JP5523206B2 - 露光装置 - Google Patents

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Description

本発明は、ワーク基板に生じている変形に対応するマスクパターン像を投影可能な露光装置に関する。
従来から、露光装置には、ワーク基板の温度を測定し、ワーク基板の温度に対応させて投影光路に配置された二枚の平行平面板の一方を、一対の縦辺を支点にして厚さ方向に撓ませることにより横方向(X方向)に湾曲変形させ、他方の平行平面板を一対の横辺を支点にして厚さ方向に撓ませることにより縦方向(Y方向)に湾曲変形させ、横方向(X方向)、縦方向(Y方向)の倍率を変化させることにより、ワーク基板の収縮に対応したマスクパターン像をワーク基板に投影するものが知られている(例えば、特許文献1参照。)。
また、この二枚の平行平面板を回動可能の構成としたものも知られている(例えば、特許文献2参照。)。
更に、この二枚の平行平面板の湾曲率を変更させることなくワーク基板の収縮に対応したマスク像をワーク基板に投影するものが知られている(例えば、特許文献3参照。)。
そのワーク基板には、プリント配線基板やTABテープ、多層化プリント配線基板等の各種のものがあり、例えば、プリント配線基板では、エポキシ樹脂と銅箔との熱膨張差に起因するテンションにより縦横比が変わり、TABテープでもポリイミド樹脂と銅箔との熱膨張差により同様に縦横比が変わる。
また、例えば、多層化プリント配線基板では、先に形成された下パターンの上に新たな上パターンを形成する際に、先に形成された下パターンがワーク基板の伸縮により伸びたり縮んだりしている。
これらの従来の露光装置では、これらのワーク基板の伸縮に伴う縦横比を補正することができる。
特開平10−303115号公報 特開2003−223003号公報 特開2006−292902号公報
ところで、近時、ワーク基板に微細な露光パターンを形成することが益々要求されているが、ワーク基板には、熱膨張の差やその他の原因に起因して縦横の伸縮変形のみならず、対角方向その他の方向への変形が生じ、例えば、ワーク基板には台形変形や菱形形状の歪み変形等の各種の歪み変形が生じている。
従来の露光装置は、倍率補正を行うものであるから、ワーク基板に生じている歪み変形に極力対応するマスクパターン像をそのワーク基板に投影し難いという問題点がある。
本発明は、上記の事情に鑑みて為されたもので、その目的は、ワーク基板に生じている変形に極力対応するマスクパターン像を投影可能な露光装置を提供することにある。
本発明の露光装置は、ワーク基板に投影されるマスクパターンの投影光路に設けられた平行平面板と、該平行平面板の互いに交差する二辺により構成される角部と角部との間でかつ各辺の中点を支点とするために当該各辺の中点部をそれぞれ拘束する4個の拘束部材と、前記平行平面板の前記各角部に前記投影光路の光軸方向に加圧力を加えて前記各拘束部材を支点にして前記平行平面板を歪み変形させる4個の加圧部材とからなる歪み変形形成機構を備えていることを特徴とする。
本発明によれば、ワーク基板の投影光路に設けられた歪み変形用平行平面板とこの平行平面板の角部を光軸方向に変形させてそのワーク基板の歪み変形に対応する歪み変形を有するマスクパターン像を形成することができるので、横方向倍率補正機構や縦方向倍率補正機構では補正しきれないワーク基板に生じている変形に対応する形状を有するマスクパターン像をワーク基板に投影できるという効果を奏する。
図1は本発明に係る露光装置の光学系の概要を示す説明図である。 図2は図1に示す倍率補正機構の詳細構成を示す平面図である。 図3は図2に示す倍率補正機構の詳細構成を示す側面図である。 図4は図2に示す横方向倍率補正機構の詳細構成を示す平面図である。 図5は図4に示す横方向倍率補正機構の詳細構成を示す側面図である。 図6は図4、図5に示す横方向倍率補正機構の詳細構成を示す斜視図である。 図7は図2に示す歪み変形形成機構の詳細構成を示す平面図である。 図8は図7に示す拘束部材の拘束状態を示す側面図である。 図9は図7に示す加圧挟持部材の加圧挟持状態を示す側面図である。 図10は図2に示す横方向倍率補正機構の作用を説明するための模式図であって、(a)は第1平行平面板の支持状態を示す模式図、(b)は(a)に示す横方向平行平面板の湾曲状態を側面から見た模式図である。 図11は歪み変形形成機構の作用を説明するための模式図であって、(a)は第3平行平面板の一の対角方向の一対の頂点に同方向の加圧力を加えかつ他の対角方向の一対の頂点に一の対角方向の一対の頂点に加わる加圧力とは反対方向の加圧力を加えた状態を平面方向から見た場合の模式図、(b)は(a)に示す加圧力が加えられた第3平行平面板を側面方向から見た場合の模式図、(c)はその加圧力により第3平行平面板が菱形に変形している状態を誇張して示す模式図である。 図12は歪み変形形成機構の作用を説明するための模式図であって、(a)は第3平行平面板の横方向の一辺の一対の頂点に同方向の加圧力を加えかつ横方向の一辺と平行な他の辺の一対の頂点に一辺の一対の頂点に加わる加圧力とは反対方向の加圧力を加えた状態を平面方向から見た場合の模式図、(b)は(a)に示す加圧力が加えられた第3平行平面板を側面方向から見た場合の模式図、(c)はその加圧力により第3平行平面板が縦方向の台形に変形している状態を誇張して示す模式図である。 図13は歪み変形形成機構の作用を説明するための模式図であって、(a)は第3平行平面板の縦方向の一辺の一対の頂点に同方向の加圧力を加えかつ縦方向の一辺と平行な他の辺の一対の頂点に一辺の一対の頂点に加わる加圧力とは反対方向の加圧力を加えた状態を平面方向から見た場合の模式図、(b)は(a)に示す加圧力が加えられた第3平行平面板を側面方向から見た場合の模式図、(c)はその加圧力により第3平行平面板が横方向の台形に変形している状態を誇張して示す模式図である。
図1は本発明に係る露光装置の光学系の概要を示す説明図であって、1は光源部、2はコールドミラー、3は露光シャッター、4は紫外線(i線)バンドパスフィルター、5はインテグレータレンズ、6はコリメータレンズ、7は平面鏡、8はマスクステージ、9はマスクブラインド、10は投影レンズ保持筒、11は倍率補正機構、12は露光ステージである。なお、その露光シャッター3は、露光の際には、光学系の光路から適宜退避される。
光源部1は水銀ランプ1aと回転楕円鏡1bから構成され、水銀ランプ1aは回転楕円鏡1bの第1焦点位置に配置され、水銀ランプ1aからの発光光束は回転楕円鏡1bによって反射されて第2焦点位置に集光され、コールドミラー2によって赤外波長よりも長波長の赤外線が除去されて可視赤外光の波長よりも短い短波長域の光束が反射されてバンドパスフィルター4に導かれ、このバンドパスフィルター4によって紫外線(i線)以外の波長域の光線がカットされて、露光用光束Pとしてインテグレータレンズ5に導かれる。
露光用光束Pは、そのインテグレータレンズ5によって光量分布が概略一様とされて、コリメータレンズ6に導かれる。そのコリメータレンズ6は、その第2焦点位置に焦点を有し、露光用光束Pはそのコリメータレンズ6によって平行光束にされ、平面鏡7により光路が折り曲げられてマスクステージ8に導かれる。
マスクステージ8にはマスク13が設けらている。このマスク13にはワーク基板14に形成すべきマスクパターン13’が形成されている。そのマスク13は、後述するワーク基板14とのアライメントを行うためのアライメントマーク13aを有する。そのマスクステージ8は図示を略す駆動機構によって横(X)方向及び縦(Y)方向に移動可能とされている。
マスクブラインド9は、露光用光束Pによりワーク基板14を露光する際には、光学系の投影光路から適宜退避される。
投影レンズ保持筒10の内部には、投影レンズ群10aが設けられている。この投影レンズ群10aはマスク13のパターンをこの実施例では拡大してワーク基板14に結像させる。
ワーク基板14は露光ステージ12に載置されている。そのワーク基板14は、例えば、正方形であり、そのワーク基板14には、適宜箇所にアライメントマーク14aが予め形成されている。その露光ステージ12は図示を略す駆動機構によって横(X)方向及び縦(Y)方向に移動可能とされている。
なお、この図1には、アライメントマーク13a、14aが肉眼で視認可能な大きさで図示されているが、これは誇張して示したもので、実際には肉眼では目視し難い大きさである。
倍率補正機構11は、図2、図3に示すように、横方向倍率補正機構15と縦方向倍率補正機構16と歪み変形形成機構17とから構成されている。
横方向倍率補正機構15は、図2ないし図6に示すように、横方向を長辺としかつ縦方向を短辺とする長方形の第1平行平面板(横方向平行平面板)18と、一対の拘束部材19と、一対の加圧挟持部材(加圧部材)20とにより構成されている。縦方向倍率補正機構16は、縦方向を長辺としかつ横方向を短辺とする長方形の第2平行平面板(縦方向平行平面板)21と、一対の拘束部材22と、一対の加圧挟持部材(加圧部材)23とにより構成されている。
横方向倍率補正機構15と縦方向倍率補正機構16とは、 第1平行平面板18と第2平行平面板21とがマスクパターン13’の投影光路中で互いに上下方向に間隔を開けてかつ互いに直交する方向に配設され、かつ、この第1平行平面板18と第2平行平面板21との直交配置に対応して一対の拘束部材19、22と一対の加圧挟持部材20、23との配設箇所が異なる以外はその構成が同一であるので、横方向倍率補正機構15の構成について説明する。
なお、その図2において、二点鎖線で示す正方形枠は、第1平行平面板18と第2平行平面板21とが互いに重なり合った正方形の交差領域であり、露光用光束Pの有効投影光路領域ETでもある。露光用光束Pはこの有効投影光路領域ETを通してワーク基板14に照射される。
一対の拘束部材19は、第1平行平面板18の短辺方向に長く延びる支持枠部材27と円筒部材28とから構成されている。その支持枠部材27は下枠部材27aと上枠部材27bと連結枠部材27cとから構成され、下枠部材27aと上枠部材27bとの間に、図6に示すように、第1平行平面板18を案内する案内口27dが形成されている。
円筒部材28は鉄等の材料からなる円柱状芯部材28aとこの円柱状芯部材28aを被覆する被覆樹脂28bとから構成されている。この円筒部材28は下枠部材27aの溝部27eと上枠部材27bの溝部27eとに配設されている。この円筒部材28は、第1平行平面板18の両面にそれぞれ接し、支持枠部材27と協働して第1平行平面板18を撓み変形可能に拘束している。
一対の加圧挟持部材20は、図5、図6に示すように、拘束部材19と同様に、第1平行平面板18の短辺方向に長く延びる挟持枠部材29と円筒部材30とから構成されている。その挟持枠部材29は下枠部材29aと上枠部材29bと連結枠部材29cとから構成されている。その連結枠部材29cは駆動アーム(図示を略す)に連結されている。
円筒部材30は円筒部材28と同様に鉄等の材料からなる円柱状芯部材30aとこの円柱状芯部材30aを被覆する被覆樹脂30bとから構成されている。この円筒部材30は下枠部材29aと上枠部材29bとに配設されている。この円筒部材30は、第1平行平面板18の両面にそれぞれ接し、挟持枠部材29と協働して第1平行平面板18を握持している。
歪み変形形成機構17は、図7ないし図9に示すように、第3平行平面板(歪み変形用平行平面板)31と、4個の指型形状の拘束部材32と4個の指型形状の加圧挟持部材(加圧部材)33とにより構成されている。第3平行平面板31は第1平行平面板18、第2平行平面板21の短辺よりも長くかつ第1平行平面板18、第2平行平面板21の長さよりも短い長さの辺を有する正方形板から構成されている。この第3平行平面板31は、第2平行平面板21に近接して配設される。
なお、ここでは、第1平行平面板18、第2平行平面板21、第3平行平面板31は石英ガラス材料を用いて形成されている。
その拘束部材32は、図8に示すように、支持枠部材34と樹脂製半球ボール35とから構成されている。支持枠部材34は下枠部材34aと上枠部材34bと連結枠部材34cとから構成されている。
その拘束部材32は、第3平行平面板31の各辺の中点位置に配設されている。その樹脂製半球ボール35は支持枠部材34と協働して第3平行平面板31の各辺の中点位置を上面と下面と側面との三方向から拘束している。
加圧挟持部材33は、支持枠部材36とボール37とから構成されている。支持枠部材36は下枠部材36aと上枠部材36bと連結枠部材36cとから構成されている。その連結枠部材36cは駆動アーム(図示を略す)に連結されている。
ボール37は球状鉄芯37aとこの球形鉄芯37aを被覆する被覆樹脂37bとから構成されている。その加圧挟持部材33は、図7に示すように、その第3平行平面板31の四隅の角部31Aに配設されて、第3平行平面板31の各辺の中点31bを結ぶ線分を底辺Kとしかつ平行平面板31の二辺が交わる点31aを頂点とする三角形領域KBを撓み変形可能に挟持している。
次に、横方向の倍率補正の作用について図10に示す模式図を参照しつつ説明する。
図10(a)に模式的に示すように、一対の円筒部材28を支点にして、一対の加圧挟持部材20を駆動して、第1平行平面板18を図10(b)に示すように、投影光路の光軸方向(第1平行平面板18の厚さ方向)に湾曲変形させると、その第1平行平面板18の湾曲率に応じて、横方向の倍率が縮小補正され、マスクパターン像がワーク基板14の横方向の縮み率に対応して縮んでワーク基板14に投影される。また、第1平行平面板18を逆方向に湾曲させると、横方向の倍率が拡大補正され、マスクパターン像がワーク基板14の横方向の伸び率に対応して伸びてワーク基板14に投影される。
このようにして、ワーク基板14の横方向の倍率補正が行われる。
縦方向の倍率補正については、第2平行平面板21を湾曲変形させる他は、横方向の倍率補正と同様であるのでその説明は省略する。
なお、その図10(a)において、二点鎖線で示す円10a'は、マスクパターン像の投影光路の外縁を示している。
次に、歪み変形形成機構17の作用を図11ないし図13に示す模式図を参照しつつ説明する。
図11(a)に模式的に示す第3平行平面板31の四隅の頂点31aのうち一の対角線を形成する二つの頂点31aに、図11(b)に示すように、ワーク基板14が存在する方向に向かう方向の加圧力F1を加えると共に、この一の対角線と直交する対角線を形成する二つの頂点31aにワーク基板14が存在する方向に向かう方向の加圧力F1とは反対方向の加圧力F2を加えると、第3平行平面板31が図11(c)に示すように菱形形状に歪み変形し、ワーク基板14が菱形形状に変形している場合には、この菱形形状に変形したワーク基板14に対応する形状に変形したマスクパターン像が当該ワーク基板14
に投影される。
また、図12(a)に模式的に示す横方向の一辺を形成する二つの頂点31aに、図12(b)に示すように、ワーク基板14が存在する方向に向かう方向の加圧力F1を加えると共に、この横方向の一辺と平行な他の辺を形成する二つの頂点31aにワーク基板14が存在する方向に向かう方向の加圧力F1とは反対方向の加圧力F2を加えると、第3平行平面板31が図12(c)に示すように横方向の一辺を底辺とし他の辺を上辺とする台形形状に変形し、ワーク基板14が台形形状に変形している場合には、この台形形状に変形したワーク基板14に対応する形状に変形したマスクパターン像が当該ワーク基板14に投影される。
また、図13(a)に模式的に示す縦方向の一辺を形成する二つの頂点31aに、図13(b)に示すように、ワーク基板14が存在する方向に向かう方向の加圧力F1を加えると共に、この縦方向の一辺と平行な他の辺を形成する二つの頂点31aにワーク基板14が存在する方向に向かう方向の加圧力F1とは反対方向の加圧力F2を加えると、第3平行平面板31が図に示すように縦方向の一辺を底辺とし他の辺を上辺とする台形形状に変形し、ワーク基板14が台形形状に変形している場合には、この台形形状に変形したワーク基板14に対応する形状に変形したマスクパターン像が当該ワーク基板14に投影される。
また、加圧挟持部材33による加圧力を調節することにより、異なる形状の菱形、台形のマスクパターン像をワーク基板14に投影することもできる。
更に、この実施例では、四つの角部31Aに同時に加圧力を加えて、第3平行平面板31を変形させることとして説明したが、四つの角部31Aに存在する加圧挟持部材33のうちの1つのみにより第3平行平面板31を加圧することにすれば、三角領域KBのみを局所的に異形形状に変形させることができる。
また、この実施例では、拘束部材32を第3平行平面板31の各辺の中点31bに配置する構成として説明したが、これに限るものではなく、角部31Aと角部31Aとの間の中間部に配設する構成とすれば、より一層、複雑なマスクパターン像をワーク基板14に投影できる。
加えて、この歪み変形形成機構17を複数個重ね合わせて設ければ、例えば、台形変形と菱形形状との合成形状を有するマスクパターン像を形成すること、横方向の台形変形と縦方向の台形変形との合成形状を有するマスクパターン像を形成すること、加圧力を調節することにより異なる台形形状と異なる菱形形状との合成形状を有するマスクパターン像を形成すること等も可能である。
従って、横方向倍率補正機構15、縦方向倍率補正機構16、歪み変形形成機構17を適宜組み合わせれば、ワーク基板14の複雑形状の変形に対応する形状のマスクパターン像を当該ワーク基板14に投影でき、ワーク基板14とマスクパターン13'との精密アライメントが可能となる。
この実施例では、図2に示すように、第1平行平面板18の長辺18aのうちの第2平行平面板21に重なり合っていない端辺部18a'と第2平行平面板21の長辺21aのうちの第1平行平面板18に重なり合っていない端辺部21a'とによって形成される角部空間Sに、第3平行平面板31の各角部31Aが露呈する構造とされているので、横方向倍率補正機構15、縦方向倍率補正機構16、歪み変形形成機構17を近接配設することができ、補正機構全体のコンパクト化を図ることができる。
また、この実施例では、第1平行平面板18、第2平行平面板21、第3平行平面板31をワーク基板14と投影レンズ群10aとの間に設けたので、ワーク基板14に形成した感光剤から発生するガス等が飛散したとしても、これらのガス等が投影レンズ群に向かって飛散するのを遮断することができ、従って、ガス等の投影レンズ群10aへの付着に起因する曇りの発生を防止できる。
なお、第1平行平面板18、第2平行平面板21、第3平行平面板31は適宜交換可能である。
また、第1平行平面板18、第2平行平面板21、第3平行平面板31を硬度、強度の高い樹脂を介して拘束部材19、22、32、加圧挟持部材20、23、33により支持する構成としたので、各平行平面板18、21、31に傷や割れが発生するのを極力低減できる。
すなわち、この実施例によれば、歪み変形形成機構17が、ワーク基板14に投影されるマスクパターン13’の投影光路に設けられて歪み変形される歪み変形用平行平面板31と、歪み変形用平行平面板31の互いに交差する二辺により構成される角部31Aと角部31Aとの間の中間部を支点とする拘束部材32と、歪み変形用平行平面板31の各角部31Aに投影光路の光軸方向に加圧力を加えて拘束部材32を支点にして歪み変形用平行平面板31を歪み変形させる加圧部材33とから構成されているので、横方向倍率補正機構15や縦方向倍率補正機構16では補正しきれないワーク基板14に生じている歪み変形に対応する形状を有するマスクパターン像をワーク基板14に投影できる。
また、ワーク基板14に投影されるマスクパターン13’の投影光路に設けられた第1平行平面板18と、第1平行平面板18に縦方向に延びる支点を形成するために縦方向に延びて第1平行平面板18を拘束する一対の拘束部材19と、第1平行平面板18の縦方向に延びかつ第1平行平面板18の一対の縦辺(短辺)に投影光路の光軸方向に加圧力を加えて一対の拘束部材19を支点にして投影光路の光軸方向に湾曲変形させる一対の加圧部材20とからなり、マスクパターン13'の横方向の倍率補正を行う横方向倍率補正機構15と、
投影光路に設けられた第2平行平面板21と、第2平行平面板21横方向に延びる支点を形成するために横方向に延びて第2平行平面板21を拘束する一対の拘束部材22と、第2平行平面板21の横方向に延びかつ第2平行平面板21の一対の横辺(短辺)に投影光路の光軸方向に加圧力を加えて一対の拘束部材22を支点にして投影光路の光軸方向に湾曲変形させる一対の加圧部材23とからなり、マスクパターン13'の縦方向の倍率補正を行う縦方向倍率補正機構16とを、その歪み変形形成機構17に組み合わせて用いれば、更に、精密アライメントが可能となる。
実施例で詳細に説明したように、ワーク基板14に投影されるマスクパターン13’の投影光路に設けられた平行平面板31と、平行平面板31の互いに交差する二辺により構成される角部31Aと角部31Aとの間でかつ各辺の中点を支点とするために当該各辺の中点部をそれぞれ拘束する4個の拘束部材32と、平行平面板31の各角部31Aに投影光路の光軸方向に加圧力を加えて各拘束部材32を支点にして平行平面板31を歪み変形させる4個の加圧部材33とからなる歪み変形形成機構17を備えているので、四つの角部31Aに加える加圧力の方向を選択することにより平行平面板31を菱形又は台形形状に変形させることが可能である。
ワーク基板14に投影されるマスクパターン像の投影光路に設けられた第1平行平面板18と、第1平行平面板18に縦方向に延びる支点を形成するために縦方向に延びて第1平行平面板18を拘束する一対の拘束部材19と、第1平行平面板18の縦方向に延びかつ第1平行平面板18の一対の縦辺に投影光路の光軸方向に加圧力を加えて一対の拘束部材19を支点にして投影光路の光軸方向に湾曲変形させる一対の加圧部材20とからなり、マスクパターン13'の横方向の倍率補正を行う横方向倍率補正機構15と、
投影光路に設けられた第2平行平面板21と、第2平行平面板21横方向に延びる支点を形成するために横方向に延びて第2平行平面板21を拘束する一対の拘束部材22と、第2平行平面板21の横方向に延びかつ第2平行平面板21の一対の横辺に投影光路の光軸方向に加圧力を加えて一対の拘束部材22を支点にして投影光路の光軸方向に湾曲変形させる一対の加圧部材23とからなり、マスクパターン13'の縦方向の倍率補正を行う縦方向倍率補正機構16と、
投影光路に設けられた第3平行平面板31と第3平行平面板31の互いに交差する二辺により構成される角部31Aと角部31Aとの間でかつ各辺の中点31bを支点とするために各辺の中点部をそれぞれ拘束する4個の拘束部材32と、第3平行平面板31の各角部31Aに投影光路の光軸方向に加圧力を加えて各拘束部材32を支点にして第3平行平面板31を歪み変形させる4個の加圧部材33とからなる歪み変形形成機構17を備える構成とし、
これらの横方向倍率補正機構15と縦方向倍率補正機構16と歪み変形形成機構17とを、図2に示すように、ワーク基板14と投影レンズ群10aとの間の投影光路に重ね合わせて配設し、第1平行平面板18の長辺18aのうちの第2平行平面板21に重なり合っていない端辺部18a'と第2平行平面板21の長辺21aのうちの第1平行平面板18に重なり合っていない端辺部21a'とによって形成される角部空間Sに、第3平行平面板31の各角部31Aが露呈する配置とすれば、露光装置のコンパクト化を図ることができる。
13’…マスクパターン
14…ワーク基板
17…歪み変形形成機構
31…第3平行平面板(歪み変形用平行平面板)
31A…角部
33…加圧挟持部材(加圧部材)

Claims (5)

  1. ワーク基板に投影されるマスクパターンの投影光路に設けられた平行平面板と、該平行平面板の互いに交差する二辺により構成される角部と角部との間でかつ各辺の中点を支点とするために当該各辺の中点部をそれぞれ拘束する4個の拘束部材と、前記平行平面板の前記各角部に前記投影光路の光軸方向に加圧力を加えて前記各拘束部材を支点にして前記平行平面板を歪み変形させる4個の加圧部材とからなる歪み変形形成機構を備えていることを特徴とする露光装置。
  2. ワーク基板に投影されるマスクパターンの投影光路に設けられた第1平行平面板と、該第1平行平面板に縦方向に延びる支点を形成するために縦方向に延びて前記第1平行平面板を拘束する一対の拘束部材と、前記第1平行平面板の縦方向に延びかつ該第1平行平面板の一対の縦辺に前記投影光路の光軸方向に加圧力を加えて前記一対の拘束部材を支点にして前記投影光路の光軸方向に湾曲変形させる一対の加圧部材とからなり、前記マスクパターンの横方向の倍率補正を行う横方向倍率補正機構と、
    前記投影光路に設けられた第2平行平面板と、該第2平行平面板横方向に延びる支点を形成するために横方向に延びて前記第2平行平面板を拘束する一対の拘束部材と、前記第2平行平面板の横方向に延びかつ該第2平行平面板の一対の横辺に前記投影光路の光軸方向に加圧力を加えて前記一対の拘束部材を支点にして前記投影光路の光軸方向に湾曲変形させる一対の加圧部材とからなり、前記マスクパターンの縦方向の倍率補正を行う縦方向倍率補正機構と、
    前記投影光路に設けられた第3平行平面板と、該第3平行平面板の互いに交差する二辺により構成される角部と角部との間でかつ各辺の中点を支点とするために当該各辺の中点部をそれぞれ拘束する4個の拘束部材と、前記第3平行平面板の前記各角部に前記投影光路の光軸方向に加圧力を加えて前記各拘束部材を支点にして前記第3平行平面板を歪み変形させる4個の加圧部材とからなる歪み変形形成機構を備えていることを特徴とする露光装置。
  3. 前記横方向倍率補正機構と前記縦方向倍率補正機構と前記歪み変形形成機構とが前記ワーク基板と投影レンズ群との間の投影光路に重ね合わせて配設されていることを特徴とする請求項2に記載の露光装置。
  4. 前記第1平行平面板の長辺のうちの前記第2平行平面板に重なり合っていない端辺部と前記第2平行平面板の長辺のうちの前記第1平行平面板に重なり合っていない端辺部とによって形成される角部空間に、前記第3平行平面板の各角部が露呈する配置とされていることを特徴とする請求項3に記載の露光装置。
  5. 前記四つの角部に加える加圧力の方向を選択することにより前記平行平面板を菱形又は台形形状に変形させることが可能であることを特徴とする請求項1ないし請求項4のいずれか1項に記載の露光装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20130146016A1 (en) 2011-12-09 2013-06-13 Hyundai Motor Company Cylinder head for vehicle
CN102495537A (zh) * 2011-12-31 2012-06-13 上海飞为自动化系统有限公司 一种用于印刷电路板制作的装置
JP2013195487A (ja) * 2012-03-16 2013-09-30 Topcon Corp 露光装置
WO2013174646A1 (en) * 2012-05-24 2013-11-28 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
CN103105741B (zh) * 2013-01-22 2015-01-21 北京京东方光电科技有限公司 对位补偿装置及曝光装置
WO2015173362A1 (de) * 2014-05-14 2015-11-19 Carl Zeiss Smt Gmbh Optimale anordnung von aktuier- und sensorpunkten auf einem optischen element
KR102357577B1 (ko) 2014-08-28 2022-01-28 가부시키가이샤 오크세이사쿠쇼 투영 노광 장치, 투영 노광 방법, 투영 노광 장치용 포토마스크, 및 기판의 제조 방법
CN105137720A (zh) * 2015-09-18 2015-12-09 中国科学院光电技术研究所 基于数字微镜阵列制作不同深度的多台阶光栅的无掩模光刻机
CN118056159A (zh) * 2021-09-01 2024-05-17 康宁公司 使用可变形透镜板的放大率可调整投影系统

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20030179354A1 (en) * 1996-03-22 2003-09-25 Nikon Corporation Mask-holding apparatus for a light exposure apparatus and related scanning-exposure method
JP3352354B2 (ja) * 1997-04-28 2002-12-03 キヤノン株式会社 露光装置およびデバイス製造方法
SE9704193D0 (sv) * 1997-11-14 1997-11-14 Micronic Laser Systems Ab Device and method for flat holding of a substrate in microlithography
TWI267708B (en) * 2001-11-21 2006-12-01 Adtec Eng Co Ltd Optical magnification adjustment system and projection exposure device
KR100578262B1 (ko) * 2003-11-13 2006-05-11 주식회사 디엠에스 진공을 이용한 대면적 마스크 고정장치 및 그를 이용한노광장치와 노광방법
US7019816B2 (en) * 2003-12-17 2006-03-28 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby
JP4488500B2 (ja) * 2004-06-23 2010-06-23 大日本印刷株式会社 マスクの撓み補正装置
US7440081B2 (en) * 2004-11-05 2008-10-21 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus, device manufacturing method, and substrate table
JP4419900B2 (ja) * 2005-04-08 2010-02-24 ウシオ電機株式会社 露光装置
JP2009206323A (ja) * 2008-02-28 2009-09-10 Canon Inc 露光装置

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