TW200821054A - Sorting device - Google Patents

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200821054 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種根據既定濃度，對包含特定元之土 壌、包含特定元素之礦石等原材料、或者包：：：元：之 粉狀、粒狀或砂石狀產品或製造產品之步驟中的成^、 副產品、廢棄物等分離對象物進行分離，並用於以口設 ^置淨化㈣、回收設備等之步驟管理及品質管理 【先前技術】 因有害物質而導致土壌污染已經成為嚴重社會問題，尤 其由六=十錢等重金屬類導致之土壌污染問題曰益 加劇。^ ’對重金屬類之污染土壤的淨化，通常大 用如下方法：挖出污染土壤並進行固定化 運至處置場進行處理。然而，隨著近年來廢棄物產1量； ”取終處置場之殘餘容量及殘餘年數減少已成為問題。 此’如下方法備受關注：例如藉由清洗操作而沖洗污 2中附著之重金屬類，並將經淨化後之土壤埋回^ 土地或開墾土地中。 如上所述，在污染土壤淨化處理後埋回原本之土地等的 二兄：，㈣想的是，根據污染濃度及污染物質之種類而 ::木土壌加以分離，並對經分離後之土壤分別進行適去 之清洗等處理。該情況如下所述。 田 t壌即便判定為受到重金屬類污染而必須淨化修復，— :又情況下土壤表層與地表深層之污染濃度存在差異。又， 312XP/發明說明書(補件)/96-10/96125356 5 200821054 存在平面位置不同而污染濃度顯著不同之情況 全無須修復之部分。更進一步存在因污染物質之特性= :杂：度異常高之部分分布不均，超出淨化設備之處理能 士”況。於此種情況下，淨化設備受到高濃度重金屬類 w行淨化設備之清洗#作，則其後益 法如既定進行淨化。 T…、 地如此’即便是判定為需要處理之區域中之土冑 態亦並非均句’若全部以相同步驟進行淨化處理，貝⑷ ;理之清潔土壤或未達到規定污染濃度之土壌亦會：為、 處理對象，使處理效率變差。又，若均衡處理超過淨化咬 備之處理能力的高污染濃度土壤時，則必須對受到高濃= >可染之部分之再處理或淨㈣備進行清洗，導致處理^ 降低。 卞 另方面，重金屬等特定元素原本應適當加以管理，並 非限疋於土壌染及其修復領域才成為問題。為藉由促進 _原材料之有效湘及时，而抑”源祕並餘對環境 之負擔，亦必須管理重金屬等之特定元素。因此， ^界中原材料、產品、廢棄物等中特定元素之含量成為課 >例如，於水泥製造領域中，為實現煤灰、污泥、污染土 壤等各種廢棄物之时而將其等混合於水泥中。而且'、對 如，之各種材料中之有害微量成分加以規定，使用符合該 規？值之煤灰、污泥、污染土壤等，並實施適當處理，使 出貝產品的品質得到充分f理。如此管理水泥之製造步驟 312XP/發明說明書(補件)/96-10/96125356 ^ 200821054 材料。、】疋原材料中之特定元素之含量，並適當分離原 煉域中’對習知技術因品質低而難以進行熔 源具有，質以上之礦石，可藉由熔 有效利用礦石。商業中。因此，考慮適當分離礦石以 之回：而：述’若發展原材料之有効利用及廢棄物等 物箄離原材料或廢棄物，則有害物質或障礙 入產品中，使產品之步驟管理及品質管理 料，會導致益法、商來曰士中^有 貝與高品質之原材 、…、法適§且有效進行熔煉等問題產生。 包二要ί能夠根據特定元素之含量’以簡單設備分離 …之原材料等。藉由適當且有效之分離，可經 二:=定元素之含量達到規定值·基準值以下，確保 田f虞如上所述之情況，作為土壤等之分離裝置習知有使 =先X射線者。例如，於日本專利第3698255號公報中 h有如下土壤分離裝置，對由皮帶裝载移動之污染土壤 =射X射線，制所產生之榮光χ射線，並根據其檢測結 果而切換皮帶運送之污染土壌的運送路徑。該分離裝置根 據所檢測之螢光X射線量來推測土壤t含有之重金 的濃度’將受到高濃度污染之土壤與低濃度 以分離。 辰刀 又’於日本專利第3696522號公報中揭示有如下廢棄物 312XP/發明說明書(補件)/96-10/96125356 η 200821054 分離裝置，對由皮帶裳載移動之廢棄物 所產生之勞光X射線，而檢測出有、二射：，债測 據該檢測結果加以分類。 有特疋凡素，並根 (專利文獻1):日本專利第3698255號公報 (專利文獻2):日本專利第3696522號公報 【發明内容】 (發明所欲解決之問題） 上述專利文獻1中揭示之分離袭 時對污染土壤加水使其漿體化，並渴式篩八：：離處理 粒。然而，有時則希望不使污染 刀來進^立與細 即’若向分離前之所有土壤中加水】其：:進=*。 淨化處理之土壌及不適於 ""、]使”，、須 ^ θ 濕式處理之土壤亦同樣變得漿 2淨化 進行脫水處理，亦必須進行處理水 2當分離對象為原材料等時，存在因分離後之 的或者使用方法等導致含水率高而無法直接使用之产 況。此種情況下，為了降低含水率而必須=== 必須重新進行處理水之淨至處理水側，故 且處理費用亦過大之产、兄。谁二=在處理步驟增多並 蚀姑步w # 進亦存在因漿體化處理而 使被處理物處於無法使用之狀態的情況。 八=料Γ面’上述專利文獻2中揭示之分離裝置中，作為 :丄象之廢棄物於螢光x射線分析甲亦時常保持固定 度私動’作為測定對象物之廢棄物與營光X射線檢測部 312XP/發明說明書(補件)/96-10/96125356 8 200821054 =接觸狀態。此時’因間隔距離之設置而使螢光X射 以，減，故即便能約判定出是否含有特定元素，亦難 乂準確判定特定元素之濃度。 二，亦可使將f光X射線截取到分析裝置内之測定窗與 =對象物接觸1^進行測定，或者亦可以暫時停止測定對 =物之運送而使之與敎窗接觸，並於螢光

窗退離的方式進行控制，但有時存在因與測定 子象物之接觸而導致測定窗破損之問題。更進一步，污染 ，壌或污泥等處於含水狀態之測定對象物非常易於黏 付因此無法避免因接觸而使測定對象物附著於測定窗 士。若於測定窗上附著有測定對象物之狀態下繼續進行測 疋，則無法獲得準叙敎值，無法進行有效準確的分離。 本發明係鑑於如上所述之情況而完成者，其目的在於提 種刀離衣置，無需使含有特定元素之土壌、粉狀、粒 大，妙石狀原材料或者產品等成為漿體狀，便可根據既定 之k理丨辰度進行有效分離。 (解決問題之手段） 本發明之悲樣（1)之分離裴置具有··運送手段，載置粉 狀或粒狀物質、砂石、砂土或者土壤即含有特定元素之分 離對象物，並使該分離對象物移動，·篩分裝置，於上述運 送手段中篩分藉由上述運送手&而處於料中之分離對 ^物的至少一部分；層調整手段，對通過上述篩分裝置之 分離對象物之上表面進行平坦處理；濃度檢測手段，對上 表面經平坦處理之分離對象物之層照射χ射線，並藉由檢 312ΧΡ/,月說明書(補件)/96-10/96125356 9 200821054 、⑽產生之茧光X射線而檢測特定元素之濃度；以及，運 送=切換手段，設置於上述分離對象物移動方向中上述 nit照射位置的下游側’絲據上述濃度檢測手段之 铋/則、、、D果而切換上述分離對象物之運送路徑。 =寺定元素係因照射x射線而產生螢光x射 鎳、銅m二: 鉻、鐘、鐵、銘、 銻入t 、铷、锶、鉬、鈀、銀、鎘、錫、 、_ \、水、錯、叙等。又’原子序數為12至92為 之几素可認為能夠藉由測定照射線 而推測出含量，並存在包含於上述特定元素中=線 =進一步，藉由測定技術之提高可擴大上述原子序數之範 =上述分離裝置中，以照W射縣 度可於既定間隔下進行。即，藉 =凡素之礙 地運送之分離對象物，可採二== =，，篩分裝置對分離對象二=:

僅二昭之分離對象物的全體部分進行篩分，亦可 僅對妝射X射線之部分進行篩分。又J 物之表面的平坦處理範圍，亦可限定於；射;：：離料 =進行。X射線之•最大為一邊為== 另一方亥耗圍内之分離對象物進行調整即可。 ^ . ’上述螢光X射線測定裝置於本Μ之八雜壯 置中可僅使用1台，亦可於運接以 不毛明之分離裝 台。又，亦可於與運送方向方向上排列多 直角方向上排列多台。如此 3i™mmmmm(mm/96A〇/96i25356 10 200821054 可藉由使用多台上述螢光X射線測定裝置，而於短時間内 .或廣範圍内進行特定元素之濃度測定。 又上述分離裝置係對由運送手段運送並經篩分之分離 對象物檢測特定元素之濃度者，故無須採集用以檢測特定 元素之/辰度的樣本等。因此，可使運送之分離對象物與特 疋π素之濃度測定結果相對應，而有效分離對象物。又， 由於對運送手段上移動中之分離對象物進行篩分及對其 上表面進行平坦化處理，因此可進行測定誤差較小之濃度 測定。 又 本發明之較佳態樣（2)之分離裝置係態樣（1)之分離裝 置，其中，上述篩分裝置中能夠通過之分離對象物粒徑為 设於1 mm至15 mm之範圍内的值以下。 ，如上所述，使篩分裝置中作為測定對象之分離對象物之 粒瓜為设定值以下，藉此可使特定元素之濃度測定為誤差 小且穩定者。上述粒徑之設定值較佳的是設於丨至15 _ mm之範圍内，更佳的是2 mm至丨〇 mm之範圍内。例如當 f壌為測定對象時，若上述設定值為丨mm以下，則通過 篩分裝置之分離對象物之量會變得過少，而無法確保既定 =層厚。如此若根據在層厚不充分之狀態下測定之值而判 定分離對象物全體之濃度，則存在測定誤差變大之可能 14更進步，因用於師分之篩縫或篩目之篩孔變小，使 •得篩缝或篩目易於堵塞，導致篩分之每單位面積通過量減 夕，難以進行穩定之篩分操作。因此，上述設定值設為工 mm以上，更佳的是2 mm以上。 312XP/發明說明書(補件)/96-10/96125356 11 200821054 另-方面，例如當土壤為測定對象時，若上述設定值超 過Ϊ5職，則濃度檢測手段之χ射線照射範圍内易於產生 空隙，使得敎誤差變大。並且，可藉由上述設定值設為 々二=而進行更高精度之敎。又，由於X射線照射 觀圍取大為-邊為10〜2〇麗左右，因此若一個砂石或土 塊所占之範圍變大’靠為敎縣之土壤之均句性受 才貝，依然成為测定誤差變大之主要原因。 ⑵本之發^較佳態樣（3)之分離裝置係態樣⑴或者態樣 、、， ^ Ψ上述師刀叙置可於對藉由上述運 达手#又而移動之分離對象物進行篩分的位置、盘上升中不 與移動之分離對象物接觸之位置之間進行移動。 士分離對象物之篩分可間斷性進行。而且，當不進行篩分 :象之筛縫或筛目…不與運送中之㈣ 是I直隔離於運送手段之上部，藉此可 物^、師’、周進仃清掃。亦可認為筛網因對分離對象 起鐵會附著有分離對象物’故筛孔易於堵塞而引 於含水狀態或具有黏性之分離對象物易於附著 因此可藉由每次進行既Μ之篩分後清掃筛網、 或更換師'網，而使篩分變得穩定有效。 中t發Γ較佳態樣⑷之分離裝置係態樣⑴至態樣⑶ Γ::: 裝置’其中，上述筛分裝置於上述運送手 =動之分離對象物層之寬度方向上的中央部分，留下 定值以下之分離對象物’並使粒徑超過既定值之 分離對象物移向寬度方向上之兩端部。 疋值之 312ΧΡ/發明說明書(補件)/96.10/96125356 ^ 200821054 衣置中’對粒徑為既定值以下之分 ^寺定元素之濃度，藉此可減小敎誤差。又，切換運勿^ 參，使分離對象物分離時，可將粒徑超過既定值之分離對

=與粒#為既定值以下之分離對象物—併運送於相同 路徑上。因此，可進行有#夕餘八 ，、，η丄 J 定之特定元素之濃度進行分離。 效對應於經测 本發明之較佳態樣⑸之分離裝置係態樣⑴至態樣⑷

二任一者之分離裝置’其中’上述筛分裝置設定為粒徑達 到既定值以下之分離對象物之層厚度為15賴以上。 對ί:"!未滿15㈣時，為測定特定元素之濃度而對分離 象物恥射X射線時’ χ射線所到達的層為通過篩分調整 讀後之層的更下層，導致測定誤差增大。因此，如上所 述二可藉由使通過篩分調整粒徑後之層具有充分厚度，而 進行敎誤差較小之測定。X，可藉由使層厚為別咖以 上，而進行高精度之測定。 本發明之較佳態樣（6)之分離裝置係態樣（1)至態樣（5) 中^者之分離裝置，其具有剖面蚊手段，該剖面規定 手段設置於上述分離對象物運送方向上設有上述篩分裝 置之位置的上游側，且將與上述運送手段上移動之分離對 象物之層的運送方向呈直角方向之剖面形狀調整為既定 开y狀，而上述篩分裝置設置為對佔據上述剖面形狀之一部 分的分離對象物進行篩分。 ° 藉由被運送之分離對象物之剖面形狀之調整，可對剖面 之一部分進行穩定篩分。即，可自被運送之分離對象物中 312ΧΡ/發明說明書(補件)/96-10/96125356 200821054 ，既疋罝之分離對象物穩定地導入篩分裝置中，易於將經 篩ΐ後之分離對象物之層厚調整為適於特定元素之濃度 測疋。亚且，無須篩分全部分離對象物，便可減小特定元 素之測定中的誤差，故可顯著提高分離效率。 本發明之較佳態樣⑺之分離裝置係態樣⑻之分離裝 置，其中’上述剖面規定手段將由運送手段運送之分離對 象物之層之剖面形狀調整為其上表面之—部分隆起的狀 態i而上述篩分裝置對上述分離對象物之層的隆起部分進 行師分。 預先使運送手段上堆積之分離對象物之導入篩分裝置 ΙΓ分f於周圍部分，則可準確地將既定量之分離對象 =到師分裝置中。又’易於將粒徑大於既定值且無法 =過:網之粗大粒子及塊狀物排除至所運送 =T又，為了照射x射線而對已通過筛網2 離對象物之層的上表面進行平坦化處理時， • 接近或麗住分離對象物之層之表面，進行特= 素的濃度測定時，可防止雜W ' 礙。再去Μ 排除至側邛之粗粒部分造成阻 域再者，使導入於篩分裝置之部分成為運送手 ::】的剖面規定手段，可採用具有與需要調整之二 之開口的送料口者。該剖面規定手段將運送手段上 貝可通過送料口之分離對象物之剖面形狀調整為上 处開口的形狀。又，亦可設置使運 *·、、 堆積隆起之薄板。 使運…又上之分離對象物 本發明之較佳態樣⑻之分離裝置係態樣⑴至態樣⑺ 3 i2XP/__W (補件)/%-10/96125356 14 200821054 中t一ί之分離裝置’其中具備：喷霧器，朝向由上述篩 分裝置篩分之分離對象物表面喷灑水；以及水分計， 於上述分離對象物之運送方向上設有上述噴霧器之^ 的^游側及下游側之任一處或兩者，用以測定分離 之含水率；且將經上述噴霧器噴水後之分離對象物的含水 率調整為5〜20%。 73水 較理想的是將經上述筛分褒置筛分之粒徑為既定值以 下之分離對象物的含水率調整為5%至，可藉由調整到 該㈣内’而將特定元素之濃度敎誤❹持為較小。 又丄谷易處理含有特定元素之分離對象物。當分離對象物 之含水率未滿5%時，關如於土壤之運送及篩分過程中 粗粒與細粒易於產生分離。即，粗粒容易偏向存在於經堆 積之分離對象物之層的上部，細粒容易偏向存在於下部， 上部粗粒部分易於使χ射線之照射範圍内產生空隙 =測定誤差之原因。另—方面，當含水率超過勘夺，分 離對象物為糊狀’難以進行篩分，或易於附著於用以運送 之構件，導致難以操作。考慮到操作難易性 =驗下。因存在適當之水分，故可使二 適虽進仃擠壓，使分離對象物之層之表面 本㈣之較佳態樣⑻之分離裝置係態樣⑴;態樣⑻ 離之分離裝置’其中，上述層調整手段具備有使分 離對象物之層之表面變得均勻之到板。 上述刮板係抵接於分離對象物中照射χ射線之部分的 板狀構件，推壓所運送之分離對象物之層以使表面平坦均 312ΧΡ/胃 Μ 說明書(補件)/96· 1G/96125356 15 200821054 勻，時刮掉堆積至超過既定高度之分離對象物，限制往 .31’侧之搬送。將刮板推至分離對象物之層之力，可利用 彈黃、錘、齒輪等’調整為使分離對象物之 -本發明之較佳態樣⑽之分離裝置係態樣⑴至離樣⑻ ;任:，之分離裝置，其中，上述層調整手段具備;筒(，) 4滾同以既定壓力對經上述筛分裝置篩分之分離對象物 之層的上表面進行擠壓，而該滾筒推壓分離對象物之層之 _上表面的壓力設於20 kPa至1〇〇 kPa之範圍内。曰 可藉由使用滾筒對通過篩分裝置後之對象物之層進行 擠壓使之變得平坦，而以小誤差進行榮光χ射線之測定。 而且，根據實驗結果可確認到：對經堆積之對象物之層進 行，壓時，滾筒之壓力為2〇 kPa至1〇〇 kpa時，χ二線 之照射及螢光χ射線之檢測中特定元素之濃度測定誤差 極其小。當壓力未滿20 kPa時則擠壓不夠充分，導致對 象物之層之内部空隙增多，使測定誤差增大。另一方面， _當壓力超過l00kPa時，雖因擠壓而增加之分離對象物之 層之填充度較小，但擠壓會使分離對象物之層出現龜裂， 影響測定誤差，故欠佳。 本發明之較佳態樣（11)之分離裝置係態樣（1)至態樣 (10)中任一者之分離裝置，其中，上述濃度檢測手段具備 -樹脂薄膜供給裝置，該樹脂薄膜供給裝置於分離對象物之 -層之上表面、與截取螢光X射線的測定窗之間插入樹脂薄 膜，且伴隨特定元素濃度檢測之重複進行，對分離對象物 之層之上表面與截取螢光χ射線的測定窗之間供給新的 312XP/發明說明書(補件)/96-10/96125356 16 200821054 樹脂薄膜。 狀Ϊ發Γ:較佳態樣(12)之分離裝置係態樣⑴)之分離 ^ ，上述濃度檢測手段與分離對象物相對向地受 到支撐’同時可進退，於分離對象物之運送停止後之狀態 I-itί:定窗與分離對象物接觸’並進行χ射線照射 册 後之狀悲下，上述樹脂薄膜供給裝置於 I段。’之上述m旨薄膜之位置上移動’並驅動上述運送 樹;】r於*光X射線之測定窗與分離對象物之間插入 :曰/、*而防止運送而來之分離對象物直接附著於測定

St:運送形狀尖銳物等情況時，可由樹脂薄膜保 J故可長時間準確測定分離對象物中之特定元辛 s’r可進行有效分離。又，可藉由視情況移動帶狀 膜’而始終維持藉由無污垢之樹脂薄膜來保 W疋自之狀態’更進一步無須使測定窗接觸由運送手段 離：象物’便可於分離對象物停止之狀態下測定 寸疋兀素之濃度’因此可進行高精度之測定。 本發明之較佳態樣⑽之分離裝置係態樣⑽之分離 裝置’其中上述樹脂薄膜供給裝置於上述樹脂薄膜之運送 方向上的上述測定窗下游側輥狀捲繞該樹脂薄膜之位 紅側具備刮板’該到板剝離附著於樹月旨薄膜之分離對 因設置上述刮板，故樹脂薄膜於除去大部分附著之分離 312XP/發明說明書(補件)/96-10/96125356 17 200821054 對象物之狀態下進行捲繞，因此可使樹脂薄膜長時間順利 _移動。再者，刮板可由橡膠、樹脂、金屬等製作。 本發明之較佳態樣（14)之分離裝置係態樣（u)至態樣 * (13)中任—者之分離裝置，其中，上述樹脂薄膜由聚&乙 烯、聚乙烯、聚酯、聚醯亞胺中之任一者構成。 此處所謂之樹脂’以天然樹脂為主，包含熱固性樹脂、 熱可塑性樹脂即通用冑膠、工程塑膠、超級工程塑膠等， 亚可藉由根據測定對象元素分開使用上述㈣㈣，而$ 行準確之螢光X射線測定。 再者，上述分離對象物，可列舉原材料、半成品、產品、 副產品、廢棄物、土壌等，具體而言，可列舉由水泥、口口礦 石、玻璃、灰渣、煤灰、重金屬等污染之土壤、爐渣、污 泥、無機化合物或者有機化合物之粉粒體或者粒狀體等。 (發明效果） 根據本發明之分離襄置，無須使分離對象物之全體漿體 ❿化，便可一邊於原本之狀態下進行運送，一邊使用其一部 分測定分離對象物中特定元素的濃度。並且，可進行誤差 小之測定。因此，分離前的必要處理變得簡便，無須聚體 二f之水且亦不產生排水。又’因分離處理設備之構成變 传簡便’故設置所需之必要面積亦減少、。更進一步，藉由 -樹脂薄膜供給裝置，可防止分離對象物附著於測定窗1， •且可，護測定裝置，因此可長時間進行準確之測定。如此 可以簡便設備迅速且小誤差地測定分離對象物中之特定 π素漠度’並根據該測定值進行分離，因此可積極促進資 312ΧΡ/發明說明書(補件)/96·10/96125356 18 200821054 源之有效利用及回收。 【實施方式】 以下’根據圖式說明本發明之實施形態。圖1係表示本 發明之一實施形態之分離裝置之構成的概略側視圖。又， 圖2係相同分離裝置之概略俯視圖。 該分離裝置係以用來進行金屬熔煉之礦石或土壤等包 括小粒徑至大粒徑者為分離對象物。 該㈣裝置之主要部分包括：柵篩卜自包含特定元素 之刀離對象物中分離除去粒徑超過5 〇丽之粗粒；料斗2， 暫時儲留由栅筛1除去粗粒後之分離對象物Sa ;輸送帶 3 ’、用以運送㈣於料斗2中之分離對象物％;附設槽板 之送料口 4，自料斗2中將既定量之分離對象物送至輸送 ▼ 3上，亚使輸送帶3上堆積之分離對象物的剖面形狀成 為既定形狀；振動篩5，篩分輸送帶3上運送之分離對象 物S之-部分，並於輪送帶3上將其分離為粗粒與細粒； 水分計8a，測定經振動飾5筛分之分離對象物之細粒的 含水率；喷霧器6,根據水分計8a測定之含水率 水，調整分離對象物之細粒含水率；刮板7，規定通過上 述振動篩5之細粒之堆積高度並使其表面變得平坦.水八 計8b’測定經噴霧器6喷水後之分離對象物的含水率刀 滾筒9,使需要測定分離對象物中含有之特定 二 部分表面變得更平坦，並且進行㈣，·螢光χ射線測 置10 ’對經平坦化處理且經擠麼之分 : 線，並檢測所產生m射線；以及運送路徑 312XP/發明說明書(補件)/96-10/96125356 19 200821054 切換自輸送帶 1卜根據螢光線測定裴置10之檢測結果 3排出之分離對象物的運送方向。 夢係支Γ料斗2上方且具有多個桿1a者， 曰\ i干1a之間隔，使含有特定元素之分離對象物中 之拉徑超過50随之粗粒不落人料斗2中而停留在桿上， 僅使粒徑為5〇 mm以下之分離對象物投人到料斗2中

:出：：由傾斜支撐上述桿la，而將停留於桿上之粗粒 進仃對應於粗粒之處理的步驟。又，於柵篩丨上設 :有振動馬達(未圖示），能夠視情況使栅_工振動，使： 離對象物易於通過栅篩。 上述料斗2暫時收納通過上述柵篩i後之分離對象物 a ’亚將既定量之分離對象物％穩定供給至輸送帶3。 於該料斗2對輸送帶3供給分離對象物之供給部中固定支 撐有送料口 4，如圖3所示，於該送料口 4之下部設置有 '刀知°亥切口部分成為自料斗2排出分離對象物 之開口部’可自該開π將分離對象物Sa供給至輸送帶3 、、:迗料口 4上，切口 4a之兩侧設有第i導槽41，並以 木著忒第1 V槽41可於上下方向上移動之方式支樓第工 才田板42。於該第1檔板42上，沿下邊設置有寬度小於上 述，料口 4上設置之切口 4a的梯形切口 42a。更進一步， ;苐1 4§板42上’上述切口 42a之兩侧設有第2導槽43， 且設有第2檔板44,該第2檔板44可沿著該第2導_ 43 相對於第1檔板於上下方向上進行移動。3 312ΧΡ/發明說明書(補件)/96-10/96125356 20 200821054 上述送料口 4及檔板4 例，其等使堆積於輪 係、用作剖面規定手段之- 定形狀。即，藉由調整 ？離對象物的剖面成為既 第2檔板44之 、科4支撐之第1檔板42及 分離對象物的量。更二T自料斗2供給至輸送帶3之 3上之分離對象物與輪送帶%’::動成::至輸送帶 狀，可調整為於較寬之梯形上積;==之剖面形 且，可藉由調整第】妙此μ戰季乂乍之梯形的形狀。並 部分Sc之上表面古之冋度，而調整下層之梯形 度:即調整為適於榮㈣線測定表二置调整叫 篩;二=上:振動篩5之概略側視圖，圖5係該振動 於本該振動筛5之俯視圖。該振動筛5 既定間pyt師刀衣置，如圖4所示，上述振動篩5以 置為:：1列有上下方向上受到支撐的多個桿。各個桿配 一、_端朝向輸送帶3移動方向中之下游側後退。如圖 、关i不—由多個桿構成之篩網中係以如下方式配置桿：輸 廷帶3寬度方向的中央朝向上游側突出，且隨著靠近側^ 而朝向下游侧後退。而且，以向上述篩網之各個桿傳遞振 動^方式女裝有振動馬達51。可藉由使篩網振動，而於 2守間内於知射X射線之範圍内進行篩分，並可同時混 攪拌篩分對象物，因此可提高特定元素之濃度檢測及 分離對象物之分離的效率。尤其當篩網之篩孔小至2 mm 左右日守’因在篩分含水狀態之分離對象物時易於堵塞，故 2XP/發明說明書(補件)/96-1G/96125356 21 200821054 有效的是使用振動篩。 如上所述，具備多個桿之振動篩5，於篩分由上述送料 口 4而使剖面堆積為2層梯形之分離對象物的上層梯形部 分Sb之位置處受到支撐。藉由此方式，位於輸送帶 進行運送之分離對象物上層的梯形部分Sb碰觸上述振動 篩5，使分離對象物中之細粒通過以既定間隔排列之篩網 的桿之間。如圖7所示，未能通過桿間之粗粒Sd沿著配 置於隨著靠近侧緣而後退之位置上的桿而朝向側向擠 出’並堆積至輸送帶3上之侧冑。如上所述，通過多個桿 之間的分離對象物的最大直徑由桿的間隔調整，較佳是以 間隔達到設於2職至1〇 mm之範圍内之值的方式支撐多 個多個桿。又，堆積有通過該振動篩5之細粒的層^可 由X射線之照射而成為特定元素之濃度敎對象。因此， 以該層以之厚度達到15㈣以上之方式，以輸送帶3 上分離對象物中上層梯形部分Sb之高度及振動篩5的位 二=動師5可相對於輸送帶而於上下方向調整位 ’可私動至上方固定，而不接觸進行移動 物。即，使用螢光X射線測定裝置 ^ 度，並非必彡f連^ Ba 列疋知疋兀素之濃 亦可僅對照射X射線之部分 k振動師5 刀進仃自$分。而且，輕伟的县， 振動篩離開上部時定期谁广、主片上 孕乂仏的疋 除篩網之块耷勺/進仃4知或必要時更換篩網，以消 除師、，·罔之堵基。又，振動篩 動速度增大’提高處理效率。 “更輸廷页3之移 312XP/發明g兌明書(補件)/96-1 〇/96125356 22 200821054 再者’上述振動筛5使用以既定間隔配置有多個桿 .網^亦可使用網狀構件。然而，因筛網難以破損且難以 堵基’故較佳的是使用篩網。 .上述喷霧器6係對通過振動篩5後之測定用層以的表 面進行喷霧，並將其含水率調整為既定之含水率。該 器6根據由設於分離對象物運送方向上設有噴霧器之位 置上游侧的水分計8已所測定之含水率，來調整灑水量。 水分計8a例如可使用藉由紅外線之吸收量來測定含水率 之犬員型。藉由來自上述噴霧器6之灑水而使含水率得以調 整之分離對象物，逐漸堆積使體積變大，且失去表面平坦 性，因此可藉由刮板7使其上表面平坦。此時，經筛分: 分離對象物之含水率藉由設於分離對象物之運送方向上 設有喷霧器之位置之下游側即滾筒9之上游侧的水分計 肋來進行測定，且其數值調整為既定值之範圍内，藉此 易於進行上表面調整平坦之操作，使分離對象物之層^上 #表面適當地平坦化。藉由此方式適當地由螢光乂射線測定 裝置進行測定，能夠進行誤差小之測定。再者，上述含水 率之值較佳的是5〜20%，更佳的是5〜1〇%。 上述滾筒9更進一步對達到平坦後之分離對象物之上 表面進行擠壓，使其變得更平坦，並且使分離對象物之層 -獲得適當之填充度。為獲得適當之填充度，可以彈簧等^ •行調整，使得推壓分離對象物之層之上表面的壓力達到 2〇 kPa至1〇〇 kPa。再者，該滾筒9與上述刮板7可並用 兩者，亦可使用其中之一者。 312XP/發明說明書(補件)/96-10/96125356 23 200821054 上述螢光x射線測定裝置10對分離對象物之層表面照 射X射線後，檢測自分離對象物所含有之特定元素中產生 的螢光X射線。該螢光X射線測定裝置1〇於箱狀殼體之 内部具備X射線照射部與螢光X射線檢測部。而且，該螢 光X射線測定裝置1〇具備樹脂薄膜供給裝置，該樹脂薄 f供給裝置支撐樹脂薄膜以覆蓋截取螢光χ射線之測定 自，亚伴隨重複檢測特定元素濃度，移動帶狀樹脂薄膜， 將新的樹脂薄膜供給到與測定窗對向之位置上。又，為防 止X射線Μ，較佳的是，設置使用有能夠阻斷χ射線之 材料的保護層（未圖示）等，以覆蓋該螢光χ射線測定裝置 1 〇及X射線照射位置附近。 如圖9及圖10所示，上述樹脂薄膜供給襞置使帶狀樹 脂溥膜16移動於與分離對象物之運送方向大致正交的方 向上，，且藉由驅動滾筒18自出料滾筒17拉出樹脂薄膜 =移動。較佳的是，於出料滾筒17與營光X射線 測疋自IGa之間具備支撐樹脂薄膜16的導槽Μ η 持樹脂薄膜16之構造，且設置於 ：， 猎此可穩定供給樹脂薄膜16，⑽附l 飛散之分離對象物的影響。了保相心專膜16免受 當螢光X射線測定襄置10測定螢 離對象物之輸送帶3停止，勞光，射線測定 至既定位置。此時使樹脂薄膜16 衣置10下卜 停止狀態。而且，螯光X射線:定 入有樹脂薄膜16之狀態下與分離^自⑽於f 丁豕物的層Se接觸，並 312XP/發明說明書(補件)/96•贈6125356 24 200821054 於該狀態下測定特定元素之濃度。 .#當分離對象物之層Se與螢光X射線測定裝置1〇之測定 .窗i〇a之間相隔距離增大時，螢光X射線強度會衰減而無 法進行準確測定。因此，預先調整分離對象物之層Se ^ f度與螢光X射線測定裝置10的下降距離，並介曰隔樹脂 薄，16以夾持方式使測定窗1〇a與分離對象物接觸。又曰， 可藉由於與測定窗丨〇a接觸之狀態下支撐樹脂薄膜16， 春而防止分離對象物Se侵入到樹脂薄膜16與測定窗、1〇&之 間。 田*光X射線之測定結束後，螢光X射線測定裝置1 〇 會上升，同時驅動滾筒18旋轉，因此樹脂薄膜16僅移動 既定長度，將帶狀樹脂薄膜之新的部分供給到覆蓋測定窗 l〇a之位置上。又，與分離對象物接觸之部分藉由刮板2〇 來去除附著於樹脂薄膜16上的分離對象物後，運送至進 料滾筒（未圖示）。另一方面，驅動輸送帶3移動既定距 •離=運送分離對象物。如此一來，每進行一次測定，樹 脂薄膜16之新的部分供給至分離對象物^與榮光X射線 測定裝置Π)的測定窗1()a之間，故可重複持續測定分離 對象物中所含之特定元素之濃度。 本發明中所使狀上述樹㈣膜，可為具有充分強度， -亚且榮光X射線強度之衰減較少、且不含作為測定對象之 ，凡素者。例如，較佳的是聚氯乙烯、聚乙烯、聚酯及聚醯 亞胺中之任一者’其中尤以聚酯之機械強度優良，故較 佳。又，所使用之樹脂薄膜之厚度必須考慮薄膜之材質及 3 ί2ΧΡ/發明說明書(補件)/96-10/96125356 200821054 螢光X射線強度之衰減等的相關關係來進行選定。 關於樹脂薄膜之厚度對螢光X射線敎之影響，獲得有 如下所示之測定結果。 广該測定，對錯'濃度為150mg/kg之土壤，於不插入樹脂 二、與改艾上述4種樹脂薄膜之厚度後插入的狀 萨-=仃'則疋者’圖11表示其結果。如該測定結果所示’ 二=㈣膜厚度增大’鉛濃度敎變低，故必須根據樹 詈；厚度及種類進行校正。並且’螢光x射線測定裝 丨〜欢測下限，當測定值變小時即便校正亦將難以準確 測1當插入樹脂薄膜來測定鉛濃度15〇mg/kg2 祀U物…収值不得為剛呢化左右 很據圖1 1之έ士里，π 1 4 脂薄膜之;^、、1 獲得準確之測定值，必須使樹 中：春考：二°.3 mm以下，更佳的是〇·2 μ以下。其 簡之;度 m溥膜之機械強度時，則必須至少為(Μ 該上述運出路徑切換裝置11具有板狀構件， 斜角度可進；二：出：分離對象物以接觸之傾 3排出之分離對：物s: ί變傾斜角度而改變自輪送帶 為可於不同方ΙΪ1!下方向。而且，傾斜角度設 物之2㈣吏刀料象物2落人至運送分離對象 裝-◦之;二制:=述 χ射線敎裝置10之測定值，藉由控制裝置= 312XP/^mmmm/96^10/96125356 lb 200821054 備之資料處理部，債測特定元素之遭度。而且，當判定該 特定元素之濃度大於既定值時’以如下方式設定傾斜角 度：可使位於測定出該資料之位置前後之分離對象物sf 自輸送帶3之端部排出時，落人到用以運出高濃度分離對 ㈣勿之輸运帶12上。又，當判定特定元素之濃度小於既 疋值時，以如:方式設定傾斜角度：使位於測定位置附近 之分離對象物落入到用以運ψ柄、曲ώ 帶13上。分離對象物之輸送 ::，二運出路徑切換裝置u可根據螢光X射線測 疋衣置10母二人之測定值，分離每—個與經該測定之 對應之部分的土壌，但亦可分離每一 域。即，亦可以如下方式進行分離：於疋之區 間隔，A與# Y私A , 、輪运f上隔開既定 間^由虫先X射線測定裝置進行多次測定，並 之平均值，一併對包括該等測定點之土壤，選擇^據路亥專 又’運出路徑切換裝置n除採用如上所述 ：: 對象物之落下方向的板肤槿杜k 見疋为離 例如，如圖8所示可=V:可採用各種形態者， 送帶15上载置分離對象物， ^ =之短輸 方向而切換被载置之分離對象物的運出===移動 之分離對象物十包含之特定元素的濃度即虽被載置 :路徑切換用之輪送帶15，以使分離對象：動該運 度原材料運出用之輸送帶]2上。又，春▲、載置於高濃 :輸送帶15上所載置之分離對象物所切換 浪度較低時’使該輸送帶15之移動方向 寸二7〇素的 運彳于驅動， ^™rnmmmm(mm/96A〇/96i25356 27 200821054 使分離對象物載置於低濃度原材料運出用之輪送帶^ 上。 則仫π 3 如上所述之分離裝置，可自料斗2以既定之剖面形狀將 包含特定元素的分離對象物堆積於輪送帶3上，並於運送 方向上大致均等地堆積後運出。並且，藉由適當設定堆】 形狀，可-邊運送分離對象物，一邊將其一部分導入到^ 動篩5中。振動_ 5自被運送之分離對象物中師分出既: 粒徑以、下之分離對象物，並將其殘留於輸送帶3上的中^ 部中，並且將粒徑超過既定值之分離對 帶 3上的側部。藉由此方式，可一邊驅動輸送帶:至輸= :分=對象物’故可以較小測定誤差(例如2〇%以内 二c分離對象物的每一個既定量測定特定元 素的浪度。如此可根據經測定之特定元素濃度，連 自輸送帶3排出之分離對象物，、 分離對象物與蚊元料度低之分2象= 之 向上將該等運出。因此，可進行有物後，於不同方 自之特定亓去* # Μ 仃有效刀離，且能夠根據各 自之％疋兀素浪度，對經分離之 理、利用。 刀離對象物分別加以管 [實施例1 ] (重金屬污染土壤-鉛） 表1表示使用鉛污染土壎八 等係經過以約20"g單位分J:、試f之結果的-例。該 果，每約咖kg之錯污染土壤壤之測定後之結 行5次螢光X射線測定。即/ 定間隔進 ;輪送帶上每運送約200 kg 312XP/發明說明書(補件)/96•聊6125356 28 200821054 、亏木土壤則依次進行5次螢光χ射線測定，並根據其 "均值’判別該約2GG kg之錯污染土壤的運送目的地’ 以運送路徑城裝置進行分離。並且，表1中之試驗No. 1 〜5相當於準備5份約200 kg之鉛污染土壤，分別進行 上述試驗後之結果。 於=污染土壌之情況下，將是否進行土壌污染對策之基 準值U例如15〇 mg/ kg。本裝置中測定誤差可為2〇% =即150±30 mg/ kg。因此’能夠以如下方式設定分 基率.分離時若錯濃度$ 12〇 mg/kg以下則益須淨化， 若超過120 mg/ kg則必須淨化。 I，"貝手 [表1 ]

7只 /no 根據表1，可知能夠使用本發明之分 污染土壤之分離。又，羽άH 逆仃更孟屬 汰 白知的疋，使用相對於每100 m; 之/可乐土壤採集混合5處之土嬙样士 „ ^ M ^ 壌衩本，亚根據由國家或正 式團體規定之化學分析法满p : 代表值，而本發明之分離 二 、g早位進行5 :大螢光X射線測定來獲得代表 值’因此找出重金屬類之避查 位甘★ 知方法高數百 t。/、中，作為分離單位之對象^ ^ ^ 次數並不限於如上所述。㈣之里射線測定 312XP/發明說明書(補件)/96-10/96125356 200821054 [實施例2] (錄礦石-錄）

使用鎳礦石以與上述實施例"目同之方式實施分離試 驗：？ 2表示結果之一例。於鎳礦石之情況下，低品質中 鎳3里為1. 5%左右’在習知技術中無法溶煉，但近年來 =溶煉技術提高而能夠進行熔煉’因此必須有效分離低品 質與高品質之鎳礦石。例如，以含量為1.5%進行分離時， 本裝置之測定誤差可為15土〇 3%左右，因此能夠以如下 方式設定分離基準：分料若鎳濃度丨im則為低 品質，若為1 · 2%以上則為高品質。 [表2 ]

) ^ ~----L__ 註）〇表示高品質，X表示低品質 =據表2,可知使用本發明之分離裝置能夠進行鎳礦石 之刀離。又，於鎳礦石之情況下，目前自數萬t之礦石中 以數十t至數百t單位實施取樣，將其粉碎並均勻混合 後’分離取出其中之既定量。並且’按照JIs(ja卿㈣ Indus计ial Standards，日本工業標準）規格對其加以分 析，獲得其代表值，但如上所述，本發明之分離裝置以 2〇〇 kg單位進行5次螢光χ射線測定而獲得代表值，因 此可進行更有效之分離。 31|φ)/96-10/96125356 30 200821054 [實施例3] (飛灰-重金屬類） 使用飛灰（fly ash)以與上述實施例1及2相同之 貫施分離試驗。表3表示結果之一例。表3亦表示以飛二 作為水泥製造之代替原料時相對於重金屬類之基準人 一例。 的 [表3]

註1)基準值及分離基準為數值未滿 註2 )〇表示可接受，X表示不可接受。 本發明之分離裝置可同時進行多個元素分析，根據上述 表3亦可知，能夠進行飛灰分離。於飛灰之情況下，因= 在對於多個元素之基準，即便一個未滿足基準，亦判定^ 不合格。 ’' [實施例4 ] (熔融爐渣-重金屬類） 使用熔融爐渣以與上述實施例1至3相同之 Μ Μι人 _ 式貫施分 •雕武驗。表4表示結果之一例。將熔融爐渣作為瀝青、、曰人 喊物用之細骨材或混凝土用細骨材等而實現資源化時，八 屬之含量成為分離基準之一。 ' 里 312XP/發明說明書(補件)/96-10/96125356 31 200821054 [表4] 試驗No. Pb基準值 Pb分離基準 Pb實測值 判定 [mR/kq] Γ mer/ks ] [mg/kg] 1 110 〇 2 150 X 3 150 120 160 X 4 190 X 5 110 Ο 註）〇表示可使用，X表示無法使用。 根據上述表4 ’可知使用本發明之分離裝置能夠進行熔 融爐渣之分離。 _ 【圖式簡單說明】 圖1係作為本發明之一實施形態之分離裝置的概略侧 視圖。 圖2係圖1所示之分離裝置之概略俯視圖。 圖3係自運送路徑之下游側觀察圖丨所示之分離裝置中 使用之附設檔板之送料口的圖。 圖4係圖1所示之分離裝置中使用之振動篩的概略侧視 圖〇 圖5係圖4所示之振動篩之概略前視圖。 圖6係圖4所示之振動篩之概略俯視圖。 圖7係表示圖4、圖5及圖6所示之振動篩功能的概略 圖9係表示圖1所示之分離裝 疋裝置及該螢光X射線測定裝 圖8係表示可代替圖！所示之運送路徑古刀換裝置使用之 運送路徑切換裝置之其它示例的概略側視圖。 置中使用之螢光X射線測 置所具備的樹脂薄膜供給 312XP/發明說明書(補件)/96-10/96125356 32 200821054 裝置之一具體例的概略前視圖。 .所示之螢光X射線測定装置之概略侧視H 圖11係表示供給至螢光χ射 幻視圖。 ‘之厚度與經測定之錯濃度之關係的圖表1中之樹脂薄膜 【主要元件符號說明】 1 柵篩 la 桿 2 料斗 3 輸送帶 4 送料口 4a 切口 5 振動篩 6 喷霧器 7 到板 8a、8b 水分計 9 滾筒 10 螢光X射線測定裝置 10a 測定窗 11 運送路徑切換裝置 12 用以運出高濃度分離對象物之輪 13 用以運出低濃度分離對象物之輪 14 控制裝置 15 運送路徑切換用輸送帶 16 樹脂薄膜 312XP/發明說明書(補件)/96-10/96125356 33 200821054

17 出料滾筒 18 驅動滾筒 19 導槽 20 刮板 41 第1導槽 42 第1檔板 42a 梯形切口 43 第2導槽 44 第2檔板 51 振動馬達 S 、 Sa 、 Sb 、 Sc 、 Sd 、 Se 分離對象物 312XP/發明說明書(補件)/96-10/96125356 34

Claims (1)

1. 200821054 十、申請專利範圍： 1. 一種分離裝置，其特徵在於具有： 運送手段，載置粉狀或粒狀物質、砂石、砂土或者土壌 即^有特定元素之分離對象物，並使該分離對象物移動: 篩刀裝置，於上述運送手段中篩分藉由上述運送手段而 移動中之分離對象物的至少一部分； 層調整手段，對通過上述篩分裝置之分離對象物之上表 _面進行平坦處理； 濃度檢測手段’對上表面經平坦處理之分離對象物之層 照射X射線，並藉由檢測所產生之營光χ射線而檢測特^ 元素之濃度；以及 運送路徑切換手段，設置於上述分離對象物移動方向中 上述X射線之照射位置的下游側，且根據上述濃度檢測手 段之檢測結果而切換上述分離對象物之運送路徑。 2·如申請專利範圍第i項之分離裝置，其中，上述筛分 ♦裝置中能夠通過之分離對象物粒徑為設定於lmm至15随 之範圍内的值以下。 3.如申請專利範圍第丨項之分離裝置，其中，上述篩分 裝置可於對藉由上述運送手段而移動之分離對象物進二 篩分的位置、與上升中不與移動之分離對象物接觸之位 % 之間移動。 ，4·如申請專利範圍第1或3項之分離裝置，其中，上述 ^分裝置於上述運送手段上進行移動之分離對象物層2 見度方向的中央部分，留下粒徑為既定值以下之分離對象 312XP/發明說明書(補件)/96-10/96125356 35 200821054 物’並使粒梭超過既定值之分離對象物向寬度方向之兩端 部移動。 5·如申請專利範圍第1或3項之分離裝置，其中，上述 4分裝置設定為粒徑達到既定值以下之分離對象物之層 厚度為15 mm以上。 6·如申請專利範圍第4項之分離裝置，其中，上述篩分 裝置设定為粒徑達到既定值以下之分離對象物之層厚度 為15 mm以上。 7.如申請專利範圍第1或3項之分離裝置，其中，i具 有·· …、 剖面規定手段，該剖面規定手段設置於上述分離對象物 運U方向<有上述篩分裝置之位置的上游侧，且將與上述 運送手段上移動之分離對象物之層的運送方向呈直角方 向之剖面形狀調整為既定形狀， 而上述篩分裝置設置為對佔據上述剖面形狀之一部分 ⑩的分離對象物進行篩分。 8.如申請專利範圍第4項之分離裝置，其中，其具有： ::::手段，該剖面規定手段設置於上述分離對象物 ?:设有上述篩分裝置之位置的上游側，且將與上述 、丰又上#夕動之分離冑象物之層的運送方向呈直角方 •向之剖面形狀調整為既定形狀， 上述筛分裝置設置為對佔據上述剖面形狀之一部分 的分離對象物進㈣分。 ^㈣狀之4刀 9·如申請專利範圍第7項之分離裝置，其中，上述剖面 312XP/發明說明書(補件)/96-10/96125356 36 200821054 規定手段將由運送手p 狀調整為77離對象物之層之剖面形 … 之一邛分隆起的狀態， 行述師分裝置對上述分離對象物之層的隆起部分進 面Ζϋ月專利範㈣8項之分離|置，其中，上述剖

   形狀調整為其上表面之一部分隆起的狀態，…面 行S述篩分裝置對上述分離對象物之層的隆起部分進 .·/申明專利範圍第1或3項之分離裝置，其中，且 麗1務$ ’朝向由上述_分裝置篩分之分離對象物表面 # ’以及水分計，設置於上述分離對象物之運送方向 °又有上述噴霧器之位置的上游侧及下游侧之任一處戋兩 者，用以測定分離對象物之含水率； “ 且將經上述噴霧器喷水後之分離對象物的含水率調敕 為5〜2〇%。 "正 、12·如申請專利範圍第1或3項之分離裝置，其中，上 述層調整手段具備有使分離對象物之層之表面變得 之刮板。 、一 13.如申請專利範圍第u項之分離裝置，其中，上述層 週整手段具備有使分離對象物之層之表面變 板。、 Μ之刮 14·如申請專利範圍第1或3項之分離裝置，其中，上 述層調整手段具備滾筒，該滾筒以既定壓力對經上述筛分 312ΧΡ/_說明書(補件)/96 -10/96125356 37 200821054 裝置篩分之分離對象物之層的上表面進行擠壓， 而該滾筒推壓分離對象物之層之上表面的壓力設定於 20 kPa至100 kPa之範圍内。 15·如申請專利範圍第11項之分離裝置，其中，上述層 調整手段具備滾筒，該滾筒以既定壓力對經上述篩分裝置 篩分之分離對象物之層的上表面進行擠壓， 而該滾筒推壓分離對象物之層之上表面的壓力設定於 • 20 kPa至1〇〇 kPa之範圍内。 16. 如申請專利範圍第12項之分離裝置，其中，上述層 調整手段具備滾筒，該滾筒以既定壓力對經上述篩分裝置 篩分之分離對象物之層的上表面進行擠壓， 而該滾筒推壓分離對象物之層之上表面的壓力設定於 20 kPa至1〇〇 kPa之範圍内。 17. 如申請專利範圍第13項之分離裝置，其中，上述層 調整手段具備滾筒，該滾筒以既定壓力對經上述篩分裝置 _篩分之分離對象物之層的上表面進行擠壓， 而該滾筒推壓分離對象物之層之上表面的壓力設定於 2〇 kPa至1〇〇 kPa之範圍内。 18·如申請專利範圍第1或3項之分離裝置，其中，上 述濃度檢測手段具備樹脂薄膜供給裝置，該樹脂薄膜供給 ‘裝置於分離對象物之層之上表面、與截取螢光x射線的測 •定窗之間插入樹脂薄膜，且伴隨特定元素濃度檢測之重複 對分離對象物之層之上表面與截取螢光χ射線的測 疋窗之間供給新的樹脂薄膜。 312ΧΡ/發明說明書(補件)/96-10/96125356 38 200821054 •、如申，月專利範圍第18項之分離裝置，其中，上述濃 又測手段與分離對象物相對向地受到支撐，同時可進 込於刀離對象物之運送停止後之狀態下，使上述測定 與刀離對象物接觸，進行χ射線照射及螢光χ射線測定 後’與分離對象物隔離， —於上相定窗與分離對象物隔離後之狀態下，上 薄膜供給叙置於帶狀連續之上述樹脂薄膜之位置上移 動，並驅動上述運送手段。 夕 別·如申請專利範圍第19項之分離裝置，其中，上述 =薄膜供給裝置於上述樹脂薄膜之運送方向的上述測定 自下游侧輥狀捲繞該樹脂薄膜之位置的上游侧具備刮 板，該刮板剝離附著於樹脂薄膜之分離對象物。 21 ·如申請專利範圍第18項之分離裝置，其中，上述樹 脂薄膜係聚氯乙烯、聚乙烯、聚酯、聚醯亞胺中之任一者二

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