CN105793758A - 具有保护元件的半潜式显微镜物镜和物镜在多光子成像方法中的用途 - Google Patents

具有保护元件的半潜式显微镜物镜和物镜在多光子成像方法中的用途 Download PDF

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Abstract

本发明提供了一种半潜式显微镜物镜(100)，所述半潜式显微镜物镜包括显微镜物镜和保护元件(130)，所述显微镜物镜具有保护筒(120)，所述保护筒具有光学入口(122)和光学出口(124)，所述保护元件附连到所述显微镜物镜，密封所述光学出口(124)而不是所述光学入口(122)。所述保护元件的透明部分(132)与所述光学出口(124)对齐。所述保护元件能够与所述显微镜物镜分离而不会损坏所述显微镜物镜。本发明还公开了所述半潜式显微镜物镜在多光子成像方法中的用途。

Description

具有保护元件的半潜式显微镜物镜和物镜在多光子成像方法中的用途
技术领域
广义地，本发明涉及显微镜物镜及其在多光子成像方法中的用途。
背景技术
在显微镜中，物镜(有时在本领域也称为物镜镜头)是一种光学元件，该元件聚集来自所观察物体的光，并且聚焦光线以生成实像。例如，显微镜的物镜镜头是底部离样品近的镜头。简单来说，显微镜物镜是一种焦距非常短的高倍率放大镜。这样非常接近所检查的样本，以便来自样品的光在显微镜筒内聚焦。显微镜物镜本身通常大体上是圆柱体或管状的，并且包含一个或多个镜头，所述镜头通常由玻璃制成，嵌入保护筒中。显微镜物镜一般具有光学入口和光学出口，该光学入口和光学出口通常沿其纵向轴线的相对的两端对中。光学入口和光学出口通过在它们之间延伸并穿过显微镜物镜的光路相连。
显微镜物镜通常通过两个参数来表征：放大倍率和数值孔径。分别地，前者通常在4x-100x的范围内，而后者在约0.1至1.4的范围内，焦距为约30毫米至约200微米。类似地，数值孔径在约0.1至1.4范围内的显微镜物镜通常具有相应的从几毫米至约210微米的工作距离(即显微镜物镜与发生成像的焦点之间的距离)。类似地，对于高放大倍率应用，通常必需使用油浸物镜或水浸物镜。这类物镜具体设计用于通过折射率匹配油或折射率匹配水填充前镜头与物体之间的气隙，使数值孔径超过1，从而在高放大倍率时产生更高分辨率。通过油浸法可实现高达1.5或甚至更高的数值孔径。数值孔径(NA)高且质量好的显微镜物镜通常相当昂贵。
显微镜物镜也用于在称为“多光子立体光刻”的工艺中聚焦激光。在该工艺中，激光(通常为红外激光)在常常称作“光刻胶”的通常支撑在基片上的可聚合组合物内聚焦。光刻胶包含多光子吸收化合物，并且激光功率足够高以至于两个(或通常更少，多于两个)光子基本上同时被多光子吸收化合物吸收，导致光刻胶随后发生聚合。
为了改善分辨率，一种传统方法为将物镜镜头部分潜入液体光刻胶中，以消除空气界面/物镜镜头界面。然而，多光子立体光刻中的局部化激光功率可能相当大，并且存在以下可能：聚合光刻胶材料随时间推移积聚在显微镜物镜上而难以从光学表面去除。如果发生这类情况，则存在以下可能：昂贵的显微镜物镜将变得无法使用。
发明内容
在一个方面，本发明提供了一种半潜式显微镜物镜，包括：
显微镜物镜，该显微镜物镜具有保护筒，该保护筒具有光学入口和光学出口；
保护元件，该保护元件附连到显微镜物镜，密封光学出口而不是光学入口，其中保护元件的透明部分与光学出口对齐，并且其中保护元件能够与显微镜物镜分离而不会损坏显微镜物镜。
在另一方面，本发明提供了一种多光子成像方法，包括：
将半潜式显微镜物镜浸入液体光刻胶中，该液体光刻胶包含多光子吸收体和可聚合化合物，其中半潜式显微镜物镜包括：
显微镜物镜，该显微镜物镜具有保护筒，该保护筒具有光学入口和光学出口；
保护元件，该保护元件附连到显微镜物镜，密封光学出口而不是光学入口，其中保护元件的透明部分与光学出口对齐，并且其中保护元件能够与显微镜物镜分离而大体上不会损坏显微镜物镜；
在使得发生多光子吸收体进行多光子吸收并且发生可聚合化合物至少部分聚合的情况下，以成像方式引导激光穿过半潜式显微镜物镜并且进入液体光刻胶中，从而形成曝光的光刻胶；以及
显影该曝光的光刻胶。
有利地，在多光子成像工艺期间，以及甚至在可聚合化合物将发生聚合并且致使残留物积聚在显微镜物镜上的情况下，可将根据本发明的半潜式物镜镜头组合件部分潜入液体光刻胶中，可使用相对温和化学处理和/或简单的机械脱离将其从曝光(和聚合的)光刻胶上清除。
如本文所用：
“光”意指波长在约300nm至约1500nm范围内的电磁辐射；
“流体”是指在一个大气压力下以及20℃-25℃(含端值)范围内至少一种温度下处于流体状态的化合物。
“多光子吸收”意指同时吸收两种或更多种光的光子以达到光反应性电子激发态，通过吸收相同能量的单个光子在能量上无法达到这种激发态；
“多光子吸收体”意指能够进行光的多光子吸收的物质；
“数值孔径”意指物体介质的折射率与物体轴向点最外侧光线的斜角的正弦相乘的结果；
“光学入口”是指光束具有平行光线的显微镜物镜一端；
“光学出口”是指光束汇聚的显微镜物镜一端；
“光化学有效量”意指足以使光反应性物质在所选曝光条件下发生至少部分反应的量(如，由在密度、粘度、颜色、pH、折射率、或其他物理或化学性质上的改变所表明的)；
“同时”是指在10-14秒或更短的周期内发生的两个事件；并且
“溶剂”是指组合物的非反应性流体组分，该组分溶解组合物的至少一种固体组分，或稀释组合物的至少一种流体组分(至于水，不定量的水不包含在术语“溶剂”的范围内)；以及
“溶剂显影”意指大体上去除(例如，溶解)溶剂中的可溶物质，而大体上不去除不可溶物质。
在考虑具体实施方式以及所附权利要求书之后，将进一步理解本发明的特征和优点。
附图说明
图1为示例性半潜式显微镜物镜100的示意性分解透视图。
图2A为保护元件130的示意性透视图。
图2B为保护元件130的示意性俯视图。
图2C为保护元件130的示意性横截面透视图。
图3为示例性半潜式显微镜物镜200的示意性侧视图。
图4为实施例1中生成的扫描电子显微图。
在说明书和附图中重复使用的参考符号旨在表示本公开相同或类似的特征或元件。应当理解，本领域的技术人员可设计出落入本公开原理的范围和实质内的许多其他修改形式和实施方案。附图可能未按比例绘制。
具体实施方式
可通过改装传统的显微镜物镜制作半潜式显微镜物镜。对于在使用液体光刻胶的多光子成像工艺中的用途，优选数值孔径(NA)为至少1.0，更优选地为至少1.2，并且更优选地为至少1.4，但如果需要，也可使用其他数值孔径。物镜数值孔径可通过将物镜设计为与浸渍介质一起使用而显著增加，诸如油、甘油或水。
显微镜物镜(也称为显微镜物镜镜头)在本领域中是熟知的，并且可从许多来源商购获得，包括例如：纽约州索恩伍德市的卡尔蔡司显微镜有限公司(CarlZeissMicroscopy,LLC,Thornwood,NewYork)(例如，以下述名称市售的显微镜物镜：OBJECTIVEALPHAPLAN-APOCHROMAT100x/1.46OILDICM27、OBJECTIVEANTIFLEXECPLAN-NEOFLUAR63x/1.25OILPH3M27、OBJECTIVEALPHAPLAN-APOCHROMAT100x/1.57OIL-HIDICCORRM27、ZEISS40X/1.0OILIRISMICROSCOPEOBJECTIVE(NA＝1.0)以及OBJECTIVEALPHAPLAN-APOCHROMAT100x/1.46OILIRISM27)；纽约州梅尔维尔市的尼康仪器公司(NikonInstrumentsInc.,Melville,NewYork)(例如，以下述名称市售的显微镜物镜：PLAN100xW(NA＝1.1)、CFISFLUOR40xOIL(NA＝1.30)以及CFISFLUOR100xOIL(NA＝0.5-1.3))；以及日本东京的奥林巴斯公司(lympusCorp.,Tokyo,Japan)(例如，以下述名称市售的显微镜物镜：“MPLANAPOCHROMATMPLAPON100XO(NA＝1.4))。
有利地，本发明特别适用于昂贵的显微镜物镜，诸如设计用于浸渍在油或水中的物镜和/或具有以下数值孔径(NA)的物镜：至少0.3、至少0.4、至少0.5、至少0.6、至少0.7、至少0.8、至少0.9、至少1.0、至少1.1、至少1.2、至少1.3、或甚至至少1.4。在一些实施方案中，显微镜物镜的数值孔径在0.65至1.25的范围内。
现在参见图1，在一个实施方案中，半潜式显微镜物镜100包括显微镜物镜110和保护元件130。显微镜物镜110包括保护筒120、光学入口122和光学出口124，在多光子立体光刻期间，激光经过光学出口从显微镜物镜中出来。光学入口122和光学出口124与居中设置的纵向轴线128对齐。保护元件130附连到显微镜物镜110，使得其密封光学出口124而不是光学入口122。保护元件130包括透明部分132，该透明部分与光学出口124对齐。
在所示实施方案中，保护元件130包括具有中心开口133的盖131和从盖131延伸的套筒部分135。套筒部分135适于机械接合显微镜物镜110的保护筒120。透明部分132包括盖玻片139，该盖玻片固定到盖131上(例如，通过粘合剂或机械方式)，这形成了避免光学出口在使用时与液体光刻胶接触的密封。盖玻片139覆盖中心开口133，并且附接到盖131。盖和套筒部分在图1中作为单一保护元件的部件更加详细地示出；然而，它们可包括组装以形成部分或全部保护元件的单独的件。有关保护元件130其他细节在图2A-2C中示出。
保护元件可由任何合适材料构造，包括例如：塑料(例如，聚碳酸酯、聚酰亚胺、聚醚酰亚胺(PEI)、聚醚醚酮(PEEK)、聚酯、聚酰胺、聚氨酯、聚烯烃(例如，低分子量聚乙烯、高密度聚乙烯(HDPE)、超高分子量聚乙烯(UHMWPE)、或聚丙烯)，或聚缩醛(例如，聚甲醛)；金属；玻璃；蓝宝石；石英；或它们的组合。
透明部分132可包括或由任何透明材料组成，包括例如玻璃、石英、蓝宝石、塑料或它们的组合。虽然描绘为在中心开口上方形成凸盖，但透明部分也可设置为与盖齐平，或甚至凹进盖内，或设置在盖内部。
保护元件130机械接合显微镜物镜110，并且通过夹紧螺钉136(参见图2C)可逆地附连到显微镜物镜110，该夹紧螺钉将套筒部分135夹紧在保护筒120上。相应地，保护元件130能够与显微镜物镜110分离而不会损坏显微镜物镜110。
折射率匹配流体137(例如，油)设置在光学出口124与盖玻片139之间，从而消除盖玻片139内表面处的反射。
保护元件以可拆卸的方式附连到显微镜物镜。也就是说，保护元件能够与显微镜物镜分离而大体上不会损坏显微镜物镜。用于将保护元件附连到显微镜物镜的合适机械装置包括例如夹具(如图1所示)、压合装置、可重新定位的以及互锁机械紧固件(例如，钩环紧固件、或帽杆式紧固件)。
在另一个实施方案中，如图3所示，半潜式保护元件200包括显微镜物镜110，该显微镜物镜具有设置在其一部分上的透明保护涂层232。透明保护涂层覆盖并且密封光学出口124以免接触液体光刻胶。为了使拆卸更简单而不损坏显微镜物镜，透明保护涂层232能够溶解在水性溶剂中，优选pH在2至16范围内的水性溶剂，更优选pH在4至10范围内的水性溶剂，甚至更优选pH在5至9范围内的水性溶剂。
优选地，透明保护涂层包括水溶性聚合物。示例性水溶性聚合物包括：冷水可溶性和热水可溶性聚乙烯醇(优选冷水可溶性形式)、以及具有羧基或羧酸盐侧基的水溶性聚合物(例如，尤其是衍生自单体共聚物的侧基，这些单体包括丙烯酸、甲基丙烯酸、和/或琥珀酸酐)。在一些实施方案中，透明保护涂层可为化学和/或物理交联的。例如，透明保护涂层可包括用于商用乙烯基瓷砖地板涂饰剂(例如，基于锌交联丙烯酸聚合物的地板涂饰剂)的那类金属离子交联丙烯酸聚合物。通过水性剥离剂可逆转这类地板涂饰剂中的丙烯酸或甲基丙烯酸残留物之间的金属交联。水性剥离剂通常具有碱性pH，并且包含与金属(例如，锌离子)络合的可溶性胺或偶联胺(例如，乙醇胺)。不含金属的地板涂饰剂也适合用作透明保护涂层，因为同样地该地板涂饰剂也可容易地通过水性剥离剂以及可选地通过轻轻擦拭去除。可用于形成透明保护涂层的水溶性材料包括基于聚乙烯醇的材料，诸如：6000克/摩尔，80％水解聚乙烯醇，可以Cat.No.2225得自宾夕法尼亚州沃灵顿的Polysciences公司(Polysciences,Inc.,Warrington,Pennsylvania)；以及美国专利3,087,920(Suzumura等人)和8,276,756(Denome等人)中所述的这些基于聚乙烯醇的材料；美国专利申请公布2004/0210025(Hinde等人)中所述的聚氨酯；以及美国专利申请公布2012/0164424中所述的冷水可溶性聚乙烯醇/丙烯酸烷基酯共聚物。
也可使用可通过水性剥离剂剥离的地板涂饰剂组合物。合适的地板涂饰剂组合物包括：包含在烘干后发生化学交联(例如，共价交联和/或离子交联)的多价金属离子的地板涂饰剂组合物；以及不含锌的地板涂饰剂组合物。合适的商用不含锌地板涂饰剂和密封剂的示例包括以下面的名称得自明尼苏达州圣保罗市3M公司(3MCompany,SaintPaul,Minnesota)的不含锌地板涂饰剂和密封剂：SCOTCHGARDUHS25FLOORFINISH、SCOTCHGARDLOWMAINTENANCE25FLOORFINISH、SCOTCHGARDLOWMAINTENANCE18FLOORFINISH以及3MCORNERSTONEFLOORSEALER/FINISH。合适的剥离剂的示例包括以3MFLOORSTRIPPER和3MTROUBLESHOOTERLIQUIDFINISHREMOVER得自3M公司的剥离剂。
透明保护涂层可通过任何合适方法施加于显微镜物镜，包括刷涂、浸涂、喷涂、旋涂、以及擦涂。优选地，在保护筒的部分涂上充足的透明保护涂层，以便在多光子成像(例如，双光子立体光刻)用途期间部分潜入液体光刻胶时，液体光刻胶将不会直接接触显微镜物镜。
半潜式显微镜物镜可以取代在本领域已知的多光子立体光刻工艺中使用的传统显微镜物镜。
液体光刻胶包含多光子吸收化合物(多光子吸收体)，结合至少一种可聚合化合物。在多光子立体光刻工艺中，在使得发生多光子吸收体进行多光子吸收并且发生可聚合化合物至少部分聚合的情况下，以成像方式引导激光穿过显微镜物镜(或就本发明而言的半潜式显微镜物镜)并且进入液体光刻胶中，从而形成曝光的光刻胶。然后通常通过溶剂显影曝光的光刻胶显示组合结构。
有关适于通过液体光刻胶进行多光子立体光刻的材料和方法的细节在例如美国专利申请公布2012/0218535(Thiel等人)中有所描述。通常，通过将引发剂/光敏剂组分替换为适用于多光子(例如，双光子)成像的引发剂/光敏剂组分，适用于传统的单光子立体光刻(添加剂制造工艺，其采用一桶液体紫外光可固化光致聚合物树脂和紫外线激光器通过一层叠一层逐步形成各层来构建结构)的液体光刻胶可适于用作多光子成像的液体光刻胶。其他细节可见于下文所包含的示例。有关用于实践多光子立体光刻的材料和方法的一般信息可见于例如美国专利7,118,845(DeVoe等人)。
有利地，本发明的半潜式显微镜物镜可替代传统的显微镜物镜用于此类工艺中，从而相对于在成像期间意外粘附光刻胶，提供了一定程度的安全性。
本发明的精选实施方案
在第一实施方案中，本发明提供了一种半潜式显微镜物镜，包括：
显微镜物镜，包括：
保护筒，该保护筒具有光学入口和光学出口；以及至少一个光学元件，该光学元件设置在保护筒之内并且沿着在光学入口和光学出口之间延伸的光路；和
保护元件，该保护元件附连到显微镜物镜，密封光学出口而不是光学入口，其中保护元件的透明部分与光路对齐，并且其中保护元件能够与显微镜物镜分离而不会损坏显微镜物镜。
在第二实施方案中，本发明提供了根据第一实施方案所述的半潜式显微镜物镜，其中保护元件机械接合显微镜物镜。
在第三实施方案中，本发明提供了根据第二实施方案所述的半潜式显微镜物镜，还包括折射率匹配流体，该折射率匹配流体设置在光学出口与保护元件的透明部分之间。
在第四实施方案中，本发明提供了根据第一实施方案所述的半潜式显微镜物镜，其中保护元件包括透明保护涂层。
在第五实施方案中，本发明提供了根据第四实施方案所述的半潜式显微镜物镜，其中透明保护涂层能够溶解在水性溶剂中。
在第六实施方案中，本发明提供了根据第四实施方案所述的半潜式显微镜物镜，其中透明保护涂层为化学交联的。
在第七实施方案中，本发明提供了根据第四实施方案所述的半潜式显微镜物镜，其中透明保护涂层包含聚乙烯醇或具有羧基或羧酸盐侧基的聚合物中的至少一者。
在第八实施方案中，本发明提供了根据第四实施方案所述的半潜式显微镜物镜，其中显微镜物镜的数值孔径为至少1.0。
在第九实施方案中，本发明提供了一种多光子成像方法，包括：
将半潜式显微镜物镜浸入液体光刻胶中，该液体光刻胶包含多光子吸收体和可聚合化合物，其中半潜式显微镜物镜包括：
显微镜物镜，包括：
保护筒，该保护筒具有光学入口和光学出口；以及至少一个光学元件，该光学元件设置在保护筒之内并且沿着在光学入口和光学出口之间延伸的光路；和
保护元件，该保护元件附连到显微镜物镜，密封光学出口而不是光学入口，其中保护元件的透明部分与光路对齐，并且其中保护元件能够与显微镜物镜分离而不会损坏显微镜物镜；
在使得发生多光子吸收体进行多光子吸收并且发生可聚合化合物至少部分聚合的情况下，以成像方式引导激光穿过半潜式显微镜物镜并且进入液体光刻胶中，从而形成曝光的光刻胶；以及
显影该曝光的光刻胶。
在第十实施方案中，本发明提供了根据第九实施方案所述的多光子成像方法，其中保护元件机械接合显微镜物镜。
在第十一实施方案中，本发明提供了根据第十实施方案所述的多光子成像方法，还包括折射率匹配流体，该折射率匹配流体设置在光学出口与保护元件的透明部分之间。
在第十二实施方案中，本发明提供了根据第九实施方案所述的多光子成像方法，其中保护元件包括透明保护涂层。
在第十三实施方案中，本发明提供了根据第十二实施方案所述的多光子成像方法，其中透明保护涂层能够溶解在水性溶剂中。
在第十四实施方案中，本发明提供了根据第十二实施方案所述的多光子成像方法，其中透明保护涂层为化学交联的。
在第十五实施方案中，本发明提供了根据第十二实施方案所述的多光子成像方法，其中透明保护涂层包含聚乙烯醇或具有羧基或羧酸盐侧基的聚合物中的至少一者。
在第十六实施方案中，本发明提供了根据第十二实施方案所述的多光子成像方法，其中显微镜物镜的数值孔径为至少1.0。
本发明的目的和优点将通过下面的非限制性实施例进一步说明，但是这些实施例中所提到的具体材料及其量，以及其他条件和细节，均不应视为对本发明的不当限制。
实施例
除非另外指明，否则在实施例及本说明书其余部分中的所有份数、百分数、比率等均按重量计。
实施例1
在本实施例中，将显微镜盖玻片(约170至190微米)胶粘到由迭尔林聚甲醛制造的保护元件上，该保护元件直接夹在Zeiss40x/1.0油虹膜显微镜物镜(可得自纽约州索恩伍德市的卡尔蔡司显微镜有限公司(CarlZeissMicroscopy,LLC,Thornwood,NewYork))的保护筒上，当用于多光子成像并且一般在图1中示出时，该物镜具有锥形端，该锥形端具有与光学出口对应的居中设置的镜头。保护元件在图2A-2C中示出。然后定位保护元件使得盖玻片在光学出口处接触镜头，并且在镜头表面与盖玻片之间加入一滴ZeissIMMERSOL518F浸镜油以消除空气。
几种结构使用由多种组合物的液体光刻胶制得的半潜式显微镜物镜制造。图4示出了一些在z轴线上堆叠的简单几何结构的扫描电子显微图，展示了通过液体光刻胶中的镜头刻画高于半潜式显微镜物镜工作距离的结构的能力(在制造结构的中间形成可见接缝)。
刻画图4中的结构的基部，然后曝光上半部。此样品在焦点处使用MaiTai超速激光器(800纳米波长、<100飞秒脉冲长度、80兆赫重复率，可得自加利福利亚州圣克拉拉的光谱物理公司(Spectra-Physics,SantaClara,California))的3.5毫瓦特激光功率。光刻胶组合物(其为液态)是：65重量份的ERL42213,4-环氧环己基甲基3,4-环氧环己基羧酸酯，得自宾夕法尼亚州沃灵顿的Polysciences公司(Polysciences,Inc.,Warrington,Pennsylvania)；35重量份的SR351三羟甲基丙烷三丙烯酸酯，得自宾夕法尼亚州埃克斯顿的沙多玛公司(SartomerCo.,Exton,Pennsylvania)；0.5重量份的2,5-双[4-(二苯胺)苯乙烯基]-1-(2-乙基己氧基)-4-苯甲醚(KL68)光敏剂(如美国专利7,265,161(Leatherdal等人)所述而合成)；以及1.0重量％的PC-2506二芳基碘鎓六氟锑酸盐，得自纽约州梅卡尼克维尔的Polyset公司(PolysetCo.,Mechanicville,NewYork)，其具有以下结构。
在移除保护元件并且去除残留的折射率匹配油之后，显微镜物镜显然没有任何损坏。
实施例2
将油浸显微镜物镜(40X放大倍率，NA＝1.0，可得自卡尔蔡司显微镜有限公司(CarlZeissMicroscopy,LLC))涂覆一薄层的聚乙烯醇(PVA)。将水中10重量％的PVA溶液(6,000克/摩尔，80％水解，以Cat.No.22225得自宾夕法尼亚州沃灵顿的Polysciences公司(Polysciences,Inc.,Warrington,Pennsylvania))施加于外露镜头上和显微镜物镜浸入端的周围金属上。调整显微镜物镜使多余溶液流出最终的镜头表面，以提供合适的薄透明保护涂层。将涂覆的显微镜物镜置于50℃下的烘箱中2分钟以有利于烘干。
将所得半潜式显微镜物镜的涂覆端浸入已经涂覆在硅基片上的液体光刻胶中。该光刻胶制剂由以下项组成：35重量份的EPON828双酚A二缩水甘油醚，得自休斯敦的迈图公司(Momentive,Houston,Texas)；30重量份的ERL42213,4-环氧环己基甲基3,4-环氧环己基羧酸-酯，得自Polysciences公司(Polysciences,Inc.)；以及35重量份的沙多玛公司(SartomerCo.)的SR351三羟甲基丙烷三丙烯酸酯；实施例1中使用的0.5份的KL68光敏剂，以及1重量％的PC-2506二芳基碘鎓六氟锑酸盐，得自Polyset公司(PolysetCo.)。
MaiTai超速激光器(800纳米波长，<100飞秒脉冲长度、80兆赫重复率，可得自加利福利亚州圣克拉拉的光谱物理公司(Spectra-Physics,SantaClara,California))以10毫瓦特功率在物镜镜头的焦点处扫描，以在光刻胶中制造结构。
在激光扫描后，从显影系统中去除硅基片上的液体光刻胶样品。用沾湿有异丙醇的拭镜纸擦除遗留在物镜镜头上的液体光刻胶。在光学显微镜下检查镜头涂层，并且用乙醇和拭镜纸进一步清洁镜头涂层。最后，通过在去离子水中浸渍2分钟去除PVA透明保护涂层。显微镜物镜显然没有任何损坏。
实施例3
重复实施例2，不同的是用得自明尼苏达州梅普尔伍德的3M公司(3MCompany,Maplewood,Minnesota)的SCOTCHGARDRESILIENTFLOORPROTECTOR(一种水性涂覆式保护产品，具有22重量％的固体含量、7.4-8.4的pH、以及小于8厘泊的粘度)替代聚乙烯醇溶液。在激光扫描后，用沾湿有异丙醇的拭镜纸擦除物镜镜头上的光刻胶，并且用拭镜纸上的乙醇进一步清洁物镜镜头。最后，通过以下方式去除透明保护涂层：在用水稀释过的近似体积稀释比例为1:16的快速剥离剂浓缩液6H(SpeedStripperConcentrate6H)(得自3M公司)中浸入2分钟，在去离子水中冲洗，之后在乙醇中进行最后的冲洗。显微镜物镜显然没有任何损坏。
实施例4
重复实施例2，不同的是用购自明尼苏达州圣保罗市3M公司(3MCompany,SaintPaul,Minnesota)的SCOTCHGARDLOWMAINTENANCEFLOORFINISH(一种水性产品，具有25重量％的固体含量、8.1-8.9的pH、以及小于10厘泊的粘度)替代聚乙烯醇溶液。在激光扫描后，用沾湿有异丙醇的拭镜纸擦除物镜镜头上的光刻胶，并且用拭镜纸上的乙醇进一步清洁物镜镜头。最后，通过以下方式去除透明保护涂层：在用水稀释过的近似体积稀释比例为1:16的快速剥离剂浓缩液6H(SPEEDSTRIPPERCONCENTRATE6H)(得自3M公司)中浸入2分钟，在去离子水中冲洗，之后在乙醇中进行最后的冲洗。显微镜物镜显然没有任何损坏。
以上获得专利证书的专利申请中所有引用的参考文献、专利或专利申请以一致的方式通过引用全部并入本文。在并入的参考文献部分与本专利申请之间存在不一致或矛盾的情况下，应以前述具体实施方式中的信息为准。为了使本领域的技术人员能够实现受权利要求书保护的本公开而给定的前述说明，不应理解为对本公开的范围的限制，本公开的范围由权利要求书及其所有等同形式限定。

Claims (16)

1.一种半潜式显微镜物镜，包括：
显微镜物镜，所述显微镜物镜具有保护筒，所述保护筒具有光学入口和光学出口；
保护元件，所述保护元件附连到所述显微镜物镜，密封所述光学出口而不是所述光学入口，其中所述保护元件的透明部分与所述光学出口对齐，并且其中所述保护元件能够与所述显微镜物镜分离而不会损坏所述显微镜物镜。
2.根据权利要求1所述的半潜式显微镜物镜，其中所述保护元件包括具有中心开口的盖和从所述盖的一个主表面延伸的套筒，其中所述套筒适于机械接合所述显微镜物镜，并且其中所述透明部分包括固定到所述盖并且覆盖所述中心开口的透明窗。
3.根据权利要求2所述的半潜式显微镜物镜，还包括折射率匹配流体，所述折射率匹配流体设置在所述光学出口与所述保护元件的所述透明部分之间。
4.根据权利要求1所述的半潜式显微镜物镜，其中所述保护元件包括透明保护涂层。
5.根据权利要求4所述的半潜式显微镜物镜，其中所述透明保护涂层能够溶解在水性溶剂中。
6.根据权利要求4所述的半潜式显微镜物镜，其中所述透明保护涂层为化学交联的。
7.根据权利要求4所述的半潜式显微镜物镜，其中所述透明保护涂层包含聚乙烯醇或具有羧基或羧酸盐侧基的聚合物中的至少一者。
8.根据权利要求4所述的半潜式显微镜物镜，其中所述显微镜物镜的数值孔径至少为1.0。
9.一种多光子成像方法，包括：
将半潜式显微镜物镜浸入液体光刻胶中，所述液体光刻胶包括多光子吸收体和可聚合化合物，其中所述半潜式显微镜物镜包括：
显微镜物镜，所述显微镜物镜具有保护筒，所述保护筒具有光学入口和光学出口；
保护元件，所述保护元件附连到所述显微镜物镜，密封所述光学出口而不是所述光学入口，其中所述保护元件的透明部分与所述光学出口对齐，并且其中所述保护元件能够与所述显微镜物镜分离而不会损坏所述显微镜物镜；
在使得发生所述多光子吸收体进行多光子吸收并且发生所述可聚合化合物至少部分聚合的情况下，以成像方式引导激光穿过所述半潜式显微镜物镜并且进入液体光刻胶中，从而形成曝光的光刻胶；以及
显影所述曝光的光刻胶。
10.根据权利要求9所述的多光子成像方法，其中所述保护元件包括具有中心开口的盖和从所述盖的一个主表面延伸的套筒，其中所述套筒适于机械接合所述显微镜物镜，并且其中所述透明部分包括固定到所述盖并且覆盖所述中心开口的透明窗。
11.根据权利要求10所述的多光子成像方法，还包括折射率匹配流体，所述折射率匹配流体设置在所述光学出口与所述保护元件的所述透明部分之间。
12.根据权利要求9所述的多光子成像方法，其中所述保护元件包括透明保护涂层。
13.根据权利要求12所述的多光子成像方法，其中所述透明保护涂层能够溶解在水性溶剂中。
14.根据权利要求12所述的多光子成像方法，其中所述透明保护涂层为化学交联的。
15.根据权利要求12所述的多光子成像方法，其中所述透明保护涂层包含聚乙烯醇或具有羧基或羧酸盐侧基的聚合物中的至少一者。
16.根据权利要求12所述的多光子成像方法，其中所述显微镜物镜的数值孔径至少为1.0。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109745006A (zh) * 2019-01-31 2019-05-14 北京超维景生物科技有限公司 分离式吸附装置、显微镜探测装置及激光扫描显微镜
CN111175955A (zh) * 2018-11-13 2020-05-19 纳侬斯桧布有限责任公司 分配器附件及其用于由激光光刻写入3d结构的装置的用途

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3077421B1 (en) 2013-12-06 2018-01-31 3M Innovative Properties Company Liquid photoreactive composition and method of fabricating structures
EP3432049A3 (en) * 2013-12-06 2019-04-03 3M Innovative Properties Co. Semi-submersible microscope objective and use of the same in multiphoton imaging method
EP3676973A4 (en) 2017-08-31 2021-05-05 Metalenz, Inc. INTEGRATION OF LENS WITH PERMEABLE METAL SURFACE
WO2019164849A1 (en) * 2018-02-20 2019-08-29 President And Fellows Of Harvard College Aberration correctors based on dispersion-engineered metasurfaces
DE102018221670A1 (de) 2018-12-13 2020-06-18 Karlsruher Institut für Technologie Vorrichtung und Verfahren zur optischen Charakterisierung oder Bearbeitung eines Objekts
KR20220035971A (ko) 2019-07-26 2022-03-22 메탈렌츠 인코포레이티드 개구-메타 표면 및 하이브리드 굴절-메타 표면 이미징 시스템
US20230133547A1 (en) * 2019-11-26 2023-05-04 Lubbe Steven Devices, systems, and methods for 3d printing
CN114746250A (zh) * 2019-12-05 2022-07-12 3M创新有限公司 散射和/或吸收介质中的多光子成像方法和制品
DE102020111717A1 (de) * 2020-04-29 2021-11-04 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Schutzvorrichtung und verfahren zum schützen von mikroskopkomponenten vor flüssigkeitskontakt
DE102021131132A1 (de) 2021-11-26 2023-06-01 Universität Stuttgart, Körperschaft Des Öffentlichen Rechts Objektiv-Schutzvorrichtung als Wegwerfelement zum Schutz von Objektiven
US11927769B2 (en) 2022-03-31 2024-03-12 Metalenz, Inc. Polarization sorting metasurface microlens array device

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6250512B1 (en) * 1997-10-02 2001-06-26 Loctite Corporation Temporary protective coatings for precision surfaces
US6403966B1 (en) * 1998-07-02 2002-06-11 Sony Corporation Measurement method and apparatus
CN2519297Y (zh) * 2001-11-23 2002-10-30 麦克奥迪实业集团有限公司 附加式干湿两用低倍显微镜物镜
US20050190437A1 (en) * 2002-09-10 2005-09-01 Olympus Optical Co., Ltd Microscopic image capture apparatus and microscopic image capturing method
CN101529305A (zh) * 2006-10-25 2009-09-09 株式会社尼康 显微镜装置和显微镜图像分析方法
JP2011242815A (ja) * 2011-09-08 2011-12-01 Olympus Corp 顕微鏡システム及び観察方法
CN102649314A (zh) * 2011-02-25 2012-08-29 光刻设备有限公司 用于向光敏物质中空间分辨地输入电磁辐射的强度图案的方法和装置及其应用
CN203204233U (zh) * 2012-08-10 2013-09-18 上海西光实业有限公司 一种适于显微镜对焦的自动检测装置

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3087920A (en) 1959-10-12 1963-04-30 Kurashiki Rayon Co Cold-water-soluble polyvinyl alcohol
US5853363A (en) * 1997-07-28 1998-12-29 Deka Medical, Inc. Surgical microscope operating drape and methods of operation and manufacture thereof
US6776287B1 (en) 1998-03-03 2004-08-17 Aquasol Limited Water soluble films
US7118845B2 (en) 2000-06-15 2006-10-10 3M Innovative Properties Company Multiphoton photochemical process and articles preparable thereby
US7265161B2 (en) 2002-10-02 2007-09-04 3M Innovative Properties Company Multi-photon reactive compositions with inorganic particles and method for fabricating structures
JP3958234B2 (ja) * 2003-03-14 2007-08-15 シャープ株式会社 浮上型光学ヘッドおよび光記録再生装置
DE10324477A1 (de) * 2003-05-30 2004-12-30 Carl Zeiss Smt Ag Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
US7460206B2 (en) * 2003-12-19 2008-12-02 Carl Zeiss Smt Ag Projection objective for immersion lithography
JP4551701B2 (ja) * 2004-06-14 2010-09-29 富士フイルム株式会社 液浸露光用保護膜形成組成物及びそれを用いたパターン形成方法
JP2006301540A (ja) * 2005-04-25 2006-11-02 Olympus Corp 対物レンズプロテクタおよび対物レンズユニット
JP4669302B2 (ja) * 2005-02-24 2011-04-13 富士通株式会社 レンズカバー
JP4823576B2 (ja) * 2005-06-10 2011-11-24 オリンパス株式会社 対物プロテクタ
CN101896852B (zh) * 2007-07-20 2013-11-06 新加坡科技研究局 减少焦平面变形的光束聚焦装置和方法
US20100227272A1 (en) * 2007-10-11 2010-09-09 Innovative Properties Company Highly Functional Multiphoton Curable Reactive Species
JP2009186776A (ja) * 2008-02-06 2009-08-20 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd ハードコート膜およびその製造方法並びにハードコート膜を備えた光学機能膜および光学レンズ
US8388153B1 (en) * 2009-09-18 2013-03-05 University Of Wyoming Objective lens protector
JP5934112B2 (ja) 2010-01-29 2016-06-15 モノソル リミテッド ライアビリティ カンパニー Ｐｖｏｈポリマーのブレンド材を有する改良された水溶性フィルムおよびそれで作られたパケット
JP5737685B2 (ja) * 2010-06-24 2015-06-17 国立研究開発法人科学技術振興機構 ３次元ポリマー−金属複合マイクロ構造体、及びその製造方法
EP2620249B1 (en) * 2010-09-21 2019-12-11 Technical Institute of Physics and Chemistry of the Chinese Academy of Sciences Laser micro/nano processing system and method
US10316124B2 (en) 2010-12-22 2019-06-11 Sekassai Specialty Chemicals America, LLC Cold water soluble polyvinyl alcohol/alkyl acrylate copolymers and films thereof
EP3077421B1 (en) 2013-12-06 2018-01-31 3M Innovative Properties Company Liquid photoreactive composition and method of fabricating structures
EP3432049A3 (en) * 2013-12-06 2019-04-03 3M Innovative Properties Co. Semi-submersible microscope objective and use of the same in multiphoton imaging method

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6250512B1 (en) * 1997-10-02 2001-06-26 Loctite Corporation Temporary protective coatings for precision surfaces
US6403966B1 (en) * 1998-07-02 2002-06-11 Sony Corporation Measurement method and apparatus
CN2519297Y (zh) * 2001-11-23 2002-10-30 麦克奥迪实业集团有限公司 附加式干湿两用低倍显微镜物镜
US20050190437A1 (en) * 2002-09-10 2005-09-01 Olympus Optical Co., Ltd Microscopic image capture apparatus and microscopic image capturing method
CN101529305A (zh) * 2006-10-25 2009-09-09 株式会社尼康 显微镜装置和显微镜图像分析方法
CN102649314A (zh) * 2011-02-25 2012-08-29 光刻设备有限公司 用于向光敏物质中空间分辨地输入电磁辐射的强度图案的方法和装置及其应用
JP2011242815A (ja) * 2011-09-08 2011-12-01 Olympus Corp 顕微鏡システム及び観察方法
CN203204233U (zh) * 2012-08-10 2013-09-18 上海西光实业有限公司 一种适于显微镜对焦的自动检测装置

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111175955A (zh) * 2018-11-13 2020-05-19 纳侬斯桧布有限责任公司 分配器附件及其用于由激光光刻写入3d结构的装置的用途
CN109745006A (zh) * 2019-01-31 2019-05-14 北京超维景生物科技有限公司 分离式吸附装置、显微镜探测装置及激光扫描显微镜
CN109745006B (zh) * 2019-01-31 2024-03-15 北京超维景生物科技有限公司 分离式吸附装置、显微镜探测装置及激光扫描显微镜

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