JP4166749B2 - リソグラフィ装置及びデバイス製造法 - Google Patents
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Description
第1のパターンに従ってパターン化された少なくとも1つの基板を検査する工程と、
前記検査により創出されたデータに応答して第2のパターンを創出する工程と、
第2の基板を設ける工程と、
照明システムを使用して投影放射線ビームを調整する工程と、
前記投影ビームに対してその断面に前記第2のパターンを与えるために個々に制御可能な素子のアレイを使用する工程と、
前記パターン化された放射線ビームを前記第2の基板の目標部分上に投影する工程と、
前記第1のパターンに従ってパターン化された基板に前記第2の基板を添着する工程とを含む。
第1のパターンに従ってパターン化された基板を検査するための検査システムと、
前記検査により創出されたデータに応答して第2のパターンを創出若しくは修正するための制御装置と、
投影放射線ビームを調整するための照明システムと、
前記第2のパターンに従って前記投影ビームをパターン化するための個々に制御可能な素子のアレイと、
第2の基板を支持するための基板台と、
前記パターン化されたビームを前記第2の基板の目標部分上に投影するための投影システムとを備える。
制御可能なミラー・アレイ。これは、粘弾性的制御層を有するマトリクス・アドレス型(matrix−addressable)の表面及び反射表面を含む。斯かる装置の背景にある基本原理は、例えば、反射表面中のアドレス指定された領域が入射光を回折光として反射し、一方アドレス指定されなかった領域は、入射光を非回折光として反射するというものである。適切な空間フィルタを用いることで該非回折光を反射ビームから濾過できるので、回折光のみを基板に達するようすることができる。この方法によりビームは、マトリクス・アドレス型の表面のアドレス指定パターンに従ってパターン化される。代案として、フィルタは、回折光を濾過して、非回折光を基板に達するようにしてもよい。回折光MEMSデバイスのアレイを類似の方法で使用しても良い。各回折光MEMSデバイスは、お互いに対して相対的に変形し入射光を回折光として反射する格子を形成する複数の反射リボンからなる。制御可能なミラー・アレイの更なる代案として、小さい鏡のマトリクス構成を利用するものがある。適切な局部的な電界を印加することにより、若しくは圧電作動手段を用いることにより、軸を中心にして各ミラーをそれぞれ傾斜させることができる。この構成においても、ミラーは、マトリクス・アドレス型であり、アドレス指定されたミラーは、入射放射線ビームをアドレス指定されなかったミラーとは異なる方向に反射する。この方法により、反射されたビームは、マトリクス・アドレス型ミラーのアドレス指定パターンに従ってパターン化される。必要なマトリクス指定は、適切な電子手段により実行される。上記に説明された両方の場合において、個々に制御可能な素子のアレイは、1つ若しくは複数の制御可能なミラー・アレイからなることができる。本明細書で言及したミラー・アレイに関する更なる情報は、例えば、参照として本明細書に組み込まれている米国特許第5,296,891号及び5,523,193号、並びにPCT特許出願WO 98/38597及びWO 98/33096から収集可能である。
制御可能なLCDアレイ。斯かる構成の実施例は、参照として本明細書に組み込まれている米国特許第5,229,872号に開示されている。
放射線(例えば、UV線)の投影ビームPBを供給するための照明システム(照明器)ILと、
パターンを投影ビームに適用するための個々に制御可能な素子のアレイPPM(例えば、制御可能なミラー・アレイ)と、(一般に、個々に制御可能な素子のアレイの位置は、アイテムレンズPLに関連して固定されるが、該アレイPPMは、そうではなく、アイテムレンズPLに対して該アレイPPMを正確に位置決めするための位置決め手段に接続される。)
アイテムレンズPLに対して基板(例えば、レジスト塗布されたウェハ)Wを正確に位置付けするための位置決め手段PWに結合された、基板を支持するための基板台(例えば、ウェハ台)WTと、
個々に制御可能な素子のアレイPPMにより投影ビームPBに与えられたパターンを基板Wの目標部分C(例えば、1つ若しくは複数のダイ)上に画像化するための投影システム(「レンズ」)PLを含む。投影システムは、個々に制御可能な素子のアレイを基板上に画像化する。或いは、投影システムは、個々に制御可能な素子のアレイの素子がシャッターとして作用する、第2のパターニング源(source)を画像化しても良い。投影システムはまた、例えば、該第2のパターニング源を形成してマイクロスポットを基板上に画像化するために、マイクロ・レンズ・アレイ(MLAとして知られている)若しくはフレスネル・レンズ・アレイなどの焦点素子のアレイを含んでも良い。
1.ステップ・モード:個々に制御可能な素子のアレイは、パターン全体を投影ビームに与え、該パターン全体は一気に(即ち、単一静的露光)目標部分C上に投影される。基板台WTは次にX、及び/若しくは、Y方向に移動させられ、別の目標部分Cを露光することができる。ステップ態様では、単一静的露光で画像化される目標部分Cのサイズは、最大露光領域サイズに制限される。
2.スキャン・モード:個々に制御可能な素子のアレイは、所与の方向(いわゆる「走査方向」で、例えばY方向)に速度vで移動可能であるので、投影ビームPBは、個々に制御可能な素子のアレイ上を走査することになる。それと同時に、基板台WTは、同一若しくは逆方向に速度V(Mv)で同期して移動する。ここで、MはレンズPLの拡大率である。走査態様では、単一動的露光における目標部分の幅(非走査方向)は、最大露光領域サイズに制限されるが、目標部分の高さ(走査方向)は、走査運動の長さで決まる。
3.パルス・モード:個々に制御可能な素子のアレイは、実質的に静止して保持され、該パターン全体は、パルス放射線源を使用して基板の目標部分C上に投影される。基板台WTは、本質的に一定速度で移動し、投影ビームPBは基板Wを横切る線を走査することになる。個々に制御可能な素子のアレイ上のパターンは、必要に応じて放射システムのパルスとパルスとの間で更新され、パルスは、連続した目標部分Cが基板の所要の位置で露光されるようにタイミングが取られる。結局、投影ビームは、基板Wを横切って走査し、基板の剥離のための完全なるパターンを露光できる。該プロセスは、線順次で基板全体が露光されるまで繰り返される。
4.連続スキャン・モード:実質的に一定の放射線源が使用され、個々に制御可能な素子のアレイ上のパターンは、投影ビームが基板を横切って走査し、露光する間に更新される点を除くと、本質的にパルス・モードと同じ。
2 リソグラフィ投影ユニット
3 検査ユニット
4 第2のリソグラフィ投影ユニット
5 第2の検査ユニット
6 組み立てユニット
11 リソグラフィ投影ユニット
12 検査ユニット
13 格納ユニット
14 組み立てユニット
AM 調整手段
BD ビーム送出システム
CO 集光器
IF 干渉測定手段
IL 照明器
IN 積分器
PB 投影ビーム
PL 投影システム
PPM 個々に制御可能な素子のアレイ
PW 位置決め手段
SO 放射線源
W 基板
WT 基板台
Claims (11)
- 第1のパターンに従ってパターン化された少なくとも1つの第1の基板上の欠陥を検出するために検査する工程と、
前記検査により創出されたデータに応じて、第2の基板のパターン化に使用される第2のパターンのパターン・データを修正して、前記第1の基板上の欠陥を目立たなくするよう恒久的にオフの画素を創出する工程と、
第2の基板を設ける工程と、
照明システムを使用して投影放射線ビームを調整する工程と、
前記投影ビームをパターン化するための個々に制御可能な素子のアレイを、修正されたパターン・データに応じて設定する工程と、
前記個々に制御可能な素子のアレイを使用して、前記投影ビームに対してその断面に第2のパターンを与える工程と、
パターン化された投影ビームを前記第2の基板の目標部分上に投影する工程と、
前記第1の基板に前記第2の基板を添着する工程とを含む、デバイス製造方法。 - 検査される前記第1の基板は前記第2の基板に添着される基板である、請求項1に記載のデバイス製造方法。
- 前記第1のパターンに従ってパターン化された第1の複数の基板のうちの少なくとも1つを検査する工程と、
前記検査により創出されたデータに応答して第2のパターンを創出する工程と、
前記第2のパターンに従ってパターン化された投影放射線ビームを第2の複数の基板上に投影する工程と、
前記第2の複数の基板の中の1つに対して前記第1の複数の基板の中の1つを添着する工程とを含む、請求項1に記載のデバイス製造方法。 - 前記第1の複数の基板の全てが検査される、請求項3に記載のデバイス製造方法。
- 検査された少なくとも1つの基板は、
基板を設ける工程と、
照明システムを使用して投影放射線ビームを調整する工程と、
前記投影ビームに対してその断面に前記第1のパターンを与えるためにパターニング装置、好ましくは個々に制御可能な素子のアレイを使用する工程と、
前記パターン化されたビームを前記基板の目標部分上に投影する工程を含む、請求項1から4までのいずれか一項に記載のデバイス製造方法。 - 前記検査により創出されたデータに応答して所望のパターンに対応するように第2のパターンのパターン・データを修正する工程と、
前記個々に制御可能な素子のアレイを設定するために、前記修正されたパターン・データを使用して制御信号を創出する工程とを含む、請求項1から5までのいずれか一項に記載のデバイス製造方法。 - 前記個々に制御可能な素子のアレイを設定するために、形成されるべき所望のパターンに対応するようにパターン・データを使用して制御信号を創出する工程と、
前記検査により創出されたデータに応答して前記制御信号を修正して、前記個々に制御可能な素子のアレイを設定するために制御信号を提供する工程とを有する、請求項1から5までのいずれか一項に記載のデバイス製造方法。 - 前記第1の基板は、フラット・パネル表示装置のカラー・フィルタ板を形成するために使用され、前記第2の基板は、前記フラット・パネル表示装置の能動板を形成するために使用される、請求項1から7までのいずれか一項に記載のデバイス製造方法。
- 前記第2のパターンを創出する前記工程は、基板上に露光されるべき形態を有する設計パターンを前記基板上に露光されるべき形態の寸法を調整することにより、及び/若しくは、前記基板上に露光されるべき形態同士の距離間隔を調整することにより修正する工程を含む、請求項1から8までのいずれか一項に記載のデバイス製造方法。
- 前記第1及び前記第2のパターンは、前記第2の基板が前記第1のパターンに従ってパターン化された基板へ添着される際に少なくとも部分的に形成されるデバイスの形態に対応する、請求項1から9までのいずれか一項に記載のリソグラフィ投影装置の使用方法。
- 第1のパターンに従ってパターン化された少なくとも1つの第1の基板上の欠陥を検出するための検査システムと、
前記検査により創出されたデータに応じて、第2の基板のパターン化に使用される第2のパターンのパターン・データを修正して、前記第1の基板上の欠陥を目立たなくするよう恒久的にオフの画素を創出する制御装置と、
投影放射線ビームを調整するための照明システムと、
修正されたパターン・データに応じて、前記投影ビームに対してその断面に第2のパターンを与えるように設定される個々に制御可能な素子のアレイと、
第2の基板を支持するための基板台と、
パターン化された投影ビームを前記第2の基板の目標部分上に投影するための投影システムを備える、リソグラフィ投影装置。
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