TW200846626A - Position measurement module, position measurement apparatus, stage apparatus, exposure apparatus, and method for manufacturing decive - Google Patents

Description

200846626时 九、發明説明： 【發明所屬之技術領域】 本發明疋關於一種適合用於具備移動體的裝置中的測 量該移動體位置的位置測量模組、具備該位置測量模組的 位置測量裝置、具備該位置測量裝置的曝光裝置以及使用 該曝光裝置的元件製造方法。 【先前技術】

當製造液晶顯示元件等顯示器元件（FPD，flat panel display)的情形時，使用的是投影曝光裝置，該投影曝光 裝置是經由投影光學系統，來將遮罩（mask)(標線片 (reticle),光罩（ph〇t〇mask)等）的圖案投影至塗佈著光 阻等的平板（玻璃板、半導體晶圓等）上進行曝光。

Ik著液晶顯示元件的大型化，平板也趨於大型化， 1，邊長大於等於lm的平板（玻璃基板）亦得到應用， 隨之，載置平板進行移動的平台的尺寸亦趨於大型化。平 台的位置測量’-般Μ，是使时射干料來實施，將 ，測光照射至設在平台上的移動鏡（窄長鏡）上，並使該 檢測光的反㈣與規定·準光產生干涉，料位置的傲 量成Γ，隨著平台尺寸大型化，移動鏡的“ 重新=方較到限制，故正在對干涉計系統進行 产方μ+Γ 動鏡窄長化便能對於與該移動鏡長 度方向尺寸概行程（树 t動鏡長 技術，眾所周知Μ㈣進位置測量的 的疋於平台的移動方向上相互分隔地配設 200846626f 乡個干涉計（檢測器）者（例如，參照日 開第祕25纖號公報）。技術 ^ 限制，能夠使至少-個干涉計的位置測=== 鏡:因此，能夠於比移動鏡長度方向的尺寸更長的= 測量與該移動方向正交的測量方向上的位置。仃私中 測量^設別對應於多個位置 問題。尤其是，當加長平:$ = = 以及成本高的 ♦位置測量轴，亦即，必’必須設置大量 —步出現的大型化。4大里干料，故難以應對進 【發明内容】 =發明找於此_題研製而成者，其目的在於 ==本 =動體的移動行程擴大的需求。 轉冬么月，^供一種位置測量模組 第1轴方向具有檢測 •峻，：:i==辣測量轴中的每-個而 測光二:;=== 肢不同的構养卜的/、上述移動 個光路結=====照射基準光；多 鏡反射的上述檢測光的各彳入…丄、、丨里 對由上述移動 光路進行光路光的基準光路與上述檢測 7 pif 200846626 測結果，測量上述 件，== 二t:具有多個光路結合元 檢測光路進行光路結合里==反射的檢測光的各 的基準光路與檢測光路進行光路2基準光單元的基準光 的數量少於測量軸的數量。二’因此’可使檢測部 i檢測部的絲技術相tb，軸均設 馨魏成本化。尤其是，當移動巧間化，故能夠實 須增加檢測部的數量；3 = 2擴大的情形時，無 的數量，便可解決移動體‘程，(檢測，父 地且移!體_行程擴大 夠於第！ ^方向量裝置’其是對能 脈弟1袖方向以及與該第！轴方向 二維方向上進行移動的移動體的位 ：：2軸：向： 裝置，其包括多個測量轴，對上述第 2《位測里 行測量，並且分隔配置於上述第i轴方。上的位置進 體於上述第1軸方向上進行移動的:上’對上述移動 多個檢測部，面對上述多個測而^進行測量；以及 =Γ—測 置的低成本化。尤其是，當平台等移動體的行=f; 8 200846626lf 形時，雖需要大量的測量軸，但由於檢測部的數量小 此，<簡單地且以低成本來應對移動體的移動。二 口 需求。 仃秸擴大的 【實施方式】 以下，參照圖式，就本發明的實施形態加以 [第1實施形態] ϋ兄明。 圖1是表示本發明第i實施形態的曝光裝置

構的圖，圖2是表示圖i曝光裝置所具備的照明/… 的概略結構的圖。1¾曝光裝置為如下掃描柄光^糸= 為製造液晶顯示元件，而使遮罩M、感光劑塗佈二’二、 的平板（感光基板）P相對於投影光學系統PL I:面上 =且將形成於料Μ上的随的圖像逐次轉印^ 冉者 於从卜况明中，設定XYZ正交座杈 一 面參照該X υζ正交鋪纟.，—面朗各構件^ i ^一 圖1所示的XYZiL交座標系中，設為以由 』糸。

於紙面平行，X軸為相對於紙面垂直的方向。X = 平面為平行於水平面的面，= 向上的方向。又，於本實施形態中，掃描方向設為 圖1以及圖2中’i為作為光源的超高壓水銀燈，自 ^圖不的電祕收電力供給而發光。自超高壓水銀燈U 出的光由橢圓鏡2進行彙聚，並自各橢圓鏡2的第2隹點 的位置附近配置的“射部3a人射至光導3内。該光導^ 9 200846626>lf 光入射部3a入射的光暫時彙聚後進行均等 二成束出部3b射出的功能，例如是藉由使多個 4，於長度方向言:中射出的光透過聚先透鏡 進行照明。方向上的矩形照明區域内對遮罩Μ ㈣^ 藉由未圖不的馬達而於投影光學系統PL的

面内二維r動上微動，且保持在可於垂直於該光軸Ax的 一、，夕動以及細微旋轉的遮罩 來 ::構成為於曝光時可以值定速度於X方向上移動g 二固定著反射來自未圖示雷射干涉計的雷射 轉角一 u射m不）’遮罩平台5的二維位置以及旋 涉計以規定的解析度進行檢測。雷射干 ’面參照i射制部12’平台 T勺杨/貝J、、、σ果，一面根據來自主批告^ ==號，來驅動遮罩平台驅動部13，且對遮I;台5 的動作進行控制。 心m的圖細像，經由包含排般置於γ方向上 至ϋίΐ、學糸統PL1〜PL5的投影光學系統此而投影 光由配置於ΪΓ PL5。照賴平板p上的曝光 光圈進行敕投影光學系 '统PL1〜PL5中的視場光闌的 c，外形形狀為大致梯形。 於平板P上’藉由局部投影絲系統PL卜PL3、PL5 200846626, 形成有沿x方向排列的第1曝光區域，並藉由局部投影光 學系統PL2、PL4形成有沿Y方向排列於與第j曝光^域 =同的位置上的第2曝光區域。該些第i及第2曝光區域 為視場區域EA1〜EA5的等倍正像。 圖3是表示局部投影光學系統PL1〜pL5的視場區域 咖〜从5與遮罩M的平面位置關係。於遮罩％上，形

mpA，並以包圍該圖案?八區域的方式而形成有遮 ^ LSA。照明光㈣統n〜15，分购勻地對圖中由 線包圍的照明區域IA1〜ΙΑ5進行照明。於照明區域 =5_内，制著設在局部投影光學系統pLi〜肛 未圖示視場光_上述梯形視場區域⑽〜ea F 二EA卜EA3、EA5的上邊(_對平行邊中 ：： = ^A2、EA4的上邊以對向的方式而配置。此時，^ =X方向、亦即沿掃描方向的視場區域ea】〜 總和於Y方向的任何位置中均始終保持固定不變的=度 :己置J梯形視場區域EA1〜EA5。其原因在於，當1使 曝先反區==^ 離的分散狀的第1曝氺s， 工间上刀 間，由充_曝光=====時 以此方式而在時間以及空間“，曝光’ 如圖1以及圖4所示，平板p保持於作為基板平台的 pif 200846626 二反！台6上。平板平台6於又方向(掃描方向）上具有 :行轾平板平。6於平台控制部12的控制下，由平板平 j動部14驅動，且在與投影光學系統孔的光轴Αχ垂 、穿声?進订二維定位，並且，於曝光時以規定 速度在X方向上移動。 平板：台6包括χ平台6χ，以可於 方式而設置在基座f金般、κ ^ 於V十A L (盤〕上；以及Y平台6Y，以可 =方向;L移動的方式而設置在X平台6Χ上。於γ平台 6Y上，雖省略圖示但設置著 〜 °

統&的練AX平行的=位於與投影光學系 ^ 十仃的方向（2軸）上、並且對平板P ^對於XY平面的傾斜進行調節的2平台，以及使平^ S細轉的平台(未圖示)f，平板p吸附保持二該 ，別包含線性馬達等的X方向二驅= :驅動部14Y’X平台直6x#t

X方向上移動，γ平台6YM w M14X而於 方向上移動。 猎由Y方向驅動部咐而於Y 如圖1所示，平板平台6的上表面上安 於移動鏡7的鏡面對向的位置上配 私動鏡7, 平台位置啦裝置丨6。如圖4 ^^射干涉計的 X軸垂直敝射鏡（=^7動/7包含具備與 轴垂直的反射面的平面鏡（移動鏡）7γ === 方向蚊在Υ平台6Υ上的〇^方⑽魅動鏡7Χ沿Υ 沿X方向固定在γ平台6γ 方^緣上’移動鏡7Υ 的-Υ方向侧的蠕緣上。 12 f 200846626 ^如圖4所示，平台位置測量裝置16包含具備雷射干涉 計=x干涉計單元16X以及γ干涉計單元16Y。X干涉 ^早=l6Xf X轴且對著移動鏡γχ而將雷射光束（檢測 光）照射至單一的位置測量軸17χ上，γ干涉計單元 =Υ軸且對著移動鏡7Υ而將雷射絲（檢測光）照射至 多個（此處為4條）位置測量轴17Υ1〜17Υ4上。Υ干涉 计單兀16Υ的多個位置測量軸17¥1〜17¥4在又轴方向上 的排列間隔’設成比移動鏡7γ的反射面的尺寸（X軸方 向上的尺寸）窄。又，Υ干涉計單元16Υ的各位置測量軸 1 一7Y1〜17Υ4中，奇數列的位置測量轴17Υ1與17Υ3之間 隔、以及偶數列的位置測量軸17¥2與πγ4之間隔，弩 各個檢測光無法同時照射至移動鏡7γ。藉由χ干涉=覃 το 16Χ來測量平板平台6(γ平台6γ)的χ座標，藉 ，計單元16Υ來測量平板平台6 (γ平台6γ)的^座 ^，該測量錢給至平#制部12。再者，關於丫干料 早το 16Y，隨後加以詳細描述。 v汁 平$平台6的二維座標’一直藉由平 16且以規定轉析絲進行檢測，表示藉 ;置16測量出的測量值(X座標、Y座標)的位二 =破輸出至平台控制部12，平台控制部12灸刀2 位置測量裝置16的測量結果，—面基於 面f、千台 的控制，來叙巫τ 、自主控制器10 役B動千板平台驅動部14， 的移動進行控制。 了十板+台6 又’如圖1所示，在早士 在千板千台6的上表面的一端安| 13

Pif 200846626 著=成有多種指標的指標板8，於指標板8的下方設著用 於空間圖像測量的空間圖像感應器9。空間圖像感:哭〇 CCD (Charge Coupled Device ^ ，經由作為一個指標而形成於指標板8中的光圈部，拍攝 空間圖像，且將該圖像信號輸出至本體控制部n。 ， 本體控制部U對空間圖像感應器9所輪出的空間圖像 :::比度調節、邊緣萃取(Edge e細i〇n)、以及圖案 的I蓄圖像處理，算出形成於群财的位置測量用遮罩 置，並且算出用來校正投影光學系統PL中產 差的校準（calibration)值。本體γ制邻η麻械▽像 二Τι用來校正遮罩M的旋轉偏移的控制信號以 平板平台“㈣對定位等的控制 元^欠’參照圖5就平台位置測量裝置16 (γ干涉計單 的平台位二ΓΓΓ ° ^ 5是表示本發明第1實施形態 是於X方向县f構的平面圖。γ干涉計單元16Υ 域上測量ΥΜ 的平板平台6的χ方向的整個區 具備單的位置（座標值）的位置測量裝置，且 以及一對檢測部21a、21b仏丨,苗射，敢德雷射）20 傷檢光器的受^ b。檢測部21a、21b分別包括具 用單元更？有包含多個光學元件的基準光 双’、f光用單元D1、第2檢測光用單元D2、 14 200846626Lf 第^測光用單S D3、第4檢測光用單切及反射光 用早7LD5。此處，使用與奇數列的位置測量軸仍卜！爪 對應設置的第i檢測光用單元D1以及第3檢測光用單元 D3、基準光用單元R1、檢測部21a，來構成第工位置測量 模組，且使用與偶數列的位置測量轴17Υ2、17γ4對應設 置的第2檢測光用單元D2以及第4檢測光用單元= 準光用單元R1、檢測部21b，來構成第2位置測量模組= 基準光用單元R1具備偏光分光鏡Rla，角隅稜鏡 • (Corner Cube) Rib、1/4 波長板 Ric、Rld、Rle 以及固 疋鏡（反射鏡）RM。第1檢測光用單元D1具備偏光分光 鏡Dla、角隅稜鏡Dlb以及1/4波長板Die、Did，第2 檢測光用單元D2具備偏光分光鏡D2a、角隅稜鏡D2b、 1/4波長板D2c、D2d以及1/2波長板D2e。第3檢測光用 單元D3具備偏光分光鏡D3a、角隅稜鏡D3b以及1/4波 長板D3c、1/2波長板D3d，第4檢測光用單元D4具備偏 光分光鏡D4a、角隅稜鏡D4b、1/4波長板D4c以及1/2波 φ 長板D4e。反射光用單元D5具備偏光分光鏡D5a以及反 射鏡 D5b、D5c、D5d、D5e、D5f、D5g。反射鏡 D5b、D5c、 D5d、D5f、D5g為全反射鏡，反射鏡D5e為用於光路結合 的半反射鏡（half mirror )。 自雷射光源20沿+X方向射出的雷射光，入射至基準 光用單元R1的偏光分光鏡Rla，並根據其偏光成分而使得 偏光分離，且沿+X方向以及+Y方向射出。透射偏光分光 鏡Rla的P偏光成分由1/4波長板Rid轉換為圓偏光之 15 200846626>lf

後，被供給至配置於後段的第1檢測光用單元中 藉由偏光分光鏡Rla而沿+γ方向反射的s偏光 藉由1/4波長板Rlc而轉換為圓偏光，並作為基準光 考光）而照射到固定鏡RM中。藉由固定鏡R^而沿 向反射的反射光，再次由1/4波長板Rlc轉換為直^偏。 自1/4波長板Rlc巧沿-Y方向射出的光的偏光面相對 +Υ方向入射S 1/4 ;皮長板Rlc的光的偏光面旋轉9〇产: 再者，固定鏡RM,安裝於例如支撐投影光學系統η = 柱等不移動的固定設置的構件中。其中，固定鏡膽 定設於Y干涉計單元16Y的内部。 U 來自1/4波賊Rlc白仏線偏光入射至偏光分光鏡 Rla，且透過偏光分光鏡Rla ’藉由角隅棱鏡灿而Α+γ 方向反射’且再次透過偏光分光鏡Rla，藉幻/ ^

Rlc轉換為圓偏光’照射到固定鏡腹中。藉鏡^ =偏Y先方向反射的反射光’藉由1/4波長板Ric而二為 來自1/4波魏Rle的直線偏光，料 方向反射，並藉由1/4波長板r = ^ 光，藉由反射鏡⑽而沿心向反射，併入射=:: 鏡收，且根财偏絲分來進行料絲 D5a二的Si光以射至檢測部仏。由偏光分光鏡 作為美準^光成分，沿·Y方向反射至反射鏡收，並 …土旱先而入射至檢測部21b中。 16 200846626f 自基準光用單it R1的1/4波長板Rld射出的圓偏光， 入射至第1檢測光用單元D1的偏光分光鏡Dla，並根據 其偏光成分來進行偏光分離，且沿+χ方向以及+γ方向射 出。透過偏光分光鏡Dla的Ρ偏光成分由1/4波長板

Did 轉換為圓偏光後，供給至配置於後段的第2檢測光用單元 D2。 藉由偏光分光鏡Dla而沿+γ方向反射的8偏光成 分，藉由1/4波長板Die而轉換為圓偏光，並照射到移動 鏡7Y。藉由移動鏡7Y而沿_γ方向反射的反射光，再次藉 由1/4波長板Die而轉換為直線偏光。自ι/4波長板〇1£ 沿-Y方向射出的光的偏光面相對於沿+Y方向入射至U4 波長板Die的光的偏光面旋轉9〇度。 來自1/4波長板Die的直線偏光，入射至偏光分光鏡 Dla，透過偏光分光鏡Dla，並藉由角隅稜鏡Dlb而沿+γ 方向反射’透過偏光分光鏡Dla，由1/4波長板Die轉換 為圓偏光’照射到移動鏡7Y。藉由移動鏡7Y而沿·Υ方向 反射=反射光’藉由1/4波長板Die而轉換為直線偏光。 %來自1/4波長板Dlc的直線偏光，藉由偏光分光鏡Dla 而方向反射，並藉由反射光用單元D5的反射鏡D5d 而方向反射’進而，藉由反射鏡D5e而沿·Χ方向反 射，藉由偏光分光鏡D5a而沿著-γ方向反射，並作為第1 檢測光入射至檢測部2la。 自第1檢測光用單元D1的1/4波長板Did射出的圓 光’入射至第2檢測光用單元的偏光分光鏡D2a， 17 200846626pif 根據其偏光成分而使偏光分離，且沿著+X方向以及+γ方 向射出。透過偏光分光鏡D2a的Ρ偏光成分，藉由1/4波 長板D2d而轉換為圓偏光後，供給至配置於後段的第3檢 測光用單元D3。 藉由偏光分光鏡D2a而沿+Y方向反射的S偏光成 分，藉由1/4波長板D2c而轉換為圓偏光，且照射到移動 鏡7Y。藉由移動鏡7Y而沿-Y方向反射的反射光再次藉由 1/4波長板D2c而轉換為直線偏光。自1/4波長板D2c沿 ® 著-X方向射出的光的偏光面，相對於沿+Y方向入射至1/4 波長板D2c的光的偏光面旋轉90度。 來自1/4波長板D2c的直線偏光將入射至偏光分光鏡 D2a中，透過偏光分光鏡D2a，藉由角隅稜鏡D2b而沿+γ 方向反射’透過偏光分光鏡D2a，藉由1/4波長板D2c轉 換為圓偏光，照射到移動鏡7Y上。藉由移動鏡7γ而沿_γ 方向反射的反射光，藉由1/4波長板D2c而轉換為直線偏 光。 % 來自1/4波長板D2c的直線偏光，藉由偏光分光鏡D2a 而沿-X方向反射，並藉由1/2波長板D2e使其偏光面旋轉 90度。該光透過第1檢測光用單元D1的偏光分光鏡Dia， 藉由反射鏡D5d而沿-Y方向反射，進而，藉由反射鏡D5e 而沿-X方向反射，透過偏光分光鏡D5a，藉由反射鏡D5c 而沿-Y方向反射，並作為第2檢測光入射至檢測部21b。 自第2檢測光用單元的1/4波長板D2d射出的圓 偏光，入射至第3檢測光用單元D3的偏光分光鏡D3a， 18 200846626 且根據其偏光成分而進行偏光分離，沿著+χ方向以及+γ 方向射出。透過偏光分光鏡D3a的ρ偏光成分，藉由1/2 波長板D3d而使其偏光面旋轉9〇度之後’供給至配置於 後段的第4檢測光用單元D4。 藉由偏光分光鏡D3a而沿+Y方向反射的s偏光成 分，藉由1/4波長板D3c而轉換為圓偏光，照射到移動鏡 7Y。且藉由移動鏡7Y而沿_xs向反射的反射光，再次藉 由1/4波長板D3c而轉換為直線偏光。自1/4波長板D3c 沿著-Y方向射出的光的偏光面，相對於沿著+γ方向入射 至1/4波長板D3c的光的偏光面旋轉9〇度。 來自1/4波長板D3c的直線偏光入射至偏光分光鏡 D3a，並透過偏光分光鏡D3a，藉由角隅稜鏡D3b而沿+γ 方向反射，透過偏光分光鏡D3a，藉由1/4波長板D3c而 轉換為圓偏光，照射到移動鏡7Y。藉由移動鏡7γ而沿_γ 方向反射的反射光，藉由1/4波長板D3e而轉換為直線偏 光。 來自1/4波長板D3c的直線偏光，藉由偏光分光鏡D3a 而沿-X方向反射，並藉由反射鏡D5f而沿_γ方向反射， 進而，藉由反射鏡D5g而沿-X方向反射，並透過反射鏡 D5e，藉由偏光分光鏡D5a而沿-Y方向反射，作為第3檢 測光入射至檢測部21a。 自第3檢測光用單元D3的1/2波長板D3d射出的直 線偏光（S偏光）入射至第4檢測光用單元D4的偏光分光 鏡D4a，藉由偏光分光鏡D4a而沿γ方向反射。再者，此 19 200846626>lf 處，由於第4檢測光用單元D4之後段並未設置其它檢測 光用單元，因此，雖然已藉由第3檢測光用單元D3的1/2 波長板D3d轉換為直線偏光（s偏光），但於後段進而設置 著其匕檢测光用單元的情形時，亦可代替1/2波長板D3d 而設置1/4波長板.，將透過偏光分光鏡D3a的p偏光成分 藉由1/4波長板而轉換為圚偏光之後，供給至該第$檢測 光用單元D4。 藉由偏光分光鏡D4a而沿+Y方向反射的光（S偏光成 分）’藉由1/4波長板D4c而轉換為圓偏光，照射到移動鏡 7Y。由移動鏡7Y沿-Y方向反射的反射光，再次藉由1/4 波長板D4c而轉換為直線偏光。自1/4波長板D4c沿-Y方 向射出的光的偏光面，相對於沿著+γ方向入射至1/4波長 板D4c的光的偏光面旋轉90度。 來自1/4波長板D4c的直線偏光入射至偏光分光鏡 D4a ’透過偏光分光鏡D4a，藉由角隅稜鏡D4b而沿+Y方 向反射，透過偏光分光鏡D4a，藉由1/4波長板D4c轉換 為圓偏光，照射到移動鏡7Y。藉由移動鏡7Y而沿-Y方向 反射的反射光耩由1/4波長板D4c而轉換為直線偏光。 來自1/4波長板D4c的直線偏光，藉由偏光分光鏡D4a 而沿-X方向反射，且藉由1/2波長板D4e使其偏光面旋轉 90度。該光透過第3檢測光用單元D3的偏光分光鏡D3a， 籍由反射鏡D5f而沿-Y方向反射，進而藉由反射鏡D5g 而沿-X方向反射，透過反射鏡D5a，進而透過偏光分光鏡 D5a，藉由反射鏡D5c而沿-Y方向反射，作為第4檢測光 20 200846626f 設置著=j = 2lb。再者，於第4檢測光用單元D4之後段 鏡D5e同光用單元的情形時，使反射鏡D5§與反射 用於光路結合的半反射鏡。 D4,分別的第1〜第4檢測光用單元D1〜 而配置，=^、圖4所示的4條位置測量轴17Y1〜17Y4 台6位於^位置測量軸17Y1〜17Y4配置為，當平板平 第1〜第4 向上的所有行程中的任何之處時，均能夠自 昭射檢心檢測光用單元D1〜W的至少一個對移動鏡7Υ 動鏡7丫的反^處’各位置測量車由17¥1〜17¥4，以比移 並且，以面的長度方向尺寸更窄的間隔進行排列， 且以比f 3條撿測光無法同時照射到移動鏡7Υ的方式， 隔進行2鏡度方向（χ方向）的尺寸略窄的間 χ方向上、糟此，Υ干涉計單元16Υ可於平板平台6的 向上i位Γ有行程（整個移動範圍）中，測量其於以 17Y1^各檢測光用單元D1〜D4而射出至各位置測量軸 ^】a、17Y4上的各檢測光之中的奇數列的檢測光、亦即 L則用單元D1以及第3檢測光用單元D3中射出的 二力二動鏡7Y反射的反射光，入射至檢測部21心檢 、a藉由對因該反射光及同時入射的基準光的干涉所 、的干涉條紋進行檢測，而測量出移動鏡7Y的Y方向 上的位置、亦即平板平台β的γ方向上的位置。又，藉由 用單元m〜D4而射出至各位置測量轴17γι〜 7Υ4上的各檢測光之中的偶數列的檢測光、亦即第2檢測 21 200846626pif 光用單元D2以及第4檢測光用單元D4中 移動鏡7Y反射岐射光，人紅檢測部檢測光自 藉由對因該反射光及同時入射的基準光的干=部叫 涉條紋進行檢測，而測量移動鏡7γ的γ方 生的干 亦即平板平台6的γ方向上的位置。 的位置、

對於入射至檢測部21a的檢測光是第丨檢 D1射出的檢測光、還是第3檢測光用單元切射出的= 光，或者，入射至檢測部21b的檢測光是第2 丄欢測 :射出，檢，還是第4檢測光用^ 測先’可猎由平台控制部12對由干涉計單元破檢^ ^平^平台6於Χ方向上的座標值、與各檢測光用單元 m〜D4的位置測量軸17Υ1〜17Υ4於χ方向上的位 行比較來進行識別。 又，平台控制部12，例如於圖4所示的狀態中， 台6Υ沿著+χ方向移動的情形時，將以位置測量輛17幻 射出的檢測光為依據而由檢測部21&測量出的測量值，更 換為如下減值，該初始值為檢測部21b以隨著移動鏡 移動而與位置測量軸簡上的檢測光科照射移動鏡7γ 的位置測量軸17Υ2上的檢測光為依據的制量值的初始 值（進行初始设定）。以後的位置測量軸l 7Y2盥丨乃^ 位置測量轴ΠΥ3與17Υ4亦相同。將前段的位置測量輛上 的测里值、亦即更換歧行㈣的檢測部的測量值，更 ，後段的位置測量軸上的測量值的初始值、亦即轉換後繼 續進行測量的檢卿的測量_初始值的卵如下所述。 22 200846626 Z / 3 1 〇pif 即，此種測量裝置是測量 的相對移動量的測量裝置，二=位1另-位置移動 移Γ光而無法獲知此時的平台位置。隨著 使得即便』=可藉由重複進行相同的更換順序，而 各位置測量軸17Y1，中= it處二，3由r台控制部心進行，平台控二 值’對平板平台“咖進行控制。;&== 21a、21b中的哪一的測量值 p Α測4

的位置資誠進行控制。 土於X干涉計單元16X ，者’上述第1實施形態中，對於又干 2出單轴檢測光’就γ干涉計單元附 I Γ 樣而使用射出多軸檢測光者。 ，於上“ 1貫麵態巾，基準_單 1示，配置於雷射光源20與第1檢測光用單元Dl =

-己，但不僅限於此，例如，亦可配置於平面W 2檢測光用單元D2與第3檢測光用單元m之間^ = 將基準光料元幻如此配置於第2檢測絲單元從= 23 200846626)if 3檢測光用單SD3之間’而相互縮小各第i〜第 用單兀D1〜D4射出的檢測光的光路長與基準光^ 射出的基準摘姐長之各光路長差值的差異，從而可抑 Ζ:，1起的測量精度的單元間差值(位置測量軸 队.丄4示i貝％形恶的平台位置測量裝置，

=有比移域長度方向尺寸更錢行程的平台，亦可於= ::區域内進行位置測量。因此，即便為了移動大型平板 “二 I:平形 =度的小型移動鏡，因而，可實現平台的輕量化= i π死形態，將 ί雷射光，分配給第1〜第_絲單s m Di源= 為檢測光射出至多個位置測量軸17γι〜ΐ7γ ·、，亚作 ，測光通·動鏡7Y反射較射光巾 ’ 置模組的奇數列第丨及第3檢測 位置測 光由檢測部21a檢測，構成第2位 、3的反射 =檢測光用單元D2，的反射:由 。。因此’可错由兩個檢測部檢： 軸17YWHY4)，故而， （位置測量 一步實現了低成本化。 "°早疋16Υ結構簡略，進

又’即便於進一步擴 數列的情形中追加與第J 大平台行程的情形時，亦可於奇 檢測光用單it m相同的單元^ 24 200846626, 量模組的構成單元，而於偶數列的情形中追 力/、弟2 &測光用單元d2相同的單 槿扭的播+抑- 〕早兀作為罘2位置測置 t'、r it70，以此來應對’而錢增加檢測部的數量。 ，可間單地且以低成本來靈活地應 大。如此，對於載置大型基板、尤 ^十/仃㈣擴 ^ 4C ΛΑ τ , 土败兀具疋基板外徑超過500 mm 有二裝置或者進行圖案曝光的曝光裝置而言較為 [第2實施形態] _其次，參照圖6說明本發明的第2實施形態。圖5所 =「構中’自雷射光源】射出的雷射光，藉由偏光分光 =a Dla〜D3a而分別以5〇%的比率進行偏光分離，並 /刀配給基準光用單元R1以及第1〜第4檢測錢單元D1 /4。因此’隨著進入後段的檢測光用單元，檢測光的能 里（功率、光量）將會下降。本發明的第2實施形態，將 對此問，進行改善，使由鮮光料元R1射出的基準光、 以及由第1〜第4檢測光用單元D1〜D4射出的各檢測光 的功率相互均等。再者，對於與圖5實質相同的結構部分， 賦予相同符號，並省略其說明。 於圖6中，自雷射光源2〇射出的雷射光，入射至反射 80%入射光而使20%入射光透過的部分透射鏡22a，該透 射光將入射至基準光用單元R1的偏光分光鏡Rla。部分透 射鏡22a的反射光，藉由全反射鏡23a而反射，而入射至 反射25%入射光而使75%入射光透過的部分透射反射鏡 22b。部分透射鏡22b的反射光藉由全反射鏡23b而反射， 200846626pif 且供給至第1檢測光用單元D1的偏光分光鏡Dla。透過 部分透射鏡22b的透射光入射至反射33%入射光而使67% 入射光透過的部分透射鏡22c。

部分透射鏡22c的反射光藉由全反射鏡23c而反射， 且供給至第2檢測光用單元D2的偏光分光鏡D2a。透過 部分透射鏡22c的透射光入射至反射入射光而使 入射光透過的部分透射鏡22d。部分透射鏡22d的反射光 藉由全反射鏡23d而反射，且供給至第3檢測光用單元D3 的偏光分光鏡D3a。透過部分透射鏡22d的透射光，藉由 全反射鏡22e、23e而分別反射，且供給至第4檢測光用單 元D4的偏光分光鏡D4a。 可猎由採用如此結構，而將來自雷射光源2〇的射出光 為單位來用作鲜絲及各檢縣。再者，當追加 =光用單元的情形時，對於部分透射鏡22a〜⑽以及追 i 的透料可減其數㈣適纽定，藉 問，可葬二2及各檢測光的功率均等。再者，毫無疑 的透2 =3單元的構成數量’來改變部分透射鏡 2lb 1 = _量。又’若在可由各檢測部2ia、 檢測光的光量範圍内’則無須使卿 [第3實施形態] ίϊ第參及圖8說明本發明的第3實施形態。 沿X轴如圖4所示，就χ干涉計單元欣 對早一位置測量軸爪上照射雷射光束（檢測光） 26 200846626

—* I 進行了說明，而該第3實施形態中，如圖7所示，利用X 干涉計單元16X，不僅對相當於圖4的位置測量軸17X的 位置測量軸17X1，而且亦對與其相鄰的位置測量軸17X2 上知、射雷射光束（檢測光）。

該追加的位置測量軸ΠΧ2是為了檢測出Y平台6Y 圍繞Z轴的細微旋轉角而設置。檢測出的γ平台6Y的細 微旋轉角被供給至平台控制部12,用來使Y平台6Y保持 適當的姿態，並且用於下述的位置测量軸間的初始值轉換 時的該初始值的設定中。 再者，上述第1施形態、第2實施形態以及下述第4 貫施形態中，亦可採用圖7所示的又干涉計單元16又，來 檢測Y平台6Y圍繞z軸的細微旋轉角，以此實施姿態控 制或交付處理。 琢弟3實施形態中 人 一 Y十涉皁兀16Y構成為如吗 斤不。上述第1或者第2實施形態中，於第1〜第4檢測 光用單元D1〜D4中設置一個基準光用單元R1，將由固定 鏡RM反射的基準光分配給檢測部21a以及檢測部训。 相f後此’該第3實施形態的不同之處在於，於代替第！ 〜第4檢測光用單元D1〜D4而使 用單元D11〜D14中，八則乐弟4铋測先 以下刀別—體地設置著基準光用單元。 以下’就该結構加以詳细古穿日jg 相同的⑽部分，者，對於朗5或圖6 則的、、口稱口Ρ刀，賦予相同符號 Υ干涉計單it ι6γ*上，略其既明。 是於平板平台6的向上=1或第2實施形態相同， 方向上的整個行程區域 27 200846626pif 的位置（座標值）進行測量的位置測量裝置，且 (射出）直線偏光的雷射光源（例如，He_Ne *射 以及-對檢測部21a、2.Y干涉計單元16γ進田而呈備分 別包含多個光學元件的第i〜第4檢測光用單元㈣〜胞

=反射光用單it。此處，使用與奇數列位置測量轴 ΠΥ卜17Y3對應設置的第}及第3檢測光用單元皿、 D13與檢測部21a，來構成第η立置測量模組，且使用盥 偶數列位置測量軸ΠΥ2、17Υ4對應設置的第2及第4檢 測光用單元D12、D14與檢測部21b，來構成第2位 量模組。 第1檢測光用單元D11具備偏光分光鏡Dla、角隅棱 鏡Dlb、1/4波長板Die、半反射鏡Dlf、快門如以及固 定鏡RM〗，第2檢測光用單元D12具備偏光分光鏡胁、 角隅稜鏡D2b、1/4波長板D2c、半反射鏡D2f、快門sh2 以及固定鏡RM2。第3檢測光用單元Dl3且備 咖、_鏡腸、1/4波長板取、枝 門Sh3以及固定鏡RM3，第4檢測光用單元dm具備偏 光分光鏡D4a、角隅稜鏡D4b、1/4波長板D4c、半反射鏡 D4f、快門Sh4以及固定鏡RM4。反射光用單元具備反射 鏡 D6a〜D6h。反射鏡 D6a、D6b、D6C、D6d、D6g、D6h 為全反射鏡，反射鏡D6e、D6f為作為光路結合元件的半 反射鏡。快門Shi〜Sh4為如下選擇的照射機構，其藉由 根據其作動來選擇性地打開/阻斷基準光的光路’從擇 性地使光對固定鏡RM1〜RM4進行照射/不照射。再者， 28 200846626, 第1〜第4檢測光用單元Di 1〜dm亦可分別如下所述作 為基準光用單元而發揮作用。 於各偏光分光鏡Dla〜D4a的前段（雷射光源侧），分 別配置著作為光量調節機構的1/2波長板25a〜25d。在1/2 波長板25a的更前段、以及1/2波長板25c的更前段中， 分別配置著頻率調變器（例如，A〇M : Ac〇ust卜〇ptic

Modulator，聲光調變器）24a、24b。該些頻率調變器24a、

24b是使透過的光的頻率產生規定量變化（偏移）者。再 者’此處，雖設置著兩個頻率調變器24a、24b，但亦可省 略頻率調變器24a，而僅設置頻率調變器24b。設置如此的 頻率调變器24a、24b的目的在於，使檢測光輿基準光產生 頻率i，以便檢測部21a、21b進行外差（heter〇办此）檢 測0 自田射光源Lsl沿+X方向射出的直線偏光即雷射 光，由頻率調變器24a使其頻率產生規定量的偏移，並藉 2 1/2波練25a使其偏光峻轉翻角度後，人射至第工 j光用單SDU的偏光分光鏡η·—-·。！/〕 板25a所引起的偏光面的旋轉角度以如下方式設定， 偏光分光鏡Dla而根據該偏光面的角度進行 圍繞長板2進行旋轉，而使雷射光源Lsl 板25a行方疋車，於"亥h形時，亦可省略配置 1/2'波長 藉由偏光分光鏡Dla 而沿+Y方向反射的S偏光成 29 200846626pif ί Dff由:’、1ί長板Dlc轉換為圓偏光，併入射至半反射 鏡Dlf。遗解反射鏡Dlf攸作為撿 ” +反射 鏡7Y，並藉由移動鏡7γ而沿_γ方向反射，透ς半=動 MD1C ° i I/:皮長板ί)Γ考·Y方向射出的光的偏光面，相對於藉由 白】Λ Γ沿+γ方向射出的光的偏光面旋轉90度。

光於m ΐί Dle沿著·Υ方向射出㈣，透過偏光分 先鏡Dla，错由角隅稜鏡mb而沿+γ方向反射 ::光分，鏡Dla ’並藉由1/4波長板mc而轉換“偏 先後，入射至半反射鏡Dlf。透過半反射鏡Dif的光作 檢測光再次照射到移動鏡7Υ，藉由移動鏡7γ而沿_γ方向 反射，透過半反射鏡Dlf，再讀由1/4波餘mc而二 換為直線偏光。 # 來自該1/4波長板Dlc的光，藉由偏光分光鏡Du而 沿-X方向反射，藉由反射鏡D6a而沿-Y方向反射，進而 藉由反射鏡D6e而沿-X方向反射後，作為第i檢測光入射 至檢測部21a。 另一方面，藉由半反射鏡Dlf而沿+X方向反射的光， 於快門Shi開啟的情形時，作為基準光而照射至固定鏡 R】VQ，藉由固定鏡RM1而沿-X方向反射，並藉由半反射 鏡Dlf而沿-Y方向反射後，再次藉由1/4波長板Dle而轉 換為直線偏光。 t 來自該1/4波長板Die的光，透過偏光分光鏡Dla， 藉由角隅稜鏡Dlb而沿+γ方向反射，再次透過偏光分光 30 200846626f 鏡Dla，並藉由1/4波長板Dlc而轉換為圓偏光後，入射 至半反射鏡Dlf。藉由半反射鏡Dlf反射的光於快門Shl ，啟的情形時，作為基準光而再次照射到固定鏡化％^，並 藉由固定鏡RM1而沿_χ方向反射，藉由半反射鏡而進 行反j後，再次藉由1/4波長板Dlc而轉換為直線偏光。 來自邊1/4波長板Dlc的光，藉由偏光分光鏡Dla而 /口-X方向反射，藉由反射鏡D6a而沿_γ方向反射，進而 藉由反射鏡D6e而沿·Χ方向反射後，作為第i基準光入射 至檢測部21a。 其次，透過偏光分光鏡Dla的偏光成分，藉由1/2波 長板2:>b而使其偏光面旋轉預期角度，入射至第2檢測光 用單元D12的偏光分光鏡D2a。1/2波長板25b所引起的 偏光面的旋轉歧是以如下方式設定，於f射光藉由偏光 分光鏡D2a而根據該偏光面的角度進行偏光分離時，該雷 射光的33%被反射而使67%透過。 田 藉由偏光分光鏡D2a而沿+Y方向反射的8偏光成分 的-部分，與藉由偏光分光鏡Dla而反射的s偏光成分同 樣，經由1/4波長板D2C、半反射鏡D2f、偏光分光鏡 以及角隅稜鏡D2b，作為檢測光而照射到移動鏡7γ。繼 而’藉由，動鏡7Υ而經過第二次反射的光，透過半反射 鏡D2f，藉由1/4波長板D2c而轉換為直線偏光，並藉由 偏光分光鏡D2anx方向反射，並藉由反射鏡膽曰而 沿-Y方向反射，進而藉由反射鏡D6f而沿_χ方向反射後， 作為第2檢測光入射至檢測部21b。 31 20084662631f 藉由偏光分光鏡D2a反射的S偏光成分中的藉由半反 射鏡D2f而沿+χ方向反射的光，於快門Sh2開啟的情形 時，作為基準光照射到固定鏡RM2。其後，與藉由半反射 鏡Dlf反射的光同樣，經由半反射鏡D2f、1/4波長板D2c、 偏光分光鏡D2a以及角隅稜鏡D2b，而作為基準光再次照 射到固定鏡RM2。繼而，藉由固定鏡RM2經過第二次反 射的光，藉由半反射鏡D2f進行反射，並藉由1/4波長板 D2c而轉換為直線偏光，藉由偏光分光鏡D2a而沿_X方向 反射，並藉由反射鏡D6b而沿-Y方向反射，進而藉由反射 鏡D6f而沿-X方向反射後，作為第2基準光入射至檢測部 21b 〇 其次，透過偏光分光鏡D2a的P偏光成分，藉由頻率 調變器24b而使其頻率偏移規定量，藉由1/2波長板25c 使該偏光面旋轉預期角度後，入射至第3檢測光用單元 D13的偏光分光鏡D3a。1/2波長板25e引起的偏光面的旋 轉角度設定為，於雷射光藉由偏光分光鏡D3a並根據該偏 光面的角度進行偏光分離時，該雷射光的5〇%被反射而使 50%透過。再者，將頻率調變器2牝引起的頻率偏移量設 定為與頻率調變器24a引起的頻率偏移量不同之量。 藉由偏光分光鏡D3a而沿+γ方向反射的s偏光成分 的一部分，與藉由偏光分光鏡Dla反射的s偏光成分同 樣，經由1/4波長板D3c、半反射鏡D3f、偏光分光鏡D3a 以及角隅稜鏡D3b，而作為檢測光兩次照射至移動鏡7γ。 %而，藉由移動鏡7Υ經過第二次反射的光，透過半反射 32 200846626 鏡D3f，且藉由1/4波長板D3c而轉換為直線偏光，並藉 由偏光分光鏡D3a而沿-X方向反射，藉由反射鏡D6c而 沿-Y方向反射，進而藉由反射鏡D6g而沿-X方向反射， 並透過反射鏡D6e後，作為第3檢測光入射至檢測部21 a。 藉由偏光分光鏡D3a反射的S偏光成分中的藉由半反 射鏡D3f而沿+X方向反射的光，於快門sh3開啟的情形 時，作為基準光照射至固定鏡RM3。其後，與藉由半反射 鏡Dlf反射的光同樣，經由半反射鏡D3f、l/4波長板D3c、 偏光分光鏡D3a以及角隅稜鏡D3b，而作為基準光再次照 射至固定鏡RM3。繼而，藉由固定鏡RM3經過第二次反 射的光，藉由半反射鏡D3f進行反射，藉由1/4波長板]〇沘 而轉換為直線偏光，並藉由偏光分光鏡D3a而沿_χ方向反 射，藉由反射鏡D6c進行反射，進而藉由反射鏡D6g而沿 •X方向反射，進而透過反射鏡D6e後，作為第3基準光入 射至檢測部21a。 Λ 其次，透過偏光分光鏡D3a的P偏光成分，藉由1/2 響技板!5d而使其偏光面旋轉翻歧後，人射至第4檢 測光用單7L D14的偏光分光鏡D4a。將1/2波長板25d引 ，的偏光_旋轉角度設定為，使人射至偏光分光鏡⑽ 中的光100%反射。 藉由偏光分光鏡D4a而沿+Y方向反射的s偏光成分 择:P刀’與藉由偏光分光鏡Dla反射的s偏光成分同 由Μ波長板⑽、半反射鏡D4f、偏光分光鏡D4a _鏡mb’而作為撿測光二次照射至移動鏡7γ。 33 200846626pif 繼而，藉由移動鏡7Y經過第二次反射的光，透過半 鏡D4f，藉由1/4波長板D4e而轉換為直線偏光，並萨射 偏光分光鏡D4a而沿方向反射，藉由反射鏡D6d而=^ 方向反射，進而藉由反射鏡D6h而沿_X方向反射，並=、馬 反射鏡D6f後，作為第4檢測光入射至檢測部2比。過 藉由偏光分光鏡D4a反射的S偏光成分中的藉由半反 射鏡D4f而沿+X方向反射的光，於快門Sh4開^的情形 B守，作為基準光照射至固定鏡RM4。其後，與藉由半反射 春 鏡Dlf反射的光同樣，經由半反射鏡D4f、l/4波長板D4c'、 偏光分光鏡D 4 a以及角隅稜鏡D 4 b，而作為基準光再次照 射至固定鏡RM4。繼而，藉由固定鏡RM4經過第二次反 射的光，藉由半反射鏡D4f進行反射，藉由1/4波長板D4c 而轉換為直線偏光，並藉由偏光分光鏡D4a而沿_χ方向反 射，藉由反射鏡D6d而沿-γ方向反射，進而藉由反射鏡 D6h而沿-X方向反射，並透過反射鏡D6f後，作為第4基 準光入射至檢測部21b。 # 再者’當第4檢測光用單元D14之後段（雷射光源的 相反側）設置著其它檢測光用單元的情形時，反射鏡D6g 以及反射鏡D6h，與反射鏡D6e或反射鏡D6f同為作為光 路結合元件的半反射鏡。又，對於藉由1/2波長板25a〜25d 设定的對應於第1〜第4檢測光用單元D11〜D14的分支 光量比，根據追加的檢測光用單元的單元數而適當變更。 各檢測光用單元Ό11〜；[>14的快門§hl〜Sh4的作動 (開啟或關閉），根據平板平台6 (γ平台6γ)的χ軸方 34 200846626, 拳 向上的位置而由平台控制部ί2來控制。具體而言，平台控 制部12基於X干涉計單元16χ的測量值，來適當地 對移動鏡7Υ照射檢測光的檢測光用單元、與未對移動鏡 7Υ照射檢測光的檢測光用單元。繼而，關閉對移動鏡π 照射檢測光的檢測光用單元的快門，使基準光的光路阻 斷，並開啟未對移動鏡7Υ照射檢測光的檢測光用單元的 快門，使基準光的光路接通，以此方式進行控制。例如， 當判，出γ平台6γ位於第】檢測光用單元如射出的檢 測光照，至移動鏡7Υ的位置上的情形時，平台控制部U 關閉該第1檢測光用單元D11的快門Shl，開啟未對移動 鏡7Y照射檢測光的第3檢測光用單元 同樣，當觸出飞平台6Y位於第2檢 出，光照射至移動鏡7Υ的位置上的情形:平3 制部12關_第2檢測光用單元叱的快門$ : =動鏡7Y照射檢測光的第4檢糊單元m4 _ = 因此，當γ平台6Υ位於第 的檢測光照射至移動鏡7Υ的 ^^011射出 光用，元_射出的第,檢測光與第的 白因^ 5辆時入射至檢測部21a，檢測部化ί由對 行檢測，而測/出二起的干涉條紋進 板平台6的Y方向上的位置。=上:位置、亦即平 於第3檢測光用單元D13的檢測光照射至二= 35 200846626pif 置^的情科，第3檢戦料元m3的第3 光用單的第1基準光同時人射至檢測部仏 =221a#由對因該第3檢測光與第1基準絲干涉所 引t的干涉條紋進行檢測，而測量 向 上的位置、亦即平板平台6的Y方向上的位置。向 ，當Y平台6Y位於第2檢測光用單元m2射出 1::==動鏡7Υ的位置上的情形時，第2檢測 f 的”，同時入射至檢測部2= ==第4基準光的干涉所引起的_^^ “人出移動鏡7γκγ方向上的位置、亦即平 5 ”的γ方向上的位置。與此 二 =二=用料D14射出的檢測光 的位置上的情形時，第4檢 _ 秒助鏡7Υ 測光與第2檢測光用單元Dl2的用第===的第4檢 :之b，檢測部21b藉由對因該第4檢測光 於υ方向上的位置、亦即平的而 =_鏡打 =該第3實郷態中，在$1㈣第置。 間、第3檢測先與第j基準 :” i準光之 準光之間、或者第4檢=;間、弟2檢測光與第4基 頻率調變^ = 間，分別藉由 部训對頻率與該頻率差相等^干%檢^叫或者檢測 測量出移動鏡7Y的γ方向上d:仃外差檢測， J仅置。错此，可高精度地 36 200846626 檢測Y平台6Y,"方向上的位置。 又’於例如圖7所示的狀態中 方向移動的情形時，將檢測部2 沿著 檢測光為依據所測量出的測 置^轴πΥ1的 初始值為檢測部2 又谀马如下初始值，該 軸而上以隨著移動鏡7Υ移動而盘位置測量 軸17Υ1上的檢測光同 ：置測里 =的檢測光為依據的測量值的;置測= 疋）。以麵位置測量轴lm盘 進订初始汉 與17Υ4亦相同。又， 二 位息測量軸17Υ3 相同。 口 ~ 方向移動的情形亦 此處，υ平台6γ有時會隨著該移動而7 & 細微旋轉，當交#、、目㈣而ϋ繞Z軸產生 將奸的^ 時產生該細微旋轉的情形時，若 測部的測量值， j里值亦即又付珂經測量的檢 沾、认杜值直接父付為後段的位置測量軸上的測詈佶 的=值、亦即交付後繼續進行測量的檢測部的測量= 能導致測量精度下降 差有可 藉由乂牛於該弟3只㈣態中，如上所述， 微旋#角Γ並216Χ來檢測出γ平台6Υ圍繞ζ轴的細 量軸：的列旦二檢測的細微旋轉角與前段的位置測 …！： 對後段位置測量軸設定交付初始值，_ 此來準確地進行位置測量。 曰 、口核測邛21a、21b的測量值被供給至平台控制部η， 且段檢測光的檢測值更換為後段檢測光的勒始值等〆’ 里是藉由平台控制部12實施的，平台控制部〗2基於X干 200846626pif 涉計單元l6X以及γ干涉計單元 平板平台6的移動

#根據上述第3實施形態的平台位置測量裝置，可起到 與第1實施形態的平台位置測量裝置相同的效果。又，由 於用於光1調節的1/2波長板25a〜25d設於第1〜各個第 =測光用單元D11〜D14的前段（雷射光源侧），因此， 可=分別利甩與偏光分光鏡Dla〜ma的關係，來適當 地汉=1/2波長板25a〜25d的旋轉角度，從而，使單元之 間=等地分配自第！〜第4檢測光用單元Dii〜DM照射 至移動鏡7Y的檢測光的光量、以及照射至目定鏡議〜 腿)的基準光的光量。再者，即便追加檢測光用單元，亦 可猎由根據該單it數而適當地設定1/2波長板25a〜况的 =轉角度’來使單元之關基準光及各檢測光的功率（光 里）均等。其中，若為可藉由各檢測部21a、21b進行穩定 檢測的技顧，聽紐基準光以及各制光全部均等。 #再者，上述第3實施形態亦可以如下方式構成，於第 1〜第4檢測光用單元D11〜〇14中，藉由半反射鏡而 〜D4f使光產生分支，並介隔快門SM〜SM而設置固定鏡 RM1〜RM4,但亦可如圖9所示，於1/4波長板⑽⑽卜 D3c、D4C)的移動鏡7Y側，設置對可光路自如插拔的活 動^射鏡DM1 (DM2〜MD4)。！！此，第丨〜第4檢測光 用單元中，無須利用半反射鏡Dlf〜D4f進行分支，便可 延擇性地切換入射至各自對應的檢測部21a、21b的檢測光 以及基準光，故可降低目分支所造錢檢·以及基準光 38 200846626 Z/^16pif 的光量損失。再者，如此帶有驅動功能的活 可適用於下述第4實施形態中。又，如此的舌反射鏡，亦 亦可代替快門Shi〜Sh4而進行配置。 、’動反射： [第4實施形態] 其次，參照圖10,就本發明的第4實施 再者，對於與圖5、® 6或者圖8相同的結^ =說明。 相同符號並適當省略其說明。 ^刀’賦予 圖1〇是表示本發明第4實施形態的平台位 的結構的平面圖。γ干涉計單幻6丫具備雷射置 塞曼效應雷射（Zeeman laser)) Ls2，輸出f真++ 歹1 口’ 叫、牙r出）頻率相 兴，且包a偏光面相互正交的兩個直線偏光（p偏光、§ 偏光）的雷射光；以及一對檢測部21a、21b。Y干沣叶單 元16Y進而具備分別包含多個光學元件的第〗〜第= 光用單元助〜㈣、反射光用單元、光分配單元。此I、， 使用與奇數列位置測量軸17Y]L、17γ3對應設置的第p及 第3檢測光用單元D21、D23與檢測部2U，來構成第工 位置測量模組，而使用與偶數列位置測量軸17Y2、17γ4 對應設置的第2及第4檢測光用單元D22、d24與檢測部 21b ’來構成第2位置測量模組。 第1檢測光用單元D21具備偏光分光鏡Dla、角隅稜 鏡〇1卜1/4波長板Die及Dig、快門Shi以及固定鏡RM1， 第2檢測光用單元D22具備偏光分光鏡D2a、角隅稜鏡 D2b、1/4波長板D2c及D2g、快門Sh2以及固定鏡RM2。 第3心測光用單元D23具備偏光分光鏡D3a、角隅稜鏡 39 200846626,f D3b、1/4波長板D3c及D3g、快門Sh3以及固定鏡RM3， 第4檢測光用單元D24具備偏光分光鏡D4a、角隅稜鏡 D4b、1/4波長板D4c及D4g、快門Sh4以及固定鏡腸4。 反射光用單元構成反射鏡D7a〜D7d。反射鏡D7c、D7d 為全反射鏡，反射鏡D7a、D7b是作為光路結合元件的半 反射鏡。再者，第1〜第4檢測光用單元D21〜D24，如下 所述分別亦可用作下述基準光用單元。 光分配單元是將自雷射光源Ls2射出的雷射光（p偏 光以及s偏光）均等地分配至各檢測光用單元D21〜D24 的單元，並具有部分透射鏡26a〜26c以及全反射鏡26d。 自雷射光源Ls2射出的雷射光入射至使入射光的25%反射 且使入射光的75%透過的部分透射鏡26a，其反射光入射 至第1檢測光用單元D21，其透射光入射至部分透射鏡 26b。部分透射鏡26b是使入射光的33%反射且使入射光 的67%透過者，其反射光入射至第2檢測光用單元D22， 其透射光入射至部分透射鏡26c。部分透射鏡26c是使入 射光的50%反射且使入射光的5〇%透射者，其反射光入射 至第3檢測光用單元D23,其透射光入射至全反射鏡26d。 全反射鏡26d使所有入射光反射，且入射至第4檢測光用 單元D24中。 由部分透射鏡26a反射而入射至偏光分光鏡Dla的雷 射光中的P偏光，透過偏光分光鏡Dla，藉由1/4波長板 Die而轉換為圓偏光，作為檢測光照射至移動鏡7γ。藉由 移動鏡7Υ而沿-Υ方向反射的反射光，藉由1/4波長板Dle 40 200846626f 而再次轉換為直線偏光。自1/4波長板Die沿著_γ方向射 出的光的偏光面，相對於沿+Υ方向入射至 的光的偏光面旋轉90度。

八自1/4波長板Die沿著-Υ方向射出的光，入射至偏光 分光鏡Dla，並藉由偏光分光鏡Dla而沿_χ方向反射，藉 由角隅稜鏡Dlb而沿+χ方向反射，藉由偏光分光鏡⑽ 而化+γ方向反射，藉由波長板Dlc而轉換 ，，作為檢測光再次照射至移動鏡7γ。藉由移動鏡7γ而 沿-Υ方向反射的反射光，藉由1/4波長板Dlc而再次轉換 為直線偏光。來自該1/4波長板Die的光，透過偏光分光 鏡Dla，進而透過反射鏡D7a，作為第丨檢測光入射至檢 測部21a。 另一方面，藉由部分透射鏡26a反射而入射至偏光分 光鏡Dla的雷射光中的s偏光，藉由偏光分光鏡Dla而沿 方向反射，並藉由1/4波長板Dig而轉換為圓偏光， 於快門Shi開啟的情形時，作為基準光照射至固定鏡 ，且由固定鏡RM1進行反射，藉由1/4波長板Dig 而再次轉換為直線偏光。自1/4波長板Dig沿-X方向射出 的光的偏光面，相對於沿+X方向入射至1/4波長板Dig 中的光的偏光面旋轉90度。

自1/4波長板Dig沿-X方向射出的光，透過偏光分光 鏡Dla，藉由角隅稜鏡Dlb而沿+X方向反射，透過偏光 分光鏡Dla，藉由1/4波長板Dig轉換為圓偏光後，作為 基準光再次照射到固定鏡RM1，藉由固定鏡RM1而沿-Y 41 200846626pif 方向反射的反射光，藉由1/4波長板Dig而再次轉換為直 線偏光。來自該1/4波長板Dig的光，藉由偏光分光鏡Dla 而沿-Y方向反射，透過反射鏡D7a後，作為第1基準光入 射至檢測部21a。 其次，藉由部分透射鏡26b反射而入射至偏光分光鏡 D2a的雷射光中的p偏光，與入射至偏光分光鏡Dia的雷 射光中的P偏光相同，經由偏光分光鏡〇2&、1/4波長板 D2c以及角隅稜鏡D2b，而作為檢測光二次照射至移動鏡 籲 7Y。繼而，藉由移動鏡7Y反射二次的光，藉由1/4波長 板D2c而轉換為直線偏光，透過偏光分光鏡D2a，進而透 過反射鏡D7b後，作為第2檢測光入射至檢測部21b。 另一方面，藉由部分透射鏡26b反射而入射至偏光分 光鏡D2a的雷射光中的s偏光，於快門Sh2開啟的情形時， 與入射至偏光分光鏡Dla的雷射光中的S偏光相同，經由 偏光分光鏡D2a、1/4波長板D2g以及角隅稜鏡D2b，而 作為基準光二次照射到固定鏡RM2。繼而，由固定鏡RM2 • 第二次反射的光，藉由1/4波長板D2g而轉換為直線偏光， 並藉由偏光分光鏡D2a而沿-Y方向反射，透過反射鏡D7b 後’作為第2基準光入射至檢測部2比。 其次，藉由部分透射鏡26c反射而入射至偏光分光鏡 的雷射光中的P偏光，與入射至偏光分光鏡的雷 射光中的P偏光相同，經由偏光分光鏡D3a、1/4波長板 D3e以及角隅稜鏡D3b，而作為檢測光二次照射到移動鏡 7Y。繼而，藉由移動鏡7Y第二次反射的反射光，藉由1/4 42 200846626f —— —一 l 波長板D3c而轉換為直線偏光，透過偏光分光鏡D3a，進 而透過反射鏡D7b後，作為第3檢測光入射至檢測部21a。 另—方面，藉由部分透射鏡26c反射而入射至偏光分 光鏡D3a的雷射光中的δ偏光，於快門Sh3開啟的情形時， 與入射至偏光分光鏡Dla的雷射光中的S偏光相同，經由 偏光分光鏡D3a、1/4波長板D3g以及角隅稜鏡D3b，而 作為基準光二次照射至固定鏡RM3。繼而，藉由固定鏡 RM3第二次反射的光，藉由1/4波長板D3g而轉換為直線 偏光’並藉由偏光分光鏡D3a而沿-Y方向反射，由反射鏡 D7c進行反射，且藉由反射鏡D7a而沿-Y方向反射後，作 為第3基準光入射至檢測部21a。 其次’藉由全反射鏡26d反射而入射至偏光分光鏡 D4a的雷射光中的P偏光，與入射至偏光分光鏡Dla的雷 射光中的P偏光相同，經由偏光分光鏡D4a、1/4波長板 D4c以及角隅稜鏡D4b，而作為檢測光二次照射至移動鏡 7Y。繼而，藉由移動鏡7Y第二次反射的光，藉由1/4波 長板D4c而轉換為直線偏光，透過偏光分光鏡D4a，進而 透過反射鏡D7d，藉由反射鏡D7b而沿-Y方向反射後，作 為第4檢測光入射至檢測部21b。 另一方面’藉由全反射鏡26d反射而入射至偏光分光 鏡D4a的雷射光中的S偏光，於快門Sh4開啟的情形時， 與入射至偏光分光鏡Dla的雷射光中的S偏光相同，經由 偏光分光鏡D4a、1/4波長板D4g以及角隅稜鏡D4b，而 作為基準光二次照射至固定鏡RM4。繼而，藉由固定鏡 2008466203if RM4第二+次反射的光，藉由i/4波長板D4g而轉換為直線 偏光’並藉由偏光分光鏡D4a而沿_γ方向反射，藉由反射 鏡D7d進行反射，藉由反射鏡D7b而沿_Υ方向反射後， 作為第4基準光人射至檢測部21b。 、“再^於第4檢測光用單元D24之後段設置著其它檢 測光用單it的情形時，反射鏡阶以及反射鏡咖，與反 射鏡D7a或者反射鏡D7b相同，是作為光路結合元件的半 反射鏡。

各檢測光用單元而〜譲的快門SM〜的作動 ，啟或關閉），相應於平板平台6 (γ平台⑺的乂轴 亚2 士的位置’由平台控制部12來進行控制。具體而言， 控制部12基於Χ干涉計單幻6χ的測量值，來適去 =別對移動鏡7Υ照射檢測光的 ^ 照射檢測光的檢测光用單元。繼：，開啟= 動鏡7Υ照射檢測光的檢測光料 光路接通，並關閉未對移動鏡7γ照射檢^ = 單元的快門，阻斷基準光的光路，以此;式== 如，當判斷出Υ平台6Υ位於第！檢測Λ = ，峨照，鏡7Υ的位置上二== 4 U開啟該第1檢測光用單元助的朗 :、1 处3。同樣，當判斷出γ平台 ^用早7^助的快門 =㈣檢測光照射至移動二::^^ 平口控制部開啟該第2檢測光用單元助的^^’， 44 200846626 opn' 照射檢測光的第4檢測光用單元D24 測光照射至移動鏡7γ的：：=剛光用單元D21的檢 單元的第〗檢測光與第置i檢：::第丄檢戦用 基準光同時入射至檢測部加，檢測部21a早:由1 檢測光與第1基準光的 對口該弟1

而測量出移動鏡tΓ條紋進行檢測， 的γ方，位置。 測光用早7G D23的檢測光照射至移動鏡7丫的位置:3 ^ 用早το D23的第3基準光同時入射至檢 ^貝先 21—a藉由對因該第3檢測光與光;:所=部 干涉條紋進行檢測，而測量_鏡7；^==的 置、亦即平板平台方向上的位置/Y方向上的位

關閉未對移動鏡7γ 的快門Sh4。 的 光用單元D2射出的第2檢測^^1㈣’第2檢測 的第，光同時入射至檢測部m，檢：=24 行檢測，而測量出移動鏡干涉條紋進 板平台6的γ方向上的位置。盘此相^木位置、亦即平 於第4檢測光用單元D24射出的’虽Y平台6Y位 的位置上的情科，第射至移動鏡7Υ 』尤用早7°D4射出的第4檢 45 5pif 200846626 檢測光用單元D24的第4基準光同時入射至檢 泰P 21b，檢測部21b藉由對因該第4檢測光盘第4 所弓丨起的平涉條紋進行檢測，而測量出移動鏡^γ 的Υ方向上的位置、亦即平板平台6的丫方向上的位置 實施形態中，在第i _光與第i基準光之 準光齡3基準光之間、第2檢測光與第2基 ΪΪ之間、或者第4檢航鱗4基準光之間，分別藉由 ί;::Γ而產生頻率差’檢測部21a或者檢測部叫 差祕的干涉信號騎外差檢測，測量出 的Y方向上的位置。藉此，可高精度地檢測Y 千台6Υ的γ方向上的位置。 鱼f段的位置測量轴的她㈣交付及其設定， /、上逑弟3實施形態相同。 盘繁?2述第4實施職的平台位·量裝置，可起到 ” 施形態的平台位置測量装置相同的效果。 φ田=而’來自雷射光源Ls2的射出光可以25%為單位， 士作基準光以及各制光。再者，追加檢㈣單元的情 可根據其數量，適當地設定部分透射鏡26a〜施 ^加的部分透職的透射率，龜可使基準光以及各 的功率均等。再者，#然可根據檢測絲單元的構 =、來改k部分透射鏡的透射率，從而調節光量。其 円务為利用各檢測部21a、21b而可進行穩定檢測的光量 乾圍，則基準光以及各檢測光不均等亦無妨。 再者，於以上說明的第丨〜第4實施形態中，各位置 46 200846626 測1軸17Y1〜17Y4以射出 中的3束檢挪光無法同時照；量檢測先 於Χ軸方向上，但當並非於相鄰的位置== 1及第2位置測量模組間轉 置^軸間、亦即第 此，亦可以4束檢測光無法同時照4:=^ 隔而進行排列。—般而言，第 冰動鏡7Υ上的間 各位置測量輛可以如下人叶為位置測量模組中的 到移動鏡7Υ的間隔而“排 法同時照射 •第！位置測量模組中所包含二置檢至 光射出至第2位置測量模組中 f2束核測 而古夕，Y缸十人 f匕3的位置測量軸上，換 /之X軸方向上排列的4個位置測量軸 1 八它端轴為止的軸間距離可 的車到

軸方向上的尺寸。 ㈣鏡7丫的反射面的X 如此配置各位置測量軸，使得來自第〗及 =二7置測量轴的檢測光，不咖 個檢測部’因此，可基於該檢測光，於χ 1 内，來測量移動鏡7Υ的Υ軸方向上的位置二固 田乂 f夕動鏡7Υ的X轴方向上的位置，於第 置測間進行測量值交付的情形時，由於來自 = 置測量轴的檢測光分別入射至檢測部21&、训中 可 準確地交付測量值。 了 又，上述第3以及第4實施形態中， 咖〜叫的每一個，於基準光的光路 47

200846626pif 於錢’丄亚選擇性地打開及阻斷基準光的光路，但旅养限 即的光路，可進硫置於檢測光的光路上。由此， 日:，3束或3束以上檢測光同時照射移動鏡π的情 二卞可错，當地阻斷檢測光的光路，來以所需的時 B#延以及第2位置測量模組間轉換測量值。於該情形 1及上解有關各位置測量_排列間隔的條件，來使第 及弟2位置測量模組的配置自由度得以擴大。

量模ί 第^第4實施形態中，2個位置測 限於2個、^弟1及弟2位置測量模組，但模組數量不必 個位置列為纽等於3個模組。於該情形時，1 它位置測二 置測量軸間，以配置其 測量模組即可+ w万式而配置各位置 ? 亦可與上述第1及第2位置 、】里換、、且相同’各位置測量模組中共用基 、爺 射光源、頻率調變器等。 早兀m [元件製造方法] « 上述各實施形態的曝光裝置中， 實施將形成於遮罩M上_ =^先學糸統， 光基板（平板）上的曝光步驟，、谁:1木曝光轉印於感 的圖案顯影的顯影步驟 J而’貫施將經曝光轉印 元件、攝像元件Y驟滅製歧晶顯科件、半導體 流程圖，說明如下方法的—個下’^圖π所示 一實施形態的曝光裝置，於 p ’糟由使用上述任 規定的電關案，_此料2祕板的平板等上形成 碏此獲侍作為微型元件的半導體元件。 48 200846626 J16pif = 的㈣_中，於平板p上蒸鐘金屬 :光驟S102中，於該平板p上的金屬膜上塗 (Λ st)°其後’於步驟測中，使用上述 傻的曝光裝置，使形成在遮罩M上的圖案的圖 ==光學系統PL，依次曝光轉印於該平板p上的各 Γ其後，於步驟_中，對該平板P上的光 阻J進仃頒影處理之後，於步驟S105中，於該

將光阻圖案（轉印圖案層）作為遮罩行二反亡’ 於平板P上形成與鮮Μ關轉應㈣路_。错此 體進：成ΐ層Μ的電路圖案等，藉此來 = ί = 轉上述半導體元件製造方法， I低=本地製造半導體元件。再者，步驟siqi〜步驟_ 繼而、隹，^上减金屬，且於該金輕上塗佈光阻劑， 七而進㈣光、顯影、勤】各步驟 前’於平板p上形成魏化膜後，於該 阻，繼而實施私、顯影、勤]等各步驟。、 璃各態的曝光裝置’可藉由於平板（玻 璃基板）Ρ上形成規定的圖案（ 而獲得液晶顯示元件等液晶元件。以下二 =;尋： 流程圖，說明此時的方法的一例。首先同θ不勺 安帘忐+驟例百先，於圖12中，於圖 开=1:貫施所謂的光微影步驟，即，使用上 *光裝置，將遮罩Μ的圖案的圖像轉印 曝先於作斜板Ρ _光基板（塗 等)。藉由該光微影步驟，於感光基板上形成== 49 200846626Pif 等的規定圖案。其後，經曝光的基板，經由顯影步驟、餘 刻步驟、光阻剝離步驟等各步驟，於基板上形成規定的圖 案後’轉入之後的彩色濾光片（color filter)形成步驟S202。 其次’於彩色濾、光片形成步驟S202中，以矩陣狀形 成多個對應於R ( Red)、G ( Green)、B (Blue)的3個點 陣組，或者形成由多個r、G、B的3根條紋狀的濾光片 組排列於水平掃描線方向上而組成的彩色濾光片。繼而， 於彩色濾光片形成步驟S202後，實施胞組裝步驟S2〇3。 於胞組裝步驟S203中，例如，於具有圖案形成步驟S2〇1 中所付的規定圖案的基板、與彩色濾光片形成步驟S2〇2 中所得的彩色濾光片之間注入液晶，製造液晶面板（液晶 胞）。 其後，於模組組裝步驟S204中，安裝進行經組裝的 液晶面板（液晶胞）顯示動作的電子電路、背光源（back light)等各零件，完成液晶顯示元件的製作。根據上述液 晶顯示元件的製造方法，可以低成本且以高生產率來製造 液晶顯示元件。 一再者，以上說明的實施形態是為了易於理解本發明而 揭二者，並非對本發明加以限定。因此，上述實施形態中 揭不的各要素，包含本發明的技術範圍内的所有 或相似者。 ^ 例如，上述實施形態中，使用超高壓水銀燈作為光 但亦可使用KrF準分子雷射（exeimer iaser)光（^長248 nm)、ArF準分子雷射光（波長193 nm)、F2雷射光\(波 50 200846626f 一，一 —i 或者Ar2雷射光（波長126 nm) *。亦可代 曰準刀子雷射，而使用例如波長為248 nm、193麵、157

=任-者中具有振盪光譜（speetnlm)的YA 雷射的諧波。 田別子 又’亦可使用譜波，該譜波是將自胸（齡腕^ 分散式反饋）半導體雷射或者光纖雷射而振盈 卜線區域或者可見光區域的單—波長雷射光，藉由例 …夢雜鋅（或者铒與镱兩者)的光纖放大器（fiber ampiifier ) 大，亚使时線性光學結晶，來進行波長轉換而成 4外光。進而’亦可使用自雷射電聚光源或者從s〇r synchrotron orbital radiati〇n，同步輻射）產生的軟 χ 線 區域例如波長為13·4 _或1L5麵的EUV(Ext_e V1〇let’超紫外線）光。進而，亦可使用電子束或離子束等 帶電粒子束。 再者，於上述各實施形態中，例示了具有第丨〜第4 檢測光用單元D1〜D4、D11〜D14或者D21〜D24者，但 馨亦可構成為以第1及第2檢測光用單元D1、D2、而、 D21或者D21、D22為最小單位，並以2個為單位而進行 t叹。又，例不了對平板平台6使用第1〜第4檢測光用 單元的h況，但亦可對遮罩平台5使用第丨〜第4檢測光 用單元。又，對具鮮個局部投影光學系統的曝光裝置進 订了說明，但亦可應用於僅具備一個投影光學系統的曝光 裝置。又，亦可將即是光調變器的DMD ( Digital MiCr〇mirror Device，數位微型反射鏡元件）等用於遮罩％ 51

Pif 200846626 的一部分’藉此縣發明編於如下的無遮轉光裝置， 該裝置並不使用預先形成有圖案的遮罩。 又’毋庸置疑，本發明的位置測量裝置適合用於上述 曝光裝置巾’但並不限於如此㈣歧置，亦可應用於且 備使物體（移浦）移動的平台裝㈣其它各聲置中二、 本說明書，與包含於2007年3月8曰提 專利申請第厕·〇57939號中的主題相關，本 均作為參照事項而清晰地編入本文中。 、々有說明 【圖式簡單說明】 圖1是表不本發明第1實施形態的曝 構的圖。 *尤衣置的概略結 圖2是表示本發明第,實施形態的曝光 照明光學系統的概略結構的圖。 具備的 圖3是表示本發明第丨實施縣的局部 的視場區域與遮罩的平面位置__。〜先十糸統 圖4是表示本發明第！實施形態 位置測量裝置的概略結構的平面圖。 十^及平台 圖5是表示本發明第1實施形態的干涉計置- 結構的平面圖。 早疋的具體 圖6是表示本發明第2實施形態的干涉 結構的平面圖。 早7L的具體 圖7是表示本發明第3實施形態的平板 位置測量裝置的概略結構的平關。 。及平台 圖8是表示本發明第3實施形態的干涉計 平7^的具體 52 200846626, 結構的平面圖。 圖9是表示本發明的第3實施形態的變形例的圖。 圖10是表示本發明第4實施形態的干涉計單元的具體 結構的平面圖。 圖11是表示本發明實施形態的半導體元件的製造方 法的流程圖。 圖12是表示本發明實施形態的液晶顯示元件的製造 方法的流程圖 【主要元件符號說明】 1 :超高壓水銀燈 2 :橢圓鏡 3 :光導 3a :光入射部 3b :光射出部 4:聚光透鏡 5 :遮罩平台 6 :平板平台 6X : X平台 6Y : Y平台 7、7Χ、7Υ :移動鏡 8 :指標板 9:空間圖像感應器 10 :主控制器 Π:本體控制部 53 200846626pif 12 :平台控制部 13 :遮罩平台驅動部 14 :平板平台驅動部 14X : X方向驅動部 14Y : Y方向驅動部 15 :基座 16 :平台位置測量裝置 16X ·· X干涉計單元 φ 16Y : Y干涉計單元 17X、17X1、17X2、17Y1 〜17Y4 ··位置測量軸 20、Lsl、Ls2 :雷身f光源 21a、21b :檢测部 22a〜22d、26a〜26c :部分透射鏡 AX :光軸 EA1〜EA5 :視場區域 Dl、Dll、D21 :第1檢測光用單元 φ D2、D12、D22 :第2檢測光用單元 D3、D13、D23 :第3檢測光用單元 D4、D14、D24 :第4檢測光用單元 Dla〜D5a、Rla :偏光分光鏡 Dlb〜D4b、Rib :角隅稜鏡

Die、Did、D2c、D2d、D3c、D4c、Rlc、Rid、Rle : 1/4波長板 D2e、D3d、D4e、D4e、25a〜25d : 1/2 波長板 54 20084662各 D5 :反射光用單元

Dlf〜D4f、D5b、D5c、D5d、D5f、D5g、D6a、D6b、 D6c、D6d、D6g、D6h、D7c、D7d :全反射鏡 D5e、D6e、D6f、D7a、D7b :半反射鏡 II〜15 :照明光學系統 IA1〜IA5 :照明區域 LSA :遮光部 Μ :遮罩 Ρ ·平板 ΡΑ :圖案 PL :投影光學系統 PL1〜PL5 :局部投影光學系統 R1 :基準光用單元 RM、RM1〜RM4 :固定鏡（反射鏡）

Shi〜Sh4 :快門 XYZ :正交座標系 55

Claims (1)

1. 200846626)if 十、申請專利範園·· 種位置餐顧，其特徵在於包括. ^動鏡，設於移動體，且沿著第 向 檢測光單元，針對卜汁筮】万白具有反射面； 量軸中的每一個而配置，沿著鱼上述列著的多個測 2軸方向對上述移動鏡照射檢觀轴方向交又的第 述移結合^件’針對每-個上述測量軸，對由上 或者的各檢測光路進行光路結合， 述述基準光的基準光路與上 =部’對經由上述光路結合元件而人射的上述檢則 ^上逑基準光的干涉所引起的干涉條紋進行檢測， 的檢測結果，測量上述移動體於上述第2軸 多個1 如t申ρ5ί利範圍第1項所述的位置測量模組，其中 時以2束或2束以上的上述檢測光無法同 守Α射至上述移動鏡之間隔進行排列。 《3·如申請專利範圍第〗項或第2項所述的㈣測量模 ί叙i中多個上述測量軸排列於上述第1軸方向上的上述 和動體的移動範圍内。 ^ 4·如申明專利範圍第丨項或第2項所述的位置測量模 、、且，其中上述基準光單元包含選擇照射機構，該選擇照射 56 200846626if 機構針對每一個上述測量轴而設置，對上 地照射以及不照射上述基準光。 擇!·生 5.如申請專利範圍第4項所述的位置測量模 選擇照射㈣部，闕顧射控制部使上述 匕 ”弟上述檢剩光單元相鄰的第2上述檢測光單元，第 1上述檢測光單元對上述移動鏡照射上述檢測光。^ 、隊6·如申明專利範圍第4項所述的位置測量模组，勺 選擇照射控制部，該選擇照射控制部使上述準光 構擇一性地作動，該選擇 = 對上述移動鏡照射上述檢測光的上述檢測光單元 7. 如中請專利範圍第4項所述的位置測量_， ^選擇照射機構包含快門機構以及插拔機構卜 機t選擇性地開啟及關閉上述基準光對上箱 ==鏡該插拔機構對上述檢測光的光路選擇性地插 8. 如巾料纖㈣丨項㈣2 =其中上述檢測部’相應於上述移動 = 上述檢測光單元的上心^ 、:由^基料早_上述基準光所引起的第丨干涉條 或者經由弟2上4檢測光單元的上述檢 先所弓丨起的第2干涉條紋進行檢測。 尤及4基旱 組，9包 2項所她置測量模 括頻千5周父益，該頻率調變器使上述檢測光以及上 57 200846626pif 述基準光中的至少一者的頻 與上述基準光之間生成解差；k化’且於上述檢測光 對上述干涉條紋進行外差檢測。 上述頻去調Γ ί利範严9項所述的位置測量模組，其中 針對每—個上述測量軸而設置，使每-個 該測里軸的上述頻率的變化量不同。 1 口 11.如申請專利範圍第1項或第2适所外、沾Α里、a r θ 組，包括將頻率以及項所述的位置測量模 外差檢Γ 上述檢測部對上述干涉條紋進行 組，1包2ΐ巾請專利朗第1項或第2項所述的位置測量模 光，农置，對多個上述檢測光單元供給雷射光；以及 檢、、則機構，對每一個上述測量轴，調節作為上述 才測先而刀支的上述雷射光的分支光量比。 13·如申請專利範圍第12項所述的位置測量模組，其 節裝置供給直線偏光的上述雷射光，上述光量調 為構s有使上述雷射光透射的1/2波長板。 =·一種位置測量裝置，其特徵在於，包括多個如申請 利範圍第1項至第13項中任一項所述的位置測量模組， 〜多個上述位置測量模組中的第丨位置測量模組的第工 及弟2上述測量軸之間，配置著第2位置測量模組的上述 測量軸。 ^ 15·如申凊專利範圍第14項所述的位置測量裝置，其 58 200846626lf _上述第1位置測量模組的上述軸與上述第2位 里模組的上述測量轴，是以比上述第2轴方向上的上 動鏡的反射面尺寸窄的間隔而配置。 一署16 =請、專利範圍第14項或第15項所述的位置測量 八中亡述弟1位置測量模組中的第1及第2上述測 置軸與j述第2位置測量模組的上述測量轴，是以射出至 咖述檢測光無法同時照射至上述移動鏡的 請、專利範圍第14項或第15項所述的位置測量 衣/、中上述第1位置測量模組中的 =與，位置測量模組中的第1及第二= 上述檢測光無法同時照 穿置圍第14項或第15項所述的位置測量 ti檢=述第上及第2位置測量模組中的至少-者二 的偏光在檢測部的上述檢測先 元件。 及弟2位置測賴組間不同的偏光調節 裝置圍第14項或第15項所述的位置測量 上述第1 一部，制量㈣部根據上述移動體於 ==的位置及上述第I位置測： 述第2位置測龍_測量初始值。 中上= 旦= 專利範圍第19項所述的位置測量裝置，复 〜’、里工制部根據上述第J位置測量模組的一個上述 59 if 200846626 測量轴上的上述測量結果，來設定與該測 第2位置測量模組的上述測量轴上的上述測量^的上述 21·如申請專利範圍第19項所述的位置。，。 括對上述移動體於上述第！轴方向上的位 ϋ，包 置感應器，且 進仃剛1的位 上述測置控制部根據上述位置感應器的 設定上述測量初始值。 j里、、、〇果，來 22·如申料利範㈣21項所述的位置测 w位置感應器對上述移動體於上述第2軸方^ /、 處，測量上述第…方向上的位置Λ弟2轴方向上的多 中上利範圍第21項所述的位置測量裳置，a 中上述位置感應器包含雷射干涉計。 里衣置其 弟1軸方向正交的第2轴 乂及”該 的位置進行測量的位置· ^一^向上移動的移動體 多個測量軸，測徵在於包括： 配置於上述第i轴方二向的位置’並且分隔 方向移動後的位置進行測量；以及動°者上述弟1軸 多個檢測部，面對上述多個 上述移動體的位置； 、里軸而自又置，用來檢測 量。且，上述多個檢測部的數量少於上述多個測量軸的數 25.-種平台|置，其特徵在於 如申請專利範圍第14項至第23項中任一項所述的位 60 df 200846626 置測量裝置；以及 平台部，設有上述移動鏡，保持物 述第1轴方向以及上述第2軸方向移動.使·體向上 為上;移量裝置’測量上述平台部的位置來作 曝：置一種==圖案的像轉印顧 置測ΐΓί專利範圍第14項至第23項中任一項所述的位 基板平台，設有上述移動鏡， 該感光基板向上述第2 並使 且’上述位置測量裝置，測量上 ;置 作為上述移動體的位置。 土孜十口的位置來 利範圍第26項所述的曝光裝置，包括： 遮罩千σ，保持形成著上述圖 向上述第1軸方向移動，·以及 罩域该遮罩 曝光控制部，使上述基板 述第1軸方向同步軸， I ^遮罩平台向上 感光基板上。 將上相案的®像轉印至上述 ^丄-種元㈣造方法，其特徵在於 t步驟，使用如中請專利範圍第2 所=裝置’將上述_像轉印至上述項 、知上边感光基板上形成對應於該圖案的像的形狀 61 200846626pif 的轉印圖案層；以及 加工步驟，隔著上述轉印圖案層來對上述感光基板進 行力口工。

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