TW200805359A - Methods for storing holographic data and articles having enhanced data storage lifetime derived therefrom - Google Patents

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200805359 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本揭示内容係關於用於儲存全像資料之方法。另外，本 揭不内谷係關於由此等方 /灸何生而具有增進之資料儲存壽 命的全像資料儲存媒體及物件。 【先前技術】 已土於表面儲存現象而在很大程度上發展了光學資料儲 :技術。在所有基於表面之光學資料儲存系統中，資料之 母-位元佔用儲存媒體中之一特定實體位置。因此，光學 媒體之資料密度受到對—記錄光點之最小大小的實體約束 斤FT制^傳、、’先基於表面之儲存系統的一替代方法係體積 ，存技術’其中使用—儲存媒體之全部體積來增大資料容 ϊ。用於體積儲存之兩帛最普通技術為多層及全像。此多 層方法乃類似多層CD/DVD方法，但使用對聚焦光束敏感 之各種光學現象來寫入且擷取資料以使得可藉由改變焦點 之深度來定址媒體中的各種深度。此技術可消除製造二固 層及裝配多個層之複雜性’且尚可移除對層之數目的限 制使其主要成為光學系統之聚焦能力的函數。 另一方面，在全像儲存中，㈣經由三維或體積干擾圖 案而儲存於媒體之整個體積中。在全像記錄過程中，藉由 一感光媒體之體積内的兩個光束之重疊來記錄全像圖。來 自兩個光束之重疊的干擾圖案導致全像媒體之折射率的改 變或調變且（稱為全像圖）。媒體内之此調變可用來記錄重 疊光束之強度與相位資訊。 ^ 117504.doc 200805359 可將已知全像資料儲存技術分類成基於頁之全像資料儲 位70之全像資料儲存。在基於m像儲存中，將 資料"並列”寫入於含有約自-至一或一上位元的 車歹]或頁上。一含有經數位編碼之資料的信號光束重疊 於媒體内之一參考光束上，導致媒體内之一干擾圖案，該 干擾圖案又導致折射率之相應改變。通常將每一位元儲存 為在-給定光點t產生隨著全像儲存媒體之體積之指數調 變的干擾圖案之一部分’且可認為其消耗總指數調變之某 =部分。接著可藉由㈣存媒體曝露至參考光束來掏取已 記錄之強度及相位資料。—可支援較大指數改變之全像儲 存媒體因此可藉由角度、波長、相位碼或相關多路傳輸技 術來將多個頁儲存於全像媒體之體積内。在按位元之全像 術或微全像資料儲存中，每—位元係寫人為—微全像圖或 反射光柵，且係藉由兩個干擾之反向傳播聚焦光束來產 生。其資料乃藉由使用一讀取光束來繞射掉微全像圖以獲 得一信號而擷取。 任何全像儲存系統之中心部係儲存媒體。近來，已開發 了用於全像資料儲存媒體之各種聚合物染料摻雜資料儲存 材料。然而，通常在寫入資料之後，隨後之資料讀出可能 快速導致此等材料中已寫入之資訊被擦除。因此，對於能 將一基於光化學活性染料之全像媒體中的全像資料予以增 進壽命的技術仍有需求。 【發明内容】 本文中所揭示的係用於在具有增進之資料儲存壽命的儲 117504.doc 200805359 存媒體中儲存全像資料的方法，及使用此等方法所製造之 物件。 在一態樣中，本發明提供一種用於儲存全像資料之方 法，該方法包括： 步驟（A)，其提供包括一光化學活性染料及一單態氧產 生劑之光學透明基板； 步驟（B)，其用一全像干擾圖案照射該光學透明基板， 其中該圖案具有一第一波長及一強度，該第一波長及該強 度皆足以在基板之一體積元素内將光化學活性染料之至少 一些轉換成一光產物，且在經照射之體積元素内產生對應 於全像干擾圖案的該光產物之濃度變化，藉此產生一對應 於該體積元素之光學可讀資料；及 步驟（C)，其活化光學透明基板以產生單態氧來穩定化 光學可讀資料。 在又一態樣中，本發明提供一種光學寫入/讀取方法， 該方法包括： 步驟（A)，其用一全像干擾圖案照射一包括一光化學活 性染料及一單態氧產生劑之光學透明基板，其中該圖案具 有一第一波長及一強度，該第一波長及該強度皆足以在基 板之一體積元素内將光化學活性染料之至少一些轉換成一 光產物’且在經照射之體積元素内產生對應於全像干擾圖 案的該光產物之濃度變化’藉此產生一對應於該體積元素 之第一光學可讀資料；其中全像干擾圖案係藉由用一對應 於資料之信號光束及一不對應於資料之參考光束同時照射 117504.doc 200805359 光學透明基板來產生； 以產生單態氧來穩定化 步驟（B)，其活化光學透明基板 光學可讀資料；及 、步驟(C)’丨用一讀取光束照射光學透明基板且藉由偵 測繞射光來讀取光學可讀資料。 在另-態樣中，本發明提供一種用於形成全像資料儲存 物件之方法，該方法包括形成一包括光學透明塑性材料、 光化學〉舌性染料及單態氧產生劑 < 光學透明基板的一膜。 在又悲樣中，本發明提供一種全像資料儲存媒體，其 可用於以全像圖之形式儲存資料。該資㈣存媒體包括光 學透明塑性材料、光化學活性染料及單態氧產生劑。 在另一實施例中，本發明提供一種資料儲存媒體，其具 有儲存於其巾的至少_光學可讀#料。該資㈣存媒體包 括光學透明塑性材料、光化學活性染料、單態氧產生劑、 由該光化學活性染料衍生之光產物、及由該光化學活性染 料、該光產物或其組合衍生之光穩定產物；其中將該至少 一光學可讀資料儲存為一在包含於資料儲存媒體内之光學 透明基板之至少一體積元素内圖案化的全像圖。 參考下文之詳細描述可更易於瞭解本發明之此等及其他 特徵、態樣及優點。 【實施方式】 可藉由參看2005年6月23曰出版之美國專利申請案第 2005/0136333號（序號 10,742,461)、2004年9月30日申請之 具有序號10/9 5 4,7 79的同在申請中之申請案及2〇〇5年1〇月 117504.doc 200805359 27曰申請之具有序號u/260806的同在申請中之申請案來 更清楚地瞭解本發明之一些態樣及本文中所使用之一般科 學原理，所有的該等申請案皆全文倂入本文中。請注意， 關於本申請案中之術語的解釋及意義，若在本申請案與以 引用的方式併入本文中之任何文獻之間發生一衝突，則應 有利於由本申請案所提供之界定或解釋而解決該衝突。 在下文之說明書及隨後之申請專利範圍中，將對應經界 定以具有下文之意義的若干術語作出參考。 單數形式”一 ”及”該”包含複數指示物，除非上下文另外 清楚地指定。如本文中所界定，術語"體積元素，，意謂一光 學透明基板之總體積的三維部分。 如本文中所使用，術語”脂族基”指由不為環狀之原子之 一直鏈或支鏈陣列組成的具有至少一價之有機基。脂族基 經界定以包括至少一碳原子。包括脂族基之原子之陣列可 包含諸如氮、硫、矽、硒及氧之雜原子或可專門地由碳及 氫構成。為了方便，術語π脂族基”在本文中經界定以作為 ’’不為環狀之原子之直鏈或支鏈陣列"的部分涵蓋諸如烷 基、烯基、炔基、i烷基、共軛二烯基、醇基、醚基、醛 基、酮基、羧酸基、醯基（例如，諸如酯及醯胺之羧酸衍 生物）、胺基、硝基及其類似物之官能基的廣泛範圍。舉 例而言，心曱基戊-1-基係包括一曱基之脂族基，該甲基 係為烷基之官能基。同樣地，4-硝基丁-:^基係包括一硝基 之C4脂族基，該硝基係官能基。脂族基可為包括可相同或 不同之一或多個函素原子的_烷基。_素原子包含（例 H7504.doc -10- 200805359 如）··氟、氯、溴及碘。包括一或多個鹵素原子之脂族基 包含烷基鹵化物·二氟甲基'溴二氟甲基、氯二氟甲基、 六氟亞異丙基、氯甲基、二氟亞乙烯基、三氯甲基、溴二 氯甲基、溴乙基、2-溴三亞甲基（例如，_CH2CHBrCH2_)及 其類似物。脂族基之另外實例包含烯丙基、胺基羰基（亦 即，-CONH2)、羰基、2,2•二氰基亞異丙基（亦即， -CH2C(Cn)2CH2-)、甲基（亦即，-CH3)、亞甲基（亦即， -CHy)、乙基、伸乙基、甲醯基（亦即，_CH〇)、己基、六 亞甲基、羥甲基（亦即，_CH2〇H)、巯甲基（亦即， -ch2sh)、甲硫基（亦即，_SCh3)、甲硫甲基（亦即， _CH2SCH3)、甲氧基、甲氧幾基（亦即，CH3〇c〇_)、硝基 甲基（亦即，_CH2N〇2)、硫羰基、三甲基矽烷基（亦即， (CH3)3Si·)、第三丁基二甲基矽烷基、3_三甲氧基矽烷基丙 基（亦即（CH3〇)3SiCH2CH2CH2_)、乙烯基、亞乙烯基及 其類似物。作為另外的實例，C1_C1G脂族基含有至少一個 但不多於10個碳原子。甲基（亦即，CH3_HfCi脂族基之一 實例。癸基（亦即，CHdCH2)9·)係Cl〇脂族基之一實例。 如本文中所使用，術語”芳基”指包括至少一芳族基之具 有至少一價的原子之陣列。包括至少一芳族基之具有至少 一價的原子之陣列可包含諸如氮、硫、硒、矽及氧之雜原 子，或可專門地由碳及氫構成。如本文中所使用，術語 ”芳基"包含（但不限於）苯基、吡啶基、呋喃基、噻吩基、 萘基、伸苯基及聯二苯基。如所注意，芳基含有至少一芳 族基。芳族基不變地為一具有4n+2個，，非定域"電子之環狀 117504.doc -11 - 200805359 結構’其中"n"為-等於1或大於1之整數(如藉由苯基 (n=1)、噻吩基（n=1)、吱喃基Ο-D、萘基（n=2)、奠基 (n=2)、蒽、基（n=3)及其類似物所說明）。彡基亦可包含非芳 族組份。舉例而言，苯甲基係包括一苯環（芳族基）及一亞 甲基(非芳族組份)的芳基。同樣地，四氫萘基係包括一稠 合至非芳族組份-(CH2)4·之芳族基（c^3)的芳基。為了方 便，術語”芳基，，在本文中經界定以涵蓋諸如烷基、烯基、 炔基、鹵烷基、_芳族基、共軛二烯基、醇基、醚基、醛 基酮基、羧酸基、醯基（例如，諸如酯及醯胺之羧酸衍 生物）、胺基、硝基及其類似物之官能基的廣泛範圍。舉 例而言，4-甲基苯基係包括一甲基之C7芳基，該甲基係一 為烷基之官能基。同樣地，2_硝基苯基係包括一硝基之& 芳基，該硝基係一官能基。芳基包含鹵化芳基，諸如心三 氟甲基苯基、六氟亞異丙基雙（4_苯-；t_基氧基）（亦即， 〇PhC(CF3)2Ph〇·)、4_氣甲基苯_1_基、3_三氟乙烯基_2_嘆 为基 3-二氣甲基苯-i_基（亦即，3-CCl3Ph-)、4-(3-漠丙_ 卜基）苯小基（亦即，4-BrCH2CH2CH2Ph_)及其類似物。芳 基之另外實例包含4-烯丙氧苯-1-氧基、4-胺基苯基（亦 即 ’ 4-H2NPh-)、3_胺基羰基苯-1-基（亦即，NH2COPh-)、 4-苯甲醯基苯_；^基、二氰基次甲基雙（‘苯—卜基氧基）（亦 即，-〇PhC(CN)2PhO_)、3-甲基苯_1_基、亞甲基雙（4_苯小 基氧基）（亦即，-OPhCHjhO-)、2-乙基苯_1_基、苯基乙烯 基、3-甲醯基_2_噻吩基、己基-5_呋喃基、六亞曱基“，心 雙（4-苯小基氧基）（亦即，_〇ph(CH2)6ph〇·)、4_羥曱基苯— 117504.doc -12- 200805359 1- 基（亦即，4-HOCH2Ph_)、4_M曱基苯-^基（亦即，4_ HSCH2Ph-)、4_ 曱硫基苯_1_基（亦即，4-CH3SPh-)、3_ 甲氧 基苯-1-基、2-甲氧基羰基苯-1-基氧基（例如，甲基柳基）、 2- 硝基甲基苯-1-基（亦即，2-N〇2CH2Ph)、3-三甲基石夕烷基 苯-1-基、4-第三丁基二甲基矽烷基苯-1基、‘乙烯基苯_ 1-基、亞乙烯基雙（苯基）及其類似物。術語”c3_c1G芳基，，包 含含有至少三個但不多於1 〇個碳原子之芳基。芳基i •咪唑 基（CsH^2-)表示a芳基。苯甲基表示C7芳基。 如本文中所使用，術語”環脂族基”指具有至少一價且包 括一為環狀但不為芳族之原子之陣列的基。如本文中所界 定，π環脂族基"不含有芳族基。”環脂族基"可包括一或多 個非環狀組份。舉例而言，環己基甲基（C6HiiCH2_)係包括 一環己基環（為環狀但不為芳族之原子之陣列）及一亞甲基 (非裱狀組份）的環脂族基。環脂族基可包含諸如氮、硫、 硒 '矽及氧之雜原子或可專門地由碳及氫構成。為了方 便，術語”環脂族基”在本文中經界定以涵蓋諸如烷基、烯 基、炔基、_烷基、共軛二烯基、醇基、醚基、醛基、_ 基、羧酸基、醯基（例如，諸如_及醯胺之緩酸衍生物卜 胺基、硝基及其類似物之官能基的廣泛範圍。舉例而言， 4-甲基壞戊.1-基係、包括—甲基之^環脂族基，該甲基係— 為烷基之官能基。同樣地，2_硝基環丁]_基係包括一硝基 之C4環脂族基，該硝基係—官能基。環脂族基可包括可二 同或^同之一或多個齒素原子。_素原子包含（例如）： 狀、乳、屬及峨。包括一或多個_素原子之環脂族基包含 117504.doc -13 - 200805359 2-三氟曱基環己]-基、4_演二氟甲基環辛小基、2_氯二氟 甲基ί哀己小基、六氟亞異丙基-2,2_雙（環己冰基）（亦即， _C6H10C(CF3)2 C6H1(r)、2_氣甲基環己小基、3_二氟亞曱 基環己小基、4_三氯甲基環己小基氡基、肛溴二氯甲基環 己_1_基硫基、2也基環戊基、2_溴丙基環己+基氧 基（例如，CH3CHBrCH2C6H1G〇_)及其類似物。環脂族基之 另外實例包含4-烯丙氧基環己小基、肛胺基環己小基(亦 即，HJCMq-)、[胺基羰基環戊]_基（亦即， 簡仰⑽8-)、4-乙醯氧基環己小基、2,2_二氰基亞異丙 基雙（¾ 己-4_ 基氧基）（亦即，-〇C6HmC(cn)2C6H"〇_)、3_ 甲基環己-1 -基、亞曱基雙（環己_ 4 _基氧基）（亦即， -〇C6H10CH2C6H1()〇-)、1-乙基環丁 _丨_基、環丙基乙烯基、 3- 曱醯基-2-四氫呋喃基、2_己基_5_四氫呋喃基、六亞甲 基]，6·雙（環己 _4_ 基氧基）（亦即，_〇 C6Hi〇(CH2)6C6Hi〇〇_)、 4- 羥甲基環己一ι_基（亦即，4_H〇cH2C6Hl〇_)、4-巯甲基環 己-1-基（亦即，4-Η8(：Η2(：6ϋ10_)、4-曱硫基環己-1-基（亦 即’ 4-CH3SC6H10-)、4-甲氧基環己基' 2-曱氧羰基環 己-1·基氧基（2-CH3OCOC6H10〇-)、4-硝基曱基環己-1-基 (亦即，N〇2CH2C6H10-)、3-三甲基矽烷基環己-1-基、2-第 二丁基二甲基矽烷基環戊-1-基、4-三甲氧基矽烷乙基環 己-1-基（例如，（CH3O)3SiCH2CH2C6H10-)、4-乙烯基環己 烯-1-基、亞乙烯基雙（環己基）及其類似物。術語”〇3-€10環 脂族基”包含含有至少三個但不多於1〇個碳原子之環脂族 基。環脂族基2-四氫呋喃基（C4H70-)表示C4環脂族基。環 117504.doc 14· 200805359 己基甲基（CsHnCH2*·)表示c7環脂族基。 如本文中所使用，術語”光化學反應性"及，，光化學活性" 具有相同意義且係可互換術語。 如本文中所界定，術語"光穩定產物”指展示比相應光化 學活性化學4勿質大《光穩定性的反應產⑯，反應產物由相 應光化學活性化學物質衍生。舉例而言，光化學活性閉形 二芳基乙烯染料（開形二芳基乙烯之光產物）的氧化提供作 為反應產物（相應氧化閉形二芳基乙烯）。氧化閉形二芳基 乙烯係’’光穩定產物”，因為其展示平均比開形光化學活性 一芳基乙烯染料大之光穩定性，氧化閉形二芳基乙烯由開 形光化學活性二芳基乙烯染料衍生。 如本文中所界定，術語，，光學透明基板"表示一光學透明 塑性材料及至少一光化學活性染料之一組合，其具有小於 1之吸收率，亦即，至少1〇%之入射光以在自約3〇〇奈米至 、、、勺800不米（下文中為”nm”）之範圍内的至少一波長透射穿 過該材料。 如本文中所界疋，術語"光學透明塑性材料"意謂一具有 小於1之吸收率的基板，亦即，至少1〇%之入射光以在自 約300 nm至約800 nmi範圍内的至少一波長透射穿過該材 料。 如本文中所界定，術語"體積元素”意謂一總體積的三維 部分。 如本文中所界定，可將術語"光學可讀資料"理解為一儲 存為一在一光學透明基板之一或多個體積元素内圖案化之 117504.doc 200805359 全像圖的資料。 如本文中所使用，術語，，增進之壽命”指光學可讀資料之 增大的讀出循環之數目。 如在尚未曝露至電磁輻射之體積元素的狀況下，或在其 中在整個體積元素中已使光化學活性染料反應至相同程产 之體積元素的狀況下，個別體積元素内之折射率可在整個 體積元素中恆定。咸信，已在全像資料寫入過程期間曝露 至電磁輻射之大多數體積元素將含有一複雜全像圖案，且 因而’體積元素内之折射率將越過體積元素而變化。在體 積元素内之折射率越過體積元素而變化之情況下，將體積 元素認為是具有一 ”平均折射率”係方便的，可將該平均折 射率與在照射之前的相應體積元素之折射率比較。因此， 在一實施例中，一光學可讀資料包括至少一體積元素，其 具有一不同於在照射之前的光學透明基板之一（該）相應體 積元素的折射率。資料儲存係藉由以一分級方式（連續正 弦變化）而非離散步驟局㈣改變資料儲存媒體之折射率 且接著使用如繞射光學元件之誘發改變而達成。 如本文中所界定，術語M/#表示一 量， 一資料儲存媒體之容

M/#取決於各種參數， 體之 之厚度及染料濃度。 ^ ，諸如折射率之改變（Δη)、媒體 如方程式⑴中所*地界定Μ/#: 方程式（1) 117504.doc -16- 200805359 數I 全像圖之繞射效率’ ^為已記錄之全像圖的 。用於以-經選擇之波長（例如，以说奈米或彻奈 t對於—測試樣本之讀量測的實驗設置包含將測試樣本 $ 電腦控制之旋轉臺上。旋轉台具有約。·〇〇〇ι =。二度解析度。一M/#量測包含兩個步驟：記錄及讀 讀時，在相同樣本上之相同位置處記錄多個平面 東：：圖。一平面波全像圖係-由-信號光束及一參考光 生的已記錄之干擾圖案。信號及參考光束彼此相 “為具有相同功率及光束大小之平面波，入射於樣 之相同位置處且在相同方向上偏振。多個平 η =係藉由旋轉樣本來記錄。兩個鄰近全像圖之間的角間距 ’、、、約〇.2度。此間距經選擇以使得其對先前已記錄之全像 圖的影響在多路傳輸額外全像圖時為最小，且同時，媒體 之總容量的使用有效。在聊量測中，用於每一全像圖之 記錄時間通常相同。在讀出時，阻斷信號光束。使用史考 先束及一經放大之光谓測器來量測繞射信號。藉由以一約 =04度之步長在記錄角度範圍上旋轉樣本來量測繞射功 、。用於讀出之參考光束的功率通常為小於記錄時所使用 之功率的量值之約2-3階。此係在維持一可量測繞射作號 的同時最小化在讀出期間之全像圖擦除。自繞抑號，可 自全像圖記錄角度處之繞射峰值識別經多路傳輸^全像 圖。接著藉由使用方程式⑺來計算第i全像圖之繞射效率 117504.doc -17- 200805359

P % i,diffracted ^refen 方程式（2) 其中pi，diffracted係第i全像圖之繞射功率。接著使用全像圖 之繞射效率及方程式（1)來計算％/#。因此，可使用一全像 平面波特性化系統來測試資料儲存材料（尤其是經多路傳 輸之全像圖）之特性。另外，資料儲存材料之特性亦可藉 由量測繞射效率來確定。 將貧料儲存為全像圖之容量（M/#)亦與在用於讀取資料 之波長處的每單位染料密度之折射率之改變（Δη/Ν〇)與在 一用於將資料寫人為-全像圖之給定波長處的吸收截面⑷ 之比率成正比。每單位染料密度之折射率改變係由在照射 之前的體積元素之折射率減去在照射之後的相同體積元素 之折射率的差與染料分子之密度的比率來給出。每單位染 料密度之折射率改變具有（公分）3之單位。因此，在一實施 例中’光學可讀資料包括至少一體積元素，其中該至少一 體積元素之每單位染料密度之折射率的改變與至少一光化 學活性染料之—吸收截面的比率至少為約以公分為單位表 達之10·5。 敏感性（S)係-使用-定量之光通量（F)所記錄之全像圖 之繞射效率的一量測。光通量(F)係由光強度⑴與記錄時 間⑴之乘積給出。數學上，敏感性係由方程式⑺給出，

S m '' 方程式（3) 其中I為記錄光束之強度，”t”A印鉻眭 两尤綠Bf間，l為記錄（或資 料儲存）媒體（例如，碟片）之厚声曰 予度，且η為繞射效率。繞射 117504.doc -18- 200805359 效率係由方程式（4)給出， η = sin2 U'cosWj 方程式⑷ 其中人為記錄媒體中的光之波長’ θ為媒體中之記錄角度， 且Δη為由記錄過程所產生之光栅的軒射率對比率，其中染 料分子經受一光化學轉換。 〃 :收截面係一原子或分子吸收一規定波長處之光之能力 的量測，且以平方公分/分子量測。其通表示且對 於光學薄樣本由貝爾·蘭伯特定律調節，如方程式（5) 示， σα; = _·^^Μ 方程式（5) 其中NG為以每立方公分之分子計之濃度，且L為以公分計 之樣本厚度。 量子效率（QE)係對於一給定波長之每一吸收光子的一光 化學轉變之機率的量測。因此，其給出效率之量測，以該 效率使用入射光來達成一亦被稱為一漂白過程之給定光化 學轉換。QE係由方程式（6)給出， qe=^s/A. cr.Fn 方程式（6) 其中"h”為普朗克常數，”c，，為光速，σ(χ)為在波長人處之吸 收截面’且F〇為漂白通量。參數F〇係由光強度（I)與一特性 化漂白過程之時間常數（τ)的乘積給出。 光化學活性染料係使得光學透明基板能夠將全像圖以_ 117504.doc -19- 200805359 第波長’’寫入π至該基板中的染料。且另外，光化學活性 =料應如此以使得當”讀取"一已以一第一波長，，寫入"至光 學透明基板中之全像圖時，並不擦除該全像圖。需要使用 使能夠將全像干擾圖案以在自約300 nm至約l，50〇 nm之範 圍内的波長，，寫入"至光學透明基板中之染料。 在一實施例中，光化學活性染料具有光學吸收共振，其 特徵在於一與最大吸收相關聯之中心波長及一小於5〇〇奈 米之頻譜寬度（半波高全寬度，FWHM)。通常，光化學活 性染料在曝露至具有一在吸收範圍内之波長的光以形成至 ^ 光產物時經受一光誘發化學反應。此反應可為一光分 解反應，諸如氧化、還原或鍵斷裂以形成較小成分，或一 諸如一 σ移位重排之分子重排，或包含周環性環加成之加 成反應。因此，在一實施例中，達成以全像圖之形式的資 料儲存，其中（例如，以一分級方式）在光學透明基板内圖 案化一光產物以提供至少一光學可讀資料。 在一實施例中，光化學活性染料係鄰二芳基乙烯。在另 一實施例中，光化學活性染料係一由光化學活性染料產生 之光產物’例如，一由能夠環化之二芳基乙烯之光化學環 化產生的產物；或一由能夠開環之鄰二芳基乙烯之開環產 生的產物。在又一實施例中，光化學活性染料係硝基芪。 在又一實施例中，光化學活性染料係硝酮。在一實施例 中，使用一包含選自由鄰二芳基乙烯、硝酮、由鄰二芳基 乙烯衍生之光產物及硝基芪組成之群的兩個或兩個以上光 化學活性染料之組合。 117504.doc -20- 200805359 光化學活性二芳基乙烯係用於產生全像資料儲存物件的 特別有用之化合物。在一實施例中，光化學活性二芳基乙 稀具有所要之光學性質，諸如相對低之吸收截面，同時具 有相對高之折射率改變及/或用於光誘發反應的相對高之 文率 r^里子效率亦導致較南敏感性’因為敏感性與 S子效率與折射率改變（界定為An)的乘積成正比。將資料 作為一全像圖寫入至包括光化學活性染料之光學透明基板 中係由於在寫入波長處經受部分光化學轉換的染料，藉此 產生一包括至少一光學可讀資料的經改質之光學透明基 板。’’寫入波長"對應於用以照射光學透明基板之全像干擾 圖案的波長。一染料摻雜資料儲存材料（此處，一包括一 光化學反應性染料之光學透明基板）的敏感性取決於染料 之、/辰度（N〇)、染料在記錄波長處之吸收截面、光化學轉變 之®子效率QE ’及一單位染料密度之染料分子的指數改 變（Δηο/Νο)。然而，隨著染料濃度與吸收截面之乘積增 大，染料摻雜儲存材料傾向於變得不透明，其抑制了記錄 與頃出。因此’在一實施例中，戶斤關心之用於達成高Μ/# 之光化學活性化合物係在用於寫入資料之波長處經受一伴 有一高折射率改變及一高量子效率之有效光化學轉化的彼 等材料，該波長自染料之主要1；¥可見吸收峰值移除。 本發明之實施例提供用於光學全像資料儲存之方法及物 件。本發明之一實施例中係一用力儲存全像資料之方法。 該方法包括用-全像干擾圖案照射—包括_光化學活性染 料之光學透明基板。全像干擾圖案具有—第—波長及一強 117504.doc -21- 200805359 度，該第一波長及該強度皆足以在所照射之基板之一體積 元素内將光化學活性染料之至少一些轉換成一光產物，且 在所知射之體積元素内產生對應於全像干擾圖案的光產物 之濃度變化。藉此產生一對應於體積元素之光學可讀資 料。在已將光學可讀資料寫入至光學透明基板中之後，活 化光學透明基板以產生單態氧來穩定化光學可讀資料。 在一實施例中，照射有助於光化學活性染料至一光產物 之部分化學轉換（有時亦被稱作”反應”），例如，鄰二芳基 乙烯至一環化產物之環化反應，或環化產物至鄰二芳基乙 烯產物之開環反應，或芳基硝酮至一芳基噁吖丙啶產物之 轉換；或一由噁吖丙啶衍生之分解產物，藉此產生光學可 讀資料之一全像圖。在本發明之一實施例中，自一光化學 活性染料至一光產物之折射率改變大於或等於約1〇_3。在 另一實施例中，折射率改變大於或等於約10_4。 熟習此項技術者應瞭解，若不採取步驟來穩定化光產物 及未經轉換之光化學反應性染料，則光產物及殘餘（未經 轉換）光化學反應性染料的殘留感光性可能會不利地影響 已儲存之資料的完整性。方法進一步包含將光產物與單態 氧反應以產生一光穩定產物。在一實施例中，藉由在光學 透明基板中包含一單態氧產生劑且活化單態氧產生劑以提 供單態氧來提供單態氧。所產生之單態氧可如上文所論述 地與一光產物反應，或替代地，可與一光化學活性染料反 應以產生一光穩定產物。 如本文中所使用，術語”單態氧產生劑”既指一旦活化即 117504.doc -22- 200805359 解離以釋放單態氧的化合物（下文中 τ為早態氧前驅物"）， 又指一旦感光化即使三重態分子氧能 乳爿b夠轉換至單態氧的化 合物（下文_為”單態氧感光劑”）。 通常-旦感光化’單態氧感光劑即被激發至其單態激發 態’然後轉換(被稱作系統間穿越)至其三重激發態。三重 激發感光劑接著與三重態氧在其環境中相互作用以產生單 態氧。非限制實例包含亞甲基藍、甘菊環、孟加拉玫紅、 2’-萘乙酮、。丫唆、9_甲基-葱、六苯幷苯、蔡及蔡醜菁。 許多參照案中描述了單態氧感光劑之實例，該等參照案包 含"Jo腦ai of Physical and Chemical 以⑽臟如，第 U 卷，第113-262頁’’，其全文併入本文中。 單態氧前驅物一旦光或熱活化即解離以產生處於其單態 中之分子氧。非限制實例包含亞磷酸鹽臭氧化物及諸如萘 内過氧化物及蒽内過氧化物之芳族内過氧化物。萘内過氧 化物之實例包含（但不限於）丨，4-雙取代萘過氧化物，及 二（2,3-二羥基丙基）^，心萘二丙醯胺。蒽内過氧化物 之實例包含（但不限於）9，10_二苯基蒽過氧化物、丨，4•二苯 基蒽過氧化物。 在一實施例中，活化之步驟係藉由以足以產生單態氧之 一第二波長及一強度光活化來完成，其中單態氧與光產物 及光化學活性染料反應以穩定化光學可讀資料。在另一實 施例中’活化之步驟係藉由以足用產生單態氧之熱能熱活 化來元成’其中單悲氧與光產物及光化學活性染料反應以 穩定化光學可讀資料。 117504.doc -23- 200805359 可用作光化學活性染料 。 W —方基乙烯之實例句冬 (但不限於)二芳基全顧 3 烯、二芳基順丁烯二酸酐、二 方基馬來醯亞胺或—包# 則述一方基乙烯之至少一者的组 合。可使用此項技術中ρ左+ f + η已知之方法來製備鄰二若基乙烯。 =二乙Ζ係作為開環或閉環異構體而存在。—般而言， 開環異構體在較短波長處具有吸收帶。-旦 用兔外光照射，即在較异、、由 於pir s❹ H皮長處出現新吸收帶，其係歸因 於閉玉衣異構體。開及閉摄s 構體之吸收頻譜可取決於噻吩 % '奈裱或本環之取代基。 闹及閉％異構體之吸收結構可 取決於上部環烯烴結構。棗 .„ ϊε ♦例而$，與全氟環戊烯衍生物 父順丁稀一酸酐或馬來酿亞胳y & % 一 口水1^亞何生物之開環異構體展 不至較長波長之頻譜移位。 鄰二芳基乙烯化合物之一 + 一 奶弋不軛性類別可由通用結構⑴表 7F ，

(I) 其中ne’’為〇或1，· r1為鍵、氧 虱原子、經取代之氮原子、硫 原子、硒原子、二價（VCm脂放盆 上 ^ — 曰麵基、鹵化二價cvc20脂族 土 一 b C3-C20環脂族基、鹵务_ γ 团化—價Cl_C2〇環脂族基或二 價C2-C3G芳基；Ar1及Ar2每一去猫

者獨立地為C2_C4G芳基或CV C4〇雜芳基；且21及Z2獨立地為 奶為鍵、虱原子、單價Cl-C20脂 117504.doc -24. 200805359 族基、二價Ci-Cw脂族基、單價C3_C2G環脂族基、二價c3_ C2〇環脂族基、單價CVCso芳基或二價c2_C3G芳基。應注 思’如基團Z1及Z2 ’芳基Ar1及Ar2之每一者相同或不同。 熟習此項技術者應瞭解，Ar1可在結構上不同於Ar2，且Z1 可在結構上不同於Z2，且此等物質涵蓋於通用結構I内且 包含於本發明之範疇内。 在另一實施例中，e為0，且Z1及烷基、CVC5 全氟烧基或CN。在又一實施例中，e為1，且z1及Z2獨立地 為CH2、CF2或C=〇。在再一實施例中，Ar1及Ar2每一者獨 立地為選自由視情況由一或多個取代基取代之苯基、蒽 基、菲基、吡啶基、噠嗪基、1H-丙烯合萘基及萘基組成 之群的芳基，其中取代基每一者獨立地為Ci-Cs烷基、 C3全氟燒基、C1-C3燒氧基或氟。在再一實施例中，八^及 Ar2之至少一者包括選自由結構（Π)、（III)及（IV)組成之群 的一或多個芳族部分， R4

117504.doc -25- 200805359

x (IV) 其中R3、R4、R5及R6為氫、_素原子、确基、氰基、Ci_ c10脂族基、C3_Clo環脂族基或C2_Ci〇芳族；r7在每一出現 處獨立地為_素原子、硝基、氰基、Ci_Ciq脂族基、 C10J^脂族基或C2_ClG芳基；，，b，，為一自（且包含）〇至（且包 含）4之整數；X及Y係選自由硫、硒、氧、NH及由Ci_Ci〇 月曰族基C3-C1G環|曰族基或C2-C1G芳基取代之氮組成之 群，且Q為CH或N。在一實施例中，R3、r4、r5&r6之至 少一者係選自由氫、氟、氣、溴、Ci_c3烷基、Ci_c;全氟 烷基、氰基、苯基、Π比啶基、異噁唑基、_CHC(CN)2組成 之群。 鄰二芳基乙烯可在光化輻射（亦即，可產生光化學反應 之輻射）（諸如光）的存在下反應。在一實施例中，示範性鄰 二芳基乙烯可根據以下方程式（4)而在光（hv)之存在下經受 一可逆環化反應：

117504.doc -26- (4) 200805359 以產生王像ϋ。全像圖可藉由使用輻射以實現環化反應或 逆開反應來產生。環化反應係_光色反應，藉此一形式 改變導致折射率之改變。通常hv，在能量上比^低(波長較 長）。通常若在紫外線波長處起始環化反應，則逆開環反 應通常發生於可見或紅外波長處。 如上文所描述，環化反應可用以產生全像圖。全像圖可 藉由使用輻射以實現環化反應或逆開環反應來產生。因 此，在一實施例中， 作光化學活性染料。 由化學式（v)表示， 由鄰二芳基乙烯衍生之光產物可用 由鄰二芳基乙烯衍生之此等光產物可

(V) ，、中"e”、R 、Z及Z2為如對於且右/ 了於具有化學式⑴之鄰二芳基 乙浠所描述，A及B為稠環，且R8另9 — 衣且尺及汉每一者獨立地為氫 原子、脂族基、環脂族基哎若美 土飞方暴稠裱八及^之一或兩者 可包括不具有雜原子之碳環。在一 牡力實施例中，稠環A及 B可包括選自由氧、氮及硫組成 力1、且成之群的一或多個雜原子。 諸如石肖酮及祕κ之其他純學活性㈣亦可盘鄰二芳 基乙浠一起使用。光化學活性染料可為《-芳基-N-芳基硝 酮或其共輛類似物’其中共輛係在芳基與ι_碳原子之 117504.doc •27- 200805359 間。α-芳基常常被取代，經常由二烷基胺基取代，其中烷 基含有1至約4個碳原子。硝酮的適合之非限制實例包含α_ (4-二乙基胺基苯基）_Ν_苯基硝酮；α_(4_二乙基胺基苯基）_ Ν-(4-氯苯基）_硝酮、α兴‘二乙基胺基苯基二氯苯 基）-硝酮、α-(4-二乙基胺基苯基）-Ν-(4-乙氧羰基苯基 >硝 酮、α-(4-二乙基胺基苯基）-Ν-(4-乙醯基苯基）-硝酮、α<4-二甲基胺基苯基）-Ν-(4-氰基苯基）-硝酮、α-(4-曱氧苯基 氰基苯基）确酮、α-(9-久洛尼唆基）-Ν-苯基硝酮、α_ (9-久洛尼啶基）-Ν-(4-氯苯基）硝酮、α-(4-二甲基胺基）苯乙 烯基苯基硝酮、α-苯乙烯基-Ν-苯基硝酮、α-[2-(1，1-二 苯基乙烯基）]-Ν_苯基硝酮、α-[2_(1·苯基丙烯基）]-Ν-苯基 硝酮或一包括前述琐S同之至少一者的組合。 硝基笑之實例包含（但不限於）4 -二甲基胺基-2 ’，4 ^二硝基 式、4 -二甲基胺基-41-氰基- 2’-硝基式、4-备基·2*，4’-二石肖基 芪及其類似物。 光化學活性染料係一使能夠使用電磁輻射來寫入與讀取 全像資料的染料。熟習此項技術者應瞭解，染料在寫入過 程期間經受一光化學轉化，導致全像儲存媒體内之染料的 濃度變化，該等濃度變化被稱作全像圖。需要使用可使用 光化輕射（亦即，具有自約300 nm至約1，100 nm之波長的輻 射）來寫入至（寫入光束）且自（讀取光束）讀取之染料。完成 寫入及讀取之波長為約300 nm至約800 nm。在一實施例 中，寫入及讀取係以約400 nm至約600 nm之波長而完成。 在另一實施例中，寫入及讀取係以約400至約550奈米之波 117504.doc -28- 200805359 長而70成。纟又一實施财’ f賣取波長如此以使得其自寫 入波長移位〇 nm至約400 nm。完成寫入及讀取之示範性波 長為約405奈米及約532奈米。在—實施例中，用一具有第 波長之王像干擾圖案照射光學透明基板以記錄資料。接 者用具有一第二波長之輻射照射光學透明基板以穩定化已 寫入之資料，且接著可使用具有一第三波長之輻射（例 如，一”讀取光束”）來讀取已穩定化之資料，其中每一步驟 處之軲射可獨立地具有自約3θθ nm至約^㈤之波長。 在一實施例中，第一、第二及第三波長可獨立地在約3〇〇 nm與約1500 nm之間。在一實施例中，用於將資料寫入且 $錄至全像資料儲存媒體上之第一波長（或寫入波長）係自 約375 nm至約450 nm。在另一實施例中，第一波長可為自 約3 55 nm至約550 nm。在一實施例中，第一波長在自約 375 nm至約450 nmi範圍内，且第二波長在自約45〇至約 1500 nm之範圍内。在另一實施例中，第一波長在自約45〇 nm至約550 nm之範圍内，且第二波長在自約55〇至約15〇〇 nm之範圍内。在又一實施例中，寫入波長如此以使得其自 已記錄之資料藉由第二波長之光的作用而穩定化的波長移 位0 nm至約600 nm。完成寫入及資料穩定化之示範性波長 為約405奈米（寫入）及約780奈米（穩定化）。 在一實施例中，光化學活性染料係基於光學透明基板之 總重量而以自約0.1至約10重量百分比的量而存在，且光 學透明基板具有在約300 nm與約800 ηιη之間之範圍内的至 少一波長處的在約0.1與約丨之間之範圍内的UV可見吸收 117504.doc -29- 200805359 率。單態氧產生劑係以-類似於或大於光化學活性染料之 莫耳量的莫耳量而存在。此等光化學活性㈣可與諸如黏 合劑之其他材料結合而使用以形成光活性材料，光活性材 料又用於製造全像資料儲存媒體。在一實施例中，开》成一 包括-光學透明塑性材料及—光化學活性染料及_單離氧 產生劑之光學透明基板的—膜。通f，該膜係藉由使用一 模製組合物之模製技術來製備，模製組合物係藉由將染 料、單態氧產生劑與一光學透明塑性材料混合來獲得。 用於產生全像資料儲存媒體中之光學透明塑性材料可包 括具有充分光學品質（例如，在所關心之波長處之低散 射低雙折射率及可略損耗）以使得全像儲存材料中之資 料可讀的任何塑性材料。 可使用諸如寡聚物、聚合物、樹枝狀聚合物、離聚物、 諸如敗段共聚物、無規共聚物、接枝共聚物、星形嵌段共 聚物之共聚物的有機聚合材料；或其類似物，或一包括前 述聚合物之至少一者的組合。可使用熱塑性聚合物或熱固 性聚合物。適合之熱塑性聚合物的實例包含聚丙烯酸酯、 聚甲基丙烯酸酯、聚醯胺、聚酯、聚烯烴、聚碳酸酯、聚 苯乙烯、聚酯、聚醯胺醯亞胺、聚芳酯化合物、聚芳砜、 聚醚砜、聚苯硫醚、聚颯、聚醯亞胺、聚醚醯亞胺、聚醚 酮、聚醚醚酮、聚醚酮酮、聚矽氧烷、聚胺酯、聚伸芳基 醚、聚醚、聚醚醯胺、聚醚酯或其類似物，或一包括前述 熱塑性聚合物之至少一者的組合。 若對電磁輻射不透明之有機聚合物可經改質以變得透 117504.doc -30- 200805359 明’則其亦可用於黏合劑組合物中。舉例而言，由於較大 微晶及/或球晶之存在，聚烯烴通常並非為光學透明的。 然而，藉由共聚合聚烯烴，可將其隔離成使得共聚物為光 學透明的奈米大小之域。 在一實施例中，有機聚合物可化學附著至光化學活性染 料。光化學活性染料可附著至聚合物之主鏈。在另一實施 例中，光化學活性染料可作為一取代基而附著至聚合物主 鏈。化學附著可包含共價鍵結、離子鍵結或其類似物。 適合之熱塑性聚合物的一些更可能實例包含（但不限於） 非晶系及半晶質熱塑性聚合物及聚合物摻合物，諸如：聚 氯乙烯、直鏈及環狀聚烯烴、氣化聚乙烯、聚丙烯及其類 似物；氫化聚砜、ABS樹脂、氫化聚苯乙烯、間規及雜排 聚苯乙烯、聚環己基乙烯、苯乙烯_丙烯腈共聚物、苯乙 烯-順丁烯二酸酐共聚物及其類似物；聚丁二烯、聚甲基 丙烯酸甲酯（PMMA)、曱基丙烯酸甲酯_聚醯亞胺共聚物^ 聚丙浠腈、聚縮路、聚苯醚，其包含（但不限於）由26_一 甲苯酚衍生之聚丙烯腈、聚縮醛、聚苯醚及與2,3,6•三甲 苯酚之共聚物，及其類似物；乙烯_乙酸乙烯酯共聚物、 聚乙酸乙烯酯、乙烯-四氟乙烯共聚物、芳族聚酯、聚氟 乙烯、聚偏二氟乙烯及聚偏二氯乙烯。 在一些實施例中，作為一基板用於本文中所揭示之方法 中的熱塑性聚合物由聚碳酸酯製成。聚碳酸酯可為芳族聚 碳酸酯、脂族聚碳酸酯或包括芳族與脂族結構單位之聚碳 酸酯。 117504.doc •31 - 200805359 聚碳酸酯可由此項技術中已知之任何方法產生。支鏈聚 碳酸酯以及直鏈聚碳酸酯與支鏈聚碳酸酯之摻合物亦有 用。較佳聚碳酸酯係基於雙酚A。較佳地，聚碳酸酯之重 量平均分子量為約5,000至約1〇〇,〇〇〇原子質量單位，更佳 為約1〇,〇〇〇至約65,000原子質量單位，且最佳為約15,〇〇〇 至約35,000原子質量單位。供形成全像資料儲存媒體中使 用的適合之熱塑性聚合物的其他特定實例包含Lexan(g>(聚 碳酸酯）及Ultem®(非晶系聚醚醯亞胺），其之兩者可在

General Electric公司購得。 有用熱固性聚合物之實例包含選自由環氧樹脂、酚樹 脂、聚矽氧烷、聚酯、聚胺酯、聚醯胺、聚丙烯酸酯、聚 甲基丙烯酸酯組成之群的熱固性聚合物或一包括前述熱固 性聚合物之至少一者的組合。 光化學活性染料可與其他添加劑混雜以形成一光活性材 料。此等添加劑之實例包含熱穩定劑；抗氧化劑；光穩定 劑’增塑劑；抗靜電劑；脫模劑；額外樹脂；黏合劑、發 泡劑，及其類似物，以及前述添加劑之組合。光活性材料 用於製造全像資料儲存媒體。 環脂族及芳族聚酯可用作用於製備光活性材料之黏合 劑。此等適合於與諸如聚碳酸酯之熱塑性聚合物配合使用 以形成光學透明基板。此等聚酯係光學透明的，且以聚碳 酸醋基質而具有經改良之耐氣候性、低吸水性及良好熔融 相容性。環脂族聚酯通常係藉由經常在一適合之催化劑的 存在下用二醇與二元酸或酸衍生物反應來製備。 117504.doc -32- 200805359 ' 用於形成光學透明基板及全像資料儲存媒體之聚 :物應月b夠耐文諸如在包含任何塗層或隨後之層的染色與 塗覆及模製成最終格式的步義間之處理參數，及隨後之 啫存條件適合之熱塑性聚合物在一實施例中具有約〗00 艺或更高之破璃轉變溫度，在另一實施例中具有約150。(： 或更门之破螭轉變溫度，且在又一實施例中具有約π 或更高2玻璃轉變溫度。具有2〇〇°C或更高之玻璃轉變溫 度的示範f生熱塑性聚合物包含某些類型之聚醚醯亞胺、聚 醯亞胺及包括前述之至少一者的組合。 圖1說明本發明之一實施例中之用於全像資料儲存及全 像貝料穩定化的過程10。一全像儲存媒體包括一第一光學 透明基板18且包含一透明主體材料12、一光化學活性染料 材料14及一單態氧產生劑材料16。一旦以一第一波長照 射，即將光化學活性染料14轉換至一第一光產物以提供一 光學可讀資料20。單態氧產生劑一旦以一第二波長活化即 產生單態氧22。單態氧產生劑之非限制實例包含單態氧感 光劑或單態氧前驅物或其組合。（在替代實施例中，活化 以自單態氧產生劑產生單態氧可藉由光活化或熱活化而發 生）。一旦產生了單態氧，單態氧22即與第一光產物2〇反 應且亦可與光化學活性染料14反應以導致至少一第一光穩 疋產物24(已穩定化之光學可讀資料）。在一些實施例中， 可在一給定時間在一作為一整體之全像媒體中或在該全像 媒體之一小部分或體積中進行穩定化之過程。僅穩定化全 像媒體之包含資料的一部分允許將來將額外資料寫入至全 117504.doc -33- 200805359 像媒體之可能性。 ”在-些實施例中，活化時間或媒體對—諸如熱，或光及 氧’或熱及光及氧之—組合的活化之源的曝露時間為小於 或約 6 0 秒。在 '一 ittj 发 AL ^ . ~他貝施例中，活化時間為小於或約3〇 秒。在更多實施例中，活化時間為小於或約10秒。在一實 施例中’活化時間在自約i分鐘至約10分鐘之範圍内。在

二貝施例中可同時或接連地施加一個以上活化（例 如，光及熱活化）之源以活化資料穩定化過程。 在寫入及穩定化全像資料之-非限制實例中，由化學式 (VI)所表不之開形二芳基乙烯以-雙卜’，"-羥苯基)_2，·甲 基嗟吩全氟環戊烯⑽麵。）如方程式7中所示，一 旦以約405奈米之波長照射，即經光化學轉化以形成由化 學式（νπ)所表示之閉形二芳基乙稀（Dae〇h。）。〇娜仏具 有不等於DAE〇H。之折射率〜的折射率ne。在一實施例 中 芳基乙稀之開與閉異構體之間的折射率改變大於約 10在另一 μ施例中，二芳基乙烯之開與閉異構體之間 的折射率改變大於約1〇-4。

為了防止自DAEOHj DAEOH。之逆反應，DAE〇Hc經受 一氧化反應，藉此將酚基氧化至酮基。在本發明之一實施 117504.doc -34- 200805359 例中，使用單態氧感光劑（8〇8)2，11，20,29-四-第三丁基-2,3-萘酞菁鋅（下文中為71^&”）（自Aldrich Chem. Co·購得 之CAS#39049-43-9)以產生單態氧，其與二芳基乙烯反應 以氧化DAEOHc。在一實施例中，以一大於405 nm之波長 執行導致單態氧之產生的ZnNa之感光化。在另一實施例 中，以一大於600 nm之波長執行導致單態氧之產生的ZnNa 之感光化。化學式（VIII)中所示之氧化DAE0Hc(DAE0C)的 折射率nQXC可與ne比較，且另外，（DAEOe)並不經受在讀取 及寫入波長處之光化學反應。因此，保存了全像資料，且 在讀取波長處之重複讀出並不破壞全像資料。因此，全像 資料相對於讀取/寫入波長係穩定且穩定化的。

如上文所論述，若在媒體之一部分或整體中並不分別預 期進一步寫入，則將任何殘餘染料固定於一部分或整個媒 體中係進一步有利的。除穩定化DAEOHc2外的產生單態 氧之步驟亦使能夠穩定化DAEOH。。如方程式9中所示，單 態氧亦可與DAE0H。相互作用，導致光穩定產物之形成。 在一些實施例中，光化學活性染料之光穩定產物可為 DAEOH。之一氧化產物。在本發明之一些實施例中，光化 學活性染料在與單態氧反應時可形成光穩定分解產物。 117504.doc -35- 200805359

光穩定產物 :卜，開及閉形二芳基乙烯之氧化反應產物並不：i相 :於彼此之轉化反應。因此，保存了所寫入之全像； (光學可讀資料）。 、枓 ^2及圖3中展示了一產生且穩定化全像資料的適合之全 像貝料儲存方法之一實例。使用一 ^ 土於貝之全像資料儲存 糸'，先26展不了圖2及圖3中所示的用於全像儲存之說 例’但該方法同等適用於按位元全像餘存。在如圖2中所 不之全像資料寫入組態中，藉由一光束分光器抑將來自 一雷射30之輸出分割成兩個相等光束。一第一光束36入射 於-諸如（但不限於）空間光調變器（SLm)或可變形鏡面裝 置（膽D)的調變器38上，且待儲存之資料經編碼至光束上 以提供-信號光束40。此等調變器通常包含可基於輸入電 信號而阻斷或透射光之若干像素。每一像素可表示待健存 之資料的-位元或一位元之一部分(一單一位元可消耗 SLM或DMD之-個以上像素）。信號光束4〇接著入射於儲 存媒體28上。-第二光束42人射於—鏡面料上，且反射光 束（參考光束46)以最小失真入射於儲存媒體以上。兩個光 束以不同角度在儲存媒體28之相同區域料上重合。兩個光 束40及46之重疊在其相交處產生一干擾圖案。全像儲存媒 體内之染料經受一光化學改變，該光化學改變導致曝露至 117504.doc -36 - 200805359 干擾雷射光束之區中的折射率之修改，且因此將所產生之 干擾圖案寫入至全像儲存媒體中，在儲存材料28中有效 地產生一光拇。 圖3說明本發明之一實施例中的用於增進全像資料之壽 命的過程。如上文所描述，增進資料之壽命可包含穩定化 一光產物及/或穩疋化一光化學活性染料。可使用一光源 54來穩定化全像資料。在一實施例中，光源可為一準直 源，且在另一實施例中，光源可為一擴散源。在一些實施 例中，光源可為一非相干源，且在其他實施例中，光源可 為一相干源。在一實施例中，全像儲存媒體52之僅一部分 56可藉由曝露至來自光源54之光而經受穩定化過程，留下 一未經穩定化之部分58。在另一實施例中，整個全像儲存 媒體52可曝露至來自光源54之光。在一些實施例中，光源 54可整合至全像資料儲存系統5〇。在其他實施例中，光源 可在全像資料儲存系統5〇外部。在一些實施例中，雷射源 3〇可為一倍頻雷射系統，其中一倍頻波長處之光可用以寫 入貝料，且一基波長處之光可用以穩定化資料。在一實施 例中，穩定化過程可在大氣氧的存在下進行。在另一實施 例中’穩定化過程可在富氧氣氛的存在下進行。應注意， 在某些實施例中，光源54位於全像儲存媒體52之相反側上 (相對於圖中所示之光源）。 在本發明之一實施例中，使用一系統6〇在圖4中展示一 用於讀取全像資料之方法。對於讀取全像資料而言，系統 組態類似於圖2中所示之寫入組態，但進一步包含使用一 117504.doc -37- 200805359 =一擋板之信號阻斷裝置64以阻斷自光束分光器34出射 的弟光束％。在一全傻傲古册 安如u 儲存媒體62中所產生之光柵或圖 ”、乏任何干擾光束時藉由用一擒板64阻斷第-光束36 而，露至參考光束46,且使用再生信號光束“來重建資 料在$施例中，讀取波長與寫入波長相同。在一些實 施例十，用於讀出之參考光束的功率通常為小於記錄時所 使用之功率的量值之約2 - 3階。

本發明之另—實施例中係—全像資料儲存媒體，其包含 一包括—光學透明塑性材料及—光化學活性染料之至少一 光穩定產物的光學透明基板。第—光穩定產物由—由光化 學活性染料在資料作為__全像圖之健存期間的光化學轉換 產生的光產物之氧化反應產生。 大吸收的函數。舉例而言，若峰值吸收如此以使得透射相 同波長處之光的僅1%，則可遠離峰值來選擇寫入波長以 使得材料透射自約25%至約75%之入射光。在一些狀況 下，透射率可自約40%至約60%變化，且在一些其他實施 例中具有約50%之透射率。 如熟習此項技術者應瞭解，不同分子將具有廣泛不同之 在-些實施例中，為了增進資料儲存效率，用於寫入之 波長並不與染料材料之最大吸收相符。此使能夠將實質上 更多之染料添加至全像儲存媒體中但仍維持一可管理吸收 係數以使得準確地儲存資料。可將適當量_定為染料之最 吸收曲線（較寬、較窄等）。因此，用於寫入及讀取本揭示 内谷之全像健存媒體的波長將取決於光源、基板及染料材 117504.doc -38- 200805359 枓。適δ於將資料寫入至全像儲存媒體中之波長可取決於 所使用之基板與染料材料而變化，且可自約375 nm至約 55〇nm，較佳地自約_脇至約54〇nm變化。 另一實施例中係用於製造—全像資料儲存媒體之另-方 法。該方法包含在-混合過程中將一光化學活性染料及一 早“產生劑併入有機聚合物中以形成一資料儲存組合 物。^混合過程之後，將資料儲存組合物模製成-可用作 全像資料儲存媒體之物件。模 偶表之只例可包含射出成形、 吹塑、壓縮模製、直空忐泌々廿& 成^或八類似物。經模製之物件可 具有任何幾何形狀。適合之幾何形狀的實例為圓形碟片、 方形板、多邊形或其類似形狀。物件之厚度可在一實施例 ^自至少_微米且在另—實施例中自至少刪微米變 可藉由其而將光化學活性染料及單態氧產生劑併入有機 聚合物中之混合過程可包含使用剪力、拉伸力、壓縮力、 超音波能、電磁能、熱能或包括前述力或能量之形式之至 少一者的組合，且在其中葬± ⑽ 、T精由一早一螺桿、多個螺桿、喻 ，共旋轉或相對旋轉螺桿、非嗔合共旋轉或相對 桿、往復螺桿、具有銷釘之螺桿、具有筛網之螺桿、、 銷針之機筒、親筒、撞鎚、螺旋狀轉子、隔板或包括前述 之至少一者的組合來施加前述力的設備中進行。 ^ 可在諸如單一或多個螺桿擠壓機、Buss捏合機 Henschel®混合機、螺旋形混合機、Eirich⑧混合機 混合機' Banbury®混合機、輥筒研磨機、諸如射出 117504.doc -39- 200805359 成形機、真空成形機、吹氣模製機之模製機，或其類似 物或包括4述機器之至少一者的組合之機器中進行混 合。或者，可在一溶液中溶解染料及光學透明塑性材料， 且可自溶液旋轉澆鑄光學透明基板之膜。 無需進一步闡明，咸信，熟習此項技術者可使用本文中 之描述來利用本發明至其最充分程度。包含下文之實例以 向熟習此項技術者在實踐所主張之發明中提供額外指導。 所提供之實例僅表示有助於本申請案之教示的工作。因 此，此等實例並不意欲以任何方式限制如附加之申請專利 範圍中所界定之本發明。 實例1 在免受光之保護下或在紅光條件下執行對所描述之化合 物的所有處理。將2 g光學品質PMMA(聚（甲基丙烯酸甲酯 溶解於10 ml的二氯甲烷中。將2 ml的此溶液置放於一琥珀 色小瓶中，且添加並溶解具有如（χ)中所示之結構式的3 mg之單態氧感光劑ZnNa(Aldrich Chemical Co.之 CAS 第 39049_43_92號的 2，11，20,29-四-第三丁基_2,3_萘酞菁鋅）。 最後添加且溶解具有結構式（VI)之2 mg的daEOH^Ij·雙 [5’-(4"_羥苯基）-2’-甲基噻吩_3，_基]全氟環戊烯）。接著將混 合物溶劑澆鑄至一玻璃載片上以形成一約1〇〇微米厚度之 膜且將該膜在適度真空下乾燥歷時24小時。 117504.doc -40- 200805359

(VI) 藉由使用具有1%之婊 （） 面波全像圖寫入至已效率的405⑽之設置來將一平 一位％ & 已乾燥之膜中。一平面波全像圖係一由 束及參考光束所產生的已記錄之干擾圖案。信 :u彡自為具有相同功率及光束大小之平面波，入射於 ’本上之相同位置處，在相同方向上偏振且彼此相干。盆 後’將讀取光束聚焦至全像圖上且監控繞射效率。繞料 率在一控制時間週期^内朝向零衰減。 實例2 如上文在實例1中所描述地製備一相同膜樣本且以一與 較早所描述之方式相同的方式在4〇5 nm處寫入一全像圖。 將已寫入之資料在氧之氣氛下曝露至78〇 nm光（在含有在 117504.doc -41 - 200805359 405 nm處寫入至媒體中之全像圖的5 mm區域上為100 mW) 之未聚焦雷射光束歷時1小時。接下來，藉由使用一 405 nm讀取雷射光束來監控全像圖之衰減。將該光束聚焦至全 像圖上且監控繞射效率。在時間h處之繞射效率高於對於 控制所觀測之繞射效率。 實例3 製備開形二芳基乙烯（1，2-雙[5、(4"_羥苯基）-2’-曱基噻 吩-3’-基]-全氟環戊烯，DAEOH。，結構式（VI))在乙腈溶劑 中之溶液（樣本A)。圖5展示在曝露至405 nm漂白輻射之前 及之後的吸收率（Y軸68)與波長（X軸70)之變化。在曝露至 漂白輻射之前量測吸收曲線72。接著使樣本A經受405 nm 之波長處的漂白輻射歷時9分鐘。再次量測吸收率對波長 曲線74。曲線74在約600 nm處顯示一主峰，在漂白曝露之 前並未在吸收曲線72中觀測到該主峰，其指示一作為漂白 曝露之結果的光產物之存在。雖然申請人並不希望受任何 特殊理論約束，但咸信，一旦曝露至405 nm處之漂白輻 射，開形二芳基乙烯（DAEOH。）即經受一環化反應以形成 閉形二芳基乙烯（DAEOHc)(光產物）。405 nm處之漂白過程 之後係一 532 nm處之漂白過程。圖5中之曲線76說明在532 nm處之5分鐘漂白曝露之後的吸收與波長之變化。看出， 曲線72及76重疊，指示一旦以532 nm漂白，閉形二芳基乙 烯即回復至開形二芳基乙烯。此實例說明可使用405 nm波 長之光來起始開形二芳基乙烯（’’DAE。”）至閉形二芳基乙烯 (MDAEC”）之環化反應，其可用以儲存可重寫全像資料。此 117504.doc -42- 200805359 實例進一步說明用532 nm波長之光的照明起始自閉形二芳 基乙烯至開形二芳基乙烯之轉換，其可擦除已寫入之全像 資料。 製備閉形二芳基乙烯（1，2-雙[5’-(4"-羥苯基）-2’-甲基噻 吩-3’-基]-全氟環戊烯，DAEOHe，結構式（VII))在乙腈溶 劑中之溶液（樣本B)且添加ZnNa。使樣本B經受一在780 nm 之波長處的漂白曝露歷時1 5分鐘以產生單態氧。圖6展示 在曝露至780 nm處之漂白輻射之前及之後的吸收率（Y軸68) 與波長（X軸70)之變化。在曝露至780 nm處之漂白輻射之 前及之後量測吸收曲線78及80。在以780 nm漂白之後，溶 液在600 nm與780 nm處皆顯示減小之吸收。雖然申請人並 不希望受任何特殊理論約束，但咸信，一旦曝露至780 nm 處之漂白輻射，感光化之ZnNa即使能夠產生單態氧，單態 氧與閉形二芳基乙烯（DAEOHc)反應，將DAEOHc氧化至· DAEOc，預期DAEOc對於532 nm處之照射係穩定的，該照 射否則將導致DAEOHc之環化的倒逆。 為了判定樣本B在以780 nm漂白之後對於以532 nm照射 是否穩定，使溶液經受一 532 nm處之額外漂白曝露歷時10 分鐘。圖7中展示了在以532 nm漂白之前及之後的吸收率 對波長曲線82及84，針對光穩定產物（DAEOc)之形成而舉 例說明以532 nm漂白對樣本具有可略效應。 製備開形二芳基乙烯（1，2-雙[5’-(4"_羥苯基）-2’-甲基噻 吩-3’-基]-全氟環戊烯，DAEOH。）及ZnNa在乙腈溶劑中之 溶液（樣本C)。使溶液經受一在780 nm處之漂白輻射歷時5 117504.doc -43- 200805359 分鐘，然後係一對405 nm處之輻射的漂白曝露。圖8展示 在漂白曝露至780 nm之波長處的輻射然後曝露至4〇5 nmi 波長處的輻射之前及之後的吸收率對波長曲線86及88。雖 然申請人並不希望受任何特殊理論約束，但咸信，一旦曝 露至780 nm處之漂白輻射，感光化之使能夠產生單 悲氧，單態氧與開形二芳基乙烯（DAE〇H〇)反應，氧化 DAEOHo’預期DAEOHo對於405 nm處之輻射係穩定的。 實例舉例說明穩定化開形二芳基乙烯。 以上在本文中所描述之全像資料儲存方法及物件具有許 多優點，該等優點包含提供具有增進之資料儲存壽命之全 像資料儲存，導致此基於光化學活性染料之全像儲存媒體 的更大商業生存力。 雖然本文中已說明且描述了本發明之僅某些特徵，但熟 習此項技術者將進行許多修改及改變。因此，應瞭解，附 加之申請專利範圍意欲覆蓋如屬於本發明之真實精神的所 有此等修改及改變。 【圖式簡單說明】 圖1為本發明之一實施例中之全像資料儲存及穩定化的 示意表示； 圖2為本發明之一實施例中之一全像資料儲存系統的示 意表示； 圖3為本發明之一實施例中之一全像資料儲存系統的示 意表示； 圖4為本發明之一實施例中之一全像資料儲存系統的示 117504.doc -44- 200805359 圖5為說明本發明之一實施例中的在曝露至一特定波長 的光之前及之後，一包含一光化學活性染料的媒體之吸收 率與波長之變化的圖表； 圖6為說明本發明之一實施例中的在曝露至一特定波長 的光之前及之後，一包含一光化學活性染料之一光產物及 一單態氧感光劑的媒體之吸收率與波長之變化的圖表； 圖7為說明本發明之一實施例中的在曝露至一特定波長 的光之前及之後，一包含一光化學活性染料之一光產物之 一光穩定產物的媒體之吸收率與波長之變化的圖表； 圖8為說明本發明之一實施例中的在曝露至一特定波長 的光之前及之後，一包含一光化學活性染料及一單態氧感 光劑的媒體之吸收率與波長之變化的圖表。 【主要元件符號說明】 10 用於全像資料儲存之過程 12 透明主體材料 14 光化學活性染料材料 16 單態氧產生劑材料 18 光學透明基板 20 光學可讀資料 22 單態氧 24 已穩定化之光學可讀資料 26 全像資料館存系統 28 儲存媒體 117504.doc 200805359 30 雷射 32 自雷射輸出之光 34 光束分光器 36 第一光束 38 光調變器 40 信號光束 42 第二光束 44 鏡面 46 參考光束 48 信號光束與參考光束重合處之區域 50 全像資料儲存系統 52 全像儲存媒體 54 光源 56 全像儲存媒體52之一部分 58 全像儲存媒體52之未經穩定化之部分 60 用於讀取全像資料之系統 62 全像儲存媒體 64 信號阻斷裝置 66 再生信號光束 68 Y軸 70 X軸 72 在漂白之前的二芳基乙烯VI(樣本A)之吸 收頻譜 74 樣本A在以405 nm照射歷時9分鐘之後的 117504.doc -46- 200805359 吸收頻譜 76 樣本A在以405 nm照射歷時9分鐘及以532 nm照射歷時5分鐘之後的吸收頻譜 78 在漂白之前的化合物VII及感光劑

ZnNa(樣本B)之吸收頻譜 80 樣本B在以780 nm照射歷時15分鐘之後的 吸收頻譜 82 樣本B在以780 nm照射歷時15分鐘之後的 吸收頻譜（與80相同） 84 樣本B在以780 nm照射歷時15分鐘及以 5 3 2 nm照射歷時10分鐘之後的吸收頻譜 86 在漂白之前的二芳基乙烯VI及感光劑

ZnNa(樣本C)之吸收頻譜 88 樣本C在以780 nm照射歷時5分鐘及以405 nm照射之後的吸收頻譜 117504.doc -47-

Claims (1)

1. 200805359 十、申請專利範圍： 1 · 一種用於儲存全像資料之方法，該方法包括·· 步驟（A)，其提供一包括一光化學活性染料及一單態 氧產生劑之光學透明基板； 步驟（B)，其用一全像干擾圖案照射該光學透明基板， 其中該圖案具有一第一波長及一強度，該第一波長及該 強度皆足以在該基板之一體積元素内將該光化學活性染 料之至少一些轉換成一光產物，且在該經照射之體積元 素内產生對應於該全像干擾圖案的該光產物之濃度變 化’藉此產生一對應於該體積元素之光學可讀資料；及 步驟（C)，其活化該光學透明基板以產生單態氧來穩定 化该光學可讀資料。 2·如請求項1之方法，其中該活化步驟係藉由以足以產生 單態氧之一第二波長及一強度光活化來完成，其中該單 態氧與該光產物及/或該光化學活性染料反應以穩定化該 光學可讀資料。 3·如請求項1之方法，其中該活化步驟係藉由用足以產生 單悲氧之熱能熱活化來完成，其中該單態氧與該光產物 及/或該光化學活性染料反應以穩定化該光學可讀資料。 4·如請求項1之方法，其中該光產物包括光分解產物、氧 化之產物、還原之產物、鍵斷裂之產物或分子重排產 物。 5·如5青求項1之方法，其中該光產物包括光穩定分解產 物光穩定氧化之產物、光穩定還原之產物、光穩定鍵 117504.doc 200805359 斷裂之產物或光穩定分子重排產物。 6 ·如明求項1之方法，其中該光化學活性染料係一選自由 鄰二芳基乙烯、硝酮、硝基芪及其組合組成之群的染料 材料。 7.如明求項1之方法，其中該光化學活性染料係一選自由 二芳基全氟環戊烯、二芳基順丁烯二酸酐、二芳基馬來 酿亞胺及其組合組成之群的鄰二芳基乙烯。 8 ·如明求項1之方法，其中該光化學活性染料係一鄰二芳 基乙烯，其中該鄰二芳基乙烯具有結構（I) /(R^e z1 、z2 Ar1 Ar2 ⑴ 其中e為〇或1;Rl為一鍵、氧原子、經取代之氮原 子、硫原子、硒原子、二價C1_CM脂族基、鹵化二價 C2〇月曰知基、一價環脂族基、鹵化二價Ci_CM環脂 私基或—價CrCw芳基；Arl&Ar2每一者獨立地為c2-c40 方基或C2_C4G雜芳基；且Z1及Z2獨立地為一鍵、氫原 子、單價CVC2G脂族基、二價Ci_c2G脂族基 '單價C3_c2〇 衣月曰私基、一價環脂族基、單價c2-c3G芳基或二價 C2-C3Q 芳基。 月求員1之方法，其中該光化學活性染料具有結構 (VI)： 117504.doc 200805359

   ίο. 11. 12. 13. 14. 15. 如請求項1之方法，其中該光化學活性染料係基於該光 學透明基板之總重量而以自約0.1至約10重量百分比的量 存在。 如請求項1之方法，其中該單態氧產生劑包括一選自由 單態氧感光劑、單悲氧别驅物及其組合組成之群的化合 物0 如請求項11之方法，其中該單態氧產生劑包括一選自由 亞曱基藍、甘菊環、孟加拉玫紅、2，_萘乙酮、萘、萘衍 生物、酞菁、酞菁衍生物、萘酞菁、萘酞菁衍生物、卟 :、卟吩衍生物、蒽、蒽衍生物及其組合組成之群的單 怨氧感光劑。 =请求項11之方法，其中該單態氧產生劑包括一選自由 奈内過#1化物及蒽内過氧化物、W-雙取代萘過氧化物 及况(2,3-二羥基丙基）-丨’肛萘二丙醯胺、二苯 土二、過氧化物、丨，4_二苯基蒽過氧化物及其組合組成之 群的單態氧前驅物。 的莫耳 光學透 曰:東員1之方法，其中存在之該單態氧產生劑 里係大於或等於該光化學活性染料之莫耳量。 月长項1之方法，其中該光學透明基板包括一 明塑性材料。 117504.doc 200805359 16 17. 18. 19. 20. 21. 22. 23. 24. ’如明求項1之方法，其中該光學透明基板包括一熱塑性 承口物、一熱固性聚合物或一熱塑性聚合物及一熱固性 聚合物之組合。 如明求項16之方法，其中該熱塑性聚合物包括一聚碳酸 酉I c 士明求項1之方法，其中該第一波長經選擇以在自約300 奈米至約800奈米之範圍内。 士明求項1之方法’其中該光化學活性染料之UV可見吸 收率在在約300奈米與約550奈米之間之範圍内的波長處 係在約〇· 1與約1之間的範圍内。 如明求項2之方法，其中該第二波長經選擇以在自約3〇〇 nm至約1500 nm之範圍内，其中該第二波長不等於該第 一波長，且其中該光化學活性染料在該第二波長處之吸 收小於約〇. 1。 如明求項2之方法，其中該第二波長經選擇以在自約 nm至約1500 nmi範圍内，其中該第二波長比該第一波 長長，且其中該光化學活性染料在該第二波長處之該吸 收小於約0.1。 如請求項1之方法，其中該光學透明基板為至少1〇〇裰米 厚。 一種製造一全像資料儲存媒體之方法，該方法包括： 形成包括光學透明塑性材料、光化學活性染料及單態 氧產生劑之光學透明基板的一膜。 如請求項23之方法，其中該光學透明基板為至少1〇〇微 117504.doc 200805359 米厚；且包括基於該光學透明基板之—總重量而為—對 應於自約（M至約㈣量百分比之量的該光化學活性毕 料，且在-經選擇以在自約3〇〇奈米至約8〇〇奈米之範圍 内的第一波長處具有在自約O.m之範圍内的uv可見吸 收率’其中存在之該單態氧產生劑之莫耳量料於或大 於存在之該光化學活性染料之莫耳量。 25 26. 27. 28. 29. 如請求項23之方法，其中葬由_捃制 T糟由杈製技術來形成該光學 透明基板之該膜。 如請求項23之方法，其中蕤ώ # 甲猎由一旋轉澆鑄技術來形成該 光學透明基板之該膜。 如請求項23之方法，其中該光學透明塑性材料包括一熱 塱性聚口物、一熱固性聚合物或一熱塑性聚合物及一熱 固性聚合物之組合。 一種全像資料儲存媒體，其包括： 一光學透明塑性材料； 一光化學活性染料，·及 一單態氧產生劑。 一種資料儲存媒體，其具有儲存於其中的至少一光學可 讀資料，該資料儲存媒體包括： 一光學透明塑性材料； 一光化學活性染料； 一單態氧產生劑； 一由該光化學活性染料衍生之光產物； -由該光化學活性染料、該光產物或其組合衍生之光 117504.doc 200805359 穩定產物；且 其中將該光學可讀資料儲存為一在該光學透明基板之 至少一體積元素内圖案化的全像圖。 3 0· —種光學寫入/讀取方法，其包括： 步驟（A)，其用一全像干擾圖案照射一包括光化學活 性染料及單態氧產生劑之光學透明基板，其中該圖案具 有一第一波長及一強度，該第一波長及該強度皆足以在 該基板之一體積元素内將該光化學活性染料之至少一些 轉換成一光產物，且在該經照射之體積元素内產生對應 於该全像干擾圖案的該光產物之濃度變化，藉此產生一 對應於該體積元素之第一光學可讀資料；其中該全像干 擾圖案係藉由用在該第一波長處之兩個干擾光束同時照 射該光學透明基板來產生； 步驟（B)，其活化該光學透明基板以產生單態氧來穩定 化該光學可讀資料；及 、 步驟（C)，其用一讀取光束照射該光學透明基板且藉由 偵測繞射光來讀取該光學可讀資料。 31·如請求項30之方法，其中該兩個干擾光束包括一對應於 - 資料之信號光束及一不對應於資料之參考光束。 - 32.如請求項30之方法，其中該活化包括以足以產生單態氧 之一第二波長及一強度光活化以穩定化該光學可讀資 料。 33.如請求項30之方法，其中該讀取光束具有一自該信號光 束之波長移位1奈米至約400奈米的波長。 117504.doc 200805359 該第二波長及該 34.如請求項30之方法，其中該第一波長、 讀取光束皆具有不同波長。 117504.doc