201131196 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於蛾眼用模與蛾眼用模及蛾眼構造之製作方 法。 【先前技術】 若光在折射率不同之界面（例如空氣與玻璃之界面）反 射，則有透射光強度減少，辨識性降低之情況。為防止如 此之光之反射，研究有使用蛾眼（Moth eye、蛾之眼）構造 之抗反射膜（參照非專利文獻1及專利文獻1至4)。 蛾眼構造係與可見光之波長（λ=380 nm〜780 nm)相同程 度或其以下之尺寸之微細構造，對入射至基板之光之有效 折射率從入射媒體之折射率至構成蛾眼構造的材料之折射 率’沿著深度方向連續變化，藉此抑制光之反射。例如， 在防止可見光之反射之蛾眼構造中，凸部之2維尺寸為1〇 nm以上小於5〇〇 nm。利用如此之蛾眼構造之抗反射作用之 入射角依存性在寬波長域上較小。又，蛾眼構造可以各種 材料實現，且由於可在基板直接形成，故可以低成本製 作。 蛾眼構造可以雷射干涉曝光法、EB曝光法等製作，但 右利用紹之陽極氧化’則可低價且容易地製作大面積之蛾 眼構造。具體而言，將藉由將鋁陽極氧化而獲得之多孔氧 化鋁層，利用作為蛾眼構造之模之至少一部分藉此可大 k降低製造成本。因& ’利用陽極氧化，冑作蛾眼構造備 受矚目（專利文獻2至4)。 152421.doc 201131196 再者，此處所謂之「模」包含用於各種 或鎮件)之模，亦稱為壓模。又，亦可用於印刷(包含(:: p刷）在本說明書之以下說明中，亦將用於目^ 造之模稱為「蛾眼用模」。 研艮構 於專利文獻2揭示有表面具有藉由陽極氧化而製作之多 孔氧化銘層之模…般而言，藉㈣極氧化形成於m 化㈣之納米級且圓柱狀之凹陷，相對於多孔氧化層表面 於垂直方向延伸’亦稱為微孔。 在特定條件下形叙彡减化㈣在録面之法線方向 觀察時’#取大致正六角形之單元以2維最高密度填充之 排列。各單元其中央具有微孔，且微孔之排列具有週期 性。又，在其他條件下形成之多孔氧化鋁層形成某種程度 規則性之散亂排列，或不規則（即不具週期性）之排列。 於專利文獻3揭示有藉由重複鋁之陽極氧化，及利用蝕 刻之孔徑擴大處理，形成有孔徑沿著深度方向連續變化之 錐形狀之微孔之模。又，於專利文獻4揭示有重複進行鋁 之陽極氧化及孔徑擴大處理，直至鄰接之孔局部連接為止 而製作之壓模（模）。 於圖18(a)顯示專利文獻4所揭示之壓模700之模式性立體 圖’於圖18(b)顯示壓模700之模式性平面圖。壓模7〇〇之表 面’於複數個孔各自之周圍設置有6個突起部，鄰接之突 起部介隔鞍部以脊線連結。使用如此之壓模7〇〇而製作之 抗反射材由於抗反射材與入射媒體（典型的為空氣）之間之 界面的有效折射率之連續性增大，故可實現高抗反射性 152421.doc 201131196 [先前技術文獻] [專利文獻] [專利文獻1]曰本特表2005-173457號公報 [專利文獻2]曰本特表2003-53 1962號公報 [專利文獻3]日本特開2005-156695號公報 [專利文獻4]日本國際公開第2006/059686號 [非專利文獻l]Kazuya Hayashibe等、「在0.05%反射率 下’使用改良式蛾眼抗反射結構之光學裝置（Under 0.05 % Reflectance Optical Devices using Improved Motheye Anti- reflection Structure)」、SID 09摘要、303〜305 頁 【發明内容】 [發明所欲解決之問題] 本申請案發明者等潛心研究之結果，發現即使使用以脊 線連結鄰接之突起部之蛾眼用模製作之抗反射材，亦無法 充分抑制光之反射。 本發明係鑑於上述問題而完成者，其目的在於提供一種 用於製作充分抑制光之反射之抗反射材之之蛾眼用模，與 蛾眼用模及蛾眼構造之製作方法。 [解決問題之技術手段] 本發明之模係表面具有倒置蛾眼構造之表面形狀之形狀 者於上述表面设置有複數個突起部、分別介隔鞍部連結 上述複數個突起部之複數個脊線、及分別由上述複數個突 起部中任意至少3個突起部及連結上述任意至少3個突起部 152421.doc -6 - 201131196 之脊線決定之複數個孔；且鄰接之孔之中心間之平均距離 p，及上述鞍部之平均深度1：滿足〇 15$r/p$〇 6〇之關係。 在某實施形態中，上述平均距離p&18〇 nm以上“Ο nm 以下。 在某實施形態中，上述複數個孔之平均深度q為38〇 nm 以上41 〇 nm以下。 在某實施形態中’上述表面為多孔氧化鋁層之表面。 本發明之模之製作方法係表面具有倒置蛾眼構造之表面 形狀之形狀的模之製作方法，且包含以下步驟：準備於表 面設置有銘之基材之步驟；與對上述铭進行陽極氧化及银 刻’藉此形成多孔氧化鋁層之步驟，該多孔氧化鋁層具有 如下之表面’ β卩：設置有複數個突起部、分別介隔鞍部連 結上述複數個突起部之複數個脊線、及分別由上述複數個 突起部中任意至少3個突起部及連結上述任意至少3個突起 部之资線決定之複數個孔；且在形成上述多孔氧化紹層之 步驟中’鄰接之孔之中心間之平均距離ρ，及上述鞍部之 平均深度r滿足〇.ΐ5$Γ/ρ$〇 6〇之關係。 在某實施形態中’在形成上述多孔氧化紹層之步驟中， 上述平均距離P為18〇nm以上42〇nm以下。 在某實施形態中’在形成上述多孔氧化銘層之步驟中， 上述複數個孔之平均深度q為38〇nm以上410nm以下。 本發明之蛾眼構造之製作方法包含以下步驟： :::作方法製作模；與在上述模與光硬化性樹脂接觸的 狀也下肤射光，藉此硬化上述光硬化性樹脂。 152421.doc 201131196 [發明之效果] 可較佳地製作充分地抑制光之反 藉由使用本發明之模 射之抗反射材。 【實施方式】 以下’參照圓式’說明本發明之蛾眼用模、及使用蛾眼 用模製作之抗反射材’與該等之製作方法之實施形態。 但’本發明並不限定於以下之實施形態。 (實施形態1) 首先，參照圖！，說明本發明之蛾眼用模1〇〇之實施形 態。於圖1(a)顯示蛾眼用模1〇〇之俯視SEm影像，於圖叫 顯不蛾眼用模1〇〇之模式性剖面圖。咖影像係以掃描型 t-f II (Scanning Electron Microscope： SEM)^ ^ 〇 俯視SEM影像係從相對於蛾眼用肖1〇〇之表面整體之法線 方向傾斜之方向攝像的圖像。 蛾眼用模1G G之表面具有倒置蛾眼構造之表面形狀之形 狀，用於具有蛾眼構造之抗反射材之製作。於蛾眼用模 _之表面，有複數個突起部、分別介隔鞍部連結複 數個突起部之複數個脊線、及分別由複數個突起部中任意 至少3個突起部及連結任意至少3個突起部之脊線決定之複 數個孔。例如’各突起部為尖狀，且各孔為錐形狀。各突 起部設置於至少3個孔所圍繞之位置。 於圖1(b)顯示蛾眼用模1〇〇之鄰接之孔之中心間之距離 P、孔之深度q及鞍部之深度Γβ蛾眼用模1〇〇係以鄰接之孔 局部連接的方式設置，且鄰接之孔之中㈣之平均距離， 152421.doc 201131196 與孔之孔徑之平均值大致相等。再者，嚴格而言，鄰接之 孔之中心間之距離並非為一定，鄰接之任意2個孔之中心 間之距離差相對較小。在本說明書之以下之說明中，有將 該平均距離僅稱為「鄰接距離」之情況。 此處，參照圖2，說明峨眼用模1〇〇之鄰接之孔之中心間 的平均距離p、孔之平均深度q及鞍部之平均深度r之測定 方法。 於圖2⑷顯示蛾眼用模1〇〇之平面隨影像。求得平面 SEM〜像中鄰接之孔之中心間之平均距離p。平均距離p係 選擇例如相對於某個孔之中心間之距離較短的3個孔，並 、、s等之距離。對各孔測定鄰接之中心間之距離算出平 句值糟此求得平均距離p。平均距離p為例如18〇咖以上 420 nm以下。再者’將距離p之標準偏差除 值為30%左右。 典型的是，從表面整體之法線方向觀察，脊線係於以最 :距離連結鄰接之2個突起部之頂點之方向延伸。例如， :觀=沿著某個方向之鞍部之剖面，則表面為向上凸之形 ’广觀察沿著其他方向之鞍部之剖面，則表面為向下凸 =突起 =的是，突起部係以介隔鞍部之脊線與另 例如，1 部 置 部 。又；個孔之周圍設置有3個以上ό個以下之突起 ，^ ’突2部設置於3個以上6個以下之孔所圍繞之位 ，至^而S，著眼於任意1個突起部時，在從該突起 ’至該突起部之頂點與最靠近該突起部之頂點的突起部 152421.doc 201131196 之頂點之間之距離的範圍内，存在有3個以上6個以下孔之 中心。 於圖2(b)顯示蛾眼用模1〇〇之剖面㈣影像。測定剖面 SEM影像巾複數個孔之深度，並算出其平均值，藉此求得 孔之平均深度q。孔之平均深度q為例如380 nm以上410 nm 以下。再者’將深心之標準偏差除以其平均值之值為$ % 左右。 於圖2(c)顯示蛾眼用模1〇〇之俯視SEM影像。該俯視sem 影像係從相對於蛾眼用模_之表面整體之法線方向傾斜 45度之方向攝像的圖像。俯視SEM影像中，求得將以脊線 連、’=»之2個犬起部之頂點連結的虛擬直線與鞍部之距離$， 對各鞍部敎上述距離8求得其平均值。其後，考慮俯視 SEM影像係從45度傾斜之方向攝像之圖像，算出該平均值 與V2之積，藉此求得鞍部之平均深度r。再者，當然孔之 平均深度r小於鞍部之平均深度q。 再者，在本說明書之以下之說明中，有將鄰接之孔之中 心間之平均距離p僅稱為平均距離1)的情況。又，有將模之 孔之平均深度q僅稱為深度q之情況，同樣地，有將鞍部之 平均深度r僅稱為深度r之情況。再者，將深度r之標準偏差 除以其平均值之值為30 %左右。 蛾眼用模100係用於抗反射材之製作。例如，將蛾眼用 模1〇〇之表面形狀轉印於樹脂，藉此製作設置有蛾眼構造 之抗反射材。於抗反射材之表面設置有複數個凸部，抗反 射材之凸部係對應於模100之孔而形成。因此，嚴格而 152421.doc -10· 201131196 言’抗反射材中鄰接之2個凸部之頂點間之距離亦並非為 一定，但鄰接之任意2個凸部之頂點間之距離大致相等。 該距離為例如1 80 nm以上420 nm以下。再者，在以下之說 明中’與蛾眼用模100之鄰接之孔之中心間的平均同樣 地，有將抗反射材之鄰接之任意之凸部的中心間之平均距 離僅稱為「鄰接距離」之情況。 再者’一般而言’抗反射材之凸部之鄰接距離越長，越 容易引起抗反射材之光之散射，反射光強度越容易增大。 相對於此，抗反射材之凸部之鄰接距離越短，光之反射率 波長依存性相對越大，出射光之顏色較入射光容易產生變 化’即使入射無色彩之光亦會導致反射光帶有顏色。 在本實施形態之蛾眼用模100_，鄰接之孔局部連接， 且置有連結突起部之脊線。因此，相較於在蛾眼用模之 表面設置有平坦面之情形，可降低以轉印法製作抗反射材 時之按壓，且提高離型性，從而可改善生產率。 再者，在本實施形態之蛾眼用模1〇〇中，鄰接之孔之中 心間之平均距離P及鞍部之平均深度Γ之比Γ/ρ滿足 〇.15Sr/p$0.60之關係。比r/p係反映峨眼用模1〇〇之突起 部之形狀者。比r/p越大，即p為一定而r越大，或r為一定 而Ρ越小，則突起部越呈尖形狀。詳細如後所述，比r/p滿 足上述之關係，藉此使用蛾眼用模1〇〇製作之抗反射材可 充分地抑制光之反射。 如此之蛾眼用模100係如以下之方式製作。以下參照 圖3說明蛾眼用模100之製作方法。 152421.doc -11 - 201131196 首先’如圖3(a)所示，準備具有由鋁i〇〇a形成之表面之 基材100t。如此之基材i〇〇t係藉由'例如於絕緣基板（典型的 是玻璃基板）100s上堆積鋁膜i〇〇a而製作。鋁膜iooa之厚度 為例如1.0 μιη。再者’作為基材100t亦可使用塊狀之鋁。 其次’如圖3 (b)所示，進行陽極氧化及蝕刻，藉此基材 100t之銘膜100a之一部分變化成多孔氧化鋁層1〇〇c。在多 孔氧化銘層100c中’鄰接之孔之中心間之平均距離p及鞍 部之平均深度r滿足〇· 15 $ r/p $ 0·60之關係。如上所述製作 蛾眼用模100。 此處，參照圖4 ’說明多孔氧化鋁層丨〇〇c之製作方法。 首先’如圖4(a)所示，準備具有設置有鋁膜1〇〇&之表面 之基材100t。 其次，如圖4(b)所示，對基材1〇以進行陽極氧化，藉此 形成具有相對於基材l〇0t之表面於垂直方向延伸之微孔 100p之多孔氧化鋁層1〇〇b。藉由陽極氧化，在基材之 表面同時進行鋁膜丨00a之氧化及溶解，形成相對於基材 loot之表面於垂直方向延伸之微孔1〇〇1^ 例如，陽極氧化係藉由將基材浸潰於硫酸、草酸、或磷 酸等㈣電解液或㈣電解液中’並將其作為陽極施加電 I而進行。此冑’根據陽極氧化之料，鄰接之微孔之中 心間之平均距離及微孔之深度產生變化。再者，鄰接之 孔之中心間之平均距離相當於緩衝層之厚度之大致2倍 與陽極氧化時之·大致成比例。微孔之中心間之平均j 離在例如nm至·⑽之範圍内。又，微孔之孔徑们 152421.doc -12- 201131196 存於電解液之種類、濃度、溫度等。微孔較佳為以某種程 度散亂之規則性排列。但，微孔亦可不規則（即，不具週 期性）地排列，或亦可規則地排列。
例如’形成平均距離ρ為180 nm之孔之情形，陽極氧化 係將液溫5 °c之草酸0.6 wt%作為電解液，在化成電壓8〇 V • 下進行25秒。或，形成平均距離ρ為400 nm之孔之情形， %極氧化係將液溫5 C之酒石酸2 wt%作為電解液，在化成 電壓200 V下進行30秒至45秒。 其次，如圖4(c)所示，進行蝕刻，藉此擴大微孔⑺卟之 孔徑。触刻係使用液溫3〇°c之填酸1 mol/L進行數十分 鐘。 其次’如圖4(d)所示’再次將鋁膜100a局部陽極氧化， 藉此使微孔1 00p向深度方向成長’且使多孔氧化铭層1 〇〇b 增厚。此處，微孔1 〇〇p之成長由於係從已經形成之微孔 100p之底部開始，故微孔i 〇〇p之側面為階段狀。 此後，如圖4(e)所示，根據需要，進一步蝕刻多孔氧化 鋁層100b ’藉此進一步擴大微孔丨〇〇p之孔徑。蝕刻係與上 述之蝕刻同樣地進行。如此，形成圖3(b)所示之多孔氡化 • 鋁層100c。 - 陽極氧化及蝕刻係重複進行複數次，直至鄰接之孔局部 連接。再者，最後較佳為陽極氧化而非蝕刻。藉此可使孔 之底點相對變窄。 以下，參照圖5 ’說明抗反射材200之製作方法。_ 首先’準備蛾眼用模1〇〇及被加工物150。 152421.doc •13· 201131196 其次，在將光硬化性樹脂夾於蛾眼用模100與被加工物 150之間的狀態下，進行光（例如，紫外光）之照射，藉此硬 化光硬化性樹脂，製作抗反射材200。被加工物1 50係例如 具有可撓性之高分子薄膜，具體而言，高分子薄膜係例如 TAC(三醋酸纖維素）薄膜。又，例如使用丙烯酸系樹脂作 為光硬化性樹脂，其粘度為500±200 cP，硬化時之收縮率 為10%左右。轉印係在2〇 kg/cm2以下之壓力下進行。例 如，壓力可為20 kg/cm2 ’亦可為1〇 kg/cm2。或轉印可以 手工進行，亦可為1 kg/cm2以下之壓力。 例如’於蛾眼用模1 〇〇與被加工物15〇之間賦予光硬化性 樹脂。光硬化性樹脂可賦予在被加工物15〇之表面，亦可 賦予在蛾眼用模1 〇〇之表面。於蛾眼用模1 〇〇上滴下光硬化 性樹脂，其後，可以滾筒貼合TAC薄膜，以使樹脂内不進 入氣泡。其後’介隔蛾眼用模丨〇〇，對光硬化性樹脂照射 光（例如，紫外光），藉此硬化光硬化性樹脂。例如，光之 照射係使用i線（365 nm)進行。照射能量為1〇〇 mj/cm2以上 3 J/cm2以下，例如為2 j/cm2。 再者，一般而言，由於構成抗反射材之樹脂係藉由硬化 收縮，故抗反射材之凸部之高度小於蛾眼用模之孔的深 度。又，詳細如後所述，模之鞍部之深度相對較小之情 形，抗反射材之凸部之高度根據模之孔之深度而大致一 定，而模之鞍部之深度某種程度較大之情形，構成抗反射 材之樹脂滞留於模之對應於鞍部之部分，從而凸部之高度 降低》 152421.doc -14- 201131196 例如’硬化之樹脂幾乎不吸收光，具體而言，可見光 (波長烟·780⑽）下相對空氣之相對透射率為9。％以上。 硬化之樹月曰較佳為具有高可靠性。例如，即使在高溫 (例如95C)或低溫（例如下長時間（例如，5〇〇小時）放 置在至下至少目視表面亦不會產生變化。又，即使重 複複數次（例如100次）急劇之溫度變化（例如，3〇分鐘_4〇。匸 至30分鐘85。〇，至少目視表面亦不會產生變化。再者， 即使在高溫多濕下（例如，溫度6〇<t，濕度95%)長時間（例 如1〇〇小時）放置，至少目視表面亦不會產生變化。又，如 此之樹脂之錯筆硬度為1 Η以上。 其後，將蛾眼用模1〇〇從抗反射材200分離。如此，可製 作設置有蛾眼構造之抗反射材2〇〇。於抗反射材2〇〇之表面 設置有複數個凸部’例如凸部具有大致圓錐形狀。抗反射 材200之折射率為例如1.5。 如上所述，在本實施形態之蛾眼用模1 〇〇中，鄰接之孔 係局部連接，鄰接之突起部係介隔鞍部以脊線連結。由於 在使用如此之蛾眼用模100製作之抗反射材200中，凸部之 間不存在平坦面，故導致入射至抗反射材200之光之折射 率連續性變化，從而抑制反射。 此處，參照圖6及圖7，說明本實施形態之模1〇〇及抗反 射材200相較於比較例1之蛾眼用模500及抗反射材600的優 點。 首先，參照圖6，說明比較例1之蛾眼用模500及抗反射 材600。於圖6(a)顯示蛾眼用模500之模式性平面圖，圖 152421.doc 15 201131196 6(b)顯示模500之模式性剖面圖。於蛾眼用模5〇〇之表面未 設置鞍部’而於模500之表面設置有3個孔所圍繞之平坦 面。 於圖6(c)顯示使用蛾眼用稹500製作之抗反射材600之模 式性剖面圖》抗反射材6〇〇之表面係對應於蛾眼用模5〇〇之 表面而形成。再者，雖不嚴格，此處以簡化之目的，顯示 有抗反射材600之凸部之形狀與由蛾眼用模5〇0之孔決定的 形狀一致。如圖6(a)及圖6(b)所示，於蛾眼用模500之表面 設置有3個孔所園繞之平坦面，抗反射材600之表面亦於凸 部之間設置有平坦面《該情形，如圖6(d)所示，使得有效 折射率在平坦面急劇變化，從而無法充分地抑制光之反 射。 其次’參照圖7 ’說明本實施形態之蛾眼用模1 〇〇及抗反 射材200。於圖7(a)顯示蛾眼用模1〇〇之模式性平面圖，於 圖7(b)顯示蛾眼用模1 〇〇之模式性剖面圖。於蛾眼用模1 〇〇 之表面設置有至少3個孔所圍繞之突起部，且設置有連結 鄰接之突起部之脊線。 於圖7(c)顯示使用蛾眼用模1〇〇製作之抗反射材2〇〇之模 式性剖面圖。抗反射材200之表面係對應於蛾眼用模1〇〇之 表面而形成。再者，此處，亦以簡化之目的，顯示有抗反 射材200之凸部之形狀與由蛾眼用模100之孔決定的形狀一 致。與圖6(c)所示之抗反射材600不同，抗反射材200之表 面未於凸部之間形成平坦面。該情形，如圖7(d)所示，使 得有效折射率沿著凸部之高度方向緩慢變化，其結果，充 152421.doc -16 - 201131196 分地抑制光之反射》 再者，在參照圖6及圖7之上述之說明中，雖為簡化，抗 反射材之凸部之形狀與由模之孔決定的形狀一致，但嚴格 而言’抗反射材之凸部之形狀與由模之孔決定之形狀並不 一致。因此，若僅使用於表面設置有鞍部之模，則無法實 現充分地抑制反射之抗反射材。 其次，參照圖8 ’說明本實施形態之蛾眼用模ι〇〇及抗反 射材200相較於比較例2之蛾眼用模3〇〇A及抗反射材 400A，與比較例3之蛾眼用模3〇〇B及抗反射材4〇〇b之優 點。 於圖8(a)顯示比較例2之蛾眼用模3〇〇A之模式性剖面 圖。在蛾眼用模300A中設置有鞍部，但鞍部之深度1相對 於鄰接之孔之中心間之平均距離p較小，突起部之梯度相 對較緩。在蛾眼用模300A中，平均距離p及鞍部之深度 足r/p<〇.l5之關係。 於圖8(b)顯不比較例2之抗反射材4〇〇A。抗反射材4〇〇a 係使用蛾眼用模300A製作。如上所述，由於蛾眼用模 300A之突起部之梯度相對較緩，故使得於抗反射材 之凸部之間形成大致平坦之面，其結果，有效折射率與圖 6(d)所示者同樣地，在抗反射材4〇〇A之底面附近急劇變 化。因此，抗反射材400A無法充分地防止光之反射。 又，在抗反射材400A中，凸部之傾斜從凸部之頂點向底 面大致為一定。該情形，有效折射率之變化之比例從凸部 之頂點向底面變得越來越大。如此，若有效折射率之變化 I52421.doc •17. 201131196 之比例產生較大之變化，則無法充分地防止反射。再者， 平均距離ρ較短之情形，抗反射材400A之反射光之顏色較 入射光產生變化。 於圖8(c)顯示比較例3之蛾眼用模300B之模式性剖面 圖。在蛾眼用模300B中設置有鞍部，鞍部之深度r相對於 鄰接之孔之中心間之平均距離ρ較大，突起部之梯度相對 較陡。在蛾眼用模300B中，平均距離ρ及鞍部之深度r滿足 0.60<r/p之關係。 於圖8(d)顯示比較例3之抗反射材400B。抗反射材400B 係使用蛾眼用模300B製作《如上所述，由於蛾眼用模 3 00B之突起部之梯度相對較陡，故抗反射材4〇〇B之凸部 之間相對增高。因此’即使蛾眼用模3〇〇A、3〇〇b之孔之 深度大致相等，抗反射材4〇〇B之凸部亦低於抗反射材 400A之凸部，從而使凸部之縱橫比降低。因此，抗反射材 400B無法充分地防止光之反射。 又，在抗反射材400B中，凸部之半高寬遠大於凸部之中 心間之距離之一半’且凸部之傾斜從凸部之頂點向底面漸 緩’其變化之比例相對較大。該情形，有效折射率之變化 之比例從凸部之頂點向底面變得越來越小。如此，若有效 折射率之變化之比例相對較大變化，則無法充分地防止反 射。 於圖8(e)顯示本實施形態之蛾眼用模ι〇〇之模式性剖面 圖在蛾眼用模i 〇〇中，鄰接之孔之中心間之平均距離ρ及 鞍。P之冰度r滿足〇 15$Γ/ρ$〇 6〇之關係。 152421.doc 201131196 於圖8(f)顯示本實施形態之抗反射材2〇〇。抗反射材2〇〇 係使用蛾眼用模100製作。此處，抗反射材2〇〇之凸部具有 與比較例2之抗反射材400A之凸部大致相同之高度，在抗 反射材200中’在高度維持凸部之縱橫比的狀況下，可使 凸部呈吊鐘形狀。 如此’在本實施形態之蛾眼用模100中，鄰接之孔之中 心間之平均距離p及鞍部之深度r滿足0.1 5 s r/p $ 0.60之關 係’藉此可充分地防止光之反射。 以下，說明孔之中心間之平均距離（鄰接距離）p、孔之 深度q及鞍部之深度!*不同之模，及使用如此之模製作之抗 反射材。首先，說明孔之鄰接距離？及孔之平均深度q大致 為一定，且鞍部之平均深度r不同之模a〜e，及使用模a〜e 製作之抗反射材之特性。 模a係以下的方式製作。首先，準備5 cm見方之玻璃基 板，於玻璃基板上堆積厚度i.O μιη之鋁膜，藉此形成基 材。 其次，對基材進行陽極氧化，藉此形成具有微孔之多孔 氧化鋁層。此處，將液溫之草酸〇6 wt%作為電解液， 在化成電壓80 V下進行陽極氧化25秒，藉此形成鄰接距離 p為180 nm之微孔。 其次，使用液溫3〇t之磷酸1 m〇i/L ,進行蝕刻19分 鐘。藉由該蝕刻擴大微孔之孔徑。 重複進行陽極氧化及蝕刻，直至鄰接之孔局部連接為 止。具體而言，交替重複進行5次陽極氧化及4次蝕刻處 152421.doc 201131196 理。如此製作模a。在模a中，孔之鄰接距離p為大致18〇 nm’孔之平均深度q大致為38〇nme 模b〜e除蝕刻時間不同以外，與模&同樣地進行製作。模 b〜e之蝕刻時間分別是21分鐘、23分鐘、25分鐘及30分 鐘。 於圖9(a)〜圖9(e)分別顯示模a〜e之剖面SEM影像，於圖 10(a)〜圖l〇(e)分別顯示從相對於模a〜e之表面整體之法線 方向45度傾斜之方向攝像的俯視SEM影像。又於表i分 別顯不用於製作模a〜e之蝕刻時間、及模a〜e之鄰接距離 P、孔之深度q、鞍部之深度r。 [表1] 模 a b c d e 蝕刻時間(分鐘） 19 21 23 25 30 P 181 185 182 181 182 q 380 385 380 381 386 r 26.7 62.6 85 104.8 159.8 再者此處雖未圖示，但測定有在模a〜e之平面SEM影 像中由各孔之中心至距離較短之3個孔的中心之距離，將 其平均設為鄰接距離p ^又，孔之深度9係在剖面sem影像 中求得。再者，鞍部之深度r係在20個部位，測定在45度 傾斜之俯視SEM影像中，連結形成於某個孔之周圍之2個 突起部之頂點的虛擬線段與鞍部之距離，求得其平均值 後，考慮俯視SEM影像係從相對於模之表面之法線方向45 15242l.doc .20- 201131196 度傾斜之方向所攝像的圖像，並根據平均值與之積求 得。 模a〜e中任意一者孔之鄰接距離ρ均為大致18〇 nm，孔之 深度為大致380 nm。相對於此，模a〜e中鞍部之深度^不 同，蝕刻時間越長鞍部之深度r越大。 使用如此之模a〜e製作抗反射材a〜E。抗反射材A〜E之製 作係藉由將模a〜e之表面形狀如上所述轉印於硬化性樹脂 而進行，對應於模a〜e之孔形成抗反射材A〜E之凸部。 於圖11(a)〜圖1 i(e)分別顯示抗反射材A〜E之剖面SEM影 像。對應於模a〜e之孔形成抗反射材a〜E之凸部。 抗反射材之構造係如下的方式測定。以下，參照圖丨2說 明抗反射材之測定方法。 首先，如圖12(a)所示，準備形成於被加工物15〇上之抗 反射材200。 其次，如圖12(b)所示，藉由彎曲被加工物15〇及抗反射 材200進行分斷，並使抗反射材2〇〇之剖面露出。其後，於 抗反射材200之剖面堆積金。 其後，如圖12(c)所示，以SEM攝像抗反射材2〇〇之剖 面。測定在剖面SEM影像中複數個部位之凸部之高度，求 得其之平均，且求得凸部之高度為—半之凸部之橫寬（半 高寬）之平均。再者，在以下之說明中，有將抗反射材之 凸°卩之平均尚度τ僅稱為深度T之情況，同樣地，有將凸部 之平均半高寬HW僅稱為半高寬HW之情況。 於表2顯示抗反射材a〜e之凸部之高度τ及半高寬。 152421.doc -21 · 201131196 [表2] 抗反射材 A B C D E 凸部高度T(nm) 220 228 220 204 172 半南寬HW(nm) 90 96 98 102 104.6 抗反射材A〜E之凸部之鄰接距離p與模a〜e之孔之鄰接距 離大致相等’大致為180 nm。相對於此，抗反射材a〜E之 凸部之高度T及半高寬HW不同。 首先’著眼於凸部之高度T。抗反射材A〜C中凸部之高 度T大致相等。如上所述，由於凸部之鄰接距離p大致為 180 nm，故在抗反射材a〜C中凸部之縱橫比大致相等。抗 反射材D之凸部之高度τ小於抗反射材a〜C之凸部之高度 Τ’而抗反射材E之凸部之高度T較抗反射材D之凸部之高 度Τ更小。 其次’著眼於凸部之半高寬HW。抗反射材Α〜Ε之半高 寬HW分別不同。如上所述，抗反射材a〜E之凸部之鄰接 距離p大致為180 nm。抗反射材A之凸部之半高寬HW為90 nm ’抗反射材A之凸部為大致圓錐形狀。相對於此，抗反 射材B〜E之凸部之半高寬HW大於90 nm，凸部具有吊鐘形 狀，抗反射材B、C、D及E之凸部依序呈低扁之形狀。 其次’測定抗反射材A~E之反射特性。反射特性之測定 係在於黑色丙烯板上貼附抗反射材A〜E的狀態下進行《例 如’作為光源使用標準光D65，且作為分光測色計使用 Konicaminolta公司製之CM-2600d，根據標準光D65之對 152421.doc -22- 201131196
XYZ表色系重價係數之透射率特性，定義各抗反射材A〜E 之物體色，其後，測定來自抗反射材A〜E之反射光之Y 值、L*值、a*、b*及彩度c* » 於圖13顯示抗反射材A〜E之反射光譜。抗反射材a之反 射光譜之長波長區域之反射率相對較高，反射率大幅依存 於波長。又，抗反射材E之反射光譜為反射率之波長依存 性相對較低者，但反射率本身相對較高。相對於此，抗反 射材B〜D之反射光譜反射率相對較低，波長依存性亦相對 較低。 於表3顯示抗反射材A〜E之凸部之高度τ及半高寬η W， 與抗反射材Α~Ε之反射光之Υ值、L*值、a*、b*、及C*。 [表3] 抗反射材 A B C D E 凸部高度T(nm) 220 228 220 204 172 半高寬 90 96 98 102 104.6 Y值 0.2903 0.2608 0.1932 0.2032 0.2806 L*值 -2.534 -4.563 -6.347 -5.884 -4.254 a* 1.610 2.003 0.548 1.262 1.461 b* 7.601 3.416 4.055 1.380 -0.443 c* 7.770 3.960 4.092 1.870 1.527 測定之結果係抗反射材A及E之反射光強度高於抗反射 材B〜D。抗反射材A凸部之半高寬HW較小，凸部大致為圓 錐形狀。因此，沿著凸部之高度方向之有效折射率之變化 比例會產生較大之變化，其結果，抗反射材A無法充分地 152421.doc -23- 201131196 防止反射。 又，由於抗反射材Ε凸部之高度Τ相對於凸部之鄰接距離 Ρ較小，故凸部之縱橫比較小。又，抗反射材Ε之凸部之半 高寬HW相對較大’沿著凸部之高度方向之有效折射率之 變化比例會產生較大之變化。因此，抗反射材Ε無法充分 地防止反射。 又，對抗反射材Α〜Ε照射無色彩之光，目視其反射光， 其結果係相對於看到抗反射材A之反射光帶色，並未看到 抗反射材B~E之反射光帶色。因此，為抑制反射光帶色， 較佳為將反射光之C*設為5.0以下。 於表4顯示用於模a~e之製作之触刻時間、模a〜e之孔之 鄰接距離ρ、孔之深度q、鞍部之深度r、r/p、r/q，使用模 a〜e製作之抗反射材A〜E之凸部之高度T、半高寬HW、抗 反射材A〜E之反射光之Y值、L*值、a*、b*、C*。 [表4] .模 a b c d e 蝕刻時間(分鐘） 19 21 23 25 30 P 181 185 182 181 182 q 380 385 380 381 386 r 26.7 62.6 85 104.8 159.8 r/p 0.148 0.338 0.467 0.580 0.878 r/q 0.070 0.163 0.224 0.275 0.414 抗反射材 A B C D E T(nm) 220 228 220 204 172 HW(nm) 90 96 98 102 104.6 152421.doc -24· 201131196 Y值 0.290 0.261 0.193 0.203 0.281 L*值 -2.534 -4.563 -6.347 -5.884 -4.254 a* 1.610 2.003 0.548 1.262 1.461 b* 7.601 3.416 4.055 1.380 -0.443 c* 7.770 3.960 4.092 1.870 1.527 由於構成抗反射材A〜E之之樹脂硬化時會收縮，故抗反 射材A〜E之凸部之高度τ小於蛾眼用模a〜e之孔之深度q。 再者，由於蛾眼用模a〜c之鞍部之深度“目對較小，故抗反 射材A〜C之凸部之高度τ大致為一定，而由於蛾眼用模 e之鞍部之深度!*相對較大，故轉印時構成抗反射材〇及ε之 樹脂滯留於模d及e之對應於鞍部之部分，從而凸部之高度 T降低。 又，伴隨著模a〜e之鞍部之深度r增大，抗反射材A〜E之 凸部之半高寬HW增加。模之鞍部之深度r越大，導致越多 樹脂滯留於抗反射材之凸部之間，其結果，抗反射材之凸 部呈低扁之形狀》 由於蛾眼用模a鞍部之深度r較小，故抗反射材A之凸部 之半高寬HW較短。如上所述，抗反射材八之凸部大致為圓 錐形狀，沿著凸部之高度方向之有效折射率之變化比例會 產生較大之變化，其結果，抗反射材A無法充分地防止反 射。 又，如上所述，抗反射材〇及£之凸部之高度τ低於抗反 射材A〜C，尤其是對應於鞍部之深度1較大之模e之抗反射 材E的凸部之咼度T更小。如上所述，由於抗反射材£凸部 152421.doc -25- 201131196 之高度T相對於凸部之鄰接距離p較小，又，半高寬11评較 大’故抗反射材E無法充分地防止反射。 一般而言’抗反射材之凸部之鄰接距離p相對較短之情 形，Y值雖相對變低，但仍容易產生反射光之帶色。根據 本實施形態，蛾眼用模之孔之鄰接距離P及鞍部之深度 足0.15Sr/PS0.60之關係，藉此可將凸部之鄰接距離卩大 致為180 mti之抗反射材之γ值抑制於0.27以下，且可將反 射光之彩度C*抑制於5.0以下。 再者，在上述之說明中，模之孔及抗反射材之凸部之鄰 接距離p大約為180 nm，但鄰接距離並不限定於此。以 下，說明鄰接距離p大致為400 nm之模f〜m，及使用模f〜m 製作之抗反射材F〜Μ。 模f係以如下之方式製作。首先，準備5 cm見方之玻璃 基板，並於玻璃基板上堆積厚度1〇 μηι之鋁模，藉此形成 基材。 其次，對基材進行陽極氧化，藉此形成具有微孔之多孔 氧化鋁層》此處，將液溫酒石酸2 wt%作為電解液， 在化成電壓20G V下進行3〇秒陽極氧化，形成鄰接距離p大 致400 nm之微孔。 其次，使用液溫3(TC之磷酸丨爪…几進行蝕刻1〇〇分鐘。 藉由蝕刻擴大微孔之孔徑。 重複進行陽極氧化及_直轉接之孔局料接為止， 具體而言’交替重複進行5次陽極氧化及4次㈣處理。 再者’模卜除姓刻時間不同以夕卜，與模f同樣地進行製 152421.doc • 26 · 201131196 作。在模g〜i中蝕刻時間分別為11 0分鐘、120分鐘及1 50分 鐘。又，模j〜m除陽極氧化之時間不同以外，與模f〜i同樣 地進行製作。模j〜m進行陽極氧化之時間分別為45分鐘。 於圖14(a)〜圖14(h)分別顯示模f~m之剖面SEM影像，於 圖1 5(a)〜圖1 5(h)分別顯示模f〜m之傾斜成斜度45度之俯視 SEM影像。又，於表5顯示製作模f〜m時之陽極氧化時間及 蝕刻時間、與模f〜m之孔之鄰接距離p、孔之深度q、鞍部 之深度r。 [表5] 模 f g h i j k 1 m 陽極氧化 時間(秒） 30 30 30 30 45 45 45 45 蝕刻時間 (分鐘） 100 110 120 150 100 110 120 150 P 404 417 404 408 420 412 406 411 q 380 380 386 384 400 400 410 405 r 110.5 147.4 165.8 257.0 105.3 147.4 1842 251.3 再者，此處亦未圖示，測定模f~m之平面SEM影像中由 各孔之中心至距離較短的3個孔之中心之距離，並將其平 均設為鄰接距離p。又，孔之深度q係在剖面SEM影像中求 得。再者，鞍部之深度r係在20個部位，測定在45度傾斜 之俯視SEM影像中，連結形成於某個孔之周圍之2個突起 部之頂點的虛擬線段與鞍部之距離，求得其平均值後，考 慮俯視SEM影像係從相對於模之表面整體之法線方向45度 152421.doc -27- 201131196 傾斜之方向所攝像的圖像，並根據平均值與板積求得。 模f m中鞍部之深度r不同，触刻時間越長鞍部之深度r 越大。再者，模中孔之深度q為大致380 nm，模j〜m中 孔之冰度q為大致4〇〇 nn^如此孔之深度q根據每1次之 陽極氧化時間而不同。又，模f〜m中任意一者鄰接距離p均 為大致400 nm。 ,使用如此之模f〜m製作抗反射材F〜M。抗反射材f〜m之 製作係藉由將模之表面形狀如上所述轉印於硬化性樹 脂而進行，對應於模之孔形成抗反射材F〜M之凸部。 於圖1 6(a)〜圖16(h)分別顯示抗反射材f〜μ之剖面SEM影 像。抗反射材F〜Μ之尺寸係參照圖12如上所述進行測定。 於表6顯示抗反射材F〜Μ之凸部之高度τ及半高寬HW。 再者’抗反射材F〜Μ之凸部之鄰接距離ρ亦大致為4〇〇 nm ° [表6] 抗反射材 F G Η I J K L Μ 凸部高度Τ (nm) 210 206 198 176 265 260 260 222 半高寬HW (nm) 280 286 294 290 280 282 296 302 首先，著眼於抗反射材卩〜1。抗反射材F及G之凸部之高 度T大致相等。如上所述’由於&部之鄰接距離ρ為大致 400 nm，故在抗反射材F及G中凸部縱橫比大致相等。相對 於此，抗反射材Η之凸部之高度丁小於抗反射材F及G ’而 152421.doc -28- 201131196 抗反射材I之凸部之高度T較抗反射材Η更小。 抗反射材F〜I之半高寬HW分別不同。如上所述，抗反射 材F〜I之凸部之鄰接距離p為大致400 nn^抗反射材F〜I之 凸部之半高寬HW大於鄰接距離p之一半即200 nm，凸部具 有吊鐘形狀。 其次’著眼於抗反射材。抗反射材J〜L之凸部之高 度T大致相等。如上所述，由於凸部之鄰接距離p為大致 400 nm ’故在抗反射材j〜L中凸部之縱橫比大致相等。相 對於此，抗反射材Μ之凸部之高度T小於抗反射材J〜L。 又，抗反射材J〜Μ之半高寬HW分別不同。如上所述， 抗反射材J〜Μ之凸部之鄰接距離ρ為大致4〇〇 nm »抗反射 材J〜Μ之凸部之半高寬HW大於鄰接距離p之一半即200 nm，凸部具有吊鐘形狀。 其次’測定抗反射材F〜Μ之反射特性。反射特性之測定 係在於黑色丙浠板上貼附抗反射材F〜Μ之狀態下進行。與 上述同樣地’測定來自抗反射材F〜M之反射光之γ值、L* 值、a*、b*及 C*。 以下’參照圖17說明抗反射材F〜Μ之反射光譜。於圖 17(a)顯示抗反射材f〜I之反射光譜。抗反射材丨之反射率在 波長450 nm至波長700 nm上，高於其他之抗反射材，抗反 射材I之平均反射率高於抗反射材F〜Η之平均反射率。 於圖17(b)顯示抗反射材f〜Μ之反射光譜。抗反射材厘之 反射率在可見光區域上高於抗反射材j〜L之反射率。 於表7顯示抗反射材F〜M之凸部之高度τ及半高宽hw、 152421.doc •29· 201131196 與抗反射材F~M之反射光之Y值、L*值、a*、b*及C*。 [表7] 抗反射材 F G H I J K L M 凸部高度T (nm) 210 206 198 176 265 260 260 222 半高寬 (nm) 280 286 294 290 280 282 296 302 Y值 0.406 0.386 0.372 0.490 0.351 0.329 0.303 0.426 L*值 3.670 3.484 3.361 3.696 2.970 3.174 2.737 2.799 a* 0.254 0.277 -0.151 0.040 -0.205 -0.248 -0.075 -0.020 b* -2.095 -1.528 -1.514 -1.211 -1.005 -1.219 -0.672 -1.082 c* 2.110 1.533 1.522 1.212 1.025 1.243 0.676 1.082 測定之結果’係抗反射材I、Μ之反射光強度高於抗反射 材F〜Η、J〜L。抗反射材Ι、Μ，凸部之高度Τ相對於凸部之 鄰接距離ρ較小’凸部之縱橫比較小。因此，抗反射材I、 Μ無法充分地防止反射。 再者’對抗反射材F〜Μ照射無色彩之光，目視其反射光 之結果’在任意一個抗反射材F~M中均未確認到反射光之 帶色。其認為是因凸部之鄰接距離p為大約4〇〇 nm之相對 較大，故而容易產生光之散射，作為結果抑制了帶色。 於表8顯示用於製作模f〜m之陽極氧化時間、蝕刻時間、 模f〜m之孔之鄰接距離p、孔之深度q、鞍部之深度r、r/p、 r/q、使用模f〜m製作之抗反射材F〜Μ之凸部之高度丁、半 高寬HW、抗反射材F〜Μ之反射光之Υ值、L*值、a*、b*及 C* 152421.doc -30· 201131196 [表8] 模 f g h i j k 1 m 陽極氧化 時間(分鐘） 30 30 30 30 45 45 45 45 蝕刻時間 (分鐘） 100 110 120 150 100 110 120 150 P 404 417 404 408 420 412 406 411 q 380 380 386 384 400 400 410 405 Γ 110.5 147.4 165.8 257.0 105.3 147.4 184.2 251.3 r/p 0.274 0.353 0.410 0.630 0.251 0.358 0.454 0.611 r/q 0.291 0.388 0.430 0.669 0.263 0.368 0.449 0.620 抗反射材 F G H I J K L M T(nm) 210 206 198 176 265 260 260 222 HW(nm) 280 286 294 290 280 282 296 302 Y值 0.406 0.386 0.372 0.490 0.351 0.329 0.303 0.426 L*值 3.670 3.484 3.361 3.696 2.970 3.174 2.737 2.799 a* 0.254 0.277 -0.151 0.040 -0.205 -0.248 -0.075 -0.020 b* -2.095 -1.528 -1.514 -1.211 -1.005 •1.219 -0.672 -1.082 c* 2.110 1.553 1.522 1.212 1.025 1.243 0.676 1.082 由於構成抗反射材F〜M之樹脂硬化時會收縮，故抗反射 材F〜M之凸部之高度T小於蛾眼用模f〜m之孔之深度q。 又，模之鞍部之深度r越大，導致越多之樹脂滯留於抗反 射材之凸部之間，其結果，使得抗反射材之凸部為低扁之 形狀。 再者，由於蛾眼用模f〜h鞍部之深度r相對較小，故抗反 射材F〜Η之凸部之高度T為大致一定，而由於蛾眼用模i鞍 部之深度r相對較大，故轉印時，構成抗反射材I之樹脂滯 152421.doc -31 - 201131196 留於模i之對應於鞍部之部分，從而使凸部之高度τ大幅降 低。 同樣地’由於蛾眼用模卜丨鞍部之深度^目對較小，故抗 反射材之凸部之高度T為大致一定，而由於蛾眼用模m 鞍部之深度『相對較大，故轉印時，構成抗反射材Μ之樹脂 滞留於模m之對應於鞍部之部分，從而使凸部之高度Τ大 幅降低。如此，由於對應於鞍部之深度^交大之模卜爪之 抗反射材I、Μ，凸部之高度τ相對於凸部之鄰接距離口較 小，故抗反射材I、Μ無法充分地防止反射。 如上所述，一般而言，抗反射材之凸部之鄰接距離ρ相 對較長之情形，雖難以產生反射光之帶色，但散射成分增 多，Υ值相對變高。根據本實施形態，蛾眼用模之孔之鄰 接距離Ρ及鞍部之深度r滿足〇 15 S r/pg 〇 6〇之關係，藉此 可將凸部之鄰接距離ρ大致為4〇〇 nm之抗反射材之γ值抑制 於0.52以下。 如此，使用孔之鄰接距離ρ及鞍部之深度Γ具有特定之關 係之蛾眼用模，藉此可實現充分地防止反射之抗反射材。 [產業上之可利用性] 根據本發明，可較佳地製作充分地抑制光之反射之抗反 射材。 【圖式簡單說明】 圖1(a)係本發明之模之實施形態之俯視SEM影像，（b)係 (a)所示之模之模式性剖面圖。 圖2(a)係本實施形態之模之平面SEM影像，（b)係所示 15242l,d〇( -32- 201131196 之俯視SEM影 之模之剖面SEM影像，（c)係⑷顯示之模 像。 的 模係顯示本發明之模之製作方法之實施形態 之多孔氧化鋁 之實施形態的 圖4(a)〜(e)係顯示本實施形態之蛾眼用模 層之形成方法的模式圖。 圖5係顯示本發明之抗反射材之製作方法 模式圖》 圖6⑷係比較例！之蛾眼用模之模式性平面圖㈨係⑷ 所不之模之模式性剖面圖，⑷係比較例&抗反射材之模 式性剖面圖’⑷係顯示⑷之抗反射材與^氣之界面的有 效折射率之變化之圖表。 圖7⑷係本實施形態之模之模式性平面圖，⑻係⑷所示 之模之模式性剖面圖，（c)係本實施形態之抗反射材之模式 性剖面圖，（d)係顯示（c)之抗反射材與空氣之界面的有效 折射率之變化之圖表。 圖8(a)係比較例2之蛾眼用模之模式性剖面圖，（b)係使 用（a)所示之模製作之比較例2之抗反射材的模式性剖面 圖’（0係比較例3之蛾眼用模之模式性剖面圖，（d)係使用 (c)所示之模製作之比較例3之抗反射材的模式性剖面圖， 係本實施形態之蛾眼用模之模式性剖面圖，（f)係使用 (e)所示之模製作之本實施形態之抗反射材的模式性剖面 圖。 圖9(a)〜(e)係模a〜e之剖面SEM影像。 I5242l.cJ〇c -33· 201131196 圖10(a)〜(e)係從相對於模a〜e之表面全體之法線方向傾 斜45度之方向攝像的俯視SEM影像。 圖11(a)〜(e)係抗反射材a〜E之剖面SEM影像。 圖12(a)〜(c)係顯示抗反射材A〜E之剖面SEm影像之測定 方法之模式圖。 圖13係顯示抗反射材a〜E之反射光譜之圖表。 圖l4(a)〜(h)係模f〜m之剖面SEM影像。 圖15(a)〜(h)係從相對於模f〜m之表面整體之法線方向傾 斜45度之方向攝像的俯視SEM；影像。 圖16(a)〜(h)係抗反射材F〜Μ之剖面SEM影像。 圖17a係顯示抗反射材f〜I之反射光譜之圖表，（b)係顯示 抗反射材J〜Μ之反射光譜之圖表。 圖18(a)及（b)係先前之蛾眼用模（壓模）之模式圖。 【主要元件符號說明】 100 蛾眼用模 200 抗反射材 p 平均距離 q 孔之平均深度 r 鞍部之平均深度 152421.doc