JPS60227282A - ホログラム記録用感光材料およびホログラム製造方法 - Google Patents
ホログラム記録用感光材料およびホログラム製造方法Info
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- JPS60227282A JPS60227282A JP8451384A JP8451384A JPS60227282A JP S60227282 A JPS60227282 A JP S60227282A JP 8451384 A JP8451384 A JP 8451384A JP 8451384 A JP8451384 A JP 8451384A JP S60227282 A JPS60227282 A JP S60227282A
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- hologram
- dihydroxy
- dione
- photosensitive material
- vinylcarbazole
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/72—Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705
- G03C1/73—Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705 containing organic compounds
- G03C1/733—Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705 containing organic compounds with macromolecular compounds as photosensitive substances, e.g. photochromic
-
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- G—PHYSICS
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
- G03F7/001—Phase modulating patterns, e.g. refractive index patterns
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(a)0発明の技術分野
本発明はホログラム記録用の感光材料に係り、特に重合
体における光化学的架橋反応を利用してホログラムを記
録する方式で用いられる感光材料に関する。
体における光化学的架橋反応を利用してホログラムを記
録する方式で用いられる感光材料に関する。
(b)、技術の背景
ホログラムはレーザ等の可干渉性光の干渉波面を、写真
フィルム等に記録したものであって、近年光学像の記録
のみならず、情報処理の分野においても情報の記録ある
いはその回折現象を利用した光ビームの走査、例えばP
OS (Paint−of−3ale)システムにお
けるバーコード読み取り装置、あるいはレーザプリンタ
等に用いられている。
フィルム等に記録したものであって、近年光学像の記録
のみならず、情報処理の分野においても情報の記録ある
いはその回折現象を利用した光ビームの走査、例えばP
OS (Paint−of−3ale)システムにお
けるバーコード読み取り装置、あるいはレーザプリンタ
等に用いられている。
図はホログラム作製用三光束干渉装置のブロック図であ
る。
る。
図において、レーザlから発したレーザ光はシャッタ2
を通過後ミラー3により反射され、その反射光はハーフ
ミラ−4を通過してミラー6で反射され、その反射光は
コリメータフにより平行光束になり感光板9に入射され
る。この際ハーフミラ−4により1部反射された光はミ
ラー5により反射されコリメータ8を経由して、前記ミ
ラー6よりの反射光の入射角と、符合が反対で絶対値が
等しい入射角で感光板9に入射され、2つの光束による
干渉波面が感光板9に記録される。ここで両方の入射光
のなす角度をθとする。ホログラム作製において、ホロ
グラムの解像度を表す記録密度、即ち空間周波数fは次
式で表される。
を通過後ミラー3により反射され、その反射光はハーフ
ミラ−4を通過してミラー6で反射され、その反射光は
コリメータフにより平行光束になり感光板9に入射され
る。この際ハーフミラ−4により1部反射された光はミ
ラー5により反射されコリメータ8を経由して、前記ミ
ラー6よりの反射光の入射角と、符合が反対で絶対値が
等しい入射角で感光板9に入射され、2つの光束による
干渉波面が感光板9に記録される。ここで両方の入射光
のなす角度をθとする。ホログラム作製において、ホロ
グラムの解像度を表す記録密度、即ち空間周波数fは次
式で表される。
f=2[5in(θ/2))/λ
ここで、λはレーザの波長。
従って、f、θ、λ間にはつぎのような関係がある。
レーザとして波長の長い、例えばヘリウム−ネオン(l
(e−He)レーザ(632,8nm)を用いて、高い
空間周波数、例えば2500本7mmを得ようとすると
θ=110”とθは極めて大きくなり、光学系が煩雑か
つ露光処理が不安定になってしまう。
(e−He)レーザ(632,8nm)を用いて、高い
空間周波数、例えば2500本7mmを得ようとすると
θ=110”とθは極めて大きくなり、光学系が煩雑か
つ露光処理が不安定になってしまう。
一方、波長の短いレーザ、例えばHe−Cdレーザ(3
25,0nm)を用いると、おなし空間周波数を得るた
めのθは56°と約半分になり光学系は簡素化ならびに
安定化される。
25,0nm)を用いると、おなし空間周波数を得るた
めのθは56°と約半分になり光学系は簡素化ならびに
安定化される。
(C)、従来技術と問題点
従来、ホログラム記録材料としては、写真に用いられる
銀塩乳剤、重クロム酸−ゼラチン系の感光材、あるいは
表面の微少凹凸縞として干渉縞を記録するサーモプラス
チック等が実用化されている。
銀塩乳剤、重クロム酸−ゼラチン系の感光材、あるいは
表面の微少凹凸縞として干渉縞を記録するサーモプラス
チック等が実用化されている。
しかしながら、上記の記録材料についてはつぎのような
諸欠点を有する。
諸欠点を有する。
即ち、上記の感光材料はゼラチン膜を結合剤として用い
ているために耐湿、耐熱、耐光性が低い。
ているために耐湿、耐熱、耐光性が低い。
一方、サーモプラスチックにおいては可能な干渉縞密度
(単位長さ当たりの稿本数)が低く高性能のホログラム
を得ることが困難であり、かつホログラムの再生に特殊
な光学系が必要であること等である。
(単位長さ当たりの稿本数)が低く高性能のホログラム
を得ることが困難であり、かつホログラムの再生に特殊
な光学系が必要であること等である。
これに対して、有機ハロゲン化合物を含んだポリビニル
カルバゾール系の高分子感光材料が提案されている(例
えば、特開昭53−15153、特開昭5440134
3および特開昭54−102140等)。この感光材料
は高分子間の光化学的架橋反応を利用してホログラムを
記録するもので、この架橋反応に与かる架橋剤として有
機ハロゲン化合物を用いており、上記従来の記録材料に
比して耐環境性(耐湿、耐熱、耐光性等)、解像度等に
優れているが、有機ハロゲン化合物の化学的安定性に起
因する取扱上の難点があった。
カルバゾール系の高分子感光材料が提案されている(例
えば、特開昭53−15153、特開昭5440134
3および特開昭54−102140等)。この感光材料
は高分子間の光化学的架橋反応を利用してホログラムを
記録するもので、この架橋反応に与かる架橋剤として有
機ハロゲン化合物を用いており、上記従来の記録材料に
比して耐環境性(耐湿、耐熱、耐光性等)、解像度等に
優れているが、有機ハロゲン化合物の化学的安定性に起
因する取扱上の難点があった。
cd)0発明の目的
本発明の目的は従来技術の有する上記の欠点を除去し、
従来の上記記録材料より、化学的に安定で、高い解像度
、耐湿性、耐熱性、耐光性を有するホログラム感光材料
を得ることにある。
従来の上記記録材料より、化学的に安定で、高い解像度
、耐湿性、耐熱性、耐光性を有するホログラム感光材料
を得ることにある。
(e)1発明の構成
上記の目的は、ポリ−N−ビニルカルバゾールと、光化
学的架橋剤として3.4−ジヒドロキシ−3−シクロブ
テン−1,2−ジオン、および光増感材として色素を含
む本発明によるホログラム記録材料、およびポリ−N−
ビニルカルバゾールと、光化学的架橋剤として3,4−
ジヒドロキシ−3−シクロブテン−1,2−ジオン、お
よび光増感材として色素を含むホログラム記録材料に、
520n++以下の波長をもつレーザの干渉パターンを
露光する工程を有する本発明によるホログラム製造方法
により達成される。
学的架橋剤として3.4−ジヒドロキシ−3−シクロブ
テン−1,2−ジオン、および光増感材として色素を含
む本発明によるホログラム記録材料、およびポリ−N−
ビニルカルバゾールと、光化学的架橋剤として3,4−
ジヒドロキシ−3−シクロブテン−1,2−ジオン、お
よび光増感材として色素を含むホログラム記録材料に、
520n++以下の波長をもつレーザの干渉パターンを
露光する工程を有する本発明によるホログラム製造方法
により達成される。
本発明によれば、ホログラム記録感光材料としてポリ−
N−ビニルカルバゾールと、光化学的架橋剤として3,
4−ジヒドロキシ−3−シクロブテン−1,2−ジオン
を主体とし、さらに光化学的架橋反応を促進させるため
に、3,4−ジヒドロキシ−3−シクロブテン−1,2
−ジオンより長波長側に極大吸収波長を有する増感剤を
含ませることにより、耐湿性に優れ、かつ長波長のレー
ザに高感度の記録材料が得られる。
N−ビニルカルバゾールと、光化学的架橋剤として3,
4−ジヒドロキシ−3−シクロブテン−1,2−ジオン
を主体とし、さらに光化学的架橋反応を促進させるため
に、3,4−ジヒドロキシ−3−シクロブテン−1,2
−ジオンより長波長側に極大吸収波長を有する増感剤を
含ませることにより、耐湿性に優れ、かつ長波長のレー
ザに高感度の記録材料が得られる。
なお、3.4−ジヒドロキシ−3−シクロブテン−1,
2−ジオンはつぎの化学式を有する。
2−ジオンはつぎの化学式を有する。
(f)9発明の実施例
以下に本発明の一実施例を説明する。
ポリ−N−ビニルカルバゾール Log(西南香料産業
、ツビコールT−210)3,4−ジヒドロキシ−3−
シクロブテン−1,2−ジオン(アルドリッチ) 1g
チオフラビン 0.3g クロロホルム(関東化学) 150g 上記組成の感光液を70mmX 70mmX 1n+m
のガラス基板上に、乾燥後の膜厚が2μmになるように
スピンコード法により暗所で塗布した後、60℃で30
分間加熱乾燥し、ホログラム記録用感光板を作製した。
、ツビコールT−210)3,4−ジヒドロキシ−3−
シクロブテン−1,2−ジオン(アルドリッチ) 1g
チオフラビン 0.3g クロロホルム(関東化学) 150g 上記組成の感光液を70mmX 70mmX 1n+m
のガラス基板上に、乾燥後の膜厚が2μmになるように
スピンコード法により暗所で塗布した後、60℃で30
分間加熱乾燥し、ホログラム記録用感光板を作製した。
なお、クロロホルムは溶剤として用いた。
この感光板を図に示すArレーザ(488nm、θ=3
0°)を用いたホログラム作製用光学系でホログラム記
録を行い、つぎにトルエン蒸気で現像した後、n−ペン
タン中に浸漬してホログラムを得た。
0°)を用いたホログラム作製用光学系でホログラム記
録を行い、つぎにトルエン蒸気で現像した後、n−ペン
タン中に浸漬してホログラムを得た。
解像度1000本/mm、回折効率72%の高品質のホ
ログラムが作製できた。なお、このときの露光エネルギ
は300mJ/cm”であった。
ログラムが作製できた。なお、このときの露光エネルギ
は300mJ/cm”であった。
上記の実施例において、Arレーザの代わりにHe−C
dレーザ(325nm)を用いたとたろ、露光量20m
J/cm”で、解像度1600本/mm、回折効率75
%のホログラムが得られ、この材料が短波長でも高感度
であることがわかる。
dレーザ(325nm)を用いたとたろ、露光量20m
J/cm”で、解像度1600本/mm、回折効率75
%のホログラムが得られ、この材料が短波長でも高感度
であることがわかる。
(g)0発明の効果
以上詳細に説明したように本発明によれば、従来の記録
材料より、化学的に安定で、高い解像度、耐湿性、耐熱
性、耐光性を有するホログラム感光材料を得ることがで
きる。
材料より、化学的に安定で、高い解像度、耐湿性、耐熱
性、耐光性を有するホログラム感光材料を得ることがで
きる。
図はホログラム作製用三光束干渉装置のブロック図であ
る。 図において、1はレーザ、2はシャッタ、3゜5.6は
ミラー、4はハーフミラ−17,8はコリメータ、9は
感光板を示す。
る。 図において、1はレーザ、2はシャッタ、3゜5.6は
ミラー、4はハーフミラ−17,8はコリメータ、9は
感光板を示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ■、ポリーN−ビニルカルバゾールと、光化学的架橋剤
として3.4−ジヒドロキシ−3−シクロブテン−1,
2−ジオン、および光増感材として色素を含むことを特
徴とするホログラム記録材料。 2、ポリ−N−ビニルカルバゾールと、光化学的架橋剤
として3,4−ジヒドロキシ−3−シクロブテン−1,
2−ジオン、および光増感材として色素を含むホログラ
ム記録材料に、520nm以下の波長をもつレーザの干
渉パターンを露光する工程を有することを特徴とするホ
ログラム製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8451384A JPS60227282A (ja) | 1984-04-26 | 1984-04-26 | ホログラム記録用感光材料およびホログラム製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8451384A JPS60227282A (ja) | 1984-04-26 | 1984-04-26 | ホログラム記録用感光材料およびホログラム製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60227282A true JPS60227282A (ja) | 1985-11-12 |
Family
ID=13832715
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8451384A Pending JPS60227282A (ja) | 1984-04-26 | 1984-04-26 | ホログラム記録用感光材料およびホログラム製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60227282A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63160476U (ja) * | 1987-04-09 | 1988-10-20 |
-
1984
- 1984-04-26 JP JP8451384A patent/JPS60227282A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63160476U (ja) * | 1987-04-09 | 1988-10-20 |
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