TW200948405A

TW200948405A - Sterilizer and sterilization method

Info

Publication number: TW200948405A
Application number: TW098109882A
Authority: TW
Inventors: Kiyotaka Arai; Tomoyuki Hirose; Masaaki Mike; Ryuichi Iwasaki
Original assignee: Noritsu Koki Co Ltd; Amarante Technologies Inc
Priority date: 2008-03-26
Filing date: 2009-03-26
Publication date: 2009-12-01
Also published as: EP2275146A1; JPWO2009119593A1; CA2718989A1; AU2009230003A1; RU2010143593A; KR20100124322A; CN101977637A; EP2275146A4; US20110008207A1; WO2009119593A1

Description

200948405 四、指定代表圖： (一) 本案指定代表圖為：第⑴圖 (二）本代表圖之元件符號簡單說明： 100 滅菌裝置； 101 第1 室； 102 第2 室； 103 滅菌氣體源 J 104 淨化部； 105 控制部； 111- -116 第1〜第 6 配管； P1卜 -P14 第 1 ^ 第 4 泵 ; m、 -V16 第1〜第 6 電磁閥。五、本案若有化學式時’請揭示最能顯示發明特徵的化風、無。、予式( 六、發明說明：【發明所屬之技術領域】本發明係關於對醫療用器具等被處理物進仃减菌處理【先前技術】在對被處理物進行滅菌處理的滅菌裝置中，例如在物領域中的並列的滅菌實驗或將醫療用器具以小抵次進— 2〇14-l〇384-PF；Alicewu 2 .200948405 ' 滅菌處理的情況下，可以準備複數個滅菌室，在各室中分別進行滅菌處理。專利文獻i提出了因應此種需求的習知技術。專利文獻1的減菌裝置，具有複數個滅菌室，對各滅菌室並列地配置吸氣系統配管及排氣系統配管。各滅菌室中，藉由控制適當地配置在這些配管中的調節閘或閥，而月b夠個別地執行滅菌處理。另外其也揭露：藉由滅菌氣體 0 產生裝置使得在滅菌處理中使用的氣體循環再使用。但是，專利文獻1的滅菌裝置，係為適用於生物相關技術的裝置，並未特別考慮實驗週期長，及滅菌處理所需要的時間。 • 專利文獻1 :特公平6-7857號公報【發明内容】本發明的目的為提供能夠縮短滅菌處理需要的時間之 Φ 滅菌裝置及其方法。為達成上述目的，本發明為一種滅菌裝置，其包括：滅菌劑的供應源’·為了進行被處理物的滅菌處理在容納該被處理物的狀態下被該滅菌劑充滿的第i滅菌室及第：滅菌室；連接該供應源與該第j滅菌室及第2滅菌室的第1管路；連接該第i滅菌室及第2滅菌室的第2管路；供應裝置，其透過該第2管路，將在該第1滅菌室中已被使用於滅菌處理的殘留之滅菌舞}，導入第2滅菌室。依據上述構成，在第1減菌室執行滅菌處理之後，其 2014-10384-PF;Ali〇ewu 3 200948405 殘留滅菌劑導入到第2滅菌室，因此，能夠縮短用滅菌劑充滿第2滅菌室的時間。再者’上述滅菌劑的供應源為藉由電漿反應產生滅菌劑者為佳。藉由下述之詳細說明及所附圖式，可更加明瞭本發明之目的、特徵及優點。【實施方式】 [第1實施型態] 第1圖為表不本發明第i實施型態的滅菌裝置i 〇〇的方塊圖。滅菌裝置100係為以如下列之物品為被處理物，將滅菌劑作用其上，施以滅菌處理的裝置：手術刀、鉗子、導管等的醫療用器具，或包裝紙、盤、瓶等的食品包裳材。滅菌裝置100包括：第；[室101(第i滅菌室）、第2 室102(第2滅菌室）、滅菌氣體源1〇3(滅菌劑的供應源) 及淨化部104的各單元、使這些單元互相連接的第！〜第6 配s ill〜116、配置於這些配管的適當位置的第i〜第6 電磁閥VII〜V16及第1〜第D1 . y t 久矛丄弟4泵Pll〜p14、執行滅菌裝置 1 〇〇的電氣控制的控制部1 05。第1室101和第2 t 102實際上為一樣的滅菌室，係為提供容納被處理物的密閉空間之滅菌室，為具有由例如不鏽鋼等所構成之耐壓構造之室。雖然省略了圖示，不過第1至101、第2室102具有用以將被處理物搬入搬出的門，在其内部亦具有用以積載被處理物的處理盤。另外，第1室101、第2室102的内部配置了例如測量滅菌劑壤 2〇14-l〇384-PF;Alicewu .200948405 度之濃度感測器、或檢出室内壓力之壓力感測器等的各種感測元件。滅菌氣體源103’將環氧乙烧（ethyiene 〇xide)氣體、氧化氮氣體或二氧化氮氣體、臭氧氣體等的滅菌氣體供應給第1室101及第2室1〇2。滅菌氣體源103為例如滅菌氣體的供應氣體鋼瓶、或將特定的化學反應處理（例如電漿反應處理）施於原料氣體以產生滅菌氣體的裝置等。淨化部104，係淨化在第1室101及第2室102内的被處理物的滅菌處理後殘留的滅菌氣體或反應生成物。控制部105包含CPU(中央運算處理裝置），依據既定的程式，執行第1第4泵P11〜P14的動作控制，以及第】〜第β 電磁閥VII〜V16的開關控制。

滅菌氣體源103和第1室101，係藉由第1配管111(第 1管路之-部份)連接，而在第】配管U1中配置第i泵 P11(導入裝置）及第i電磁閥vu。在第i果P11和第i電磁閥VII之間，從第i配管U1分岔出第2配管m(第丄 &路之-部份)。在第2配管112中配置了帛2電磁閥m 第2室102則透過該笛9 35?其· 11。忑第2配f 112及第1配f ill的上游側部分，和滅菌氣體源丨〇3連接。 Μ 1至101和第2室1〇2之間’設有供應裝置，其將*邊的至内執订滅菌處理之後所殘留的滅菌氣體(殘留滅菌劑），導入到另—硌沾^ 邊的至内。在第i實施型態中，此供應裝置包括：連接第]$ 至101和第2室102的第3配管113 及第4配管ιΐ4(第2管路） b路’配置於第3配管113的第2 2014-10384-PF;Alicewu 5 200948405 泵P12及第3電场間网V13、以及配置於第4配管114的第3 泵P13及第4電磉閩νι4。第2泵P12為毛透過第3配管113,使得第1室1〇1 中的氣體產生朝向坌0 2室10 2的氣體流之泵。相反地，第 3泵P13為，透過笛< 4配管114,使得第2室1〇2中的氣體產生朝向第1室Μ# 丄的軋體流之泵。另外，在利用第1室 101 和第 2 室 1〇2>bb ^間的壓力差而使氣體移動的情況下，也可以省略上述篦9 ; ^ 1弟2泵Ρ12及第3泵Ρ13。從 H 1 ^ 1 π 1 31 弓丨出排氣用的第5配管115。第5配管 115中&上游側開始依序配置第5電磁閥VI5 '上述的淨化部1〇4及排氣用的第4泵Ρ14。另外，也從第2室102 引出排氣用的第6两？；ms n 於卜 J0配官116。第e配管ιΐβ中配置第6泵 P16 ’在其下游端的第5電磁閥vi5和淨化部1〇4之間，與第5配管115合流。 / 依據第2圖所示流程圖，說明如上述構成之滅菌裝置 100的動作。首先，在被處理物置放於第1室及第2 至102的狀態下，使第】室1〇1及第2室減壓（步驟 S1)。此時，控制部1〇5使第5電磁閥n5及第6電磁閥 V16打開，使其他電磁閥關閉，並使第3泵pi3動作而將第1室101及第2室102吸成真空。藉此，使得室内的被處理物成為乾燥狀態。另外，此吸為真空的步驟，也可以依據被處理物的種類而省略。繼之，控制部105打開第1電磁閥vii，使其他的電磁閥—律關閉’並使第i栗P11動作。藉此，使滅菌氣體 2014-10384-PF;Alicewu 6 200948405 從減菌氣體源1〇3導入第^101t (步驟S2)。減菌氣體 -直持續供應直到第i室101中為大氣壓力。繼之，控制部105將第i電磁閥V11關閉，使得在滅菌所需之—定時間内保持其狀態（步驟S3)。、繼之，執行將在該第！室101中已被用於滅菌的殘留之滅菌液體導人第2室1G2的步驟（步驟S4)e為了執行此步驟’控制部105僅打開第3電磁閥m，並使第Mm ❿ 動作。藉此lUUH和第2室1〇2的麼力差互相接近， -次將殘留滅菌氣體導入第2室1〇2巾。此狀態—直持續到第1室1G1和第2室1G2M力平衡為止。藉由上述操作，在短時間内將必須量之50%左右的減菌氣體導入第之室ι〇2 中。繼之’控制部105打開第2電磁閥m，將其他的電 =律Γ，並使第1泵pn動作。藉此，將滅菌氣體從滅滅氣體源103導入第2t 1〇2中（步驟％)。此時，因為已經在先前的步驟S4中將⑽左右的滅菌氣體導入第2 室1〇2,所以，能夠縮短氣體導入時間。再者，在步驟以中’在壓力平衡後也可以使第2 i pi2繼續動作將的滅菌氣體送人第2室丨心。在此情況下，能夠更進一步縮短步驟S5中的氣體導入時間。中二Γ同時執行第1室1〇1的排氣，以及第2室⑽ ==物的滅菌處理(步驟S6)。此時控制部_至少閥V12、第3電磁閥V13、第4電磁閥π 電磁閥V16關閉，於滅菌所需之-定時間内將第2室102 2014-l〇384-PF;Alicewu n 200948405 維持在密閉狀態。另一方面’打開第5電磁閥Μ使第4 泵P14,在淨化部104將殘留在第i冑m内的滅菌氣體無害化之後將其排出。繼之，從第i t 1〇1中取出滅菌完畢的被處理物。繼之，確認是否設定要在第^⑻中再次執行滅菌處步驟S7)。在預定要再次執行的情況下(在步驟S7中「疋」），執行將第2室1〇2的殘留滅菌氣體導入第】室 101 中的步驟（步驟 S8)。口 -ΤΓ ；在此情況下，操作者將新的被處理物放置在第1室101 t，對該第1室101先執行如同步驟si的減壓處理。在步驟S8中，控制部m僅打開第4電磁閥並使第3泵P13動作。藉此，第2室1〇2的殘留滅菌氣體被導入第1室ιοί中’此導入動作為上述步驟s4的相反動作，藉此’在短時間内將必須量之5G%左右的滅菌氣體導入第丄室101中。繼之，控制部m打開第i電磁閥vu，將其他的電磁閥一律關閉’並使第1栗Pii動作。“，將滅菌氣體從滅菌氣體源103導入第1室m巾（步驟S9)。此時，因為已經在先前的步驟S8中將㈣左右的滅菌氣體導入第！至101，所以，能夠縮短氣體導入時間。繼之同時執行第2室102的排氣，以及第1室101 中的被處理物的滅菌處理（步驟S10)。此時控制部105至少將第1電磁閥VU、第3電磁閥V13、第4電磁閥V14 ' 第5電磁閥VI5關閉’於減菌所需之一定時間内將第^室 2014-10384-PF;Alicewu 8 200948405 101維持在密閉狀態。另—方面，打開第6電磁閥⑴使第4泵P14,在淨化部104將殘留在第2t 1〇2内的滅菌氣體無害化之後將其排出。繼之，從第2 $⑽中取出減菌完畢的被處理物。

、之’確認是否設定要在第2室1()2中再次執行滅菌處理#即’確認是否預定要繼續被處理物的滅菌處理（步 )在預疋要再次執行的情況下（在步驟sii中 =是」），回到步驟S4重複執行處理。另一方面，在未預定要再次執行的情況下（在步驟S11中「否」），#第i室 101中滅菌結束時，控制部1G5打開第5電磁閥V15並使第4果P14動作，使第i室m排氣（步驟si2)，結束處在步驟S7中未預^要在第1室1G1中再次執行滅菌處理的情況亦同(在步驟S7中「否」），在此情況下，控制部 105打開第6電磁閥V16並使第4泵pi4動作，使第2室 102排氣（步驟S13)，結束處理。藉由上述說明之第1實施型態的滅菌裝置100,在第i 至〇1矛第2至102之間，交換滅菌處理後的殘留滅菌氣體因此，旎夠縮短滅菌氣體導入各滅菌室的時間，而能夠提高滅菌處理的作業效率。 [第2實施型態] 第3圖為表示本發明第2實施型態的滅菌裝置2 00的方塊圖。滅菌裝置200係為以醫療用器具或食品包裝材為被處理物’將作為滅菌劑的二氧化氮（NG2)氣體作用其上，施以滅菌處理的裝置。在此，以使用電漿反應來產生二氧 2〇14-l〇384-PF;Alicewi 9 200948405 化氮氣體為例。滅菌裝置200包括：第1室201(第1滅菌室）、第2 室 202(第 2 滅菌至）電漿·噴嘴203(滅菌劑的供應源/滅菌劑產生部)、觸媒部204及淨化部205的各單元、使這些單 _相連接的第1〜第9配管211〜219、配置於這些配管的U位置的第！〜第9電磁閥〜^(第^電磁闊川及第4電磁閥V24為第1隔絕裝置、帛2電磁閥V21及第 5電磁閥V24為第2隔絕裝置、帛3電磁閥V23為第3隔、邑裝置）及第1〜第3栗P21〜p23(第為循環裝置）、執行滅菌裝置200的電氣控制的控制冑205、及電漿引擎 300 〇第1室201和第2室2〇2實際上為__樣的滅菌室係為提供容納被處理物的密閉空間之滅菌室，為具有由例如不鏽鋼等所構成之耐壓構造之室。耗省略了圖示，不過第1至101第2至1〇2具有用以將被處理物搬入搬出的門，在其内部亦具有用以積載被處理物的處理盤。另外，第1室m、第2室1。2的内部配置了例如測量滅菌劑濃度之濃度感測器、或檢出室内壓力之壓力感測器等的各種感測元件。電漿喷嘴203提供用以產生電漿（電離氣體）的電場集中部。電漿喷嘴203具有電漿產生空間，在大氣壓下將通過此空間的包含氮和氧的原料氣體（在本實施型態令為空氣）電漿化，產生氮氧化物（N〇x)氣體。亦即，通過上述電漿產生空間的空氣，藉由通過電漿喷嘴31的該電場集中部 2014-10384-PF;Alicewu 10 200948405 而電離’轉換為包含N〇2氣體或NO氣體的N〇x氣體。在本實施型態中’為了產生此種電漿，而使用了微波能量。從電漿引擎300供應該微波能量給電漿喷嘴2〇3。依據第4 及5圖’詳細敘述電漿引擎3〇〇及電漿噴嘴2〇3如後。

觸媒部204係為，電漿喷嘴203所產生的n〇x氣體中，將除了 NO,氣體以外的Ν〇χ氣體轉換為N〇2氣體的觸媒。淨化部m係淨化在第丄t 2Q1及第2室2G2内的被處理物的滅菌處理後殘留的滅菌氣體或反應生成物。控制部2〇6 包含CPU(中央運算處理裝置），依據既定的程式，執行第工〜第3泵P21〜P23的動作控制，以及第i〜第9電磁閥V21 〜V 2 9的開關控制。電聚喷嘴203、第1室如及第2室202,係藉由構成使氣體循環的循環路徑之第〗〜第5配管211〜連通。 «喷嘴203和第i室201的入口側係以第i配管21 “第 g路之邻伤)連接，而在第i配管211中配置第1電磁闕似。在第UP21的配置位置上游側，從帛i配管⑴ 分岔出第2配管212(第i管路之—部份）。在第2配管⑴ :配置了第2電磁閥V22。透過該第2配管212、及第“己官211的上游部分，传第2宮· 的入口側和電漿喷嘴2 0 3 連接β 第1室201和第2室202 連通。該第3配管213被使用滅菌處理之後所殘留的Ν〇2氣一邊的室内的供應路徑。在第和第3配管213(第2管路）作為將一邊的滅菌室内執行體（殘留滅菌劑），導入到另 3配管213中配置第3電磁 11 2014-10384-PF;Ali〇ewu 200948405 閥 V23 〇第1室201的出口側和電漿噴嘴2〇3係以第4配管連接。該第4配管214巾，從上游側開始依序配置第4電磁閥V24、上述的觸媒部2〇4及第丄泵p2i(供應裝置的〜部伤）。第2至202的出口側和配這了第5電磁闕m的第 5配s 215的上游端連接，在第4電磁閥v24和觸媒部叫之間，該第5配管21 5山，的下游端和第4配管214合流。另外第1栗Ρ21係為，產生通過第丄〜第5配管，並以電漿喷嘴2〇3為上游侧，以第1 t 201及第2室202為下游側之氣體流的泵。第1室201及第2室209由至202中’設有吸氣系統和排氣系統。吸氣系統為，設置用以腺似达β 1用以將做為原料氣體之乾燥空氣入第1室201及第2室，士从 02或使得已減壓的第1室2〇1 及第2至202恢復到大氣壓的系们糸統。排氣系統為，用以傕第1室201及第2室202内诘懕/私说 /壓/乾燥，或將殘留在第1官 201及第2室2〇2中的滅菌氣至體…、害化並排出的系統。吸氣系統包含第6配營 P22〇^6,,21e,^s；；'f7^2- 過第6電磁閥V26與第！室2〇 2 I P22 ’另-端則透 V27的第7配管217在較第6 。配置了第7電磁閥 -21β…… 磁閥V26上游側從第6配刀岔出去，其下游端和第2室202連吸氣系統導入外部氣體的情況下，= 另卜，在設置將水分從空氣中除去在該吸氣系統的適當處太的空軋乾燥器較佳。排氣系統包含.1 8配管21 弟9配管219、淨化部 2014-10384-PF；AIicewu 12 200948405 205及第3栗P23。第8配管218的上游端和第1 a 至2 01連接，下游端則配置第3泵P23，在其中間則配置 i罘8電磁閥V28和淨化部205。另外，第9配管219的上游端和第2 室202連接，其中間具有第9電磁閥^29,其下游端在第8 電磁閥V28和淨化部205之間和第8配管218合流。繼之’針對電漿引擎300及電漿噴嘴203進行說明。第4圖為概略顯示電漿引擎300之構成的方塊圖。電聚引 Φ 擎3〇〇係為產生微波能量，並將其供應給電漿噴嘴2〇3的裝置’其包含：產生微波的微波產生裝置3〇1、以及傳送該微波的導波管302。該導波管302上裝設電漿噴嘴2〇3。而且，在微波產生裝置301和導波管3〇2之間具有：分離器303、耦合器304及調整器305。 • 微波產生裝置3〇1包含：產生如2.45GHz之微波的磁控管等的微波產生源、以及將該微波產生源所產生的微波的強度調整為特定的輸出強度的增幅器。在本實施型態 ❹ + ’可適用能夠輸出例如lw〜3kW的微波能量的連續可變型的微波產生裝置301。導波管302係由銘等磁性金屬構成，呈現斷面為矩形的長尺管狀，將微波產生裝置3〇1所產生的微波在其長邊方向傳送。滑套307藉由凸緣部3〇6而裝設在導波管的遠端側。滑套307係為用以變化微波的反射位置以調整駐波型態的元件。分離器303係為，抑制從導波管302的反射微波入射向微波產生裝置301的機器，其包含循環器3〇8和假負載 2014-10384-PF;Alicewu 13 200948405 309。循環器308’使得微波產生裝置3〇1產生的微波朝向導波管302,同時使反射微波朝向假負载3〇9。假負載3〇9，吸收反射微波並轉換為熱。耦合器3〇4測量微波能量的強度。調整器305係為，包含可以突出到導波管3〇2的突出物用以執行使反射微波為最小的調整，亦即，使電漿噴嘴203的微波能量消耗為最大的調整之機器。耦合器係用於此調整時。第5圖為已裝設導波管3〇2狀態的電漿噴嘴2〇3的斷面圖。電漿喷嘴203具有：中心導體311(第i導體）、外部導體312(第2導體）、隔離物313及保護管314。中心導體311係由良導電性之金屬的棒狀元件構成，其上端部311B之侧有特定長度突出到導波管3〇2的内部。該突出的上端部311B，具有接收在導波管3〇2中傳送之微波的天線部的功能。外部導體312係由良導電性的金屬構成，為具有收納中〜導體311的筒狀空間312H(電漿產生空間）之筒狀體。中心導體311係配置於該筒狀空間312H的中心軸上。外部導體312嵌入一體地裝設於導波管3〇2的下面板之圓筒型的金屬凸緣板321，藉由螺絲322而固定在導波管3〇2上。導波管302為接地電位的結果為，外部導體31 2也是接地電位。另外，外部導體312，具有氣體供應孔312N，從其外周壁貫通到筒狀空間312H。第4配管214的下游側連接到該氣體供應孔312N。另一方面，筒狀空間312H的下端部 2014-10384-PF;A1icewu 14 200948405 . 和第1配管211的上游端連接。藉此，進入第1室2〇ι和第2至202的空氣，能夠經過筒狀空間312H内。隔離物313固持中心導體31卜並且封住導波管3〇2 内的空間和筒狀空間312H之間。隔離物313可以用例如聚四氟乙烯（polytetraf luoroethylene)等的耐熱性樹脂材料或陶瓷等構成的絕緣性元件。外部導體312的筒狀空間 312H的上端部份設有階部，由該階部支撐隔離物313。由 φ 隔離物313固持之中心導體3u，處於和外部導體312絕緣的狀態。保護管314’由特定長度的石英玻璃管等構成，並嵌入筒狀空間312H的下端部份，以防止外部導體312的下端緣312T中異常放電（arcing)。依據如上述構成之電漿喷嘴203，當中心導體311接收到導波管302傳遞的微波時，和接地電位的外部導體之間產生電位差。尤其是，在中心導體311的下端部Μ Η 和外部導體312的下端緣312Τ的附近形成電場集中部。在 β 此狀態下，從氣體供應孔312Ν供應包含氧分子和氮分子的氣體（空氣）至筒狀空間312Η，將氣體激發而在中心導體 311的下端部311Τ附近產生電漿（電離氣體）。該電漿包含 ΝΟχ和自由基。而且，該電漿之電子溫度為數萬度，但為氣體溫度和外界溫度相近之反應性電漿（相較於中性分子表現的氣體溫度，電子表現的電子溫度非常高的狀態之電楽·），其為在常壓下產生的電漿。兹說明如上述構成之第2實施型態的滅菌裝置2〇〇之動作。第6圖顯示減菌裝置200之動作的流程圖，第7圖 15 2014-10384-PF;Alicewu 200948405 為表示電磁閥V21〜V29及泵P21〜P23之控制狀態的示意圖。滅菌裝置200的動作模式（程序）大致上分為下列5種= (1) 氣體產生程序：將導入第i室201及第2室2〇2的空氣，或者空氣和殘留滅菌氣體的混和氣體，經過電漿噴嘴203使其循環，產生特定濃度的N〇2氣體（滅菌氣體 (2) 維持程序：將充滿特定濃度的N〇2氣體的第【室或第2室202密閉，在滅菌所需的特定時間内將其保持在此狀態，使被處理物和N〇2氣體反應執行滅菌處理。 (3) 殘留滅菌氣體的移動或接收程序：，在第1室go】和第2室202連通的狀態下，使氣體循環，以將一邊的滅菌室中執行滅菌處理之後所殘留的N〇2氣體導入另一邊的滅菌室中。 (4) 排氣程序：將殘留滅菌氣體的移動已結束的一邊的滅菌室中所殘存的氣體無害化之後將其排出。此時，滅菌室中為真空狀態。 (5) 恢復程序：將空氣導入在排氣程序中成為真空狀態的滅菌室中，使其為大氣壓。在此導入的空氣，係作為下一次的氣體產生程序中的原料氣體。第6圖的流程圖中所記載的各滅菌室的程序名稱和第7圖所記載的程序名稱有對應關係，第7圖中，以打圈和打又來表示各程序中哪一個電磁閥V21〜V29被打開或被關閉，以及哪一個泵P21〜P23在動作或停止。因此，以下於文字說明中，省略關於各程序中電磁閥的開關狀態及泵的動作狀態的說明。 2014-10384-PF;Alicewu 16 200948405 在第6圖中，第1室201，於時刻ΤΙ〜T2之間，為能夠開關門（圖省略）的.自由時間。利用此期間，使用者將滅菌前的被處理物安放在滅菌室内，或將滅菌後的被處理物從滅菌室中取出。在時刻Τ2,第1室201内有大氣壓的空氣。在時刻Τ2, 控制部206如第7圖所示般控制電磁閥V21〜V29及泵Ρ21 〜Ρ23，並且使電漿引擎動作，以使得在滅菌裝置2〇〇中執 % 行上述氣體產生程序。藉此，形成由電漿喷嘴203(筒狀空間312Η)、第1配管21卜第1室201及第4配管214構成之環狀的密閉空間，並使該密閉空間内的空氣循環。藉由使空氣反覆通過被賦予微波能量且處於動作狀離 * 的電漿噴嘴2〇3的筒狀空間312Η，將空氣電漿化並轉換為 - Ν〇χ氣體’此ΝΟχ氣體在觸媒部204被轉換為Ν〇2氣體。藉由繼續使空氣循環，使得上述密閉空間中的Ν〇ζ的濃度緩緩上升。當於時刻Τ3確認滅菌所需的特定濃度的Ν〇2氣體滞留在第1室201，控制部206執行上述維持程序。藉此，在密閉的第1室201中，NO,氣體和被處理物接觸。該維持程序’-直繼續到經過充分將被處理物滅菌所需的時間的時刻Τ4。關於第2室202’直到該時刻Τ4之前都是自由期間，利用此期間，使用者將滅菌前的被處理物安放在第2室内。在時刻Τ4,控制部206,使殘留滅菌氣體從第丨室移到第2室2〇2,執行上述殘留滅菌氣體的移動或接收程 2014-l〇384-PF;Alicewu 17 200948405 序在第7圖中，第丄室2〇1的「殘留氣體移動（接收）」和第2至202的「殘留氣體接收（移動）」為同一的動作模式。藉此，形成由第i配管211、第（室2〇1、第3配管 213、第2室202、第5配管215、第4配管214、及電聚噴嘴203構成的密閉空間，使得第丨冑2()1中的n〇2氣體在該密閉空間内循環。該循環繼續到某一程度時，第i室 1矛第2至202的n〇2濃度相等，其結果為第2室2〇2内空氣的一部份被置換為N〇2氣體的狀態（時刻τ5)。在時刻Τ5’控制部206,使上述排氣程序對第丨室2〇1 執行’使上述氣體產生程序對第2室2G2執行。藉此’殘留在第1室201的氣體，透過第8配管218排氣。另一方面，形成由電漿噴嘴203、第2配管2U、第2配管212、第=至2G2、第5配管215、第4配管214構成的環狀的密閉空間’並使空氣和肋2氣體的混和氣體在該循環。 *在“循衣狀態中使電漿噴嘴2°3動作，則使得在該密二空間中的肌濃度緩緩上升。繼之，在時„，使滅菌的特定濃度的N〇2氣體滯留在第2室2〇2。在此，因為時:至202中的空氣的-部份已經置換為N〇2氣體，所以時刻T 5〜τ 6的時間可w t h。庠第至201中最初的氣體產生程序中的時刻T2〜T3銪作夕 & , r 、夕戔留氣體的移動/接收的期間 (時刻T4〜T5)實際上只要短得在第2室202中減菌氣Π元成，所以’能夠使 .± 軋體的產生所需的時間大幅縮短。在控制部2〇6，對第m〇i執行上述恢復 2〇l4-l〇384-PF;Alicewu 18 200948405 程序，對第2室2〇2執行上第6配管持料。藉此，將空氣從 =; 到第1室201内，在時刻…二: 的狀態下回到大氣壓。之後，已無害化用此期間，使用者可 201為自由期間。利理物，* a班 1取出滅菌完畢的被虚理物，並安置新的被處理物。辛旳破處被處理物的減菌處理古在第2室202中，的滅园處理一直進行到時刻T8為止。在時刻T8，控制部2〇6執行氣體得殘留的肋2氣體從第2室2〇2 =序，使成由第α管m配管212、第/室m，形 213、第1宕9πι ^ , 至第3配管、第4配管214、及電漿喷嘴2 密閉空間’使得第2室2。2中的 3構成的诚塔—v ϋ乳體在該岔閉空間内循環。該循環繼績到某一程度時，第内的她濃度相ρ 9η 1)1 ^ 2η〇2 寻—果為第1室201内空氣的置換為Ν〇2氣體的狀態（時刻Τ9)。在時刻T9,控制部206，使上述排氣程序對第2室邮執行’使上述氣體產生程序對第lt2〇1執行。藉此，殘留在第2t 202的氣體，透過第9配管219排氣。另一方面’針對第1 f 2(Π，藉由和時刻T2〜T3同樣的動作，使得N〇2氣體的濃度緩緩上升。如同上述，因為已藉由先前的氣體移動’將第i室2()1中的空氣的—部份置換為眺氣體，所以能夠縮短在第丨室201中產生滅菌氣體所需要的時間。於第1室201内的N〇2氣體濃度到達既定值的時刻 T10，控制部206，對第1室201執行上述維持裎序，對第 2〇14-l〇384-PF;Alicewu !〇 200948405 2室202執行上述恢復簇庠第7西己其川收 ❹第6配管216及第7配官217將空氣導入到第2室_内，在時刻T11於已，，，、害化的狀態下回到大氣壓。之後，第2室202為自由期間。利用此期間，使用者畢的被處理物，並安置新的被處理物。另一方面在第^ 室：中，第2回的被處理物的滅菌處理一直進行到時刻 T12為止。在時刻Tl2之後 j 的同樣處理。 j反覆執仃上料刻T4之後 —依據上述說明的第2實施型態的減菌裝置_，在第i 至2〇1及第2室202之間，交換滅菌處理後的抓氣體，能夠縮Μ恥2氣體產生程序的時間，而能夠提高滅菌處理的作業效率。 [第3實施型態] 第8圖為表示本發明第3實施型態的滅菌裝置300的方塊圖。滅菌裝置3°°包括：第1〜第4滅菌室卜4、電㈣㈣$_的供應源壓縮機6、吸氣管路7、排氣管路8、循環管路9(兼為第（管路及第2管路)及電漿引擎 10 〇滅菌農置300係'為，在被處理物安置於各滅菌室卜4 的狀態下’將電襞喷嘴5產生的滅菌氣體(藉由電漿反應的產物’包含氧自由基、臭氧、肌等的氣體）充滿各滅菌室 1〜4’各減菌室卜4同時或連續地執行上述被處理物之滅菌處理的裝置。第1第4滅菌室1〜4係為，和上述第1、第2實施 2014-l〇384-PF；Alicewu 20 200948405 型態中例示的滅菌室201、102相同的可以收納被處理物之至。在此係以4個滅菌室為例，但也可以為具備更多個滅菌室的構成。電漿噴嘴5在大氣壓下將原料氣體電漿化，產生滅菌氣體。該電漿喷嘴5具有相同於第2實施型態所例示的電漿喷嘴203的構造，從t漿引擎1〇€得能量以產生電浆。

壓縮機6係配置為將空氣送入滅菌室丨〜4，以執行其内部的乾燥及排氣。〃吸氣管路7及排氣管路8,係設置用於第！〜第4滅菌室卜4的乾燥及排氣。吸氣管路7對於各滅菌室卜4並列配置，“將外職體分料人第i〜第4滅菌室卜4 的配管。在吸_7的始端位置配置壓縮機6,在並列崎部分則分別設置由電磁間等構成之開關間n〜14。排氣管路8，一樣對於各滅菌室並列配管，係為分別排出滅菌至卜4的氣體。在排氣管路8的並列別設置開關閥21〜24。佣艰τ峪y係用於電漿嗜 ^ ^ , 嘴5產生的滅菌氣體之循環之用其為並列地設置為從電漿室1〜4的配管。循環管路9 , 〜第4滅菌入试；y：— 1 匕括*具有配置於減菌氣體導 I右之側的歧管構造的第"盾環管路91.以及，具有配置於滅菌氣體導出路以’以及’ 構造的第2循環管路92 1〜4之側的相同的歧管〜第4滅菌室卜4之广：循環管路9亦為，在第1 管。換殘留滅菌氣體時所使用的配 2〇14-10384-PF;Alicewu 21 200948405 在第1循環管路91八。， 91刀別設置開關閥31〜34。第2循環管路92上分別設置供應您裝置41〜44。各供應裝置41〜 44具有：在循環管路9 產生氣體流的果51〜54，以及由電磁閥等構成之開關閥61〜64。滅滅裝置 300 ·Ρ* yfe" 4<#|» Λ. I u. 、二制裳置（圖省略）。控制裝置驅動控制電漿引擎10、壓縮機6 释b、泵51〜54、開關閥H〜丨4、 21 〜24、31 〜34 及 61 〜64。述的只施型態係為，各滅菌室卜4的乾燥及排氣係藉由新鮮料部氣體來執行之例。例W上述乾燥及排氣中使用非活性氣體的實施型態中，在高壓氣體源連接到吸氣管路7的情況下，也可以不特別設置壓縮機6。另外，也可以用高壓蒸汽、E0G(環氧乙燒）、福馬林、過氧化氮，取代以電裝反應產生之滅菌氣體。另外，在使用臭氧、抓、 EOG、福馬林等的有害氣體作為滅菌因子的情況下在排氣官路8设置了這些氣體的回收裝置。兹說明如上述構成之滅菌裝置300的動作。在滅菌處理開始之前，打開吸氣管路7及排氣管路8的開關閥u〜 14、21〜24,另一方面，使配置於循環管路9的開關閥3ι 〜34、61〜64關閉。在此狀態下驅動壓縮機6，使用新鮮的外部氣體進行滅菌室1〜4的乾燥及排氣。繼之，將被處理物安置於各滅菌室1〜4中。安置被處理物之後’使開關閥u〜14、21〜24關閉，並先打開循環管路9的開關閥31 ' 61 (第1隔絕裝置）。藉此使得第1滅菌室和電聚噴嘴5(電漿產生空間）為連通狀 2014-10384-PF;Alicewu 22 200948405 態。在此狀態下，當電漿引擎10運作，且泵5ι動作時，於電漿喷嘴5發生的電漿反應中產生滅菌氣體，使得第ι 滅菌室1内的滅菌氣體濃度緩緩上升。藉此，對第^滅菌室1内的被處理物執行滅菌處理。當第1滅菌室1的滅菌完成時，也不直接執行該第i 滅菌室内的排氣，而將第1滅_它罘滅菌至1内所殘留的滅菌氣體導入其他的滅菌室2〜4中。你丨如收甲例如，將殘留滅菌氣體導入第 2滅菌室2的情況下，控制裝置打開開關閥31、32、… 62，並驅動泵51、52。藉此’如第8圖中箭頭F1所示，滅菌處理結束的第i 滅函室」和接下來要執行滅菌處理的第2滅菌冑2為連通狀態’父換兩滅菌室1、2内的齑科 m 略内的讀。亦即，在接下來要執订滅卤處理的第2滅菌室2Φ，吉4·、 M 畢先混合初期充滿其中的新鮮外部氣體和鄰室之取圏至1中使用過的 Ο 體。若各滅菌室卜2的容量相㈤曰，奸補减菌亂七& '會疮Λ _ 冋，則藉由此交換，50%左右的濃度之滅菌氣體會滞留在第2滅菌室2中。於第1滅菌室1、帛2滅菌 ^ ^ # w „ 至2的滅菌氣體平衡的階並驅動壓縮機6,使第"咸菌室排：開開關閱U、21，闊I吻第2隔絕裝置）仍維持二'另；·方面，開關擎10動作，使第2滅菌室，52及電漿引因為"滅菌…的空=度上體’所以能夠縮短上升到滅菌處理:；二置換為滅菌氣其是，使用雷滞β庙斤而的》辰度的時間。尤疋使用電漿反應產生滅菌氣馆/兄下，因為其較耗 2〇14-l〇384-PF;Alicewu 23 200948405 費時間所以效果特別顯著。另外菌顏鲈因為再利用使用過的滅菌虱體，所以能夠減少該滅菌氣體的使用量。另外，在該滅產劑為臭氧等的情況中， ^ ^ 夠減少排出的有害氣體。虽第2滅菌室2的滅菌處理滅菌室2和第束時’同樣地’使第2 主4和弟3滅菌室3之間ϋ妙^ flJ t . „ a 虱體父換。為了進行此交換，控制裝置打開開關閥32、33 M UL Α ζ、63，並驅動泵 52、53。鞛此，事先混合充滿接下來要執〇 . ^ 執仃滅囷處理的第3滅菌室鄰至之第2滅菌室2中使用mm π L Α 1之用過的滅菌氣體。繼之，如同上述般，執行提高第3滅菌的減菌氣體濃度的程序，體所滅菌至3中的空氣的一部份已經置換為滅菌氣體’所以能夠縮短上升到滅菌處理所需的濃度的時間。繼之，將帛2滅菌室2排氣，同時在第' 菌處理。 -在第3滅菌至3中執行滅當第3滅菌室3的滅菌處理結束時，同樣地，和第4 ί菌室4之間氣體交換。繼之14滅菌室4和第i滅菌至1執行氣體交換，而實現連續的減菌處理。 …並不限於將殘留滅菌氣體從一個滅菌室傳送到另一個減菌室的態樣，也可以將殘留滅菌氣體從一個或複數個滅菌室傳送到複數個其他的滅菌室。例如，纟第i減菌室i 的滅菌處理結束之後，可以將其殘留滅菌氣體導入第2減菌室2及第3滅菌室3。或者，在第！滅菌室】、第2滅菌至2同時執行滅菌處理，並在結束之後，將其殘留減菌氣體導入第3滅菌室3及第4滅菌室4亦可。 ’ 再者’ I 51〜54為用於滅菌室之間的氣體循環的泵， 2014-l〇384-PF;Ali cewu 24 200948405

但是’在處理完畢的滅菌室和處理前的滅菌室之間有某種程度的氣廢差的情況下’藉由適當地打開開關闕31〜34、 61〜64’而可以進行減菌室之間的氣體交換。在此種狀況 :，不特別設置泵51〜54亦可。另外’例如在第】滅菌室、第2滅菌室2之間執行氣體混合的情况下，僅驅動一邊的泵5卜不驅動另一邊的泵52亦可。另外，使^、52 動作’將第1滅菌t 1的氣體壓入第2滅菌室2中，使第 2滅菌室2的滅菌氣體的濃度提高亦可。第9圖用以說明第3實施型態的滅菌裝置綱中的處理方法之圖。在此，係顯示減菌裝置期的各滅菌室卜4 :’依序連續地或反覆執行同樣的滅菌處理的例。在本實施型態中的被處理物為需要連續滅菌處理多個品項的醫療品或衛生商品等。在第9圖之事例中，各滅菌室卜4的容量為⑽公升，在電漿噴嘴5產生滅菌處理所需之濃度的滅菌氣體所需要的時間為30分’各滅菌室卜4内充滿滅菌氣體後實際進行減菌處理所需的時間為3〇分。在初次執行滅菌處理的第丨滅菌室丨中，滅菌氣體產 j及滅菌處理的整合之處理需要1小時。但是，因為將前個滅菌室中使用過的滅菌氣體導入下一個滅菌室中，所以，在之後的滅菌室中，滅菌氣體的產生時間約略為一半。因此，第2次之後的各滅菌室2、3、4、丨的滅菌處理所需要的時間約為45分左右，第卜第4滅菌室卜4的週期之處理能夠在總共3小時15分結束。在連續執行處理的情 2〇l4-l〇384-PF；Alicewu 25 200948405 ^小第時t滅菌室1的處理也是45分，能夠將1週期縮短依據第3實施型態的滅菌裝置3〇〇，例如當第！滅菌室1中的滅菌處理結束時，將滅菌氣體填充於;-個執行 =的：2滅菌室2,因此，總是確保使用後的減菌氣體二用處，不管是在哪一個滅菌室卜4，都能夠縮短滅菌 ; 生所而的時間，還能夠減少滅菌氣體的使用量。另外，雖然在上述爷昍由逑說明中未予考慮，但是，實際上被處理物出搬入滅®至也需要時間。如第9圖所示之連續處理的藉由使用小型的滅菌室1〜4，能夠將該搬出搬入的時間分散會像使用大型滅菌室的情況，會長時間停止處理。再者，在上述具體的實施型態中，主要包含具有下列構成之發明。 +本發明之一滅菌裝置，本發明之一滅菌裝置包括：滅菌劑的供應源’為了進行被處理物的滅菌處理，在容納該，處理物的狀態下被該滅菌劑充滿的帛^滅菌室及第2滅 :至’連接該供應源與該第1滅菌室及第2滅菌室的第1 ^路，連接該f 1滅菌室及第2滅菌室的第2管路；供應裝置其透過該第2管路，將在該第1滅菌室中已被使用 ;滅菌處理的殘留之滅菌劑，導入第2滅菌室。依據上述構成，藉由供應装置，在第1滅菌室執行滅菌處理之後’ I殘留滅菌劑導入到第2滅菌室。亦即，事夺第2滅菌至2内的氣體和第1滅菌室1中使用過的滅 2〇l4-l〇384-PF；Alicewu 26 200948405 菌劑混合。因此’能夠縮短用滅菌劑充滿第2滅菌室的時間’並且能夠減少滅菌劑的使用量。在上述構成中，以此為佳：包括導入裝置，其在該殘留滅菌劑被導入到第2滅菌室之後，透過該第i管路，再將滅菌劑從該供應源導入到該第2滅菌室。依據此構成，在僅有已導入該第2滅菌室的該殘留滅菌劑而滅㈣不足的情況下，能夠由導入裝置將所需詈吓忐重的滅菌劑填補於第2 參參滅菌室。在上述構成中，該供應源可以包括滅菌氣體產生部，其藉由電漿反應產生作為該滅_的滅®氣體。f要相應於使用電漿反應產生滅菌氣體的時間。因&，藉由在第2 滅菌室沿用在帛1滅菌室使用過的滅菌氣體，能夠大幅缩短將滅菌處理所需量的滅菌氣雜填充於第2滅菌室的時間，而具有效果。在上述構成中，以此為佳：該減菌氣體產生部包括：第1電極、第2電極、形成於該第1及第2電極之間的電漿產生空間、提供能量使得在弟1及第2電極之間產生電場的電漿引擎；該第丨管路玍心Λ W , 環路徑，其係從該電漿…間進入該"滅菌室及第2減菌室並從該第【滅菌至及第2滅菌室回到該電漿產生空間。依據此構成，使原料梟 ._ ^ ^ ^ 、在該循環路徑中循環，同時的濃度緩緩上升。電浆化，能夠使滅菌氣艘在上述構成中，以此為佳：包括··第！隔絕裝置，使 2014-10384-PF;Alicewu 2η 200948405 2該菌室從該循環路徑隔絕；第2隔絕裝置，使該第生的循^該循環路徑隔絕；使氣體流在該循環路徑中產的控制裝置；該控制J二2隔絕裝置及該循環裝置循” Γ 從該循環路徑隔絕的狀態下，使該 =置動作：使得原料氣體在該電漿產生空間和該第i 滅菌至之間循環，使該第〗、ώ站體；第▲ 室充滿既定濃度的滅菌氣控制’由該供應裝置將殘留滅菌 =入該第2滅菌室之後，在用該第 = 1滅菌室從該循環路徑隔絕的狀態下，使該循；裝= =得原料氣體和殘留滅菌氣體之混和氣體在該電漿= 二間和該第2滅菌室之間循環，使該第2 濃度的滅菌氣體。至充滿既疋依據此構成，先在經過第滅菌氣體，在第丨滅菌室中執行滅菌生留滅菌氣體移到第2滅菌室將”殘環空間中產生滅菌氣體，在第2滅:=::室的循因此’使第1滅菌室和第2滅菌室中的滅二滅=。錯開，同時可以連續地執行被處理物的減 /點總是確保使用後的滅菌氣體的利用處，…。藉此，菌室中’都能夠縮短滅菌處理時間及減少滅量。 ^圏氣體的使用該供應裝置 3隔絕裝置為配置於該第 ’該控制裝置在上述構成令，以此為佳： 2管路用以隔絕該第2管路的第 2014-10384-PF;Alicewu 〇〇 200948405 控制該第3隔絕裝置的動作，該控制裝置執行第其在該第i控制和該第2控制之間，解除該第】〜工1 : 絕裝置造成的隔絕狀態並使該循環第3隔滅菌氣體在該電浆產生空間和該第1滅菌室及::::: 室之間猶環。依據此構成’能夠充分利用該循減菌能夠使殘留滅菌氣體從該第1滅菌室移到該第2減菌室中在^構成t ’以此為佳：㈣2管路構成該循環路徑的一部份’該控制裝置執行第4控制，其在該…制和該第2控制之間’解除該第卜第2隔絕裝絕狀態並使該循環裝置動作，使得該殘留滅菌氣體在該2 1減菌至及該第2滅菌室之間猶環。依據此構成，不僅能夠充分利用該循環路徑’使殘留減菌氣體從該第i滅菌室移到該第2滅菌室中’還能夠將該循環路徑的一部份使用作為該第2管路，u簡化配管構成。。、在上述構成+，該被處理物可以為醫療品或衛生商印。攻些物品需要大量且連續的滅菌處理，因此上述的時間縮短的效果更加顯著。本發明之一種滅菌處理方法，其係使用滅菌劑的供應 '、被該滅菌劑充滿的第【滅菌室及第2滅菌室的被處理物之滅菌處理方·、土 ,, 次’其包括：將滅菌劑從該供應源供應到 :/第1滅菌至的步驟；在該帛i滅菌室執行被處理物的滅理的步驟’將在該帛1滅菌室中已被使用於滅菌處理的殘留之滅菌齊卜導入第2滅菌室的步驟；將滅菌劑從該、應原供應到該第2滅菌室的步驟；在該第2滅菌室執行，· Alice wu 2014-10384-pf 29 200948405 被處理物的滅菌處理的步驟。依據此方法，力铕，留滅菌劑導入到第t咸菌室執行減菌處理之後，其殘滿第2滅菌室的時間，'並/，因此，能夠縮短用滅菌劑充並月b夠減少滅菌劑的使用量。另外，便笫1滅菌室和篦9、皆 ^ . 減鹵至中的滅菌處理的時間點錯開，時可以連續地執行被處理物的滅菌處理。【圖式簡單說明】第1圖為表示本發明第1實施型態的滅菌裝置的方塊 s 〇第2圖顯不第1實施型態的滅菌裝置之動作的流程圖。第3圖為表示本發明第2實施型態的滅菌裝置的方塊 go 第4圖為概略顯示電漿引擎之構成的方塊圖。第5圖為已裝設導波管狀態的電漿噴嘴的斷面圖。第6圖顯示第2實施型態的滅菌裝置之動作的流程圖。第7圖為表示電磁閥及泵之控制狀態的示意圖。第8圖為表示本發明第3實施型態的滅菌裝置的方塊圖。第Θ圖用以說明第3實施型態的滅菌裝置中的處理方法之圖。【主要元件符號說明】 1〇〇滅菌裝置； 2014-10384-PF;Alicewu 200948405

101 第1室； 102 第2室； 103 滅菌氣體源 > 104 淨化部； 111〜116 第1〜第 V11- -V16 第1〜第 P11- ‘P14 第1〜第 105 控制部； 200 滅菌裝置； 201 第1室； 202 第2室； 203 電漿喷嘴； 204 觸媒部； 205 淨化部； 211〜219 第1〜第 V21〜V29 第1〜第 P21- -P23 第1〜第 206 控制部； 300 電漿引擎； 301 微波產生裝置； 302 導波管； 303 分離器； 304 耦合器； 305 調整器； 6配管； 6電磁閥； 4泵； 9配管； 9電磁閥； 3泵； 2014-10384-PF;Alicewu 200948405 306 凸緣部； 307 滑套； 308 循環器； 309 假負載； 311 中心導體； 311B 上端部； 311T 下端部； 312 外部導體； 312H 筒狀空間； 312N 氣體供應孔； 312T 下端緣； 313 隔離物； 314 保護管； 321 凸緣板； 300 滅菌裝置；

1〜4 第1〜第4滅菌室； G 5 電漿喷嘴； 6 壓縮機； 7 吸氣管路； 8 排氣管路； 9 循環管路； 91 第 1循環管路； 92 第 2循環管路； 10 電漿引擎； 2014-10384-PF;Alicewu 32 200948405 11 〜14 開關閥； 21 〜24 開關閥； 31 〜34 開關閥； 41 - -44 供應裝置； 51 〜54 泵 > 61， ‘64 開關閥。 Ο 2014-10384-PF;Ali cewu 33

Claims

200948405 七、申請專利範圍： 1· 一種滅菌裝置，其包括：滅菌劑的供應源；為了進行被處理物的滅菌處理，在容納該被處理物的狀態下被該滅菌劑充滿的第1滅菌室及第2滅菌室；連接該供應源與該第1滅菌室及第2滅菌室的第1管路；連接該第1滅菌室及第2滅菌室的第2管路；供應裝置，其透過該第2管路，將在該第^威菌室中已被使用於滅菌處理的殘留之滅菌劑，導入第2滅菌室。 2.如申請專利範圍帛！項所述的滅菌裝置包括導入裝置，其在該殘留之滅菌劑被導入到帛2滅菌室之後，透過該第1管路，再將滅菌劑從該供應源導入到該第2滅菌室。或2項所述的滅菌裝置，該供其·藉由電漿反應產生作為該滅 3.如申請專利範圍第應源包括滅菌氣體產生部菌劑的滅菌氣體。 4·如申請專利範圍第3 的滅菌装置，該滅菌氣體產生部包括：第1電極、坌乐Z電極、形成於該第1及第 2電極之間的電漿產生空間、知供犯量使得在該第1及第2 電極之間產生電場的電漿？丨擎；該第1管路包括循環路私廿 ’其係從該電漿產生空間進入該第1滅菌室及第2滅菌定 ^ I# 至’並從該第1滅菌室及第2 滅鹵室回到該電漿產生空間。 2014-10384—PF;Alicewu 200948405 5.如申請專利範圍第4項所述的滅菌裝置，其包括· 隔絕裝置，使該W滅菌室從該循環路二絕；友隔絕裝置，使該第2滅菌室從該循環路徑隔絕；使氣體流在該循環路徑中產生的循環裝置· 絕裝置及該循料― 籲 ❹ 循丄;絕裝*將該第2滅菌室從該體在，雷= 該循環裝置動作而使得原料氣 ώ以空間和該第1滅菌室之間循環，使該第i 滅菌室充滿既定濃度的滅菌氣體； =2控制，由該供應裝置將殘留滅菌氣體該第2滅菌室之後，在用該第1隔絕裝置將該第而使得環路徑隔絕的狀態下’使該循環裝置動作 ”1二第？和殘留滅菌氣體之混和氣體在該電漿產生工間和該第2滅菌室之間循濃度的滅菌氣體。使該第2滅菌室充滿既定置為配詈於月專利範圍第4項所述的減菌裝置，該供應裝】為=該第2管路用以隔絕該第巧路的第3隔絕裝，該控制裝置控制該第3隔絕裝置的動作，該控制裝置執行第控制之間’解除該第兔：第1控制和該第2 使該循環裝置動作，“. 置造成的隔絕狀態並間和該第：烕菌得該殘留滅菌氣體在該電漿產生空和…減室及該第2減菌室之間循環。 7·如申請專利範圍第4項所述的減菌裝置，該第2管 2〇14 一1〇384，— 35 200948405 路構成該循環路徑的—部份該控制裝置勃執仃第4控制，其在該第1控制和該第2 控制之間，解险辞梦^ ^第1、第2隔絕裝置造成的隔絕狀熊使該循環裝置動作 θ 使传該殘留滅菌氣體在該第1滅菌及該第2滅菌室之間循環。滅围至 •如申請專利範圍帛卜7項中任一項所述的滅菌裝置’其中該被處理物為醫療品或衛生商品。、，-種滅菌處理方法，其係使用滅菌劑的供應源、被該滅菌劑充滿的第1滅菌室及第2滅菌室的被處理物之菌處理方法，其包括：將滅菌劑從該供應源供應到該第丨滅菌室的步驟；在該第1滅菌室執行被處理物的滅菌處理的步驟；將在該第1滅菌室中已被使用於滅菌處理的殘留之滅菌劑，導入第2滅菌室的步驟；將滅菌劑從該供應源供應到該第2滅菌室的步驟；在該第2滅菌室執行被處理物的滅菌處理的步驟。 2014-10384-PF;Alicewu 36