TW200532395A - Lithographic apparatus and device manufacturing method - Google Patents

Description

200532395 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種微影裝置及一種元件製造方法 【先前技術】

微影裝置係將-戶斤要圖案施加至一基板之一目標區上的 機器。微影裝置可用於（例如）製造積體電路（lc)、平板顯示 器及包含精細結構之其它元件。在一習知微影裝置中，圖 案化構件（或者稱作光罩或主光罩）可用於產生一與1(：(或其 匕元件）之一個別層對應之電 q木 一〜哗示1风1豕主一 具有—輻射敏感材料（抗蝕劑）層之基板（例如，矽晶圓或玻 璃板）上之-目標區（例如，包含—或若干個晶粒之部分） 上除光罩外’該圖案化元件可包含個別可控組件之一陣 列，其用以產生該電路圖案。 槪D之I個基板可含有經連續曝光之相鄰目標區之 網狀物。已知之料岑壯里41 牛…鎮置包括：步進器及掃描器、，在該等 步進益中各目標區係藉由 ^ . 正個圖案一次性曝光至該目 太^ 。中各目軚區係藉由在一給定 ..^ L 术你彳田该圖案，同時與此方向平行 或反千订地同步掃描該基板來照射。 錢用個別可控組件陣列之微影投影 用複數個該等陣列以僮快將該圖 …:吏 約待於該裝置中曝光之—= 土板上，以即 ㈣。此外，各陣列在=的產出時間（加―卿 於其支援服於心 。圍而要一相對較大的空間以用 叉杈服務，諸如將該 又疋在各陣列上所需之資料 99482.doc 200532395

谓測器來連績監控該輻射， 痛射为配至複數個陣列。 之輸出處的99%鏡面後，輻射束之99%被導引至該圖案化元 *通道之該輻射可儘量保持均 苑，其適於在該源處藉由使用 ’該偵測器被置放在一輻射源 為。此偵測 而非實際被 件且剩餘的1%被導引至量測輻射之強度的偵測器 器有效地量測進入該圖案化元件之輻射的強度而 投影至該基板上的強度。為此，先前技術亦描述了 一種置 放在該基板側之靜態偵測器（static detect〇r)。該靜態偵測器 在基板之曝光之間的设定間隔内移入該輻射束中。此靜態 偵測器之問題在於：此系統假定該99%鏡面與該基板之間 的光學路徑之傳輸在藉由該偵測器感測該光束強度之時間 期間不會改變。此外，在光束被分割進入複數個輻射分配 通逼之狀況下，或在存在複數個輻射源之狀況下，各通道 必須具有一偵測器且必須校正所有此等偵測器且比較其輸 出以保證所有該等通道分配相同（或至少恰當）強度之輻射。 先前技術之另一問題在於：若感測到強度差異，則假定 该差異係發生在輻射源且相應地調整該輻射源。該等偵測 99482.doc

此配置提供一簡單的受控元件以分割（例如）該圖案化元 件之間的照明系統。舉例而言，可選擇由該等連續的部分 定（time-constant)的，可量測與來自該照明系統之該輻射束 之該輻射強度的完全相等分配之差異且因此隨後補償該差 200532395 器不考慮由該圖案化元件中之有缺陷的個別可控組件導致 之強度差異。 【發明内容】 本發明之一實施例可提供一用於量測複數個輻射分配通 道之輻射強度且補償此量測到之強度中之任何差異的系 統0 本發明之另一實施例提供一微影投影裝置，其包括：一 用於提供一輻射束之輻射系統、一用於固持一基板之基板 台、用於根據一所要圖案圖案化源自該輻射系統之輻射束 之複數個圖案化元件、一用於將該圖案化光束投影至該基 板之-目標區上的投影系統、—將來自該輻射系統之轄射 分配至該圖案化元件的輻射分配元件，其中該輻射分配元 件將來自該輕射系統之該輻射導引至複數個輻射分配通 道；且該等輻射分配通道為該圖案化元件提供輻射束；一 用於量測與每一該圖案化元件相關聯之輻射之強度的輻射 偵測系統。該等輻射分配通道可組成一輻射束或該等輻射 分配通道可為導引該輻射之物理光學通道。 反射性表面中之每一個反射至該等相關輻射分配通道之輻 射束的比例以使得被導引至該等輻射分配通道中之每一個 的該輻射束的強度係相同。由於此等比例大體上係時間-恆 99482.doc 200532395 異。 該輕射偵測系統較佳包括—_器，其依次連續地 =各圖案化元件相關聯之輕射。一可移動的她可消除 哭=分配通道配備一偵測器的需要…系列此類偵測 °。而要枝正且可能潛在地危及該微影系統之精確度。 Θ偵測H較佳經配置以移動穿過舆該圖案化元件中之卞 -個相關聯之輕射的一部分。舉例而言，藉由使用—部： =面（pmial mirr〇r)可使該輕射之—部分移出其正常: 且该偵測器移動穿過此被移除之部分以使該輻射之強 度的谓測連貫，同時該微影裝置在運行中。 被影投影系統較佳包括—與該制器相關聯之探針，其 /偵測态係’止的且該探針而非該整個偵測器移動穿過 與該圖案化元件中之每—個相關聯之該幸昌射的一部分。此 可用於此等境況中：在微影裝置之相關部分中沒有足夠的 空間留給㈣器’但存在用於諸如光纖之探針的空間，探 針係更小的且在特定環境中較易於操控。 。亥幸田射偵測系統可包括一與該圖案化元件中每一個相關 聯之偵測器，此優於所古 、斤有该圖案化元件使用一單一偵測 器。舉例而言’此系統在各圖案化元件具有一分開的轄射 源且需要不斷地監控各源之韓射強度之波動的狀況下可能 有用。 一 4射統可經配置以偵測離開該韓射分配系統之 、、在此點4 4軺射已藉由該輻射分配系統分配且在 至該等輻射分配通道的途中。監控純射強度係可能的， 99482.doc 200532395 因為可收集由該幸昌身+ 平田射/刀配糸統導致之任何波動。 該= = ;:Π::置該_貞測系_測離開 該輕射之物理實^ 下’該等通道被限制為導引 動。若在該輕射分㈣Μ 收木。亥專通道中的任何波 ΡΊ -Τ kl· i- ^ ^ — '、、，，4及在该等通道後皆有偵測器， 則可比較δ亥專伯消丨# τ 須心輸出以#定輕射強度之波動出自_ 處。 仆了：^ I方式或另外地配置該偵測系統以偵測在該圖案 投影系w㈣。各通道可具有—侦測器 、二σ之所有通逼具有—單，此決取於微影裝 置之布局。因此可監控由該圖案化元件引起之波動。 可以其它方式或另外地配置該偵 偵列态系統以偵測離開該 才又衫糸統之輻射。在此點卜，鈇 、 隹此2上輻射被導引至基板且因此偵 測该輪射之最後形式非常重要。 中受此可在基板之間作為一校 正步驟來完成，或該輻射之一邱八 罕田耵之邛刀可被導引至在微影期間 用於摘測之债測器。該微影裳置中之每一個以上情況下之 :债測器使得波動之原因被正確指出且得到最有效地補 仏。舉例而言’若照明源有缺陷，則在該源補償該缺陷最 有效，此優於稍後試圖在該裝置中補償該缺陷。 微影投影裝置較佳包括一用於調整該輕射之該強度的補 仏糸統:該輕射與至少一圖案化元件相關聯且該幸昌射係由 該投影系統來投影。該债測器與該補償元件之組合保證恰 當的密度被用於被投影至該基板上之每個圖案，從而增加 該圖案化系統之效率。可在校正期間或即時地使用該補償 99482.doc 200532395 系統，同時對一基板進行投影。 該補償系統經較佳配置以獨立地調整與該圖案化元件中 之每一個相關聯之該輻射的該強度。 較佳地’該圖案化元件中至少之—者為個別可控址件之 一陣列，該等個別可控組件可經設定以在—㈣束之橫截 面中賦予其-所要圖案；可將各獨立可控組件設定為複數 個狀態中之-種，該等個別可控組件中之每—個將不同比 例之該幸畐射導引至該投影系統；且其中該補償系統藉由改 變該等個別可控組件中之每一個的設定來調整該輕射，以 使得該輻射之圖案得以維持而強度被改變。 補償元件較佳包括一用於使輻射衰減之輻射衰減器，該 ㈣與至少-®案化元件相關聯且係由該投影系統來投 影。在輕射強度高於系統應有之強度且多餘的輛射必須被 移除的狀況下，衰減器可用於使輻射衰減。 、 邊補償系統可經配置以調整該輕射比例之強度，该輕射 與至少-圖案化相關聯且係由該投影系統來投影。該^ 之此比例可為意欲投影至該基板之目標區之一特定部分上 ㈣射比例或與複數個圖案化元件中的-個相關聯的輻射 比例等。 當然，如同調整整個与P &未# ^ Μ先束守，在調整該光束之比例時， 可相寺地應用所有補償形式(衰減器等）。 Ρ影投影裝置較佳包括—控制系統，其用於在一時間間 ，射… 省存的輪射強度資料更新該補償系統， 幸田射係在该時間間隔期間被投影至該基板之一部分上。此 99482.doc -10- 200532395 允井對該輪射強唐之说無 $強度之波動進仃即時補償。舉例 藉由諸园安儿二阳a “ ^ 益山斗η 一 4叫1貝。举例而言，若在 猎由该圖案化元件圖案化該輻射 ^ 之則偵測到強度之波動， 、J 了抓用一反饋系統在該輻 ^ ^ ^ ^ 圖案化元件時使該圖 案化兀件補償此強度波動。強度 饋及控料、統來補償。 _改艾亦可措由该反 ρ::Γ=置較佳包括一控制系統，其用於在-時間間 ::二門 輕射強度資料更新該補償系統，輻射係 •間間隔期間被投影至該基板之-部分上，其中該預 偵測的輻射強度資料係指由 /、人 在力 Μ 士 輻射偵測糸統預先偵測並儲 存在一儲存媒體中之資料。為 昱，日抑六，h 仅止4糸統，監控該強度差 因此以比較其與稍後之偵測系統資料。 地）得=_㈣㈣…增（意即，即時 所儲存之資料較佳為當 .t . u系化凡件具有一普通圖荦 (Plain pattern)時強度差显 ” , ，、之里冽值。當量測先於該基板上 之貝P示奴衫發生時，舉例而言， 出於权正的目的，該圖案 化兀件經設定以具有一普 一 圖案（思即，所有該等個別可控 、、且件被没定在相同狀態（例 ^ 較該等輕射強度以保㈣引—攻大強度）。接著比 已對準等。 仔也4心裝置之所有部分皆在工作且 ::射侧統可經配置以伽亥輕射分配系統中及/ 強度的差里曰^ 们之该專輻射分配通道中之輻射 異。，、 補償系統經配置以補償輻射強度之此差 99482.doc 200532395 該輻射偵測系統可以其它方式或另外地配置以偵測該投 影系統中該圖案化元件中之每一個之輻射強度的差異：： 該補償系統經配置以補償輻射強度之此差異。 、 本發明之更進一步實施例提供一種校正一微影投影裝置 中之輻射強度的方法，#包括以下步驟：當該圖案化元件 具有-普通圖案時，偵測在該微影投影置中許多階段中之 任一者的該輻射之該強度；將許多階段中之任一者之該輻 ^強度資料儲存在-儲存媒體U測運行中之該微影^ 影裝置中之相同階段内的該輻射之強度；使用一控制系‘ 比較該所儲存之資料與所獲取之資料，同時該微影投^裳 置正在運行中；及使用—補償系統根據該控制系統之輪' 調整該輻射之該強度。 、本發明之更進一步態樣提供一種元件製造方法，其包括 以下步驟.提供—基板；使用射系統提供—輕射投影 束，使用複數個圖案化兀件根據一所要圖案來圖案化源自 該輻射系統之輻射束；將該等圖案化輻射束投影至該基板 之—目標區上；及使用-輻射分配元件將來自姉㈣統 之輻射經由複數個輻射分配通道分配至該圖案化元件；使 用一輻射偵測器量測該等㈣分配通道中之姉射強度。 本發明之更進一步實施例提供一種元件製造方法，1包 括以下步驟：提供一基板；使用一輕射系統提供一輕射投 影束；使用複數個圖案“件根據—所要圖案來圖案化源 自該輕射系統之輻射束；將該等圖案化輕射束投影至該基 板之—目標區上；及使用-輻射分配元件將來自該轄射系 99482.doc -12- 200532395 統之輻射經由複數個輻射分配通道分配至該圖案化元件； 使用一輻射偵測器量測該等輻射分配通道中之該輜射強 度，該輻射偵測器為該等輻射分配通道中之每一個輸出一 強度值；及補償該等輻射分配通道之該輻射強度的任何差 別。 根據本發明之另一態樣，提供一種根據上文參考之元件 製造方法及/或藉由上文參考之微影裝置來製造的元件。 • 本發明之進一步實施例、特徵與優勢以及本發明之各種 實施例之結構與操作將參看附圖於下文中詳細描述。 【貫施方式】 概述及術語 此處採用之術語”個別可控組件陣列”應被廣義地解釋為 係指可用於賦予一入射輻射束一圖案化橫截面之任何構 件，因此可在該基板之一目標區中創建一所要圖案。術語 ’’光閥’’與’’空間光調變器，，（SLM)亦可用於本說明文中。該圖 φ 案化元件之實例可包括下列元件。 一黏彈性控制層及

定址區域將入射光反射成非繞射光。 使用一適當的空間濾 可程式化鏡面陣列。其可包含一具有一 一反射性表面之矩陣可定址表面。該裝 光器’可將該非繞射光自該反射光束中濾出，僅留下該繞 射光到達4基板。以此方式，該光束根據該矩陣可定址表 面之定址圖案而被圖案化。

99482.doc 200532395 留下該非繞射光到達該基板。亦可以—對應方錢用一繞 射光學微f子·機械系統（mem狀件之陣列。各繞射光學 、-件匕3可相對於彼此變形之複數個反射條帶以形 成一將入射光反射成繞射光之格柵。

可程式化鏡面陣列之另一替代實施例採用微小鏡面之矩 陣配置’㈣鏡面中之每一個可藉由施加一合適的區域化 電場或藉由採用壓電致動元件來分·於—軸線傾斜。再 -人口亥等鏡面為矩陣可定址的，以使得定址鏡面可將一不 同方向内之一入射輻射束反射至未定址鏡面；以此方式， 根據该等矩陣可定址鏡面之該定址圖案來圖案化該反射光 束。所需之矩陣定址可使用合適的電子元件來執行。 在上述兩種境況下，個別可控組件之該陣列可包含一個 或多個可程式化鏡面陣列。有關本文提及之鏡面陣列之更 多資訊可自（例如）美國專利第5,296,891號與第5,523，193號 及PCT專利申請案wo 98/38597與彻98/33〇96中收集，該 等專利及申請案之全文以引用的方式併入本文中。 可程式化LCD陣列。該構造之一實例係於美國專利第 5,229,872號中給出，其全部内容以引用的方式併入本文中。 應瞭解：在使用部件的預偏壓、光學鄰近效應修正部件、 相位變動技術及多重曝光技術之裝置中，舉例而言，”顯示，， 在個別可控組件之該陣列上之圖案可實質上不同於最終轉 移至該基板之一層或該基板上之圖案。類似地，最終產生 在該基板上之該圖案未必對應於在任一瞬間在個別可控組 件之该陣列上形成之圖案。此可為以下狀況：在一配置中， 99482.doc 14 200532395 形成於該基板之各部分上之最終圖案係在一給定的時間 週期内或藉由曝光之給定數目而構建的，在該等時間期間 個別可控組件陣列上之圖案及/或該基板之相對位置改 變〇 儘管在本文中可特定參考微影裝置在1(:製造中之使用， 但請瞭解：本文所述之微影裝置可具有其它應用，諸如， 用於整合光學系統、磁疇記憶體之導引及偵測圖案、平板 , 顯示态、薄膜磁頭等的製造。熟練技術人員將明白：在兮 等替代應用案之情形下，本文中之術語”晶圓”或"晶粒，，之任 何使用都應被認為可分別與更一般性術語”基板，，或，，目桿 區’’同義。本文中所指之基板可在曝光前或曝光後在（例如） 一磁軌（一種通常將一抗蝕劑層塗覆至一基板並顯影該經 曝光之抗蝕劑的工具）或一度量或檢測工具中處理。若適 合，可將本文之揭示内容應用至該等及其它基板處理工 具。另外，可不止一次地處理該基板，（例如為了創建一多 • 層1c)，因此本文中所用之術語基板亦可指稱已含有多個經 處理之層的基板。 ^ 本文中所用之術語”輻射，，及，，光束”涵蓋所有類型的電磁 輻射，包括紫外線（uv)輻射（例如，具有365、248、=、 157或126 nm波長之輻射）及遠紫外（EUV)輻射（例如，具有 在5-20 nm範圍内之波長的輻射）以及諸如離子束或電子束 的粒子束。 本文中所用之術語”投影系統”應被廣義地解釋為涵蓋各 種類型之投影系統，包括適於（例如）所使用之曝光輻射或其 99482.doc 15 200532395 它要素（諸如使用一浸沒流體或使用真空）的折射光學系 …先反射光學系統及反射折射光學系統。本文中術語"透鏡， 的任何使用可被認為與更一般性術語”投影系統π同義。 該照明系統亦可涵蓋各種類型的光學組件，包括用以導 引、成型或控制輻射投影束之折射、反射及折射反射光學 組件，且下文中亦可將該等組件統稱或單獨稱為，，透鏡，，。 忒u衫ι置可為具有兩個（雙平臺）或兩個以上基板台（及 Φ /或兩或兩個以上光罩台）的類型。在該等，，多平臺，，機器中， 可並行地使用額外台，或可在—或多個臺上進行預備步 驟，同時使用一或多個其他台來進行曝光。 該微影裝置亦可為此種類型：其中基板被浸沒在一具有 相對車乂回折射率 < 液體（例如水）中以填充該投影系統之最 f、且件與4基板之間的空間。浸沒液體亦可應用於該微影 衣置中的其它空間，例如，在該光罩與該投影系統之第一 :且件之間的空間。在此項技術中，浸沒技術用於增加投影 • 糸統之數值孔徑已為吾人所熟知。 微影投影裝置 另θ 丁心地杬繪了一根據本發明之一實施例的微影投影 農置100。1置1〇〇包括至少一輜射系、统1〇2(例如，Εχ、几（例 、AM IN、C〇等）等）、個別可控組件PPM 104之陣列、 • 載物° WT 1〇6(例如’一基板台）及-投影系統（，’透鏡，，)PL 1 0 8 〇 田射系統102可用於提供一輻射（例如，UV幸畐射）投影束 10 ’在此特定狀況下，該帛射系統1G2亦包含-輕射源 99482.doc • 16 - 200532395 LA 112。

個別可控組件114之陣列（例如，可程式化鏡面陣列）可用 於將一圖案施加至該投影束110。概言之，個別可控組件i J 4 之該陣列之定位可相對於該投影系統108固定。然而，在一 替代配置中，個別可控組件114之一陣列可被連接至一用於 相對於該投影系統108精確定位該陣列之定位元件（未圖 示）。如本文所述，個別可控組件114為反射類型（例如，具 有個別可控組件之一反射陣列）。 載物台106可具有一用於固持一基板WU4(例如，一經抗 蝕劑塗覆之矽晶圓或玻璃基板）之基板固持器（未明確展 示），且載物台106可被連接至用於相對於該投影系統1〇8精 確疋位基板114之定位元件pw 132。 投影系統（例如，透鏡）1〇8(例如，石英及/或CaF2透鏡系 統或一包含由該等材料製造之透鏡組件之折射反射系統或 一鏡面系統）可用於將自光束分裂器118接收之該圖案化光 束才又影至該基板114之-目標區c m(例如，—或多個晶粒） 上'^杈衫系統1 08可將個別可控組件114之該陣列之影像 技〜至4基板114上。或者，該投影系統1〇8可投影以個別 可控組件114之該陣列的該等組件充當擔板之次級源之影 ^ °亥扠衫系統108亦可包含一微透鏡陣列（MLA)以形成該 等次級源及將微型點投影至該基板ιΐ4上。 源112 (例如，準分子雷 122直接或在穿過諸如射 饋入至一照明系統（照明 射器）可產生一輻射束122。該光束 束放大器Ex之調節元件126之後被 器）IL 124。該照明器124可包含用 99482.doc -17- 200532395 於设定該光束122中之該強度分佈的外部及/或内部徑向範 圍（通常分別稱作σ-外部與cj-内部）的調整元件am 12 8。另 外’該照明器124通常包含各種其它組件，諸如積光器IN 130及聚光器c〇 132。以此方式，照射在個別可控組件114 之陣列上之該光束11 〇在其橫截面中具有所要的均勻度及 強度分佈。 凊注意，關於圖1，該源11 2可位於該微影投影裝置i 〇〇之 _ 外殼内（舉例而言，當該源112為汞燈時通常為此狀況）。在 替代實施例中，源112亦可遠離該微影投影裝置1〇〇。在此 狀況下，輻射束122可被導入至該裝置1〇〇(例如，借助於合 適之導向鏡）中。當該源112為一準分子雷射器時，此後一 假定通常為該狀況。應瞭解此等兩種假定皆涵蓋於本發明 之範疇内。 在使用光束分裂器118進行導引後，該光束11〇隨後截取 個別可控組件114之該陣列。在藉由個別可控組件丨丨4之該 Φ 陣列反射後，該光束110穿過該投影系統108，其將該光束 110聚集至該基板114之一目標區120上。 借助於該定位元件132(及接收經過光束分裂器14〇之干 涉光束138之底板BP 136上的可選干涉量測元件IF 134)，可 精確地私動基板台1 〇 6以便在該光束η 〇之路徑中定位不同 的目標區120。使用時，個別可控組件丨14之該陣列之該定 位凡件可用於（例如）在掃描期間相對於該光束丨丨〇之該路徑 精確地修正個別可控組件之該陣列114之該定位。概言之， 該載物台106之移動係借助於長衝程模組（粗定位）及短衝程 99482.doc -18- 200532395 模組（精定位）來實現，該等模組在圖丨中未明確描述。一類 似系統亦可用於定位個別可控組件丨丨4之該陣列。應瞭解， 該投影束110可以其它方式/另外地移動同時該載物台1〇6 及/或個別可控組件114之該陣列可具有一固定定位以提供 所需之相對移動。 在該實施例之一替代組態中，該基板台1〇6可被固定，並 且該基板114可在該基板台1〇6上移動。在此完成後，該基 板台106在一平坦的最上部表面上具有許多開口，氣體通過 該等開口饋A以提供-能夠支撐該基板114之氣體塾如s cushion)。此通常被稱作空氣承載配置。使用能夠相對於該 光束no之該路徑精確定位該基板114之一或多個致動器 (未圖不）使該基板114在該基板台1〇6上移動。或者，該基板 114可藉由選擇性地起動及停止氣體通過該等開口之過程 來在該基板台106上移動。 儘管在本文中將根據本發明之該微影裝置⑽描述為用 於曝光-基板上之抗姓劑，但應瞭解：本發明不限於此用 途且該裝置1〇〇可用於在無抗敍劑之微影術中投影—圖案 化投影束11 0。 所述之裝置1 〇 〇用於四種較佳模式： 1·步進模式：將個別可控組件114之該陣列上的整個圖案 一次性地（意即’—單—”快閃”）投影至—目標區12〇上。缺 後將該基板台1〇6W/”方向内移動至一待被 110照射之一不同目標區120的不同定位。 2.掃描模式：除給定目標區12〇不在單一 ”快閃，曝光 99482.doc < 19- 200532395 外’其基本上與步進模式相同。實情為，個別可控組件114 之該陣列可以速度V在一給定方向（所謂的”掃描方向”，例 如’ y方向）上移動，以使該投影束110可於個別可控組件114 之該陣列上方掃描。同時，該基板台106可同時以速度v=Mv 在相同或相反方向内移動，其中M為該投影系統1〇8之放大 么率以此方式，可曝光一相對較大的目標區120而不會損 害解析率。

3·脈衝模式··個別可控組件114之該陣列基本上保持固 疋’且使用一經脈衝調製之輻射系統1 02將該整個圖案投影 至該基板114之一目標區12〇上。該基板台1〇6以一基本恆定 之速度移動以使得該投影束11〇越過該基板1〇6掃描一行。 個別可控組件114之該陣列上之該圖案可&需要在該輻射 系統102之脈衝之間更新且定時該等脈衝以使得連續目標 區120可在該基板114上之所需位置曝光。因而，該投影束 110可越過該基板114掃描以使用於剝離該基板丨14之完整 圖案曝光。重複该過程’直至將該全部基板i 逐行曝光。 4·連續掃描模式··除使用-大體上恆定之輕射系統102 / 4板式基本上與脈衝模式相同，且當該投影束⑽掃描 撼板114且將其曝光時，更新個別可控組件i 之該陣 上之圖案。 亦可運用上述使用槿式 ^ 、式之、、且a及/或變體或完全不同 使用模式。 的 例示性應用案 圖 3及4示意地表現了 根據本發明之各種實施例之一微 99482.doc 200532395 影投影裝置之部分。照明系統5、60產生一輕射束6，在圖3 及圖4之狀況下，該輻射束6係藉由一輕射分配系統7來分配 至複數個光引擎8,該等光引擎8圖案化該輕射束且將盆投 影至一基板9上。各光引擎8包括一用於根據一所要圖案來 圖案化一輻射束之個別可控組件之一陣列及一用於將該圖 案化光束投影至該基板上之投影系統。該等光引擎亦可包 括用於在該輻射束入射在個別可控組件之陣列上之前製備 鲁職射束的額外組件。舉例而言，其可包括用於補償該等 光引擎8接收來自該輻射分配系統7之輻射之角度的組件。 應瞭解··除了具有單獨投影系統外，複數個光引擎可配 置有一共同的投影系統以同時將由個別可控組件之該等陣 列產生之該圖案化光束投影至該基板上。各通道亦可具有 一部分鏡面以使一定量的輸入輻射偏轉從而不斷監控^通 道中之該輻射的強度。此外，亦應意識到本發明不限於與 用於圖案化該等輕射束之個別可控組件之陣列一起使用。 籲概3之，可使用賦予該輻射束之該橫截面-圖案的任何圖 案化元件來替代所述之個別可控組件之該等陣列。 圖2祂繪一實施例，其中存在若干輻射源60a、60b、60c、 6〇d ’ 60e及60f，各輻射源供給一光引擎8。可組合任何數 目之_源與光引擎’並且如下文所述，可在複數個光引 ，I 8之間分割來自_個源之輻射或可組合來自複數個源之 • 射、將其輸入至一單個光引擎中。目為複數個源向複數 個光引擎供應輕射，所以線内（in-line)輻射劑量監控可使用 偵測為系統62來進行。該偵測器系統可包含一用於各韓射 99482.doc 200532395 源60之一單獨偵測器且涉及一該等偵測器之間的校正步 驟，及/或其可包含在該等輻射束之間移動之較少數目的偵 測器。使用部分鏡面及/或其它光學導引器，可將該等光束 中之母一個的一部分導引至一監控該等光束強度之偵測 器。 輻射分配系統7係描繪於圖3中且其包含一旋轉地安裝在 來m明系統5之該輻射束6之該路徑中的反射器。在不 • 同的疋轉角度5亥等反射态將來自該照明系統之該輻射束6 反射至不同光引擎8。因而，當一驅動器（未圖示）使該反射 器7旋轉時，來自該照明系統5之該輻射又被導引至該等光 引擎8中之每一個。該反射器7可經配置以使其可相應旋轉 以㈣該輻射係沿一列光引擎S來回地導引。為達成此，該 反射器可藉由壓電致動器、靜電式致動器、勞舍兹致動器 或任何”匕口適的凡件來致動。或者，該反射器可經配置 使其以7恆疋速度圍繞一軸線旋轉，以使得該輻射係沿該 籲二光引擎8來反覆地導引。該輕射分配系統7之該旋轉反射 口口可為如圖3中所示之平坦組件。在該配置中，該平坦組 件之兩側皆可包含反射性表面，以使得在該組件之各半旋 轉中又將該輻射分配至該等光引擎8中之每—個。或者，$ 旋轉反射器可為任何形狀，當其旋轉時將輻射導引至不同/ 先引擎8。在一實例中，該輻射分配組件之該平坦反射器被 曰換為_有圍繞一軸線安裝的複數個反射性表面且呈有 不㈣多邊形形狀之輻射分配組件。當該輻射分配时旋 轉日”各反射性表面又與來自該照明系統5之該輻射束6相 99482.doc •22· 200532395 ::在广f過程期間，各反射性表面提供給來自該照明系 、、一之4射束6之角度改變。因❿，由該反射性表面反射 ::輪射束亦在該時間内改變方向。因此，以-對應於與 弟—實施例相關之上述方式之方式，各反射性表面可用 :在輪射截取來自該照明系統5之該輕射束6期間依次在該 專輻射分配通道中之每—個之間分配該輕射。

θ應：解：儘管該等圖顯示光引擎8被配置成一單獨列，但 是在實踐中’該等光引擎可被便利地配置成任何方式，例 如兩列或兩列以上。因Λ，必須在垂直於該等圖之平面之 方向内以及在所示平面时配來自該照明系統5之該輕 射。此可精由使該輻射分配系統7之該反射器不但繞一垂直 於(比如)圖3之平面的軸線旋轉，而且(或許在一更受限制的 乾圍内)繞-第二正交軸線旋轉來配置。或者，該反射器可 圍繞圖3中所示之一單一軸線分配該轄射且可提供分配組 件以將該輻射傳送至該等光引擎8。 作為另一變體，來自該輻射分配組件7之該輕射可不必直 接導引至各光引擎。相反，各輻射分配通道可包括一或多 個輻射束分裂器，其用於分割在任何給定瞬間被導引至該 通道之该輪射且將其分配給兩或兩個以上 疋拏。類似 地，各光引擎可包括個別可控組件之一或多個陣列，該等 組件在相同場内被照射及/或共用一共同的投影系統 雖然該照明系統5通常使用一恆定源（例如， —用於製造 平板顯示器之的恆定UV源），但該照明系統5可以有規律的 間隔產生輻射脈衝，意即，該照明系統5包括—經脈衝調製 99482.doc -23- 200532395 之輕射源。此狀況下，使嗲γ

.c 吏。亥幸田射分配組件7之旋轉盥嗲0刀M 糸、、充5之脈衝率同步。舉 /、μα月 配組件7之一 °違丹步可為：在該#Μί分 度旋轉且為雙:的^ 於所需角度之各時二 射分配通道中之每—個(/==_反射至該等輕 a敬〇、 —直接反射至圖3中所示之該笨氺 引擎8)。或者，舉例 之Μ先 5亥同步可為··在各旌餹如Μ 該照明系統僅為該等_ M Hu 各疋轉d間， m “ 射刀配通道中之一者提供脈衝或在 各凝轉中為交替通道提供輻射。 應瞭解：亦可考唐直 二、， 匕作週期。舉例而言，若如上所 淪述，光引擎8被配置成— 斤 射分配組件7圍繞一垂直 ，、、、 μ輻 ^ 罝於圖3之平面之軸線的各次旋韓 中，该照明系統為一單獨列巾 习〜r之違專光引擎8中之每一 供轄射脈衝。隨後，該輕射分配組件圍繞該第二軸線移動 :該輕射分配組件7的下次旋轉將輕射傳遞給另一列光引 筆0 因而，如上所述，該輕射分配組件7具有一工 該工作週期中來自該昭明系 / ^ …、月糸統之該輻射被依次分配給複數 個輻射分配通道。隨後，該等 考丁刀配通道中之每一個將 該輪射導引至含有用於圖幸化q ^ 、 口茶化4專輻射束之個別可控組件 之陣列的-或多個光引擎。因此，當照射個別可控组件之 -陣列且將由此得到的圖案化輻射束投影至該基板上時， 個別可控組件之其它陣列可正在 牡運仃下一個圖案的設定。 因為經脈衝調製之輻射源提供_ 捉仏軺射脈衝比可將個別可控組 99482.doc -24- 200532395 件之:車列設娜斤圖案更快，所以此係有用的。因此，藉 由將f自早個照明系統之輻射的脈衝分配給個別可控組 二之稷數個陣列’可更為有效地使用該照明系統，且（例如） 右各光引擎需要獨立的照明系統，則裝置之尺寸及費用可 更少。 、 應瞭解：除使該輕射分配系統與該經脈衝調製之輻射源 5卜有必要使其兩者與個別可控組件之每—陣列上 之圖案的更新同步。 對於給絲目之用於將圖案化㈣束投影至該基板上之 光引擎而言，該衷置可包括：一照明系統，其具有與光” 擎數目相同之輻射源；-用於組合由該等源中之每一個產 生之該等車昌射束的系統；及隨後，一如上文或下文所述之 用於在4等光引擎中之每—個之間重新分配該輻射 分配系統。 應瞭解：概言之，任何數目之源可與任何數目之光引擎 :合使用。此外，即使該經組合輕射束之強度仍會有一點 夂化另仁與一使用與各光引擎相關聯之複數個獨立照明系 統冗置相比，在一給定時刻被圖案化且被投影至基板丄 之該等輻射束之該等強度之間的差異可減小。 圖2描綠監控被輸入至該等光引擎中之該輕射的強度之 π列偵測62及一大體上在基板水平上、監控該等光引 擎及投影系統後之光的強度之债測器2 〇。使用此等偵測器 62' 20或個別偵測器之組合，可能需要頻繁的校正步驟， 在該步驟中該系統之整體強度得到校正；及一較不頻繁的 99482.doc 200532395 校正步驟，其勺 第―、更為=及補償穿過各通道之強度分佈。該 生，較不頻，的：步驟可在各基板與後面的基板之間發 示娜=圖4:可在(例如)各批基㈣ 引擎8中測11 22°⑽器22沿輸人至該等光 係沿(例如 擎之輸人或”移動或—探針或光學導引料沿該等光引 系統旁靜止之ΐ 而將該㈣之—部分導引至在該 ^ ^。事實上，亦可能需要一單個的大 :板位準偵測器，其覆蓋所有光引擎 陣列。由於光之相同分配強度照射…: ^貞心上’相對於無重疊而言，偵測器範圍内之重疊可 地校正該等偵測器。 除此，外或另-選擇，偵測器可被置放在該等光引擎8 内。^等偵測器用作與圖2之價測㈣相同的目的。在該輕 、疋被要求用於投影至該基板時可偵測該輻射強度，或 可使用一部分鏡面或類似物將該輻射之一部分導引至該 偵測器。 由^該輻射分配組件7中之缺陷或該輻射源5之差異，進 入该等光引擎8中之每一個的該輻射可能不均勻。若係此狀 况則5亥债測益22將該資訊反饋給補償強度之差別的補償 系統。藉由量測來自該等光引擎8且預定投影至該基板9上 ，該圖案化輻射之強度，偵測器2〇可取代或輔助偵測器 22。舉例而言，當輻射穿過圖案化元件時，此偵測器量測 由光引擎自身導致之輻射的任何差異。偵測器Μ更適合用 99482.doc -26- 200532395 於各光引擎具有其特有的投影丰έ 又〜糸統的狀況下。由於比僅具 有一個投影系統更可能產生投影 /、 〜軛射之至異，在彼狀況 下，在光引擎後置放一偵測哭争 貝』的更加重要，因為有更多組件 需要校正。 補償輻射之差異有若干方法。第_ 禾 種方法係經由該圖案 化元件。若一諸如偵測器22之偵旦 谓而為夏測不同於其餘的輸 入輻射強度之輸入至該圖案化元株 二 口系化兀件之輻射，則其可將此資 訊饋給該圖案化元件，該圖案化 疋件改變待投影至該基板 上之韻案的強度。舉例而言，若偵測器別量測相對於1 它光引擎輸出之該圖案化輕射之該強度的差異，其將⑽ 減饋給—補償系統，且由光引擎導致之任何差異可（例如） 藉由偏移個別可控組件以導引 守W个问里之輻射來補償，從而 使該圖案保持相同而該圖荦中 α茶干之忒輻射的強度不同（亦稱 為灰階）。 在一實施例中，該圖案化元件中 ιτ Υ I该等個別可控組件可 經偏移以影響自該光引擎輸出 〆_ 侧Θ圖案中之各點的強度。 更詳言之，個別可控组件之_十夕 1干之或多個陣列接收來自該投 料'統之輕射且該等組件被單獨偏移以創建圖案，該圖案 係藉由投影在該基板上之輻射的較大或較小強度而形成。 若提供給該等個別可控組件之強度高於進入立它光引擎之 輸入’則該等組件可偏移一不同的量以改變該灰階及減小 被^引至$投影系統之純射的強度。另 發現與-光引擎相關聯之投影系統較與另—光引擎;： 之才又影糸統使輪射衰減的更多’則可改變該灰階以增加導 99482.doc -27- 200532395 引至該投影系統之該強度。 可使輕射強度變得均勾之另一方式係藉由安裝衰机 该專衣減錢前往該# Μ擎或自㈣擎出來之輕 減，其中由彼等光引擎投影之幸畐射大於其餘光引擎投影之又 輕射。㈣光束之衰減可在圖案化元件後發生，但盆較户 在圖案化元件前發生’因為相對於已圖案化之光束，使： 未圖案化之光束衰減更容易。可能藉由（例如）補償各通道中

劑量的不均勻性僅使一弁壶夕立β八 >、上 ^尤釆之部分哀減，但此亦較佳在該 光束已進入該圖案化元件之前完成。 圖4顯示該輻射分配系統之不同實施例。此提供一可同時 為兩或兩個以上輻射分配通道（或光引擎8)提供輕射的轄射 分配系統。特定而言，若使用一經脈衝調製之照明系統， 則輻射分配組件30可在該等輻射分配通道之間分割各脈 衝。此外，如上所述，所示之配置可用作一在該等輻射分 配通道中之一者内的光束分割器。 如圖4中所示’該輕射分配組件3 〇包含複數個區段3 ^、 32、33、34、35、36，各區段與一輻射分配通道或光引擎8 相關聯。各區段包含一對所用之輻射而言係大體上透明的 材料，且特定而言，各區段可由玻璃棒、石英棒或CaF2棒 製成。然而，應瞭解··此等區段之橫截面形狀可為任何適 宜形狀，且不必機械連接該等區段。 弟一區段3 1具有一接收來自該照明系統5之一輻射束6之 第一端31b。在另〆端，該第一區段具有一與該輻射束6成 一角度配置之部分反射的表面3 1 a。該輻射束6之一部分被 99482.doc -28- 200532395 從該輻射分配組件30反射至一相關輻射分配通道或光引擎 8。該輻射束之剩餘部分穿過該部分反射的表面進入該輕射 /分配組件30之第二區段32。如所示，該第二區段經適宜地 成型以使得接收該輻射之端具有一對應於該第一區段之部 分反射的表面3U之形狀。然而，此不必是該狀況。該第二 區段32在相對端亦具有—類似於該第—區段之部分反㈣ 表面之部分反射的表面，其又從該輕射分配組件％内反射 籲乘>1餘“射束之-部分且允許剩餘輻射進入第三區段。此可 杈而要重複，直至最後區段(在所示實例中為第六區段Μ) 具有-用於將來自該照明系統5之該輻射束6的剩餘部分反 射至該相關輻射分配通道或光引擎8中之完全反射的表面 36a ° 藉由適田配置s亥等部分反射的表面，該輻射分配組件3 〇 可經配置以將來自該照明系統5之該輻射束6分割成在各輻 射分配通道中具有相同強度之複數個光束。舉例而言，可 在每一該等部分反射的表面上使用不同的塗層。用於該等 土層之合適材料包括氟化物，諸如冰晶石。此外，可被導 引至3亥寺轉射分配通道中之每_個的該輕射束6之此例將 隨時間保持恆定。因此，若該輕射強度之分配不十分均句， 則可量測該等韓射分配通道中之每—個之相對強度且在如 上所論述之裝置的剩餘部分中適當補償。 應瞭解：如同先前實施例’可將該等輻射分配通道或光 引擎8可配置成除圖4中所示之單獨列之外的形式。在此狀 况下’輻射分配組件可用以相應地導引該輻射，或可使用 99482.doc -29- 200532395 圖3中所不之該輻射分配組件3〇之該配置的變體。舉例而 言，全部的反射器可被配置在該輻射分配組件3〇之一或多 個區段之間以使得無需對準該輻射分配組件3〇之該等個別 區段。類似地，亦可使用區段31、32、33、3[ 35及36之 替代組態。舉例而言，可在相反方向使替代區段之部分反 射=表面形成角度，使輻射從該分配組件之相反側内反射 至第邛刀反射的表面。接著可配置平面反射器以9〇〇角反 射轄射束之所有部分(例如，進入圖4之平面），從而產生可 直接投影至兩列光引擎之兩平行的㈣束列。 該等偵測器及該等補償元件之該反饋系統顯示於圖5 中。校正資訊4〇係在該微影裝置之安裝期間測定。此資訊 包括輸入輕射之強度及根據需要圖案化該輻射所需之該圖 案化元件的定位。 在-基板之各圖案化過程之間，該㈣測器2G、^62 2引擎8之前或之後中任-者監控輕射之實際強度且比 :各光：擎8之強度與其他光引擎中之強度及校正資訊 。右由债測器20或22量 度先引擎8中之該輕射的強 二匕先引擎中之強度及校正資訊相同，則補償系統44 起作用。然而，若對於特定 補^ ^ 、特疋先引擎8存在強度差異，則該 補仏糸統44使用（例如）圖荦 食 荼化兀件48或哀減器46之灰階性 月匕補彳員此差異以使多餘的輻 射輸出變得均勻。該輸出二“所有光引擎之輕 判定 1 ^出視情況可被偵測器20感測。此可 J疋该補乜糸統已視需要補 臣^ 茺補秘了 5亥產異。該等偵測器亦可 凰拴與個別可控組件之一 J中之，亥4個別組件相關之資 99482.doc '30- 200532395 訊。以此方式，不但可調整一完整光引擎之強度，而且可

基於该所接收之資訊藉由韻靈I 符田祝而要偏移该荨受監控之組件調 整個別組件之強度。 進一步輸入輻射係藉由偵㈤器2 0或2 2來量測以判定是否 仍存在差異且可對其進行補償。若感測到所有光引擎8具有 相等的偏移’則不但該等個別可控組件需要強度補償，而 且該源亦需要強度補償。

、當然，I貞而易見，該等制器中任—個可以任何組合形 式用於該等實施例中之任一者，且為清楚起見，已將其展 示在本文之單獨實施例中。 儘官已於上文中描述了本發明之各種實施例，但應理 解〜亥寻貫施例僅以實例形式提出而非限制。熟習相關技 術者應瞭解，可在此對形式 丁心式及細即作各種改變而不脫離本 發明之精神及範疇。因此， 、、_ U此本發明之乾圍及範疇不應受到 上述例示性實施例中杯_水 者的限制，而應僅根據隨後之申 請專利範圍及其均等物來界定。 【圖式簡單說明】 圖 圖 1描繪根據本發明 2描繪根據本發明

之一實施例之一微影裝置。 之第一實施例之該裝置之部分的配 圖3彳田繪根據本發明之第 置。 二實施例之該裝置之部分的配 圖4描繪根據本發明 之第三實施例的該裝置之部分的 配 99482.doc -31 - 200532395

圖5描繪根據本發明之反饋系統之流程圖。 現將參看該等附圖來描述本發 相同 ^ η 隹该等圖式中 的爹考數字可指示相同或功能上類似的組件。 【主要元件符號說明】

5 照明系統 6 輻射束 7 輻射分配系統 8 光引擎 9 基板 20 偵測器 22 偵測器 30 輻射分配組件 31 、 32 、 33 、 區段 34 、 35 、 36 31a 部分反射的表面 31b 第一端 36a 完全反射的表面 60 輻射源 6〇a 、 60b 、 60c 、 輻射源 60d 、 60e 62 偵測器系統/偵測器 100 微影投影裝置 102 幸昌射糸統 99482.doc -32- 200532395

104 106 108 110 112 114 118 120 122 124 126 128 130 132 134

個別可控組件PPM 載物台WT 投影系統PL 輻射投影束PB 輻射源LA 個別可控組件/基板W 光束分裂器 目標區C 輻射束 照明系統（照明器）IL 調節元件/射束放大器Ex 調整元件 積光器IN 聚光器CO ;定位元件PW 干涉量測元件IF 136 138 140 底板BP 干涉光束 光束分裂器 99482.doc -33 -

Claims (1)

1. 200532395 十、申請專利範圍： 1. 一種微影投影裝置，其包含： 一提供一輻射束之輻射系統； 一固持一基板之基板台； 用於根據一所要圖幸夹 茶不圖案化一源自該輻射系統之一 輪射束之複數個圖案化構件； 一將該圖案化光束投影 ^ 至σ亥基板之一目標區上之投影 糸統； 一將來自該輻射李铱> # 一 糸、、先之该輪射分配至該等圖案化構件 之幸*射分配元件； 多個輻射分配通道；及 一量測與該等圖宰化椹Α > 茶化構件中之每一個相關聯之該輻射 之強度的輻射偵測系統， 其中该幸§射分配元件將夾 ^ 予术自该輻射系統之該輻射導引 數個該等輻射分配 ^ F1 ^ ^ ^ . 且该荨輻射分配通道為該 等圖案化構件提供輻射束。 2. 如請求们之微影投影 依序偵测盘各圖㈣… 射_糸統包含- 3. 如往杰件相關聯之輕射的谓測器。 等圖案化禮杜由— 八fμ偵測盗移動穿過與該 4. 如許，“ 母—個相關聯之該輻射的-部分。 明，項2之微影投影系統，i 一牛 相關聯之探針，1Φ兮 八 /匕3 —與該偵測器 η炙刼針，其中該偵測器係大體上 移動穿過與該等圖荦疋的且该楝針 的-部分。㈡案化構件中之母-個相關聯之該輻射 99482.doc 200532395 5 ·如請求項1之微影投影 個偵測器，其中各：二統：其中該輕射偵測系統包含多 相關聯。 “、…亥專圖案化構件中之每-個 6·如請求項1之微影投影系統 開该輪射分配系統之輕射。 7·如請求項1之微影投影系統 開該分配通道之輻射。 8.如請求項1之微影投影系統 其中该輪射谓測系統谓測離 其中该輪射谓測系統價測離 其中该Y貞測系統偵測在該等 胃 /、 I u|片汐 圖案化構件與該投影系統之間的輻射。 二:求項1之从影投影系統，其中該偵測系統伯測離開該 才又衫糸統之韓射。 m請求項1之微影投影裝置，其進一步包含-調整與至少 一圖案化構件相關聯且係由該投影系統來投影之轄射之 強度的補償系統。 Θ长員10之u衫投影裝置，其中該補償系統獨立地調 正與㈣®案化構件中之每—個相關聯之該輻射之該 度。 12·如請求項1〇之微影投影裝置，其中： 該等圖案化構件中的至少一個係個別可控組件之一陣 列，其可經設定以在一輻射束之橫截面中賦予盆一 圖案； 各獨立可控組件經設定為複數個狀態中的一種，在該等 狀怨期間，不同比例之該輻射被導引至該投影系統；且 该補償系統藉由改變該等個別可控組件中之每一個的 99482.doc 200532395 設定來調整該㈣，以使得該_之該圖賴以維 同時改變該輻射之該強度。 13.如請求項12之微影投影裝置，其進一步包含一控制系 統，=控制系統在該輻射被投影至該基板之一部二上二 用先前_到且儲存之輕射強度資料更新該補償系统，寸 其中該儲存資料係當該等圖案化構件經設定以使所有該 等個別可控組件、經設定為相同狀態時該強度差異之—旦 測值。 、 里 14·如請求们〇之微影投影裝置，其中該補償系統包含—輕 射哀減器，該轄射衰減器使與至少—圖案化構件相關： 且係由該投影系統來投影之該輻射衰減。 15.^求項1Q之微影投影裝置，其中該補償系統調整與至 少-圖案化構件相關聯且係由該投影系統來投影之該輻 射之一部分的強度。 X S 16·如請求項1G之微影投影裝置，其進_步包含—控制系 統控制系統在該輕射被投影至該基板之―部分上時 用先則偵測到且儲存之輻射強度資料更新該補償系統。 17. 如請求項10之微影投影裝置，其進一步包含一控制系 統二該控制系統在輻射被投影至該基板之一部分上時用 ^前偵測到之韓射強度資料更新該補償系、統，其中該先 =測到之㈣強度資料對應於在當前操作之前由該輕 射偵测系統偵測且儲存在一儲存媒體中之資料。 18. 如請求項1〇之微影投影裝置，其中： 該轄射偵測系統偵測該輻射分配系統與用於該等圖案 99482.doc 200532395 化構件中之母個之輪射分配通道中的至少一者之輕射 強度的差異；且 該補償系統經配置以補償輻射強度之此差異。 1 9 ·如請求項1 〇之微影投影裝置，其中·· 該輻射偵測系統經配置以偵測用於該等圖案化構件中 之每一個的該投影系統中之輻射強度的差異；且 該補償系統經配置以補償輻射強度之此差異。 20. —種杈正一微影投影裝置中之輻射強度的方法，其包括： 當一圖案化構件致使個別可控組件被設定在一相同狀 心時偵測一微影投影裝置中在許多階段中任一者内之 輻射的強度； 將泞夕&奴中任一者内之該輻射強度資料儲存在一 存媒體中； 偵測《亥U衫投影裝置在運行時於相同階段之裝置内的 該輻射之該強度； Φ 在Λ微〜杈心裝置在運行的同時使用一控制系統比較 該儲存資料與所獲取之資料；且 使用紹貝I统以根據該控制系、統之一輸出調整 射之該強度。 ^ 2 1. —種元件製造方法，其包含·· 提供一基板； 要圖案來圖案化源 使用釔射系統提供一輻射投影束 使用複數個圖案化元件以根據一所 自該輻射系統之輻射束； 99482.doc 200532395 =等=輻射束投影至該基板之1標區上;且 複數個分::、Γ!將來_射系統之該議由 田射刀配通道分配至該等圖案化構件； 使用一輻射偵測器量測等’ 強度。 射刀配通逼中之該輻射 22· —種元件製造方法，其包含·· 提供一基板； 使用一輻射系統提供一輻射投影束； 使用數個圖幸1 ν 4. 純70件以根據-所要圖案來圖案化源 自違輪射糸統之輻射束； 將該等圖案化輻射束投影至該基板之一目標區上；且 、/吏用：輻射分配元件將來自該輻射系統之該輻射經由 複數個輻射分配通道分配至該圖案化元件，· 使用一輻射偵測器量測該等輻射分配通道中之該輻射 強度，該輻射偵測器輸出該等輻射分配通道中之每2 的強度值；且 、固 補償該等輻射分配通道之該輻射強度的任何差別。 99482.doc