TW201142545A - Exposure apparatus - Google Patents

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201142545 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明有關於能夠對與產生在工件基板上的變形相對 應的掩模圖形像進行投影的曝光裝置。 【先前技術】 以往’在曝光裝置中周知的是：測定工件基板的溫度 ’對應工件基板的溫度，並使配置在投影光路中的兩張平 行平面板中的一者沿厚度方向以一對縱向邊爲支點進行彎 曲，從而在橫向（X方向）彎曲變形；使另一平行平面板 以一對橫邊爲支點沿厚度方向彎曲而在縱向方向（Y方向 )彎曲變形，從而改變橫向（X方向）、縱向（Y方向） 的倍率，由此，將對應於工件基板的伸縮的掩模圖形像投 影到工件基板上（例如參考專利文獻1 )。 此外’還周知一種具有可轉動前述兩張平行平面板的 結構的曝光裝置（例如參考專利文獻2。）。 而且，還周知一種無需變更前述兩張平行平面板的彎 曲率而將對應於工件基板的伸縮的掩模圖形像投影到工件 基板上的曝光裝置（例如參考專利文獻3。）。 上述工件基板中，有印製電路佈線基板和TAB卷帶、 多層化印製電路佈線基板等各種基板，例如在印製電路佈 線基板中，通過由環氧樹脂和銅箔的熱膨脹差引起的張緊 來改變縱橫比，TAB卷帶同樣也可以利用聚醯亞胺樹脂和 銅箔的熱膨脹差來改變縱橫比。 -5- 201142545 此外，例如在多層化印製電路佈線基板中，當使新的 上部圖形形成在已經最初形成的下部圖形之上時，最初形 成的下部圖形會由於工件基板的伸縮而伸展或者收縮。 上述的現有技術中的曝光裝置，均能夠伴隨著它們的 工件基板的伸縮而不斷校正縱橫比。 (現有技術文獻） (專利文獻1)日本特開平1 0-303 1 1 5號公報 (專利文獻2)日本特開2003-223003號公報 (專利文獻3)日本特開2006-292902號公報 然而，近年來對形成在工件基板上的微細曝光圖形的 要求日益升高，另外，在工件基板上，不僅產生由熱膨脹 差或是其它原因引起的縱橫伸縮變形，還產生朝向如對角 方向的其它方向的變形，例如在工件基板上產生梯形變形 和菱形形狀的應變變形等各種應變變形》 以往的曝光裝置存在如下問題點，即由於進行倍率校 正而難以將與在工件基板上產生的應變變形相極力對應的 掩模圖形像投影到上述工件基板。 【發明內容】 (發明所欲解決的課題） 本發明正是鑒於上述情況而提出，其目的是提供一種 能夠對與在工件基板上產生的應變變形相極力對應的掩模 圖形像進行投影的曝光裝置。 -6- 201142545 (用以解決課題的手段） 本發明的曝光裝置的特徵在於，具備應變變形形成機 構’該應變變形形成機構包括：應變變形用平行平面板， 設置在投影到工件基板的掩模圖形的投影光路中而被應變 變形；約束構件，將由平行平面板的彼此相交的兩邊構成 的角部和角部之間的中間部作爲支點；加壓構件，沿投影 光路的光軸方向對該平行平面板的各角部施加加壓力，以 約束構件作爲支點使該平行平面板應變變形。 根據本發明，使設置在工件基板的投影光路中的應變 變形用平行平面板和該平行平面板的角部沿光軸方向變形 ’從而能夠形成具有與該工件基板的應變變形對應的應變 變形的掩模圖形像，進而具有如下效果，即：能夠將如下 掩模圖形像投影到工件基板上，這種掩模圖形像的形狀與 不能由橫向倍率校正機構和縱向倍率校正機構徹底校正的 、又在工件基板上產生的應變變形相對應。 【實施方式】 圖1是顯示本發明的曝光裝置的光學系統的槪況的說 明圖’ 1是光源部、2是冷鏡、3是曝光快門、4是紫外線（ i線）帶通濾波器、5是積分透鏡、6是准直透鏡、7是平面 鏡、8是掩模台、9是掩模肓區部、10是投影透鏡保持筒、 11是倍率校正機構、12是曝光台。另外，該曝光快門3在 曝光時’可以適當從光學系統的光路退避。 光源部1由水銀燈1 a和旋轉橢圓鏡lb構成，水銀燈！ a 201142545 配置在旋轉橢圓鏡1 b的第1焦點位置，從水銀燈1 a發出的 發光光束被旋轉橢圆鏡lb反射而集聚在第2焦點位置，利 用冷鏡2去除長波長大於紅外波長的紅外線並反射比可見 紅外光的波長短的短波範圍的光束，並引導至帶通濾波器 4，利用該帶通濾波器4濾除紫外線（i線）以外的其它的 波長範圍的光線，從而將曝光用光束P引導至積分透鏡5。 曝光用光束P在積分透鏡5作用下，其光量分佈大槪相 同並被引導至准直透鏡6。該准直透鏡6在上述第2焦點位 置具有焦點，曝光用光束P利用上述准直透鏡6成爲平行光 束，光路由平面鏡7彎折後引導至掩模台8。 在掩模台8上設置有掩模13。在該掩模13上，形成有 應當形成在工件基板14上的掩模圖形13’。該掩模13具有 用來與後述的工件基板1 4進行對位元的對位元標記1 3 a。 上述掩模台8能夠借助省略圖示的驅動機構，在橫向（X ) 以及縱向（Y)上移動。 在用曝光用光束P曝光工件基板14時，掩模盲區部9可 以適當從光學系統的光路退避。 在投影透鏡保持筒〗〇的內部設置有投影透鏡組10a。 在本實施例中，該投影透鏡組1 〇a將掩模1 3的圖形放大並 使其成像於工件基板14上。 工件基板14放置在曝光台12上。上述工件基板14例如 是正方形，在該工件基板Μ上，在適當的部位預先形成有 對位元標記14a。上述曝光台12能夠借助省略圖示的驅動 機構，在橫向（X )以及縱向（Y )上移動。 -8 - 201142545 另外，在圖1中以肉眼可目視確認的大小顯示對位元 標記1 3 a、1 4a，不過其是誇張顯示，實際上大小難以被肉 眼目視確認出。 如圖2、3所示，倍率校正機構11由橫向倍率校正機構 1 5、縱向倍率校正機構1 6和應變變形形成機構1 7構成。橫 向倍率校正機構15如圖2〜圖6所示的那樣，包括將橫向取 作長邊並將縱向取作短邊的長方形的第1平行平面板（橫 向平行平面板）1 8、一對約束構件1 9和一對加壓夾持構件 (加壓構件）2 0。縱向倍率校正機構1 6包括將縱向取作長 邊並將橫向取作短邊的長方形的第2平行平面板（縱向平 行平面板）21、一對約束構件22和一對加壓夾持構件（加 壓構件）23。 在掩模圖形13’的投影光路中，橫向倍率校正機構15 與縱向倍率校正機構16的第1平行平面板18和第2平行平面 板2 1，沿上下方向彼此隔有間隔且在彼此正交的方向配置 ，而且，與前述第1平行平面板18和第2平行平面板21的正 交配置相對應的這一對約束構件19、22和這一對加壓夾持 構件20、23，除它們的配置部位不同以外，其餘的結構均 一致，因而就橫向倍率校正機構1 5的結構來說明。 另外，在前述圖2中，雙點點劃線所示的正方形框體 是第1平行平面板18與第2平行平面板21彼此重疊的正方形 的相交區域，也是曝光用光束P的有效投影光路區域ET。 曝光用光束P穿過該有效投影光路區域ET而照射到工件基 板1 4。 -9 - 201142545 這對約束構件19由第1平行平面板18的沿短邊方向較 長延伸的支承框構件27和圓筒構件28構成。該支承框構件 27由下框構件27a、上框構件27b和連接框構件27c構成， 在下框構件27a與上框構件27b之間，如圖6所示形成有引 導第1平行平面板18的引導口 27d。 圓筒構件28包括由鐵等材料構成的圓柱狀芯構件28a 和包覆該圓柱狀芯構件28a的包覆樹脂28b。該圓筒構件28 設置在下框構件27a的凹槽部27e和上框構件27b的凹槽部 27e之中。該圓筒構件28分別鄰接第1平行平面板1 8的兩面 ，與支承框構件27協同運動，以可應變變形的方式約束第 1平行平面板1 8。 如圖5、6所示，這一對力□壓夾持構件20與約束構件19 同樣，由第1平行平面板18的沿短邊方向較長延伸的夾持 框構件29和圆筒構件30構成。該夾持框構件29由下框構件 29a、上框構件29b和連接框構件29c構成。該連接框構件 29c與驅動臂（圖示省略）連接。 圓筒構件30包括圓筒構件28、同樣由鐵等材料構成的 圓柱狀芯構件30a和包覆該圆柱狀芯構件30a的包覆樹脂 3〇b。該回筒構件30設置在下框構件29a和上框構件29b之 中。前述圓筒構件29分別鄰接第1平行平面板18的兩面， 以與支承框構件29協同運動的方式握持第1平行平面板18 〇 應變變形形成機構17如圖7〜圖9所示的那樣，包括： 第3平行平面板（應變變形用平行平面板）3 1、4個指型形 -10- 201142545 狀的約束構件3 2和4個指型形狀的加壓夾持構件（加壓構 件）33。第3平行平面板31由正方形板構成，該正方形板 具有邊長長度大於第1平行平面板18、第2平行平面板21的 短邊、且又比第1平行平面板18、第2平行平面板21的長度 短一些的邊。前述第3平行平面板31與第2平行平面板21鄰 接配置。 另外，在此處，第1平行平面板18、第2平行平面板21 和第3平行平面板31採用石英玻璃材料來形成。 該約束構件3 2如圖8所示，由支承框構件3 4和樹脂製 半球體35構成。支承框構件34由下框構件34a、上框構件 34b和連接框構件34c構成。 該約束構件32設置在第3平行平面板31的各邊的中點 位置。前述樹脂製半球體35與支承框構件34協同運動，從 上面、下面和側面三個方向，來約束第3平行平面板31的 各邊的中點位置。 加壓夾持構件33由支承框構件36和球體37構成。支承 框構件3 6由下框構件3 6 a、上框構件3 6b和連接框構件3 6 c 構成。該連接框構件36c與驅動臂（圖示省略）連接。 球體37由球狀鐵芯37a和包覆該球狀鐵芯37a的包覆樹 脂3 7b構成。該加壓夾持構件33如圖7所示，被配置在前述 第3平行平面板31的四角的角部31A，並以可撓性變形的方 式夾持三角形區域KB，該三角形區域KB以連結第3平行平 面板31的各邊的中點31b的線段爲底邊K，而且以第3平行 平面板3 1的兩邊相交匯的點3 1 a爲頂點。 -11 - 201142545 下面，參考圖ι〇中所示的模式圖對橫向倍率校正的作 用進行說明。如以在圖1 0 ( a )中以模式化方式顯示的那 樣，以一對圓筒構件28爲支點，驅動一對加壓夾持構件20 ，如圖1 〇 ( b )所示，若使第1平行平面板1 8沿投影光路的 光軸方向（第1平行平面板18的厚度方向）彎曲變形’則 橫向倍率對應於該第1平行平面板1 8的彎曲率而被縮小校 正，掩模圖形像與工件基板丨4的橫向收縮率對應而被收縮 ，並投影到工件基板14上。此外，若使第1平行平面板18 反向彎曲，則橫向倍率被擴大校正，掩模圖形像與工件基 板1 4的橫向的伸展率對應而被伸展，並投影到工件基板1 4 上。 像這樣對工件基板Μ進行橫向的倍率校正。 對於縱向上的倍率校正，除使得第2平行平面板21彎 曲變形以外，其餘均與橫向的倍率校正同樣，因而其說明 省略。 另外，在上述圖1 0 ( a )中，雙點點劃線所示的圓周 l〇a’顯示掩模圖形像的投影光路的外緣。 下面’參考圖11〜圖13中所示的模式圖對於應變變形 形成機構1 7的作用進行說明。 在以模式化方式顯示在圖11 (a)中的第3平行平面板 31的四個角部頂點31a之中，如圖11 (b)所示，如果對於 形成一條對角線的兩個頂點3 1 a施加加壓力F 1，該加壓力 F1的方向指向工件14所在的方向，並且，對於形成與上述 一條對角線正交的對角線的兩個頂點3 1 a施加加壓力F2， -12- 201142545 該加壓力F2的方向與方向是指向工件14的所在方向的加壓 力F 1的方向相反，則第3平行平面板3 1如圖1 1 ( c )所示， 呈菱形形狀應變變形，在工件基板1 4呈菱形形狀應變變形 的情況下，按照對應於呈菱形形狀應變變形的工件基板1 4 的形狀進行變形的掩模圖形像，被投影到該工件基板14上 〇 此外，如圖1 2 ( b )所示，如果對於以模式化方式顯 示在圖12 (a)中的、形成橫向的一邊的兩個頂點31a施加 加壓力F1，該加壓力F1的方向指向工件14所在的方向，並 且，對於形成與上述的橫向的一邊相平行的其它邊的兩個 頂點31a施加加壓力F2，該加壓力F2的方向與方向是指向 工件1 4的所在方向的加壓力F 1的方向相反，則第3平行平 面板3 1如圖1 2 ( c )所示變形爲梯形形狀，該梯形的橫向 的一邊爲底邊，其它邊爲上邊，在工件基板14變形爲梯形 的情況下，按照對應於呈梯形形狀變形的工件基板1 4的形 狀進行變形的掩模圖形像，被投影到該工件基板〗4上。 此外，如圖1 3 ( b )所示，如果對於以模式化方式顯 示在圖13 (a)中的、形成縱向的一邊的兩個頂點31a施加 加壓力F1，該加壓力F1的方向指向工件14所在的方向，並 且，對於形成與上述的縱向的一邊相平行的其它邊的兩個 頂點3 1 a施加加壓力F 2，該加壓力F 2的方向與方向是指向 工件1 4的所在方向的加壓力F 1的方向相反，則第3平行平 面板31如圖13(c)所不變形爲梯形形狀1該梯形的縱向 的一邊爲底邊，其它邊爲上邊，在工件基板14變形爲梯形 -13- 201142545 的情況下，按照對應於呈梯形形狀變形的工件基板14的形 狀進行變形的掩模圖形像，被投影到該工件基板1 4上。 此外，利用加壓夾持構件3 3來調節加壓力，從而也可 以將不同形狀的菱形、梯形的掩模圖形像投影在工件基板 14上。 並且，在本實施例中，對於同時對4個角部31A施加加 壓力以使第3平行平面板3 1變形的內容進行了說明，但是 ，如果僅利用位於4個角部3 1 A的加壓夾持構件3 3之中的其 中之一來加壓第3平行平面板3 1的話，則可以僅使三角形 區域KB局部呈異形形狀變形。 此外，在本實施例中，採用了將約束構件3 2配置在第 3平行平面板3 1的各邊的中點3 1 b的結構來說明，然而並不 限定於此，若採用配置在角部3 1 A和角部3 1 A之間的中間 部的結構的話，則可以更加進一步把複雜的掩模圖形像投 影到工件基板〗4。 除此之外，若將多個前述應變變形形成機構17重疊在 一起設置的話，則例如可以形成具有梯形變形和菱形形狀 的合成形狀的掩模圖形像、可以形成具有橫向梯形變形和 縱向梯形變形的合成形狀的掩模像、可以形成具有因調節 加壓力而不同的梯形形狀和不同的菱形形狀的合成形狀的 掩模像等。 因而，若將橫向倍率校正機構1 5、縱向倍率校正機構 1 6、應變變形形成機構1 7適當組合，則可以將與工件基板 1 4的複雜形狀的變形相對應的形狀的掩模圖形像投影在該 -14- 201142545 工件基板1 4上，從而能夠保證工件基板1 4和掩模圖形1 3 ’ 的精密對位。 如圖2所示，在本實施例中，由於結構構成爲：由第1 平行平面板18的長邊18a之中的不與第2平行平面板21相重 疊的端邊部18a’、和第2平行平面板21的長邊21a之中不與 第1平行平面板18重疊的端邊部21a’所形成的角部空間S中 ，第3平行平面板31的各角部31A暴露，所以可以鄰接地配 置橫向倍率校正機構15、縱向倍率校正機構16、應變變形 形成機構17，從而可以實現校正機構整體緊湊化。 此外在本實施例中’由於將第1平行平面板1 8、第2平 行平面板21、第3平行平面板31設置在了工件基板14與投 影透鏡組1 〇a之間，所以，即使有從在工件基板14上形成 的感光劑產生的氣體等出現了飛散，也能夠遮斷這些氣體 等朝向投影透鏡組飛散，因而，可以防止因氣體等附著在 投影透鏡組l〇a上而引發模糊不清。 另外，第1平行平面板18、第2平行平面板21、第3平 行平面板31可以適當更換。 此外，由於採用了如下結構，即：利用約束構件1 9、 22、32、加壓夾持構件20、23、33，經硬度、強度較高的 樹脂支承第1平行平面板1 8、第2平行平面板2 1、第3平行 平面板3 1，所以可以使各平行平面板1 8、2 1、3 1產生傷痕 或者裂紋的情況極力降低。 也就是說，根據本實施例，應變變形形成機構1 7包括 :應變變形用平行平面板3 1，設置在將掩模圖形1 3 ’投影 -15- 201142545 到工件基板14的投影光路中而被應變變形；約束構件32, 將由應變變形用平行平面板31的彼此相交的兩邊構成的角 部3 1 A和角部3 1 A之間的中間部作爲支點；加壓構件3 3 , 沿投影光路的光軸方向，對應變變形用平行平面板31的前 述各角部施加加壓力，以約束構件3 2作爲支點，使應變變 形用平行平面板3 1應變變形，由此，能夠將如下掩模圖形 像投影到工件基板1 4上，該掩模圖形像的形狀與不能由橫 向倍率校正機構15和縱向倍率校正機構〗6徹底校正的、又 在工件基板1 4上產生的應變變形相對應。 此外，若將橫向倍率校正機構1 5、縱向倍率校正機構 1 6和前述應變變形形成機構1 7適當組合使用，則可以進一 步精密地對位，其中，前述橫向倍率校正機構15包括：第 1平行平面板18，設置在將掩模圖形13’投影到工件基板14 上的投影光路中；一對約束構件19，在第1平行平面板18 上縱向延伸以便形成縱向延伸的支點，約束第1平行平面 板1 8 ;—對加壓構件20，沿第1平行平面板1 8的縱向延伸 ，並且沿投影光路的光軸方向對於第1平行平面板18的一 對縱邊（短邊）施加加壓力，以一對約束構件19爲支點， 使第1平行平面板18在投影光路的光軸方向上彎曲變形， 前述橫向倍率校正機構15進行掩模圖形13’的在橫向上的 倍率校正；另外，前述縱向倍率校正機構16包括：設置在 投影光路中的第2平行平面板21 ; —對約束構件22，在第2 平行平面板2 1上橫向延伸以便形成橫向延伸的支點，約束 第2平行平面板21 ; —對加壓構件23，沿第2平行平面板21 -16- 201142545 的橫向延伸’並且，沿投影光路的光軸方向對第2平行平 面板2 1的一對橫邊（短邊）施加加壓力，以—對約束構件 19爲支點’使第2平行平面板21在投影光路的光軸方向上 彎曲變形’前述縱向倍率校正機構16進行掩模圖形13’的 在縱向上的倍率校正。 如實施例詳細說明的那樣，由於具備應變變形形成機 構17’因而，通過對給四個角部31A施加加壓力的方向加 以選擇’能夠使前述平行平面板3 1變形爲菱形或者梯形形 狀，上述應變變形形成機構17包括：平行平面板31，設置 在將掩模圖形1 3 ’投影到工件基板1 4上的投影光路中；4個 約束構件32，在平行平面板31的彼此相交的兩邊構成的角 部3 1 A和角部3 1 A之間且以各邊的中點爲支點，因而分別 約束該各邊的中點部；4個加壓構件33，沿投影光路的光 軸方向對平行平面板31的各角部31A施加加壓力，並以各 約束構件32爲支點使平行平面板31應變變形。 在結構上構成爲具備橫向倍率校正機構15、縱向倍率 校正機構1 6和應變變形形成機構1 7，其中，前述橫向倍率 校正機構15包括：第1平行平面板18，設置在將掩模圖形 像投影到工件基板1 4上的投影光路中；—對約束構件1 9， 在第1平行平面板1 8上縱向延伸以便形成縱向延伸的支點 ，約束第1平行平面板1 8 ;—對加壓構件20，沿第1平行平 面板18的縱向延伸，並且沿投影光路的光軸方向對於第1 平行平面板1 8的一對縱邊施加加壓力’以一對約束構件1 9 爲支點，使第1平行平面板18在投影光路的光軸方向上彎 -17- 201142545 曲變形，前述橫向倍率校正機構15進行掩模圖形13’的在 橫向上的倍率校正；前述縱向倍率校正機構16包括：設置 在投影光路中的第2平行平面板21; —對約束構件22，在 第2平行平面板2 1上橫向延伸以便形成橫向延伸的支點， 約束第2平行平面板21 ;—對加壓構件23，沿第2平行平面 板21的橫向延伸，並且，沿投影光路的光軸方向對第2平 行平面板2 1的一對橫邊施加加壓力，以一對約束構件22爲 支點，使第2平行平面板21在投影光路的光軸方向上彎曲 變形，前述縱向倍率校正機構進行掩模圖形1 3 ’的在縱向 上的倍率校正；前述應變變形形成機構17包括：設置在投 影光路中的第3平行平面板31; 4個約束構件32，在第3平 行平面板3 1的彼此相交的兩邊構成的角部3 1 A和角部3 1 A 之間且以各邊的中點3 1 b爲支點，因而分別約束各邊的中 點部；4個加壓構件33，沿投影光路的光軸方向對第3平行 平面板3 1的各角部3 1 A施加加壓力，並以各約束構件3 2爲 支點使第3平行平面板3 1應變變形，並且，橫向倍率校正 機構1 5、縱向倍率校正機構1 6和應變變形形成機構1 7如圖 2所示重疊設置在工件基板14和投影透鏡組10a之間的投影 光路中，在由第1平行平面板8的長邊18a之中的不與第2平 行平面板21重铿的端邊部18a’、和第2平行平面板21的長 邊21a之中的不與第1平行平面板18重疊的端邊部21 a’形成 的角部空間S內，第3平行平面板31的各角部31A被露出配 置，從而，可以實現曝光裝置的緊湊化。 18- 201142545 【圖式簡單說明】 圖1是顯示本發明所述的曝光裝置的光學系統的槪況 的說明圖； 圖2是顯示在圖〗中所示的倍率校正機構的詳細機構的 俯視圖； 圖3是顯示在圖2中所示的倍率校正機構的詳細機構的 側視圖； 圖4是顯示在圖2中所示的橫向倍率校正機構的詳細機 構的俯視圖： 圖5是顯示在圖2中所示的橫向倍率校正機構的詳細機 構的側視圖； 圖ό是顯示在圖4、圖5中所示的橫向倍率校正機構的 詳細機構的立體圖； 圖7是顯示在圖2中所示的應變變形形成機構的詳細結 構的俯視圖； 圖8是顯示在圖7中所示的約束構件的約束狀態的側視 圖， 圖9是顯示在圖7中所示的加壓夾持構件的加壓夾持狀 態的側視圖； 圖10是用來說明在圖2中所示的橫向倍率校正機構的 作用的模式圖，（a)是顯示第1平行平面板的支承狀態的 模式圖，（b )是從側面觀察在（a )中所示的橫向平行平 面板的彎曲狀態的模式圖。 圖Μ是用來說明應變變形形成機構的作用的模式圖， -19- 201142545 (a )是在從俯視方向觀察的情況下，對於第3平行平面板 的一對角方向的一對頂點施加同向的加壓力，而且對於其 它的對角方向的一對頂點，施加與上一對角方向的一對頂 點施加的加壓力的方向相反的加壓力的狀況下的模式圖； (b )是從側視方向對施加有（a )中所示的加壓力的第3 平行平面板進行觀察的情況下的模式圖；（c )是誇張顯 示通過該加壓力使第3平行平面板呈菱形變形的狀況的模 式圖。 圖12是用來說明應變變形形成機構的作用的模式圖， (a)是在從俯視方向觀察的情況下，對於第3平行平面板 的橫向的一邊的一對頂點施加同向的加壓力，而且對於與 橫向的一邊相平行的其它邊的一對頂點，施加與給上一邊 的一對頂點施加的加壓力的方向相反的加壓力的狀況下的 模式圖；（b )是從側視方向對施加了（ a )中所示的加壓 力的第3平行平面板進行觀察的情況下的模式圖；（c )是 誇張顯不通過該加壓力使第3平仃平面板呈縱向梯形變形 的狀況的模式圖。 圖1 3是用來說明應變變形形成機構的作用的模式圖， (a)是在從俯視方向觀察的情況下，對於第3平行平面板 的縱向的一邊的一對頂點施加同向的加壓力，而且對於與 縱向的一邊相平行的其它邊的一對頂點，施加與給上一邊 的一對頂點施加的加壓力的方向相反的加壓力的狀況下的 模式圖；（b )是從側視方向對施加了（ a )中所示的加壓 力的第3平行平面板進行觀察的情況下的模式圖；（c)是 -20- 201142545 誇張顯示通過該加壓力使第3平行平面板呈橫向梯形變形 的狀況的模式圖。 【主要元件符號說明】 1 :工件基板 1 a :水銀燈 1 b :旋轉橢圓鏡 2 :冷鏡 3 :曝光快門 4 :帶通濾波器 5 :積分透鏡 6 :准直透鏡 7 :平面鏡 8 :掩模台 9 :掩模盲區部 1 〇 :影透鏡保持筒 1 〇 a :投影透鏡組 1 0 a :圓周 1 1 :倍率校正機構 12 :曝光台 1 3 :掩模 1 3 ’ ：掩模圖形 1 3 a :對位元標記 1 4 :工件基板 -21 - 201142545 14a :對位元標記 1 5 :橫向倍率校正機構 1 6 :縱向倍率校正機構 1 7 :應變變形形成機構 1 8 :第1平行平面板 1 8 a :長邊 18a’ ：端邊部 20 :加壓挾持構件（加壓構件） 2 1 :第2平行平面板 2 1 a :長邊 2 1a’ ：端邊部 23 :加壓挾持構件（加壓構件） 27 :支承框構件 27a :下框構件 27b :上框構件 2 7 c :連接框構件 27e :凹槽部 28 :圓筒構件 28a :圓柱狀芯構件 28b :包覆樹脂 29 :夾持框構件 2 9 a :下框構件 29b :上框構件 29c:連接框構件 -22- 201142545 3 0 :圓筒構件 3〇a :圓柱狀芯構件 3〇b :包覆樹脂 31 :第3平行平面板（應變變形用平行面板） 3 1 A :角部 3 1 a :頂點 3 1 b :中點 3 2 :束構件 3 3 :加壓挾持構件（加壓構件） 34 =支承框構件 3 4 a :下框構件 3 4b :上框構件 34c :連接框構件 3 5 :樹脂製半球體 3 6 =支承框構件 36a :下框構件 3 6b :上框構件 36c :連接框構件 3 7 :球體 3 7a :球狀鐵芯 3 7 b :包覆樹脂 -23-

Claims (1)

1. 201142545 七、申請專利範園： 1. 一種曝光裝置，其特徵在於’ 具備應變變形形成機構，該應變變形形成機 應變變形用平行平面板，設置在將掩模圖形投影 板的投影光路中而被應變變形；約束構件，將由 面板的彼此相交的兩邊構成的角部和角部之間的 爲支點；加壓構件，沿前述投影光路的光軸方向 行平面板的前述各角部施加加壓力，以前述約束 支點使前述平行平面板應變變形。 2-如申請專利範圍第1項所記載的曝光裝置 具備橫向倍率校正機構和縱向倍率校正機構 前述橫向倍率校正機構包括：橫向平行平面 在將掩模圖形投影到工件基板上的投影光路中； 構件’在該橫向平行平面板上縱向延伸以便形成 的支點，約束前述橫向平行平面板；一對加壓構 述橫向平行平面板的縱向延伸，並且沿前述投影 軸方向對前述橫向平行平面板的一對縱邊施加加 前述的一對約束構件爲支點，使前述橫向平行平 影光路的光軸方向上彎曲變形， 前述橫向倍率校正機構進行前述掩模圖形的 的倍率校正； 前述縱向倍率校正機構包括：設置在前述投 的縱向平行平面板；一對約束構件，在該縱向平 上橫向延伸以便形成橫向延伸的支點，約束前述 構包括： 到工件基 該平行平 中間部作 對前述平 構件作爲 ，其中， 板，設置 一對約束 縱向延伸 件，沿前 光路的光 壓力，以 面板在投 在橫向上 影光路中 行平面板 縱向平行 -24- 201142545 平面板；一對加壓構件，沿前述縱向平行平面板的橫向延 伸’並且’沿前述投影光路的光軸方向對前述縱向平行平 面板的一對橫邊施加加壓力，以前述的一對約束構件爲支 點’使前述縱向平行平面板在投影光路的光軸方向上彎曲 變形， 前述縱向倍率校正機構進行掩模圖形的在縱向上的倍 率校正。 3. —種曝光裝置，其特徵在於， 具備應變變形形成機構，該應變變形形成機構包括： 平行平面板，設置在將掩模圖形投影到工件基板的投影光 路中：4個約束構件，在該平行平面板的彼此相交的兩邊 構成的角部和角部之間且以各邊的中點爲支點，因而分別 約束該各邊的中點部；4個加壓構件，沿投影光路的光軸 對前述平行平面板的前述各角部施加加壓力，並以前述各 約束構件爲支點使前述平行平面板應變變形。 4. 一種曝光裝置，其特徵在於， 具備橫向倍率校正機構、縱向倍率校正機構和應變變 形形成機構， 前述橫向倍率校正機構包括：第1平行平面板，設置 在將掩模圖形投影到工件基板上的投影光路中；一對約束 構件’在該第1平行平面板上縱向延伸以便形成縱向延伸 的支點’約束前述第1平行平面板；一對加壓構件，沿前 述第1平行平面板的縱向延伸，並且沿前述投影光路的光 軸方向對前述第1平行平面板的一對縱邊施加加壓力，以 -25- 201142545 前述的一對約束構件爲支點，使前述第1平行平面板在前 述投影光路的光軸方向上彎曲變形， 前述橫向倍率校正機構進行前述掩模圖形的在橫向上 的倍率校正； 前述縱向倍率校正機構包括：設置在前述投影光路中 的第2平行平面板；一對約束構件，在該第2平行平面板上 橫向延伸以便形成橫向延伸的支點，約束前述第2平行平 面板；一對加壓構件，沿前述第2平行平面板的橫向延伸 ，並且，沿前述投影光路的光軸方向對前述第2平行平面 板的一對橫邊施加加壓力，以前述的一對約束構件爲支點 ，使前述第2平行平面板在前述投影光路的光軸方向上彎 曲變形， 前述縱向倍率校正機構進行掩模圖形的在縱向上的倍 率校正； 前述應變變形形成機構，包括：設置在前述投影光路 中的第3平行平面板；4個約束構件，在該第3平行平面板 的彼此相交的兩邊構成的角部和角部之間且以各邊的中點 爲支點，因而分別約束該各邊的中點部；4個加壓構件， 沿前述投影光路的光軸對前述第3平行平面板的前述各角 部施加加壓力’並以前述各約束構件爲支點使前述第3平 行平面板應變變形。 5 ·如申請專利範圍第4項所記載的曝光裝置，其中， 前述橫向倍率校正機構、前述縱向倍率校正機構和前 述應變變形形成機構’重疊設置在前述工件基板和投影透 -26- 201142545 鏡組之間的投影光路中。 6.如申請專利範圍第5項所記載的曝光裝置’其中， 在由前述第1平行平面板的長邊之中不與前述第2平行 平面板重疊的端邊部、和前述第2平行平面板的長邊之中 不與前述第1平行平面板重疊的端邊部形成的角部空間內 ，前述第3平行平面板的各角部被露出配置》 7 .如申請專利範圍第3到6項中任一項所記載的曝光 裝置，其中， 通過對給前述四個角部施加的加壓力的方向加以選擇 ，從而能夠使前述平行平面板變形爲菱形或者梯形形狀。 -27-