明樹脂層；前述偏光件包含聚乙烯醇系樹脂且厚度為10mm以下；前述透明樹脂層係藉由下述步驟形成：於前述偏光件塗布塗敷液之步驟，該塗敷液包含樹脂成分或可構成透明樹脂層之硬化性成分；及將所得之塗布膜固化或硬化之步驟；前述塗敷液之塗布步驟係於自前述偏光件寬度方向之兩端分別朝內側小於20mm之區域中具有未塗布前述塗敷液之未塗布部分，或於前述偏光件寬度方向全體塗布塗敷液。依據本發明之製造方法，可抑制附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜產生捲曲。

Description

附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜之製造方法、附黏著劑層之偏光薄膜之製造方法、光學積層體之製造方法

本發明有關於一種附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜之製造方法。又，本發明有關於在前述附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜的透明樹脂層上形成有黏著劑層的附黏著劑層之偏光薄膜之製造方法、使用有該附黏著劑層之偏光薄膜的光學積層體之製造方法。藉由本發明之製造方法所得之附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜、附黏著劑層之偏光薄膜可單獨或將其積層作為光學積層體來形成液晶顯示裝置(LCD)、有機EL顯示裝置等影像顯示裝置。

手錶、行動電話、PDA、筆記型電腦、電腦螢幕、DVD撥放器、TV等液晶顯示裝置正急遽地於市場上展開。液晶顯示裝置係可視化利用轉換液晶之偏光狀態者，由其顯示原理使用有偏光件。

因具高穿透率、高偏光度，一般最普遍使用之偏光件係例如，使碘吸附於聚乙烯醇薄膜再延伸後之構造的碘系偏光件。如此之偏光件具有機械強度極弱、因熱或水分收縮，造成偏光機能顯著地下降的缺點。因此，立即透過接著劑將所得之偏光件與塗敷有接著劑之保護薄膜貼合，作為偏光薄膜使用。

另一方面，液晶顯示裝置等影像顯示裝置正在進行薄型化，亦要求偏光薄膜薄型化。因此，偏光件亦進行薄型化。又，薄型化可藉由使用僅於偏光件之單側設置保護薄膜，且並未於另一側設置保護薄膜的單面保護偏光薄膜來進行。如此之單面保護偏光薄膜相較於偏光件之兩面設有保護薄膜的兩保護偏光薄膜，因少一片保護薄膜，故可期待薄化型。

另一方面，因單面保護偏光薄膜對熱衝撃之耐久性不充分，故有人提出了一種於偏光件側設有保護層(透明樹脂層)之方法(參照例如，專利文獻1、2)。

又，有人提出了一種製造偏光性積層薄膜之方法，係於自基材薄膜寬度方向之兩端分別朝內側0.5cm以上之區域中設置未塗布樹脂溶液之未塗布部分，形成樹脂層，並自所得之積層薄膜截斷前述未塗布部分後去除，之後，施行延伸處理、染色處理，製造偏光性積層薄膜之方法(參照例如，專利文獻3)。

先前技術文獻專利文獻

專利文獻1：日本專利特開2010-009027號公報

專利文獻2：日本專利特開2013-160775號公報

專利文獻3：日本專利特開2011-212550號公報

發明概要

專利文獻1、2中，雖於單面保護偏光薄膜形成有保護層(透明樹脂層)，但如此之偏光薄膜多會捲曲，於搬運所得之偏光薄膜時，有時會發生偏光薄膜端部產生摺痕、因該摺痕產生斷裂或積層於其他構件時被揉擠等不良情況。

專利文獻3之偏光性積層薄膜之製造方法係藉由設置0.5cm以上之未塗布部分並削除該未塗布部分，而可抑制所得之薄膜的反捲現象。專利文獻3之方法中需有一削除未塗布部分之步驟，使製造步驟變得繁雜。

因此，本發明之目的係提供一種可抑制捲曲產生之附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜之製造方法。並且，本發明之目的係提供附黏著劑層之偏光薄膜之製造方法、光學積層體之製造方法。

本發明人等專心研究之結果，發現藉由下述附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜之製造方法可解決前述課題，而完成本發明。

換言之，本發明係有關一種附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜之製造方法，前述附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜具有僅於偏光件之單面具有保護薄膜的單面保護偏光薄膜、及設於前述單面保護偏光薄膜之偏光件另一面的透明樹脂層；前述偏光件包含聚乙烯醇系樹脂且厚度為10μm以下；前述透明樹脂層係藉由下述步驟形成：於前述偏光件塗布塗敷液之步驟，該塗敷液包含樹脂成分或可構成透明樹脂層之硬化性成分；及將所得之塗布膜固化或硬化之步驟；前述塗敷液之塗布步驟係於自前述偏光件寬度方向之兩端分別朝內側小於20mm之區域中具有未塗布前述塗敷液之未塗布部分，或於前述偏光件寬度方向全體塗布塗敷液。

前述塗敷液之塗布宜藉由於前述偏光件之寬度方向全體塗布塗敷液來進行。

前述偏光件之寬度以1100~2000mm為佳。

前述透明樹脂層宜藉由將前述塗布膜固化而形成，且該固化宜藉由乾燥來進行。

前述乾燥溫度以120℃以下為佳。

前述乾燥時間以180秒以內為佳。

前述塗敷液宜為包含樹脂成分之塗敷液，且前述樹脂成分以聚乙烯醇系樹脂為佳。

又，本發明有關於一種附黏著劑層之偏光薄膜之製造方法，其包含下述步驟：於藉由前述製造方法所得之附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜的透明樹脂層上形成黏著劑層。

此外，本發明有關於一種光學積層體之製造方法，其包含下述步驟：不將藉由前述製造方法所得之附黏著劑層之偏光薄膜進行捲取而是透過前述黏著劑層貼合於光學構件。

本發明之附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜之製造方法在將包含樹脂成分或可構成透明樹脂層之硬化性成分的塗敷液塗布於偏光件時，因於自前述偏光件寬度方向之兩端分別朝內側小於20mm之區域中具有未塗布前述塗敷液之未塗布部分，或於前述偏光件寬度方向全體塗布塗敷液，故可抑制所得之附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜產生捲曲。又，亦可抑制於前述附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜之透明樹脂層設有黏著劑層的附黏著劑層之偏光薄膜產生捲曲。因此，藉由本發明之製造方法所得之附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜或附黏著劑層之偏光薄膜，於製造後可不捲取於輥件等就積層於用於影像顯示裝置等之光學構件。

1:偏光件

2:保護薄膜

3:單面保護偏光薄膜

4:透明樹脂層

5:未塗布部分

10:附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜

A:偏光薄膜之寬度方向

圖1係藉由本發明之製造方法所得之附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜的概略截面圖一例。

圖2係藉由本發明之製造方法所得之附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜的概略截面圖一例。

用以實施發明之形態

1.附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜之製造方法

本發明之附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜之製造方法可製造下述附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜：具有僅於偏光件之單面具有保護薄膜的單面保護偏光薄膜、及設於前述單面保護偏光薄膜之偏光件另一面的透明樹脂層；前述偏光件包含聚乙烯醇系樹脂且厚度為10μm以下；前述透明樹脂層係藉由下述步驟形成：於前述偏光件塗布塗敷液之步驟，該塗敷液包含樹脂成分或可構成透明樹脂層的硬化性成分；及將所得之塗布膜固化或硬化之步驟；前述塗敷液之塗布步驟係於自前述偏光件寬度方向之兩端分別朝內側小於20mm之區域中具有未塗布前述塗敷液之未塗布部分，或於前述偏光件寬度方向全體塗布塗敷液。

一面參照圖1、2一面說明藉由本發明之製造方法所得的附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜。但，本發明並未受該等圖所限定。

本發明中使用之單面保護偏光薄膜3僅於偏光件1之單面具有保護薄膜2。前述偏光件1與保護薄膜2可藉由接著劑層、黏著劑層、底塗層(底漆層)等夾層(未圖示)積層。本發明之製造方法係於前述單面保護偏光薄膜3之偏光件1之未具有保護薄膜2的面(另一面)形成透明樹脂層4後，製造附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜10的方法。

透明樹脂層4之形成係藉由下述步驟形成：於前述偏光件1塗布塗敷液之步驟，該塗敷液包含樹脂成分或可構成透明樹脂層4之硬化性成分；及將所得之塗布膜固化或硬化之步驟。前述塗敷液之塗布步驟的特徵，如圖1所示，於自前述偏光件1寬度方向(圖中之A方向)之兩端分別朝內側小於20mm之區域中具有未塗布前述塗敷液的未塗布部分5，或如圖2所示，於前述偏光件1之寬度方向全體塗布塗敷液(不具未塗布部分)。藉由如此地塗布，可抑制所得之附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜10產生捲曲，製造後不需捲取至輥件等就可貼合至使用於影像顯示裝置等的光學構件。再者，此處偏光件1之寬度方向係與偏光件1之延伸方向(搬運方向)正交的方向之意。

又，前述塗敷中具有前述未塗布部分時，未塗布部分係自偏光件寬度方向之兩端分別朝內側小於20mm之區域，以15mm以下之區域為佳，以10mm以下之區域較佳。藉使未塗布部分於前述範圍內，可抑制所得之附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜產生捲曲而為佳。並未特別限定未塗布部分區域之下限值，以越小越佳，以於前述偏光件之寬度方向全體塗布塗敷液之方法，即不具未塗布部分特佳。

又，就前述塗敷而言，具有前述未塗布部分時，未塗布部分以自偏光件寬度方向之兩端分別朝內側各相對於偏光件寬度為5%以下之區域為佳，以相對於偏光件寬度為小於3%之區域較佳，以相對於偏光件寬度為 2%以下之區域更佳。藉使未塗布部分於前述範圍內，因可抑制所得之附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜產生捲曲故為佳。並未特別限定未塗布部分區域之下限值，以越小越佳，以於前述偏光件寬度方向全體塗布塗敷液之方法，即相對於偏光件寬度為0%(不具未塗布部分)特佳。

以下說明本發明之製造方法的各步驟。

1-1.塗敷液塗布步驟

本發明之製造方法包含於前述單面保護偏光薄膜3之偏光件1之未具保護薄膜2的面(另一面)，塗布包含樹脂成分或可構成透明樹脂層之硬化性成分的塗敷液之步驟。塗布方法係如前述。

(1)單面保護偏光薄膜

(1-1)偏光件

本發明中使用厚度10μm以下之偏光件。偏光件之厚度以8μm以下為佳，以7μm以下較佳，以6μm以下更佳。另一方面，偏光件之厚度以2μm以上為佳，以3μm以上較佳。如此之薄型偏光件因厚度不均少、目視確認性優異，且尺寸變化少，故對熱衝撃之耐久性優異。

偏光件1係使用用有聚乙烯醇系樹脂者。偏光件1可舉例如，使聚乙烯醇系薄膜、部分縮甲醛化聚乙烯醇系薄膜、乙烯．乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化薄膜等親水性高分子薄膜吸附碘或二色性染料之二色性物質後單軸延伸者、聚乙烯醇之脫水處理物或聚氯乙烯之脫鹽酸處理物等多烯系配向薄膜等。該等中亦以由聚乙烯醇系薄膜與碘等二色性物質所構成之偏光件為佳。

經碘染色聚乙烯醇系薄膜並單軸延伸之偏光件，可藉由例如，藉將聚乙烯醇浸漬於碘之水溶液中染色，延伸至原來長度之3~7倍地製作。視需要亦可含有硼酸或硫酸鋅、氯化鋅等，亦可浸漬於碘化鉀等水溶液中。更可視需要於染色前將聚乙烯醇系薄膜浸漬於水中水洗。藉由水洗聚乙烯醇系薄膜不僅可洗淨聚乙烯醇系薄膜表面之髒汙或抗結塊劑，亦可膨潤聚乙烯醇系薄膜而有防止染色不均等不均一的效果。延伸可於經碘染色後進行，亦可一面染色一面進行延伸，又亦可於延伸後以碘染色。於硼酸或碘化鉀等水溶液或水浴中亦可進行延伸。

由延伸穩定性或光學耐久性來看，以偏光件1含有硼酸為佳。又，由抑制貫穿裂縫及奈米狹縫之產生、抑制擴張之觀點來看，偏光件1所含之硼酸含量相對於偏光件全量以25重量%以下為佳，以20重量%以下較佳，以18重量%以下更佳，以16重量%以下特佳。偏光件1所含之硼酸含量大於20重量%時，即使已將偏光件1之厚度控制在10μm以下，偏光件1之收縮應力仍上升，變得容易產生貫穿裂縫故不佳。另一方面，由偏光件1之延伸穩定性或光學耐久性之觀點來看，相對於偏光件全量之硼酸含量以10重量%以上為佳，以12重量%以上較佳。

具代表性之薄型之偏光件，可舉例如：日本專利第4751486號說明書、日本專利第4751481號說明書、日本專利第4815544號說明書、日本專利第5048120 號說明書、國際公開第2014/077599號手冊、國際公開第2014/077636號手冊等中所記載之薄型偏光件或由該等中所記載之製造方法所得的薄型偏光件。

前述偏光件1以單體穿透率T及偏光度P所表示之光學特性滿足下式P>-(10^0.929T-42.4-1)×100(但，T<42.3)、或P≧99.9(但，T≧42.3)之條件地構成為佳。滿足前述條件所構成之偏光件主要來說具有使用有大型顯示元件之液晶電視用的顯示器所追求的性能。具體而言，對比1000：1以上且最大亮度500cd/m²以上。其他用途可舉貼合於有機EL顯示裝置之目視確認側為例。

前述薄型偏光件，於包含在積層體之狀態下延伸之步驟與染色之步驟的製法中，由可高倍率地延伸，並提升偏光性能來看，以如日本專利第4751486號說明書、日本專利第4751481號說明書、日本專利4815544號說明書記載之包含於硼酸水溶液中延伸之步驟的製法所得者為佳，特別以如日本專利第4751481號說明書、日本專利4815544號說明書記載之藉由包含於硼酸水溶液中延伸前先輔助地空中延伸之步驟的製法所得者為佳。該等薄型偏光件可藉由包含於聚乙烯醇系樹脂層與延伸用樹脂基材為積層體之狀態下延伸的步驟，與染色之步驟的製法得到。若為該製法，即使聚乙烯醇系樹脂層薄，仍可於延伸用樹脂基材之支撐下無延伸造成斷裂等不良情形地進行延伸。

(1-2)保護薄膜

構成前述保護薄膜2之材料以透明性、機械強度、熱穩定性、水份截取性、等向性等優異者為佳。可舉例如：聚對苯二甲酸乙二酯或聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系聚合物、二乙醯纖維素或三乙醯纖維素等纖維素系聚合物、具甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸系聚合物、聚苯乙烯或丙烯腈．苯乙烯共聚物(AS樹脂)等苯乙烯系聚合物、聚碳酸酯系聚合物等。又，聚乙烯、聚丙烯、具環系或降冰片烯構造之聚烯烴、如乙烯．丙烯共聚物之聚烯烴系聚合物、氯乙烯系聚合物、耐綸或芳香族聚醯胺等醯胺系聚合物、醯亞胺系聚合物、磺酸系聚合物、聚醚磺酸系聚合物、聚醚醚酮系聚合物、聚苯硫系聚合物、乙烯醇系聚合物、氯亞乙烯基系聚合物、乙烯丁醛系聚合物、芳酯系聚合物、聚氧亞甲基系聚合物、環氧系聚合物、或前述聚合物之摻雜物等亦為形成前述保護薄膜之聚合物之例。

再者，保護薄膜2中亦可含有1種以上任何適合之添加劑。添加劑可舉例如：紫外線吸收劑、抗氧化劑、滑劑、可塑劑、脫模劑、抗著色劑、難燃劑、核劑、抗靜電劑、顏料、著色劑等。保護薄膜中前述熱可塑性樹脂的含量以50~100質量%為佳，以50~99質量%較佳，以60~98質量%更佳，以70~97質量%特佳。保護薄膜中前述熱可塑性樹脂的含量小於50質量%時，將有未能充分地顯現熱可塑性樹脂本來具有之高透明性等的疑慮。

前述保護薄膜2亦可使用相位差薄膜、亮度提升薄膜、擴散薄膜等。相位差薄膜可舉具正面相位差 40nm以上、及/或厚度方向相位差80nm以上之相位差者為例。正面相位差通常控制在40~200nm範圍內，厚度方向相位差通常控制在80~300nm範圍內。使用相位差薄膜作為保護薄膜時，因該相位差薄膜亦作為偏光件保護薄膜作用，故可期待薄型化。

相位差薄膜可舉經單軸或雙軸延伸處理熱可塑性樹脂薄膜後而成的雙折射性薄膜為例。可藉由相位差值、薄膜材料、厚度適當地設定前述延伸之溫度、延伸倍率等。

可適當地決定前述保護薄膜2之厚度，但一般而言由強度或處理性等作業性、薄層性等來看，以3~200μm為佳，更以3~100μm為佳。特別是，由搬運性來看，前述保護薄膜(預先形成有薄膜時)之厚度以10~60μm為佳，更以10~50μm為佳。另一方面，由搬運性來看，前述保護薄膜(利用塗布、硬化形成時)之厚度以3~25μm為佳，更以3~20μm為佳。前述保護薄膜亦可以多片或多層之方式使用。

於前述保護薄膜2之未接著偏光件1之面，可設置硬塗層、反射防止層、防黏層、擴散層或防眩光層等機能層。再者，前述硬塗層、反射防止層、防黏層、擴散層或防眩光層等機能層除了可直接設於保護薄膜2上，亦可另外與保護薄膜不同形式地設置。

(1-3)夾層

前述保護薄膜2與偏光件1可透過接著劑層、黏著劑層、底塗層(底漆層)等夾層積層。此時，以藉由夾層無空氣隙縫地積層兩者為佳。再者，圖中並未顯示偏光件1與保護薄膜2之夾層。

接著劑層藉由接著劑所形成。並未特別限制接著劑之種類，可使用各種者。前述接著劑層只要光學上係透明的話並未特別限制，接著劑可使用水系、溶劑系、熱熔系、活性能量線硬化型等各種形態者，但以水系接著劑或活性能量線硬化型接著劑為佳。

水系接著劑可舉異氰酸酯系接著劑、聚乙烯醇系接著劑、明膠系接著劑、乙烯系乳膠系、水系聚酯等為例。水系接著劑通常使用由水溶液所構成之接著劑，通常含有0.5~60重量%之固體成分。

活性能量線硬化型接著劑係藉由電子束、紫外線(自由基硬化型、陽離子硬化型)等活性能量線進行硬化之接著劑，可以例如，電子束硬化型、紫外線硬化型之態樣使用。活性能量線硬化型接著劑可使用例如，光自由基硬化型接著劑。使用光自由基硬化型之活性能量線硬化型接著劑作為紫外線硬化型時，該接著劑含有自由基聚合性化合物及光聚合起始劑。

藉由黏著劑之黏度或目的之厚度適當地選擇接著劑之塗敷方式。塗敷方式之例可舉例如：反輥塗布器、凹版塗布器(直接、反輥或偏位)、桿反向塗布器、輥塗布器、模具塗布器、桿塗布器、棒塗布器等。其他，塗敷可適當地使用浸漬方式等方式。

又，前述接著劑之塗敷於使用水系接著劑等時，以最終形成之接著劑層之厚度為30~300nm地進行為佳。前述接著劑層之厚度更以60~150nm為佳。另一方面，使用活性能量線硬化型接著劑時，以前述接著劑層之厚度為0.2~20μm地進行為佳。

再者，於積層偏光件1與保護薄膜2時，保護薄膜與接著劑層間可設置易接著層。易接著層可藉由具例如，聚酯骨架、聚醚骨架、聚碳酸酯骨架、聚胺基甲酸酯骨架、矽酮系、聚醯胺骨架、聚醯亞胺骨架、聚乙烯醇骨架等之各種樹脂形成。可單獨使用該等聚合物樹脂之1種、或組合2種以上。又，易接著層之形成中亦可添加其他之添加劑。具體而言，可舉黏著賦予劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、耐熱穩定劑等穩定劑等為例。

易接著層通常預先設於保護薄膜上，藉由接著劑層積層該保護薄膜之易接著層側與偏光件。易接著層之形成係藉由眾所皆知的技術於保護薄膜上利用塗敷、乾燥形成易接著層之形成材。易接著層之形成材通常於考量乾燥後之厚度、塗敷之圓滑性等後調整至稀釋成適當濃度的溶液。易接著層乾燥後之厚度以0.01~5μm為佳，以0.02~2μm較佳，更佳者係0.05~1μm。再者，易接著層可設置多層，但此時以易接著層之總厚度於前述範圍內為佳。

黏著劑層由黏著劑所形成。黏著劑可使用各種黏著劑，可舉例如：橡膠系黏著劑、丙烯酸系黏著劑、矽酮系黏著劑、胺基甲酸酯系黏著劑、乙烯烷基醚系黏著劑、聚乙烯吡咯啶酮系黏著劑、聚丙烯醯胺系黏著劑、纖維素系黏著劑等。可視前述黏著劑之種類選擇黏著性之基質聚合物。前述黏著劑中由光學透明性優異、顯示適當之濕潤性、凝集性及接著性之黏著特性，耐候性或耐熱性等優異之點來看，以使用丙烯酸系黏著劑為佳。

底塗層(底漆層)係用以提升偏光件1與保護薄膜2之密著性所形成。構成底漆層之材料，只要係某程度地發揮可強力接著偏光件1與保護薄膜2兩者的材料即可，並未特別限定。可使用例如，透明性、熱穩定性、延伸性等優異之熱可塑性樹脂等。熱可塑性樹脂可舉丙烯酸系樹脂、聚烯烴系樹脂、聚酯系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、或該等之混合物為例。

(2)塗敷液

塗敷液包含樹脂成分或可構成透明樹脂層之硬化性成分。於偏光件1塗布該塗敷液再固化或硬化即可形成透明樹脂層4。

又，前述塗敷液(以下，亦稱作形成材)之形態只要顯示為液狀者即可，並未特別限制，可為水系、水分散系、溶劑系、無溶劑之任一者。

於偏光件1表面存在損傷部時，前述塗敷液之黏度低者因容易滲透至該損傷部故為佳。前述黏度於25℃下測量之值以2000mPa．s以下為佳，以1000mPa．s以下較佳，以500mPa．s以下更佳，以100mPa．s以下特佳。

於單面保護偏光薄膜(偏光件側)進行前述塗敷液之塗布，以乾燥後之塗布膜(透明樹脂層4)的厚度為0.2μm以上為佳。以前述透明樹脂層4之厚度為0.5μm以上較佳，以0.7μm以上更佳。另一方面，透明樹脂層4過厚時因光學可靠性與耐水性下降，故透明樹脂層4之厚度以3μm以下為佳，以小於3μm較佳，以2μm以下更佳。

前述塗敷液之塗布方法可使用各種方法。具體而言，可舉例如：輥塗布、接觸上膠輥塗布、凹版塗布、反輥塗布、輥刷、噴塗、傾輥塗布、桿塗布、刮刀塗布、空氣刀塗布、簾塗布、端緣塗布、利用模具塗布器等之擠壓塗布法等方法。

前述透明樹脂層4之形成材料，可舉例如：聚酯系樹脂、聚醚系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚胺基甲酸酯系樹脂、矽酮系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚乙烯醇(PVA)系樹脂、丙烯酸系樹脂、環氧系樹脂等。該等樹脂材料可單獨使用1種或組合2種以上使用，但該等中亦以選自於由聚胺基甲酸酯系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、丙烯酸系樹脂、環氧系樹脂所構成群組中之1種以上為佳，以聚乙烯醇系樹脂、丙烯酸系樹脂較佳。

前述塗敷液以包含經溶解或分散於水中之樹脂成分的塗敷液為佳。經溶解或分散於水中之樹脂成分係指常溫(25℃)下溶解於水中之樹脂、使可溶水於之樹脂溶解於水系溶劑者。於偏光件1表面存在損傷部時，若塗敷液為水系或水分散系的話，藉由膨潤偏光件1之表面，使前述塗敷液進入損傷部而為佳。換言之，塗敷液為水系或水分散系時，將緩和構成偏光件之該損傷部周圍之聚乙烯醇分子一部分的配向性，且可減少該損傷部周圍之硼酸含量，故即使透明樹脂層4之厚度薄(例如即使小於3μm，以2μm以下為佳)，仍可有效地抑制該損傷部之擴大。

可溶解或分散於水中之樹脂成分的代表例，可舉例如：聚乙烯醇系樹脂、聚(甲基)丙烯酸、聚丙烯醯胺、羥甲基化三聚氰胺樹脂、羥甲基化尿素樹脂、酚醛型酚樹脂、聚氧化乙烯、羧基甲基纖維素等。該等可單獨或組合多數使用。前述樹脂成分以使用聚乙烯醇系樹脂、聚(甲基)丙烯酸、羥甲基化三聚氰胺為佳。特別是，由與構成偏光件之聚乙烯醇系樹脂之密著性的觀點來看，前述樹脂成分以聚乙烯醇系樹脂為佳。以下，說明使用有聚乙烯醇系樹脂之情形。

透明樹脂層4以由含有聚乙烯醇系樹脂之形成材(塗敷液)形成為佳。只要形成透明樹脂層之聚乙烯醇系樹脂係「聚乙烯醇系樹脂」的話，可與含有偏光件之聚乙烯醇系樹脂相同或相異。

前述聚乙烯醇系樹脂可舉聚乙烯醇為例。聚乙烯醇可藉由皂化聚乙酸乙烯酯而得。又，聚乙烯醇系樹脂可舉與乙酸乙烯酯具共聚合性之單體的共聚物之皂化物為例。前述具共聚合性之單體為乙烯時，可得乙烯-乙烯醇共聚物。又，前述具共聚合性之單體，可舉例如：順丁烯二酸(酐)、反丁烯二酸、巴豆酸、伊康酸、(甲基)丙烯酸等不飽和羧酸及其酯類；乙烯、丙烯等α-烯烴、(甲基)芳基磺酸(鈉)、磺酸鈉(單烷基蘋果酸酯)、二磺酸鈉烷基蘋果酸酯、N-羥甲基丙烯醯胺、丙烯醯胺烷基磺酸鹼金屬鹽、N-乙烯吡咯啶酮、N-乙烯基吡咯啶酮衍生物等。該等聚乙烯醇系樹脂可單獨使用一種或併用二種以上。

前述聚乙烯醇系樹脂之皂化度可使用例如，95莫耳%以上者，但由滿足耐溼熱性或耐水性之觀點來看，皂化度以99莫耳%以上為佳，更以99.7莫耳%以上為佳。皂化度係表示藉由皂化可轉換為乙烯醇單位之單位中，實際上經皂化成乙烯醇單位之單位的比例，殘基係乙烯酯單位。皂化度可依據JIS-K6726-1994求得。

前述聚乙烯醇系樹脂之平均聚合度可使用例如，500以上者，但由滿足耐溼熱性或耐水性之觀點來看，平均聚合度以1000以上為佳，以1500以上較佳，以2000以上更佳。聚乙烯醇系樹脂之平均聚合度係依據JIS-K6726測量。

又，前述聚乙烯醇系樹脂可使用於前述聚乙烯醇或其共聚物之側鏈具有親水性官能基的改質聚乙烯醇系樹脂。前述親水性官能基可舉乙醯乙醯基、羰基等為例。其他，可使用將聚乙烯醇系樹脂經縮醛化、胺基甲酸酯化、醚化、接枝化、磷酸酯化等之改質聚乙烯醇。

透明樹脂層4或塗敷液(固體成分)中之聚乙烯醇系樹脂比例以80重量%以上為佳，以90重量%以上較佳，以95重量%以上更佳。

將前述塗敷液調整至使前述聚乙烯醇系樹脂溶解於溶劑中之溶液。溶劑可舉例如：水、二甲基亞碸、二甲基甲醯胺、二甲基乙醯、醯胺N-甲基吡咯啶酮、各種醇類、三羥甲基丙烷等多元醇類、乙二胺、二乙烯三胺等胺類。該等可單獨、或組合二種以上使用。該等中亦以作為使用水作為溶劑的水溶液使用為佳。並未特別限定前述形成材(例如，水溶液)之前述聚乙烯醇系樹脂的濃度，但考量到塗敷性或放置穩定性等，以0.1~15重量%為佳，以0.5~10重量%較佳。

再者，前述塗敷液(例如，水溶液)中可添加添加劑。前述添加劑可舉可塑劑、界面活性劑等為例。可塑劑可舉乙二醇或甘油等多元醇為例。界面活性劑可舉非離子界面活性劑為例。此外，亦可摻合於矽烷偶合劑、鈦偶合劑等偶合劑、各種黏著賦予劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、耐熱穩定劑、耐水解穩定劑等穩定劑等中。

接著，說明形成前述透明樹脂層4時，使用包含可構成透明樹脂層之硬化性成分的塗敷液的情形。硬化性成分可大致分成電子束硬化型、紫外線硬化型、可見光線硬化型等活性能量線硬化型與熱硬化型。此外，紫外線硬化型、可見光線硬化型可分成自由基聚合硬化型與陽離子聚合硬化型。本發明中，將波長範圍10nm~小於380nm之活性能量線標記為紫外線、波長範圍380nm~800nm之活性能量線標記為可見光線。前述自由基聚合硬化型之硬化性成分可作為熱硬化型之硬化性成分使用。

(自由基聚合硬化型形成材)

前述硬化性成分可舉自由基聚合性化合物為例。自由基聚合性化合物可舉具(甲基)丙烯醯基、乙烯基等碳-碳雙鍵之自由基聚合性官能基的化合物為例。該等硬化性成分可使用單官能自由基聚合性化合物或二官能以上之多官能自由基聚合性化合物的任一者。又，該等自由基聚合性化合物可單獨使用1種、或組合2種以上使用。該等自由基聚合性化合物以例如，具(甲基)丙烯醯基之化合物為佳。再者，本發明中，(甲基)丙烯醯基係丙烯醯基及/或甲基丙烯醯基之意，「(甲基)」於以下係相同之意。

(單官能自由基聚合性化合物)

單官能自由基聚合性化合物可舉具(甲基)丙烯醯胺基之(甲基)丙烯醯胺衍生物為例。(甲基)丙烯醯胺衍生物除了可確保與偏光件之密著性之外、聚合速度快、生產性優異故為佳。(甲基)丙烯醯胺衍生物之具體例，可舉例如：N-甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基(甲基)丙烯醯胺、N-異丙烯(甲基)丙烯醯胺、N-丁基(甲基)丙烯醯胺、N-己基(甲基)丙烯醯胺等含N-烷基之(甲基)丙烯醯胺衍生物；N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-羥基乙基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基-N-丙烷(甲基)丙烯醯胺等含N-羥基烷基之(甲基)丙烯醯胺衍生物；胺基甲基(甲基)丙烯醯胺、胺基乙基(甲基)丙烯醯胺等含N-胺基烷基之(甲基)丙烯醯胺衍生物；N-甲氧基甲基丙烯醯胺、N-乙氧基甲基丙烯醯胺等含N-烷氧基之(甲基)丙烯醯胺衍生物；巰基甲基(甲基)丙烯醯胺、巰基乙基(甲基)丙烯醯胺等含N-巰基烷基之(甲基)丙烯醯胺衍生物等。又，(甲基)丙烯醯胺基之氮原子形成有雜環之含雜環之(甲基)丙烯醯胺衍生物，可舉N-丙烯醯基

啉、N-丙烯醯基哌啶、N-甲基丙烯醯哌啶、N-丙烯醯基吡咯啶等為例。

前述(甲基)丙烯醯胺衍生物中，由與偏光件之密著性來看，以含N-羥基烷基之(甲基)丙烯醯胺衍生物為佳，特以N-羥基乙基(甲基)丙烯醯胺為佳。

又，單官能自由基聚合性化合物可舉具(甲基)丙烯醯基氧基之各種(甲基)丙烯酸衍生物為例。具體而言，可舉例如：甲基(甲基)丙烯酸酯、乙基(甲基)丙烯酸酯、正丙基(甲基)丙烯酸酯、異丙烯(甲基)丙烯酸酯、2-甲基-2-硝基丙基(甲基)丙烯酸酯、正丁基(甲基)丙烯酸酯、異丁基(甲基)丙烯酸酯、第二丁基(甲基)丙烯酸酯、第三丁基(甲基)丙烯酸酯、正戊基(甲基)丙烯酸酯、第三戊基(甲基)丙烯酸酯、3-戊基(甲基)丙烯酸酯、2,2-二甲基丁基(甲基)丙烯酸酯、正己基(甲基)丙烯酸酯、十六基(甲基)丙烯酸酯、正辛基(甲基)丙烯酸酯、2-乙基己基(甲基)丙烯酸酯、4-甲基-2-丙基戊基(甲基)丙烯酸酯、正十八基(甲基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸(碳數1~20)烷酯類。

又，前述(甲基)丙烯酸衍生物，可舉例如：環己基(甲基)丙烯酸酯、環戊基(甲基)丙烯酸酯等環烷基 (甲基)丙烯酸酯；芐基(甲基)丙烯酸酯等芳烷基(甲基)丙烯酸酯；2-異莰基(甲基)丙烯酸酯、2-降莰基甲基(甲基)丙烯酸酯、5-降冰片烯-2-基-甲基(甲基)丙烯酸酯、3-甲基-2-降莰基甲基(甲基)丙烯酸酯、二環戊烯基(甲基)丙烯酸酯、二環戊烯基乙氧基(甲基)丙烯酸酯、二環戊烷基(甲基)丙烯酸酯等多環式(甲基)丙烯酸酯；2-甲氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、2-乙氧乙基(甲基)丙烯酸酯、2-甲氧基甲氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、3-甲氧基丁基(甲基)丙烯酸酯、乙基卡必醇(甲基)丙烯酸酯、苯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、烷基苯氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯等含烷氧基或苯氧基之(甲基)丙烯酸酯等。

又，前述(甲基)丙烯酸衍生物，可舉例如：2-羥基乙基(甲基)丙烯酸酯、2-羥基丙基(甲基)丙烯酸酯、3-羥基丙基(甲基)丙烯酸酯、2-羥基丁基(甲基)丙烯酸酯、4-羥基丁基(甲基)丙烯酸酯、6-羥基己基(甲基)丙烯酸酯、8-羥基辛基(甲基)丙烯酸酯、10-羥基癸基(甲基)丙烯酸酯、12-羥基十二基(甲基)丙烯酸酯等羥基烷基(甲基)丙烯酸酯、或[4-(羥基甲基)環己基]甲基丙烯酸酯、環己烷二甲醇單(甲基)丙烯酸酯、2-羥基-3-苯氧基丙基(甲基)丙烯酸酯等含羥基之(甲基)丙烯酸酯；縮水甘油(甲基)丙烯酸酯、4-羥基丁基(甲基)丙烯酸酯縮水甘油醚等含環氧基之(甲基)丙烯酸酯；2,2,2-三氟乙基(甲基)丙烯酸酯、2,2,2-三氟乙基乙基 (甲基)丙烯酸酯、四氟丙基(甲基)丙烯酸酯、六氟丙基(甲基)丙烯酸酯、八氟戊基(甲基)丙烯酸酯、十七氟癸基(甲基)丙烯酸酯、3-氯-2-羥基丙基(甲基)丙烯酸酯等含鹵素之(甲基)丙烯酸酯；二甲基胺基乙基(甲基)丙烯酸酯等烷胺基烷基(甲基)丙烯酸酯；3-氧呾基甲基(甲基)丙烯酸酯、3-甲基-氧呾基甲基(甲基)丙烯酸酯、3-乙基-氧呾基甲基(甲基)丙烯酸酯、3-丁基-氧呾基甲基(甲基)丙烯酸酯、3-己基-氧呾基甲基(甲基)丙烯酸酯等含氧呾基之(甲基)丙烯酸酯；四氫糠基(甲基)丙烯酸酯、丁內酯(甲基)丙烯酸酯、等具雜環之(甲基)丙烯酸酯、或羥基三甲基乙酸新戊基醇(甲基)丙烯酸加成物、p-苯基酚(甲基)丙烯酸酯等。

又，單官能自由基聚合性化合物，可舉例如：(甲基)丙烯酸、羧基乙基丙烯酸酯、羧基戊基丙烯酸酯、伊康酸、順丁烯二酸、反丁烯二酸、巴豆酸、異巴豆酸等含羧基之單體。

又，單官能自由基聚合性化合物，可舉例如：N-乙烯吡咯啶酮、N-乙烯-ε-己內醯胺、甲基乙烯吡咯啶酮等內醯胺系乙烯單體；乙烯吡啶、乙烯哌啶酮、乙烯嘧啶、乙烯哌

、乙烯吡嗪、乙烯吡咯、乙烯咪唑、乙烯

唑、乙烯

啉等具含氮之雜環的乙烯系單體等。

又，單官能自由基聚合性化合物可使用具活性亞甲基之自由基聚合性化合物。具活性亞甲基之自由基聚合性化合物係末端或分子中具有(甲基)丙烯基等活性雙鍵基，且具活性亞甲基之化合物。活性亞甲基可舉乙醯乙醯基、烷氧基丙二醯基、或氰基乙醯基等為例。前述活性亞甲基以乙醯乙醯基為佳。具活性亞甲基之自由基聚合性化合物的具體例，可舉例如：2-乙醯乙醯氧乙基(甲基)丙烯酸酯、2-乙醯乙醯氧丙基(甲基)丙烯酸酯、2-乙醯乙醯氧-1-甲基乙基(甲基)丙烯酸酯等乙醯乙醯氧烷基(甲基)丙烯酸酯；2-乙氧丙二醯基乙氧基(甲基)丙烯酸酯、2-氰基乙醯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、N-(2-氰基乙醯氧基乙基)丙烯醯胺、N-(2-丙醯基乙醯氧基丁基)丙烯醯胺、N-(4-乙醯乙醯氧甲基芐基)丙烯醯胺、N-(2-乙醯乙醯胺基乙基)丙烯醯胺等。具活性亞甲基之自由基聚合性化合物以乙醯乙醯氧烷基(甲基)丙烯酸酯為佳。

(多官能自由基聚合性化合物)

又，二官能以上之多官能自由基聚合性化合物，可舉例如：三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,10-癸烷二醇二丙烯酸酯、2-乙基-2-丁基丙烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A乙烯氧化物加成物二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A環氧丙烷加成物二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A二縮水甘油醚二(甲基)丙烯酸酯、新戊基醇二(甲基)丙烯酸酯、三環癸烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、環狀三羥甲基丙烷正(甲基)丙烯酸酯、二

烷醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、EO改質二甘油四(甲基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸與多元醇之酯化物、9,9-雙[4-(2-(甲基)丙烯醯基氧基乙氧)苯基]茀。具體例可舉例如：ARONIX M-220、M-306(東亞合成(股)製)、LIGHT ACRYLATE 1,9ND-A(共榮社化學(股)製)、LIGHT ACRYLATE DGE-4A(共榮社化學(股)製)、LIGHT ACRYLATE DCP-A(共榮社化學(股)製)、SR-531(Sartomer社製)、CD-536(Sartomer社製)等。又，視需要可舉各種環氧(甲基)丙烯酸酯、胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、聚酯(甲基)丙烯酸酯、或各種(甲基)丙烯酸酯系單體等為例。

由兼具與偏光件之密著性及光學耐久性之觀點來看，自由基聚合性化合物以併用單官能自由基聚合性化合物與多官能自由基聚合性化合物為佳。通常，相對於自由基聚合性化合物100重量%，以單官能自由基聚合性化合物3~80重量%與多官能自由基聚合性化合物20~97重量%的比例併用為佳。

(自由基聚合硬化型形成材之態樣)

自由基聚合硬化型形成材可作為活性能量線硬化型或熱硬化型之形成材使用。使用電子束等作為活性能量線時，該活性能量線硬化型形成材雖未必需含有光聚合起始劑，但於使用紫外線或可見光線作為活性能量線時，以含有光聚合起始劑為佳。另一方面，使用前述硬化性成分作為熱硬化性成分使用時，該形成材以含有熱聚合起始劑為佳。

(光聚合起始劑)

可配合活性能量線適當地選擇使用自由基聚合性化合物時之光聚合起始劑。藉由紫外線或可見光線硬化時，使用紫外線或可見光線斷裂之光聚合起始劑。前述光聚合起始劑，可舉例如：芐基、二苯基酮、苯甲醯基苯甲酸、3,3’-二甲基-4-甲氧基二苯基酮等二苯基酮系化合物；4-(2-羥基乙氧)苯基(2-羥基-2-丙基)酮、α-羥基-α,α’-二甲基苯乙酮、2-甲基-2-羥基乙基苯基酮、α-羥基環己基苯基酮等芳香族酮化合物；甲氧基苯乙酮、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、2,2-二乙氧苯乙酮、2-甲基-1-[4-(甲硫基)-苯基]-2-

啉基丙烷-1等苯乙酮系化合物；苯偶姻甲醚、苯偶姻乙醚、苯偶姻異丙烯醚、苯偶姻丁醚、大茴香偶姻甲醚等苯偶姻醚系化合物；芐基二甲基縮酮等芳香族縮酮系化合物；2-萘磺醯基氯等芳香族磺醯基氯系化合物；1-酮-1,2-丙二酮-2-(O-乙氧羰基)肟等光活性肟系化合物；9-氧硫

、2-氯9-氧硫

、2-甲基9-氧硫

、2,4-二甲基9-氧硫

、異丙烯9-氧硫

、2,4-二氯9-氧硫

、2,4-二乙基9-氧硫

、2,4-

異丙烯9-氧硫

、十二基9-氧硫

等9-氧硫

系化合物；樟腦醌；鹵化酮；氧化醯基膦；醯基膦酸酯等。

相對於硬化性成分(自由基聚合性化合物)之全量100重量份，前述光聚合起始劑之摻合量係20重量份以下。光聚合起始劑之摻合量以0.01~20重量份為佳，以0.05~10重量份較佳，以0.1~5重量份更佳。

又，使用含有自由基聚合性化合物之可見光線硬化型作為硬化性成分時，特別以使用對380nm以上之光具高靈敏度的光聚合起始劑為佳。將後述對380nm以上之光具高靈敏度的光聚合起始劑。

以下述通式(1)所示之化合物作為前述光聚合起始劑；

(式中，R¹及R²表示-H、-CH₂CH₃、-iPr或Cl，R¹及R²可相同或相異)單獨使用、或併用通式(1)所示之化合物與後述之對380nm以上之光具高靈敏度的光聚合起始劑均佳。使用通式(1)所示之化合物之密著性，較單獨使用對380nm以上之光具高靈敏度的光聚合起始劑優異。通式(1)所示之化合物中，亦以R¹及R²為-CH₂CH₃之二乙基9-氧硫

特佳。相較於硬化性成分全量100重量份，該形成材(塗敷液)中通式(1)所示之化合物的組成比率以0.1~5重量份為佳，以0.5~4重量份較佳，以0.9~3重量份更佳。

又，以視需要添加聚合起始助劑為佳。聚合起始助劑，可舉例如：三乙胺、二乙胺、N-甲基二乙醇胺、乙醇胺、4-二甲基胺基苯甲酸、4-二甲基胺基苯甲酸甲酯、4-二甲基胺基苯甲酸乙酯、4-二甲基胺基苯甲酸異戊酯等，以4-二甲基胺基苯甲酸乙酯特佳。使用聚合起始助劑時，相對於硬化性成分之全量100重量份，其添加量通常係0~5重量份，以0~4重量份為佳，最佳者是0~3重量份。

又，視需要可併用眾所皆知的光聚合起始劑。具UV吸收能之保護薄膜因不會穿透380nm以下的光，故光聚合起始劑以使用對380nm以上之光具高靈敏度的光聚合起始劑為佳。具體而言，可舉例如：2-甲基-1-(4-甲基苯硫基)-2-

啉基丙烷-1-酮、2-芐基-2-二甲基胺基-1-(4-

啉基苯基)-丁酮-1、2-(二甲胺基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-

啉基)苯基]-1-丁酮、2,4,6-三甲基苯甲醯基-二苯基-膦氧化物、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-苯基膦氧化物、雙(η5-2,4-環戊二烯-1-基)-雙(2,6-二氟-3-(1H-吡咯-1-基)-苯基)鈦等。

特別是，光聚合起始劑除了通式(1)之光聚合起始劑以外，更以使用下述通式(2)所示之化合物為佳；

(式中，R³、R⁴及R⁵表示-H、-CH₃、-CH₂CH₃、-iPr 或Cl，R³、R⁴及R⁵可相同或相異)。通式(2)所示之化合物可使用市售之2-甲基-1-(4-甲基苯硫基)-2-

啉基丙烷-1-酮(商品名：IRGACURE907，BASF社製)。其他，2-芐基-2-二甲基胺基-1-(4-

啉基苯基)-丁酮-1(商品名：IRGACURE369，BASF社製)、2-(二甲基胺基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-

啉基)苯基]-1-丁酮(商品名：IRGACURE379，BASF社製)因靈敏度高故為佳。

(熱聚合起始劑)

熱聚合起始劑以不會因熱分裂開始聚合者為佳。例如，熱聚合起始劑之10小時半衰期溫度為65℃以上，更以75~90℃者為佳。再者，半衰期係表示聚合起始劑分解速度的指標，指至聚合起始劑之殘留量為一半的時間。任何時間內可得到之半衰期的分解溫度、或任何溫度內之半衰期時間均紀錄於製造者目錄等中，例如，紀錄於日本油脂(股)之「有機過氧化物目錄第9版(2003年5月)」等。

熱聚合起始劑，可舉例如：過氧化月桂醯(10小時半衰期溫度：64℃)、過氧苯甲醯(10小時半衰期溫度：73℃)、1,1-雙(第三丁基過氧)-3,3,5-三甲基環已烷(10小時半衰期溫度：90℃)、二(2-乙基己基)過氧二碳酸酯(10小時半衰期溫度：49℃)、二(4-第三丁基環己基)過氧二碳酸酯、二-第二丁基過氧二碳酸酯(10小時半衰期溫度：51℃)、過氧新癸酸第三丁酯(10小時半衰期溫度：48℃)、過氧三甲基乙酸第三己酯、過氧三甲基乙酸第三丁酯、過氧二月桂醯(10小時半衰期溫度：64℃)、過氧化二正辛醯、1,1,3,3-四甲基丁基過氧-2-乙基己酸酯(10小時半衰期溫度：66℃)、二(4-甲基苯甲醯基)過氧化物、過氧二苯甲醯(10小時半衰期溫度：73℃)、過氧異丁酸第三丁酯(10小時半衰期溫度：81℃)、1,1-二(第三己基過氧)環己烷等有機系過氧化物。

又，熱聚合起始劑，可舉例如：2,2’-偶氮雙異丁腈(10小時半衰期溫度：67℃)、2,2’-偶氮雙(2-甲基丁腈)(10小時半衰期溫度：67℃)、1,1-偶氮雙-環已烷-1-碳腈(10小時半衰期溫度：87℃)等偶氮系化合物。

相對於硬化性成分(自由基聚合性化合物)之全量100重量份，熱聚合起始劑之摻合量係0.01~20重量份。熱聚合起始劑之摻合量以0.05~10重量份較佳，更以0.1~3重量份為佳。

(陽離子聚合硬化型形成材)

陽離子聚合硬化型形成材之硬化性成分可舉具環氧基或氧呾基之化合物為例。具環氧基之化合物只要為分子內具有至少2個環氧基者即可，並未特別限定，可使用眾所周知的各種硬化性環氧化合物。較佳之環氧化合物可舉例如：分子內具有至少2個環氧基與至少1個芳香環之化合物(芳香族系環氧化合物)、或分子內具有至少2個環氧基，且其中之至少1個形成於構成脂環式環之相鄰的2個碳原子之間的化合物(脂環式環氧化合物)等。

(光陽離子聚合起始劑)

陽離子聚合硬化型形成材之硬化性成分含有以上說明之環氧化合物及氧呾化合物，且該等均藉由陽離子聚合硬化，故摻合有光陽離子聚合起始劑。該光陽離子聚合起始劑可藉由照射可見光線、紫外線、X線、電子束等活性能量線，產生陽離子物種或路易士酸，開始環氧基或氧呾基之聚合反應。

1-2.固化或硬化步驟

本發明之製造方法包含一將所得之塗布膜固化或硬化的步驟。藉由將塗布膜固化或硬化，可形成透明樹脂層4。

前述塗敷液為包含樹脂成分之塗敷液時，於形成前述透明樹脂層4時，塗布前述塗敷液後應視該樹脂成分之種類使其固化。包含前述樹脂成分之塗敷液係將前述樹脂成分溶解於溶劑中之溶液或使其分散之分散液，作為例如，水系之溶液、水分散系之分散液、或溶劑系之溶液使用。前述固化係指藉由自前述塗敷液中去除溶劑而形成透明樹脂層4。例如，前述樹脂成分為聚乙烯醇系樹脂時，前述塗敷液可作為水溶液使用，可藉由加熱(乾燥)等施行固化。又，前述樹脂成分為水溶性丙烯酸時亦可同樣地施行固化。

並未特別限定乾燥溫度，通常係60~200℃左右，但本發明中，由抑制捲曲之觀點來看，以120℃以下為佳，以100℃以下較佳。乾燥時間以180秒以內為佳，以120秒以內較佳，以60秒以內更佳。

另一方面，形成前述透明樹脂層4時，於塗布包含可構成透明樹脂層之硬化性成分的塗敷液後，視該硬化性成分之種類，施行該硬化性成分可形成透明樹脂層之硬化。包含可構成前述樹脂之硬化性成分的塗敷液只要可使前述硬化性成分成為塗敷液的話，可使用無溶劑系。又，前述塗敷液可使用於溶劑中溶解有前述硬化性成分之溶液。再者，前述硬化性成分成為塗敷液時亦可作為溶液使用。可視使用之硬化性成分適當地選擇前述溶劑。例如，使用形成丙烯酸系樹脂之丙烯酸系單體作為前述硬化性成分時、使用形成環氧樹脂之環氧系單體時，可於包含前述硬化性成分之塗敷液施行活性能量線照射(紫外線照射)等的硬化。

利用前述硬化型形成材(塗敷液)形成透明樹脂層4係於偏光件之面塗敷硬化型形成材，之後，藉由硬化進行。

偏光件1於塗敷前述硬化型形成材前亦可進行表面改質處理。具體之處理可舉利用電暈處理、電漿處理、皂化處理之處理等為例。

前述硬化型形成材可作為活性能量線硬化型形成材或熱硬化型形成材使用。活性能量線硬化型形成材可以電子束硬化型、紫外線硬化型、可見光線硬化型之態樣使用。由生產性之觀點來看，前述硬化型形成材之態樣相較於熱硬化型形成材，以活性能量線硬化型形成材為佳，尤其由生產性之觀點來看，活性能量線硬化型形成材以可見光線硬化型形成材為佳。

(活性能量線硬化型)

活性能量線硬化型形成材方面，於偏光件塗敷活性能量線硬化型形成材後，照射活性能量線(電子束、紫外線、可見光線等)硬化活性能量線硬化型形成材後形成透明樹脂層4。活性能量線(電子束、紫外線、可見光線等)之照射方向可由任何適當之方向照射。以自透明樹脂層4側照射為佳。

(電子束硬化型)

電子束硬化型方面，只要為可使前述活性能量線硬化型形成材硬化之條件的話，電子束之照射條件可使用任何適當之條件。例如，電子束照射以加速電壓為5kV~300kV為佳，更佳者係10kV~250kV。加速電壓小於5kV時，電子束未能到達透明樹脂層4之最深部，而有硬化不足的疑慮，加速電壓大於300kV時，通過試樣之滲透力過強，有對保護薄膜2或偏光件1造成損害的疑慮。照射線量係5~100kGy，更佳者係10~75kGy。照射線量小於5kGy時，透明樹脂層4將硬化不足，大於100kGy時，將對保護薄膜或偏光件造成損害，機械強度下降或產生黃變，未能得到預定之光學特性。

電子束照射通常於惰性氣體中進行照射，但視需要亦可以於大氣中或導入有少量氧之條件下進行。

(紫外線硬化型、可見光線硬化型)

本發明之製造方法中，活性能量線係包含波長範圍380nm~450nm之可見光線者，特別以使用波長範圍 380nm~450nm之可見光線的照射量最多的活性能量線為佳。本發明之活性能量線以含鎵之金屬鹵素燈、發波長範圍380~440nm光之LED光源為佳。或者，可使用低壓水銀燈、中壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、白熾燈、氰燈、鹵素燈、碳弧燈、金屬鹵素燈、螢光燈、鎢燈、鎵燈、準分子雷射或太陽光等包含紫外線與可見光線之光源，亦可使用使用帶通濾光片截斷較380nm短波長之紫外線。

(熱硬化型)

另一方面，熱硬化型形成材方面，藉由加熱開始利用熱聚合起始劑之聚合，形成硬化物層。視熱聚合起始劑將加熱溫度設為60~200℃左右，以80~150℃為佳。

2.附黏著劑層之偏光薄膜之製造方法

本發明之附黏著劑層之偏光薄膜之製造方法，特徵在於，包含於利用前述製造方法所得之附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜的透明樹脂層4上形成黏著劑層的步驟。

(1)黏著劑層

黏著劑層之形成中可使用適當之黏著劑，並未特別限制其種類。黏著劑可舉例如：橡膠系黏著劑、丙烯酸系黏著劑、矽酮系黏著劑、胺基甲酸酯系黏著劑、乙烯烷基醚系黏著劑、聚乙烯醇系黏著劑、聚乙烯吡咯啶酮系黏著劑、聚丙烯醯胺系黏著劑、纖維素系黏著劑等。

該等黏著劑中以使用光學透明性優異、顯示適當之濕潤性、凝集性及接著性之黏著特性，且耐候性或耐熱性等優異者為佳。顯示如此特徵者以使用丙烯酸系黏著劑為佳。

形成黏著劑層之方法，例如，藉由經剝離處理之隔離物等塗布前述黏著劑，乾燥去除聚合溶劑等形成黏著劑層後，於透明樹脂層4上轉印之方法或於透明樹脂層4塗布前述黏著劑，乾燥去除聚合溶劑等後於透明樹脂層4上形成黏著劑層之方法等製作。再者，塗布黏著劑時亦可適當地另外添加聚合溶劑以外之一種以上的溶劑。

經剝離處理之隔離物以使用矽酮釋離襯墊為佳。於如此之襯墊上塗布、乾燥黏著劑形成黏著劑層之步驟中，使黏著劑乾燥之方法可視目的使用適當、適切之方法。以使用加熱乾燥前述塗布膜之方法為佳。加熱乾燥溫度以40℃~200℃為佳，以50℃~180℃較佳，以70℃~170℃更佳。藉將加熱溫度設於前述範圍內，可得具優異黏著特性之黏著劑。

乾燥時間可使用適當、適切之時間。前述乾燥時間以5秒~20分鐘為佳，以5秒~10分鐘較佳，以10秒~5分鐘更佳。

黏著劑層之形成方法可使用各種方法。具體而言，可舉例如：輥塗布、接觸上膠輥塗布、凹版塗布、反輥塗布、輥刷、噴塗、傾輥塗布、桿塗布、刮刀塗布、空氣刀塗布、簾塗布、端緣塗布、利用模具塗布器等之擠壓塗布法等方法。

並未特別限制黏著劑層之厚度，例如， 1~100μm左右，以2~50μm為佳，以2~40μm較佳，以5~35μm更佳。

前述黏著劑層露出時，直到實際使用之前亦可以經剝離處理之片材(隔離物)保護黏著劑層。

隔離物之構成材料，可舉例如：聚乙烯、聚丙烯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚酯薄膜等塑膠薄膜、紙、布、不織布等多孔質材料、網材、發泡片材、金屬箔、及該等之積層體等適當之薄片體等，但由表面平滑性優異之點來看，以使用塑膠薄膜為佳。

該塑膠薄膜只要為可保護前述黏著劑層之薄膜即可，並未特別限定，可舉例如，聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜、聚丁烯薄膜、聚丁二烯薄膜、聚甲基戊稀薄膜、聚氯乙烯薄膜、氯化乙烯共聚物薄膜、聚對苯二甲酸乙二酯薄膜、聚對苯二甲酸丁二酯薄膜、聚胺基甲酸酯薄膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物薄膜等。

前述隔離物之厚度通常係5~200μm左右，以5~100μm左右為佳。視需要，亦可於前述隔離物進行利用矽酮系、氟系、長鎖烷基系或脂肪酸醯胺系之脫模劑、二氧化矽粉等之脫模及防汙處理、或進行塗布型、揉合型、蒸鍍型等之抗靜電處理。特別是，藉於前述隔離物之表面適當地進行矽酮處理、長鏈烷基處理、氟處理等剝離處理，可更提高自前述黏著劑層之剝離性。

(2)表面保護薄膜

本發明之偏光薄膜(包含單面保護偏光薄膜、附黏著劑層之偏光薄膜)中可設置表面保護薄膜。表面保護薄膜通常具有基材薄膜及黏著劑層，透過該黏著劑層保護偏光薄膜。

由檢查性或管理性等之觀點來看，表面保護薄膜之基材薄膜可選擇具等向性或等向性相近之薄膜材料。該薄膜材料可舉例如：聚對苯二甲酸乙二酯薄膜等聚酯系樹脂、纖維素系樹脂、乙酸酯系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚烯烴系樹脂、丙烯酸系樹脂等透明之聚合物。該等中亦以聚酯系樹脂為佳。基材薄膜亦可使用將1種或2種以上之薄膜材料作為積層體者，又，亦可使用前述薄膜之延伸物。基材薄膜之厚度一般係500μm以下，以10~200μm為佳。

形成表面保護薄膜之黏著劑層的黏著劑，可適當地選擇將(甲基)丙烯酸系聚合物、矽酮系聚合物、聚酯、聚胺基甲酸酯、聚醯胺、聚醚、氟系或橡膠系等聚合物作為基質聚合物之黏著劑後使用。由透明性、耐候性、耐熱性等觀點來看，以將丙烯酸系聚合物作為基質聚合物之丙烯酸系黏著劑為佳。視所需之黏著力決定黏著劑層之厚度(乾燥膜厚)。通常係1~100μm左右，以5~50μm為佳。

再者，表面保護薄膜中於設有基材薄膜之黏著劑層面的相反面，藉由矽酮處理、長鏈烷基處理、氟處理等低接著性材料可設置剝離處理層。

3.光學積層體之製造方法

本發明之光學積層體之製造方法的特徵在於包含下述步驟：不將由前述製造方法所得的附黏著劑層之偏光薄膜進行捲取而是透過前述黏著劑層貼合於光學構件。

藉由本發明之製造方法所得的附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜、或使用有該附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜的附黏著劑層之偏光薄膜因可抑制捲曲，故不需將該薄膜捲取於輥件等，而可直接於下個步驟中使用，亦即透過黏著劑層貼合於光學構件，可製造光學積層體。藉由以往之製造方法(附透明樹脂層之)製造單面保護偏光薄膜時，有於薄膜端部產生捲曲的情形，捲曲產生時，因於搬運至下個步驟時將因產生於薄膜端部之摺痕或皺褶導致薄膜斷裂，故不易直接於下個步驟中使用。

並未特別限定前述光學構件，但例如，可使用1層或2層以上使用於形成液晶顯示裝置等之反射板或半穿透板、相位差板(包含1/2或1/4等之波長板)、視角補償薄膜等。以以下之光學積層體為佳，特別是於藉由本發明之製造方法所得之附黏著劑層之偏光薄膜，更積層反射板或半透過反射板而成之反射型偏光薄膜或半透過型偏光薄膜、於藉由本發明之製造方法所得之附黏著劑層之偏光薄膜，更積層相位差板而成之橢圓偏光薄膜或圓偏光薄膜、於藉由本發明之製造方法所得之附黏著劑層之偏光薄膜，更積層視角補償薄膜而成之廣視角偏光薄膜、或於藉由本發明之製造方法所得之附黏著劑層之偏光薄膜，更積層積層亮度提升薄膜而成之偏光薄膜。

於本發明之附黏著劑層之偏光薄膜積層有前述光學構件之光學積層體，亦可以於液晶顯示裝置等製造過程中依序個別地積層之方式形成，但預先積層後作為光學積層體者有品質之穩定性或組裝作業等優異，可提升液晶顯示裝置等製造步驟的優點。積層2層以上之光學構件時，可使用黏著劑層等適當之接著方式。於接著前述附黏著劑層之偏光薄膜時，可對應目的之相位差特性等將該等光學軸設置於適當之配置角度。

藉由本發明之製造方法所得之附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜、附黏著劑層之偏光薄膜、或光學積層體可較佳地使用於液晶顯示裝置等各種裝置之形成等。可依照習知方式形成液晶顯示裝置。換言之，液晶顯示裝置一般藉由以下形成，適當地組裝液晶單元與附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜或光學薄膜、及視需要之照明系統等構成部件後裝入驅動電路等，但本發明中，除了使用由本發明之製造方法所得之附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜、附黏著劑層之偏光薄膜、或光學積層體以外，並未特別限定其他，可依照習知形成。液晶單元可使用例如，IPS型、VA型等任何型態者，但特別以IPS型為佳。

可形成於液晶單元之單側或兩端側設置有藉由本發明之製造方法所得之附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜、附黏著劑層之偏光薄膜、或光學積層體的液晶顯示裝置，或可形成於照明系統使用有背光源或反射板者等適當之液晶顯示裝置。此時，藉由本發明之製造方法所得之附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜、附黏著劑層之偏光薄膜、或光學積層體可設置於液晶單元之單側或兩端側。於兩側設置藉由本發明之製造方法所得之附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜、附黏著劑層之偏光薄膜、或光學積層體時，該等可相同或相異。此外，於形成液晶顯示裝置時，可於適當之位置配置1層或2層以上之例如，擴散板、防眩光層、反射防止膜、保護板、稜鏡陣列、透鏡陣列片、光擴散板、背光源等適當之部件。

[實施例]

以下，舉實施例說明本發明，但本發明並未受以下顯示之實施例所限制。再者，各例中之份及%均係重量基準。以下未特別規定之室溫放置條件均係23℃、65%R.H.。

製造例1(偏光件之製作)

於25℃下於吸水率0.75%、玻璃轉移溫度(Tg)75℃之非晶質的間苯二甲酸共聚合聚對苯二甲酸乙二酯(IPA共聚合PET)薄膜(厚度：100μm)基材之單面施行電暈處理，於該電暈處理面，塗布及乾燥以9：1之比例包含聚乙烯醇(聚合度：4200，皂化度：99.2莫耳%)及乙醯乙醯改質PVA(商品名：GOHSEFIMER Z200，聚合度：1200，乙醯乙醯改質度：4.6%，皂化度：99.0莫耳%以上，日本合成化學工業(股)製)的水溶液後，形成厚度11μm之PVA系樹脂層，製作積層體。

將所得之積層體於120℃之烘箱內之圓周速度相異之輥件間縱向(長度方向)地自由端單軸延伸至2.0倍(空中輔助延伸處理)。

接著，將積層體浸漬於液溫30℃之不溶化浴(相對於水100重量份摻合硼酸4重量份後所得之硼酸水溶液)30秒鐘(不溶化處理)。

接著，一面調整碘濃度、浸漬時間一面浸漬於液溫30℃之染色浴中，至偏光板成為預定之穿透率。本實施例中，於相對於水100重量份摻合碘0.2重量份、摻合碘化鉀1.0重量份後所得之碘水溶液中浸漬60秒鐘(染色處理)。

接著，於液溫30℃之交聯浴(相對於水100重量份摻合碘化鉀3重量份、摻合硼酸3重量份後所得之硼酸水溶液)中浸漬30秒鐘(交聯處理)。

之後，一面將積層體浸漬於液溫70℃之硼酸水溶液(相對於水100重量份摻合硼酸4重量份、摻合碘化鉀5重量份後所得之水溶液)，一面於圓周速度相異之輥件間進行單軸延伸(水中延伸處理)，使縱向(長度方向)之總延伸倍率為5.5倍。

之後，將積層體浸漬於液溫30℃之洗淨浴(相對於水100重量份摻合碘化鉀4重量份後所得之水溶液)(洗淨處理)。

藉由以上，得到包含厚度5μm之偏光件的光學薄膜積層體。

製造例2(單面保護偏光薄膜之製作)

使用於具厚度40μm之內酯環構造的(甲基)丙烯酸樹脂薄膜之易接著處理面施行有電暈處理者作為保護薄膜。

混合N-羥基乙基丙烯醯胺(HEAA)40重量份、丙烯醯基

啉(ACMO)60重量份及光起始劑(商品名：IRGACURE 819，BASF社製)3重量份，調製紫外線硬化型接著劑。使用其作為保護薄膜用接著劑。

於製造例1所得之光學薄膜積層體偏光件的表面，一面塗布前述紫外線硬化型接著劑，使硬化後接著劑層之厚度為1μm，一面貼合前述保護薄膜後，照射紫外線作為活性能量線，使接著劑硬化。紫外線照射使用含鎵之金屬鹵素燈(照射裝置：Fusion UV Systems,Inc社製之Light HAMMER10，閥：V閥，峰值照度：1600mW/cm²，積算照射量：1000/mJ/cm²(波長380~440nm))，使用Solatell社製之Sola-Check系統測量紫外線之照度。接著，剝離非晶性PET基材，製作使用有薄型偏光件之單面保護偏光薄膜(總厚度46μm)。

所得之單面保護偏光薄膜的光學特性係單體穿透率42.8%、偏光度99.99%。

<單體穿透率T及偏光度P>

使用附積分球之分光穿透率測量器((股)村上色彩技術研究所之Dot-3c)測量所得之單面保護偏光薄膜的單體穿透率T及偏光度P。

再者，可利用疊合2片相同之偏光薄膜使兩者的透射軸平行時的穿透率(平行穿透率：Tp)、及疊合成兩者之透射軸正交時的穿透率(正交穿透率：Tc)，使用以下之式求得偏光度P。

偏光度P(%)={(Tp-Tc)/(Tp+Tc)}^1/2×100

各穿透率係以通過格蘭-泰勒稜鏡偏光件所得之完全偏光為100%，利用JIS Z8701之2度視野(C光源)經視靈敏度補正Y值顯示者。

製造例3(形成透明樹脂層之塗敷液的製造)

於純水溶解聚合度2500、皂化度99.7莫耳%之聚乙烯醇樹脂，調製固體成分濃度4重量%、黏度60mPa．s(25℃)之水溶液(塗敷液)。

<黏度測量>

使用VISCOMETER R85型黏度計RE85L(東機產業(股)製)以下述條件測量塗敷液之黏度。

測量溫度：25℃

旋轉數：0.5~100rpm

錐狀轉子：1°34’×R24

實施例1(附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜之製作)

於製造例2所得之單面保護偏光薄膜之偏光件面(未設置保護薄膜之偏光件面)使用凹版輥件塗布製造例3所得之塗敷液(透明樹脂層之形成材)，使厚度為25μm。於單面保護偏光薄膜之寬度方向上全面地進行塗布。塗布後使用浮動式式烘箱，以95℃熱風乾燥30秒鐘，形成厚度1μm之透明樹脂層，製作附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜。

實施例2、比較例1

實施例1中，除了於單面保護偏光薄膜寬度方向之兩端分別朝內側設有表1記載之未塗布部分以外，與實施例1同樣地製作附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜。

使用實施例、比較例中所得之附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜，進行以下評價。於表1顯示評價結果。

<捲曲之產生>

測量所得之附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜於透明樹脂層朝上之狀態以23℃、55%R.H.之條件下捲取後的偏光板薄膜之捲曲量。包含塗敷端部處地相對於吸收軸45度，切下一片150mm之菱形試樣後，於水平桌上安置試樣使透明樹脂層側朝上，進行捲曲測量。以量尺測量經安置之試樣的塗敷端部處之捲曲，並藉由以下之評價基準評價。

A：10mm以下

B：大於10mm、30mm以下

C：大於30mm

實施例之附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜均抑制捲曲產生。另一方面，比較例1之附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜中產生保護薄膜側呈凸狀、透明樹脂層側呈凹狀的捲曲。

1‧‧‧偏光件

2‧‧‧保護薄膜

3‧‧‧單面保護偏光薄膜

4‧‧‧透明樹脂層

5‧‧‧未塗布部分

10‧‧‧附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜

A‧‧‧偏光薄膜之寬度方向

Claims

一種附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜之製造方法，特徵在於：前述附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜具有僅於偏光件之單面具有保護薄膜的單面保護偏光薄膜、及設於前述單面保護偏光薄膜之偏光件另一面的透明樹脂層；前述偏光件包含聚乙烯醇系樹脂且厚度為10μm以下；前述透明樹脂層係藉由下述步驟形成：於前述偏光件塗布包含聚乙烯醇系樹脂之塗敷液(惟，排除含有水溶性有機鈦化合物、水溶性有機鋯化合物、或該2種化合物之塗敷液)之步驟；及將所得塗布膜固化之步驟；前述塗敷液之塗布步驟係於自前述偏光件寬度方向之兩端分別朝內側小於20mm之區域中具有未塗布前述塗敷液之未塗布部分，或於前述偏光件寬度方向全體塗布塗敷液。
如請求項1之附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜之製造方法，其中前述塗敷液之塗布係藉由將塗敷液塗布於前述偏光件之寬度方向全體來進行。
如請求項1之附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜之製造方法，其中前述偏光件之寬度為1100~2000mm。
如請求項1之附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜之製造方法，其中前述透明樹脂層係藉由將前述塗布膜固化而形成，且該固化係藉由乾燥來進行。
如請求項4之附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜之製造方法，其中前述乾燥溫度為120℃以下。
如請求項4之附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜之製造方法，其中前述乾燥時間為180秒以內。
一種附黏著劑層之偏光薄膜之製造方法，特徵在於包含下述步驟：於藉由如請求項1至6中任一項之製造方法所得之附透明樹脂層之單面保護偏光薄膜的透明樹脂層上形成黏著劑層。
一種光學積層體之製造方法，特徵在於包含下述步驟：將藉由如請求項7之製造方法所得之附黏著劑層之偏光薄膜不進行捲取便透過前述黏著劑層貼合於光學構件。