TW200923583A - Curable composition for photonano-imprinting and member for liquid crystal display device by using it - Google Patents

Curable composition for photonano-imprinting and member for liquid crystal display device by using it Download PDF

Info

Publication number
TW200923583A
TW200923583A TW097135555A TW97135555A TW200923583A TW 200923583 A TW200923583 A TW 200923583A TW 097135555 A TW097135555 A TW 097135555A TW 97135555 A TW97135555 A TW 97135555A TW 200923583 A TW200923583 A TW 200923583A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
composition
acrylate
meth
mold
film
Prior art date
Application number
TW097135555A
Other languages
English (en)
Chinese (zh)
Inventor
Akinori Fujita
Takashi Takayanagi
Original Assignee
Fujifilm Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujifilm Corp filed Critical Fujifilm Corp
Publication of TW200923583A publication Critical patent/TW200923583A/zh

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10—Esters
    • C08F220/20—Esters of polyhydric alcohols or phenols, e.g. 2-hydroxyethyl (meth)acrylate or glycerol mono-(meth)acrylate
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
    • C08G65/02—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring
    • C08G65/04—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring from cyclic ethers only
    • C08G65/06—Cyclic ethers having no atoms other than carbon and hydrogen outside the ring
    • C08G65/16—Cyclic ethers having four or more ring atoms
    • C08G65/18—Oxetanes
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0002—Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/075—Silicon-containing compounds
    • G03F7/0757—Macromolecular compounds containing Si-O, Si-C or Si-N bonds
TW097135555A 2007-09-21 2008-09-17 Curable composition for photonano-imprinting and member for liquid crystal display device by using it TW200923583A (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007244984A JP2009073078A (ja) 2007-09-21 2007-09-21 光ナノインプリント用硬化性組成物およびそれを用いた液晶表示装置用部材

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW200923583A true TW200923583A (en) 2009-06-01

Family

ID=40608551

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW097135555A TW200923583A (en) 2007-09-21 2008-09-17 Curable composition for photonano-imprinting and member for liquid crystal display device by using it

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP2009073078A (ja)
KR (1) KR20090031274A (ja)
TW (1) TW200923583A (ja)

Families Citing this family (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010013513A (ja) * 2008-07-02 2010-01-21 Fujifilm Corp ナノインプリント用硬化性組成物、これを用いた硬化物、並びに、液晶表示装置用部材
US8999221B2 (en) 2008-12-03 2015-04-07 Fujifilm Corporation Curable composition for imprints, patterning method and pattern
JP2010186979A (ja) 2008-12-03 2010-08-26 Fujifilm Corp インプリント用硬化性組成物、パターン形成方法およびパターン
JP5681980B2 (ja) * 2010-03-01 2015-03-11 公立大学法人大阪府立大学 溶剤溶解型光硬化性組成物を用いた微細構造体の製造方法
JP5555025B2 (ja) 2010-03-25 2014-07-23 株式会社日立ハイテクノロジーズ 微細パターン転写用スタンパ及びその製造方法
JP5712003B2 (ja) * 2010-04-07 2015-05-07 富士フイルム株式会社 インプリント用硬化性組成物およびインプリント用重合性単量体の製造方法
JP5687857B2 (ja) * 2010-07-29 2015-03-25 株式会社日立ハイテクノロジーズ ナノインプリント用樹脂スタンパ及びこれを使用したナノインプリント装置
JP5753749B2 (ja) 2010-09-27 2015-07-22 富士フイルム株式会社 インプリント用硬化性組成物の製造方法
KR20120055242A (ko) * 2010-11-23 2012-05-31 한국생명공학연구원 광경화형 수지 조성물 및 이를 이용한 자기복제성 복제몰드의 제작방법
JP5739185B2 (ja) 2011-02-15 2015-06-24 富士フイルム株式会社 インプリント用硬化性組成物の製造方法
JP5829177B2 (ja) 2011-07-12 2015-12-09 富士フイルム株式会社 インプリント用硬化性組成物、パターン形成方法およびパターン
JP2013044949A (ja) * 2011-08-24 2013-03-04 Dexerials Corp 配向フィルムおよびその製造方法、ならびに位相差フィルムおよびその製造方法
JP5696017B2 (ja) 2011-09-27 2015-04-08 富士フイルム株式会社 インプリント用硬化性組成物、パターン形成方法およびパターン
JP5788759B2 (ja) 2011-10-18 2015-10-07 富士フイルム株式会社 インプリント用硬化性組成物およびその保存方法
KR101284595B1 (ko) * 2011-12-23 2013-07-15 한국생산기술연구원 멀티 터치용 터치 스크린 패널 및 그 제조 방법
JPWO2014057861A1 (ja) * 2012-10-11 2016-09-05 セントラル硝子株式会社 ガラス基板の洗浄方法
JPWO2014057860A1 (ja) * 2012-10-11 2016-09-05 セントラル硝子株式会社 基板の洗浄方法および洗浄液組成物
EP2911184B1 (en) * 2012-10-22 2019-07-24 Soken Chemical & Engineering Co., Ltd. Photocurable resin composition for imprinting, method for producing mold for imprinting, and mold for imprinting
JP6009907B2 (ja) * 2012-10-31 2016-10-19 富士フイルム株式会社 インプリント用硬化性組成物、パターン形成方法およびパターン
CN104335269B (zh) * 2012-12-14 2019-01-01 迪睿合电子材料有限公司 图像显示装置的制造方法、树脂用分配器
JP6080813B2 (ja) 2013-08-30 2017-02-15 キヤノン株式会社 光インプリント用組成物、これを用いた、膜の製造方法、光学部品の製造方法、回路基板の製造方法、電子部品の製造方法
JP6643802B2 (ja) * 2014-05-09 2020-02-12 キヤノン株式会社 硬化性組成物、その硬化物、硬化物の製造方法、光学部品の製造方法、回路基板の製造方法、および電子部品の製造方法
KR102256334B1 (ko) * 2014-12-26 2021-05-26 엘지디스플레이 주식회사 커버 필름, 그 제조 방법 및 이를 포함하는 표시장치
TWI735625B (zh) 2016-08-01 2021-08-11 日商富士軟片股份有限公司 壓印用硬化性組成物、硬化物、圖案形成方法以及微影方法
WO2023190168A1 (ja) * 2022-03-31 2023-10-05 大日本印刷株式会社 硬化膜形成方法、インプリントモールド用基板の製造方法、インプリントモールドの製造方法、凹凸構造体の製造方法、パターン形成方法、ハードマスク形成方法、絶縁膜形成方法及び半導体装置の製造方法

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005092099A (ja) * 2003-09-19 2005-04-07 Fuji Photo Film Co Ltd 硬化性樹脂組成物、及び光学物品、並びにそれを用いた画像表示装置
JP4692136B2 (ja) * 2005-08-08 2011-06-01 東レ株式会社 感光性ペースト組成物およびそれを用いたフィールドエミッションディスプレイ部材

Also Published As

Publication number Publication date
JP2009073078A (ja) 2009-04-09
KR20090031274A (ko) 2009-03-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW200923583A (en) Curable composition for photonano-imprinting and member for liquid crystal display device by using it
TWI438235B (zh) 壓印用硬化性組成物、使用它之硬化物及其製造方法、以及液晶顯示裝置用構件
JP5117002B2 (ja) 光硬化性組成物およびそれを用いたパターン形成方法
TW200846824A (en) Curing composition for photonano-imprinting lithography and pattern forming method by using the same
TWI448375B (zh) 光奈米壓印光刻用硬化性組成物及使用它之圖案形成方法
JP5448696B2 (ja) 光インプリント用硬化性組成物およびそれを用いた硬化物の製造方法
JP2009206197A (ja) ナノインプリント用硬化性組成物、硬化物およびその製造方法
JP2009215179A (ja) （メタ）アクリレート化合物、これを用いた硬化性組成物、光ナノインプリント用組成物、並びにこれらの硬化性組成物の硬化物およびその製造方法
TWI550339B (zh) 壓印用硬化性組成物及其製造方法、圖案形成方法以及壓印用硬化性組成物的製造裝置
JP5739185B2 (ja) インプリント用硬化性組成物の製造方法
JP2008105414A (ja) 光ナノインプリントリソグラフィ用硬化性組成物およびそれを用いたパターン形成方法
JP2008189821A (ja) 光硬化性組成物
JP2008084984A (ja) 光ナノインプリントリソグラフィ用光硬化性組成物およびそれを用いたパターン形成方法
JP2010006870A (ja) ナノインプリント用硬化性組成物、硬化物およびその製造方法
JP2010067621A (ja) ナノインプリント用硬化性組成物、硬化物およびその製造方法
TW201005431A (en) Curable composition for nanoimprint, curing object, manufacturing method thereof and member for liquid crystal display device
JP5712003B2 (ja) インプリント用硬化性組成物およびインプリント用重合性単量体の製造方法
JP2010013514A (ja) ナノインプリント用硬化性組成物、これを用いた硬化物、並びに、液晶表示装置用部材
JP2010113170A (ja) 光インプリント用硬化性組成物、これを用いた硬化物およびその製造方法、ならびに液晶表示装置用部材
KR20090027169A (ko) 나노임프린트용 경화성 조성물, 경화물 및 그 제조 방법
JP5788759B2 (ja) インプリント用硬化性組成物およびその保存方法
JP2009203287A (ja) ナノインプリント用硬化性組成物、これを用いた硬化物およびその製造方法、並びに、液晶表示装置用部材
JP5065209B2 (ja) ナノインプリント用硬化性組成物、硬化物およびその製造方法
WO2009110536A1 (ja) ナノインプリント用硬化性組成物、これを用いた硬化物およびその製造方法、並びに、液晶表示装置用部材
JP2010093065A (ja) 光ナノインプリント用硬化性組成物、これを用いた硬化物およびその製造方法、ならびに液晶表示装置用部材