TW201013323A - Peripheral exposure device and peripheral exposure method - Google Patents

Description

201013323 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 _ 本發明有關在基板的圖案區域的周邊區域照射含有紫 外線的光來進行周邊曝光的周邊曝光裝置。 【先前技術】 利用曝光裝置對大型基板的圖案進行曝光處理之後， 需要預先對存在於圖案區域周邊的周邊區域上的不需要的 光阻劑墨液（以下稱光阻劑）進行曝光，使其不會成為其 後工序的障礙《在專利文獻！（曰本特許第3211〇79號公 報）中，使可調節照射光的開口部的光源裝置在基板周圍 -旋轉來進行周邊曝光。該周邊曝光裝置不旋轉基板，而是 -通過光源裝置在基板周圍旋轉並調節照射光的開口部來均 勻地對周邊進行曝光。 疋見有的周邊曝光裝置存在如下所示的問題點。 ❸s有的周邊曝光裝置利用觀察裝置將形成在基板上的識別 。己號作為標>^而進行識別，並根據該標記的資訊而對準基 板來進行周邊曝光的準備。具體地，為了獲取正確的基板 位置資訊’觀察裝置對整個基板進行掃描，並對整個基板 的旋轉方向、以及χ、γ方向的位置進行修整。因此，隨著 基板的大型化，辟埋丨、7 Τ Η0 β« sr . 使仵以下問碭更加顯者：觀察裝置對基板 整體的掃#田時間、承載著基板的台座的整合動作時間等的 對準工序所需的時間變長，整個周邊曝光工序的處理時間

2244-10206-PF 201013323 , 另外’圖案區域和周邊區域的界限是被嚴格規定的， 且該界限為imm以下。周邊曝光裝置需要確保該界限來防 止圖案區域的二次曝光。在以G8系列用的液晶基板為物件 的曝光裝置中’基板的典型尺寸為21 6 0麗><2 400mm，厚度 為〇_ 7mm，且正在向大尺寸發展。該基板將長邊中的一邊 作為第1基準邊，用作從玻璃製作到形成各圖案後分離到 各面板上為止的基準，且將正交於該基準邊的邊作為第2 φ 基準邊。雖然可以確保該第1基準邊及第2基準邊的直線 性，但是無法確保與這些基準邊對向的邊的直線性。從而， 現有的周邊曝光裝置還存在進行對向邊的周邊曝光處理時 •不能確保界限的問題。即，現有的周邊曝光裝置還存在如 . 下問題：由於基板的移動和曝光用光源的移動不是根據一 _個資訊源、’因Λ基板的基準邊的周料光區域不平行於第 2列以後的周邊曝光區域，並且在極端的情況下周邊曝光 的光線會侵入圖案區域。從而，需要確保基準邊的周邊曝 © *區域平行於第2列以後的周邊曝光區域。 【發明内容】 本發明是鐾於上述問題點而進行，提供簡化對準工 序，且能夠正確地確保平行於基準邊的周邊曝光區域的周 邊曝光裝置及周邊曝光方法。 作為解決課題的手段，第 用紫外光對形成於回路圖案區 光的周邊曝光裝置，該回路圖 1觀點的周邊曝光裝置是利 域的周圍的周邊區域進行曝 案區域形成在矩形基板上。

2244-10206-PF 201013323 ==裝置包！··保持矩形基板的曝光台；設置在矩 單元上方’從照射口向周邊區域照射紫外光的曝光 在曝光1方向驅動曝光台和曝光單元的驅動部；配置 =二檢測矩形基板的—邊的邊緣而算出基板與第 的算出4 2的傾斜度算出元件；基於傾斜度算出元件 == 矩形基板正交的垂線方向為基準旋轉基 參 ❷ 邊巴域门^後’由傾斜度算出元件檢測出邊緣而特定周 =:同時利用驅動部相對驅動曝光台和曝光單元，並 吏兔外先與邊緣平行地從曝光單元照射的控制部。 行，可控制向第一方向移動的一邊相對于基板成平 :從而由曝光單元照射的紫外光可以 適當的照射範圍。 Τ订也”、、射 f 2觀點的周邊曝光裝置的曝光單^裝在托架上， 仲/托架在曝光台的上方沿著與第i方向交又的第2方向延 中’且曝光單70可以在托架上沿第2方向移動。 第3觀點的周邊曝光裝置的傾斜度算出元件具有在第 1方向互相隔開的第i位置檢測器及第2位置檢測器。 曝光點的周邊曝光裝置’在第3觀點所記載的周邊 曝=置中，曝光單元包含配置在第2方向的第】曝光單 ==單元。第1曝光單元上安裝有第1位置檢測 =第2位置檢測m曝光單元和第2曝光單元基於 第1位置檢測器的檢測結果而照射紫外光。 第5觀點的周邊曝光方法是斧有照射紫外光的曝光單 凡’且利用紫外光對形成於回路圖案區域的周圍的周邊區

2244-10206-PF 7 201013323 •域進行曝光的周邊曝光方法，該回路圖案區域形成在矩形 • 基板上。該方法包含：將矩形基板保持在曝光臺上的保持 工序，利用设置在曝光單元上的位置檢測器檢測矩形基板 的邊的邊緣而算出基板自第1方向的傾斜度的傾斜度算 出工序，基於傾斜度算出結果而旋轉基板或曝光單元的旋 轉工序；向第1方向相對地驅動曝光單元和曝光台的驅動 工序，利用傾斜度算出元件檢測邊緣而特定周邊區域，同 φ 時與邊緣平行地從曝光單元照射紫外光的照射工序。 第6觀點的周邊曝光方法，曝光單元包含第丨曝光單 元和第2曝光單元，且第！曝光單元及第2曝光單元安裝 在托架上，該托架在曝光台的上方沿著與第1方向交叉的 第2方向延伸。在保持工序之後，第1曝光單元及第2曝 光單元移動至矩形基板的周邊曝光區域上。 第7觀點的周邊曝光方法，在第5觀點及第6觀點所 記載的周邊曝光方法中’位置檢測器由在帛i方向上互相 參隔開的第1位置檢測器及第2位置檢測器構成，且根據第 1位置檢測器及第2位置檢測器檢測矩形基板的一邊的邊 緣。 第8觀點的周邊曝光方法，在第7觀點所記載的周邊 曝光方法中，驅動工序由第丨位置檢測器或第2位置檢測 器確認矩形基板的邊緣之後，相對驅動曝光單元和曝光台。 第9觀點的周邊曝光方法，在第5觀點至第8觀點所 記載的周邊曝光方法中，驅動工程向第1方向相對驅動曝 光單元和曝光台之後，旋轉矩形基板或曝光單元，再向第

2244- 10206-PF 8 201013323 1方向驅動曝光單元和曝光台。 【實施方式】 〈周邊曝光裝置100的構成〉

以下，參照附圖對有關本發明的周邊曝光裝置1 0 0的 實施例進行說明。圖1A及圖1B表示本發明的周邊曝光裝 置1〇〇的整體形狀。圖1A是周邊曝光裝置1〇〇的俯視圖； 圖1B是其側視圖。 周邊曝光装置100主要由框體11及門型托架21構 成°框體11的上面設置有旋轉台14及曝光台15,在曝光 台1 5上承載並吸附固定基板sw。門型托架21上設置有照 射紫外光的曝光單元31，在本實施例中設置有3個第1曝 光單元31a、第2曝光單元31b及第3曝光單元31c。另外， 在周邊曝光裝置1〇〇上設置用於控制裝置的主控制部9〇, 根據來自各部分的資訊來控制各個裝置，從而進行正確的 周邊曝光處理。以下，進行詳細說明。 本實施例中使用的基板sw的尺寸為例 216〇隨2400随的矩形，厚度為〇·7μ。將該基板別的 1A左側的γ軸方向（第] 弟1方向）的一邊規定為第丨基準 SN! ’將圖1A下側的χ軸方向（第2方向）垂直於第^ 準邊SN1的一邊規定為第2 、 及笛9 Α淮“ $第2基準邊SN2。第！基準邊Sj 及第2基準邊SN2在破璃的制、止、風 十ί一 磲的製&過程中作為基準而製作 在進行液晶曝光時從來ί 而“ 回路圖案之後分離到多個液 面板為止制作基準，且精密地形成。. £

2244-10206-PF 9 201013323 設置在框體11上面的旋轉台14可以沿0方向旋轉基 板SW，且可以進行基板sw朝向Θ方向旋轉的微調及基板 SW的90度旋轉。在此，本實施例中由於基板Μ是沿著規 定的通道進人到周邊曝光裝£ 1GG内，因此沒有搭載使曝 先台15向Z方向移動的台座，但也可以在框體u或者旋 轉台14的上面設置修正基板別的z方向的位置的移動台 座。 φ 在旋轉台14的上面設置有承載基板SW的曝光台15。 在該曝光台15的上面豎立設置有多個支推基板的圓柱 (未圖示）。基板SW承載在該多個圓柱的頂上，且利用吸 •附元件（未圖示）吸附固定。由此，可以防止基板sw的塗 布有感光材料的-面與感光材料之外的物質接觸。另外， _可以防止基板SW的搬運元件（未圖示）的把手與曝光台座 1 5的幹擾。 搭載3個曝光單元31的門型托架21以跨立基板別的 ❹形狀被設置’且門型托架21可以在基板sw的上面沿U 方向（第-方向）移動。門型托架21和框體U由托架移 動機構22被連接’門魏架21可以通過運行托架移動機 構22的驅動裝置而在基板抑上面沿第i方向移動。在此， 驅動裝置可使用由例如線性移動裝置或滾珠螺杆、滑道、 螺杆驅動用電機等構成的移動裝置，只要是可以正確地控 制位置及移動速度的裝置即可。 .另外’在門型托架21的中央前面的3處設置有在叉軸 方向（第2方向）並列的滑動機構犯。在上述設置於3處

2244-102D6-PF 10 201013323 二滑動機構32a、，2滑動機構32b及第3滑動機構 C刀別連接第1曝光單元3la、第2曝光單元训及 3曝光單元31c。在滑動裝置 上叹置有未圖不的驅動裝 置，通過運行驅動裝置可以使各個曝光單元3ι移動至第2 方向的規定位置上。在此，驅動梦 動衷置與托条移動機構22相 问，只要是可以正確地控制位置 件都可。 置的裝置，採取任何移動元 在本實施例中，門型托架21上搭載了 3個曝光單元 這種配置在基…—面形成2列圖案的情況時有 效。即，適合於存在3列周邊曝光區域的製造線。因此， 在基板別的一面形成3列以上圖案的情況存在以下方法： 增加移動門型托架21的通過次數的 方法’或者增加搭載在 托架21上的曝光單元31的數 1扪数重的方法。通過使用這 些方法周邊曝光裝置1〇〇可以適合 曝光。 、口於各種圖案尺寸的周邊 參 雖然3個曝光單元31為相同的構成，但在第！曝光單 -3^上設置有位置檢測器5卜由於其他的第2曝光單元 31b及第3曝光單元仏上無需設置位置檢測器5卜以下 作為代表對搭載了位置檢測器51的第丨曝光單元…的構 成進行說明。 圖2A、圖2β及圖沈是表示第1曝光單元3U的構成 的圖，圖^是表示從-γ方向所觀察的第1曝光單元31a 的構成的側視圖。圖2B是袅亍你士 & 疋表不從+X方向所觀察的第1曝 …3“的構成的正視圖。圖％是表示從照射口側

2244-10206-PF 11 201013323 軸方向）所觀察的第1曝光單元31a的構成的仰視圖。 第1曝光單元31a由橢圓反射鏡35、水銀燈36、第j 投影透鏡37、第2投影透鏡38、快門機構39、遮光機構 40以及位置檢測器51構成。作為第i曝光單元31&的光 學系的橢圓反射鏡35、水銀燈36、第i投影透鏡37以及 第2投影透鏡38收放在箱型的盒子中，在圖2A及圖⑼中 以虛線表示。 φ 水銀燈36的光線在橢圓反射鏡35上反射，朝照射口 侧（-z轴方向）改變方向，通過第i投影透鏡37而矯正 為平行光，其次通過第2投影透鏡38而限制成具體的周邊 曝光光EL的形狀。在第】投影透鏡37和第2投影透鏡” 之間安裝有遮斷光線的快門機構39。快門機構39由遮斷 光線的感光板39P以及開閉感光板39p的電機等的驅動元 件39m構成。快門機構39通過在期望的時機開放快門來控 制光線照射的時機。 ❹ 通過第1曝光單元31a的第2投影透鏡38的光線通過 照射口 33,向盒子外射出。通過照射口 33的光線由遮光 機構40根據需要進行調整。遮光機構4〇由遮光板4〇p和 驅動電機40m構成，可以通過運行驅動電機4〇m來進行遮 光板40p的插入及退避。 例如，遮光機構4 0可以根據需要遮蔽從照射口 3 3射 出的平行光線來對應於要求從基板的邊緣到圖案區域小於 7〇咖的基板》W，這裏平行光線由第2投影透鏡38形成最 大尺寸，具體為70mmx70nm。另外，同樣還可以對應於不 2244-10206-PF 12 201013323 僅是從基板的邊緣而是將圖案和圖案的距離設計成7〇jnm 以下的基板sw。 在第1曝光單元31a的下方的照射口 33的近旁設置有 一對第1位置檢測器51 a及第2位置檢測器51 b。由於第1 位置檢測器51a及第2位置檢測器51b為相同的結構，沒 有特別指定的情況以位置檢測器51進行說明。

第1位置檢測器51 a和第2位置檢測器51 b將照射口 33夾在中間，且在γ軸方向相隔規定的間隔kd而設置。 例如，本實施例的周邊曝光裝置1〇〇的照射區域的寬度為 70mm ’第1位置檢測器51a和第2位置檢測器分別設 置在距該照射區域140mm的規定間隔的位置上。 圖3是表示位置檢測器51的側視圖的圖，圖示了其内 部構成。位置檢測3 51由紅外線光源52、控制光學系53 及感測器54構成，在U字型的框架的前端上對面地設置紅 外線光源52和感測器54。位置檢測器51可以利用控制光 學系53使從紅外線光源52射出的紅外線成為平行的紅外 線光線IL，並通過基板SW的邊緣遮蔽紅外線光線il來利 用感測器54測量基板SW的邊緣位置。在此，感測器“只 要能夠將其被遮蔽的敎值快速且準確地傳達到主控制部 90即可，例如，可以使用線性感測器及CCD感測器等。 周邊曝光裝f1〇〇的主控制部9〇通過帛i位置檢測器 ^和第2位置檢測器51b檢測出基板別的邊緣位置來測 :二板sw的傾斜度，從而旋轉台座14向補正傾斜度的方 轉。以下，對主控制部的基板位置控制系的控制方 2244-l〇2〇6_pp 13 201013323 法進行說明。 〈基板位置控制系的控制方法〉 圖4疋主控制部9 〇的基板位置控制系的控制方塊圖。 主控制部90由演算部91、驅動控制部92及單元控制部93 構成。 演算部91根據第1位置檢測器51a和第2位置檢測器 51b輸出的位置資訊而演算基板的傾斜度W0。其演算結果 ❹傳至驅動控制部92。驅動控制部92驅動旋轉台14，使基 板SW的傾斜度W6»成為。 圖5是表示演算部91處理的基板傾斜度的算出方 法的圖。基板SW沿+Y方向移動的情況，首先檢測到基板 sw的第1基準邊SN1的第i位置檢測器51&獲得距基準線 (Y軸）的間隔距離a。其次，第2位置檢測器51b獲得第 1基準邊SN1和基準線（γ轴）的間隔距離b。第i位置檢 測器51a和第2位置檢測器51b的間隔設計成間隔距離c。 ©决算部91可以由以上的值㈣數學式丨來算出基板別的 傾斜度㈣。由此，驅動控制部92通過使旋轉台14向基 板sw的傾斜度we的反方向旋轉，使第〗基準邊SN1與基 準線（Y軸）平行，可以不與圖案重疊地安全地進行基板 SW的周邊曝光。在這裏為了易於說明，沿+γ方向移動了基 板SW ’但也可以沿-Υ方向移動門型托架21。

We=tan1{^^\ ^ C (1) 在此，也可以僅由第1位置檢測器51a或第2位置檢

2244^10206-PF 14 201013323 測器5 1 b复4r A5 土、丨+ 择得距某Γ 0。具體地’第1位置檢測器… …移動線(YW的間隔距離”其次’通過使門型托 L距離隔距離c而使第1位置檢測器51a也僅移動 轴）的Hi因此，第1位置檢測器…獲得距基準線Π :的。由此，可以利用數學式1來算出基板 SW的傾斜度w 0。 參 再i欠回到圖4,在第i基準邊SN1與基準線（Υ轴）平 ^單讀制部93根據距基準線的間隔距離移動第W 单凡la、第2曝光單元31b及第3曝光軍元3ic。此時， =相對於最初檢測第i基準邊SN1 (圖5)的位置檢測器 51而調整曝光單元3…置，從而進行與基準線平行的 =方型托架21Γ:Υ方向(在圖5中是基板 °移動的If況，單兀控制部93根據第】位置 檢測器…的檢測結果調整曝光單元31的配置，而門型托 架心+Y方向（在圖5中是基板別沿―γ方向）移動的情 :’早兀控制部93根據第2位置檢測器训的檢測結果調 曝先單几31的配置。這樣，單元控制部93切換位置檢 測器5!而調整3處的曝光單元31的配置，使曝光單元μ 成為最優的配置。 〈主控制部9 0的流程圖〉

圖6是用於進行周邊曝光處理的主控制部90的流程 圖。流程圖表示插入基板卯後的步驟，從各台座、控制元 件在原點待機的狀態開始進行說明。光源的點亮及總滅的 控制不在此流程圖表示m㈣圖示圖6的流輕圖 2244-10206-PF 15 201013323 •的步驟，表示周邊曝光裝置100的運行狀況。 在步驟SU中，基板sw被搬運進來，且由主控制部 90控制使基板SW被吸附固定在曝光台15上。通常，基板 SW的搬運由機器人或傳送帶等從插入口 16 (參照圖1A) 插入，承載在賢立有圓柱的曝光台15上。已搬運進來的基 sw在圓柱的頂端被真空吸附或靜電吸附而被吸附固 定。基板SW的第1基準邊SN1位於第】曝光單元3ia側， Ο第2基準邊別2位於插入口 16的相反面。參照圖7A(a)。 在步驟S12 t，主控制部90開始將門型托架21向4 向移動J：至第1位置檢測器5 J a和第2位置檢測器训 檢測完基板sw的第i基準邊SN1為止。參照圖7川）。 、在步驟S13中’主控制部9〇的演算部91由第i位置 檢測器51a和第2位置檢測器51b的感測器54的值算出基 板SW的傾斜度W 0。 在步驟S14中，主控制部90的驅動控制部根據基 板SW的傾斜度的算出結果，通過使旋轉台14沿著傾 斜度Μ 0反方向旋轉來修正旋轉方向的偏差。主控 90在修正旋轉方向的偏差的 炷 偈差的同時進仃控制，使得如圖7Α (〇的箭頭所示地再次使門型托架21向插入〇 夫昭 圖1Α)侧移動。在此，在該時刻基板別的第i基準邊= 與基準線平行，第2基準邊SN2垂直於基準線。在此 使在該門型托架21向插人σ 16移動期間，也可

位置檢測器51a和第2位置檢測器51b獲取傾斜度J 1 訊而進行反饋處理。參照圖7A (c)。 資 2244-10206-PF 16 201013323 . 在步驟S15中，主控制部9 0使第1位置檢測器5丨a獲 取基板sw的端面的位置資訊，另外使門型托架21移動至 田第1位置檢測器51 a距基板Sf的端面相隔規定距離SD 後停止。在本實施例中規定距離SD為140mm，這是門型托 呆21加速而達到一定速度所必要的距離。參照圖7 a ( d )。 在步驟S16中，主控制部90準備第！基準邊SN1的周 邊曝光。由帛1基準邊SN1的位置資訊將設置於3處的曝 ❹光單元31移動至規定的位置以及對照射區域進行調整。在 也可以採取曝光單元31的位置及照射區域的調整在步 驟S15階段進行，在步驟S16中進行微調或反饋處理的方 法。參照圖7A ( e)。 在步驟S17中，主控制部90開始將門型托架21向、 方向移動，當由第1位置檢測器51 a檢測出基板SW的端 面，則開始對第1基準邊SN1進行周邊曝光。預先將規定 距離SD設定為14〇mm，因此在第j位置檢測器51&到達基 •板sw的端面的階段，門型托架21已到達曝光所必要的規 定速度。主控制部90起動配置在3處的曝光單元31的快 門機構39的驅動元件39ffl，並開放感光板39p而開始進行 將第1基準邊SN1作為基準的周邊曝光。在曝光處理中， 主控制部90可以通過每隔規定間隔或一直由第1位置檢測 盗51a對第1基準邊SN1進行檢測，且對曝光單元31位置 和照射區域進行調整而形成平行於第〗基準邊SN1的3個 曝光區域EA。參照圖7A ( f )。 另外’主控制部90根據第1基準邊SN1的位置資訊，

2244-10206-PF 17 201013323 調整遮光機構40照射周邊曝光光EL，使第1曝光單元31a • 的曝光區域從第1基準邊SN1的位置向外偏離約〇 5min(沒 有基板的空間）。圖8是表示利用遮光機構4〇調整了周邊 曝光光EL的狀態的圖。主控制部90利用遮光機構4〇的遮 光板40p對從照射口 33射出的控制成平行光的周邊曝光光 EL進行控制，使周邊曝光光EL到達從第i基準邊的 位置資訊向外〇· 5min的位置。即，由於周邊曝光光el照射 φ 基板SW的第1基準邊SN1的上面u及端面s，使得附著在 端面s上的不需要的光阻劑曝光，在此，由於遮光機構4〇 能夠精密地控制作為平行光的周邊曝光光EL的照射範 圍’因此可以將圖案界限控制在以下而進行曝光。 再次回到圖6,在步驟S18中，主控制部9〇在第2位 置檢測器51b確認第2基準邊SN2的時刻停止周邊曝光。 主控制部90起動配置在3處的曝光單元31的快門機構⑽ 的驅動元件39m，且鎖閉感光板39p而停止基板別的曝光。 • 3外’主控制部90從第2位置檢測器51b檢測的第2基準 邊SN2的終端開始逐漸使門型托架21的移動速度變慢。然 後門型托架21停止在距第2基準邊SN2規定距離SD的 位置上。參照圖7B ( g)。

在步驟S19卜主控制部90使基板別沿順時針方向 旋轉90度，根據第2基準邊SN2的位置資訊向規定的位置 移動配置在3處的曝光單元31並調整照射區域。由於第2 基準邊SN2的位置資訊是在步驟S18中獲得的因此可以 得知從旋轉台u的旋轉中心沿順時針方向旋轉9()度的位 2244-10206-PF 1R 201013323 置。參照圖7B ( h)。 在步驟S20中主控制部90開始第2基準邊SN2的周邊 曝光。由於第2位置檢測器51b到達第1基準邊SN1的階 段，門型托架21已達到曝光所需的規定速度，因此主控制 部90起動快門機構39的驅動元件39m，開放感光板39p 開始進行將第2基準邊SN2作為基準的曝光（成為第2基 準邊SN2的周邊曝光的起始點）。在曝光處理中，主控制 φ 部90每隔規定間隔或一直由第2位置檢測器51b對第2基 準邊SN2進行檢測。然後，主控制部9 〇通過調整曝光單元 31的位置和照射區域，能夠對基板進行平行於第2基 準邊SN2的周邊曝光。參照圖7B (丨）。 在此，在步驟S20中與步驟S17相同地，主控制部9〇 根據第2基準邊SN2的位置資訊，調整遮光機構4〇照射周 邊曝光光EL，使第1曝光單元31a的曝光區域從第2基準 邊SN2的位置向外偏離約〇. 5随在步驟S21中，主控制部 Φ 90在第1位置檢測器51a確認第i基準邊SN1的時刻停止 周邊曝光。主控制部9〇起動快門機構39的驅動元件39爪， 且鎖閉感光板39p而停止基板sw的曝光。另外，主控制部 9〇從第1位置檢測器51a檢測的第2基準邊SN2的終端開 始逐漸使門型托架21的移動速度變慢而停止在規定位置 上。參照圖7B ( j )。 以上利用周邊曝光裝置100的周邊曝光處理已結 束，.基板SW由機恶又—& 裔人或傳送帶取出並搬運到下一工序。此

時，也可以旋轉旋輕A ° 4 ’使基板SW回到與插入時相同

2244-10206-PF 19 201013323 的方向另外，也可以不旋轉旋轉台14而解除基板sw的 固疋’以與插入時正交的方向取出基板SW。此時，由於門 ^•托架21可月^會成為取出基板μ時的障礙，因此在旋轉 基板SW後或者取出之前使門型托架21從基板SW的取出通 道退避。 在此，已由周邊曝光裝置1〇〇進行周邊曝光處理的基 板SW可以在其後的顯像工序中，除去成為基板搬運工序的 障礙的光阻劑等的異物。 根據以上所述，由於周邊曝光裝置100將第i基準邊 SN1及第2基準邊SN2作為基準位置而對曝光單元31的位 置進行控制，因此可以與第1基準邊SN1及第2基準邊SN2 平行地進行曝光處理。另外，由於周邊曝光裝置利用 位置檢測器51對第1基準邊SN1僅測量一次即可進行基板 的對準，因此對準所需的時間短，可以縮短周邊曝光工序 的時間。 在此’本實施例所示的周邊曝光裝置100使承載基板 SW的曝光台沿61方向移動，使承載照射紫外線的曝光單 元31的門型托架21向γ方向（第i方向）移動，由此進 行周邊曝光處理。但是，由於這些移動只要是相對運行即 可，因此也可以使曝光台—併具有γ軸方向及0方向的移 動功能。另外，同樣地也可以使門型托架21 一併具有γ轴 方向及0方向的移動功能。 【圖式簡單說明】 ’

2244-10206-PF 20 201013323 圖iA是周邊曝光裝置 固1D 直J〇〇的俯視圖。 圖1β是圈1A的側视圖。 圖2Α是表示從_γ方 構成的側視圖。 觀察的第】曝光單元313的 圖2Β是表示從+χ方向 構成的正視圖。 所觀察的第1曝光單元…的 圖2C是表示從照射口側（ ❹置〜 傾"Ζ軸方向）所觀察的第1 曝先早TO 31a的構成的仰視圖。 圖3是表示位置檢測器51的侧視圖的圖。 是主控制部90的基板位置控制系的控制方塊圖。 是表示演算部91處理的基板傾斜度的算出方 法的圖。 圖6是主控制部90的流程圖。 圖？A(a)〜（f)是圖示圖6的流程圖的步驟的圖。 ❹ 圖 圖 圖7B(gMj)是圖示圖6的流程圖的步驟的圖。 圖8是表示利用遮光機構40調整了周邊曝光光乩的 狀態的圖。 【主要元件符號說明】 11 一框體， 14— 旋轉台， 15— 曝光台， 1 6—插入口， • 21一門型托架，

2244-10206-PF 21 201013323 22—托架移動機構， 31— 曝光單元（31a—第1曝光單元、31b—第2曝光 ' 單元、31c—第3曝光單元）， 32— 滑動機構（32a—第1滑動機構、32b—第2滑動 機構、32c—第3滑動機構）， 33— 照射口， 35—橢圓反射鏡， 36一水銀燈， 參 37— 投影透鏡， 38— 投影透鏡， 39 —快門機構（39m —驅動元件、39p —感光板）， 40 —遮光機構（40m —驅動電機、40p —遮光板）， 51 —位置檢測器（51a—第1位置檢測器、51b—第2 位置檢測器）， 52 —紅外線光源， φ 53—控制光學系， 5 4—感測器， 90—主控制部， 91 一演算部， 92— 驅動控制部， 93— 單元控制部， 100—周邊曝光裝置， E A—曝光區域， EL—周邊曝光光， 2244-10206-PF 22 201013323 IL一紅外線光線， KD—間隔' s—端面 ， u—上面 、 SD—規定距離， SN1—第1基準邊， SN2—第2基準邊， SW—基板。

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Claims (1)

1. 201013323 十、申請專利範圍： 1· 一種周輕光t置，利用紫外光對形成於回路圖案 區域的周圍的周邊區域進行曝光，該回路圖案區域形成在 矩形基板上，其特徵在於包含： 曝光台，保持上述矩形基板； 曝光單a认置在上述矩形基板面上方從照射口向 上述周邊區域照射紫外光； ㈣部，向第1方向相對驅動上述曝光台和上述曝光 — 單元； /傾斜度算出元件，配置在上述曝光單元上檢測上述矩 形基板的—邊的邊緣而算出基板自上述第1方向的傾斜 • 度；以及 控制部，基於上述傾斜度算出元件的傾斜度算出結 果，將與上述矩形基板正交的垂線方向為基準旋轉上述基 板或上述曝光單元後，由上述傾斜度算出元件檢測出上述 • 邊緣而特定上述周邊區域，同_利用上述驅動部相對驅動 上述曝光台和上述曝光單元，並且使紫外光與上述邊緣平 行地從上述曝光單元照射。 2. 如申明專利範圍第1項所述的周邊曝光裝置，其中， 上述曝光單元安裝在托架上，該托架在上述曝光台的上方 沿著與上述第1方向交叉的第2方向延伸， 上述曝光單元可以在上述托架上沿上述第2方向移動。 3. 如申請專利範圍第1或2項所述的周邊曝光裴置， 其中，上述傾斜度算出元件具有在上述第1方向互相隔開 2244-10206-PF 24 201013323 的第1位置檢測器及第2位置檢測器β 4.如申請專利範圍第3項所述的周邊曝光裝置，其中， 上述曝光單元包含配置在上述第2方向的第1曝光單元和 第2曝光單元，且上述第1曝光單元上安裝有上述第1位 置檢測器及上述第2位置檢測器，上述第1曝光單元和上 述第2曝光單元基於上述第〗位置檢測器的檢測結果而照 射紫外光。 5. —種周邊曝光方法，具有照射紫外光的曝光單元， 且利用紫外光對形成於回路圖案區域的周圍的周邊區域進 行曝光，該回路圖案區域形成在矩形基板上，其特徵在於 具有： 、 將上述矩形基板保持在曝光臺上的保持工序； 利用設置在上述曝光單元上的位置檢測器檢測上述矩 形基板的-邊的邊緣而算出基板與第】方向的傾斜度的傾 斜度算出工序； ❹ 基於上述傾斜度算出結果而旋轉上述基板或上述曝光 單元的旋轉工序； 向上述第1方向相對地驅動上述 曝先早70和上述曝光 台的驅動工序； 利用上述傾斜度算出元件檢測硌 饱^邊緣而特定上述周邊區 域’同時與上述邊緣平行地從上述 一 gg f 义曝先早疋照射紫外光的 照射工序。 6. 如申請專利範圍第5項所诚认m * 喟所气的周邊曝光方法，豆中 上述曝光單元包含第1曝光單元 '、 Z曝光單7L，且上述 2244-10206-PF 25 201013323 第1曝光單元及上述第2曝光單元安裝在托架上，該托架 . 在上述曝光台的上方沿著與上述第1方向交叉的第2方向 延伸， 在上述保持工序之後，上述第丨曝光單元及第2曝光 單元移動至上述矩形基板的周邊曝光區域上。 7. 如申請專利範圍第5或6項所述的周邊曝光方法， 其中，上述位置檢測器由在第1方向上互相隔開的第j位 ⑩ 置檢測器及第2位置檢測器構成，且根據上述第1位置檢 測器及第2位置檢測器檢測上述矩形基板的一邊的邊緣。 8. 如申請專利範圍第7項所述的周邊曝光方法，其 中’上述驅動工序由上述第1位置檢測器或上述第2位置 檢測器確認上述矩形基板的邊緣之後，相對驅動上述曝光 單元和上述曝光台。 9. 如申請專利範圍第5、6或8項項所述的周邊曝光方 法，其中，上述驅動工程向第1方向相對驅動上述曝光單 ® 元和上述曝光台之後’旋轉上述矩形基板或上述曝光單 元，再向上述第1方向驅動上述曝光單元和上述曝光台。 10. 如申請專利範圍第7項所述的周邊曝光方法，其 中，上述驅動工程向第1方向相對驅動上述曝光單元和上 述曝光台之後，旋轉上述矩形基板或上述曝光單元，再向 上述第1方向驅動上述曝光單元和上述曝光台。 2244-10206-PF 26