TW200829953A - Microscopic device and microscopic image analysis method - Google Patents

Description

200829953 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本&明’係關於顯微鏡裝置及使用此種顯微鏡裝置之 才斤 杳、4* 一万法，將放大像形成於固態攝影元件之光電轉換 面上以供觀察。 【先前技術】 在半導體製程或半導體製品之檢查階段，使用高解析 又之”、、員微鏡裝置，藉由微型檢查裝置觀察形成於晶圓等之 微細圖案，LV、也> ~ 乂進仃Μ小缺陷等之檢測。 、又而σ ’半導體晶圓觀察用之顯微鏡裝置中之解析 、、係又限於使用波長1與常數k及物鏡之數值孔徑ΝΑ， 、式（1)所不之瑞立（Rayleigh)之理論解析度之式所表 值。 心

X / IN A 口此’為與觀察形成於朝細密化進展之晶圓上之微細

圖案對應，將乡豆波長之紫外線作為照明％源，卩謀求 顯微鏡裝置^ ^ 、 I解析度。例如，於使用物鏡之ΝΑ=〇·9，波手 =248nm之紫外光之顯微鏡裝置，與觀察面之2點相關= 解析度R，在上述之式（1)中，採用常數k=0.61，藉此书 解析度l^l68nm。 衣出 【發明内容】 上述習知之顯微鏡裝置，僅能觀察構成各種電路圖 之線與線之間隔係顯微鏡之理論解析度R程度之命2 〃 案。 < 包路圖 6 200829953 因此，為對應微細圖案之更細密化，必須採用需要進 一步縮短照明光源之波長或採用液浸技術等以增大物鏡之 NA之極高成本之技術。 壯本發明之目的在於提供一種顯微鏡裝置及使用顯微鏡 裝置之解析檢查方法，能解析超過顯微鏡裝置之理論解析 度之細密圖案。 本發明之第1顯微鏡裝置之原理如下： 、固態攝影元件具有複數個像素。放大光學系統，用以 將觀察對象之至少一部分放大像形成於固態攝影元件之像 2上。影像處理機構，採用對於藉固態攝影元件所獲得之 影像具有微分效果之邊緣強㈣波器，以獲得與影像對應 之邊緣強調影像。放大光學系統中，倍率可變光學系統係 將觀察對象之觀察區域所包含之線狀部分，成像為具有超 過構^固態攝影元件之各個像素大小之寬、且藉邊緣強調 濾波器之處理區域之寬以下之寬的像。 本發明之第2顯微鏡裝置之原理如下： ^上述之第1顯微鏡裝置中，倍率可變光學系統，在固 〜攝衫元件上，將該觀察區域所包含之線狀部分，成像為 具有2像素以上寬的像。 … 本發明之第3顯微鏡裝置之原理如下： 上述之第1顯微鏡裝置中，影像處理機構，採用對於 精固態攝影元件所獲得之影像具有微分效果及反映影像中 像素值分布效果之邊緣強調濾波器。 本發明之第4顯微鏡裝置之原理如下： 7 200829953 上述之第3 '顯微鏡裝置中，景多像處 處理機構，針對藉邊緣強調遽波器備平均化 處理，該平均化處理係使用較表示邊緣行平均化 大小為小之平均化矩陣。 、μ濾波态之矩陣 ^發明之第！顯微鏡景彡像之解析 “放大像形成步驟，將觀察對象之至少—原二如下· 糟放大光學系統形成於配^放大像’

固態攝影元件之光電轉換面上。影件所構成之 藉固態攝影元件 v驟係採用對於 波器，以獲得：:=! 效果之邊緣強調濾、 步驟中，户率:;應之邊緣強調影像。在放大像形成 °率可k步驟係將觀察對象之觀疚 線狀部分，成像為具有超過與構成固態攝二件二 :轉換元件對應之像素大小的寬、且藉邊緣強:= 處理區域之寬以下之寬的像。 處“之 本發明之第2顯微鏡影像之解析方法如下。 在固1顯微鏡影像之解析方法中，倍率可變步驟， 〜’V 7L件上，將觀察區域所包含之線狀部分，成像 為具有2像素以上寬的像。 【實施方式】 、下依據圖式詳細說明本發明之實施形態。 (實施例1) 圖1係表示本發明之顯微鏡装置之實施形態。 在圖1所不之顯微鏡裝置之顯微鏡底座1具備倍率mi 之物鏡2。又’在顯微鏡底座！，具備由XY載台9、Z載 8 200829953 口 10及旋轉冑台1 i戶斤構成之可動機構。纟此可動機構上 所具備之保持具12上載置晶圓等被檢查物3，在此被檢查 物3之表面形成有例如以間隔屯形成寬度為屯之線狀圖 案0 又，於圖1所示之照明光學系統13中，例如，由鹵素 燈等光源15發射的光係藉由$光透鏡16开》成大致平行光 束，然後透過開口光闌17、中繼透鏡18、視野光闌19、 及半反射鏡14導引至物鏡2，使開口光闌17的像投影於 被檢查物3之表面上。 如此,¾明被檢查# 3表面時之反射光，係利用由物鏡 2、半反射鏡14、反射鏡20、倍率為％之中間變倍透鏡#、 及成像透鏡21所構成之成像光學系統導引至ccd等之固 態攝影it件5 ϋ將形成於上述被檢查物3表面之線狀 圖案的像形成於此固態攝影元件5上。

圖1中，作為被檢查物3，在載置於保持具12之晶圓 上，寬度為七之線狀圖案，係以將物鏡2之倍率叫與中 間k倍透鏡4之倍率in2相乘所獲得之投影綜合倍率瓜放 大投影於固態攝影元件5上，作為具有寬度之線狀 圖案被固態攝影元件5攝取。接著，當固態攝影元件$為 像素大小a之CCD時，在以此CCD所獲得之影像資料中， 上述之線狀圖案被攝取，以作為具有將CCD上之圖案之寬 度dlXm除以像素大小a所獲得之像素寬的影像。 料係提供給監 7，以供此個 如此藉固態攝影元件5所獲得之影像資 視I置6之顯示處理’並且傳送給個人電腦 9 200829953 人電腦7所月/4+ /、備之影像處理部8之後述影像處理。 ’針對利用此影像處理部8之影像處理與此影 處理結果戶斤僅π ’ 所獲侍之強調影像加以說明。 右不考量因顯微鏡光學系統之繞射影響所造成之解析 Τ度例如，晶圓上線寬為80nm之線狀圖案，係以投影 像導倍率400倍加以放大投影，藉此在像素大小8μπι之CCD 上，以寬4像素之影像進行攝取。 然而，實際之顯微鏡光學系統中，觀察對象之線狀圖 案之間隔dl，當係上述式⑴所示之瑞立（Rayleigh)之理論 解析度以下時，不管投影倍率之大小，表示投影於咖上 之像的強度分布之原始影像無法進行解析。 ，圖2⑷係表示使用波長冑248nm之紫外光作為照明 光，利用NA & 〇.9之物鏡，將分別以同等間隔配置線寬 為 1 l〇nm、lOOnm、90nni、》 丄 nm及80nm之線狀圖案之等間隔 線（line and space)圖案放大投影 八仅〜％ 上所獲得之影像 例。 由圖2(a)所示之例可知，舫 ^ 枚上述條件之理論解析度大 若干之90nm等間隔線圖幸中跄 口茱甲雖好不容易才辨別出線圖 案與其間隙（space)，但若線狀圖 q米r天之距離成為理論解 析度以下之80nm等間隔線圖孝 u ^ 則凡全無法辨別出線圖 案與間隙。 圖1所示之影像處理部8 φ W 8中，探用圖3(a)、（b)所示之 3x3矩陣或 5χ5矩陣所示夕知並1 朴 之拉、曰，拉斯濾波器（LaPIacian filter)，籍此進行邊緣強調處理。 10 200829953 圖2(b)係表示利用圖丨 一 ^ Θ 1所不之顯微鏡裝置，在將與圖 2 (a)之例同等之等間隔線圖宰 杀叙衫紅合倍率400倍投影 於⑽上所獲得之影像中，施以採用上述之5χ5矩陣之 拉晋拉斯慮波器之邊緣強調處理所獲得之強調影像。 0安=(::知，接近理論解析度之9“之等間隔線 圖东不僅具有充分的對比進行解析，而且在理論解析度以 下之80nm等間隔線圖案亦 程度進行解析。 i在辨別各個線㈣與間隙之 此事由圖2⑷、⑷所示之曲_亦能瞭解。 圖2(c)、（d)係表示在各圖^ ()(b)中，針對與由水平 方向之線狀圖案所構成之9〇 耸 >羊士 m 4間隔線對應之影像資料 垂直方向之強度分布。可知 一 P使在任一曲線中，強度分 布之取阿相互間隔，係與線圖 9德参丄 口系之宁央間隔U8〇nm)對應之 夂=原始影像中’好不容易才解析之線圖案之 各線圖案與強調影'像中 影像中對應。又，在強調 %、 、、’ 、部所示之3個極小點對應之強度值 j 3 D之平均值Imin及與2個極大點對應之 大小指標之一例之CTF之值可知表示對比 夺傻所U 值為〇·35 ’同樣地’與針對原始 -像所求出之CTF = 〇.〇5相較，對比大幅改善。 CTF = (Imax-lmin)/(Imax+Imin) (2) …=此’原始影像中採用適當的邊緣強調處理，藉此， 月匕獲得使原始影像中具有叙 曰 夕叩_ “、'法進仃解析之理論解析度以下 a隔之等間隔線圖案可以解析之強調影像。 π 200829953 當此種強調影像中之解析效果滿足CCD上之線圖案之 見與用以邊緣強調之濾波器矩陣之大小之適當關係時，考 量邊緣強調之效果係將作為線圖案本身之像的一部分予以 合成，以從形成高對比的像獲得。 本案申請人，為特定出用以獲得強調影像中之解析效 果而應滿足之條件，利用圖1所示之顯微鏡裝置，在將具 有。種線覓之等間隔線圖案放大投影於上所獲得之影

像貝料中’知肖5χ5矩陣所示之拉普拉斯濾波器，進行產 生強調影像之實驗。 斤圖 4(a)、(b)、（c)係表示與各線寬 2〇〇nm、12〇nm、8〇nm 之等間線圖案對應之原始影像資料之曲線圖，圖4⑷、 ()(f)係表與该等原始影彳象資料對應之強調影像資料之 曲線圖°同樣地，目5(a)、⑻、⑷係表示與各線寬6〇nm、 20nm之等間隔線圖案對應之原始影像資料之曲線 圖圖5(d)、（e)、（f)係表示與該等原始影像資料對應之強 調影像資料之曲線圖。 各等 與邊 圖6圖7係表示針對分別構成圖4、圖5所示之 門線圖案之線圖案，投影於ccd上之線圖案之像寬 、、彖強调濾波裔之矩陣大小之關係。 々如® 6⑷、⑻所示，當投影於咖上之線圖案之像 見（分別為10像素與6像素）超過邊緣強調濾波器之矩陣大 小之5像素時，如圖4(d) — 1 ； (e)所不，與線圖案對應之強度 變化與邊緣強調效果所造成 取 < 強度變化係分離呈現，看得 見提高邊緣效果所產生之線圖案之㈣性效果。 12 200829953 另一方面’如圖6(c)及圖

L ^ ^ ^ ^ ^ ^ (a) (b)所示，當投影於CCD 上之線圖案之像覓（分別為4 绩％ %、士 π 像素 3像素及2像素）為邊 緣強调濾波器之矩陣大小 ；勹建 示，盘線圖幸斟0 下^如圖4⑴及5⑷、⑷所 ^ ^ ^ 又欠化及^緣強調效果所產生之強 度雙化係合成，呈現對比之增強效果。 強 其另方面，如圖7⑷所 索夕德命* ， 田仅衫於LCD上之線圖 茶之像見為3像素時，如圖 口 之邊缘強3 5(f)所不，僅呈現線圖案周邊 綠命：h 5$ >文果/肖失。如此情形般，當 、、見在CCD上投影為丨像辛寶 像眘袓私—人 豕常Λ以下訏，由於無法區別與影 、；、斤匕έ之等間隔線相關資 之 關之貝成及ΐ化處理中所產生 效果°。’*此即使採用邊緣強調處理亦無法獲得對比增強 投.二：寺結果可知’本案申請人使用顯微鏡裝置之综合 素=率-觀察對象之線寬d、固態攝影元件（ccd)之像 示之=、及邊緣強調濾波器之矩陣大小s，取出式（3)所 條件:，作為為獲得強調影像中之解析效果所須滿足之 1 < mxd/a^ s …（3) 元件亦即，相對㈣察對象之線x d與觀察用之固態攝影 倍率之像素大小a’使用設定上式（3)所示之適當綜合投影 藉此Ί微鏡裝置，採用矩陣大小s之邊緣強調滤波器， 能以高對比觀察具有較照明光之波長及物鏡之να 疋之理淪解析度為細線寬之等間隔線圖案。 圖8係表示使用將像素大小” m之矩形光電轉換元 13 200829953 棋盤格子狀之CCD作為固態攝影元件，當使用μ =車：小之拉普拉斯據波器作為邊緣強調遽波器時，顯 圖宰兄1 Γ、Γ合投影倍率m與適於觀察之等間隔線⑽s) 圖案及猎由邊緣強調之影像強調處理效果。 =8所示，例如，利用可見光的觀察中，把綜合投 〜口率叹為200倍，藉此，5x5像 1恭像素大小·· 8# mx8 矩陣在觀察對象（竭上係對應扇nmx聽m之範 =有=即，影㈣調處理㈣於較亀μ小之等間隔線 =?目當於達到上述矩陣一邊之75%大小⑽㈣左右 於寻間隔線能獲得良好之CTF值。在此條件下，針對 ^ 15〇nm為小之等間隔線亦能獲得解析之cm值逐漸變 小，較125請為小之等間隔線中無法獲得解析。 雖必須依據觀察對象之等間隔線（L&s)選擇光源，但 〇 8所不’在任-光源中施以影像強調處理，藉此能獲 :起過-般光學限度解析度之解析。例如，即使將㉞準 二:雷射作為光源，將物鏡進行浸液（純水），藉此使财 p至1.23,在習知之光學系統中，由於光學的限度解析 無法解析35nm之等間隔線’但本發明之顯微鏡 衣 中’採用綜合投影^立桌ftdfi /^r . 户— 〜饴羊640倍，施以上述之影像強調 处羽，错此使用相同電源與物鏡（液浸）能進行理論上觀察。 白知方式中，為觀察70_之等間隔線，必須使用昂貴 A F準刀子雷射作為光源，但本發明之顯微鏡裝置中， =對於以使用廉價的水銀燈作為光源（波長為2偽啦光 二先斤G知之像’施以影像強調處理，藉此能進行理論 14 200829953 上之觀察。 又，—般而言，由於依照設計值來製造物鏡等之光學 構件不易，因此通常不易獲得理論上之解析度。然而，由 於圖8所示之最佳觀察等間隔線（L&s)相對於藉影 處理可觀察之等間隔線之範圍具有裕度，因此施以影像強 周处理#此，即使光學構件具有一些製造誤差亦能針對 最佳觀察等間隔線（L&S)程度之觀察對象而獲得解析。葬 此’能抑制構成觀察用之光學系統之各個光學構件之製： 成本。 、表造 又亦：為用以強調藉CCD所獲得之影像之邊緣強調濟 波。。，“使用例如圖3⑷所示之3χ3矩陣之拉 ： 波益。又’若僅確認等間隔線圖案中之線寬，在滿足用： 上，亦能採用僅具有微分效果之濾波1。 ，、 以二Ϊ能利用將元件配置成蜂巢狀之固態攝影元件， 厂通又❾CCD。當使用此種固態攝影元件時 步獲得增強效果，例如，構成等間隔線圖案之一㈣= 係在固:攝影元件上’即使在具有接近丨像素寬之條了 亦可獲得充分之影像強調效果。 (實施例2) 之實=:。表示採用本發明之顯微鏡裝置之晶圓檢查裝置 又，圖9所示之構成要件中’針對與圖〇 同等者，附以圖1所示之符號來表示，將其說明予部 圖9所示之個人電腦7係控制用以使中間變倍透鏡^ 25 200829953 之倍率變化之透鏡驅動機構（未圖示），在中間變倍透鏡* 之可變範圍内設定所欲之倍率。 圖10係表示表示藉由圖9所示之晶圓檢查裝置之晶圓 檢查動作之流程圖之一例。 阳' 圖10所示之例中，例如，依據與形成於晶圓之電 案相關之資訊，事先決定成為檢查對象之至少一個觀察 點，透過個人電腦7所具備之鍵盤（未圖示）等輸入事置$ 輸入該等觀察點位於晶圓上之座標，登錄㈣人電/ 之記憶體等中（步驟s 1)。又，+ η士 备 械 1 )又此時，在該等觀察點中，依 據物鏡2之視野内所截取之電路圖案之線寬，求出滿足上 述式_牛之综合投影倍率’將所獲得之綜合投影 應各觀察點事先予以登錄。 …其次’個人《 7依據上述所登錄之f訊依序讀出久 =點之登錄資訊，依據此登錄f訊進行可㈣構所料 物台等：調整’使所指定之晶® 3上之座標移動至 物鏡2之視野中心部（步驟S2)。 然後，個人電腦7在步驟S2中，> & W士 心驟S2中，依據與觀察點之座 才*冋％頃出之綜合投影倍率調整中間變倍透鏡4之倍 :。投影於CCD5上之觀察點的像設定最佳投影倍率；驟 取得Γ二於設定最，投影倍率後，經過適當的聚焦處理， 影像暫012放大w影像（步驟S4)’所取得之放大投影 暫守儲存於個人電腦7所具備之 存奘罢你, 又％(未圖示）等之儲 "灸，仏乂驟S11〜步驟S15之影像解析處理。 16 200829953 如上述’每當取得各觀察點之放大 電腦7判斷所有觀察點之影像取得是否社^像…個人 判斷否時，回到㈣S2’開始進行與新:觀 像取得處理。 ^ $點相關之影 如此，當針對在上述之步驟Sl登 放大投影影像之取得結束時，作為判斷步=點之 人電腦7便結束影像取得處理。 為疋，個 其次，說明影像解析處理。 個人電腦7所具備之影像 取得處理巾㈣存之各㈣點之影像 抓用適备的邊緣強調渡波器(例如，5 ) 波器）以進行邊緣強調處理（步驟Sl2)。 拉曰拉相 如上所述，步驟s 12所取得之邊缘強1 ^ + 形成於晶圓3上之觀…〜邊緣強調衫像中’由於 析，因… 電路圖案係以高對比進行解 二口此在㈣Sl3中，使此邊緣強調影像顯示於影像監 ::由上，將呈現於此邊緣強調影像之電路圖案的像提供 :二：作業者之缺陷檢測作業，藉此依據此邊緣強調 〜飞確貫檢測出微細電路圖案之缺損等缺陷。 .、貝，严$纟士每田與各觀祭點相關之邊緣強調處理及缺陷檢 、 。東蚪，個人電腦判斷所有觀察點之放大投影影響 到=像解析處理是否結束（步冑S14)。#有未處理之放 取盥i〜像^，判斷此步驟S14為否，回到步驟S11，讀 取與其:欠之觀察點對應之放大投影影像，進行與此放大投 影影像相關之影像解析處理。 17 200829953 如上所述’當有關與所有觀察點之放大投影影像之處 里、j時（步驟S14之判斷是），個人電腦7係例如在晶圓 一出上述步驟s 13檢測缺陷觀察點之位置，並且作成 顯t與所檢測之缺陷相關之資訊之缺陷圖，顯示於影像監 見抑6提供給檢查作業者（步驟S15)，結束影像解析處理。 如此將邊緣強調濾波器採用於放大投影影像，藉此能 將所獲得之強調影傻φ έ 路圖案之檢查。’、 解析效果應用於形成於晶圓之電 :能針對圖10所示之步驟S4中所取得之放大投 ρ p即¥進行邊緣強調處理及缺陷檢測處理。 檢查作業者亦能針對任意取出之觀察點，利用強 凋衫像中之解析效果進行缺陷檢查。 動作！、Γ係表示圖9所示之晶圓檢查裝置之另-晶圓檢查 勁作之流程圖。 土圖11所示之晶圓檢查動作在步驟S2i巾，例如 罪檢查作業者決定晶 ,^心位置作為觀察點，則藉 定^= 7，在顯微鏡裝置所具備之中間變倍透鏡4設 疋取低倍率（步驟S22)。 ^次’個人電腦7係透過影像處理部8，&咖5取 :執Sr大投影影像(步驟S23)’針對所取得之暫態影 :二緣強調處理(步驟S24)。此時，利用個人電腦7, 曲I; ::Ϊ處理部8所獲得之強調影像所含之適當的線 之解Hi上述之暫態影像對應所獲得之強調影像中 析效果之程度指標，算出圖2所說明之對比值，盘中 200829953 間變鏡:之設定倍率對應儲存此對比值。 …、後’個人電腦7判斷 ::二倍透鏡4之倍率’例如設定較現在之件:二^ 後（ν驟S26)，回到步驟幻3， 。大一成之 如此，一、真担▲山 夂覆取侍暫態影像。 故知向中間變倍透鏡4 對與所取得之各暫態影像對應之強調/傻羊二f比較針

值，藉此，個人電腦7搜尋最適當之門辦/传之對比 率（步驟S27)。 田 日1父倍透鏡4之倍 依：此搜尋結果，個人電腦7，例 比值之中間轡样潘扭」 攸供取大對 採用此二Si 倍率作為最佳倍率(步驟叫， 知用此取<土倍率，取得放大投影力咖 ） 用之影像（㈣S29)，於此檢查用影 ^象作為才欢查 ira . 、重新執行邊緣強 1，储存強調影像作為缺陷檢測用影像（步驟㈣）。 如此’當檢查作業者每次針對所指定 陷檢測用影像時，個人雷腦7佰4 g 喊L，、占取仔缺 们人電腦7便詢問檢查作業者是否結束 榀查（步驟S3 1)，當指示繼續檢杳 .^ t 灵核立之才日令4，判斷步驟S31 、，回’步驟S21，針對新觀察點開始處理。 θ另方面田才曰不結束檢查之指令時（判斷步驟S31為 2結束缺陷檢查用影像之取得處理，所儲存的缺陷檢查 用衫像供缺陷檢測處理。 2(b)所示，隨著以高對 會增強因CCD中量化誤 然而’邊緣強調影像中，如圖 比解析感测對象之線圖案之效果， 差等所產生之雜訊成分。 19 200829953 此種增強之雜訊成分，能利用例如將如料所表示 之平均化;慮波為應用於強調影像以加以減輕。 為獲得雜訊減輕效果’有效的是採用較邊緣強調處理 所採用之邊緣強調濾波器之矩陣大小為小之矩陣大小 均化濾波器。 圖12(b)係表示，將上述平均化渡波器採用於圖叩)所 示之邊緣強調影像，藉此抑制呈現於強調影像之雜訊成分 之影像例，又，圖12⑷係表示與圖4(f)同等之曲線圖。 二二“a)可知’採用平均化濾波器後，在表示於強調 衫像之#間隔線圖案之對比亦無變化，亦由圖i可知， 刀別，、有8 Onm線覓之等間隔線圖案被明確解析。 =方面’由圖12⑷可知，呈現在等間隔線圖案兩侧 強_所帶來之圖案被鈍化，又，由® 12(b)可知， 圖12(b)中顯現之晝面上之雜訊大幅減輕。 拉g又I只知形愁中，雖使用等間隔線圖案為例，作對 :=之被檢查物亦有同樣的效果。又，光電轉換元一件 之配置不限於圍採般的 狀，m匕的格子狀，亦可將像素並排成蜂巢形 狀亦可進行像素錯開等。 之=發明之顯微鏡裝置巾，針純從顯微鏡裝置之物鏡 之NA及昭明龙4P ^ 兄 宰 7 》長所¥引之理論解析度為微細的圖 獲侍犯解析之邊緣強調影像以供觀察。 "羨也纟發明之顯微鏡影像之解 從顯微鏡袭置之物鏡之NA i昭明光之 =針對較 解析度為微A〜 所導引之理論 、回/、，旎獲得能解析之邊緣強調影像以供 20 200829953 具有上述微細的圖案之物體之觀察或檢查。 如以上之說明，依據本發明之顯微鏡裝置，則不論被 照明光源之波長或物鏡之NA等限制之理論解析度，能獲 得能明確解析形成於晶圓上之微細的電路圖案等觀察對 象。 因此’在觀察半導體製造領域中之晶圓之缺陷檢查領 域等微細圖案之領域中極為有效。 【圖式簡單說明】 參目1係表示本發明之顯微鏡裝置之實施形態。 圖2(a)〜(d)係說明強調影像之解析效果。 圖3 (a)、（b)係表示邊緣強調濾波器之例。 圖4(a)〜（f)係說明線寬與強調影像之解析效果之關係 圖（1) 〇 圖5(a)〜（f)係說明線寬與強調影像之解析效果之關係 圖（2) 〇 圖6(a)〜（c)係表示線圖案之像寬與邊緣強調濾波器之 瞻 矩陣大小之關係圖。 、圖7(a)〜（c)係表不線圖案之像寬與邊緣強調濾波器之 矩陣大小之關係圖。 圖8係表示藉邊緣強調之影像強調處理效果圖。 圖9係表示本發明之晶圓檢查裝置之實施形態圖。 圖10係表示晶圓檢查動作之流程圖。 圖11係表示另一晶圓檢查動作之流程圖。 圖12(a)、（b)係平均化濾波器之效果之說明圖。 21 200829953 【主要元件符號說明】 1 顯微鏡底座 2 物鏡 3 被檢查物（晶圓） 4 中間變倍透鏡 5 固態攝影元件（CCD) 6 影像監視器 7 個人電腦（PC)

8 影像處理部 9 XY載台 10 Z載台 11 旋轉載台 12 保持具 13 照明光學系統 14 半反射鏡 15 照明光源 16 聚光透鏡 17 開口光闌 18 中繼透鏡 19 視野光闌 20 反射鏡 21 成像透鏡 22

Claims (1)

1. 200829953 十、申請專利範圍： 1.一種顯微鏡裝置，其特徵在於，具備： 固態攝影元件，具有複數個像素； 放大光學系統’用以將觀察對象之至少-部分放大像 形成於該固態攝影元件之像素上；以及 旦影像處理機構，採用對於藉該固態攝影元件所獲得之 影像具有微分效果之邊绫％ 應之邊緣強調影像，· 11，以獲得與該影像對 =大光學系統，具備倍率可變光學系統，其係將該 構^^親祭區域所包含之線狀部分，成像為具有超過 冓二固:攝影元件之各個像素大小之寬、且藉該邊緣強 周濾波益之處理區域之寬以下之寬的像。 2.如申清專利範圍第i項之顯微鏡裝置 率可變光學系統，在該固能摄與分杜u 及倍 觀察區域所包含之線狀邻：： ’將該觀察對象之 的像。 線狀一分，成像為具有2像素以上之寬 僮/·如申請專利範圍第1項之顯微鏡襄置，其中，該声 理機構，採用對於藉該固態攝影元 二 有微分效果及反映該影像中之像素值分布效果之邊=具 濾波器。 W双果之邊緣強調 4.如申請專利範圍第3項之顯微鏡裝置，其中，” =機構具備平均化處理機構，針對藉該邊緣強調；I 調結果進行平均化處理，該平均化處理係使用㈣皮 不—緣強調濾波器之矩陣大小為小之平均化矩陣。、 23 200829953 5 · 種頒微^鏡影傻之紐4ϊ^ χ1 解析方法，其特徵在於，具備： 放大像形成步驟，將觀察對象之至少一部分放大像， 藉放大光學系統形成於配置複數個光電轉換元件所構成之 該固態攝影元件之光電轉換面上；以1 #成之 :像處理步驟’係採用對於藉該固態攝影元件所獲得 之影像具有微分效果之邊 w 、 對應之邊緣強調影像；_“，以獲得與該影像 之觀： = 步驟具備倍率可變步驟’將該觀察對象 固離：影元件：二之線狀部分，成像為具有超過與構成該 ；； 個光電轉換㈣對應之像素大小之寬、 且精心緣強調渡波器之處理區域之寬以下之寬的像；’ 其中，專利广圍第5項之顯微鏡影像之解析方法， 八 以"^可變步驟，在該固態攝影元件上，將該觀R 區域所包含之線狀部分，成像為具有二素:: • 十一、圖式： 如次頁〇 24