JP6281934B2 - 小型マイクロ波プラズマ源における誘電体保護機構 - Google Patents
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- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 29
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 15
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 238000011109 contamination Methods 0.000 claims description 14
- 230000005684 electric field Effects 0.000 claims description 14
- 239000003380 propellant Substances 0.000 claims description 14
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 37
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 4
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 4
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910001111 Fine metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 3
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 3
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- -1 xenon ions Chemical class 0.000 description 2
- 229910001200 Ferrotitanium Inorganic materials 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
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Description
本実施形態に係る本発明に係る小型マイクロ波プラズマ源における誘電体保護機構によれば、マイクロ波の供給経路を第一の同軸線路A、誘電体保護部B、第二の同軸線路C及びアンテナ部Dの4つの区分によって構成し、誘電体保護部Bによって金属コンタミから誘電体25を保護することとしたので、限られたサイズの空間内で誘電体25を金属コンタミから保護することが可能になり、長期にわたってプラズマ生成に十分なマイクロ波を供給することができ、しかもイオンスラスタの寿命をこれまでよりも伸ばすことができるという効果がある。
3 イオン源
3a,5a プラズマ生成室
4 イオン加速部
4a スクリーングリッド
4b アクセルグリッド
5 中和器
6 電源ユニット
7 推進剤貯蔵タンク
8 調圧バルブ
9 配管
10 低圧タンク
11 流量制限器
12 スラスタバルブ
13 マイクロ波電源
20 アンテナ
21 遮蔽部材
22a,22b 導体
23a,23b 空間
24 外被導体
25 誘電体
A 第一の同軸線路
B 誘電体保護部
C 第二の同軸線路
D アンテナ部
Claims (2)
- 内部導体と外部導体の間に誘電体が配置された同軸線路を介して伝送されるマイクロ波をアンテナ部から放射することによってプラズマ生成室内に供給された推進剤をプラズマ化するに際して、前記誘電体を金属コンタミから保護する小型マイクロ波プラズマ源における誘電体保護機構において、
前記同軸線路によって形成された第一の同軸線路と、
前記プラズマ生成室内に配置されたアンテナ部と、
前記第一の同軸線路を介して伝送されてくるマイクロ波を前記アンテナ部へ伝送する誘電体を有しない第二の同軸線路と、
前記第一の同軸線路と前記第二の同軸線路との間に設けられ、前記プラズマ生成室から直接的に前記誘電体が見えないように遮蔽する遮蔽部材を備えた誘電体保護部と、
を備え、
前記誘電体保護部及び前記アンテナ部の特性インピーダンスを前記第一の同軸線路及び前記第二の同軸線路の特性インピーダンスと異ならせると共に、前記第二の同軸線路の長さを調整することにより、前記第一の同軸線路を介して伝送されて前記誘電体保護部によって反射されるマイクロ波と、前記誘電体保護部を透過して前記アンテナ部によって反射されてさらに前記誘電体保護部を透過するマイクロ波によって前記誘電体保護部に生じる電場を共振させることにより前記アンテナ部に強い電場を生じさせることを特徴とする小型マイクロ波プラズマ源における誘電体保護機構。 - 請求項1に記載の小型マイクロ波プラズマ源における誘電体保護機構を備えたことを特徴とするイオンスラスタ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013211478A JP6281934B2 (ja) | 2013-10-08 | 2013-10-08 | 小型マイクロ波プラズマ源における誘電体保護機構 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013211478A JP6281934B2 (ja) | 2013-10-08 | 2013-10-08 | 小型マイクロ波プラズマ源における誘電体保護機構 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015076253A JP2015076253A (ja) | 2015-04-20 |
JP6281934B2 true JP6281934B2 (ja) | 2018-02-21 |
Family
ID=53000956
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013211478A Active JP6281934B2 (ja) | 2013-10-08 | 2013-10-08 | 小型マイクロ波プラズマ源における誘電体保護機構 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6281934B2 (ja) |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2515810B2 (ja) * | 1987-07-10 | 1996-07-10 | 東京エレクトロン東北株式会社 | プラズマ処理装置 |
JPH06325896A (ja) * | 1993-05-11 | 1994-11-25 | Uchu Kagaku Kenkyusho | マイクロ波放電式プラズマ・コンタクター |
JPH09245997A (ja) * | 1996-03-05 | 1997-09-19 | Nissin Electric Co Ltd | カバーで覆われた内壁とアンテナを持つプラズマ室 |
JP3647592B2 (ja) * | 1997-03-04 | 2005-05-11 | 松下電器産業株式会社 | プラズマ源及びこれを用いたイオン源並びにプラズマ処理装置 |
EP1001449A1 (en) * | 1998-10-16 | 2000-05-17 | Canon Kabushiki Kaisha | Deposited film forming system and process |
US7271363B2 (en) * | 2004-09-01 | 2007-09-18 | Noritsu Koki Co., Ltd. | Portable microwave plasma systems including a supply line for gas and microwaves |
JP2006147449A (ja) * | 2004-11-24 | 2006-06-08 | Japan Aerospace Exploration Agency | 高周波放電プラズマ生成型二段式ホール効果プラズマ加速器 |
JP2007265829A (ja) * | 2006-03-29 | 2007-10-11 | Noritsu Koki Co Ltd | プラズマ発生装置およびそれを用いるワーク処理装置 |
JP5119514B2 (ja) * | 2008-01-09 | 2013-01-16 | 独立行政法人 宇宙航空研究開発機構 | イオン噴射装置、推進装置及び人工衛星 |
EP2275146A4 (en) * | 2008-03-26 | 2011-07-13 | Saian Corp | STERILIZER AND STERILIZATION PROCESS |
EP2463506B1 (en) * | 2009-08-06 | 2017-01-25 | Imagineering, Inc. | Mixer, matching device, ignition unit, and plasma generator |
-
2013
- 2013-10-08 JP JP2013211478A patent/JP6281934B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2015076253A (ja) | 2015-04-20 |
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