JPS612181A - ホログラム製造方法 - Google Patents
ホログラム製造方法Info
- Publication number
- JPS612181A JPS612181A JP12067084A JP12067084A JPS612181A JP S612181 A JPS612181 A JP S612181A JP 12067084 A JP12067084 A JP 12067084A JP 12067084 A JP12067084 A JP 12067084A JP S612181 A JPS612181 A JP S612181A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hologram
- crosslinking agent
- polymer
- photosensitive material
- photosensitive
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 39
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 claims abstract description 22
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 18
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 18
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- 125000000609 carbazolyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 claims abstract description 8
- 229920003227 poly(N-vinyl carbazole) Polymers 0.000 claims abstract description 7
- 229930006711 bornane-2,3-dione Natural products 0.000 claims abstract description 4
- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims description 12
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 10
- 125000006413 ring segment Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000002362 bornane-2,3-dione group Chemical group 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 10
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 abstract description 9
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 abstract description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 5
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 238000005336 cracking Methods 0.000 abstract description 4
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 abstract description 4
- VNQXSTWCDUXYEZ-LDWIPMOCSA-N (+/-)-Camphorquinone Chemical compound C1C[C@@]2(C)C(=O)C(=O)[C@@H]1C2(C)C VNQXSTWCDUXYEZ-LDWIPMOCSA-N 0.000 abstract description 3
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 abstract description 3
- 239000004033 plastic Substances 0.000 abstract description 3
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 abstract description 3
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 abstract description 2
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 6
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 abstract 3
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 abstract 1
- JADVWWSKYZXRGX-UHFFFAOYSA-M thioflavine T Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1C1=[N+](C)C2=CC=C(C)C=C2S1 JADVWWSKYZXRGX-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract 1
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 6
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 5
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 4
- JXDYKVIHCLTXOP-UHFFFAOYSA-N isatin Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(=O)NC2=C1 JXDYKVIHCLTXOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 206010042674 Swelling Diseases 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 238000001093 holography Methods 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004971 Cross linker Substances 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 230000010365 information processing Effects 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 150000002896 organic halogen compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000012815 thermoplastic material Substances 0.000 description 2
- QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M (4z)-1-(3-methylbutyl)-4-[[1-(3-methylbutyl)quinolin-1-ium-4-yl]methylidene]quinoline;iodide Chemical compound [I-].C12=CC=CC=C2N(CCC(C)C)C=CC1=CC1=CC=[N+](CCC(C)C)C2=CC=CC=C12 QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- MJHPJDOKQOLLMJ-UHFFFAOYSA-N 1,1,4,4-tetramethylnaphthalene-2,3-dione Chemical compound C1=CC=C2C(C)(C)C(=O)C(=O)C(C)(C)C2=C1 MJHPJDOKQOLLMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UKUVVAMSXXBMRX-UHFFFAOYSA-N 2,4,5-trithia-1,3-diarsabicyclo[1.1.1]pentane Chemical compound S1[As]2S[As]1S2 UKUVVAMSXXBMRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- -1 and propatool Chemical compound 0.000 description 1
- 239000003098 androgen Substances 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 229920005601 base polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- ZLSMCQSGRWNEGX-UHFFFAOYSA-N bis(4-aminophenyl)methanone Chemical class C1=CC(N)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N)C=C1 ZLSMCQSGRWNEGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIZLQMLDSWKZGC-UHFFFAOYSA-N cadmium helium Chemical compound [He].[Cd] UIZLQMLDSWKZGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- ZFLIKDUSUDBGCD-UHFFFAOYSA-N parabanic acid Chemical compound O=C1NC(=O)C(=O)N1 ZFLIKDUSUDBGCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 230000008707 rearrangement Effects 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
- G03F7/001—Phase modulating patterns, e.g. refractive index patterns
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/04—Processes or apparatus for producing holograms
- G03H1/18—Particular processing of hologram record carriers, e.g. for obtaining blazed holograms
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Holo Graphy (AREA)
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明に、ホログラフィじ関し、さら(二詳しく述べる
と、重合体の架橋反応ン利用したホログラム記録用感光
材料を使用してホログラム製造方法する方法に関する。
と、重合体の架橋反応ン利用したホログラム記録用感光
材料を使用してホログラム製造方法する方法に関する。
特覗−2不発明汀、カルバゾール環を有1−る重合体、
この重合体の環原子と置換可能なラジカル乞光照射(−
9よって放出可能な架橋剤及び増感剤を含むホログラム
記録用/i8元材料を使用してホログラムを製造する方
法(−関する。
この重合体の環原子と置換可能なラジカル乞光照射(−
9よって放出可能な架橋剤及び増感剤を含むホログラム
記録用/i8元材料を使用してホログラムを製造する方
法(−関する。
従来の技術
ホログラフィ−は、簡単(−述べると、光波の干渉性2
用い、物体から出る波面乞例えば写真感光t4料などσ
)、1.うな記録材料し記録し、それt照明して波面を
再生する技術であり、また、ホログラムは、ホログラフ
ィ(−おいて、物体から出る光波を、それと干渉性があ
る光波と干渉させて、例えば写真感光材料などの、Lり
な記録材料に記録しまたものである。ホログラムは、近
年、光学像の記録のみならず、情報処理の分野(二おい
ても、情報の記録あるいはその回折現象乞利用した元ビ
ームの走査に広く用いられている0具体例乞示すと、例
えば、POS(Point、−of−8ale)システ
ム(−おけるバーコード読取り装置、レーザプリンタな
どがあげられる。
用い、物体から出る波面乞例えば写真感光t4料などσ
)、1.うな記録材料し記録し、それt照明して波面を
再生する技術であり、また、ホログラムは、ホログラフ
ィ(−おいて、物体から出る光波を、それと干渉性があ
る光波と干渉させて、例えば写真感光材料などの、Lり
な記録材料に記録しまたものである。ホログラムは、近
年、光学像の記録のみならず、情報処理の分野(二おい
ても、情報の記録あるいはその回折現象乞利用した元ビ
ームの走査に広く用いられている0具体例乞示すと、例
えば、POS(Point、−of−8ale)システ
ム(−おけるバーコード読取り装置、レーザプリンタな
どがあげられる。
実用域(二遅し2ているホログラム記録用感光材料は、
例えば、銀塩のような写真感光材料のほか(二、重クロ
ム酸塩−セラチン系の感光材料、ザーモプラスチック杓
料などン包陰している。しかし、前二者は、ゼラチン膜
を結合剤として用いているために耐環境性(耐湿・耐熱
・耐光性)が低く、現在上として用いられている露光源
であるアルゴン(Ar)レーザの発光波長(例えは48
8nm)+−おける実用的感度が低い、ザーモプラスチ
ック材料(二おいては可能な干渉縞密度(単位長さ尚す
の稿本数)が低くて高性能のホログラフィ得ることが困
難であり、また、ホロクラムの丹生に特殊な光学系が必
要である、等の欠点があるので、有機ノ10ケン化合物
を含んだポリビニルカルバゾール系のホログラム記録用
高分子感光+4料が新たに提案されている(向えは、特
腸昭53−15153号公報、同54−101343号
公報及び同54−102140号公報を参照されたい)
0このような感光材料に、高分子開の光化学的架橋反応
を利用しておりかつ架橋剤として有機ハロゲン化合物を
使用している。
例えば、銀塩のような写真感光材料のほか(二、重クロ
ム酸塩−セラチン系の感光材料、ザーモプラスチック杓
料などン包陰している。しかし、前二者は、ゼラチン膜
を結合剤として用いているために耐環境性(耐湿・耐熱
・耐光性)が低く、現在上として用いられている露光源
であるアルゴン(Ar)レーザの発光波長(例えは48
8nm)+−おける実用的感度が低い、ザーモプラスチ
ック材料(二おいては可能な干渉縞密度(単位長さ尚す
の稿本数)が低くて高性能のホログラフィ得ることが困
難であり、また、ホロクラムの丹生に特殊な光学系が必
要である、等の欠点があるので、有機ノ10ケン化合物
を含んだポリビニルカルバゾール系のホログラム記録用
高分子感光+4料が新たに提案されている(向えは、特
腸昭53−15153号公報、同54−101343号
公報及び同54−102140号公報を参照されたい)
0このような感光材料に、高分子開の光化学的架橋反応
を利用しておりかつ架橋剤として有機ハロゲン化合物を
使用している。
しかし、このタイツの感光材料は、解像性、感度及び耐
環境性じ丁ぐrているというものの、長波長(−感元性
乞もたないという欠点ケ有している0なぜなら、かかる
桐料の感f波長に、使用する有機ハロゲン化合物の感光
波長C:依存しており、し。
環境性じ丁ぐrているというものの、長波長(−感元性
乞もたないという欠点ケ有している0なぜなら、かかる
桐料の感f波長に、使用する有機ハロゲン化合物の感光
波長C:依存しており、し。
たがって、色票増感が困難であるからである。−、また
、かかる感光材料ローハ、使用する有様)・ロゲン化合
物の化学的安定性(一原因して、いくつかの取9扱い上
の難点が伺随し、ている0 このため、1ユ記の欠点t゛改゛良(、た感光材料とし
て、ペースホリマーとし、てのボリビニルカルバゾーノ
トど、架橋剤としての2.3−ボルナンジオンと、増感
剤と(5てのチオフラビンとを含んでなるホログラム1
釘・用感賞相料が既(二本出願人+1.r、ジ提案され
ている(例えば、特開昭58−122532号公報を参
照されたい)0これ(−より、感度、回折効率、解像度
、耐環境性(−すぐれ、その上C二記録後の処理が簡単
な今まで(−例のない丁ぐれたホログラム記録用感光材
料が得られた。さらC二本出願人け、感光材料の組成を
変えることC二よって感度を同上させ得るということも
見い出した0が、このような感光材料は、おそらく使用
する架橋剤や増感剤に原因があると考えられるが、パタ
ーン形成後の膨潤化処理及び収縮化処理工程においてホ
ログラム記録層の細かい膜割れを惹起する傾向があった
。
、かかる感光材料ローハ、使用する有様)・ロゲン化合
物の化学的安定性(一原因して、いくつかの取9扱い上
の難点が伺随し、ている0 このため、1ユ記の欠点t゛改゛良(、た感光材料とし
て、ペースホリマーとし、てのボリビニルカルバゾーノ
トど、架橋剤としての2.3−ボルナンジオンと、増感
剤と(5てのチオフラビンとを含んでなるホログラム1
釘・用感賞相料が既(二本出願人+1.r、ジ提案され
ている(例えば、特開昭58−122532号公報を参
照されたい)0これ(−より、感度、回折効率、解像度
、耐環境性(−すぐれ、その上C二記録後の処理が簡単
な今まで(−例のない丁ぐれたホログラム記録用感光材
料が得られた。さらC二本出願人け、感光材料の組成を
変えることC二よって感度を同上させ得るということも
見い出した0が、このような感光材料は、おそらく使用
する架橋剤や増感剤に原因があると考えられるが、パタ
ーン形成後の膨潤化処理及び収縮化処理工程においてホ
ログラム記録層の細かい膜割れを惹起する傾向があった
。
発明が解決しj:うとする問題点
カルバゾール環を有する重合体、前記重合体の環原子と
置換可能なラジカルを光照射によって放出可能な架橋剤
及び増感剤を含む従来の感光材料を用いてホログラム乞
製造した場合、■ぐれた感度、回折効率、解像度、耐環
境性が得られる反面。
置換可能なラジカルを光照射によって放出可能な架橋剤
及び増感剤を含む従来の感光材料を用いてホログラム乞
製造した場合、■ぐれた感度、回折効率、解像度、耐環
境性が得られる反面。
各溶媒C−よる処理後の記録層の膜割れを甘受しなけれ
ばならず、安定した再現性のあるホログラム製造が実施
不可能でおる。これが、本発明が解決しようとする問題
点である。
ばならず、安定した再現性のあるホログラム製造が実施
不可能でおる。これが、本発明が解決しようとする問題
点である。
本発明者らは、上述のような問題点乞解決すべく研究し
ていくなかで、感度上昇(−寄与した架橋剤及び増感剤
が感光材料の第1及び第2の溶媒処理の段階において重
合体の再配列の障害となり1よって、膜割れが発生する
という知見ケ得、そこで、干渉パターンの形成後であっ
て第1及び第2の溶媒処理の開始前に、もはや不要とな
った架橋剤及び増感剤を抽出C′−よって選択的(−分
離除去するのが有効であることを見い出し、本発明を完
成する(二至った。
ていくなかで、感度上昇(−寄与した架橋剤及び増感剤
が感光材料の第1及び第2の溶媒処理の段階において重
合体の再配列の障害となり1よって、膜割れが発生する
という知見ケ得、そこで、干渉パターンの形成後であっ
て第1及び第2の溶媒処理の開始前に、もはや不要とな
った架橋剤及び増感剤を抽出C′−よって選択的(−分
離除去するのが有効であることを見い出し、本発明を完
成する(二至った。
本発明によるホログラム製造方法は、したがって、カル
バゾール環?有する重合体、前記重合体の環原子と置換
可能なラジカルを光照射(二よって放出可能な架橋剤及
び増感剤2活むホログラム記録用感光材料の漠に光照射
して干渉パターンを形成し、 前記重合体が不溶でありかつ前記架橋剤及び増感剤が可
溶である溶剤を用いて、不要となった架橋剤及び増感剤
を前記感光材料、cv抽出して除去し1、 抽出処理の完了後、前記感光材料をその材料が歎溶力・
つ僅か(−溶解もしくは膨潤可能な第1の溶剤にて接触
処理し、そして次に 前記感光材料をその材料(−関して非溶媒でろる第2の
溶剤で処理することを含んでなる、改良されたホログラ
ム製造方法L:ある。
バゾール環?有する重合体、前記重合体の環原子と置換
可能なラジカルを光照射(二よって放出可能な架橋剤及
び増感剤2活むホログラム記録用感光材料の漠に光照射
して干渉パターンを形成し、 前記重合体が不溶でありかつ前記架橋剤及び増感剤が可
溶である溶剤を用いて、不要となった架橋剤及び増感剤
を前記感光材料、cv抽出して除去し1、 抽出処理の完了後、前記感光材料をその材料が歎溶力・
つ僅か(−溶解もしくは膨潤可能な第1の溶剤にて接触
処理し、そして次に 前記感光材料をその材料(−関して非溶媒でろる第2の
溶剤で処理することを含んでなる、改良されたホログラ
ム製造方法L:ある。
本発明の実施(二おいて、不要となった架橋剤及び増感
剤を感光材料、X:v抽出する際(−に、選らばれた溶
剤の浴(−感光材料を浸漬する、スピンナー上で回転中
の感光材料(二抽出溶剤を滴下する、等の方法を有利に
使用することができる。
剤を感光材料、X:v抽出する際(−に、選らばれた溶
剤の浴(−感光材料を浸漬する、スピンナー上で回転中
の感光材料(二抽出溶剤を滴下する、等の方法を有利に
使用することができる。
抽出溶剤に、感光材料の重合体が不溶であり(重合体(
二対する溶解度が小さい)かつ架橋剤及び増感剤が可溶
であるにれらの添加剤(二対する溶解度が大きい)のは
もちろんのこと、記録層(−損傷ケ与えずかつ記録層と
基板の接着力を弱めないことが必要である。有用な抽出
溶剤として、メタノール、エタノール、プロパツールな
どのアルコール類、そしてアセトン、アセトニトリル、
酢酸メチル、酢酸エチルなどンあげることができる〇必
要(一応じて、これらの溶剤を混合物の形で使用しても
工い。
二対する溶解度が小さい)かつ架橋剤及び増感剤が可溶
であるにれらの添加剤(二対する溶解度が大きい)のは
もちろんのこと、記録層(−損傷ケ与えずかつ記録層と
基板の接着力を弱めないことが必要である。有用な抽出
溶剤として、メタノール、エタノール、プロパツールな
どのアルコール類、そしてアセトン、アセトニトリル、
酢酸メチル、酢酸エチルなどンあげることができる〇必
要(一応じて、これらの溶剤を混合物の形で使用しても
工い。
本発明(二おいて使用する感光材料のベースポリマーは
、前記した通vCニカルバゾール環を有する重合体であ
りかつ好ましくはポリビニルカルバゾールである。
、前記した通vCニカルバゾール環を有する重合体であ
りかつ好ましくはポリビニルカルバゾールである。
さらに、前記カルバゾール環含有重合体の環原子と置換
可能なラジカルを光照射(−よって放出可能な架橋剤は
、好ましくは、環状シス−α−ジカルボニルfヒ伯・物
である。有用な侃状シスーα−ジカルボニル+lZ合q
勿とじ一部、2.3−ボルナンジオン、2.2,5.5
−テトラメチル−テトラヒドロ−3,4−フランジオン
、パラバン酸(イミグゾールトリオン)、インドール−
2,3−ジオン(イサチン)、1 、1 、4.4−テ
トラメチルテトラリン−2,3−ジ万ン、3−メチル−
1,2−シクロベンタンジオンなどをあけることができ
る0 さらC二、本発明の実施(二おいて有用な感几し科の増
感剤(光増感剤又は分光増感剤)は、り11えは’[y
41S48−84383号公報(二日己載きれ−Cいる
もの、例えは、ビス(p−アミノフェニル−Cχ、β−
不飽和ケトン)、ビス(アルキルアミノ)アクリンン宗
科、シアニン染料、スチリル染料塩基、p−アミノフェ
ニルケトンなど、とりわけPsi)’−ビス(ジメチル
アミノ)−ベンゾフェノン(ミヒラーケトン)やチオフ
ラビンである。
可能なラジカルを光照射(−よって放出可能な架橋剤は
、好ましくは、環状シス−α−ジカルボニルfヒ伯・物
である。有用な侃状シスーα−ジカルボニル+lZ合q
勿とじ一部、2.3−ボルナンジオン、2.2,5.5
−テトラメチル−テトラヒドロ−3,4−フランジオン
、パラバン酸(イミグゾールトリオン)、インドール−
2,3−ジオン(イサチン)、1 、1 、4.4−テ
トラメチルテトラリン−2,3−ジ万ン、3−メチル−
1,2−シクロベンタンジオンなどをあけることができ
る0 さらC二、本発明の実施(二おいて有用な感几し科の増
感剤(光増感剤又は分光増感剤)は、り11えは’[y
41S48−84383号公報(二日己載きれ−Cいる
もの、例えは、ビス(p−アミノフェニル−Cχ、β−
不飽和ケトン)、ビス(アルキルアミノ)アクリンン宗
科、シアニン染料、スチリル染料塩基、p−アミノフェ
ニルケトンなど、とりわけPsi)’−ビス(ジメチル
アミノ)−ベンゾフェノン(ミヒラーケトン)やチオフ
ラビンである。
本発明(−おいて使用するホログラム記録用感光材料は
、上述のような成分、丁なわち、重合体、架橋剤及び増
感剤を任意の濃度で適宜溶媒(二溶解もしくに分散させ
、得られた溶液もしくは分散液をそのままフィルム化す
るかもしくは例えばガラス等の支持体上(二被踵−シた
後に被膜とすることζユニって調製することができる。
、上述のような成分、丁なわち、重合体、架橋剤及び増
感剤を任意の濃度で適宜溶媒(二溶解もしくに分散させ
、得られた溶液もしくは分散液をそのままフィルム化す
るかもしくは例えばガラス等の支持体上(二被踵−シた
後に被膜とすることζユニって調製することができる。
さら(ユ、必要に応じて、上述の工うな成分(二加えて
、例えば可塑剤、還元剤、酸化防止剤などのような添加
剤を適宜加えることもまた可能である。
、例えば可塑剤、還元剤、酸化防止剤などのような添加
剤を適宜加えることもまた可能である。
感光材料を使用したホログラム記録は、列えは添付の第
4図に図示のような常用のホログラム作成用露光光学系
を使用して実施することができる。
4図に図示のような常用のホログラム作成用露光光学系
を使用して実施することができる。
図示の露元元学系の場合、レーザ発振器1からのレーザ
(アルゴン、ヘリウム−カドミウム等)をシャッター2
の通過後Cニミラー31−照射する。その後、反射され
たレーザの一部はハーフミラ−4で反射され、そして残
りのレーザハミラー5(二連する。ハーフミラ−4で反
射されたレーザは、さら(−ミラー6で反射され、コリ
メータレンズ7ン通過し7た後(−平行光束の形で感光
板9じ入射し、一方、ハーフミラ−5で反射されたレー
ザに、コリメータレンズ8を通過した後(二平行光束の
形で感光板9に入射する。この露光の結果として、感光
板9(二おいて干渉パターンが形成される。
(アルゴン、ヘリウム−カドミウム等)をシャッター2
の通過後Cニミラー31−照射する。その後、反射され
たレーザの一部はハーフミラ−4で反射され、そして残
りのレーザハミラー5(二連する。ハーフミラ−4で反
射されたレーザは、さら(−ミラー6で反射され、コリ
メータレンズ7ン通過し7た後(−平行光束の形で感光
板9じ入射し、一方、ハーフミラ−5で反射されたレー
ザに、コリメータレンズ8を通過した後(二平行光束の
形で感光板9に入射する。この露光の結果として、感光
板9(二おいて干渉パターンが形成される。
実施例l
下記の実施例(=よって、さらに詳しく不発明乞説明す
る。
る。
例1:
下記の組成を有する感光液:
ポリ−N−ビニルカルバゾール 10g(亜南香料
産業■製;ツビコール’l’−21012,3−ボルナ
ンジオン(イース 3.6gトマン・コダック社製) チオフラピン(関東化学■製) 0.3gクロロ
ホルム(関東化学■製) 15019を調製し、こ
の感光液を70x70xl閤の1ラスチツク基板上(二
、乾燥後の膜厚が2μmとなるように、スピンコード法
に、cv暗所で箪布した。
産業■製;ツビコール’l’−21012,3−ボルナ
ンジオン(イース 3.6gトマン・コダック社製) チオフラピン(関東化学■製) 0.3gクロロ
ホルム(関東化学■製) 15019を調製し、こ
の感光液を70x70xl閤の1ラスチツク基板上(二
、乾燥後の膜厚が2μmとなるように、スピンコード法
に、cv暗所で箪布した。
次いで、この塗膜を60℃で30分間加熱し、ホログラ
ム記録用感光板を作成した。この感光板は第1A図の1
0であって、グラスチック基板11及び感光層1.2か
らなる。
ム記録用感光板を作成した。この感光板は第1A図の1
0であって、グラスチック基板11及び感光層1.2か
らなる。
次いで、上記のよう(ユして作成しまた感光板10C二
、先に第4図のところで説明したホログラム作成用露光
光学系を使用して、アルゴンレーザ(波長488 nm
)でホログラム記録を行なった。第1A図に示される
ように、非g光域及び露光域はそれぞれ13及び14で
あり、そしてホログラム干渉元は矢印15である。
、先に第4図のところで説明したホログラム作成用露光
光学系を使用して、アルゴンレーザ(波長488 nm
)でホログラム記録を行なった。第1A図に示される
ように、非g光域及び露光域はそれぞれ13及び14で
あり、そしてホログラム干渉元は矢印15である。
次いで、第1B図C二示されるよう(=、エタノールの
浴16(;感光板10を浸漬して余分の架橋剤及び増感
剤を抽出した。次いで、第1及び第2の溶媒にて接触処
理?実施した。先ず、第1C図に示されているよう(二
、トルエンの浴17上t=gx板10(感光膜12を下
にして)を載置することによってトルエン蒸気C22分
間にわたって感光板を接触させた。次(二、第1D図に
示されているよう(二、n−ペンタンの浴18中(−感
光板10乞]分間(−わたって浸漬すること(ニよって
ホログラムを作成した。引き上げ及び乾燥の後、膜割れ
のないホログラムが得られた。空間周波数1800本/
n+n+で、回折効率に70%、露光量u180mJ/
cr/1であった。
浴16(;感光板10を浸漬して余分の架橋剤及び増感
剤を抽出した。次いで、第1及び第2の溶媒にて接触処
理?実施した。先ず、第1C図に示されているよう(二
、トルエンの浴17上t=gx板10(感光膜12を下
にして)を載置することによってトルエン蒸気C22分
間にわたって感光板を接触させた。次(二、第1D図に
示されているよう(二、n−ペンタンの浴18中(−感
光板10乞]分間(−わたって浸漬すること(ニよって
ホログラムを作成した。引き上げ及び乾燥の後、膜割れ
のないホログラムが得られた。空間周波数1800本/
n+n+で、回折効率に70%、露光量u180mJ/
cr/1であった。
例2:
前記例11一記載の手法を繰り返した。但し、本例の場
合、干渉パターン形成のためのji元源として波長45
7 nmのアルゴンレーザを使用し、また、余分の架橋
剤及び増感剤を抽出するため、第1B図の工程のように
エタノール浴中(二浸漬するのではなくて、第2B図じ
図示1−るよう(二、回転数50 rpmのスピンナー
(ミカサ■製;IH−DS2)上【1感元板10を載置
して、これ(ニビーカー力Aらエタノール16i滴下し
た。エタノールの滴下が完了した後、スピンナの回転数
Y2000rpmまで高めて、感光層12上のエタノー
ルを完全じ振り切った。その他の工程は前記例1(二同
じであり、従って、第1A図、第1C図及び第1D図の
工程はそれぞれ第2A図、第2C図及び第2D図の工程
じ一致する。
合、干渉パターン形成のためのji元源として波長45
7 nmのアルゴンレーザを使用し、また、余分の架橋
剤及び増感剤を抽出するため、第1B図の工程のように
エタノール浴中(二浸漬するのではなくて、第2B図じ
図示1−るよう(二、回転数50 rpmのスピンナー
(ミカサ■製;IH−DS2)上【1感元板10を載置
して、これ(ニビーカー力Aらエタノール16i滴下し
た。エタノールの滴下が完了した後、スピンナの回転数
Y2000rpmまで高めて、感光層12上のエタノー
ルを完全じ振り切った。その他の工程は前記例1(二同
じであり、従って、第1A図、第1C図及び第1D図の
工程はそれぞれ第2A図、第2C図及び第2D図の工程
じ一致する。
一連の処理の完了後、前記1口」二おけるような摸割れ
のないホログラムが得られた。空間周波数1800本/
1Mlで、回折効率は75%、露光量は50mJlcr
!であった。
のないホログラムが得られた。空間周波数1800本/
1Mlで、回折効率は75%、露光量は50mJlcr
!であった。
汐lJ3:
前記り11(一記載の手法を繰り返した。但し、本例の
場合、ポリ−N−ビニルカルバゾール100重量部に対
して26重量憾の2.3−ボルナンジオン及び3重量係
のチオフラビンを添加した。露光量ヲいろいろ(−変え
てホログラムを記録したところ、露光t50〜200T
LJ/c1111:おいて回折効率が著しく上昇し、以
降は約70%の回折効率が保持された(第3図の曲線1
参照)0得られたホログラムに膜割れは不存在であった
。
場合、ポリ−N−ビニルカルバゾール100重量部に対
して26重量憾の2.3−ボルナンジオン及び3重量係
のチオフラビンを添加した。露光量ヲいろいろ(−変え
てホログラムを記録したところ、露光t50〜200T
LJ/c1111:おいて回折効率が著しく上昇し、以
降は約70%の回折効率が保持された(第3図の曲線1
参照)0得られたホログラムに膜割れは不存在であった
。
比較のため、ニジノールでの抽出を省略して上述の手法
を2回繰り返した(第3図の従来PjA及びB参照)0
いずれの場合(=も満足のいく回折効率が得られず、待
(−従来例Bのホログラムでは嘆割オtが発生した。
を2回繰り返した(第3図の従来PjA及びB参照)0
いずれの場合(=も満足のいく回折効率が得られず、待
(−従来例Bのホログラムでは嘆割オtが発生した。
発明の効果
本発明に工れば、余分の架橋剤及び増感剤乞膨潤「ヒ及
び収縮化工程C−先がけて抽出分離するので、それらの
添加剤の存在(二原因するホログラムの膜割れ乞防止す
ることができる。よって、本発明によれば、安定した再
現性のあるホログラム製造を行なうことができる。
び収縮化工程C−先がけて抽出分離するので、それらの
添加剤の存在(二原因するホログラムの膜割れ乞防止す
ることができる。よって、本発明によれば、安定した再
現性のあるホログラム製造を行なうことができる。
第1A図、第1B図、第1C図及び第1D図は、それぞ
れ、本発明方法の好ましい1例を順?追って示した断面
図であり、 第2A図、第2B図、第2C図及び第2D図は、それぞ
れ、本発明方法のもう1つの好ましい列馨11[tT
w追って示した断面図であり、第3図に、本発明方法で
の露ft′、量と回折効率の関係を示したグラフであり
、そして W14図は、本発明方法において使用し得るホログラム
作成用N)を光学系の1例を示した略示図でめる。 図中、10に感光板、11はプラスチνり基板、12μ
感元層、16は抽出浴、17は現像浴、そして18はだ
着浴である。
れ、本発明方法の好ましい1例を順?追って示した断面
図であり、 第2A図、第2B図、第2C図及び第2D図は、それぞ
れ、本発明方法のもう1つの好ましい列馨11[tT
w追って示した断面図であり、第3図に、本発明方法で
の露ft′、量と回折効率の関係を示したグラフであり
、そして W14図は、本発明方法において使用し得るホログラム
作成用N)を光学系の1例を示した略示図でめる。 図中、10に感光板、11はプラスチνり基板、12μ
感元層、16は抽出浴、17は現像浴、そして18はだ
着浴である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、カルバゾール環を有する重合体、前記重合体の環原
子と置換可能なラジカルを光照射によって放出可能な架
橋剤及び増感剤を含むホログラム記録用感光材料の膜に
光照射して干渉パターンを形成し、 前記重合体が不溶でありかつ前記架橋剤及び増感剤が可
溶である溶剤を用いて、不要となった架橋剤及び増感剤
を前記感光材料より抽出して除去し、 抽出処理の完了後、前記感光材料をその材料が難溶かつ
僅かに溶解もしくは膨潤可能な第1の溶剤にて接触処理
し、そして次に 前記感光材料をその材料に関して非溶媒である第2の溶
剤で処理することを含んでなる、ホログラム製造方法。 2、カルバゾール環を有する重合体がポリビニルカルバ
ゾールであり、架橋剤が2,3−ボルナンジオンであり
かつ増感剤がチオフラビンである、特許請求の範囲第1
項に記載のホログラム製造方法。 3、選らばれた溶剤の浴に感光材料を浸漬して前記抽出
工程を実施する、特許請求の範囲第1項又は第2項に記
載のホログラム製造方法。 4、選らばれた溶剤をスピンナー上で回転せる感光材料
に滴下して前記抽出工程を実施する、特許請求の範囲第
1項又は第2項に記載のホログラム製造方法。 5、前記抽出工程においてエタノールを使用する、特許
請求の範囲第1項〜第4項のいずれか1項に記載のホロ
グラム製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12067084A JPS612181A (ja) | 1984-06-14 | 1984-06-14 | ホログラム製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12067084A JPS612181A (ja) | 1984-06-14 | 1984-06-14 | ホログラム製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS612181A true JPS612181A (ja) | 1986-01-08 |
Family
ID=14792013
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12067084A Pending JPS612181A (ja) | 1984-06-14 | 1984-06-14 | ホログラム製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS612181A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1988004796A1 (en) * | 1986-12-19 | 1988-06-30 | Polaroid Corporation | Holograms |
JPH0224690A (ja) * | 1988-07-14 | 1990-01-26 | Canon Inc | 体積位相型ホログラムの製造方法 |
-
1984
- 1984-06-14 JP JP12067084A patent/JPS612181A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1988004796A1 (en) * | 1986-12-19 | 1988-06-30 | Polaroid Corporation | Holograms |
JPH0224690A (ja) * | 1988-07-14 | 1990-01-26 | Canon Inc | 体積位相型ホログラムの製造方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US3925077A (en) | Photoresist for holography and laser recording with bleachout dyes | |
US4307182A (en) | Imaging systems with tetra(aliphatic) borate salts | |
JPH0139573B2 (ja) | ||
EP0084452B1 (en) | Holographic recording material and process for producing holograms | |
JPS612181A (ja) | ホログラム製造方法 | |
JP2844839B2 (ja) | ホログラム記録材料とホログラム製造方法 | |
JP3180566B2 (ja) | ホログラム感光性記録材料およびホログラム感光性記録媒体並びにそれを用いたホログラム製造方法 | |
JPS60227281A (ja) | ホログラム記録用感光材料およびホログラム製造方法 | |
JPS60227282A (ja) | ホログラム記録用感光材料およびホログラム製造方法 | |
JPS60222882A (ja) | ホログラム記録材料およびホログラム製造方法 | |
JPH0535870B2 (ja) | ||
US4116692A (en) | Photographic method utilizing a photosensitive composition containing a 2-azidobiphenyl and a triplet sensitizer | |
JPS60227283A (ja) | ホログラム記録用感光材料およびホログラム製造方法 | |
JPS62215284A (ja) | ホログラム記録材料及びその使用方法 | |
JPS60227280A (ja) | ホログラム記録用感光材料およびホログラム製造方法 | |
JPS59201051A (ja) | ホログラム記録用感光材料 | |
JPH0229773A (ja) | ホログラムの作製方法 | |
JPH03148686A (ja) | ホログラム記録材料用組成物及びホログラム記録用感光体 | |
JP2741718B2 (ja) | ホログラムの製造方法 | |
JPH05232703A (ja) | 感光性樹脂組成物およびそれを用いた画像記録材料 | |
JPS5854373A (ja) | ホログラム記録用感光材料及びホログラム製造方法 | |
JPH0431592B2 (ja) | ||
JPS6052889A (ja) | ホログラムの製法 | |
JPS61117587A (ja) | ホログラム記録用感光材料およびホログラム製造方法 | |
JPH01207780A (ja) | ホログラム |