CN107179653B - 一种曝光机及其发光装置 - Google Patents

一种曝光机及其发光装置 Download PDF

Info

Publication number
CN107179653B
CN107179653B CN201710597926.7A CN201710597926A CN107179653B CN 107179653 B CN107179653 B CN 107179653B CN 201710597926 A CN201710597926 A CN 201710597926A CN 107179653 B CN107179653 B CN 107179653B
Authority
CN
China
Prior art keywords
light
lens
emitting device
lens mechanism
pellicle mirror
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201710597926.7A
Other languages
English (en)
Other versions
CN107179653A (zh
Inventor
夏浩
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Wuhan China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Original Assignee
Wuhan China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Wuhan China Star Optoelectronics Technology Co Ltd filed Critical Wuhan China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority to CN201710597926.7A priority Critical patent/CN107179653B/zh
Publication of CN107179653A publication Critical patent/CN107179653A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN107179653B publication Critical patent/CN107179653B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058—Mask illumination systems
    • G03F7/7015—Details of optical elements
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

本发明公开了一种曝光机及其发光装置，该曝光机包括：发光装置；透镜机构，位于发光装置的出光侧，包括多个透镜，且多个透镜中的至少两个透镜存在至少部分重叠以形成重叠区；发光装置发出的第一光线经透镜机构的重叠区透射至曝光对象上，发光装置发出的第二光线经透镜机构的重叠区外的其他区域透射至曝光对象上；其中，第一光线的强度高于第二光线的强度。通过上述方式，本发明能够改善透镜机构重叠区射出的光线强度比其他区域射出的光线强度低的问题。

Description

一种曝光机及其发光装置
技术领域
本发明涉及曝光领域，特别是涉及一种曝光机及其发光装置。
背景技术
目前曝光机透镜机构重叠区由于透光率低导致曝光量偏低，容易形成由于膜厚不均造成的痕迹，从而被曝光的玻璃基板上对应透镜机构重叠区的位置特性值与其他位置有差异性，容易形成垂直或者水平痕迹，最终影响产品的品质。
发明内容
本发明主要解决的技术问题是提供一种曝光机及其发光装置，能够改善透镜机构重叠区射出的光线强度比透镜机构的其他区域射出的光线强度低的问题。
为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是：提供一种曝光机，包括：发光装置；透镜机构，所述透镜机构位于所述发光装置的出光侧，包括多个透镜，且所述多个透镜中的至少两个透镜策在至少部分重叠以形成重叠区；所述发光装置发出的第一光线经所述透镜机构的所述重叠区透射至曝光对象上，所述发光装置发出的第二光线经所述透镜机构的所述重叠区外的其他区域透射至所述曝光对象上；其中，所述发光装置发出的第一光线的强度高于所述发光装置发出的第二光线的强度。
为解决上述技术问题，本发明采用的另一个技术方案是：提供一种曝光机的发光装置，其特征在于，所述发光装置的出光区域包括第一出光区域和第二出光区域，所述第一出光区域的光用于经所述曝光机的透镜机构的重叠区射至曝光对象，所述第二出光区域的光用于经所述曝光机的透镜机构的非重叠区射至曝光对象；其中，所述透镜机构的重叠区为所述透镜机构中的至少两个透镜至少部分重叠形成的，所述发光装置可独立调整所述第一出光区域和第二出光区域中的光强。
本发明的有益效果是：区别于现有技术的情况，本发明可以调整发光装置射至透镜机构的重叠区的光线强度大于射至其他区域的光线强度，使得透镜机构射至被曝光对象的光线强度一致，提升曝光效果，提升产品质量。
附图说明
图1是本发明提供的曝光机的发光装置的实施例的结构示意图；
图2是本发明提供的曝光机的透镜机构排布的结构示意图；
图3是本发明提供的曝光机的第一实施例的结构示意图；
图4是本发明提供的曝光机的第二实施例的结构示意图；
图5是本发明提供的曝光机的第三实施例的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，均属于本发明保护的范围。
请参阅图1，图1是本发明提供的曝光机的发光装置的实施例的结构示意图。曝光机的发光装置10的出光区域11包括第一出光区域12和第二出光区域13，第一出光区域12射出的光用于经曝光机的透镜机构(图未示)的重叠区域射至曝光对象，第二出光区域13射出的光用于经曝光机的透镜机构的非重叠区域射至曝光对象。
请一并参考图2，图2是本发明提供的曝光机的透镜机构排布的结构示意图，如图2所示，曝光机中的透镜机构20包括多个透镜，透镜在曝光机中排布时，在光线射出的方向上如透镜40和透镜30所示会出现重叠的区域，例如透镜30包括重叠区域31和非重叠区域32。由于透镜40和30本身的透光率以及重叠区域的形状会引起光线的反射，在同样的光照条件下，重叠区域31射出的光线强度会比非重叠区域32射出的光线强度弱。
第一出光区域12和第二出光区域13射出的光线强度可以单独调整，这样可以提升第一出光区域12射出的光线强度和/或降低第二出光区域13射出的光线强度，使得透镜机构20射出的光线强度一致，提升曝光效果。
通过上述描述可知，本实施例通过单独调整曝光机的发光装置对应透镜机构重叠区域的第一出光区域射出的光线强度和/或对应透镜机构非重叠区域的第二出光区域射出的光线强度，使得透镜机构射出的光线强度整体一致，提升曝光效果，改善产品质量。
请参阅图3，图3是本发明提供的曝光机的第一实施例的结构示意图。曝光机50包括多个发光装置54和由多个透镜51组成的透镜机构(图未示)，透镜51包括重叠区域52和非重叠区域53，透镜机构包括多个透镜51的重叠区域52组成的重叠区(图未示)和多个非重叠区53组成的其他区域。发光装置54包括光源55、设置于光源55出光侧的第一半透镜56以及设置于光源55出光侧的第二半透镜57。光源55可以是LED点阵式光源。第二半透镜57设置于第一半透镜56的光反射侧。第一半透镜56对应透镜51的非重叠区域53设置，即第一半透镜56射出的光经透镜51的非重叠区域53射至被曝光对象。第一半透镜56在中部折弯，形成对称的两个折弯部，这两个折弯部与水平面间的夹角相同，当然，该第一半透镜56也可在非中间位置折弯，形成不对称的两个折弯部。第二半透镜57平行于这两个折弯部设置于第一半透镜56的光反射侧。第二半透镜57对应透镜51的重叠区域52设置，即第二半透镜57射出的光经透镜51的重叠区域52射至被曝光对象。第一半透镜56和第二半透镜57射出的光线不发生重叠。第一半透镜56的透光率大于90％且小于95％，第二半透镜57的透光率大于第一半透镜56的透光率。
工作时，光源55射出强度相等的光线551和552。其中光线551射至第一半透镜56，因为第一半透镜56的透光率大于90％且小于95％，所以有一小部分的光线553被第一半透镜56反射至第二半透镜56，绝大部分的光线554透过第一半透镜56经透镜51的非重叠区域53射至被曝光对象。光线552射至第二半透镜57，因为第二半透镜57的透光率大于第一半透镜56，所以光线552透过第二半透镜57射出的光线555的强度大于光线554。而且，反射光线553在射至第二半透镜57表面时，有部分光线556被反射与光线555一起经透镜51的重叠区域52射至被曝光对象。
因为光线555的强度本就强于光线554，而经透镜51的重叠区域52射至被曝光对象的光线还包括光线556，因此即使重叠区域52的透光率低于非重叠区域53，但是经由透镜51射出的光线的强度可以保持一致。
在其他实施场景中，第二半透镜57无需平行于这两个折弯部设置于第一半透镜56的光反射侧，只需要调整第二半透镜57的透光率或者第二半透镜57与入射光的夹角，使得第二半透镜56的反射光线556和透射光线555光线强度之和大于第一透镜56的透射光线555光线强度即可。
为了进一步提升透镜51射出的光线的强度均一性，在另一个实施场景中，可以在第二半透镜57靠近透镜51的一侧设置一个透光率可调的调光镜58。调光镜58可以调整第二半透镜56射至透镜机构的重叠区域52的光线强度。
在其他实施场景中，调光镜58也可以设置在第一半透镜56靠近透镜51的一侧，或者同时在第一半透镜56和第二半透镜57靠近透镜51的一侧分别设置调光镜58，调整第一半透镜56和第二半透镜57射至透镜51的对应区域的光线强度。
通过上述描述可知，本实施例通过使用在对应透镜的重叠区域和非重叠区域设置半透镜对光源射出的光线进行透射和反射，使得射至透镜的重叠区域的光线强度大于射至透镜的非重叠区域的光线强度，这样透镜的重叠区域和非重叠区域射至被曝光对象的光线强度可以保持一致，提升了曝光效果，改善产品质量。
请参阅图4，图4是本发明提供的曝光机的第二实施例的结构示意图。曝光机60包括多个发光装置64和多个透镜61组成的透镜机构(图未示)，透镜61包括重叠区域62和非重叠区域63，透镜机构包括多个透镜61的重叠区域62组成的重叠区(图未示)和多个非重叠区63组成的其他区域。发光装置64包括第一光源65和第二光源66。第一光源65对应于透镜61的重叠区域62设置，即第一光源射出的第一光线651经透镜61的重叠区域62射至被曝光对象。第二光源66对应于透镜61的非重叠区域63设置，即第二光源66射出的第二光线661经透镜61的非重叠区域63射至被曝光对象。第一光源65和第二光源66可以是LED点阵式光源。
第一光源65和第二光源66射出的光线强度均可调整，通过调整,第一光线651的光线强度大于第二光线661，可以使得透镜61射至被曝光对象的光线强度保持一致。
在其他实施场景中，第一光源65和第二光源66射出的光线强度可以只有一个可以调整，同样可以达到使得透镜61射至被曝光对象的光线强度保持一致的效果。
通过上述描述可知，本实施例通过调整射至透镜机构的不同区域的光线的强度，使得透镜机构射出的光线强度一致，提高曝光效果，改善产品质量。
请参阅图5，图5是本发明提供的曝光机的第三实施例的结构示意图。曝光机70包括发光装置71、透镜机构72和感应装置73。多个感应装置73分别对应设置在透镜机构的重叠区和其他区域正下方，可以检测出透镜机构72的重叠区射出的光线强度和其他区域射出的光线强度。发光装置71根据感应装置73检测的结果，调整对应射至透镜机构72重叠区和其他区域的光线的强度，使得透镜机构72射出的光线强度分布均匀。在本实施例中，透镜机构72的每个重叠区和其他区域均设置有一个感应装置73，当然，每个区域的感应装置73的数量也可为多个。在其他实施例中也可仅选择透镜机构72的部分重叠区和部分其他区域设置感应装置73，以根据所有设置在重叠区的感应装置73检测到的光强度平均值来调整对应射至透镜机构72的重叠区的光强度，根据所有设置在其他区域的感应装置73检测到的光强度平均值来调整对应射至透镜机构72的其他区域的光强度。
具体的说，请结合参考图3，半透镜55/56可根据感应装置73的检测结果调整透光率或者与入射光间的夹角，使得透镜51的重叠区域52射出的光线强度与非重叠区域53射出的光线强度相等；或调光镜58会根据感应装置73的检测结果调整透光率，使得透镜51的重叠区域52射出的光线强度与非重叠区域53射出的光线强度相等。请结合参考图4，第一光源65和第二光源66会根据感应装置73的检测结果调整射出的第一光线651和/或第二光线661的光线强度，使得透镜61的重叠区域62射出的光线强度与非重叠区域63射出的光线强度相等。
通过上述描述可知，本实施例通过在透镜机构下方设置多个感应装置，检测透镜机构的重叠区和其他区域的射出光线的强度，根据检测的结果调整发光装置射至透镜机构的重叠区和其他区域的光线强度，使得透镜机构射出的光线强度一致，提高曝光效果，改善产品质量。
区别于现有技术，本发明通过调整射至透光机构的重叠区的光线强度和/或射至透光机构的其他区域的光线强度，使得射至透光机构的重叠区的光线强度大于射至透光机构的其他区域的光线强度。通过在透光机构的下方设置多个感应装置，检测透镜机构的重叠区和其他区域的射出光线的强度，并根据检测结果进行进一步的调整，可以确保透镜机构各个区域射至被曝光对象的光线强度一致，有效提升曝光效果，改善产品质量。
以上所述仅为本发明的实施方式，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。

Claims (10)

1.一种曝光机，其特征在于，包括：
发光装置；
透镜机构，所述透镜机构位于所述发光装置的出光侧，包括多个透镜，且所述多个透镜中的至少两个透镜存在至少部分重叠以形成重叠区；
所述发光装置发出的第一光线经所述透镜机构的所述重叠区透射至曝光对象上，所述发光装置发出的第二光线经所述透镜机构的所述重叠区外的其他区域透射至所述曝光对象上；
其中，所述发光装置发出的第一光线的强度高于所述发光装置发出的第二光线的强度。
2.根据权利要求1所述的曝光机，其特征在于，所述发光装置包括：
光源；
设置于所述光源出光侧的第一半透镜，所述第一半透镜对应所述透镜机构的其他区域设置，用于将所述光源发出的光部分透射至所述透镜机构的其他区域，其中，所述第一半透镜折弯；
设置于所述光源出光侧的第二半透镜，所述第二半透镜对应所述透镜机构的重叠区设置，且所述第二半透镜设置于所述第一半透镜的光反射侧，用于将所述光源发出的光部分透射至所述透镜机构的重叠区，以及将所述第一半透镜反射的光反射至所述透镜机构的重叠区。
3.根据权利要求2所述的曝光机，其特征在于，
所述第一半透镜折弯形成第一折弯部和第二折弯部，所述第二半透镜平行设置与所述第一折弯部或第二折弯部的光反射侧，所述第二半透镜的透光率大于所述第一半透镜的透光率；
且所述第一半透镜和所述第二半透镜在光线方向上不重叠。
4.根据权利要求2所述的曝光机，其特征在于，
所述第一半透镜的透光率大于90％且小于95％。
5.根据权利要求2所述的曝光机，其特征在于，所述发光装置进一步包括：
透光率可调的调光镜，所述调光镜位于所述第一半透镜和/或第二半透镜靠近所述透镜机构的一侧，用于调整所述第一半透镜和/或第二半透镜射至所述透镜机构的对应区域的光线强度。
6.根据权利要求1所述的曝光机，其特征在于，所述发光装置包括：
第一光源，对应所述透镜机构的重叠区设置，用于产生所述第一光线；
第二光源，对应所述透镜机构的其他区域设置，用于产生所述第二光线。
7.根据权利要求6所述的曝光机，其特征在于，
所述第一光源和/或第二光源的光强可调。
8.根据权利要求1所述的曝光机，其特征在于，所述曝光机进一步包括：
多个感应装置，设于所述透镜机构的出光侧，且所述多个感应装置分别对应所述透镜机构的重叠区和所述其他区域设置，用于检测所述透镜机构的所述重叠区射出的光线强度与所述透镜机构的其他区域射出的光线强度。
9.根据权利要求8所述的曝光机，其特征在于，
所述发光装置根据所述多个感应装置的检测结果，调整所述第一光线和/或第二光线的强度，以使所述多个感应装置检测到的所述透镜结构的所述重叠区射出的光线强度与所述透镜机构的所述其他区域射出的光线强度满足设定强度条件。
10.一种曝光机的发光装置，其特征在于，所述发光装置的出光区域包括第一出光区域和第二出光区域，所述第一出光区域的光用于经所述曝光机的透镜机构的重叠区射至曝光对象，所述第二出光区域的光用于经所述曝光机的透镜机构的非重叠区射至曝光对象；其中，所述透镜机构的重叠区为所述透镜机构中的至少两个透镜至少部分重叠形成的，所述发光装置可独立调整所述第一出光区域和第二出光区域中的光强。
CN201710597926.7A 2017-07-20 2017-07-20 一种曝光机及其发光装置 Active CN107179653B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201710597926.7A CN107179653B (zh) 2017-07-20 2017-07-20 一种曝光机及其发光装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201710597926.7A CN107179653B (zh) 2017-07-20 2017-07-20 一种曝光机及其发光装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN107179653A CN107179653A (zh) 2017-09-19
CN107179653B true CN107179653B (zh) 2018-10-19

Family

ID=59838543

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201710597926.7A Active CN107179653B (zh) 2017-07-20 2017-07-20 一种曝光机及其发光装置

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN107179653B (zh)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109910305A (zh) * 2019-04-15 2019-06-21 福建国锐中科光电有限公司 一种光机光强自动检测与矫正装置

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20070031764A1 (en) * 2005-08-03 2007-02-08 Meng-Chi Liou Exposure process
TW200846626A (en) * 2007-03-08 2008-12-01 Nikon Corp Position measurement module, position measurement apparatus, stage apparatus, exposure apparatus, and method for manufacturing decive
DE102008054582A1 (de) * 2007-12-21 2009-07-09 Carl Zeiss Smt Ag Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
TWI418952B (zh) * 2010-03-15 2013-12-11 Au Optronics Corp 曝光機台、圖案化薄膜的形成方法、圖案化光阻層的形成方法、主動元件陣列基板以及圖案化薄膜
JP6362095B2 (ja) * 2014-06-17 2018-07-25 キヤノン株式会社 照明装置、露光装置、調整方法、及び、物品の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN107179653A (zh) 2017-09-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN103617776B (zh) 显示屏亮度均匀性调整方法和系统
CN106019613B (zh) 一种指向性背光立体显示装置
CN101639617A (zh) 立体图像显示器及其制造方法
CN107179653B (zh) 一种曝光机及其发光装置
CN103939790B (zh) 显示装置及其发光模块
CN105390067A (zh) 一种透明显示装置及其控制方法
TW201123143A (en) d.
CN104796646B (zh) 激光电视屏幕及激光电视系统
CN103676318A (zh) 一种液晶电视背光结构
CN106094333A (zh) 一种双面显示背光模组和双面显示设备
CN204387964U (zh) 一种无缝拼接的导光板装置
CN104806923B (zh) 发光模块及具有该发光模块的显示装置
CA2939499C (en) Reflecting face mask and led display device having the same
CN209280959U (zh) 一种带吸光微结构的扩散膜及背光模组
CN106873240A (zh) 背光组件及液晶显示模组
CN103996360B (zh) 消缝装置和无缝拼接显示设备
CN106647130A (zh) 背投影拼接单元、系统及背投影拼接单元调节方法
CN208521105U (zh) 一种触控显示模组及终端
CN104714360A (zh) 一种多层复合的反射式投影屏幕
CN205247816U (zh) 一种透明显示装置
CN204513084U (zh) 一种棱镜膜组合装置及背光显示装置
CN105842963A (zh) 一种显示装置
CN103913859A (zh) 偏光膜检测装置
CN205721052U (zh) 背投装置
CN104252046B (zh) 多层显示设备及游戏机

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant