CN102792195A - 偏光板、偏光板的评价方法以及偏光板的制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明的目的是抑制偏光板整面出现斑点，本发明的偏光板是在聚乙烯醇系树脂构成的偏光膜的一侧的面上通过水系粘合剂贴合有保护膜的偏光板，偏光板的含水率A（%）以及23℃、湿度50%环境下的偏光板的平衡含水率B（%）满足下式（1）。｜偏光板的含水率A（%）－偏光板的平衡含水率B（%）｜＜0.2 （1）。

Description

偏光板、偏光板的评价方法以及偏光板的制造方法

技术领域

本发明关于在聚乙烯醇系树脂构成的偏光膜的一侧通过粘合剂层层积有保护膜的偏光板、偏光板的评价方法以及偏光板的制造方法。

背景技术

偏光板被广泛用作液晶显示装置中的偏光供应元件或偏光检测元件。作为此种偏光板，以往使用的是在聚乙烯醇构成的偏光膜上粘合有三醋酸纤维素构成的保护膜所得之物。对于偏光板，随着近年来液晶显示装置进入笔记本电脑和手机等移动机器、甚至大型电视机等，要求其更薄更轻。此外，随着便携化而使用地点更广，因此同时也要求提升耐久性。

例如专利文献1中为实现轻薄化，提出了保护膜仅层积在偏光膜的一侧的面上的偏光板。此外，专利文献中2中提出了保护膜仅层积在偏光膜的一侧的面上的偏光板的制造方法。

【专利文献1】日本国公开专利公报“特开平10-186133号公报（1998年7月14日公开）”

【专利文献2】日本国公开专利公报“特开2007-193333号公报（2007年8月2日公开）”

发明内容

但是，如专利文献1以及专利文献2所述，制造保护膜仅层积在偏光膜的一侧的偏光板的话，存在偏光板上出现条纹状斑点的问题。该斑点形成于整面偏光板，目视可见，令荧光灯在偏光板表面反射时荧光灯像明显歪斜。图1显示的是在出现有斑点的偏光板表面反射荧光灯时的像的图像。如图1所示可知，荧光灯像明显歪斜。

本发明鉴于上述问题，主要目的是实现抑制了此种斑点发生的偏光板、偏光板的评价方法以及偏光板的制造方法。

本发明者们鉴于上述问题进行了锐意研究后发现，偏光板的含水率与偏光板整面出现的斑点有关。然后，着眼于偏光板的含水率与斑点的关系后发现，偏光板的含水率满足特定条件的话，可以抑制偏光板整面出现斑点，从而完成了本发明。

即，本发明的偏光板，为解决上述问题，是在聚乙烯醇系树脂构成的偏光膜的一侧的面上通过水系粘合剂贴合有保护膜的偏光板，偏光板的含水率A（%）以及23℃、湿度50%环境下的偏光板的平衡含水率B（%）满足下式（1）。

｜偏光板的含水率A（%）－偏光板的平衡含水率B（%）｜＜0.2    （1）

此外，本发明的偏光板的制造方法，为解决上述问题，包含在聚乙烯醇系树脂构成的偏光膜的一侧的面上通过水系粘合剂构成的粘合剂层贴合保护膜的贴合工序和令偏光膜与保护膜的贴合物干燥的干燥工序，经过了干燥工序的偏光板的含水率A（%）相对于23℃、湿度50%环境下的平衡含水率B（%），满足下式（1）。

｜偏光板的含水率A（%）－偏光板的平衡含水率B（%）｜＜0.2    （1）

本发明的偏光板的评价方法，为解决上述问题，是在聚乙烯醇系树脂构成的偏光膜的一侧的面上通过水系粘合剂贴合有保护膜的偏光板的评价方法，

根据偏光板的含水率A（%）以及23℃、湿度50%环境下的偏光板的平衡含水率B（%）是否满足下式（1）来评价偏光板的品质。

｜偏光板的含水率A（%）－偏光板的平衡含水率B（%）｜＜0.2    （1）

根据本发明，由于偏光板的含水率A以及偏光板的平衡含水率B满足上述式（1），因此可以抑制偏光板整面出现斑点。

本发明的其他目的、特征以及优点应该可以根据以下所示记载充分理解。此外，本发明的优点可根据参照了附图的以下说明而明确。

附图说明

【图1】显示在出现有斑点的偏光板表面反射荧光灯时的像的图像。

具体实施方式

本发明的偏光板的制造方法基本包含：在聚乙烯醇系树脂构成的偏光膜的一侧的面上通过水系粘合剂构成的粘合剂层贴合保护膜的贴合工序和令偏光膜与保护膜的贴合物干燥的干燥工序，经过了干燥工序的偏光板的含水率A（%）相对于23℃、湿度50%环境下的平衡含水率B（%），满足下式（1）。

｜偏光板的含水率A（%）-偏光板的平衡含水率B（%）｜＜0.2    （1）

通过偏光板的含水率A满足上述式（1），可以抑制偏光板整面出现斑点。以下详细说明本发明的实施形态。但是，本发明不限定于此，可在所述范围内进行各种变形。此外，本说明书中记载的所有学术文献以及专利文献均援引为本说明书中的参考。此外，本说明书中如无特别说明，显示数值范围的“A~B”表示“A以上、B以下”。

（偏光膜）

偏光膜指的是，具体是在聚乙烯醇系树脂膜上进行了基于单轴拉伸以及二色性色素的染色处理、令该二色性色素吸附定向的膜。构成偏光膜的聚乙烯醇系树脂通常由聚醋酸乙烯酯系树脂皂化而得到。聚乙烯醇系树脂的皂化度通常在85摩尔%以上，优选90摩尔%以上，更优选99~100摩尔%。作为聚醋酸乙烯酯系树脂，除了作为醋酸乙烯酯的均聚物的聚醋酸乙烯酯外，还可举出醋酸乙烯酯与可与其共聚的其他单体的共聚物，例如乙烯-醋酸乙烯酯共聚物等。此外，作为可与醋酸乙烯酯共聚的其他单体，可举出例如不饱和羧酸类、烯烃类、乙烯基醚类、不饱和磺酸类等。聚乙烯醇系树脂的聚合度通常在1000~10000范围内，优选1500~5000范围内。

这些聚乙烯醇系树脂也可是经过改性的，例如也可使用经过甲醛类改性的聚乙烯醇缩甲醛、聚乙烯醇缩乙醛、聚乙烯醇缩丁醛等。通常，作为偏光膜制造的初始材料，使用的是厚20~100μm、优选30~80μm的聚乙烯醇系树脂膜的未拉伸膜。工业上，膜宽1500~4000mm较为实用。偏光膜是通过对该未拉伸膜按顺序进行溶胀处理、染色处理、硼酸处理、水洗处理，截止至硼酸处理的工序中进行单轴拉伸，最后干燥而得到。最后得到的偏光膜的厚度例如为5~50μm。

作为偏光膜的制作方法，大致可分为2种制造方法。第1种方法是将聚乙烯醇系树脂膜在空气或惰性气体中单轴拉伸后，按溶胀处理工序、染色处理工序、硼酸处理工序以及水洗处理工序的顺序进行溶液处理，最后进行干燥的方法。第2种方法是将未拉伸的聚乙烯醇系树脂膜在水溶液中按溶胀处理工序、染色处理工序、硼酸处理工序以及水洗处理工序的顺序进行溶液处理，硼酸处理工序以及/或之前的工序为湿式单轴拉伸，最后进行干燥的方法。

任意方法中，单轴拉伸可在1个工序中进行，也可在2个以上的工序中进行，优选在多个工序中进行。拉伸方法可采取公知的方法，例如在运送膜的2个夹辊间设置圆周速度差进行拉伸的辊间拉伸，例如日本国专利登载公报“专利第2731813号”记载的热辊拉伸法、拉幅机拉伸法等。此外，基本的工序顺序如上所述，但处理浴的次数和处理条件等并无制约。此外，也可基于其他目的而附加上述第1以及第2种方法中并未记载的工序。作为这种工序的例子，可举出有，在硼酸处理后通过不含硼酸的碘化物水溶液进行浸渍处理（碘化物处理）或通过含有不含硼酸的氯化锌等的水溶液进行浸渍处理（锌处理）等。

溶胀处理工序的目的是除去膜表面的异物、除去膜中的增塑剂、为后续工序赋予易染色性、膜的增塑等。处理条件基于可达成这些目的的范围、且不会出现基材膜的极度溶解、失透等问题的范围而决定。令预先在气体中拉伸的膜溶胀的情况下，例如在20~70℃、优选在30~60℃的水溶液中浸渍膜。膜的浸渍时间为30~300秒，优选60~240秒。此外，令初始未拉伸的原始膜溶胀的情况下，例如在10~50℃、优选在20~40℃的水溶液中浸渍膜。膜的浸渍时间为30~300秒，优选60~240秒。

溶胀处理工序中，容易产生膜的宽度方向溶胀而膜上出现褶皱等问题。因此，扩幅辊（expander roller）、螺旋辊、中高辊（crown roll）、导布装置（cloth guider）、弯辊（bend bar）、拉幅机布铗（tenter clips）等的公知的扩幅装置中，优选在除去膜的褶皱的同时运送膜。基于稳定浴中的膜运送的目的，用水中淋雨来控制溶胀浴中的水流，或并用EPC（EdgePosition Control装置：检测膜的端部、防止膜的摆动的装置）等也是有用的。本工序中，在膜的运送方向，膜也会溶胀扩大，因此为了消除运送方向的膜的松弛，优选例如采取控制处理槽前后的运送辊的速度等方法。此外，作为溶胀处理浴，除了纯水外，也可使用在0.01~0.1重量%范围添加了硼酸（日本国公开专利公报“特开平10-153709号公报”中记载）、氯化物（日本国公开专利公报“特开平06-281816号公报”中记载）、无机酸、无机盐、水溶性有机溶剂、乙醇类等的水溶液。

通过二色性色素进行的染色处理工序，是基于令膜吸附、定向二色性色素等目的而进行的。处理条件基于可达成这些目的的范围、且不会产生基材膜的极度溶解、失透等的问题范围而决定。作为二色性色素使用碘时，例如在10~45℃、优选20~35℃的温度条件下，使用重量比为碘/碘化钾/水=0.003~0.2/0.1~10/100的浓度的水溶液，进行30~600秒、优选60~300秒的浸渍处理。作为碘化钾的替代品，也可使用其他的碘化物，例如碘化锌等。此外，也可并用其他的碘化物与碘化钾。此外，也可共存有碘化物以外的化合物，例如硼酸、氯化锌、氯化钴等。添加硼酸时，由于含碘而与下述的硼酸处理有区别。对于水100重量份，只要含碘在0.003重量份以上，则可视作染色槽。

此外，作为二色性色素使用水溶性二色性染料时，例如在20~80℃、优选30~70℃的温度条件下，使用重量比为二色性染料/水=0.001~0.1/100的浓度的水溶液，进行30~600秒、优选60~300秒的浸渍处理。使用的二色性染料的水溶液也可含有染色助剂等，例如可含有硫酸钠等无机盐、表面活性剂等。二色性染料可单独使用，也可并用2种以上的二色性染料。

如上所述，也可在染色槽中令膜拉伸。该拉伸通过对染色槽前后的夹辊设置圆周速度差等方法进行。此外，与溶胀处理工序相同，也可将扩幅辊（expander roller）、螺旋辊、中高辊（crown roll）、导布装置（cloth guider）、弯辊（bend bar）等设置在染色浴中以及/或浴出入口。

硼酸处理是在相对于水100重量份含有硼酸1~10重量份的水溶液中，浸渍经二色性色素染色的聚乙烯醇系树脂膜。二色性色素为碘时，优选含有碘化物1~30重量份。作为碘化物，可举出碘化钾、碘化锌等。此外，也可共存有碘化物以外的化合物，例如氯化锌、氯化钴、氯化锆、硫代硫酸钠、亚硫酸钾、硫酸钠等。

硼酸处理是为了由交联带来耐水化和色相调整（防止带蓝相等）等而实施的。为了由交联带来耐水化而进行硼酸处理的情况下，根据需要，也可在硼酸以外或在使用硼酸的同时使用乙二醛、戊二醛等交联剂。此外，用于耐水化的硼酸处理有时也称为耐水化处理、交联处理、固定化处理等名称。此外，用于色相调整的硼酸处理有时也称为补色处理、再染色处理等名称。

硼酸处理根据其目的可适当变更硼酸以及碘化物的浓度、处理浴的温度。用于耐水化的硼酸处理与用于色相调整的硼酸处理没有特殊区别，可根据下述条件进行。对原始膜进行溶胀处理、染色处理、硼酸处理，且硼酸处理的目的是交联带来耐水化时，使用相对于水100重量份含有硼酸3~10重量份、碘化物1~20重量份的硼酸处理浴，通常在50~70℃、优选55~65℃的温度下进行。浸渍时间为90~300秒。此外，对预拉伸的膜进行染色处理、硼酸处理时，硼酸处理浴的温度通常为50~85℃，优选55~80℃。

也可在用于耐水化的硼酸处理后进行用于色相调整的硼酸处理。例如，二色性染料为碘时，基于该目的，使用相对于水100重量份含有硼酸1~5重量份、碘化物3~30重量份的硼酸处理浴，通常在10~45℃的温度下进行处理。浸渍时间通常为3~300秒，优选10~240秒。接下来的用于色相调整的硼酸处理，较之于用于耐水化的硼酸处理，通常在较低硼酸浓度、较高碘化物浓度、较低温度下进行。

这些硼酸处理可由多个工序构成，通常多为2~5个工序。此时，使用的各硼酸处理槽的水溶液组成、温度在上述范围内，可以相同也可不同。此外，用于上述耐水化的硼酸处理、用于色相调整的硼酸处理可以各自进行多个工序。

此外，硼酸处理工序中，也可与染色处理工序相同地进行膜的拉伸。最终的累计拉伸倍率为4~7倍，优选4.5~6.5倍。此处的累计拉伸倍率，指的是原始膜的长度方向的基准长度在全部拉伸处理结束后的膜中变为何种长度。例如，原始膜中1m的部分在全部拉伸处理结束后的膜中变为5m的话，此时的累计拉伸倍率为5倍。

硼酸处理后，进行水洗处理。水洗处理是将经用于耐水化以及/或色相调整的硼酸处理后的聚乙烯醇系树脂膜在水中浸渍、以水为淋浴进行喷雾、或并用浸渍与喷雾而进行的。水洗处理中水的温度通常为2~40℃，浸渍时间为2~120秒。

此处，拉伸处理后的各个工序中，可进行张力控制，使膜的张力各自实际为固定的。具体的，在染色处理工序结束拉伸时，在之后的硼酸处理工序以及水洗处理工序进行张力控制。在染色处理工序前的工序中结束拉伸时，在包含染色处理工序以及硼酸处理工序的之后的工序进行张力控制。硼酸处理工序由多个硼酸处理工序构成时，优选在最初或最初起第2段为止的硼酸处理工序中拉伸上述膜，在进行拉伸处理的硼酸处理工序之后的硼酸处理工序至水洗工序为止的各个工序中进行张力控制，或者在最初起第3段为止的硼酸处理工序中拉伸上述膜，在进行拉伸处理的硼酸处理工序之后的硼酸处理工序至水洗工序为止的各个工序中进行张力控制，但工业上更优选在最初或最初起第2段为止的硼酸处理工序中拉伸上述膜，在进行拉伸工序的硼酸处理工序之后的硼酸处理工序至水洗工序为止的各个工序中进行张力控制。此外，在硼酸处理后进行上述的碘化物处理或锌处理的情况下，也可在这些工序中进行张力控制。

从溶胀处理至水洗处理为止的各个工序中的张力可以相同，也可不同。张力控制中对于膜的张力并无特别限定，可在每个单位宽度150~2000N/m、优选600~1500N/m范围内适当设定。张力低于150N/m的话，膜上容易出现褶皱等。另一方面，张力超过2000N/m的话，会出现膜断裂和轴承磨损引起的低寿命化等问题。此外，该单位宽度的张力基于该工序入口附近的膜宽和张力检测器的张力值算出。此外，进行张力控制时，不可避免会出现若干拉伸·收缩，这通常不包含在拉伸处理内。

偏光膜制作工序的最后进行干燥处理。干燥处理优选渐渐改变张力、分多段进行，基于设备制约等，通常分2~3段进行。分2段进行时，优选前段中的张力设定为600~1500N/m范围，后段中的张力设定为300~1200N/m范围。张力过大的话，膜的断裂会增多，过小的话褶皱变多，并不理想。此外，优选前段的干燥温度设定在30~90℃范围，后段的干燥温度设定在50~100℃范围。温度过高的话，膜的断裂会增多，此外光学特性会下降，温度过低的话条纹变多，并不理想。干燥处理时间可以例如为60~600秒，各段中的干燥时间可以相同也可不同。时间过长的话，生产效率方面并不理想，时间过短的话干燥不充分，并不理想。

如此，对聚乙烯醇系树脂膜经单轴拉伸、二色性色素的染色处理以及硼酸处理，得到偏光膜。该偏光膜的厚度通常在5~40μm范围内。

（保护膜）

本发明的偏光板中，在上述的偏光膜的一个面上，通过粘合剂层积有保护膜。作为保护膜，可举出例如，环烯烃系树脂膜、三醋酸纤维素、二乙酸纤维素等醋酸纤维素系树脂膜、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯等聚酯系树脂膜、聚碳酸酯系树脂膜、丙烯酸系树脂膜、聚丙烯系树脂膜等在该领域以往被广泛使用的膜。

可用于本发明中的保护膜的环烯烃系树脂，适宜使用合适的市售品，例如，Topas（Ticona公司制造、注册商标）、アートン（ARTON）（JSR株式会社制造、注册商标）、ゼオノア（ZEONOR）（日本ゼオン株式会社制造、注册商标）、ゼオネックス（ZEONEX）（日本ゼオン株式会社制造、注册商标）、アペル（三井化学株式会社制造、注册商标）等。将此种环烯烃系树脂制成膜时，适宜使用溶剂铸造法、熔融挤压法等公知的方法。此外，也可使用例如エスシーナ（积水化学工业株式会社制造）、SCA40（积水化学工业株式会社制造、注册商标）、ゼオノアフィルム（株式会社オプテス制造、注册商标）等环烯烃系树脂制的预制膜市售品。

此外，环烯烃系树脂膜可以是单轴拉伸或双轴拉伸的。通过拉伸，可以对环烯烃系树脂膜赋予任意的相位差值。拉伸通常是在将膜卷筒放卷的同时连续进行，通过加热炉，向卷筒的行进方向、其行进方向的垂直方向、或其两方拉伸。加热炉的温度通常采用环烯烃系树脂的玻璃化温度附近至玻璃化温度+100℃为止的范围。拉伸的倍率通常为1.1~6倍，优选1.1~3.5倍。

环烯烃系树脂膜一般由于表面活性差，优选在与偏光膜粘合的表面进行等离子处理、电晕处理、紫外线照射处理、火焰处理、皂化处理等表面处理。其中，适宜的是较容易实施的等离子处理、电晕处理。

此外，作为可用于本发明中的保护膜的醋酸纤维素系树脂膜，可举出适宜的市售品，例如，FUJITAC（フジタック）（注册商标）TD80（富士胶片（富士フィルム）株式会社制造）、FUJITAC（注册商标）TD80UF（富士胶片株式会社制造）、FUJITAC（注册商标）TD80UZ（富士胶片株式会社制造）、FUJITAC（注册商标）TD40UZ（富士胶片株式会社制造）、KC8UX2M（柯尼卡美能达精密光学（コニカミノルタオプト）株式会社制造）、KC4UY（柯尼卡美能达精密光学株式会社制造）等。

在醋酸纤维素系树脂膜的表面，根据用途，可进行防眩处理、硬涂层处理、抗静电处理、防反射处理等表面处理。此外，为了改良视角特性，也可形成液晶层等。此外，为了赋予相位差，也可令纤维素系树脂膜拉伸。此外，为了提高该醋酸纤维素系树脂膜与偏光膜的粘合性，通常会实施皂化处理。作为皂化处理，可采用在氢氧化钠和氢氧化钾等的碱水溶液中浸渍的方法。

上述的保护膜在卷筒状态下，容易出现膜之间粘合结块的趋势。因此，可在保护膜卷轴的端部施以凹凸加工或在端部插入带条或贴合防护膜。

保护膜的厚度优选较薄，但过薄的话强度会下降，加工性差。另一方面，保护膜的厚度过厚的话，会出现透明性下降、层积后所需的固化时间变长等问题。因此，保护膜的适当厚度例如为5~100μm左右，优选10~80μm，更优选20~40μm。

（粘合剂层）

本发明的偏光板中，偏光膜与保护膜通过水系粘合剂构成的粘合剂层贴合。作为粘合偏光膜与保护膜的粘合剂，可使用例如，水溶剂系粘合剂、有机溶剂系粘合剂、热熔系粘合剂、无溶剂系粘合剂等。作为水溶剂系粘合剂，可举出例如，聚乙烯醇系树脂水溶液、水系双液型聚氨酯系乳胶粘合剂等。此外，作为有机溶剂系粘合剂，可举出例如双液型聚氨酯系粘合剂等。此外，作为无溶剂系粘合剂，可举出例如单液型聚氨酯系粘合剂等。

将与偏光膜的粘合面通过皂化处理等实施了亲水化处理的醋酸纤维素系膜用作保护膜的情况下，适宜将聚乙烯醇系树脂水溶液用作粘合剂。作为用作粘合剂的聚乙烯醇系树脂，除了将作为醋酸乙烯酯均聚物的聚醋酸乙烯酯进行皂化处理而得到的乙烯醇均聚物以外，还可举出有，将醋酸乙烯酯与可与其共聚的其他单体的共聚物进行皂化处理而得到的乙烯醇系共聚物，还有将其羟基部分改性的改性聚乙烯醇系聚合物等。水系粘合剂中，可以添加作为添加剂的多元醛、水溶性环氧化合物、三聚氰胺系化合物、氧化锆化合物、锌化合物等。使用此种粘合剂时，之后得到的粘合剂层通常在1μm以下，即使用通常的光学显微镜观察截面，事实上无法观察到该粘合剂层。

（防护膜）

本发明的偏光板中，偏光膜中与保护膜相反一侧的面上，贴合有可剥离的防护膜。该防护膜在例如将偏光板贴合到液晶显示装置之前保护偏光膜中与保护膜相反一侧的面，防止其出现划痕等。然后，在贴合时被剥离。

防护膜与偏光膜间的剥离力为0.01~5N/25mm，优选0.01~2N/25mm，更优选0.01~0.5N/25mm。剥离力不足0.01N/25mm的话，由于偏光膜与防护膜的附着力较小，防护膜可能会出现部分剥离。此外，剥离力超过5N/25mm的话，由于难以从偏光膜剥离防护膜，因此不理想。

作为防护膜的材质，优选容易处理、可确保一定透明性的聚乙烯系树脂、聚丙烯系树脂、聚苯乙烯系树脂、聚对苯二甲酸乙二醇酯系树脂等。然后，可将它们1种或2种以上的树脂成型为单层或多层状的膜用作防护膜。

作为此种防护膜，具体可举出有，聚乙烯树脂膜表面形成有粘合剂层的サニテクト（株式会社サンエー化研销售、注册商标）、聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂膜表面形成有粘合剂层的E-Mask（日东电工株式会社制造、注册商标）、聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂膜表面形成有粘合剂层的マスタック（藤森工业株式会社制造、注册商标）等市售品。

其中，单独对偏光膜有粘合性的自粘性防护膜，由于无需保护防护膜表面的粘合剂层，因此较为简便，更适宜使用。作为对于上述偏光膜显示出适宜的剥离力的自粘性树脂膜的市售品，可举出例如，聚乙烯树脂构成的トレテック（东レ株式会社制造、注册商标）等。

（贴合工序）

本发明的偏光板的制造方法中，在偏光膜的一个面上通过水系粘合剂构成的粘合剂层贴合保护膜（贴合工序）。

贴合偏光膜与保护膜的方法并无特别限定，可举出例如，在偏光膜以及/或保护膜的表面均匀涂布粘合剂，将涂布面与另一个膜重合，用辊等贴合、干燥的方法等。通常，粘合剂在其调制后于15~40℃的温度下涂布，贴合温度通常在15~30℃范围内。

此外，贴合工序所使用的水系粘合剂的成分浓度不足9.2%，优选9.0%以下，更优选3.0%~8.8%。水系粘合剂的成分浓度的特别优选范围为7.5%~8.8%。水系粘合剂的成分浓度在9.2%以上时，如后述实施例，偏光板整面会出现斑点，因此不理想。

（干燥工序）

本发明的偏光板的制造方法中，贴合偏光膜与保护膜后，为了除去水系粘合剂中所含的水，对层积膜进行干燥。干燥是连续通过保持在恰当温度的干燥炉而进行的，例如，可一边连续通过干燥炉，一边将干燥后的偏光板卷为卷筒状，但不限定于此。本发明的偏光板的制造方法，优选该干燥工序包含：停留在保持为低于50℃的温度的干燥炉内的合计停留时间在150秒以上的低温干燥工序和停留在保持为50℃以上的温度的干燥炉内的合计停留时间在150秒以下的高温干燥工序。

低温干燥工序是停留在保持为低于50℃的温度的干燥炉内的合计停留时间在150秒以上进行干燥的工序。低温干燥工序中干燥温度超过50℃时，由于不存在低温干燥工序（该干燥相当于高温干燥工序），可观察到制造的偏光板有显著较大的逆卷曲（平面上将偏光膜一侧设置在下面、将保护膜一侧设置在上面时呈凸型的卷曲），根据条件不同，偏光板有时不能保持板状的形态而成为筒状。基于有效抑制逆卷曲，优选低温干燥工序中的干燥温度在49℃以下。此外，低温干燥工序中的干燥温度，基于防止偏光膜与保护膜易剥离的观点，优选在30℃以上，更优选40℃以上。

低温干燥工序中的干燥时间在150秒以上即可，但基于生产效率的观点，通常在1200秒以下。干燥时间不足150秒时，进行高温干燥工序时会出现逆卷曲变大的趋势。

此外，高温干燥工序是停留在保持为50℃以上的温度的干燥炉内的合计停留时间在150秒以下的工序。高温干燥工序中干燥温度低于50℃时，由于高温干燥工序不存在（该干燥相当于低温干燥工序），要充分干燥偏光板的话，必须进行长时间的干燥，生产效率有问题。此外，高温干燥工序中的干燥温度，基于防止偏光膜收缩引起显著弯曲的观点，高温干燥工序中的干燥温度优选60℃以下。

高温干燥工序中干燥时间在150秒以下即可，但要在有限时间内进行干燥的话，干燥不足会出现在偏光板整面出现斑点的趋势，因此通常在20秒以上。高温干燥工序中干燥时间超过150秒时，出现逆卷曲变大的趋势。此外，高温干燥工序中干燥时间为0秒时（即，高温干燥工序不存在时），虽然不会出现逆卷曲，但由于干燥温度较低，要充分干燥偏光板的话必须进行长时间的干燥，生产效率有问题。

本发明的偏光板的制造方法中，可按照低温干燥工序以及高温干燥工序的顺序进行，也可按相反顺序进行，也可以是多个低温干燥工序以及高温干燥工序依次组合。最初进行高温干燥工序的话，由于容易出现偏光板的光学特性、特别是正交的色相容易变蓝的趋势，因此干燥工序优选先进行低温干燥工序，特别优选以低温干燥工序、高温干燥工序、低温干燥工序的顺序进行。此外，进行多个低温干燥工序以及高温干燥工序时，上述的干燥时间为各个低温干燥工序的合计时间、各个高温干燥工序的合计时间。即，如上所述以低温干燥工序、高温干燥工序、低温干燥工序的顺序进行干燥工序时，低温干燥工序的干燥时间相当于最初的低温干燥工序的干燥时间与最后的低温干燥工序的干燥时间的合计时间。

本发明的偏光板的制造方法中的干燥工序所使用的干燥炉，基于适当地进行上述的低温干燥工序以及高温干燥工序的观点，优选干燥温度可设定在30~60℃的范围（更优选40~60℃）的干燥炉。即，适宜使用可设定在低温干燥工序的优选干燥温度的下限值30℃和高温干燥工序的优选干燥温度的上限值60℃的范围内进行干燥的干燥炉。如上所述，上述温度低于30℃时，出现偏光膜与保护膜间易剥离的趋势，此外，超过60℃时，偏光膜收缩可能引起显著的弯曲。干燥炉中的层积膜的合计停留时间可例如为超过150秒、1200秒以下，特别是基于生产效率的观点，优选在170~600秒范围内。

本发明的偏光板的制造方法中，可在上述的干燥工序后，在室温或稍高的温度、例如20~45℃左右的温度下固化12~600小时左右。固化时的温度一般设定为低于干燥时采用的温度。

（其他工序）

如此得到的偏光板，通常在至少一侧形成有粘合剂层。在偏光板的偏光膜面上形成粘合剂层时，为此所使用的粘合剂优选在23~80℃的温度范围内均具有0.15~1MPa的贮藏弹性模量。通常的用于光学膜用途的粘合剂，其贮藏弹性模量较高，在0.1MPa左右，较其值更高的粘合剂适宜用于偏光膜面。通过粘合剂的贮藏弹性模量在上述范围内，可将高温环境下发生的偏光膜收缩所伴随的尺寸变化抑制为较小，可以得到良好的耐久性。粘合剂的贮藏弹性模量可使用例如DYNAMICANALYZER RDAII（REOMETRIC公司制造），试验片为

厚的圆柱，以1Hz的频率求得。

另一方面，作为偏光板的保护膜面上形成的粘合剂，除了上述的贮藏弹性模量较高的，也可使用显示出较低贮藏弹性模量的，例如通常的光学膜所使用的显示出0.1MPa左右或以下的贮藏弹性模量的粘合剂。

作为本发明所使用的粘合剂，可举出例如，丙烯酸系、橡胶系、聚氨酯系、硅酮系、聚乙烯基醚系树脂等。此外，能量线固化型、热固化型等的粘合剂，特别是作为上述的高贮藏弹性模量的粘合剂是有用的。其中，适合的是以透明性、耐候性、耐热性等良好的丙烯酸系为基料的粘合剂。

丙烯酸系粘合剂并无特别限制，适宜使用（甲基）丙烯酸丁酯、（甲基）丙烯酸乙酯、（甲基）丙烯酸异辛酯、（甲基）丙烯酸2-乙基己酯等（甲基）丙烯酸酯系基料和使用了2种以上这些（甲基）丙烯酸酯等的共聚系基料。此外，这些基料中共聚有极性单体。作为极性单体，可举出例如（甲基）丙烯酸、（甲基）丙烯酸2-羟丙酯、（甲基）丙烯酸羟乙酯、（甲基）丙烯酰胺、（甲基）丙烯酸N，N-二甲基氨基乙酯、（甲基）丙烯酸缩水甘油酯等具有羧基、羟基、酰胺基、氨基、环氧基等官能团的单体。

这些丙烯酸系粘合剂当然可以单独使用，但通常与交联剂并用。作为交联剂，可举例有，是2价或多价的金属盐且与羧基之间形成羧酸金属盐之物、是聚胺化合物且与羧基之间形成有酰胺键之物，是聚环氧化合物或多元醇化合物且与羧基之间形成有酯键之物，是聚异氰酸酯化合物且与羧基之间形成有酰胺键之物等。其中，聚异氰酸酯化合物被广泛用作有机系交联剂。

能量线固化型粘合剂指的是，具有受到紫外线或电子束等能量线照射后会固化的性质，在能量线照射前也具有粘合性、与膜等粘合体密合，具有可通过照射能量线而固化、调整密合力的性质的粘合剂。作为能量线固化型粘合剂，特别优选使用紫外线固化型粘合剂。能量线固化型粘合剂一般以丙烯酸系粘合剂和能量线聚合性化合物为主成分。通常还添加有交联剂，还可根据需要添加光聚合引发剂和光敏化剂。

粘合剂组成物中，除了上述的基料以及交联剂外，还可根据需要，为了调整粘合剂的粘合力、凝聚力、粘性（tack）、弹性模量、玻璃化温度等，添加例如天然物或合成物的树脂类、粘合性赋予树脂、抗氧化剂、紫外线吸收剂、染料、颜料、消泡剂、缓蚀剂、光聚合引发剂等适宜的添加剂。还可含有微粒，成为显示出光散射性的粘合剂层。

粘合剂层的厚度优选为1~40μm，为了得到本发明目标的薄型偏光板，在无损加工性、耐久性特性的范围内，涂得较薄较为理想，基于保持良好的加工性且控制偏光片尺寸变化的观点，更优选3~25μm。粘合剂层过薄的话粘合性会下降，过厚的话容易出现粘合性超出范围等问题。

此外，本发明的偏光板的制造方法中，作为形成粘合剂层的方法并无特别限制，可在偏光板的一侧或两侧（偏光膜面、保护膜面或两者）上涂布含有以上述基料为首的各成分的溶液，干燥形成粘合剂层后，层积实施了硅系等的脱模处理的隔膜（seperator）而得到，也可在隔膜上形成粘合剂层后，转印到偏光板的偏光膜面、保护膜面或其两者上而层积。此外，粘合剂层形成在偏光板上时，也可根据需要对偏光板的粘合剂层形成面以及粘合剂层的至少一方进行密合处理，例如电晕处理等。此外，形成的粘合剂层的表面通常被经过了脱模处理的隔膜所保护，隔膜在该偏光板贴合到液晶盒或其他光学膜等之前剥离。

（本发明的偏光板）

根据本发明的制造方法制造的偏光板，含水率A（%）以及23℃、湿度50%环境下的平衡含水率B（%）满足下式（1）。

｜偏光板的含水率A（%）－偏光板的平衡含水率B（%）｜＜0.2    （1）即，含水率A与平衡含水率B的差的绝对值小于0.2。

此处的“含水率A（%）”指的是，经过了干燥工序得到的偏光板通过光透射法测定的值（使用红外线水分测定仪测定的值）。偏光板的含水率（A）例如可如下测定。

首先通过光透射法测定偏光板的含水率，接着将该偏光板通过干燥重量法（105℃干燥1小时，通过干燥前后的重量差求得含水率）求得含水率。对不同含水率的偏光板进行相同操作的话，可以得到换算式。通过使用得到的换算式，用红外线水分测定仪可以通过干燥重量法估计经105℃1小时干燥后的含水率。

红外线水分测定仪的含水率测定方法，只要根据装置供应商的操作说明书测定即可。作为红外线水分测定仪，可举出仓敷纺绩（クラボウ）的RX-300和FUJIWORK（フジワーク）的IM-3SCV等。

此外，“平衡含水率B（%）”指的是将偏光板在23℃50%RH的环境下达到平衡时的含水率。偏光板在置于23℃50%RH的固定环境下后，含水率会变动而逐渐达到平衡状态。平衡含水率指的是该平衡状态下的含水率。具体表示将偏光板在23℃50%RH的洁净室保持7天时的含水率。此外，“平衡含水率”与上述“含水率A（%）”相同，是通过光透射法测定的值（使用联机（inline）水分测定仪测定的值）。此外，本发明的偏光板的含水率指的并不是构成偏光板的各个部件的含水率，而是各个构成部件（至少有偏光膜、粘合剂层以及保护膜）组合后的偏光板的“含水率”。

如后述的实施例所示，本发明的偏光板对于上述定义的“含水率A（%）”以及“平衡含水率B（%）”，只要满足上述式（1），就可以实现整面不出现斑点的偏光板。“含水率A与平衡含水率B的差的绝对值”优选小于0.15，更优选小于0.12，特优选小于0.08。

此外，根据本发明的制造方法制造的偏光板，通常具有大型的卷筒材料或薄片材料的形态，为了得到具有期望的形状和透射轴的偏光板，可通过具有锐利的刀刃的切断工具进行切断（chip cut）。因此，切断后得到的偏光板芯片（chip）会出现外周端部偏光膜露出在外部的状态。

将该状态的偏光板芯片进行例如热冲击试验等耐久性试验的话，较之于一般使用的偏光板，即偏光膜的两面由纤维素系树脂膜等保护的偏光板，容易出现剥离和裂纹的问题。为了避免此种问题，本发明得到的偏光板芯片优选对外周端面用飞切（fly cut）法等进行连续切削。

（本发明的偏光板的评价方法）

上述式（1）可用于偏光板的评价方法。即，本发明的偏光板的评价方法，是在聚乙烯醇系树脂构成的偏光膜的一侧的面上通过水系粘合剂贴合有保护膜的偏光板的评价方法，

通过偏光板的含水率A（%）以及23℃、湿度50%环境下的偏光板的平衡含水率B（%）是否满足下式（1）来评价偏光板的品质。

｜偏光板的含水率A（%）－偏光板的平衡含水率B（%）｜＜0.2    （1）

由此，可正确地评价偏光板整面是否有斑点。

如上，根据本发明，由于偏光板的含水率A以及偏光板的平衡含水率B满足上述式（1），因此可以抑制偏光板整面出现斑点。

此外，本发明的偏光板，优选上述保护膜是由醋酸纤维素系树脂构成的膜。

此外，本发明的偏光板的制造方法中，优选上述贴合工序使用的水系粘合剂的成分浓度不足9.2%。

此外，本发明的偏光板的制造方法中，优选上述干燥工序包含：停留在保持为低于50℃的温度的干燥炉内的合计停留时间在150秒以上的低温干燥工序和停留在保持为50℃以上的温度的干燥炉内的合计停留时间在150秒以下的高温干燥工序。

实施例

以下通过实施例更详细地说明本发明，但本发明不限定于这些例子。例中，表示含量或使用量的%以及份，如无特殊说明则表示重量基准。

＜实施例1＞

将平均聚合度约2400、皂化度99.9摩尔%以上、厚75μm的聚乙烯醇膜干式单轴拉伸为约5倍，然后在保持紧张状态的同时于60℃的纯水中浸渍1分钟后，于碘/碘化钾/水的重量比为0.1/5/100的水溶液中于28℃浸渍60秒。然后，于碘化钾/硼酸/水的重量比为10.5/7.5/100的水溶液中于72℃浸渍300秒。接着用10℃的纯水洗涤5秒后，进行90℃、180秒干燥，得到聚乙烯醇吸附定向了碘的偏光膜。

另外，在100份的水中溶解完全皂化聚乙烯醇（可乐丽波瓦尔（クラレポバール）117H、可乐丽（クラレ）株式会社制造）3.2份、乙酰乙酰基改性聚乙烯醇（ゴーセファイマー（注册商标）Z-200、日本合成化学工业株式会社制造）3.2份、氯化锌（ナカライテスク株式会社销售）0.19份、乙二醛（ナカライテスク株式会社销售）1.5份，制备聚乙烯醇系树脂粘合剂。此外，该粘合剂中的成分浓度为7.5%。

在之前得到的偏光膜的一个面上，将三醋酸纤维素膜表面上形成有防反射层的厚40μm的保护膜（40KSPLR、凸版印刷株式会社制造；以下标记为保护膜1）通过上述粘合剂用夹辊贴合。将贴合物的张力保持为430N/m的同时，进行40℃16秒、55℃72秒、45℃139秒、45℃140秒的干燥，得到偏光板。即低于50℃干燥295秒（低温干燥工序）、50℃以上干燥72秒（高温干燥工序）。

＜实施例5＞

将偏光膜的一个面上贴合的保护膜的种类变更为三醋酸纤维素膜表面形成有硬涂层的厚40μm的保护膜（40CHC、凸版印刷株式会社制造；以下标记为保护膜2），根据与实施例1相同的条件，制作偏光板。

＜实施例2~4、6以及比较例1、2＞

以下如表1所示，组合保护膜的种类与粘合剂的成分浓度，制作偏光板，评价含水率A、含水率A与平衡含水率B的差以及偏光板的外观。表1显示了实施例1~6以及比较例1、2使用的聚乙烯醇系树脂粘合剂的组成以及成分浓度。此外，表中“完全皂化聚乙烯醇”、“乙酰乙酰基改性聚乙烯醇”、“氯化锌”以及“乙二醛”使用的是与实施例1相同之物。此外，这些化合物的组成是相对于100份水的组成。

【表1】

＜评价方法＞

对于实施例1~6以及比较例1、2制作的偏光板，使用仓敷纺绩株式会公司制造的RX-300测定含水率A。此外，本装置输入有于事前求得的与干燥重量法（105℃1小时）含水率值之间的换算式，可显示出与干燥重量法相当的含水率。

从实施例1~6以及比较例1、2制作的偏光板切下试验片，将该试验片于23℃、湿度50%RH的洁净室保持7天，通过上述相同的方法测定含水率，作为平衡含水率B。然后，根据得到的含水率A以及平衡含水率B的测定值，算出含水率A与平衡含水率B的差。此外，偏光板的外观通过目视观察评价。

其结果，包括实施例1、5的结果如表2所示。表中，“含水率A与平衡含水率B的差”是对于上述方法测定的平衡含水率B和含水率A的“含水率A－平衡含水率B”的计算值。符号“+”表示含水率A大于平衡含水率B，符号“－”表示含水率A小于平衡含水率B。此外，表中括号内的数字为绝对值。

【表2】

如表2所示，含水率A与平衡含水率B的差的绝对值大于0.2的比较例1以及2的偏光板中，观察到整面外观有斑点。另一方面，含水率A与平衡含水率B的差的绝对值小于0.2的实施例1~6的偏光板中，没有观察到整面外观有斑点。因此可认为，满足含水率A与平衡含水率B的差的绝对值小于0.2的条件的话，可以抑制偏光板的整面出现外观斑点。

工业可利用性

本发明提供可以制造抑制了整面出现斑点的偏光板的方法。因此，本发明可广泛应用于利用偏光板的产业。

Claims (6)

1.一种偏光板，是在聚乙烯醇系树脂构成的偏光膜的一侧的面上通过水系粘合剂贴合有保护膜的偏光板，

偏光板的含水率A（%）以及23℃、湿度50%环境下的偏光板的平衡含水率B（%）满足下式（1），

｜偏光板的含水率A（%）－偏光板的平衡含水率B（%）｜＜0.2    （1）。

2.根据权利要求1所述的偏光板，其中，所述保护膜是由醋酸纤维素系树脂构成的膜。

3.一种偏光板的制造方法，包含在聚乙烯醇系树脂构成的偏光膜的一侧的面上通过水系粘合剂构成的粘合剂层贴合保护膜的贴合工序和令偏光膜与保护膜的贴合物干燥的干燥工序，

经过了干燥工序的偏光板的含水率A（%）相对于23℃、湿度50%环境下的平衡含水率B（%），满足下式（1），

｜偏光板的含水率A（%）－偏光板的平衡含水率B（%）｜＜0.2    （1）。

4.根据权利要求3所述的偏光板的制造方法，其中，所述贴合工序使用的水系粘合剂的成分浓度不足9.2%。

5.根据权利要求3或4所述的偏光板的制造方法，其中，所述干燥工序包含：停留在保持为低于50℃的温度的干燥炉内的合计停留时间在150秒以上的低温干燥工序和停留在保持为50℃以上的温度的干燥炉内的合计停留时间在150秒以下的高温干燥工序。

6.一种偏光板的评价方法，是在聚乙烯醇系树脂构成的偏光膜的一侧的面上通过水系粘合剂贴合有保护膜的偏光板的评价方法，

根据偏光板的含水率A（%）以及23℃、湿度50%环境下的偏光板的平衡含水率B（%）是否满足下式（1）来评价偏光板的品质，

｜偏光板的含水率A（%）－偏光板的平衡含水率B（%）｜＜0.2    （1）。

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