JP5972902B2 - 硬化性組成物、硬化物及びそれを用いた有機電界発光素子 - Google Patents
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Description
式(3)、(4)中、Y1、W1、Z1は一般式(1)と同意であり、R1は一般式(1)のRと同意である。
インドロカルバゾール骨格は、インドール環とカルバゾール環が縮合した5環の縮合環化合物からN位のHを1つとって生じるものである。この骨格は、インドール環とカルバゾール環との縮合可能な位置が複数存在するため、下記式(A)〜(F)の6種類の構造異性体の基をとり得るが、いずれの構造異性体であってもよい。インドロカルバゾール骨格は、本発明の効果を阻害しない範囲で、置換基を有することができる。
ここで、V1はC6〜C30の2価のアリール基、C3〜C30の2価のヘテロアリール基、C6〜C30の2価のアリールアミノ基(>NAr:ここで、Arはアリール基)又はC3〜C30の2価のヘテロアリールアミノ基を表し、Y2は単結合、又は2価の架橋基を表し、V1、Y2が2つ以上含まれる場合は同一であっても異なっていてもよい。W2は重合性基であり、2つのW2は同一であっても異なっていてもよい。rは1〜6、好ましくは1〜4の整数を表す。なお、V1、Y2は5環以上の縮合環構造を有しないこと好ましい。また、V1は、C6〜C30のアリール基、C3〜C30のヘテロアリール基、C6〜C30のアリールアミノ基又はC3〜C30のヘテロアリールアミノ基を置換基として有してもよく、C6〜C30のアリール基、C3〜C30のヘテロアリール基は連結した構造であってもよい。Y2が2価の架橋基である場合、2価の架橋基は、W2とV1、又はrが2の場合は2つのV1を結合させる基であり、V1と同じ基を有しないものであればよく、好ましくは内部に2価のアリール基、C3〜C30の2価のヘテロアリール基、C6〜C30の2価のアリールアミノ基又はC3〜C30の2価のヘテロアリールアミノ基を有しない基である。Y2の例としては、単結合、アルキレン基、O、COO、S、CONH、CO等又はこれらの組み合わせ等があり、単結合、又はアルキレン基、COO基、又はこれらの組み合わせが好ましい。
V1が2価のアリール基、2価のヘテロアリール基の場合、前記一般式(1)のRで説明したアリール基、ヘテロアリール基で例示した芳香環又はこれら芳香環が複数連結された芳香族化合物から2つの水素を除いて生じる基が挙げられる。
V1がアリールアミノ基、ヘテロアリールアミノ基の場合、アリール基またはヘテロアリール基は、前記一般式(1)のRで説明したアリール基、ヘテロアリール基と同様である。
但し、V1は、5環以上の縮合環構造を有しないことが好ましい。
本発明の硬化性組成物及び硬化物を用いた有機電界発光素子は、一対の陽極と陰極の間に複数の有機層を持ち、特に正孔輸送層/発光層兼電子輸送層、正孔輸送層兼発光層/電子輸送層、または正孔輸送層/発光層/電子輸送層からなることが好ましい。特に好ましくは、正孔輸送層/発光層/電子輸送層の層構造である。また、本発明の有機電界発光素子は、また各有機層を形成した後、それぞれに保護層を設けることもできる。更に、素子全体を水分や酸素から保護するために保護膜を設けてもよい。
発光層における発光材料は、蛍光発光材料としては各種文献で公知の化合物や以下に示すような化合物が使用可能であるが、これに限らない。
化合物(C−2)の合成
化合物(A−1)を用意し、下記スキーム(S1)に従い化合物(C−2)を合成する。
1H−NMR(400MHz、CDCl3):δ(ppm);8.141(1H、d、8Hz)、8.121(1H、br d、8Hz)、8.066(1H、br d、8Hz)、7.655(2H、m)、7.588(2H、d、8Hz)、7.542(1H、t、8Hz)、7.449(4H、m)、7.24−7.37(6H、m)、7.072(1H、ddd、2、7、8Hz)、6.729(1H、dd、11、18Hz)、6.136(2H、s)、5.754(1H、dd、1、18Hz)、5.250(1H、dd、1、11Hz)
FD−MSスペクトル:448(M+、base)
溶媒洗浄、UVオゾン処理した膜厚150nmからなるITO付ガラス基板に、正孔注入層としてポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)/ポリスチレンスルホン酸(PEDOT/PSS):(エイチ・シー・シュタルク株式会社製、商品名:クレビオスPCH8000)を膜厚25nmで製膜した。次に、化合物(C-2)とBBPPA(化合物9:ビス(4-ビニルフェニル)フェニルアミン)を使用し、化合物(C-2):BBPPA=5:5(モル比)の比率で混合した混合物をテトラヒドロフランに溶解して0.4wt%溶液に調製し、スピンコート法により正孔輸送層として20nmを製膜した。
これを嫌気条件下150℃、3時間ホットプレートで溶媒除去し、加熱、硬化を行った。次に、真空蒸着装置を用いて、発光層ドーパントとしてトリス(2−(p−トリル)ピリジン)イリジウム(III)を、発光層ホストとして4,4’−ビス(9H−カルバゾル−9−イル)ビフェニルを用い、ドーパント濃度が0.6wt%となるように共蒸着し、40nm発光層を製膜した。その後、真空蒸着装置を用いて、Alq3を35nm、陰極としてLiF/Alを膜厚170nmで製膜し、この素子をグローブボックス内で封止することにより有機電界発光素子を作製した。
溶媒洗浄、UVオゾン処理した膜厚150nmからなるITO付ガラス基板に、正孔注入層としてポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)/ポリスチレンスルホン酸(PEDOT/PSS):(エイチ・シー・シュタルク株式会社製、商品名:クレビオスPCH8000)を膜厚25nmで製膜した。次に、化合物(C-2):BBPPA=5:5(モル比)の比率で混合した混合物をテトラヒドロフランに溶解して0.4wt%溶液に調製し、スピンコート法により正孔輸送層として20nmを製膜した。次に、嫌気条件下150℃、1時間ホットプレートで溶媒除去し、加熱、硬化を行った。この熱硬化膜は、架橋構造を有している膜であり、溶剤に不溶である。この熱硬化膜は、正孔輸送層(HTL)である。そして発光層ドーパントとしてトリス(2−(p−トリル)ピリジン)イリジウム(III)を、発光層ホストとして4,4’−ビス(9H−カルバゾル−9−イル)ビフェニルを用い、ドーパント濃度が0.6wt%となるようにトルエンに溶解させ、1wt%溶液調製し、スピンコート法により発光層として40nmを製膜した。
その後、真空蒸着装置を用いて、Alq3を35nm、陰極としてLiF/Alを膜厚170nmで製膜し、この素子をグローブボックス内で封止することにより有機電界発光素子を作製した。素子評価は、実施例1と同様に行った。尚、発光層をスピンコート製膜した後に、硬化膜が溶解せず、発光層と積層できていることを高速分光エリプソメーター(ジェー・エー・ウーラム・ジャパン社製M2000)を用いて確認している。
実施例2において、化合物(C-2)に代えて下記化合物(A-3)を使用し、BBPPAに代えてBOPC(化合物7)を使用した以外は、実施例2と同様にして素子を作製、評価した。なお、化合物(A-3)は合成例1に示す手法に準じて合成した。
実施例1において、化合物(C-2):BBPPA=5:5(モル比)の比率で混合した混合物を使用しなかった以外は、実施例1と同様にして素子を作製、評価した。
実施例2において、化合物(C-2):BBPPA=5:5(モル比)の比率で混合した混合物に代えて下記化合物(B1)を用い正孔輸送層を作成し、硬化に交流電源方式の紫外線照射装置を用いて紫外線を90秒間照射し、光重合して硬化を行った以外は実施例2と同様にして素子を作製、評価した。
実施例2において、化合物(C-2):BBPPA=5:5(モル比)の比率で混合した混合物を使用しなかった以外は、実施例2と同様にして素子を作製、評価した。
実施例2において、化合物(C-2):BBPPA=5:5(モル比)の比率で混合した混合物に代えて低分子正孔輸送材料であるNPD(N,N'-di-naphthaleyl-N,N'-diphenyl-1,1'- biphenyl-4,4'-diamine )を使用した以外は、実施例2と同様にして素子を作製、評価した。
Claims (8)
- 一般式(1)で表される化合物と一般式(2)で表される化合物を含有する硬化性組成物であって、一般式(1)で表される化合物と一般式(2)で表される化合物の合計モル数に対し、一般式(2)で表される化合物を70〜10モル%を含有することを特徴とする有機電界発光素子用の硬化性組成物。
一般式(2)中、Y3は単結合、又は2価の基を表し、W2はビニル基、炭素数1〜6のアルキル基で置換された置換ビニル基、エポキシ基及びオキセタニル基からなる群れから選択される重合性基であり、2つのW2は同一であっても異なっていてもよい。 - 一般式(2)のY3が、C6〜C18の2価のアリール基、C3〜C18の2価のヘテロアリール基、C6〜C18の2価のアリールアミノ基又はC3〜C18の2価のヘテロアリールアミノ基を内部に有することを特徴とする請求項1又は2に記載の有機電界発光素子用の硬化性組成物。
- 一般式(1)のY 1 が単結合、又はC 1 〜C 8 のアルキレン基、C 6 〜C 12 のアリーレン基、C 3 〜C 12 のヘテロアリーレン基、CO、COO及びOからなる群れから選択される2価の基であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の有機電界発光素子用の硬化性組成物。
- W1、及びW2が、ビニル基及び置換ビニル基から選ばれるビニル基類であり、一般式(1)で表される化合物がビニル基類を1つ有し、一般式(2)で表される化合物がビニル基類を2つ有する請求項1〜4のいずれかに記載の有機電界発光素子用の硬化性組成物。
- 請求項1〜5のいずれかに記載の硬化性組成物を硬化させてなる有機電界発光素子用の硬化物。
- 基板上に積層された陽極層及び陰極層の間に有機層を有する有機電界発光素子であって、該有機層の少なくとも一層に請求項6に記載の硬化物を含有することを特徴とする有機電界発光素子。
- 硬化物を含有する有機層が正孔輸送層であることを特徴とする請求項7に記載の有機電界発光素子。
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