TW201000597A - Dibenzofurane polymers for electroluminiscent devices - Google Patents
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Description
201000597 — 六、發明說明: 於一些新穎的電致發光材料,供其製備的 的材料(特別是聚合物),-種新賴電致發光材料的 製備方法以及包含該新穎電致發光材祖&人 电致钐九材枓或聚合物的電致 發先衣置’以及相應用途。 一些二笨并呋喃均聚合物已被揭示於GB-601568, US-3294763,FR-144144? ι、ί Ίζ ^ ^ 41442以及GB_1077〇85,在其中係作為 先導材料。W〇 〇8/〇29652揭示-些募聚物及聚合物,在其 中合併咔唑和物二苯并呋喃單元。 ” 頃發明特定侧鏈二苯并咳喃聚合物可取代常用的聚乙 稀基H(PVK)作為qLEDs中的宿主材料,特別是用於以 鉉為基礎的三重態射極1及^高量子產量及效率。 本發明因此係關於—種電致發光材料,其包含以下式 的重覆結構單元為基礎的岣聚合物
其中 R9,R9 V”,R11
Rir,Rl4’獨立地為 5 201000597 Η或有機取代基, 其中 R9,R9’R9’’,R11,R13,R14,R11,,Ri3,,r14’中至 少一者包含下式基團R1() -(Sp)xl〇-[PG ]< 其中Sp係為二價有機間隔基,pg’係為衍生自可聚合 基團的基團’以及xlO為0或1。 式I中任何有機取代基’如果存在的話,通常係選自齒 素;OH ; Ci-C24烧氧基;經E取代及/或經D間斷的c2-C24 烧氧基;Ci-C24烧基;經E取代及/或經D間斷的Q-C24炫* 基,C1-C24鹵烧基;C2-C24稀基;C2-C24块基;C1-C24烧基 硫基,C1-C24酿基;C5-C24芳基;經G取代的C6-C24芳基; Ci-C2〇雜芳基;經G取代的C2-C2〇雜芳基;C7-C25芳烧基; C3-Ci2%焼•基’ C1-C24酿基氧基,C5-C10芳基氧基;C3-C!2 環烧基氧基;COR ; CH=NR ; CH=N-OH ; CH=N-OR ; COOR ; OCOR ; CONHR ; NHCOR ; CONRR ’ ; CONH-NHR ; CONH-NRR’ ; SR ; S02R ; S03R ; S02NHR ; S02NRR’ ; S02NH-NHR ; S02NH-NRR’ ; S(0)R; S(0)0R; S(0)NHR ; S(0)NRR’ ; S(0)NH-NHR ; S(0)NH-NRR' ; SiRR’ R” ; GeRR’ R “; PRR’ ; PORR’ ; PO(OR)R’ ; PO(OR)2 ; PO(NHR)2; PO(NRR’ )2; CN; N02; NHR; NRR’ ; NH-NHR ; NH-NRR’ > CONROH ; 其中R,R’以及R”獨立地為選自C丨-C12烷基,Ci-Cu 6 201000597 鹵烷基,C5_c10芳基,c3_Cl2環烷基;以及R亦玎為氫 或者彼此相鄰的二個取代基r9,r9’r9 ’ Rn ’ R R rU,Rl3,Rlv—起形成基團
R105 , Rl〇6,Rl07,Rl08 , r105,,r106,,Ri〇7’以及 R 彼此獨立地為H,Ci_C|8烷基,經E取代及/或經D間斷的 Ci-Cu烷基,Ci-Cu烷氧基,或經E取代及/或經D間斷的 Ci-C18貌氧基; D 係為-CO- ; -coo- ; -s- ; -SO- ; -S〇2- ; ; -NR ’ -SiR30R31· ; _POR32_ ; _cr23 = cr24_ ;或 _C^C-;以及 E 係為-OR29 ; _§R29 ; _NR25R26 ; c〇R28 ; -C〇〇R , -C〇NR25R26 ; _CN ;或函素; G係為E,(VCu烷基,C3-C12環烷基,經D間斷的 C2-Cls燒基,Ci-Cu全氟烧基,或經E取代及/或經D間斷 的c丨_CU烷氧基,其中 R ,R24,R25以及R26彼此獨立地為H ; C6_Cu芳基; c6-c18芳基烷基;C3_Ci2環烷基;C6_Ci8芳基或c6_Ci8芳基 烧基,其係、、經Cl-Cla基及/或Cl_Ci8燒氧基取代;Ci_Ci8 院基;或經-〇_間斷的C2_C18烷基;或 R 以及r26 一起形成5或6員環; R以及r28彼此獨立地為H ; c6-c,娑a . r r朴 6 ^18 方基,C6-Ci8 方 7 201000597 基烧基’ CVC〗8芳基或C6_C18芳基烧基,其係經Ci-Ci8炫· 基及/或Ci-C〗8烷氧基取代;Ci_Ci8烷基;c3_Ci2環垸基; 或經-0-間斷的(VC18烷基; R29係為Η ; C6-C18芳基;c6_Ci8芳基烷基;C6-Ci8芳 基或CVCw芳基烷基,其係經Ci_Ci8烷基及/或G-C!8烷 氧基取代;CVCu烷基;c2_Ci8烷基羰基;c3_Ci2環烷基, 或經-Ο-間斷的Cz-Cu烷基或c2_Ci8烷基羰基; R30以及R31彼此獨立地為Ci_Cu烷基,C3_Ci2環烷基, Ce-C】8芳基,或CVC,8芳基,其係經Ci_Ci8烷基取代,以 及 R係為CVCu烷基,C6_Ci8芳基,或C6_Ci8芳基,其 係經C 1 - C 1 8炫*基取代, R ’ R’以及R”獨立地為選自c〗_Ci2烷基,Ci_Ci2鹵烷 基,C5-C1()芳基,c3-c12環烷基,較佳選自CrG烷基,苯 基’環戊基,環己基;以及
C
Ar係獨立地選自c5-c1() i_C18烷基取代; 以及 R9,R9’R9”,R11,Ri 芳基, 或C5-C1()芳基,其係經
R
R 13'
R 14:
R 105 R106 , Rl〇7 , R108 , r1〇5> 為下式的基團R10 R106’,R107’,及 r108’其中之一者 •(Sp)x,〇-[PG,]< 其中Sp為二價有機間隔基’ PG,係為衍生自可聚合基 團’以及Χίο為0或1。 可存在於基團R10中的間隔基單元Sp 一般為下式 201000597 (X3~D)x1 ]-X2 ' 其中xll係為0或1; X3,X2獨立地為0,C1-C4伸烧 基-Ο,CH2-CHOH-CH2-0,S,¢:,-(:4 伸烷基-S,NR22,(ν(:4 伸烷基-NI^S’COC^CVC^伸烷基-COO或CVC4伸烷基 -OCO,CONR22,伸院基-CONR22 或 伸燒基 -NR22CO, NR22CONR22, (VC4伸烷基-NR22CONR22, 伸烷基’ CH2CHOHCH2,或直接鍵,以及 D係為CVC24伸烷基,經間斷的c3-C24伸烷基,C2-C24 ' 伸烯基’C2_C24伸炔基’c^-c^。伸芳基。較佳的間隔基單元
Sp係為X2 (亦即上述該等其中xl 1係為0),其中χ2係為 直接鍵,0,Ci-C4 伸烷基-Ο,CH2-CHOH-CH2-〇,¢00, C(DNR22 ’ C1-C4 伸院基,或 CH2CHOHCH2。 PG 係為衍生自可聚合基團’其因為錨定於Sp之上 而為三價(或者其在式Ϊ中的錨定位置)且其係經整合於本發 明聚合物鏈中,或者交聯的聚合物網路。因此PG,部分 的一般基團係衍生自乙烯系不飽和單體或應變氧環系統, k 包含下式 μ、
Hex \ Η Hc—C— H c n3 cl
4COH H-co=
9 201000597 其中星號(*)表示其對Sp或式i部分的鍵結位置且r 係定義同上’而另外2個開放鍵提供整合入聚合物鏈。這 些部分特別適合用於將所欲官能基作為側鏈而帶入本發明 最終聚合物中’或者作為交聯部分。相對應可聚合基團pG 包含乙烯基,烯丙基,1-曱基乙烯基(異丙烯基),(曱基)丙 烯醯基,乙烯基苯基(苯乙烯基)’環氧乙烷基(〇xiranyl),縮 水甘油基,氧雜環丁烷基(oxetanyl)等。其他部分pG,為哼 等衍生自上述進一步所述的PG,例如該等將所欲官能基導 入本發明聚合物的主鏈。 本發明電致發光材料中所用的均聚合物可為等規或者 間規或者,通常為無規。 電致發光材料進一步包含發光成分’其通常係選自為 此技藝中所習知的磷光金屬錯合物以及螢光摻雜物。… 本發明聚合物顯示關於溶液加工或印刷(例如若為非交 聊的聚〇物)、電致發光裝置的長期穩定性(例如耐移動/分 離/結晶以及耐氧化/熱)以及其亮度及功效的特別優良2 "配位基”用語係、欲用於表示連接至金屬離子配位球體 的分子、離子或原子。”單配位配位基堇包含"固配位位 置,而冑配位配位基”包含2個配位位置,其 接::::心。錯合物"用語當作為名詞使用時,係意欲表 不具有至少一個全屬雜工I、,n 7* 金屬離子以及至少-個配位基的化合物。,
基團或部分’’用•五及I 5D係^驭表示化合物的一部分,例如有機 化合物中的取代其$扭人此丄 私 土次錯σ物中的配位基。”經取代”係意欲 10 201000597 示藉由(典型為有機)取代基置換有機基團或化合物中的氳 原子。 “有機取代基”用語代表有機(亦即包含C,Η )或(雜)官 能性基團(例如係由雜原子以及視需的C或Η所組成);通 常為任何有機取代基,若存在的話,構成化合物的小部分; 有機取代基的實例為包含1至20個碳原子的有機基團以及 視需要的另外(例如1至10個)雜原子,典型為包含1至5 個雜原子的雜官能性基團。 有機或雜官能性基團中的雜原子通常係選自Ο,S,Ν, Ρ,Si,Β,以及鹵素(亦即任何F,Cl,Br,I ;在本發明電 致發光材料中特別是氟)構成此基團。 有機取代基,若存在的話,通常係選自鹵素,OH, 烷氧基,CVC24烷基,CVC24鹵烷基,C2-C24烯基,C2-C24 炔基,CVC24烷基硫基,CVC24醯基,C5-C1()芳基,Ci-Cio 雜芳基,C3-C12環烷基,CVC24醯基氧基,c5-c1()芳基氧基, C3-C12環烷基氧基,或選自殘基COR (亦即醛或酮基團), CH=NR,CH=N-OH,CH=N-OR,COOR,OCOR,CONHR, NHCOR,CONRR’,CONH-NHR,CONH-NRR’,SR,S02R, S03R,S02NHR,S02NRR,,S02NH-NHR,so2nh-nrr,, S(0)R,S(0)OR,S(0)NHR,S(0)NRR,,S(0)NH-NHR, S(0)NH-NRR,曱矽烷基或鍺代基(germanyl)(SiRR’R“ ’ GeRR,R“),PORR,,PO(OR)R,,PO(OR)2,P〇(NHR)2, PO(NRR,)2,氰基(CN),N02,NHR,NRR,,NH-NHR, NH-NRR5 > CONROH ; 11 201000597 其中R,R’以及R”獨立地 自 烷基,Cl-C12 鹵 烧基 ’ C 5 - C ] 〇 芳基,C 3 - c ! 2 環泸 I .... 衣從基’較佳係選自C ! -C6烷基, 苯基,環戊基,環己基; 以及R可為氫。常見的取代基係、通常選自cvc12烧基, 經基,硫醇基,(VCd氧基,Ci_Ci2烧基硫基,_素,画 -C1_C12院基,氰基’搭基,明基,羧基,醋基,胺甲醯基, 胺基’硝基或甲矽烷基。 由作為有機橋接基團的兩個相鄰殘基例如Q1以及Q2 或者兩個殘基R41 (參見如下)形成的任何縮合環或環系統 與其錨定原子形成碳環或雜環、非芳香系或較佳芳香系 裱、典型為總數為5至7環原子,通常係選自任何芳基, 雜芳基,環院基,或環脂肪系不飽和部分,如下文所說明 者0 ‘鹵烷基”用語表示以!|素部分或完全取代上述烷基所 得到的基團,該用語包含Ci_C24全氟烷基,其係支鏈或非 支鏈者,例如-CF3(三氟甲基)’ _CF2CF3,_CF2Cf2Cf3, -CF(CF3)2,-(CF2)3CF3 以及-C(CF3)3。 “輕基,酮基,酯基,胺曱醯基以及胺基,,包括那些經 燒基’(:4<18環烷基,c6_C3〇芳基,c7_c24芳烷基或 雜環基取代者’其中烷基,環烷基,芳基,芳烷基以及雜 環基可為未經取代或經取代。“曱矽烷基”用語更特定地表示 下式基團-SiR105Ri〇6Ri〇7,其中ri〇5,R106以及Rl07係彼此 獨立地為Ci-Cs烷基,特別是CVC4烷基’ c6-c24芳基或 C7 - C ]2芳烧基,例如三曱基甲石夕統基。 12 201000597 如果取代基在基團中出現超過一次,在每一次出現時 可為不同者。 烧基表示任何無環飽和單價煙基;烯基代表此基團但 包含至少一個碳-碳雙鍵(例如在烯丙基中);類似地,炔基 代表此基團但包含至少一個碳_碳參鍵(例如在炔丙基中)。 如果烯基或炔基包含超過一個雙鍵,此等鍵通常不會累 積’但是可以交替方式排列,例如在-[CH=CH-]n或 -[CH = C(CH3)-]n,其中n可為,例如在2至50的範圍。在 未另外定義處’較佳烷基包含1至22個碳原子;較佳稀基 以及炔基個自包含2至22個碳原子,特別包含3至22個 碳原子。 只要有用到烧基用語,因此主要涵蓋特別是未經間斷 且合且地經取代的C! - C2 2烧基,例如甲基,乙基,丙基, 異丙基,正-丁基,二級_丁基,異丁基,三級_丁基,2_乙基 丁基,正-戊基,異戊基’ 1_甲基戊基,丨,3_二甲基_ 丁基, 正-己基,1-曱基己基,正-庚基,異庚基,m3四甲基丁 基’ 1-甲基-庚基,3-甲基庚基,正·辛基,2·乙基己基,i, 1,3-三甲基己基,1,1,3,3_四甲基戊基,壬基,癸基,十一碳 基,1-甲基十一碳基,十二碳基,六甲基己基, 十三碳基,十四碳基,十五碳基,十六碳基,十七碳基, 十八碳基。烷氧基為烷基;烷基硫基為烷基_8_。 只要用到烯基用語,因此主要涵蓋特別是未經間斷且 合宜地經取代CyC22烯基,例如乙烯基,烯丙基等。 炔基,包含c:2·24炔基,其係直鏈或支鏈,較佳為 13 201000597 炔基。例如,乙炔基’丨_丙炔_3_基,丨_ 丁炔_4_基,卜戊炔巧 基,2-甲基_3_ 丁炔_2_基’ M•戊二炔_3_基,1>3-戊二炔乃_ 基,丨-己炔-6-基’順式-3-甲基-2-戊-4-炔-1-基,反式_3-甲 基-2-戊-^炔-丨―基,13-己二炔_5_基,辛炔_8_基,丨壬炔 9基,1、癸炔_1〇_基,或1_二十四块_24_基。 只要顯示為間斷者,超過1個碳原子、特別是超過2 個碳原子的任何烷基或伸烷基部分,或者為另外部分的一 邛刀的此類烧基或伸烷基部分可被如以下所定義的非芳香 環或芳香環(伸芳基伸雜芳基)部分間斷及/或較被雜官能基 例如 Ο ’ s,CO,coo,OCNR22,OCOO,OCONR22, NR22CNR22 ’ 或 NR22 間斷,其中 R22 係為 H,Ci_cd 基,h-Cu環烷基’苯基。其可被一或多個此等間隔基基團 所間斷’-般而言’在每一情況下一個基團以未出現的雜-雜鍵例如〇-〇,S_S,NH-冊等插入一個碳·破鍵;如果該 經間斷的㈣經額外地取代,則該取代基大致上對該雜原 子不為α位置。如果二或多個办,皿瓜,各型態的間斷 基團出現於一基團,通常這些基團不相同。 ,醯基代表有機繞酸的殘基,由其可形式上藉由抽取酸 ί生ΟΗ而何生;其實例為甲醯基,乙醯基,丙醯基,笨甲酿 基。大致上而言,ci-cu醯基代表基團x,-Rzi,其中χ,係 為CO或s〇2以及R21係選自單價脂肪系或芳香系有機殘 基’通常係選自分子量多達3〇〇者,例如,r21可選自Cl-Cl8 烧基’ cvCl8稀基,c”CiQ芳基,其可為未經取代或者經 Cl'C8烧基或_素或Ci-c«烧氧基所取代,C6-Cl5芳基烧基, 14 201000597 其可未經取代或在芳香系部分經C^-Cs烷基或鹵素取代或 CVCs烷氧基’ c4-c12環烷基,且在當X,為CO, R21亦可為 Η。醯基較佳為有機酸_C0_r2,的脂肪系或芳香系殘基,通 常為1至30個碳原子’其中尺^包含芳基,统基,稀基, 炔基,環烧基,其每一者可經取代或未經取代及/或如以上 所述對烧基殘基經間斷,或者R’可為Η(亦即COR,係為曱 醯基)。因此較佳者為如芳基,烷基等所述者;更佳者,醯 基殘基係為經取代或未經取代的苯曱酿基,經取代或未經 取代的C〗-C wa烷醯基或烯醯基,例如乙醯基或丙醯基或丁 醯基或戊醯基或己酿基,經取代或未經取代的c5_c 12環院 基幾基,例如環己基幾基。 芳烷基在所給予定義範圍係通常選自c7_c24芳烷基基 團,較佳為C7-C”芳烷基基團,其可經取代,例如,諸如 苯曱基,2-苯曱基-2-丙基,β_苯乙基,α_甲基苯甲基,α, α-二甲基苯曱基,ω-苯基-丁基,ω_苯基_辛基,…苯基十 二碳基;或苯基環被一至三個Cl_C4烷基取代的苯基_Ci_C4 烷基,例如,2-曱基·苯甲基,3_甲基苯甲基,‘甲基苯甲基, 2,4·二甲基苯甲基,2,6·二甲基笨甲基或4•三級-丁基苯曱基 或3-甲基-5-(1’,1’,3’,3’-四甲基_丁基)_苯甲基。 非芳香環(亦即,環脂肪系)部分包含環烧基,脂肪系雜 環部分,以及其不飽和變數,例如環稀基。環院基,例如 C3-Cl8環烷基’較佳為C3_C12環烷基或經一至三個 烷基基團取代的該環烷基,以及包含環丙基環丁基,環 戊基,甲基環戍基,二甲基環戊基,環己基,甲基環己基: 15 201000597 二甲基環己基,三甲^ ^ —甲基-%己基,三級-丁基環己基,環庚基, 環辛基,環壬基,胃& s 化癸基,環十二碳基,1-金鋼烷基,或 2 -金鋼烧基。最佳主 馬%己基,1_金鋼烷基以及環戊基。C3_c 環烷基包含環丙基 内基,裱丁基,環戊基,環己基,環庚基, J衣辛基,環壬基,胃Λ ^ %癸基,環十一碳基,環十二碳基;此 等殘基中較佺者為C3_C6環烷基以及環十二碳基’特別是環 己基*現的另外環結構為雜環脂肪環,其通常包含5至7 個環員,並中$ 4、 八至^為1個,特別是1至3個雜部分,通常 係選自 0,S,NR9? _ ’其中R22係如以上用於間斷NR22美 圈所說明者;其實例包含c4-Cl8環烧基,其經s,〇二 NR22間斷’例如六氫吡啶基,四氫呋喃基,哌阱基,以及 嗎啉基。II著抽取兩個相鄰環員的氫原子而伴隨著於其間 形成雙鍵,不餘和變數可衍生自&等結冑;此部分的實例 為環己稀基。 凡使用"芳基,,之處(例如在C5_Ci〇芳基,Ci_Ci4_雜芳基 中)’其代表包含最高可能雙鍵數目的芳香環或聚環環系 統,例如較佳為苯基,萘基’蒽醌基(anthrachinyl),慧基, 菲基或第基。芳基用語主要包含烴芳香環,其實例主要為 C6_CU芳基,包含苯基,萘基,蒽醒基,蒽基,菲基,苐基。 雜芳香環例如C]-C18雜芳基部分包含作為環結構的一或多 個主要選自0, N以及S的雜原子;雜芳基,例如c4_c〗8 雜芳基,代表包含至少一個雜原子,在形成芳香環之原子 之間特別是選自N,0,S);其實例包含吡啶基,嘧啶基, 嗒阱基(pyridazyl),吡畊基(pyrazyl),噻吩基,苯並噻吩基, 16 201000597 °比B各基(pyrryl),咬喃基,苯并°夫°南基,茵基(indyl),°卡嗤 基,苯並三嗤基,嘆峻基’醒醇基(chinolyl),異酿醇基, 三畊基’四氫萘基,噻吩基’咪唑基。較佳者為C6-C丨◦芳 基或C4-Cl8雜芳基,例如選自苯基’萘基,D比σ定基,四氫 萘基,β夫喃基,嗟吩基,D比略基,酿醇基,異酿;醇基,蒽 酿基,蒽基,菲基,芘基,苯並嘆°坐基,苯並異嘆α坐,苯 並養吩基’特別是C6 - C I Q芳基;最佳者為苯基,萘基。任 何“伸芳基”代表相對應的二價“芳基”。 實例為包含一或多個可聚合基團(p G)的單體,例如乙 稀系不飽和部分或應變環系統。PG通常為可聚合物基團, 其係選自-C(R44)=CH2 ,_NHC(〇)-C(R45)=CH2 , -0CH2CH20C(0)-C(R45)=CH2 , -0C(0)-C(R45) = CH2 , -C(0)-C(R46)=CH2 , -C = c- , _C = CR46 » .XT=p , 一壤_基(具有5 一私稀基基團), (氧雜環丁烷 -o-ch(ch2ch2ch=ch2)2; (:5-(:8環烯基, 至30個碳原子的經取代或未經取代的 /0、 X(CH2)^— CH —C-R6 (1,2 -環氧基醚), 基 、(CH2)m 1-CH — C — R6
一(CH2)m 1
-CH—t-CH2) —CO I-〇—~I
CO 以及 (CH2)s ,其中 s係為1至6的整數’ ml係為1至6的整數, R6係為氫,或CVCm烷基, R 係為氣’或C1-C4燒基,或鹵素, 17 201000597 K 係為氣 r46 ,,. 現基,或齒素,以及 係為虱,Cl_c4垸基’ PG,係為衍生自可取a 及C6-C〗2方基,或 生自了♦合基團 Γ的基團,其中
叫HG AHG係為芳香系或雜笔夫^ , 例女 〃方香糸殘基,其視需要經取代 f
”中在每一虛線標示PG,的鍵結位置, 2 1 Ϊ R以及R係彼此獨立地為鹵素,’硼酸 棚酸醋,-Mg-Hal ’ .Zn.Hal,_Sn(R213)3,其中 Hai 為函素 以及R 係為C丨-C18院基, R214以及R214’係彼此獨立地為H,Ci_Ci8烧基,經 間斷的(VCu院基,C|_C|8全氟烧基,Ci_Ci8院氧基,經 間斷的CVCh烷氧基,或eye”芳烷基。較佳pG的實 為乙烯基,烯丙基,(甲基)丙烯醯基,苯乙烯基,氧雜環 炫基’壤乳乙燒基’縮水甘油基。
R211 R212—AHG 如果PG為可聚合基團1 ’以下方法可被用於製 18 201000597 聚合物: 僅涉及二鹵-官能性反應物的聚合方法物可在使用鎳偶 合反應之下進行。一種此類偶合反應記載於c〇1〇n等人的 J· Pol. Sci. ’ part A ,聚合物化學第 28 版(199〇)367,以及 Colon等人的j· 〇rg.chem.51(1986)2627。反應典型係在極 性非質子溶劑中(例如,二甲基乙醯胺),觸媒數量的鎳鹽, 實質數量三苯基膦以及大量鋅灰之下進行。此方法的變化 係記載於 i〇yda 等人的 Bull. Chem. s〇c Jpn,63 (199〇)8〇, 其中有機可溶性蛾化物係作為促進劑。 另—種鎳偶合反應係由Yamamot〇揭示於Pr〇gress &
Science 17 (1992) 1 1 53,其中二齒芳香系化合物經 在惰性溶劑中之過量錄(1,5_環辛二稀)錯合物處理。當施 用於一或夕種芳香系二_化物時,所有鎳偶合反應產生主 要隨機聚合物。此類聚合反應可藉由添加少量水至聚合反 應混合物而終止,其以氫基取代末端的齒基。或者’單官 能性芳基i化物可在此反應中作為鏈'終止劑,其將造成形 成末端方基基團。 -般而言,為相關技藝中習知的聚合方法以及研製程 序以類似方式用於本發明聚合物,包含那些習知的⑽,
Hash11",反應;反應可在例如類似於 參見第21頁12行至第26頁第17行段落)或 及〇:6/°97419(參見第41行第12行至第“頁第i。行,以 以引用45方頁:15至34行段落);所提到的後面二文獻的段落 以引用方式併入本文中。 19 201000597
度而聚合混合物。 本發明聚合物可為直鏈或經交聯者。 ♦合物’構成本發明取么物沾w a 如果為經交聯的 來口 ,構成本發明聚合物的特定部分的單體係為交聯 劑,通常包含2或更多個可聚合基團。 本發明因此包含可藉由式Π化合物的均聚合反應可獲 得的聚合物
以及R14,其中之一
Ry,R9’,rH , Rn’,r13 . R14,R 為R10 ’其係為基團-(Sp)xl〇-[PG], PG係為可聚合基團,特別係選自乙烯基,缚丙基,i _ 甲基乙稀基,(me th)丙稀醯基,乙稀基苯基,環氧乙烧基, 縮水甘油基,氧雜環丁烷基,二曱基順丁烯二醯亞胺基 (dimethylmaleimidyl); X1 〇係為〇或1 ; 20 201000597 R9,R9’係進一步選自Η,Ci-C18烷基,經E取代及/或 經D間斷的Ci_Ci8烧基’ Ci-Ci8全氟烧基’ C6-C24芳基’ 經G取代的C6-C24芳基’C2-C2。雜芳基,經G取代的C2-C20 雜芳基’ C2-C〗8稀基’ C2-C18炔基’ Ci-C!8烧氧基,經E取 代及/或經D間斷的C〗-C18烷氧基,c7-c25芳烷基’ SiRR’R“,GeRR,R“,POAr2,PAr2,-CO-R28 ; R"以及R11’係進一步選自氫,鹵素,Ci-C丨8烷基,經 E取代及/或經D間斷的Ci-Ci8烧基,Ci_Ci8全氟炫基,C2_Ci8 稀基,C2_C[8快基’ C1-C18烧氧基,經E取代及/或經D間 斷的 Ci-Cu 烷氧基,CN ’ -CO-R28,SiRR’R“,GeRR’R“ ’ POAr2,PAr2 ; R",R14,R13’以及R14’係進一步選自Η,鹵素’ Cj-Cu 烷基,經E取代及/或經D間斷的CVCu烷基,CVCu全氟 烷基’ C6-C24芳基,經G取代的C6-C24芳基,C2-C2〇雜芳 基’經G取代的C2-C2〇雜芳基,C2-Cu烯基,C2-C18炔基, c 1 -C18烷氧基,經E取代及/或經D間斷的C!-C 18烷氧基, C7-C25 芳 烧基,CN, -CO-R28, 以及 R13, R14, R1 3,以及R14 亦可為 SiHR,R“,GeRR’R“, POAr2 . PAr2 ; 或者 二個取代基 R9,R" ,R13,R14,R9,,R11’,R13 以及 ’(其係彼此相鄰)而形成基團 R105 R105 r106 ,R106 / 、、、? R108 R107 、 ,或 、fVv。8. R107 R 以及所有 其他符號係 定義同上 0 21 201000597 本發明較佳聚合物具有高於100〇c的玻璃轉移溫度。 本發明另一内谷係關於包含百分之1至99至少一種本 發明聚合物的聚合物摻混物。摻混物百分之丨至9 9其餘者 係由一或多種聚合材料所組成,其係選自鏈生長聚合物 中,例如聚苯乙烯,聚丁二烯,聚(曱基丙烯酸酯卜以及聚 (環氧乙烷);步驟·生長聚合物,例如苯氧基樹脂,聚碳酸 酯,聚醯胺,聚酯’聚胺基甲酸酯’以及聚醯亞胺:以及 經交聯的聚合物,例如經交聯環氧樹脂,經交聯酚系樹脂, 經交聯丙烯酸酯樹脂,以及經交聯胺基甲酸酯樹脂。此等 ¾^合物的貫例可見於preparative Methods of PolymerChemistry’ W. R. S〇renson 以及 Τ· W· CampbeU, second Edition ’ Interscience Publishers (1968)。亦可用於摻 混物的為共軛聚合物,例如聚(伸苯基伸乙稀 基)(P〇ly(phenylene vinylene)),經取代的聚(苯基乙烯基), 經取代的聚伸苯基以及聚噻吩。此等共軛聚合物的實例見 於 Greenham and Friend in Solid State Physics,Vol, 49, PP.1-149(1995)。 包含如以上所定義的均聚物的電致發光材料進一步包 含發光組分,其通常係選自磷光金屬錯合物(“三重態射 極”)以及螢光摻雜物。其經包含一或多種額外的組分,特 別係選自電子傳輸劑,電洞傳輸劑,惰性聚合物,黏性改 質劑’起始劑,有機鹽以及安定劑,例如抗氧化劑及紫外 線吸收劑。 因此,本發明進一步關於包含至少一種另外組分的電 22 201000597 致發光材料,該缸分係選 〜 電洞傳輸劑,惰性产入 一重悲射極(TE),電子傳輸劑, 苯乙烯或另外以上所。物(例如芳香系均或共聚物,例如聚 始劑,有機鹽(特別t:的聚合物,例如,黏性改質劑),起 發明電致發光材料經果:合於基質中,例如有機銨鹽)。本 聚合物以及百分之:::含百分之1至"至少-種本發明 列組分,其通常會構或多種額外帽助)以上所 s構成该材料的其餘者。 用於線性聚厶榀α A丨 "的I備物的單體通常每單體單元僅包 含一種可聚合基團以为 僅一種PG(亦即一種基團Ri〇),或者 用於接枝一或多種另外 卜PGs。為了交聯及/或原地製備聚合 物,可以使用包含2 #夕% ^ 成夕種相同型態的基團PG(亦即2或多 種基團R10)的單體。 本發明聚合物較佳具有的重量平均分子量為2,刚道 耳頓(Dalt_)或更大,特別是2,_至uomoo道耳頓, 更佳為ιο,_至ι’_,_且最佳為2M⑽至5〇M〇〇。分 子量係使用聚苯乙烯標準根據膠滲透層析術及/或純射檢 知器加以決定。 本發明聚合物可依照為此技藝所習知的技術加以製 備,例如藉縮合及/或加成聚合方法用於製備線性或交聯聚 合物。在許多情況下’基本聚合物係藉由包含乙烯系不飽 和部分如PGs的合適單體的加成聚合反應所形成,例如藉 由使用化學基起始劑,光起始劑’光化輻射及/或熱之自由 基共聚合反應以用於產生自由基及反應的起始。在第一製 備步驟中所形成的共聚物可進一步經改質,例如藉由將一 23 201000597 或多個另外單體及/ A U β < 此基接枝於聚合物骨架上。反應條 # μ 等記載於w〇關97川或 W007/090773。如以上所述者,本發 W冬兔明聚合物亦可原地形成 於基材上’特別是如上所述的可交聯單體的存在下。例如, 原地聚合反應可以有效地制包含乙料不飽和基團叫以 及特定分率或全部(例如1 i 100%)含2或3個此類型基圑 的單體進行,以及以光化輻射(例如紫外線或電子束;在偶 而光起始劑存在下的紫外線輻射情況下)照射單體。 存在於本發明材料中的較佳式I聚合物為那些其中 R9 ’ R9係選自Η,烷基,C3_Ci2環烷基,鹵素, R10,經E取代及/或經D間斷的Ci_Cu烷基,Ci_Ci8全氟烷 基,C6-C24芳基,經G取代的c6_C24芳基,c2_C2〇雜芳基, 經G取代的C2-C2〇雜芳基,C2-Cl8烯基,C2_Ci8块基,Ci_C|8 烷氧基,經E取代及/或經D間斷的Ci_Cis烷氧基,C7_C25 芳烷基,SiRR,R“ ’ GeRR’R“ ’ P0Ar2,pAr2,或為 _c〇 r28 ; R"以及R11’係選自氫,_素,特別是氟,Ci_Ci8烷基, 經E取代及/或經D間斷的CVCu烷基,Cl-Cl8全氟烷基, C2-C18烯基’ R1。,C2_Ci8炔基,q-Cu烷氧基,經E取代 及/或經D間斷的Ci-Cu烷氧基,CN,或-CO-R28,SiRR,R“,
GeRR,R‘‘,P〇Ar2,PAr2 ·’ R” rh,R”,以及R"’係選自h,齒素,特別是氟々{η 烷基,R10,經E取代及/或經D間斷的Ci_Ci8烷基,Ci_c" 全氟烷基,C6-C24芳基,經G取代的C6_C24芳基,c2_c2〇 雜芳基,經G取代的C2-C2〇雜芳基,C2_Ci8烯基,C2_Ci8 24 201000597 烧 13, 以 讲某,p n 1 18烧乳基’經E取代及/或經D間斷的C1 - C18 氧基 C7'c25芳烷基’ CN或- CO-R28,以及R13 ’ R丨4,R X 及 R 亦可為 SiRR,R“,GeRR,R“,POAr2,PAr2 ; 或者兩個取代基 R9,R",r13,r14,R9,,R〗l’,r13’ 及R14 ,甘 ’其係為彼此為相鄰者,一起形成基團 R105 r105 r106
08’ 斷 斷 的 斷 .; 基 r 1〇5 _ 1ΠΛ , ,R ,R 〇7,R108,R105’,R106’,R107’以及 R1 係彼此獨立地為Η ’ 烷基,經Ε取代及/或經D間 的Cl_Cl8貌基’ Ci-C18烷氧基,或經E取代及/或經D間 的Ci-C!8烷氧基,或Rl〇, D 係為-CO- ; -COO- ; -S- ; -SO- ; -S02- ; ; -NR25 -SiR R L ; _p〇R32_ ; _cr23 = cr24_ ;或 _CeC_ ;以及 E U -OR29 ; _SR29 ; _NR25R26 ; _c〇r28 ; _c〇〇R27 C〇nr;或函素; G係為E,CrCu烷基,C3-C12環烷基,經D間斷 C2_Cl8燒基’ Ci-Cu全氟烷基,或經E取代及/或經D間 的Ci-Cis烷氧基,其中 R23 ’ R24’ r25以及R26係彼此獨立地為H; C6-C18芳基 C6-C18芳基燒基;c3_c12環烷基;c6-C18芳基或c6-c18芳 烧基’其係經C1-C18烷基及/或Ci-Cu烷氧基取代;c,-c 烧基;或經-〇-間斷的C2_C18烷基;或 25 201000597
0 〇R2m2: —起形成5或6員環,特別是
—N 〇 ,或 〇 R以及R係彼此獨立地為η ; C6-C18芳基;C6-C18 芳基烷基;(VCu芳基或芳基烷基,其係經Ci_Ci8 烷基及/或q-Cu烷氧基取代;Ci_Ci8烷基;C3_Ci2環烷基; 或經-〇-間斷的c2-c18烷基; R29係為Η ; C6-C18芳基;C6_Ci8芳基烷基;c6_Cl8芳 基或C6-cls芳基烷基,其係經Ci Ci8烷基及/或Ci_Ci8烷氧 基間斷’ CVCu烧基;c2-c18烧基幾基;C3-C12環烧基;或 C2-C i8烧基或c2·C〗8烧基羰基,其係經_0-間斷; R30以及R31係彼此獨立地為Cl_Cl8烷基,C3-C12環烷 基’ C6-C18芳基,或經(^-C丨8烧基取代的C6-Cis芳基,以 及 R32係為CrCis烷基,C6-Ci8芳基,或C6-Ci8芳基,其 係經CrCu烷基取代, R,R,以及R”係獨立地為選自Ci-Cu烷基’ Ci-Ci2 i 烧基’ C5-C10芳基’ C3-C12環烧基,較佳係選自Ci_C6烧基 苯基’環戊基,環己基;以及
Ar係獨立地選自C5-C1()芳基,或經CrCu烷基取代的 C5-C10 芳基; 其中式I包含一個基團R10,以及 26 201000597 R10係為基團-(Sp)x10-[pg,]〈,其中Sp係為二僭 1貝有機間 隔基,PG’係為可衍生自可聚合基團,以及χίο係為〇 % 1 〇 例如,本發明的電致發光材料可包含式ΙΠ的聚合物
其中 η範圍為2至10000 ; L係為CH2,C〇或直接鍵;
IT,R1·,R Ε取代及/或D 一 Q 一 1 1 . ’ Rl4,係選自Η,CVCu烷基,鹵素,經 間斷的Κ18烷基,C6-C24芳基,經G取代 勺6 24务土 C2'C2〇雜芳基,經G取代的C2-C20雜芳基’
C2-C18炼基’ C2_Cl8块基,Ci_Ci8烷氧基,經ε取代及/或D 間斷的 Cl Cl8 烷氧基,C7-C25 芳烷基,SiRR,R“,GeRR’R“, POAr2,ΡΑγ2,或為_c〇 r28 ; 每一個殘基R9”备 ^ 係獨立地選自為R9所定義者,
Rx係為Η或审戈 \甲基’且所有其他符號係定義同上, 範圍自 此類型的較估从,, 材料包含式III的聚合物,其中 5至5000,特別是 J 疋 W 至 1000 ; X10係為〇 ; 27 201000597 ^’^’^门’…係選自^^^元基’氣’ 、經E取代的Cl-C8烧基,、經D間斷的kb烧基苯基, 經G取代的苯基’ C4-C18雜芳基,經G取代的c4-ci8雜芳 基’ c2-c8稀基,c2-c8块基,Cl_c8烷氧基,經E取代的 Cl-C8烧氧基,經D間斷的(VCu炫氧基,C7_C25苯基烧基, SiRR’R“,GeRR’R“,POAr2,PAr2,或為 _c〇 r28 ; D 係為-CO- ; -COO-; -S- ; _S0_ ; _s〇2_ ; ; _nr25_ ;
SiR30R31 POR32-;以及 E 係為-OR29 ; -Nr25r26 ; _c〇r28 ; _c〇〇r27 ; -CONR25R26 ; -CN ;或自素; G係為E,Ci-Cs烷基,環己基,經D間斷的Ku烷 基,(VC8全氟烷基,經E取代的Ci_Cu烷氧基,經d間斷 的C2-Cu烷氧基,其中 R以及R26係彼此獨立地為H ;苯基;C7_Ci2苯基烷 基,壞己基,苯基或C^-Cu苯基烷基,其係經Ci_C8烷基或
Cl Cs烷氧基取代;Ci_C】8烷基;或經_〇_間斷的C2_C】8烷 基;或
2. 7 χ 以及R28係彼此獨立地為Η ;苯基;c7-C12苯基烷 基,苯基或C7-Cl2苯基烷基,其係經C^-Cs烷基及/或C^-Cs 28 201000597 烷氧基取代;Κ8烷基;環己基;或經-〇-間斷的CVCu 烧基, R29係為Η ;苯基;C7-C12苯基烷基;苯基或CVCu苯 基烷基’其係經CrCs烷基及/或CrCs烷氧基取代;CrC8 烷基;C2-C8烷基羰基;環己基;或c2-C18烷基或C2-Ci8 烷基羰基,其係經-〇-間斷; R30以及R31係彼此獨立地為Ci-Cs烷基,苯基,或經 Ci-Cs烧基取代的苯基,以及 R係為CrC8烷基,苯基,或經Cl_c8烷基取代的苯 基, R,R以及R”係獨立地選自Cl_c6烷基,苯基,環戊基, 環己基;以及
Ar係為笨基或經c 式III中的星號顯 1-CS烷基取代的苯基。 [中的星號顯示聚合物鏈與定義同上的通常選自 例如Cl-C8)’芳基(例如苯基)或芳基烷基(例如苯 見末端基團及/或鏈末端劑,或,’未反應”、單鍵結 虱,烧基(例如c 1 - c 8), 甲基)的常見末端基團及 的單體單元IV S · 元IV的進展:
(IV) 其中
Rx係為Η 或甲基以及Ry係為對聚合物鏈的鍵 29 201000597 係對聚合物鏈的鍵結’以 結’或者Ry為Η或曱基以及Rx 及所有其他符號係定義同上。 本發明大致上較佳的電致發 WOO個式m沾沾德〇〇 一 寸匕3匕祐 入H ΪΠ的結構早几的聚合物,其中 xl〇 係為 〇 ; 地選自 H,r n ^ & 1 8烷基,氟,經Ε取代的C「C8烷基,經ϋ 1斷的c2-c18燒基,苯基,、經G取代的苯基,C4_Ci8雜芳 基,、\G取代的C4-Cl8雜芳基,C2-C8稀基,c2_c8炔基, 烷氧基’經E取代的Ci_C8烷氧基,經D間斷的c2_Ci8 ^ C"7 C25 本基烧基,SiRR,R“,GeRR’R“,P〇Ar2, ΡΑ『2 ’ 或為-C〇_R28 ; D 係為-CO- ; -coo- ; ; _nr25 卜SiR3〇R31_ ;以及 β 係為-OR29 ; _Nr25r26 ; _c〇r28 ; _c〇〇r27 ; -C〇NR25r26 ;或氟; G係為E或CVCs烷基; 2 5 R以及R26彼此獨立地為H ; Ci-C8烷基;環己基; 2 7 R以及R28彼此獨立地為Η ;苯基;苯甲基;經Ci-C8 炫•基及/或c^c:8烷氧基取代的苯基或苯甲基;Cl_C8烷基; R係為H ;苯基;苯甲基;經c〗-c8烷基及/或CVCs 炫1氧基取代的苯基或苯曱基;CrCs烷基;乙醢基;環己基; 或經_〇·間斷的c2-c12烷基; R以及R31彼此獨立地為甲基或苯基,以及 R R以及R”獨立地選自甲基’乙基,笨基;以及 30 201000597
Ar係為苯基; 特別是當任何 R9,R9’R9’’ ’ R" ’ R13. R14,R11’,R13’, R14’獨立地選自H,CrCs烧基,SiRR’R”。 本發明進一步關於新穎聚合物,亦即式III’均聚合物
其中 η範圍自5至10000 ; 至少…,…”,…、…、尺“殘基中之一者係選自匸丨-匚“ 烷基,鹵素,經Ε取代及/或經D間斷的Ci-Cu烷基,C6-C24 芳基,經G取代的C6-C24芳基,C2-C2Q雜芳基,經G取代 的C2-C2〇雜芳基,C2-C18烯基,C2-C18炔基,CVCu烷氧基, 經E取代及/或經D間斷的CVCu烷氧基,C7-C25芳烷基, SiRR’R“,GeRR’R“,POAr2,PAr2,CO-R28 ; 特別係選自鹵素,C2-C18炔基,CVCu烷氧基, SiRR,R“,GeRR’R“,POAr2,PAr2 ;而其餘的殘基亦可為 氫; D 係為-CO- ; -COO- ; -S- ; -SO- ; -S02- ; -0- ; -NR25-; -SiR30R31- ; -POR32-;以及 31 201000597 E 係為-OR29 ; -NR25R26 ; -COR28 ; -COOR27 ; -CONR25R26 ; -CN ;或鹵素; G係為E ’ CVCs烷基,環己基,經D間斷的C2-C18烷 基,CrCs全氟烷基,經E取代的Q-Cu烷氧基,經D間斷 的C2-C18烷氧基,其中 R25以及R26彼此獨立地為Η ;苯基;C7-C12苯基烷基; 環己基;經烷基或烷氧基取代的苯基或C7-C12 苯基烷基;CVCu烷基;或經-〇-間斷的C2-Cl8烷基;或
R27以及R28彼此獨立地為Η ;苯基;C7-C12苯基烷基; 經Ci-Cg烧基及/或Cl_Cs炫氧基取代的苯基或C7-Ci2苯基 烷基;CrCs烷基;環己基;或經-Ο-間斷的c2-c18烷基; R29係為Η ;苯基;C7-C12笨基烷基;經CVCs烷基及 /或CVC8烷氧基取代的苯基或C7-C12苯基烷基;(VC8烷 基;C2-C8烷基羰基;環己基;或經-0-間斷的c2-c18烷基 或c2-c18烷基羰基; R30以及R31彼此獨立地為CVCs烷基,苯基,或經CrCs 烷基取代的苯基,以及 R32係為烷基,苯基,或經Ci-Cs烷基取代的苯 基, 32 201000597 R’ R’以及R,,獨立地選自Cl_C6烷基,苯基,環戊基, 環己基;以及
Ar係為苯基或經Cl-C8烷基取代的苯基; L係為CH2 ’ CO或直接鍵;RX係為η或甲基; χιό係為〇或i以及Sp係為0,Ci_c4伸烷基_〇, ch2-ch〇h-ch2-〇,coo,CONR22,Ci_c4 伸燒基 CH2CH〇HCH2 〇 、新穎聚合物的較佳變數及取代以及製備方法主要如所 進一步§己载係用於本發明電致發光材料的聚合物中。
用於本發明聚合物的製備的一些有用的單體係為新賴 化合物,其係為式V
其中 R ,’ K13 ’ 殘基其中一 例如硬,C 1 r « ’饰送自S常 18块基,C丨-C丨8貌氧基,siRR,r“ POAr, » Ρδ KK R 5 GeRR^11 > r2 ,而其餘殘基亦可為氫; R以及R”獨立地選自C c烷兵 環己基,·以及 基本基,環戊基,
Ar係為苯基或經Cl_Cs烷基取代的苯基; 33 201000597 L係為CH2 ’ c〇或直接鍵;Rx is η或曱基;
Xl0係為0或1以及Sp係為〇,C,-C4伸烷基-〇, CH2-CH0H-CH2-0,c〇〇,c〇NR22,Ci c4 伸统基,或 CH2CHOHCH2。 如存在於式ΙΠ,ΙΙΓ,Iv以及v中的每一個殘基R9,’ 係獨立地選自所顯示的意義,因此殘基彼此間可為相同或 不同。 用於本發明聚合化合物的單體的製備可依照為此技藝 ^的方去,例如本文初始所引述的文獻所述。藉由 導入任何進一步取代基r9, R9,,,R11,r13, r14,可以單體 的進一步何生作用之前完成可聚合基團的導入;然而,在
許多情況下,首先提供包含取代基R9, R9..,Rll,Rn,RU 的化合物,且此產妙,你— 物…、、後在第二步驟中被轉化成為包含可 聚合基團PG的單體。 取代基亦可在後續步驟中經改質,例如在第一次導入 反應性取代基例如齒素,_ 函坑基’起基或經基烧基之後。 根據此技藝中所翌在n ^ 所1知的方法改變反應條件,其包括但 不限於,使用溶劑,庳 /皿度’觸媒,保護性措施,製,分 離及純化程序。進—牛沾β , ν 、:,、,田内容在本文實施例中有說明。 本發明亦關於一種包含 JL _ ϋ办 3本發明+合物的電子裝置以及 其製造方法。電子梦番· ,丨、mik m ^ ^ 、 匕3介於二電子接觸層之間的至 夕一種有機活性材料,其 M,,, # ^ Μ裝置的至少一層包含發光摻 、& ’’、可為碟光摻雜物(通常Α八屈 ^ ^ .a - (逍吊為金屬錯合物’例如以 銥為基礎的二重態射極或 寶九化合物)。電子裝置可包含陽 34 201000597 極層(a),陰極層(e), 視需要的電洞注入/傳輸= 生層(C)。與陽極層⑷相鄰者為 鄰者為視需要的電_注^ ^⑻,且與陰極層⑷相 為電荷傳輸層的實例。輸(電子阻斷)層⑷。層⑻及⑷ 物(通⑷較佳包含至少約°」重量百分比之發光師 物(通常大於1%,“.ι幻〇%)。 先推雜 該裝置可包含虚哕陆 或基材。最常見者,、:支= (a)或陰極層⑷相鄰的支轉物 物可為可撓性或硬質:有:::與該陽極層⑷相鄰。支撐 S ^ . 有機或無機性。一般而言,玻璃或 八可撓性有機膜被用作支撐物。~# & 4 ± / 層⑷更具注人電洞1㈣e極層⑷係為相較於陰極 合金屬,合金,金屬氧::極。陽極可包含含有金屬,混 , 、,屬化物或混合金屬氧化物的材料。位 :喊極層⑷内的合適金屬元素可包含第4,5,6族以及8 ;族過渡金屬。如果陽極層⑷係為傳送光,則可以使用 (13以及M族金屬’例如銦-錫-氧化物。用於陽極層 U)的一些非限制性 匆位增
V Γ,ττπ(Ιλ ^ f特疋材料貫例包含銦-錫-氧化物 0 ),鋁-錫-氧化物’金,銀,銅,鎳以及硒。 陽極層⑷可藉由化學或物理蒸氣沉積方法或旋_ '或凹版印刷方法。化學蒸氣沉積可以電衆-增強 學蒸氣沉積(,,PECVD,|)或金屬有機化學蒸 (MOCVD”)方式進行。 物理蒸氣沉積可包含所有形式的濺鑛(例如離子束錢 鐵)’電:束蒸發,χ及蒸發阻力(resistanee evap。⑽〇n)。 特疋形式的物理蒸氣沉積包含射頻式磁控管濺鍍或感 35 201000597 應-偶合電聚物理蒸氣沉積("ICP-PVD")。這些沉積技術係為 半導體製造技藝中所習知者。 電洞傳輸層(b)可與陽極相鄰;此層可被分裂戈為電洞 /主入(b 1 )及屯洞傳輸(b2)層。電洞傳輸小分子化合物以及聚 合物也可供使用。 系使用的電洞傳輸分子包含:Ν,Ν'-二苯基-Ν,Ν,-雙(3-甲基苯基)-[1,1'-聯苯]_4,4,-二胺⑽叩山雙[(二_4_曱苯基 胺基)苯基]環己烷(TAPC),Ν,雙(4-甲基苯基)-Ν,Ν1-雙(4_乙基苯基二曱基)聯苯]4,4'-二胺(ETPD), 肆-(3-甲基苯基)_Ν,Ν,Νι,Ν,_2,5_ 苯二胺(pda),a_ 苯基 -4-N,N-苯基胺基苯乙烯(Tps),p_(二乙胺)苯醛二苯基腙 (DEH),二笨基胺(τρα),雙[4_(N,N二乙胺)_2曱基笨基](4_ 曱基苯基)甲烷(MPMP),丨_苯基_3_[p_(二乙胺)苯乙烯 基]-5-[p-(二乙胺)苯基]n比唾琳(ppR或deaSP),1,2-反式 -雙(9H-咔唑-9-基)環丁烷(DCZB),N,N,N,,N'-肆(4-曱基苯 基)-(1,Γ -聯苯)-4,4'-二胺(TTB),4,4,-N,N-二咔唑-聯苯 (CBP) ’ N,N-二咔唑基 ι_ι,4-二二亞曱基-苯(DCB),N,N,-二(萘-1-基)-N,N’-二苯基-聯苯胺(NPD),1,3-雙(9-咔唑基) 苯(mCP),卟啉(porphyrinic )化合物,酞菁,以及其組合。 關於此方面進一步材料及使用方法係如US_A-2007-008721 所述者(參見其中[0096]至[01 54]段),該内容以引用方式併 入本文。 常用的電洞傳輸聚合物為聚乙稀基π卡。坐,(苯基曱基) 聚矽烷,聚(3,4-伸乙基二氧基噻吩)(?£00丁),三芳基胺聚 36 201000597 合物(例如聚[(9,9-二辛基第_2,7-二基),(4綱 丁基苯基二苯胺)][TFB]),H各,以及聚苯月安。電洞傳 ^合物可得自於將如以上所述的電洞傳輪分子摻雜至聚 &物例如聚苯乙烯以及聚咔唑中。 人續輸層(b)可藉由任何傳統方式包含旋轉塗 =ΓΓ刷例如凹版印刷加以形成。此層亦可藉由 貫墨印刷’熱圖案化或化學或物理蒸氣沉積被施用。 通常,陽極層⑷以及電洞注入/傳輸層㈨若存在時,在 = 毁影作業中被圖案化。此圖案可視需要變化。此層可 ^阻施用第—電子接觸層材料之前將圖案化光罩或 疋位於第一可撓性複合物阻障址構y 早'·,0構而形成於圖案中。 這些層可以總體層(亦稱為毯覆式沉積)被施用, 接者使用例如圖案化阻抗層及濕式化學或乾式敍 竹進行圖案化。為此技藝中所習知用 ^ -Λ- _ρ 用於圖案化的其他方法 亦可供使用。當電子裝置位於陣 Ψ阮極層(a)及電洞注 典型係形成於實質上平行的帶狀,其具 相冋方向延展的長度。層(b)可經交聯。 活性層(c)包含發光摻雜物 定的顆粒材料可視特定用途,作聚合物。所選 主材料,其經摻雜可㈣以/3傳輸電子職電洞的宿 以致激子自發科 1电洞及/或激子的發射材料, 含結合傳輸弛活性層⑷可包 物或主要組分,活人:發射材料是否為摻雜 每可已S其他材料,例如會調節發射 37 201000597 材料的發射性。活性層(e)可包含複數個能夠在合併時會發 射所欲光譜的發射材料。發射材料的實例包含磷光金屬化 合物,其揭示於 W006000544, WO〇6067〇74, w〇〇7〇74〇93, 以及其中引用的出版物;以及某些螢光聚芳基,例如揭示 於EP-A-1 138746, EP-A-1245659。螢光發射材料的實例包 含DCM以及DMQA。進一步宿主材料的實例包含Alq3, cbP 以及mCP。發射及宿主材料的實例係揭示於us 6,303 238 B’其全文以引用方式併入本文中。 用於形成活性層(c)的方法實例包含藉由溶液加工沉 積。自溶液成膜方法的實例包含施用方法,例如旋轉塗覆, 淺禱’微凹版塗覆’滾動塗覆,金屬棒塗覆 (wirebar-coating),浸潰塗覆,噴塗法,網版印刷法, flexography,膠印印刷(offset_pdnting),凹版印刷以及噴黑 印刷。 土 穴匕3、主少一種本 發明聚合物’光發射化合物以及至少一種溶劑,以及可以 =力:劑例如電洞傳輸材料,電子傳輸材料,發光材料, 二 ^或安定劑。組合物中溶劑數量為組合物總重量 二至广”,以及較佳…99重量%, 為8 0至9 9重量%。 又1土 那二所使用的溶劑並不特別受限且較佳為 '解或均㈣分散該等材
解於溶劑中,溶液沉積於基材上,以及溶劑經溶 ㈣f任何合適的溶劑可被用於溶解化合物(假設其為I 38 201000597 性)’可溶解至少一些材料且可a a μ 珂针1了错由傳統乾燥方 熱,減壓,空氣流等)自基材被移 ^ ^ 適合的有機溶劑包含, 仁不限於’方香系或脂肪系烴 M 卣化例如氯化烴類,酯 類,醚類,酮類,醯胺,例如氣 — —氣乙烷,四氫呋喃, 甲本,二甲苯,乙酸乙酯,乙酸丁 — T基乙基|同,丙酉同, 一甲基甲酿胺,二氯苯,丙二g菜置田 、^ 一 早甲基醚乙酸酯(PGMEA), 以及醇類’以及其混合物。 K以及與水相容溶劑的混合物 亦可供使用。層(c)可經交聯。 視需要層⑷的作用可為便利電子注入/傳輸,電洞阻 7,以及亦作為緩衝層或限制層以防止在層界面處反應驟 停°更特定的,層(d)可促!隹番· ; & & 曰、』』從進電子移動性以及降低若層(e)及 ⑷會以其他方式直接接觸時發生反應驟停的可能性。供視 需要層(d则的材料的實例包含金屬_螫合物經基哇㈣ 化合物(oxinoid compounds)(例如’卷(8經基—ο — )銘 (Alq3)或類似物);以菲咯啉(phenanthr〇iine)為基礎的化合物 (例如 ’ 2,9-二甲基 _4,7_二苯基菲咯啉("DDpA”),4,7_ 二苯基-1,10-菲咯啉("DPA_,),或類似物;唑化合物(例如, 2 (4聯笨)5-(4-二級-丁基苯基)_ι,3,4-σ惡二唾(“pBD或類 似物,3-(4-聯苯)_4_苯基_5_(4_三級_丁基苯基Η#·三唑 (TAZ )或類似物,其他類似化合物;或任何一或更多的組 合。關於此方面的進一步材料以及使用方法可敘述於 US_A-2006-021083 0(參見其中的[0076]至[〇〇79]段),以及 US-A-2007-0042220(參見其中的[0110]至[〇114]段),該内容 以引用方式併入本文中。 39 201000597 可替代的,視需要的層(d)可為無機且包含Β&〇,uf, Li2〇,或類似物。層(d)可經交聯。 電子注入/傳輸層(d)可使用任何傳統方式形成,包含旋 轉塗覆,澆鑄以及印刷,例如凹版印刷。此層亦可藉由喷 墨印刷,熱圖案化或化學或物理蒸氣沉積而施用。 、 陰極層⑷為特別有效於注入電子或負電荷載體的電 極。陰極層⑷可為具有比第—電子接觸層低卫作功能的任 何金屬或非金屬(此情況下為陽極層(a))。用於第二電子接觸 層的材料可選自第i族鹼金屬(例如,u,Na,K,奶,a), 第2族(鹼土族)金屬…2族金屬,稀土族,鑭系元素:例 如’ Ce’ Sm,Eu’或類似物)以及锕系元素。亦可以使用例 如銘,銦,妈,鎖,紀以及鎮及其組合之材料。含經有機 金屬化合物,UF以及Li2〇亦可沉積於有機層及陰極声之 間以降低作業電壓。用於陰極層⑷的特定非^材料實例 包含鎖,鈽,絶,銪,伽,釔,鎂或釤。 陰極層⑷通常係由化學或物理蒸氣沉積方法所形成。 一般而言,陰極層將如以上所討論參考陽極層⑷以及視需 要的電洞注人層(b)被圖案化。如果裝置位於陣列中,陰極 層(:)可在實質平行的帶中圖案化’其中陰極層帶的長度在 實質上相同方向延伸且實質上與陽極層帶垂直。 又 、稱為像素的電子元素在交叉點形成(當陣列係從平面或 上視圖觀察,此處陽極層帶與陰極層帶交錯)。 在其具體實例中,有機電子裝置令可存在額外層。例 如電/同/主入層(b)與活性層⑷之間的層可便利於正電荷傳 201000597 :似:層::帶間隙匹㈤,作為保護層的作用或類似者。 負電,值二層⑷及陰極層⑷之間的額外層可便利於 =傳=的頻帶間隙匹配1為保護層的作用或 而$ ,可以使用為此技藝中所習知的層。一 該層可經表面處理以增加電荷載體傳輸效率。 製、刀層的材料選擇可藉由平衡提供具有製造成本, 二w ]生或其他潛在因素的高裝置效率的裝置目標而決 疋。 了傳輸層⑻以及⑷的材料通常與活性層⑷的材料 則^同類型。更特定地,如果活性層⑷包含小分子化合物, =何傳輸層⑻以及⑷(如果存在其中之-或二者)通常包 同】刀子化σ物。如果活性層⑷包含聚合物’電荷傳 :層㈨以及⑷(如果存在其中之—或二者)通常亦包含聚合 。然而’活性層(C)可包含小分子化合物,且任何其相鄰 層(例如電荷傳輸層)可為聚合物。 母-功能性層可由—層以上所組成。例如,陰極層可 包含第1族金屬層以及銘層。第1族金屬可位於接近活性 層(c),且銘可有助於保護第1族金屬不受環境汙㈣如水 影響。 雖然沒有予以限制之意,不同層可具有以下範圍的厚 度:無機陽極層⑷,通常不大於約500nm,例如約50至 200一視需要的電洞注入層(b),通常不大於約1〇〇紐例 士 勺50至200nm,活性層⑷,通常不大於約⑽疆例 如,約10至80nm ;視愛亜认+ 兄而要的電注入層(d),通常不大於約 41 201000597 1 OOnm,例如,约丨n . 、 至80nm ,以及陰極層(e),通常不大於 約 1 OOOnm > Μ μό , ζ^ 〇Λ ^ „ 勺30至5〇〇nm。如果陽極層(a)或陰極 層(Ο需要傳送至少—此本,13 二光此類層的厚度可以不超過約 1 OOnm 〇 裝置内電洞重組區域的位置及因此該裝置的發射光譜 可受到每-層相對厚度的影響。因此,電子傳輸層的厚度 應該經選擇,以致電洞再組合區域位於發光層(亦即活性層 ⑷)。所欲層厚度的比率可視所用材料的正確性質而定。用 金屬錯合物製成裝置的效率可藉由使裝置内的其他層最適 化而獲得進—步改m,可以使用更具效率的陰極例 士 Ca ’ Ba ’ Mg/Ag ’或LiF/AI。會導致作業電壓下降或量 子效率提高的成形基材以及電洞傳輸材料亦適用。額外層 亦可被加入以調整各層之能量水平並便利發光。 曰 視電子裝置之應用而定,活性層(c)可為、經訊號(例如在 發=二極體内)活化的發光層或者會回應輕射能量且在有或 無施用電位時產生訊號的材料層(例如檢知器或伏打電 也)可回應輻射忐量的電子裝置的實例可選自光導電池, 光阻,光控開關,光電晶體以及光電管。此技藝人士能夠 選擇適合其特殊應用的材料。 電致發光裝置可用於例如手機,電視以及個人電腦發 幕中的全彩顯示板中。據上所述,本發明亦係關於一種裝 置’其係選自固定式及移動式顯示器,例如用於電腦,手 機,膝上型電腦,個人數位助理’電視機的顯示器,印表 機、廚房設備,告示板,㈤明,資訊板中的顯示器以及火 42 201000597 車及a車上的目的地板,其包含 λ ^ Ά ? 知月的有機發光二極體。 在有機發光二極體(0LEDs)中, μ '± X i, « 】由陰極Ο)及陽極(a) 層主入先活性層⑷的電子及電洞在活性 。it 〇tb π & )中幵v 成負及正 ^子4極子在施用電場㈣響之下移動,盘相反 何=類形成極子激子以及接著進行輕射重組。陽極及陰 :之間的足夠的電位差異通常小於約2。伏特,一此 十月況之下不大於約5伏特,可施 二 里可葙於裝置。實際的電位差 八可視在車父大電子組分中使用 .士咖 用裝置而定。在許多具體實例 中,在电子裝置作業期間,陽極層 層(e)--層⑷偏移至正電壓且陰極 上接地電位或零電壓。電池或其他動力源可以被 電力連接至電子裝置作為電路的—部分。 在使用於層⑻,⑷,或⑷時,化刀合物不需 質稀釋劑中(例如宿主電荷傳輸材料)才能有效率。一層且; 大於約1〇/。重量的金屬錯合化合 、 Q物(基於層的總重量)以及多 至實夤上約100%本發明聚合物 』作為活性層(c)。額外的材 丄》存在於具有錯合化合物的活性層⑷。例如,可存在勞 光染料可以改變發射色彩。 亦可以使用稀釋劑。稀釋劑可為聚合材料,例如聚⑺ 乙婦基味唾)以及聚石夕烧。稀釋劑亦可為小分子,例如 4,4'長,二°卡峻聯苯或三級芳香系胺。當使用稀釋劑時, 本發明聚合物一般係以小量存在,通常…〇%重量,較 佳小於1 0%重量,其係以層的總重量為基準。 以下試驗方法及實施例僅係為例示土目的且不是被解结 為以任何方式限制本發明。室溫(rt.)描述範圍為2〇至二 43 201000597 C的溫度’隔夜表示12至16小時範圍的時間。百分比為 重量’除非另外陳明。 貫施例或他處中所用的縮寫·· AIBN 偶氮-雙-異丁腈 CIE 根據 Commission Internationale de l’Eclairage 的色彩定義 DMF 一甲基甲醯胺 EE 乙酸乙酯 EtOH 乙醇 HMPTA 六曱基填三醯胺 Ir(ppy)3 銀畚(2 -苯基吼咬)(Baldo 等人,ppl. Phys. Lett. 1999,75,4-6、 ITO 銦錫氧化物 Mw 重量平均分子質 Mn 數目平均分子量 PBD 2-(對-三級丁基笨基)_5_聯苯-噁二唑 PDI 多分散性指數( = [Mw]/[Mn]比值) PEDOT: PSS聚(3,4-伸乙基二氧基噻吩)聚(苯乙烯磺酸鹽) PG 可聚合基團 QE 量子效率 TBME 三級-丁基甲基醚 THF 四氫咬喃 TPD N,N’-聯苯-N,N’-二-間-甲苯基-聯苯胺 44 201000597 實施例1 將16.09克(〇.2 59莫耳)氫氧化鉀(86%)置於配備磁力攪 摔器及回流冷凝器的500毫升三口圓底燒瓶。加入200毫 升四氫呋喃以及6_5毫升二氣甲烷。使混合物回流。經過j 小時之後,將混合物冷卻至室溫。加入8克(3 7.毫莫耳) 苯并呋喃-4-硼酸,〇.8克(3.02毫莫耳)三苯基膦,339毫 克(〇.7毫莫耳)乙酸把⑻及200毫升甲醇的溶液。將反應混 合物加熱至60。(:内部溫度。經過2小時之後,反應完成, 經冷卻至室溫。此混合物經水及乙酸乙酯稀釋。有機相經 水萃取二次,、經鹽水萃取—次。有機相經硫酸納乾燥且汾 劑經蒸發。粗製產物經管柱層析術(庚院)純化。分離(乙稀 基-二苯并呋喃’產率為42%。
1H-NMR(300MHz > CDCli) * ^ l3) · 7_94(d,lH) 7.84(d,lH) 7.61(d,lH) 7.50(m,2H) 7.36(m,2H) 7.12(dxd 1H) 6.32(d,lH) 201000597 5.60(d,lH) 實施例2
H^O
將22.7克(63_7毫莫耳)甲基三苯基鱗溴化物以及2〇〇 宅升無水四氫呋喃置入配備磁力攪拌器的乾燥三口圓底燒 瓶,以氣化鈉/冰浴將反應混合物冷卻至〇。〇内部溫度。在 30分鐘内加入41.8毫升(66·9毫莫耳)16Μτ基鋰在己烷中 的溶液’同時保持内部溫度低於代。反應混合物於相同溫 度授拌45分鐘’然後在3G分仙加人们毫莫耳二苯并 呋喃(溶於100毫升無水四氫呋喃)。經過2小時之後,反應 混合物被回溫至室溫,加入5〇〇毫升水及經5〇〇毫升乙酸 乙酯萃取三次。經合併的有機相經5〇〇毫升的丨:ι緩衝液 (PH =丨)以及鹽水的混合物沖洗一次,經鹽水沖洗一次,經 硫酸鎂乾燥,過濾及蒸發。粗製產物經溶於二氣甲烷,加 入100克一氧化矽,以及蒸發溶劑。將所得到的粉末加入 在經燒結玻璃漏斗中300克二氧化矽的頂端,且該產物經 8: 1的己烷/乙酸乙醋烯釋。產物經2_丙醇結晶。2_乙烯基 •二苯并呋喃經分離,產率為95%。 7.94(d,lH) 1H-NMR(300MHz « CDC13): 46 201000597 7.98-7.92(m,2H) 7.64-7.32(m,5H) 6.92(dxd 1H) 5.82(d,lH) 5.30(d,lH) 實施例3
1克4-乙烯基-二苯并呋喃(實施例1)以及0.01當量的 上述流程所示起始劑被溶於0.5毫升氯苯,經脫氣及在120 °C及氮之下經攪拌24小時。產物在曱醇中經多重沉澱而純 化。產率為70%。 GPC : Mn=1 3600,PDI=1.16. 實施例4
1.24克2-乙烯基-二苯并呋喃(實施例2)及1.5重量%溶 47 201000597 於5毫升曱苯中’經脫氣,在80°C及惰性大氣中聚合β聚 合物在甲醇中經多重沉澱而純化。產率為83。/〇。 GPC : Mn=19800,PDI =1.96. 實施例5
將16.8克(90_1毫莫耳;)苯并呋喃,197克(8〇毫莫耳) 石典,7.7克(44宅莫耳)峨酸溶於2〇〇毫升乙酸,15毫升水, 2毫升硫酸及10毫升四氯化碳中,以及在65。〇攪拌小 時。產物經過遽’再溶於熱甲苯中,以及藉加入甲醇而再 度沉殿。分離2,8-二碘二苯并呋喃(5丨),產率為6〇.7〇/〇。 ^-NMR (300MHz > CDC13) : 8.2(s 2H) 7.74(d,2H) 7.33(d,2H) 將4克(13_5毫莫耳)2,8-二碘二苯并呋喃溶於10〇毫升 無水四氫呋喃。在-78°C滴加入17.8毫升1 ·6Μ正-丁基鋰溶 48 201000597 液(己烷中)。在-78°C經攪拌1小時,加入8.8克(29 84毫莫 耳)氣三苯基矽烷在20毫升四氫呋喃中的溶液。讓反應混合 物回溫至室溫’以及經飽和氯化銨溶液驟冷。有機相經過 濾且產物於四氫呋喃再結晶而純化,製得5.62克(6〇%)2, 8~二-(三苯基甲矽烷基)-二苯并呋喃(5.2)。 'H-NMR(300MHz > CDC13) : 8.08(s,2H) 6.68-7.58(m,16H) 7.49- 7.3 6(m, 1 8H) 在45C將1克(1.46宅莫耳)2,8 -二-(三苯基甲石夕烧基)_ —苯并°夫喃溶於1 〇 〇毫升無水四氫°夫喃,加入在環己烧中 的10毫升1.4M二級-丁基鋰。在45Ό之下經攪拌15分鐘 - 之後’加入2毫升無水二曱基曱醯胺;反應混合物經授拌i . 小時。加入100毫升0.5M鹽酸使反應驟停。產物經乙酸乙 酸萃取且在矽膠上以庚烷:乙酸乙酯(3 : 1)作為沖提液經營 枝層析術純化,製得2,8-二-(三苯基甲矽烷基)-二苯并咬。南 * -4-羧醛(5.3),產率為 30.2%。 'H-NMR (300MHz > CDC13) : 10.5(s,lH) 8.30(s,lH) 8.15(s,lH) 8.11(s,lH) 7.73-7.55(m,14H) 7.49- 7.36(m,18H) 49 201000597 根據實施例2之方法使用2,8-二-(三笨基曱矽烷基)-二 苯并呋喃-4-羧醛與甲基三苯基鱗溴化物反應而製得4-乙烯 基-2,8-二-(三苯基曱矽烷基)-二苯并呋喃(5.4),產率為 37.8%。 iH-NMR (300MHz,CDC13) : 7.99(s,lH) 7.88(s,lH) 7.57-7.48(m,15H) 7.40-7.26(m,18H) 6.93(dd,lH) 6.14(d,lH) 5_46(d,lH) 根據實施例的方法製斗寻 Mn=6400,PDI=1.26。 4聚合物3,產率為3 0%。GPC ·· 的方法且根據以下反應流程,製 實施例6 :以類似實施例 得聚合物4及5 : 50 201000597
b ό
AIBN
實施例7 :以類似實施例5的方法且根據以下反應流 程,製得聚合物6 :
AIBN
Polymer 6
Ph3Ge
GePh. 51 201000597 應用實施例 以述方式製備具有單-有機層的有機發光裝置··藉濺 鑛及後續的圖案化於玻璃基材上形成8〇nm厚的IT0臈。使 用PEDOT . Pss(Baytr〇n ρ)藉由旋轉塗覆、接著在綱。◦加 熱、】〇分鐘,在經氧-電衆處理的IT0臈上形成8〇請厚的電 S θ藉由旋轉塗覆施用1 5毫克本發明聚合物,1.25 毫^™ ’ 7·5毫克咖以及⑶毫克Ir(PPy)3於u毫升 曱苯中的办液’以製得8〇nm厚度。在8〇。。及氮氣之下使膜 乾燥30分鐘。將基材置於真空沉積室中,藉由沉積—鋇 層、接著7〇nm銘層而形成具有二層結構的陰極。作業以及 裝置效率的詳細資料如下表所示者。 V@ 1000cd/qm CIB x CIEy 12.0 0.3 0.63 12.3 0..3 0.63
圖式簡單說明 【主要元件符號說明】 4 \*\ 52
Claims (1)
- 201000597 七、申請專利範圍: 1 ·一種電致發光材料,其包含以下式I的重覆結構單元 為基礎的均聚合物其中 R9,R9’,R11,RU,R14,R",,R13,,R14’獨立地為 H 或有機取代基,該有機取代基係選自鹵素;OH ; G-Cm烷 氧基;經E取代及/或經D間斷的C2-C24烷氧基;CVC24烷 基;經E取代及/或經D間斷的CVC24烷基;(VC24鹵烷基; C2-C24婦基,C2-C24快基;C1-C24烧基硫基;C1-C24酿基; C5-C24芳基;經G取代的C6_C24芳基;C7-C25芳烷基;C3-C12 環烷基;CVC24醯基氧基;C5-C1()芳基氧基;C3-C12環烷基 氧基;COR; CH=NR; CH=N-OH; CH=N-OR; COOR; OCOR ; CONHR ; NHCOR ; CONRR’ ; CONH-NHR ; CONH-NRR'; SR ; S02R ; SO3R ; S02NHR ; SOzNRR' ; S02NH-NHR ; S02NH_NRR’ ; s(o)r ; S(0)0R ; S(0)NHR ; S(0)NRR’ ; S(0)NH-NHR ; S(0)NH-NRR’ ; SiRR’ R” ; GeRR’ R “; PRR’ ; PORR’ ; PO(OR)R’ ; PO(OR)2 ; PO(NHR)2 ; PO(NRR’ )2 ; CN ; N02 ; NHR ; NRR’ ; NH-NHR ; NH-NRR’ ,CONROH ; 其中R,R’以及R”獨立地為選自CrCu烧基,CrCu 53 201000597 鹵烷基,c5-c10芳基,c3-c12環烷基;以及R亦可為氫 或者彼此相鄰的二個取代基R9,R11,R13,R14 ’ R' R11’,R13’,以及R14’一起形成基團 R1。5 R105 R106 Ύ1。6 Ά。7 R108 ,或 R107 R108 , Rl〇5 , Rl〇6 , R107 , R 108 5 R105’,Rl〇6’,R107’ 以及 R108 彼此獨立地為Η,CVCu 烧基 ,經E取代及/或經D間斷的 CVC!8烷基,C]_Cl8烷氧基,或經e取代及/或經D間斷的 G-Cu烷氡基; D 係為-CO- ; -COO- ; -S- ; -SO- ; -S〇2- ; ; _NR _ ; -SiR30R31- ; -por32_ ; -cr23=cr24-;或-c^c-;以及 E 係為-OR29 ; -SR29 ; -NR25R26 ; -COR28 ; -COOR27 ; -C〇NR25R26 ; -CN ;或鹵素; G係為E,CrCu烷基,C3-C12環烷基,經D間斷的 C2_CU烷基,Cl_Cl8全氟烷基,或經e取代及/或經D間斷 的Ci-C18烷氧基,其中 R23,R24 ’ R25以及R26彼此獨立地為Η ; C6-C18芳基; c6-c18芳基烷基;C3_Cl2環烷基;C6_Ci8芳基或C6_Ci8芳基 烷基’其係經Ci-Cls烷基及/或Ci-Cu烷氧基取代;CkCu 炫基;或經_〇_間斷的C2-C18烷基;或 R 以及R26 —起形成5或6員環; R以及R28彼此獨立地為Η ; c6-c18芳基;c6-c】8芳 基烷基;CVCu芳基或CVCu芳基烷基,其係經Ci_Cu烷 54 201000597 基及/或(ν(:Ι8烷氧基取代;Cl_Ci8烷基;C3_Cl2環烷基; 或經-〇-間斷的c2-cl8烷基; R29係為Η ; c6-c18芳基;c6_Ci8芳基烷基;c6_Ci8芳 基或C6_CU芳基烷基’其係經烷基及/或CVci8烷 氧基取代;CrCu烷基;c2-c18烷基羰基;(:3-(:12環烷基; 或經-0-間斷的C2_C!8院基或C2-C18烧基幾基; R以及R彼此獨立地為Ci-Cis烧基,C^-C!2環燒基, C6-C18芳基,或c6_Cl8芳基,其係經Ci_Ci8烷基取代以 及 R32係為(VCu烷基,c6-c18芳基,或c6-c18芳基,其 係經烷基取代, R ’ R’以及R”獨立地為選自C「c12烷基’ Ci-C12鹵烷 基’ C5-C1()芳基,c3-Cl2環烷基,較佳選自烷基,笨 基’環戊基,環己基;以及 Ar係獨立地選自c5_Cl()芳基,或經c丨-Cis烷基取代的 C5'ci〇 芳基; - R1〇6,Rl〇7 , r1〇8,r1〇5’,r106’,Rl〇7’以及 Rl〇8 其中之—者 為下式的基團R10 -(Sp)xi〇-[PG,]< 其中Sp為二價有機間隔基’ PG’係為衍生自可聚合基 團’以及xlO為〇或1; 以及Sp為下式 (X3-Ds)x11-X2 . 55 201000597 其中χ 11係為0或1 ; Χ3 ’ x2獨立地為Ο,Ci-q伸烷基-Ο,S,Ci-C4伸烷基 -S,NR22,伸烷基-NR22,COO,伸烷基-COO 或(3,-(:4 伸霞基-oco,CONR22,Ci-C4 伸烧基-CONR22 或 伸烷基-NR22CO,NR22CONR22,Ci-C4 伸院基 -NH22CONR22,CVC4伸烷基或直接鍵; R22係為η,烷基,C3-C12環烷基,苯基; Ds係為Cl_c24伸烷基,經間斷的C3-C24伸烷基, ^ ^24 伸烯基’ c2-c24伸炔基,c6-c1()伸芳基;以及 PG’係較佳為衍生自乙烯系不飽和基團或應變氧環系 統’特別係選自下式/、 观表示其對SP或式Ϊ部分的鍵結位置且f 同上,而另外2個開放鍵提供整合入共聚合物鏈。 2.根據申請專利範圍第1項的電致發光材料 少、3個、鲂杜=| ^ ζ: ! . ^ 仏至y 5個、特別至少10個重覆結構單_ 1的岣聚物。 再早刀 根據申印專利範圍第丨或2項的電致發光材料 56 201000597 含下式III的聚合物其中 η範圍為2至loooo ; L係為CH2,CO或直接鍵; R9,R1 R R ’係遥自Η,CVCi8烧基,齒素,經 E取代及/或D間斷的Cl_Cl8貌基,%芳基,經G取代 的c6-c2^基,C2_Ci8烯基,C2_Ci8块基kb院氧基, 經E取代及間斷的料基,Μ”芳烧基, 娜T,GeRRT,Ρ0ΑΓ2,…·_ . 每一個殘基R9”係獨立地選自為R9所定義者, Rx係為Η或甲基’且所有其他符號係如巾請專利範圍 第1項所定義。 4.根據申請專利範圍第i至3項中任一項的電致發光材 料,其包含式III聚合物, 其中圍自5至5000,特別是1〇至1〇〇〇 ; X1 〇係為0 ; R9,R9”,R1 1,Rl3 R 14 在,睬 'R係選自Η,Ci-C8烷基,氟,經 57 201000597 E取代的CVC8烷基,經D間斷的C2-C18烷基,笨基,經G 取代的苯基’ C2-C8歸基’ C2-C8快基,Ci-Cg燒氧基,經e 取代的CrCs烷氧基,經D間斷的(:2-(:18烷氧基,c7-C25 苯基烷基,SiRR’R“ ’ GeRR’R“ ’ P〇Ar2,PAr2 或為 _c〇-R28 ; D 係為-CO- ; -COO- ; -S- ; -SO- ; -S02- ; ; -NR25-; -SiR30R31- ; -POR32-;以及 E 係為-OR29 ; -NR25R26 ; -COR28 ; -COOR27 ; -CONR25R26 ; -CN ;或鹵素; G係為E,CVCs烷基,環己基,經D間斷的C2-C18 烷基,CrCs全氟烷基,經E取代的Ci-Cu烷氧基,經D間 斷的C2-C18烷氧基,其中 R25以及R26係彼此獨立地為Η ;苯基;C7-C丨2苯基烷 基;環己基;苯基或C7-C12苯基烷基,其係經C^-Cs烷基或 C!-C8烷氧基取代;CVCu烷基;或經-0-間斷的C2-C18烷 基;或υ ,或 0 , R27以及R28係彼此獨立地為Η ;苯基;c7-c丨2苯基烷 基;苯基或C7-C12苯基烷基,其係經Ci-C8烷基及/或C1-C8 烧氧基取代;CVC8烷基;環己基;或經-ο-間斷的C2_C1S 58 201000597 燒基; R29係為Η ;苯基;C7-C12苯基烷基;苯基或C7_Ci2苯 基烷基,其係經CrCs烷基及/或Ci-C8烷氧基取代;c c 烧基;CrCs烧基幾基;環己基;或C2_Ci8烷基或c < ^ J 〇 烷基羰基,其係經-0-間斷; R30以及R31係彼此獨立地為Ci_C8烷基,苯基,或經 C 1 - C 8烧基·取代的苯基,以及 R32係為Ci-Cs烷基,苯基,或經Ci_C8烷基取代的苯 / 基, R,R’以及R”係獨立地選自Ci_C6烷基,苯基,環戊 基,環己基;以及 Ar係為苯基或經C |-C8烷基取代的苯基。 5 _根據申清專利範圍第1至4項中任一項的電致發光材 料’其包含10至1000個式I或ΠΙ的結構單元的聚合物, ' 其中 xlO係為0 ; v 任一 R9 ’ r9 r9,r1 1 ’ R13 , R14,R11 ’,R13 ’,R14’獨立 地選自Η ’ CVCs烷基,氟,經e取代的C〗-C8烷基,經D 間斷的CVCu烷基,苯基,經G取代的苯基,c2-c8烯基, C2-C8炔基’ Ci-C8烷氧基,經]g取代的Ci-C8烷氧基,經D 間斷的C2-C18烷氧基,c7-c25苯基烷基’ SiRR,R”, GeRR R ,P〇Ar2,PAr2,或為 _c〇_r28 ; D 係為-CO- ; -COO- ; ; _nr25- ; -SiR30R31-;以及 E 係為 _〇R29 ; _NR25R26 ; _c〇r28 ; c〇〇R27 ; 59 201000597 -CONR25R26 ;或氟; G係為E或C i - C 8烧基; R25以及R26彼此獨立地為H ; 烷基;環己基; R27以及R28彼此獨立地為Η ;苯基;苯曱基;經d-Cs 烷基及/或Ci-Cs烷氧基取代的苯基或苯甲基;Ci_Cs烷基; R係為Η ;苯基;苯曱基;經c丨_C8烷基及/或Ci_C8 烷氧基取代的苯基或苯甲基;Cl_C8烷基;乙醯基;環己基; 或經-0-間斷的c2-c12烷基; R30以及R31彼此獨立地為曱基或笨基,以及 R ’ R’以及R”獨立地選自曱基,乙基,苯基;以及 Ar係為笨基。 6 ·根據申請專利範圍第1至5項中任一項的電致發光材 料,其中聚合物中 任一 R9 ’ R9’ ’ R9”,R丨 1,R",R14,Rll,,R13’,R14’ 獨立地選自η ’ Cj-Cs烷基,SiRR,R “。 7.—種電致發光材料,其製備包括式n化合物的均聚 合步驟Ry,R9 , R11,R R",R14,R13’以及 R14’其中之 _ 為 R10’ ’ 其係為基團-(Sp)xl0-[PG], PG為可聚合基團’特別係選自乙烯基,烯丙基,丨_曱 60 201000597 基乙烯基,(^基)丙烯醯基,乙烯基苯基,環氧乙烷基 (〇Xlranyl),縮水甘油基,氧雜環丁烷基(oxetanyl),二甲基 順丁 烯二酿亞胺基(dimethylmaleimidyl); X1 〇係為〇或1 ; 以及所有其他符號係定義如前述申請專利範圍,特別 是申請專利範圍第1項。 8.種t致發光材料’其包含根據申請專利範圍第丄至 7項中任-項的均聚物,選自碟光金屬錯合物及螢光摻雜物 的發光組分,以及視需要的-或多種進-步組A,特別是 選自電子傳輸劑,電洞傳輸劑,惰性聚合物,純改質劑, 起始劑,有機鹽以及$ & 疋剑,例如抗氧化劑及紫外線吸收 劑。 9· 一種有機電子裝詈 一 置特別疋有機發光二極體或發光單 兀’ ”匕S根據申請專利範 發光材料層。 圍第…項中任-項的電子 1〇.根據申請專利範圍 ^ ^ ^ _罘9項的裝置,其係選自選自固 疋式及移動式顯示器, 用於电腦、手機、膝上型雷腦、 個人數位助理、電視機 上i電月b 示板,照明,資訊板中Lr印表機、廚房設備,告 車及公車上者。 ’、、、不益以及目的地告示板例如火 11 ·種式in’均聚合物, 61 201000597 r其中 n範圍自5至10000; 至少R9,R9”,R11,R13,R14殘基中之一者係選自CVCu 烷基,鹵素,經E取代及/或經D間斷的CVCu烷基,C6-C24 芳基,經G取代的C6-C24芳基,C2-C18烯基,C2-C18炔基, CVCu烷氧基,經E取代及/或經D間斷的CVCu烷氧基, C7_C25 芳烷基 ’ SiRR’R“ ’ GeRR,R“ ’ POAr2 ’ PAr2 ’ CO-R28 ; 特別係選自鹵素,C2-C18炔基,Ci-Cu烷氧基, SiRR’R“,GeRR’R“,POAr2,PAr2 ;而其餘的殘基亦可為 氫; D 係為-CO- ; -COO- ; -S- ; -SO- ; -S02- ; -0- ; -NR25-; -SiR3°R31- ; -POR32-;以及 E 係為-OR29 ; -NR25R26 ; -COR28 ; -COOR27 ; -CONR25R26 ; -CN ;或鹵素; G係為E,CkCs烷基,環己基,經D間斷的C2-C18烷 基,CVCs全氟烷基,經E取代的Ci-Cw烷氧基,經D間斷 的C2-C18烷氧基,其中 R25以及R26彼此獨立地為Η ;苯基;C7-C12苯基烷基; 62 201000597 環己基;經CrC8烷基或CrC8烷氧基取代的苯基或c7_c 苯基烷基;CrC!8烷基;或經-0_間斷的C2-Cls貌基;或 R25以及一起形成5或6員環,其係選自 〇R27以及R28彼此獨立地為H;苯基;c7-c12苯基烷基; 經C「C8烷基及/或C〗-C8烷氧基取代的苯基或c7-C12苯基 烷基;(VCs烷基;環己基;或經-〇-間斷的c2-C18烷基; R 係為H’本基,C7-C12苯基炫>基;經Ci_Cs炫1基及 /或烷氧基取代的苯基或c7-c12苯基烷基;CVC8烷 基;C2_C8烷基羰基;環己基;或經-〇-間斷的c2-C18烷基 或c2-c18烷基羰基; R30以及R31彼此獨立地為CVCs烷基,苯基,或經CrCs 烷基取代的苯基,以及 R32係為CrCs烷基,苯基,或經Ci-Cs烷基取代的苯 基, R ’ R’以及R”獨立地選自Cl_C6烷基,苯基,環戊基’ 環己基;以及 Ar係為苯基或經Cl-C8烧基取代的苯基; L係為CH2,CO或直接鍵;RX係為Η或甲基; X1 〇係為0或1以及Sp係為〇,C丨-C4伸烷基-0 ’ CH2-CH〇H-CH2-〇,COO,CONR22,伸炫基’或 63 201000597 CH2CHOHCH2 〇 12.— 檀製備發无裒 #別是有機發光二極體或發光 單凡的方法,該方法包含提供白 供包含根據申請專利範圍苐1 至7項中任一項的聚合化合铷 σ物的有機物質層於基材上的一 對電極之間。 13.-種根據中請專利範圍第η項中任一項的 聚合化合物在電子裝置的用途,其係特別作為有機發光二 極體或發光早元中的宿主材料。 1 4 一種式V化合物,其中 至少R9 ’ R9,R1 1,Rl3 , ri4殘基其中一者係選自鹵素 例如礙 ’ C2-C18 炔基,CVCu 烷氧基,SiRR’R“,GeRR’R“, P〇Ar2,ΡΑΓ2 ;而其餘殘基亦可為氫; R,R’以及R”獨立地選自CrG烷基,苯基,環戊基, 環己基;以及 Ar係為苯基或經Cl.C8烷基取代的苯基; L係為CH2,,CO或直接鍵;rx係為Η或甲基; 64 201000597 xio係為0或1以及Sp係為Ο,C〗-C4伸烷基-Ο, CH2-CHOH-CH2-0,COO,CONR22,Ci-C^ 伸烷基,或 CH2CHOHCH2。 八、圖式· (無) 65
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