JPH0875409A - レーザー測長装置 - Google Patents

レーザー測長装置

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JPH0875409A
JPH0875409A JP6230667A JP23066794A JPH0875409A JP H0875409 A JPH0875409 A JP H0875409A JP 6230667 A JP6230667 A JP 6230667A JP 23066794 A JP23066794 A JP 23066794A JP H0875409 A JPH0875409 A JP H0875409A
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mirror
laser
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measuring
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JP6230667A
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Masayuki Takahashi
正幸 高橋
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明は、バーミラーの長さを増加すること
なく、ストロークを2倍あるいはN倍のストロークを測
長できるレーザー測長計を実現することを目的とする。 【構成】 レーザー光源50のレーザー光線をN分配し
てN個のオプチクスモジュール20に供給するN−1個
のビームスプリッタ14を設け、移動するバーミラー1
01から反射するレーザー光線を、何れかのオプチクス
モジュールで検出する光学配置とした、N個のオプチク
スモジュール20を設け、N個のオプチクスモジュール
20からの検出信号を受けて、このN個の検出信号を切
り替えてバーミラー101移動距離を計測する測長計数
部30を設ける構成手段。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、レーザー測長装置に
おいて、X軸方向あるいはY軸方向に大きな移動距離を
移動するステージ(台)の位置を測長するレーザー測長
装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来技術の例としては、XYステージの
距離を測定するレーザー測長計の場合がある。これにつ
いて、図3と図5を参照して説明する。本装置の構成
は、図3に示すように、レーザー光源50と、リファレ
ンスレシーバー54と、ビームスプリッタ56と、反射
鏡58と、オプチクスモジュール60、70と、ステー
ジ100と、測長計数部80とで構成している。
【0003】ステージ100は、外部からの駆動手段に
より、XY両方向に移動させる台である。このステージ
100上には、例えばシリコンウエハ等のような被移動
品が置かれて0.1μm程の精密な位置決めを行う。こ
のステージの直交する2側面には、レーザー光を反射さ
せてこのステージ100の位置を計測する為のバーミラ
ー(棒状の反射鏡)が設けてある。X方向反射用として
Xミラー101が、また、Y方向反射用としてYミラー
102が取り付けてある。このバーミラーの長さは、レ
ーザー光を反射させる為にステージの移動距離+αの長
さが必要である。
【0004】レーザー光源50は、2つのレーザー周波
数f1、f2をビームスプリッタ56、及びリファレンス
レシーバー54に供給する。この2つのレーザー周波数
f1、f2は、互いに90度の偏光された光線である。こ
のレーザー周波数f1、f2の周波数差fdifは、例えば
数MHz程度であり、極めて隣接した周波数関係で発生
している。リファレンスレシーバー54は、レーザー光
源50からのレーザー周波数f1、f2を干渉させた後の
干渉縞である基準干渉周波数fR=f2−f1を電気信号
に変換し、デジタルパルス信号に変換した後、この基準
干渉周波数fR信号を測長計数部80に供給している。
ビームスプリッタ(Beam splitter)56は、入射光を
2つに分ける光学素子であり、レーザー光源50からの
レーザー光をオプチクスモジュール60側と、反射鏡5
8を経由してオプチクスモジュール70側に供給してい
る。
【0005】オプチクスモジュール60の内部構成は、
図5に示すように、偏光ビームスプリッタ61と、1/
4波長板62、64と、リファレンスミラー63と、レ
シーバー66とで構成していて、ステージ100のXミ
ラー101からの反射光線を受けて、X方向の移動速度
と遠近移動方向を検出する。偏光ビームスプリッタ61
は、偏光に依存して透過/反射するビームスプリッタで
ある。レーザー光源50からの互いに90度に偏光され
た2つのレーザー光線f1、f2を受けて、一方のレーザ
ー光線f1側は、この偏光ビームスプリッタで反射して
1/4波長板62を通過し、リファレンスミラー63で
反射して再び偏光ビームスプリッタ61に入射する。こ
のときの入射光線は、1/4波長板62を2回通過して
90度偏光された結果、今度は、偏光ビームスプリッタ
61を透過してレシーバー66側に至る。他方のレーザ
ー光線f2側は、偏光ビームスプリッタを透過して1/
4波長板64を通過し、ステージ100のXミラー10
1で反射して再び偏光ビームスプリッタ61に入射す
る。このときの入射光線は、1/4波長板64を2回通
過して90度偏光された結果、今度は、偏光ビームスプ
リッタ61を反射してレシーバー66側に至る。これに
より、2つの光線は干渉縞を生成してレシーバー66に
出力される。この干渉縞光線を電気信号に変換し、デジ
タルパルス信号に変換した後、この測定干渉周波数fx
信号を測長計数部80に供給している。この測定干渉周
波数fx信号は、fx=(f2±fdop)−f1として表せ
る。ここでfdop=2v/λであり、Xミラー101が
遠近移動することにより生じるドップラ効果による成分
要素であり、近づくと+fdopとなり、遠ざかると−fd
opとなる。
【0006】オプチクスモジュール70は、上記説明の
オプチクスモジュール60と同様であり、ステージ10
0のY方向のYミラー102の移動速度と遠近移動方向
を検出するものであり、測定干渉周波数fy信号を測長
計数部80に供給している。
【0007】測長計数部80は、方向検出部81b、8
2bと、UP/DWNカウンタ81、82とで構成して
いる。これは、基準干渉周波数fR信号と、測定干渉周
波数fx信号と、測定干渉周波数fy信号を受けて、パル
ス数を計数して、ステージのX方向、Y方向の距離を求
めるものである。方向検出部81bは、X方向の移動距
離の計数制御部であり、基準である基準干渉周波数fR
信号と、Xミラー101の遠近移動方向に対応して得ら
れた測定干渉周波数fx信号を受けて、この両周波数の
差をとった値、Δf=fx−fR=±fdopが移動距離と
して得られ、これをUP/DWNカウンタ81のカウン
トパルスとして供給する。また、このΔf信号は、近づ
くと+fdopとなり、遠ざかると−fdopとなる信号が得
られる。これから、fxとfRの周波数値を比較し、この
比較結果をUP/DWNのカウント方向制御信号として
供給する。UP/DWNカウンタ81は、X方向の移動
距離の計数器であり、予め、ステージ100を原点位置
に移動させた状態でカウント値を初期化クリアしてお
く。上記方向検出部81bからのカウントパルスと、カ
ウント方向制御信号を受けて、UP/DWNのカウンタ
動作をして、移動距離を積算計数する。Y方向の移動距
離の計数についても同様であり、方向検出部82bと、
UP/DWNカウンタ82で移動距離を積算計数する。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】本方式のレーザー測長
計においては、ステージ100がY方向に移動する移動
範囲、即ちYストロークは、Xミラー101の長さ未満
に制限される。また、ステージ100がX方向に移動す
る移動範囲、即ちXストロークは、Yミラー102の長
さ未満に制限される。ところで、近年においては、ステ
ージの移動範囲(ストローク)が長くなっている。この
長ストロークに対応する為には、図4に示すように、バ
ーミラーであるXミラー101、Yミラー102も長く
する必要がある。しかし、長尺のバーミラーになると、
鏡面のねじれ、湾曲歪みが生じやすくなり、同一平面精
度を0.1μm程度の超平面を維持する必要がある為、
機械的鏡面歪みの発生をなくする為にバーミラーの厚み
も厚くなり、また、このバーミラーを機械歪みを与えな
いようにして支持固定する構造物も大きく重くなる、こ
の結果、ステージ100全体の重量は、バーミラーの取
り付け構造物による重量割合の方が多くなってしまう。
この為に、ステージ100の駆動手段は、この重量増に
対応した駆動能力の大きいものに変更する必要が生じて
くる。他方、バーミラーが長くなると、バーミラー全長
は、図4に示すように、ステージ100本体より長くな
って飛び出た構造になる。しかも、X方向のXミラーの
移動するストロークに対して、必要とする占有空間は、
2倍の占有空間110を必要とする。このことは、レー
ザー測長の為に、バーミラー移動範囲の為に無駄な占有
空間を確保しておかなければならない不具合となり、実
用上の不便となっている。
【0009】そこで、本発明が解決しようとする課題
は、バーミラーの長さを増加することなく、ストローク
を2倍あるいはN倍のストロークを測長できるレーザー
測長計を実現することを目的とする。
【0010】
【課題を解決する為の手段】上記課題を解決するため
に、本発明の構成では、レーザー光源50のレーザー光
線をN分配してN個のオプチクスモジュール20に供給
するN−1個のビームスプリッタ14を設け、移動する
バーミラー101から反射するレーザー光線を、何れか
のオプチクスモジュールで検出する光学配置とするN個
のオプチクスモジュール20を設け、N個のオプチクス
モジュール20からの検出信号を受けて、このN個の検
出信号を切り替えてバーミラー101移動距離を計測す
る測長計数部30を設ける構成手段にする。これは、N
個のオプチクスモジュールを設けて、N分割に分担して
移動範囲を検出する手段としていている。この結果、バ
ーミラー101の移動範囲をN倍の移動を実現してい
る。
【0011】
【作用】ビームスプリッタ14と反射鏡12、16は、
レーザー光線を2つに分岐して、2つのオプチクスモジ
ュール20、22に供給する作用がある。測長計数部3
0は、2つに分割して検出した測定干渉周波数fx1、f
x2信号を1つの連続した測長器として計数する機能を実
現する役割を持つ。2つのオプチクスモジュール20、
22により、Xミラー101の移動範囲を従来よりも2
倍に拡大しても検出できる。
【0012】
【実施例】本発明の実施例は、XYステージの距離を測
定するレーザー測長計のXステージ側に2系統の測長器
を設けて、ステージ100がY方向に移動する移動範
囲、即ちYストロークを、半分づつ分担して測長する場
合である。これについて、図1と図2を参照して説明す
る。本装置の構成は、図1に示すように、レーザー光源
50と、リファレンスレシーバー54と、ビームスプリ
ッタ56、14と、反射鏡58、12、16と、オプチ
クスモジュール20、22、70と、ステージ100
と、測長計数部30とで構成している。この構成で、レ
ーザー光源50と、リファレンスレシーバー54と、ビ
ームスプリッタ56と、反射鏡58と、オプチクスモジ
ュール70と、ステージ100は、従来構成と同様であ
る。
【0013】ビームスプリッタ14は、ビームスプリッ
タ56からの光線を反射鏡12で反射して受けて、この
ビームスプリッタにより2つに分岐する。一方は、90
度反射してオプチクスモジュール20に供給し、他方
は、透過して反射鏡16で90度反射させてオプチクス
モジュール22に供給する。
【0014】2つのオプチクスモジュール20、22
は、ステージ100がY方向に移動する移動範囲、即ち
Yストロークを、半分に分担して測長検出する。オプチ
クスモジュール自体は、従来と同様のものであり、ステ
ージ100のX方向をXミラー101からの反射光線を
受けて、移動速度と移動方向を検出する。この2つを設
けることにより、Xミラー101の長さは、Yストロー
クのほぼ半分の長さで良い。この2つのオプチクスモジ
ュール20、22の光学間隔24は、Xミラー101の
長さよりも短い間隔の位置関係に配置して両者の測定が
重なる領域を与えるように設置する。オプチクスモジュ
ール20は、測定範囲であるYストロークの一方の半分
のストロークに対して、測定干渉周波数fx1信号を測長
計数部30に供給し、同様に、オプチクスモジュール2
2は、測定範囲の他方の半分のストロークに対して、測
定干渉周波数fx2信号を測長計数部30に供給してい
る。
【0015】測長計数部30は、各オプチクスモジュー
ルからの干渉周波数信号を受けて、ステージのX方向、
Y方向の移動距離を求めるものである。この為に、測長
計数部30の内部構成は、図2に示すように、切替制御
部40と、マルチプレクサ(MUX)36と、方向検出
部81b、82bと、UP/DWNカウンタ81、82
とで構成している。この構成で、従来の構成に、切替制
御部40と、MUX36を追加した構成である。
【0016】以下に、2つに分割して測定計数するX側
測長計数動作部分についての動作説明をする。MUX3
6は、測定干渉周波数fx1、あるいは測定干渉周波数f
x2信号を受けて、何れかを選択して方向検出部81bに
供給する切替器である。方向検出部81bは、従来と同
様であり、MUX36からの信号と基準干渉周波数fR
信号とを受けて、X方向の計数制御部であり、基準であ
る基準干渉周波数fR信号と、測定干渉周波数fx1/fx
2信号を受けて、この両周波数の差の値Δfをカウント
パルスとして出力し、また、カウント方向制御信号を出
力する。UP/DWNカウンタ81は、このカウントパ
ルスと、カウント方向制御信号を受けて、積算計数す
る。ここで、計数値81xを切替制御部40に供給して
いる。このカウンタの動作は、数MHzである基準干渉
周波数fR信号に同期して動作させている。
【0017】切替制御部40は、UP/DWNカウンタ
81からの計数値81xを受けて、MUX36の切替を
制御しているものである。この切替制御部40の構成
は、第1比較値31と、第2比較値32と、第1比較器
33と、第2比較器34と、SRFF(フリップ・フロ
ップ)35とで構成している。第1比較器33は、UP
/DWNカウンタ81からの計数値81xを一方の入力
端に受け、第1比較値31の値を他方の入力端に受け
て、両者を比較して、計数値81xが第1比較値31以
上の検出信号33aで、SRFF35をセット状態に切
り替える。第2比較器34も、同様であり、UP/DW
Nカウンタ81からの計数値81xを一方の入力端に受
け、第2比較値32の値を他方の入力端に受けて、両者
を比較して、計数値81xが第2比較値32以下の検出
信号34aで、SRFF35をクリア状態に切り替え
る。ここで、第1比較値31、第2比較値32は、外部
から任意の値に設定できるレジスタである。この2つの
比較値は、状態切替動作が頻繁にならないようにする
為、第1比較値31の値と、第2比較値32の値は、あ
る程度の差、例えば100カウント値以上の差を持たせ
ておく。これにより、切替位置付近で停止しているとき
において、状態切替が繰り返し起こるハンティング(hu
nting)動作を防止している。SRFF35は、上記セ
ット/クリア信号を受けて、切替状態を保持するフリッ
プ・フロップであり、この状態信号をMUX36に供給
して、測定干渉周波数fx1、fx2信号の切替えを行う。
【0018】上記説明のように構成することで、2つの
オプチクスモジュール20、22からの測定干渉周波数
fx1、fx2信号を受けて、連続した1つの測長器として
使用することが可能となる。これにより、バーミラーの
長さの2倍の移動範囲を測長できるレーザー測長計を実
現できる。また、バーミラーの長さを半分にできること
から、長尺なバーミラーを使う必要がなくなり、移動の
為の無駄な占有空間を確保する必要もなくなる。
【0019】上記実施例1の説明では、2つのオプチク
スモジュールを設けた場合で説明したが、2つ以上のN
個のオプチクスモジュールを設け、これに対応したビー
ムスプリッタを設ける構成手段としても良く、同様にし
て実施できる。これにより、バーミラーの長さのN倍の
ストロークを測長できるレーザー測長計を実現できる。
【0020】
【発明の効果】本発明は、以上説明したように構成され
ているので、下記に記載されるような効果を奏する。ビ
ームスプリッタ14と反射鏡12、16により、レーザ
ー光源を2つに分岐して、2つのオプチクスモジュール
20、22に供給する働きがある。測長計数部30は、
2つに分割して検出した測定干渉周波数fx1、fx2信号
を1つの連続した測長計数器として計数する効果があ
る。2つのオプチクスモジュール20、22は、測定干
渉周波数fx1、fx2信号を測長計数部30に供給するこ
とで、連続した1つの測長器として位置を検出すること
ができる効果がある。これにより、バーミラーの長さの
2倍のストロークを測長できるレーザー測長計を実現で
きる効果が得られる。逆に、バーミラーの長さは、半分
にできることから、バーミラー移動の為の無駄な占有空
間を半減できる効果が得られる。これらより、短いバー
ミラーで、長いストロークを必要とするステージのレー
ザー測長を容易に実現できる。
【0021】
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の、XYステージの距離を測定するレー
ザー測長計のXステージ側に2系統の測長器を設けて、
Yストロークを、半分づつ分担して測長する場合の構成
図である。
【図2】本発明の、測長計数部30の内部構成図であ
る。
【図3】従来の、XYステージの距離を測定するレーザ
ー測長計の構成図である。
【図4】従来の、バーミラーが長いときの、移動ストロ
ークに対する必要な占有空間を説明する図である
【図5】オプチクスモジュール60の内部構成図の例で
ある。
【符号の説明】
12、58、16 反射鏡 14、56 ビームスプリッタ 20、60、70、22 オプチクスモジュール 24 光学間隔 30、80 測長計数部 31 第1比較値 32 第2比較値 33 第1比較器 33a、34a 検出信号 34 第2比較器 35 SRFF(フリップ・フロップ) 36 マルチプレクサ(MUX) 40 切替制御部 50 レーザー光源 54 リファレンスレシーバー 61 偏光ビームスプリッタ 62、64 1/4波長板 63 リファレンスミラー 66 レシーバー 81b、82b 方向検出部 81、82 UP/DWNカウンタ 81x 計数値 100 ステージ 101 Xミラー(バーミラー) 102 Yミラー(バーミラー) 110 占有空間

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 レーザー光源(50)とリファレンスレ
    シーバー(54)とを有して、レーザー光線を反射する
    バーミラー(101)をステージ(100)に取り付け
    て、このステージ(100)の距離を計測するレーザー
    測長装置において、 当該レーザー光源(50)のレーザー光線をN分配して
    N個のオプチクスモジュール(20)に供給するN−1
    個のビームスプリッタ(14)を設け、 移動するバーミラー(101)から反射するレーザー光
    線を、何れかのオプチクスモジュールで検出する光学配
    置とするN個のオプチクスモジュール(20)を設け、 N個のオプチクスモジュール(20)からの検出信号を
    受けて、このN個の検出信号を切り替えてバーミラー
    (101)距離を計測する測長計数部(30)を設け、 以上を具備していることを特徴としたレーザー測長装
    置。
JP6230667A 1994-08-31 1994-08-31 レーザー測長装置 Pending JPH0875409A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008108423A1 (ja) * 2007-03-08 2008-09-12 Nikon Corporation 位置計測モジュール、位置計測装置、ステージ装置、露光装置及びデバイス製造方法
CN112361982A (zh) * 2020-10-29 2021-02-12 山东省科学院激光研究所 一种大幅面工件三维数据提取方法及系统

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008108423A1 (ja) * 2007-03-08 2008-09-12 Nikon Corporation 位置計測モジュール、位置計測装置、ステージ装置、露光装置及びデバイス製造方法
JP5327043B2 (ja) * 2007-03-08 2013-10-30 株式会社ニコン 位置計測モジュール、位置計測装置、ステージ装置、露光装置及びデバイス製造方法
CN112361982A (zh) * 2020-10-29 2021-02-12 山东省科学院激光研究所 一种大幅面工件三维数据提取方法及系统
CN112361982B (zh) * 2020-10-29 2022-02-01 山东省科学院激光研究所 一种大幅面工件三维数据提取方法及系统

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