TW201119780A - Laser methods to create easy tear off materials and articles made therefrom - Google Patents

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201119780 六、發明說明： 【發明所屬之技彳钎領域】 相關申請案的交互參考 此申請案主張2009年9月18曰申請之臨時申請案 61/243,579的優先權利益，該案之揭露内容併入此處作為 參考。 發明領域 本發明領域針對一種含有預製之撕開線的材料及製造 該種物品的方法。 t ^ 發明背景 丨玉丁辦衣低保留足夠拉伸強度以防止不 想要之撕裂的產品典型上經由打洞相。㈣傳統上由機 械切割器產生，機械切割器由多數被凹陷分隔的削尖端點 組成。當切割器接觸到材料時，尖端產Μ、洞。而凹_ 觸的地方，材料維持完整。彼此分隔之洞的此種次序產生 一種在正常情況下維持完整但當 a 的材料。撕裂材_需的外力^外力時會被撕裂 大小與間距而不同。洞的大小與間距:類型以及洞的 性質而變化。 了蜻由改變切割器的 使用切割器來打洞可能是昂貴。 產品(諸如郵票、衛生紙、紙巾在必須預先打洞的 器橫過大的材料^以提供高的產旦、使料多切割 變得磨損時必須檢修或者常常 里、率。當這些切割器 、。此外’切割器的磨損 201119780 導致打洞尺寸及深度的變化，如此使得操作參數必須不時 地改變以提供一致的產品。 在由使用者同時打洞及撕裂的產品（諸如膠帶、紹箱、 保鮮膜等等）中，金屬切割器必須備置於產品中或者可以另 外取得。此造成製造者或使用者的額外花費。 克服傳統切割裝置之問題的一種方式為使用雷射來打 洞材料。傳統的雷射方法藉由橫過材料形成一系列的洞來 產生打洞。利用雷射來打洞材料的一個優點是雷射蒸發了 小且界定清晰的點，而非像典型機械打洞機器—樣穿破或 撕裂材料。然而，使用雷射依然具有許多的缺點。 已經發現小洞對打洞而言較具效率，因為較大的洞比 較不容易撕裂。然而，因為光束的直徑與雷射的區域大小 成比例，所以較小的洞表示較小的操作地帶或“區域大 小。例如，具有四英吋區域大小的雷射能夠產生直徑約 0·02 mm的洞。雖然此種洞尺寸對於穿過某些材料可能是 理想的，但是橫向60英吋的材料薄片會需要15個分別的 雷射同步化操作來成功地產生所欲的打洞結果。 使用複數雷射來打洞材料存在有許多問題。使用的雷 射越夕，因為需要控制及監控各個單元，所m變得越 複雜^射賴完美蘭步切產生相符的打洞結果。考 慮到/又有兩個雷射在能量輸出上係完全相同的，各個雷射 必須被小心地校正及調整以同步地執行，否則從—雷射至 另雷射會呈現出明顯的不一致，而於橫過材料的打洞結 果亦復如此。任—雷射的功能不良或變化將造成產品無法 201119780 使用而且需要關閉整個生產線以進行維修。 替代複數雷射的一種方式牽涉使用分光計來從單一雷 射產生分別的光束。雷射光束可以被分裂而依然有效的數 量係有限制的，如此仍然需要一個以上的雷射，因此存在 與先前一樣的問題，但由於分光計加入後的複雜性使得問 題更加惡化。此外，使用分裂雷射光束的系統比傳統型的 更加昂貴。 除了上述的缺點之外，典型的雷射打洞系統需要各種 複雜的加工資訊。依據材料的不同，洞尺寸、洞形狀、洞 間距及洞數量必須受到控制以製造易於撕裂的產品。當必 須使用複數雷射時，各個雷射必須有自己的精密控制系 統，而且就各個雷射而言加工資訊必須被輸入並精確地執 行。 c發明内容3 發明概要 本發明的第一面向針對一種具有第一表面及第二表面 的片狀材料。雷射蝕刻線存在於其中一表面上。該材料於 施用外力時將會沿著雷射蝕刻線分離。 也提供一種製造易於撕裂之片狀材料的方法。該方法 包括提供材料薄片及具有工作地帶之雷射的步驟。該材料 橫過工作地帶移動及該雷射於材料表面中蝕刻一線段。 本發明的另外面向，包括在觀看附隨圖式及閱讀以下 的詳細說明後將會變得明白的額外方法、系統、裝置及物 品 5 201119780 圖式簡單說明 第1A圖為例示的雷射蝕刻線。 第1B圖為第1A圖所示雷射蝕刻線的放大圖。 第1C圖為第1B圖所示雷射蝕刻線的放大圖。 第2圖為例示的雷射蝕刻線。 第3圖為例示的雷射蝕刻線。 第4圖為例示的雷射蝕刻線。 第5A圖為例示的雷射蝕刻線。 第5B圖為第5A圖所示雷射蝕刻線的放大圖。 第5C圖為第5B圖所示雷射蝕刻線的放大圖。 第6圖為例示的雷射蝕刻線。 第7A圖為例示的雷射蝕刻線。 第7B圖為第7A圖所示雷射蝕刻線的放大圖。 第7C圖為第7B圖所示雷射蝕刻線的放大圖。 第8A圖為例示的雷射蝕刻線。 第8B圖為第8A圖所示雷射蝕刻線的放大圖。 第8C圖為第8B圖所示雷射蝕刻線的放大圖。 第9A圖為例示的雷射蝕刻線。 第9B圖為第9A圖所示雷射蝕刻線的放大圖。 第10圖為d-最佳電腦設計實驗之結果的圖形，其顯示 例示雷射蝕刻線的撕裂等級。 第11圖為d-最佳電腦設計實驗之結果的圖形，其顯示 例示雷射触刻線的拉伸等級。 第12圖為d-最佳電腦設計實驗之結果的圖形，其顯示 201119780 例示雷射蝕刻線的撕裂等級。 第13圖為d-最佳電腦設計實驗之結果的圖形，其顯示 例示雷射触刻線的拉伸等級。 第14圖為d-最佳電腦設計實驗之結果的圖形，其顯示 例示雷射蝕刻線的撕裂等級。 第15圖為d-最佳電腦設計實驗之結果的圖形，其顯示 例示雷射触刻線的拉伸等級。 第16圖為d-最佳電腦設計實驗之結果的圖形，其顯示 例示雷射蝕刻線的撕裂等級。 第17圖為d-最佳電腦設計實驗之結果的圖形，其顯示 例示雷射蝕刻線的拉伸等級。 第18圖為d-最佳電腦設計實驗之結果的圖形，其顯示 例示雷射蝕刻線的撕裂等級。 第19圖為d-最佳電腦設計實驗之結果的圖形，其顯示 例示雷射触刻線的拉伸等級。 第20圖為d-最佳電腦設計實驗之結果的圖形，其顯示 例示雷射蝕刻線的撕裂等級。 第21圖為d-最佳電腦設計實驗之結果的圖形，其顯示 例示雷射餘刻線的拉伸等級。 第22圖為用於蝕刻線段的例示雷射系統。 【實方方式]I 例示實施例及例示方法之詳細說明 現將針對附隨圖式所顯示之本發明例示實施例及方法 為詳細地說明，其中全部圖式中類似的參考標號表示類似 201119780 或對應的/生 , J。丨件。然而，應該注意的是，本發明於其寬廣的 並不限於就例示貫施例及方法所顯示及描述的特 節、代表性裝置'組成物、方法及說明性實例。 於各種例不實施例中，先前技藝的缺失可經由使用雷 射在材料薄片表面上似，1線段而克服。高功率 '大區域尺 :的雷射可用於在橫過移動中的材料薄片上產生周期性的 二射餘刻線。如第1A_9B圖所清楚顯示者，此線可包括部 j人表面段落、完全穿人表面段落及/或未穿人表面段落 _此與產生個別一致性間隔的打洞相反。線可以單 =作而㈣’如此它可因雷射橫過材料薄片的單一通過 或掃心而產生。此外，線可橫過材料寬度而連續。此種方 式的钱刻讓材料可以輕易用手撕裂，但維持足夠的拉伸強 、防止正“吏用時不想要的分離或裂開。控制雷射的雷 射％里、掃描速度、負載循環及頻率將可控制似彳特性。 相對於需要複雜的輸人以控制洞尺寸、洞形狀、洞間距及 洞數里的典型方法，控财些魏可以簡化齡。其他可 乂机的④數包括.控制因子設定，其讎減速及加速期 間在邊界地▼的雷射功率以維持軸所要的特性；跳躍速 度，其控制加工點（於該處雷射為不活性)之間的雷射速度； 雷射物鏡的尺寸，f射波長；及雷射聚线移。利用這些 方法，掃描速度可以達到從每秒1〇么、尺至每秒65公尺: 上°故實質上比傳統雷射系統(其沿著直線在分離的各點停 下以產生個別的洞）還快。 經由此種方法，具有大區域尺寸的單一雷射可用於各 8 201119780 種不同特性的材料上。雖然在某些情況下，可能需要超過 一種的雷射，但是任一應用所需的雷射數目將比傳統方法 顯著地減少。所以，必要的雷射數目大幅下降使得更大的 材料薄片可以蝕刻且成本更低、時間越少及更不需要監控 及控制。 根據材料及其特性的不同，雷射能量可以調整。例如， 具有連續能量輸出3,000瓦的雷射（其與當雷射具有暫時性 能量突增或雷射係脈衝時的功率輸出不同）可以藉由將雷 射的功率設定調整為整體功率的百分比而變化。 掃描速度為雷射光束與材料表面彼此相對移動時的速 度。此速度可藉由控制雷射光束的移動、材料的移動或兩 者的組合而變化。 負載循環為在各個脈衝期間雷射開啟的時間比例。改 變負載循環控制送至材料的功率數量。例如，單一雷射的 使用可以僅藉由控制負載循環而達到1,000及3,000瓦之間 的功率程度。 送至材料的功率也可藉由調整雷射頻率而改變。雷射 頻率為每秒發射的脈衝數目。所以，頻率越高轉送至材料 的功率將會越大。 就一給定的雷射系統、區域大小、材料厚度及/或材料 特性，存在有各種雷射設定，其可產生易於沿著雷射蝕刻 線撕裂但依然保留足夠拉伸強度的樣品，以避免應用時發 生不想要的撕裂。於此通篇說明書中，易於撕裂但依然保 留足夠拉伸強度之材料的概念將會重複地討論。應該注意 201119780 的是，並無絕對具體的魏”化此概念，因為不同的材 料及其等所欲的應⑽導致不同的數值H易於撕裂 可意指使用者不必過度使力就可以撕開材料，而且該材料 將沿著侧以相當錄的方式撕開。足_拉伸強度意指 標準操作甚至稍微拉動或扯動_刻的材料並不會=沿 著_線的分離，如此可以防止意外地或不經意地分離。 在另-例子中，經触刻的材料可被置於—些拉伸應力下而 =分離，但在剪應力下會沿著姓刻、線容易地分開。於例示 實施例中，材料之雷射蝕刻部分的拉伸強度將介於225 —in及67 Ibs/in之間，例如3 lb/in及22 lb/in，或4比如 及15 lb/in之間，其中長度單位表示膠帶的寬度。如上所 述’精確的數值將基於材料及應用而不同。習於此蓺者經 由本發明内容的教示將可了解適當的數值。

經由調整雷射能量、掃描速度、負載循環及頻率可以 建到理想的結果。例如，具有20英叫·區域大小的3,〇〇〇瓦 C〇2雷射將用來蝕刻由定向聚丙烯（opp)製造的薄片。— 已經被取得的例示設定發現40%功率、60%負載循環、掃 &逑度20 m/s及頻率60 kHz的雷射操作產生適於用作包 裝勝帶之經雷射蝕刻的OPP膠帶，其易於沿著蝕刻線撕裂 在正常使用時具有足夠的強度以對抗撕裂。然而，其他 的操作變數組也可產生有利的特性。傳統的包裝膠帶通常 需要切割器以再需要時切割膠帶，因為高度拉伸性使得膠 帶無法容易地撕裂，然而本發明膠帶並不需要切割器，因 為需要時該膠帶可用手撕裂。使用3,000瓦C02雷射於0PP 10 201119780 膠帶中產生有利特性之-些設定的例子呈5見於以下的第【 表中。第1表所示的數據顯示在膠帶材料蝕刻線段的不同 操作參數。各組數值均被測試，而且撕裂等級及拉伸等級 破指定，其中1代表不良拉伸或撕裂等級，而5代表優秀。 第1表 負載循 掃描速 頻 率 撕 裂等 拉伸~^1 瓖(％) 度(m/s) (khz) 級 ’ 'T -vj* 級 60 20 60 4 "^60 20 40 4 *τ 60 20 60 4 20 20 5 *τ 60 20 20 60 20 20 ~ 3 60 20 10 4 60 20 10 4 ~^60 20 10 ~4~~~ Η 60 20 10 3 60 25 40 ~4~~ 60 25 40 4 —- 60 25 20 4 60 25 20 4 60 25 20 4 ~^60~~ 25 10 ~4~~~ J 60 25 10叫 4 60 25 10 ~4~ τ· 60 25 10 5 60 25 10 4 60 30 20 ~4~~~ —4^ 60 30 20 4 60 30 20 4 ~~4 — 60 30 20 4 60 30 10 4 ~~~~4^ 60 30 10 4 50 20 60 5 *τ 45 20 60 5 30 20 20 4 ~~5^- 35 20 20 4 50~~ 20 10 4 4^- 45 20 10 4 功率

55 4? ^0 *---. 40 $ --—. 45 i?

IT ---- 60 ~β5 ~45 ...........— 土5 ~5〇 ---- 55 --- 40 'βΟ 55 *5? ------ 60 11 60 201119780 60 40 20 10 60 35 20 10 65 40 20 10

些設定的一些組合產生優秀撕裂性及良好拉伸性，_此組 合產生良好撕裂性及優秀拉伸性，及一些組合產生良好撕 裂性及良好拉伸性。然而，要強調的是大部分雷射功率、 負載循環、掃描速度及頻率的設定組合在撕裂性為不滿音 或者拉伸性為不滿意上並未產生足夠的結果。 如第1表清楚顯示者’雷射輸出可以根據個別操作參 數而受控制。然而，雷射輸出也可以根據每單位時間的能 量密度(EDPUT)而受控制。EDPUT為界定在某時間内施加 至某面積之功率數量的參數。EDPUT可以瓦_sec/mm3或其 他類似單位表示，其表示連續雷射能量（瓦)除以雷射光點 的移動速度(mm/s)及雷射光點的面積(mm2)。EDPUT可 由改變功率、負載循環或就給定功率之雷射相對於工作件 的速度而控制’或藉由其他參數及參數的組合而控制。 EDPUT可被控制以停留在一定範圍内來以可重複的方式 達到所欲的結果。關於EDPUT決定的進一步細節可以於 美國專利第5,990,444號發現’該文件之揭示内容併入此處 作為參考。 例如’為了產生易於撕裂的材料，雷射速度可介於1〇 及50 m/s之間’雷射的光點直徑可介於〇.05及〇·3 mm之 間，雷射功率可介於1000及5000 W之間。此導致EDPUT 的範圍介於0.28及254.77瓦-Sec/mm3之間。應該注意的 是，不同的參數可以改變而仍然導致相同的EDPUT數 12 201119780 值，然而，相同的EDPUT數值不總是提供相同的撕裂及拉 伸性質。 應該也要注意的是，各類操作參數均被認為係屬於本 發明的範圍之内。操作參數的稍微變化會產生不同的結 果。材料的種類、表面品質及厚度將會導致與此處討論之 例示數值具有差異，但是依然落入本發明的範圍内。本發 明除去控制洞尺寸、洞間距及洞數目的需要。並非雷射掃 描材料薄片的表面，而是改變材料使得它可易於撕裂而依 然具有足夠的拉伸強度。雖然例示實施例中討論及顯示直 線，其他類型的線條包括波浪、曲線或折線也可使用。

第1-9B圖顯示含撕開線的材料，該撕開線係利用具有 各種不同操作參數的雷射而產生。就所有這些例子而言係 使用3,000瓦C〇2雷射。第1 _8C圖表示蝕刻於〇PP膠帶 的線雷射。OPP膠帶為雙轴向聚丙稀薄膜膠帶，典型上塗 有以溶劑為主的丙烯酸黏劑。任何OPP膠帶的例子由J.V

Converting公司公產’型號〇pp_22CC，其說明書併入此處 作為參考。此膠帶由30微米雙軸向聚丙稀製作，2.2 mils 厚，具有典型拉伸強度為20 lb/in。第9A及9B圖代表蝕 刻於牛皮紙(kraft)膠帶的線雷射。牛皮紙膠帶的例子為j.v. Converting公司所生產，型號FPPT-01，其說明書併入此處 作為參考。此膠帶由塗有天然/合成橡膠混合黏劑的牛皮平 背紙製作，它為7 mils厚，且具有拉伸強度36 lb/in。 触刻的牛皮紙及OPP膠帶如此處例示實施例所示，但 是不受限於此。各類膠帶(諸如醫用膠帶、電氣膠帶、透明 13 201119780 膠帶、辦公室膠帶、防水膠帶、地毯膠帶、魔術貼 (Velcro)、丙烯酸膠帶、非黏性膠帶等等）可雷射蝕刻而產 易於撕裂的材料。相似地，雷射蝕刻線可用於取代在各 薄片材料(諸如紙類、塑膠類、皮革類、金屬片類等^員 上打’同。對於各種材料，操作參數可以變化以達到最終產) 品的最佳平衡，亦即易於撕裂而於使用期間保留足夠= 度。可以使用各種類型的雷射而仍然達到所欲的結果。例 如’可以使用200瓦雷射或釔鋁石榴石（Yag)雷射。使用丫叫 雷射造成遠遠為小的光束直徑，所以在某些應用上具有其 優點。 第1A-C圖顯示蝕刻於OPP膠帶12的線1〇。於例示實 施例中，使用40〇/。功率、60%負載循環、掃描速度2〇市/3 及頻率60 1^^^的3,000瓦雷射產生線1(^第1八圖顯示經 由光學立體顯微鏡(OSM)所觀看的膠帶12。線1〇含有膠帶 12表面被雷射部分穿入的區域14。第1B及1C圖顯示相 同的線1〇從掃描式電子顯微鏡(SEM)更詳細地觀看。如第 1B及1C圖清楚顯示者，雷射在區域16穿透膠帶。雷射 的一次通過產生線1〇 ’深度在不同部分14，16的變化係由 於經控制之雷射參數之故。線1 〇造成良好撕裂性及優秀拉 伸性的膠·帶12。 第2圖顯示經由0SM觀察之蝕刻於材料薄片22的線 20。於例示貫她例中使用35%功率、60%負載循環 '掃 描速度2〇m/s及頻率2〇kHz操作的雷射產生線20。線20 穿入讨料22表面但未完全蝕刻穿過。此在材料22中造成 201119780 凹坑24。如第2圖清楚顯示，由於雷射參數受到控制，所 以凹坑24沿著其等的深度具有各種不同的輪廓。凹坑％ 的輪廓，加上線20的其他性質，造成—種易於沿著線2〇 無誤差地撕裂，但是依然保留足夠的拉伸強度的材料Μ。 據此，線20導致良好撕裂性及優秀拉伸性。 第3圖顯示經由〇SM觀察之蝕刻於材料薄片的線 3〇。於例示實施例中，使用45%功率、6〇%負載循環、掃 描速度25 m/s及頻率20 kHz的雷射操作產生線3〇。這些 參數沿著線30長度產生凹坑34。雖然相似於第2圖但是 線3〇的凹坑34比第2圖的凹坑24彼此分得更遠。此係由 於雷射掃描速度增加，但頻率依然維持相同之故。雖然有 。，的不同，但兩條線20，30展現易於撕裂但維持足夠拉 伸強度的所欲品質。 條相似的線40顯示於第4圖。於此例中，雷射設定 為65%功率、60%負載循環、掃描速度25 m/s及頻率1〇 kHZ。再次，線40被蝕刻但沒有完全穿過材料42。此設定 著其等的深度產生含有變化輪廓的凹坑44，類似於第2 及3圖的線20 ’ 30。線20及30造成良好撕裂性及優秀拉 伸【而線40具有優秀撕裂性及良好拉伸性。所以，當撕 裂材料的能力增加時，拉伸強度下降。 第5A-C圖顯示蝕刻於材料52的線50。第5Α圖顯示 經由OSM觀察之線50,而第5Β及5C圖顯示經由SEM觀 察的線50。於例示實施例中，使用設定為40%功率、60% 負載楯環、掃描速度30 m/s及頻率20 kHz的雷射產生第 15 201119780 5A圖的線50。線50包括沿著其等深度具有變化輪廓的凹 坑54 »這些凹坑54在第5b及5C圖的SEM影像中以更 為接近的方式呈現。線50造成具有良好撕裂性及優秀拉伸 性的材料52。 如上所述，改變操作參數將在材料中產生不同的表面 輪廓。如於第6圖清楚顯示者，設定為55%功率、5〇%負 載循環、掃描速度20 m/s及頻率60 kHz之雷射所產生的線 6〇形成幾乎直線的溝槽，而沒有任何的主要凹坑或洞。此 溝槽64的中心深度大於側邊部分66的深度，根據雷射參 數的不同側邊部分可為圓形或傾斜向下。雖然線6〇與其他 者不同，它依然展現所欲的特性，即具有優秀撕裂性及良 好拉伸性。 如第1A-6圖所清楚呈現的，本發明可以達成數種完全 不同的表面外形及製造具有必要之可撕裂性及拉伸強度的 f品。雖然實施本發明時不必專注於精確的表面特性:但 是某些表面㈣可在特㈣料或朗巾提供好處，如同習 •於此藝者研讀過本揭露内容之後將可以了解者。 不同操作參數可產生相似卻完全不同特性的表面浐 廓。第7A-C圖顯示以設定為60%功率、3〇%負裁猶環、: 描速度20 m/s及頻率20 kHz之雷射蝕刻的線7〇。 ^二 牙》/A圖 顯示經由OSM觀察的線70,而第7B及7C圖顯示經由 SEM觀察的線70。第7A圖之線70含有凹坑74，穿2表 面，但沒有穿透材料72。第8A_8C圖顯示__ = 磨，其中線80具有多個位在溝槽86内部的凹坑^ 16 201119780 疋為6〇〇/0功率、6〇%負載循環、掃描速度 30 m/s及頻率6〇 龟射钱刻的線80。第8 A圖顯示經由〇SM觀察的線 80而第8B及8C圖顯示經由SEM觀察的線80。雖然線 7〇及80的表面輪廓類似’但是線80展現不良的拉伸強度。 所以’用於產生線80所增加的負載循環及頻率造成一種過 度谷易撕裂的材料，使得它不適於經常使用。然而，線7〇 於經$操作下仍然有用，而且當所欲時依然展現易於撕裂 的f生貝。據此，可以不需要如傳統打洞一般，典型地依賴 個別洞或表面元件的數目、間距及大小來決定是否獲得良 好的拉伸性及良好的撕裂性。 第9A及9B圖顯示使用3,000瓦c〇2雷射而蝕刻於牛 皮紙膠帶92的線90。雷射設定於4〇。/。功率、60°/。負載循環、 掃描速度20 m/s及頻率60 kHz。如第9B圖清楚顯示者， 雷射部分地穿入膠帶92表面而造成凹坑94。 如第10-21圖所清楚顯示者，也實行電腦成型以近似 估算額外例示雷射設定的結果。D-最佳電腦設計實驗技術 被用以決定雷射功率、掃描速度、頻率及負載循環的可接 受組合以製造易於撕裂但保留足夠拉伸強度的材料。〇_最 佳電腦測試使用基於統計準則的運算以評估設計。在各欠 測試之後，撕裂及拉伸各排序為i至5，其中1為最糟，5 為最好。以迭代(iterations)實行測試，各先前測試的結果決 定後續測試的參數。在3,0〇〇瓦C〇2雷射，能量程度於 30%及70%峰值雷射輸出之間下，測試不同負載循環的點。 不同圖形代表不同掃描速度（SS)(以m/s表示）與不同頻率 17 201119780 (以kHz表示）。 第10-21圖揭露經測試參數的反應等高線。比較第 10-21圖顯示對於撕裂等級絕對最佳的雷射設定組合很可 能對於拉伸等級是最糟的，反之亦然。所以，為了確認達 到撕裂及拉伸性之最佳平衡的雷射設定組合，實行最佳 化’對於撕裂性及拉伸性分配相等的加權權數。然而，若 想要時，根據應用及材料的不同’撕裂及拉伸等級可為不 同的加權。 於此案例中，就測試的OPP膠帶而言，可以推導出最 佳設定將達到預期的撕裂等級4.35及預期的拉伸等級 4·48。為達到此目的已經決定出例示的雷射設定：（3,〇〇〇瓦 可利用功率中的)45%功率；85%負載循環；2〇 m/s掃描速 度；及10 kHz頻率。然而，這些實驗揭露就特定的測試膠 帶而言，仍有其他數種的雷射設定組合可以產生接近此最 佳值的良好結果。 對於3,〇〇〇瓦功率及5〇 m/s掃描速度效能的雷射進行 額外的試驗。兩種不同膠帶（Henkel公司Hp26〇 〇pp膠 帶’ 3 mils厚（0.003英时)與Shurtape Fp96牛皮紙膠帶，6 2 milS厚(〇·0062英时))被用於這些試驗。再度，可以發現存 在有種雷射文數(諸如能量、掃描速度、頻率及負載循環) 的組合’此組合可產生㈣性及㈣㈣最料衡。第2 表揭露產生優綠果之料贈60膠帶㈣示雷射机定 第3表揭露產生優秀結果之用於牛皮紙膠帶的例示雷又射設 定。應該注意的是，這些結果並非意謂者限制，相反地， 18 201119780 也可使用其他數值而依然落入本發明的範圍内。第2及3 表所示的結果僅僅強調即使在50 m/s掃描速度下仍然可以 得到良好結果。這對於製造容易撕裂產品的成本具有經濟 上的顯著影響，因為大部分雷射系統具有顯著受限的掃描 速度（例如4 m/s或更低）。據此，相較於先前技藝之方法， 本發明對於各種材料的處理時間可以顯著地減少。 於例示實施例中，具60英吋區域大小的3,000瓦雷射 以掃描速度50 m/s在移動中的60英吋OPP膠帶材料薄片 上蝕刻線段。或者，三個高功率雷射（各具20英吋區域大 小）可以高速在相同移動中的薄片上雷射蝕刻線段。比較 上，對相似材料鑽孔或穿洞的傳統雷射係相當地受限，其 中需要10-15低功率雷射而各雷射的掃描速度不超過4 m/s。 第2表 功率(％) 負載循 環（％) 掃描速 度（m/s) 頻 率 (khz) 撕裂等 級 拉伸等 級 60 60 20 10 4 4 40 60 30 20 4 5 45 85 20 10 4 5 65 85 50 20 4.5 4.5 第3表 功率(％) 負載循 環（％) 掃描速 度（m/s) 頻 率 (khz) 撕裂等 級 拉伸等 級 60 60 20 10 4 5 55 60 30 20 5 5 77 85 50 20 5 5 60 85 50 60 4.5 5 於例示實施例中，藉由以電流計驅動之鏡子移動雷射 光束橫過材料表面而產生钱刻線。如第22圖清楚顯示者， 19 201119780 雷射111朝向電腦控制的鏡系統發出光束112。 顯示的鏡系統包括X軸鏡113，其轉動地安裝在χ # 電流計114上且由X軸電流計114驅動。X軸電流計114適 於轉動並引起X軸鏡113的轉動。轉動X軸鏡113，同時 使雷射光束112入射在鏡113上，造成雷射光束112沿著 X軸移動。數字控制的電腦115控制能量源116的輪出， 其控制X軸電流計114之X軸鏡113的轉動。雷射光束li2 被X轴鏡113折射並朝向轉動地安裝在γ轴電流計ία卜 的Y軸鏡117〇Y軸電流計118適於轉動並引起γ轴鏡 的轉動。Υ軸鏡117的轉動引起入射於鏡117上之雷射光 束112沿著Υ軸移動。控制電腦115控制送至丫軸電流， 118之能量源116的輸出以控制y軸電流計118的轉動。 習於此藝者將了解不同的光學裝置及透鏡（諸如凹透 鏡、凸透鏡、聚焦透鏡、圓柱透鏡、鏡子、分光鏡、組入 鏡或反射鏡等等）可被引入於該鏡子的前面或後面。添加這

些光學裝置可用以調整各種應用所必須之雷射性質及蝕列 操作參數。 X 該裝置更包括可為固體基板的工作表面12〇，諸如桌子 或輸送器或流體化床。此外，工作表面120可正好為材料 薄片121橫向移動通過(例如從一捲軸至另一捲軸)之雷射 1U的工作地帶，其並無特別的支持構造。材料（或工作 片）121被置於工作表面12〇上。材料121包括要被蝕刻的 表面122。雷射光束112被鏡113，117引導至材料121的 表面122。通常上，引導雷射光束112使其大致垂直表面 20 201119780 122, 但是藉由調整雷射光束112及表面122的角度從約45° 至約135°可以獲得不同的結果。雷射光束112與接觸材料 121表面122的相對移動使得線123蝕刻於表面122上。數 字控制電腦115控制鏡113, 117的移動及時間點以蝕刻線 123。 如此處所述者，相對移動可以牽涉移動雷射光束 112(例如，使用鏡系統）而材料121保持靜止，移動材料121 而雷射光束112保持靜止，或是雷射光束112及材料同時 移動的組合（例如在快速移動連續列印過程之雷射蝕刻的 事例中）。當材料121移動時，藉由沿著軸移動的電流計鏡 113，117，雷射光束112僅以週期的方式蝕刻段落。雷射 光束112可以控制使得材料121不會停止移動，但是直線 依然蝕刻於材料上。此外，雷射光束112可橫過材料121 而為連續性移動。應該注意的是，雷射光束112的連續掃 描並非總是造成連續線段。雷射111的負載循環及頻率可 以控制使得雷射光束112在材料121的某些段落上沒有影 響或僅有極少的影響，因而形成可以產生不連續線段之連 續掃描的雷射光束112。 雖然只顯示單一材料片121，但是利用移動橫過工作表 面120的材料薄片可以理想上實施本發明。根據材料121 的寬度不同，可能需要超過一個雷射111以產生線123。若 是超過一個方向的線係需要的（例如垂直線及水平線），則要 使用額外的雷射112。當然，單一可移動性雷射可用於產生 該兩種線。此外，材料薄片121可為固體材料片121或是 由個別的材料條121所組成。例如，材料121可以為已經 21 201119780 =別寬度的不同膠帶捲。這些膠帶捲可被放置於單— 的膠帶捲=動可1 過:射U1的工作地帶12°。這_ 二或者，單—材料 為具有相等或不同寬产的；:過接著被分離成 的分割可以雷射細,^=別材料片121。單—材料片⑵ 藉由個別的雷射執行。^的相同雷射111執行，或是可 於黏性膠帶上時，此處所7纽意的是’當本發明實施 支樓物之前或之後執行。的操作可在黏劑被施用至膠帶 除了第22圖所示者以外，也可藉由其他有效的 =於材料上掃描。此_子包㈣χ_γ方式移動吏 U1 ’以Μ方式移動工作表面⑶，或此兩者的組合。例 如糟由導向螺桿及線性驅動馬達可以移動工作表面12〇及 雷射m ’但是任何合適的方法也是可接受的。經由移動雷 射hi或是工作表面120可以調整雷射ui與材料⑵的 距離。系統也可包括含有鈍氣的儲槽，該鈍氣將被注入雷 射的工作區域中。 用以控制雷射的其他系統及方法描述於美國專利申請 案序號第11/420,543號(公開號為第細7/_17()號）中， 其併入此處作為參考^ ' 可以變化薄片的饋入速率及雷射的操作參數以對不同 材料提供最佳的縣。這麵數W㈣未顯示)調控。 於各種例示實施例中，該控制器為數字控制電腦系统，作 是也可使用任何其他電腦线1射㈣ϋ可與鏡控制器 22 201119780 115相同或是它可以是分離的、專用單元。 几使用者可將所欲 的參數輸入系統、選擇自預先儲存的表格或是直接基於與 材料特性及所欲的最終產品關聯之變數备 双糸統叶算。可使用 任何類型的程式語言以程式化控制器，諸4 p '-'Java'Fortran 等等。程式化控制器 的過程可局部執行或是經由網路執行。 於各種例示實施例中，若雷射能量 負載循環、掃描 可以獲得可接 一種就特定材 ’執行利用D-讓許多變數可 速度及頻率受到控制且忽視材料外觀的話， 受的結果。於例示實施例中，本發明也針對 料最佳化這些變數方法。經過多次試驗之後 最佳實驗設計的統計分析。D _最佳實驗設計 以有效率的被研究m制賴被平均算⑽ ㈣’獨立魏_交互作肢轉影響料分析，而且不 想要的或低資訊實驗_除。執行D_最錢計之程式的例 子為來自Haller f訊科技系統的"實驗設計最佳者"。獨立 ，數及其等的程度被輪人軟體程式中。輸出為達到令人滿 思之顯著結果所要進行的特定數目的實驗，實驗的次序以 個獨立變數的程度。在此事例中，從屬變數為等級從 1至5的撕裂強度及拉伸強度。獨立變數為 雷射能量、掃描 速度、負载循環及頻率。 實驗Γ實驗6經執行之後，湘迴歸翻分析這些 一 彳于的數據。迴歸分析有助於了解當變化雷射參數之 、/、他不4時’撕裂及拉伸等級如何變化。一些可 使用之y、 或各.^万法的例子為線性迴歸，普通最小平方迴歸， 5 1非參數性迴歸。執行迴歸分析之程式的例子為來自 23 201119780 科技系統的“多重關聯分析”。來自統計設計實驗 的^?輪人此軟體中。該程式然後可以產生各種不同的 迫’其等使撕裂及拉伸強度與雷射能量、掃描速度、 負載循％、頻率及所有它們的交互作用為定量性關聯。 最後，撕裂及拉伸等級最好平衡的最佳過程設定可以 丄由婁干最佳化而決定。執行最佳化之程式的例子為來自

Hatof訊科技系統的"複數性質最佳化，，。線性迴歸決定之 δ Λ式作為此|人體的輸人值^各種加權被指定予撕裂及 拉伸等級而且軟體妓雷射《、掃描速度、負載循環及 頻率設定以相撕裂性及拉伸性之_最好平衡。以此方 式’可以發展出足夠的雷射參數以在各種材料上產生所欲 的品質。 本發明例示實施例的先前描述係為了說明的目的而呈 現所揭路者並未窮盡本發明，亦不想將本發明受限於揭 露的内容。經由以上的教示明顯的修改及變化係可能的。 例如，其他材料、數值及數目也可以使用。上述揭露的實 施例只是為了最佳顯示本發明的原理及其實際應用而選 擇’藉以讓習於此藝者得叫佳地湘本發明於各種實施 例中，而且只要依循此處所述的原理，則各種修改將適合 於預期中的特別用途。因此，對於上述的發明可以為變化 而未脫離其目的及㈣。更J_，—實施㈣特徵或組件可 被提供於另一實施例中。因此，本發明將會涵蓋所有的這 些修改及變化。 【圖式簡單說明】 24 201119780 第1A圖為例示的雷射蝕刻線。 第1Β圖為第1Α圖所示雷射蝕刻線的放大圖。 第1C圖為第1B圖所示雷射蝕刻線的放大圖。 第2圖為例示的雷射蝕刻線。 第3圖為例示的雷射蝕刻線。 第4圖為例示的雷射蝕刻線。 第5A圖為例示的雷射蝕刻線。 第5B圖為第5A圖所示雷射蝕刻線的放大圖。 第5C圖為第5B圖所示雷射蝕刻線的放大圖。 第6圖為例示的雷射触刻線。 第7A圖為例示的雷射蝕刻線。 第7B圖為第7A圖所示雷射蝕刻線的放大圖。 第7C圖為第7B圖所示雷射蝕刻線的放大圖。 第8A圖為例示的雷射蝕刻線。 第8B圖為第8A圖所示雷射蝕刻線的放大圖。 第8C圖為第8B圖所示雷射蝕刻線的放大圖。 第9A圖為例示的雷射蝕刻線。 第9B圖為第9A圖所示雷射蝕刻線的放大圖。 第10圖為d-最佳電腦設計實驗之結果的圖形，其顯示 例示雷射蝕刻線的撕裂等級。 第11圖為d-最佳電腦設計實驗之結果的圖形，其顯示 例示雷射蝕刻線的拉伸等級。 第12圖為d-最佳電腦設計實驗之結果的圖形，其顯示 例示雷射蝕刻線的撕裂等級。 25 201119780 第13圖為d-最佳電腦設計實驗之結果的圖形，其顯示 例示雷射姓刻線的拉伸等級。 第14圖為d-最佳電腦設計貫驗之結果的圖形’其顯不 例示雷射蝕刻線的撕裂等級。 第15圖為d-最佳電腦設計實驗之結果的圖形，其顯示 例示雷射姓刻線的拉伸等級。 第16圖為d-最佳電腦設計實驗之結果的圖形，其顯示 例示雷射蝕刻線的撕裂等級。 第17圖為d-最佳電腦設計實驗之結果的圖形，其顯示 例示雷射触刻線的拉伸等級。 第18圖為d-最佳電腦設計實驗之結果的圖形，其顯示 例示雷射蝕刻線的撕裂等級。 第19圖為d-最佳電腦設計實驗之結果的圖形，其顯示 例示雷射I虫刻線的拉伸等級。 第20圖為d-最佳電腦設計實驗之結果的圖形，其顯示 例示雷射蝕刻線的撕裂等級。 第21圖為d-最佳電腦設計實驗之結果的圖形，其顯示 例示雷射蝕刻線的拉伸等級。 第22圖為用於蝕刻線段的例示雷射系統。 主要元件符號說明】 10...線 20... ，線 12... OPP 膠帶 22... .材料 14...區域 24... ，凹坑 16...區域 30... .線 26 201119780 32... 材料 86... 溝槽 34... 凹坑 90... 線 40... 線 92... 膠帶 42... 材料 94... 凹坑 44... 凹坑 111... 雷射 50... 線 112... 光束 52... 材料 113... X軸鏡 54... 凹坑 114... ,X軸電流計 60... 線 115... .電腦 64... 溝槽 116... .能量源 66... 側邊部分 117.., .Y軸鏡 70... 線 118·. .Y軸電流計 72... 材料 120.. .工作表面 74... 凹坑 121·· .材料薄片 80... 線 122·· .表面 84... 凹坑 123.. •線 27

Claims (1)

1. 201119780 七、申請專利範圍： 1. 一種片狀材料，包括： 一第一主要表面； 相對設置的一第二主要表面；及 在該表面之一者上的一雷射蝕刻線，其中於施用外 力時，該材料將會沿著該雷射蝕刻線分離。 2. 如申請專利範圍第1項的片狀材料，其中該雷射蝕刻線 為連續掃描的雷射蝕刻線。 3. 如申請專利範圍第1項的片狀材料，其中該雷射蝕刻線 為不連續的。 4. 如申請專利範圍第1項的片狀材料，其中該雷射蝕刻線 為波狀線、拱形線或曲折線之一者。 5. 如申請專利範圍第1項的片狀材料，其中該表面的外形 沿著該雷射蝕刻線的整個長度而改變。 6. 如申請專利範圍第1項的片狀材料，其中該雷射蝕刻線 包括部分穿入該表面的線段。 7. 如申請專利範圍第1項的片狀材料，其中該雷射蝕刻線 包括穿過該第一及第二表面的至少一線段。 8. 如申請專利範圍第1項的片狀材料，其中該雷射蝕刻線 不穿過該第一及第二表面。 9. 如申請專利範圍第1項的片狀材料，其中該雷射蝕刻線 由下列至少兩者組成： 完全穿過該第一及第二表面的線段； 28 201119780 部分穿入該表面的線段；及 不穿入該表面的線段。 10. 如申請專利範圍第1項的片狀材料，其中沿著該雷射蝕 刻線的拉伸強度為介於2.25 lbs/in與67 lbsAn之間。 11. 如申請專利範圍第1項的片狀材料，其中沿著該雷射蝕 刻線的拉伸強度為介於3 lbs/in與22 lb/in之間。 12. 如申請專利範圍第1項的片狀材料，其中該雷射蝕刻線 讓該材料可以用手撕裂，但是不會降低拉伸強度至足以 導致不想要之分離的程度。 13. 如申請專利範圍第1項的片狀材料，其中該片狀材料為 膠帶。 14. 如申請專利範圍第13項的片狀材料，其中該膠帶為牛 皮紙(kraft)、OPP、醫用、電氣、透明、辦公室、防水 (duct)、地毯、魔術貼（Velcro)、丙稀酸或非黏性膠帶的 其中一者。 15. 如申請專利範圍第1項的片狀材料，其中該第一及第二 主要表面的寬度為20英吋以上，且該雷射蝕刻線係沿 著該材料的整個寬度蝕刻。 16. 如申請專利範圍第1項的片狀材料，更包括一條以上雷 射蝕刻線，其中當施用足夠外力時，該材料將沿著任一 雷射蝕刻線分離。 17. —種片狀材料，包括： 一第一主要表面； 相對設置的一第二主要表面；及 29 201119780 橫過該主要表面之一者的一雷射敍刻、連續掃描的 線，其中於施用外力時，該材料將沿著該雷射蝕刻、連 續掃描的線分離。 18. 如申請專利範圍第17項的片狀材料，其中該表面的外 形沿著該雷射蝕刻、連續掃描的線的整個長度而改變。 19. 如申請專利範圍第17項的片狀材料，其中該雷射蝕 刻、連續掃描的線包括部分穿入該表面的線段。 20. 如申請專利範圍第19項的片狀材料，其中該雷射蝕 刻、連續掃描的線更包括完全穿過該第一及第二表面的 線段。 21. 如申請專利範圍第17項的片狀材料，其中該雷射蝕 刻、連續掃描的線不穿過該第一及第二表面。 22. 如申請專利範圍第17項的片狀材料，其中該雷射蝕 刻、連續掃描的線讓該材料可以用手撕裂，但是不會降 低拉伸強度至足以導致不想要之分離的程度。 23. 如申請專利範圍第17項的片狀材料，其中該雷射蝕 刻、連續掃描的線包括沿著其等深度變化輪廓的凹坑。 24. 如申請專利範圍第17項的片狀材料，其中該雷射蝕 刻、連續掃描的線具有大於2.25 lbs/in的拉伸強度。 25_ —種製造易於撕裂之片狀材料的方法，包括： 提供具有第一主要表面及相對設置之第二主要表 面的·一片狀材料薄片， 提供具有工作地帶的雷射； 移動該材料橫過該雷射的工作地帶；及 30 201119780 使用該雷射在該片狀材料的至少一表面中姓刻一 線。 26. 如申請專利範圍第25項之製造易於撕裂之片狀材料的 方法，其中該雷射蝕刻一線的步驟產生包括部分穿入該 表面之線段及不穿入該表面之線段的一線。 27. 如申請專利範圍第26項之製造易於撕裂之片狀材料的 方法，其中該雷射蝕刻一線的步驟產生更包括完全穿入 該材料之線段的一線。 28. 如申請專利範圍第25項之製造易於撕裂之片狀材料的 方法，其中該雷射蝕刻線由下列至少兩者組成： 完全穿過該第一及第二表面的線段； 部分穿入該表面的線段；及 不穿入該表面的線段。 29. 如申請專利範圍第25項之製造易於撕裂之片狀材料的 方法，其中該雷射蝕刻一線的步驟產生橫過該材料寬度 的一連續雷射蝕刻線。 30. 如申請專利範圍第25項之製造易於撕裂之片狀材料的 方法，其中該雷射蝕刻讓該材料可以用手撕裂，但是不 會降低拉伸強度至足以導致不想要之分離的程度。 31. 如申請專利範圍第25項之製造易於撕裂之片狀材料的 方法，其中該雷射的功率輸出介於1，〇〇〇及5,000 W之 間。 32. 如申請專利範圍第25項之製造易於撕裂之片狀材料的 方法，其中該雷射蝕刻線以10 m/s以上的速度蝕刻。 31 201119780 33. 如申請專利範圍第25項之製造易於撕裂之片狀材料的 方法，其中該雷射具有20英吋以上的區域大小。 34. 如申請專利範圍第25項之製造易於撕裂之片狀材料的 方法，其中該雷射的功率輸出介於1，〇〇〇及5,000 W之 間，該雷射的掃描速度介於10及50m/s之間，及該雷 射的光點尺寸介於0.05及0.3 mm之間。 35. 如申請專利範圍第25項之製造易於撕裂之片狀材料的 方法，其中該EDPUT介於0.28及254.77瓦-sec/mm3 之間。 36. 如申請專利範圍第25項之製造易於撕裂之片狀材料的 方法，更包括輸入數據以控制該雷射。 37. 如申請專利範圍第36項之製造易於撕裂之片狀材料的 方法，其中該輸入數據的步驟包括輸入代表雷射之功 率、掃描速度、頻率及負載循環的數據。 38. 如申請專利範圍第25項之製造易於撕裂之片狀材料的 方法，更包括將該材料薄片分離為至少兩個各別材料條 的步驟。 39. 如申請專利範圍第25項之製造易於撕裂之片狀材料的 方法，其中該材料薄片包括超過一個各別材料條。 40. —種製造易於撕裂之片狀材料的方法，包括： 提供具有第一主要表面及相對設置之第二主要表 面的·一片狀材料薄片， 提供具有工作地帶的雷射； 移動該材料橫過該雷射的工作地帶；及 32 201119780 藉由連續掃描雷射於該材料表面上而橫過該片狀 材料的至少一表面触刻一線。 41. 如申請專利範圍第40項之製造易於撕裂之片狀材料的 方法，其中該雷射蝕刻一線的步驟產生包括部分穿入該 表面之線段及不穿入該表面之線段的一線。 42. 如申請專利範圍第41項之製造易於撕裂之片狀材料的 方法，其中該雷射蝕刻一線的步驟產生更包括完全穿入 該材料之線段的線。 43. 如申請專利範圍第40項之製造易於撕裂之片狀材料的 方法，更包括輸入數據以控制該雷射。 44. 如申請專利範圍第43項之製造易於撕裂之片狀材料的 方法，其中該輸入數據的步驟包括輸入代表該雷射之功 率、掃描速度、頻率及負載循環的數據。 45. 如申請專利範圍第43項之製造易於撕裂之片狀材料的 方法，其中該輸入數據的步驟包括輸入代表EDPUT的 數據。 46. 如申請專利範圍第45項之製造易於撕裂之片狀材料的 方法，其中該EDPUT數據介於0.28及254.77瓦 Λ -sec/mm 之間。 47. 如申請專利範圍第40項之製造易於撕裂之片狀材料的 方法，其中該片狀材料薄片的寬度為20英吋以上。 48. —種產生易於撕裂材料的方法，該材料於使用時具有足 夠的拉伸強度以避免不想要的撕開，該方法包括： 指定一設定數值與至少一個雷射參數； 33 201119780 變化該至少一個參數； 就各次變化決定該撕裂等級及拉伸等級；及 決定在撕裂等級及拉伸等級之間提供可接受平衡 的一變化。 49. 如申請專利範圍第48項的方法，其中該決定一變化的 步驟至少部分係藉由使用最佳化程式而執行。 50. 如申請專利範圍第48項的方法，更包括使用D-最佳實 驗設計的步驟，以決定要在該變化步驟中操作的實驗。 51. 如申請專利範圍第49項的方法，更包括執行在撕裂等 級及拉伸等級間決定最佳平衡之步驟的多次迭代 (iterations)步驟。 52. 如申請專利範圍第48項的方法，其中該雷射參數包括 功率、掃描速度、頻率及負載循環。 53. 如申請專利範圍第52項之最佳化易於撕裂材料的方 法，更包括使用迴歸模型技術的步驟，以預測撕裂及拉 伸等級來作為雷射之功率、掃描速度、頻率及負載循環 的函數。 54. —種產生易於撕裂材料的方法，包括： 決定一組實驗，其中該獨立數值包括雷射操作參數 及該依賴變數為材料的撕裂及拉伸等級； 執行各個實驗； 由實驗中分析數據； 決定適當的雷射操作參數以產生具有足夠撕裂及 拉伸性質之雷射蝕刻的材料。 34 201119780 55·如申請專利範圍第54項的方法，其中該操作參數包括 功率、掃描速度、負載循環及頻率。 56·如申請專利範圍帛54工員的方法，其中該決定一組實驗 的步驟使用統計分析。 57·如申請專利第56_方法，其巾該統計分析使用 d-最佳實驗設計。 58.如申請專利範圍第54項的方法，其中該分析步驟使用 迴歸模型。 •如申料利fen第58項的方法，其巾該決定適當雷射 操作參數的步驟藉由最佳化產生自該迴歸模型的^聯 專式而執行。 60.如:請專利範圍第54項的方法更包括於該分析步驟 之前’就各個執行的實驗指撕裂等級及—拉伸 的步驟。 35