TW200411205A - Plastic films and image display devices - Google Patents

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200411205 玖、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於防止干涉斑（interference fringe)並提高視 認性之塑膠薄膜。尤其是關於一種即使在三波長螢光燈下 也幾乎看不到干涉斑之附加硬質塗敷薄膜（hard coat film) 、黏著劑層之塑膠薄膜、並且該等塑膠薄膜之中間製造物 的附加基底層（primer layer)之塑膠薄膜、及將機能性層積 層而成之機能性塑膠薄膜。 另外，本發明也關於具備本發明塑膠薄膜之影像顯示裝 置。 【先前技術】 近年來，透明塑膠基材在用作爲貼在塑膠製品、液晶顯 示器（LCD)等塑膠表面顯示器、行動電話或可攜型遊戲器之 顯示板、觸控面板等上以賦予抗擦傷性，玻璃製品或陰極 射線管（CRT)、電漿顯示面板（PDP)等玻璃製顯示器表面之 防飛散性、防反射性、防污染性等諸功能所需之硬質塗敷 薄膜或防反射性膜等基材方面之需求，正在日益增加中。 其中，聚酯樹脂系薄膜，特別是聚對苯二甲酸乙二醇酯 (PET)之雙向拉伸薄膜，由於具有優越的機械性質、耐燃性 或抗化學藥品性等，作爲上述機能性薄膜的基材薄膜之需 求增加更是顯著。 在使用該等透明塑膠基材所製成之機能性塑膠薄膜時’ 大都係於基材上直接或介以薄膜之易接著層等而形成由有 機化合物樹脂構成之厚度爲約數微米至50微米之機能性層 200411205 ，例如形成硬質塗敷層等硬化層。相對於PET膜之折射率 (面方向）爲1 ·65，例如經由聚酯樹脂等有機化合物所形 成之硬質塗敷層之折射率，通常則爲以1.53爲中心而在 1.50至1.56，以致有0.10以上之折射率差存在。因此，基 材爲PET之機能性薄膜，則包含：1)由於界面之反射率高 、2)由於界面的反射與於表面的反射光之干涉而會產生干 涉斑、3)由於PET表面與背面的反射光之干涉而會產生干 涉斑之問題存在，並因該1)、2)和3)之三問題而導致所貼 合的影像顯示裝置等物品之視認性惡化，或影響高級感。 尤其是於三波長螢光燈下，因明線光譜成分之比率高， 干涉斑會被誇大而出現。近年來三波長螢光燈已快速普及 到一般家庭，相對地干涉斑之問題也日益趨於重要。因此 ，以PET薄膜作爲基材的機能性塑膠膜之用途受到顯著的 限制。否則仍然存在著干涉斑問題之機能性薄膜將被推出 於市場。實際上於基材使用PET薄膜之大型平面電視機領 域中’目前所搭載之大部份的防反射性膜均可觀察到干涉 斑。 干涉斑係因形成於基材上自數微米至50微米左右之硬質 塗敷層或黏著劑層之微妙膜厚不勻而產生。該膜厚不勻問 題之解決方法，係使用通常浸漬法或蒸鍍法等塗敷不勻較 少的薄膜形成法，例如與合成樹脂透鏡之硬質塗敷層根本 上不相同之薄膜形成法。惟對於經由通常以寬度30公分以 上X長度10公尺以上之捲裝薄膜所生產之塑膠薄膜、機能 性塑膠薄膜而言，以先前之塗敷方式仍然不能消除會以隨 200411205 機方式發生之微妙的塗敷不勻現象。. 以防止如此之干涉斑爲目的，一向是著眼於將硬質塗敷 層之折射率接近於PET薄膜之折射率，而採取將含有高折 射率之金屬氧化物超微粒子之電離放射線硬化型樹脂塗敷 於PET薄膜等高折射率薄膜上，使之硬化而形成硬質塗敷 層，或是採取塗敷含有高折射率金屬氧化物微粒子之矽氧 烷系熱硬化性樹脂，使之硬化而形成硬質塗敷層之方法。 然而該等方法雖然確實有減少干涉斑之效果，但是卻會造 成硬質塗敷層之機械性強度下降，或霧度（haze)上昇，再加 上在表面設置雙層以上防反射性層時，往往會導致高折射 率層之折射率不足之新問題。 包含如上述情形在內，曾有報告指出如以先前技術欲防 止基材爲PET時之於硬質塗敷薄膜所產生干涉斑，.及欲於 不至於產生機械性強度下降或霧度上昇等大的副作用下防 止其干涉斑，則有困難（請參閱例如非專利文獻1 )。 茲將該等情形更進一步說明如下。曾有提案機械性強度 之改善對策（請參閱例如專利文獻1 )。然而霧度問題卻未 解決，且機械性強度之改善結果能稱得上是完美者爲數渺 小。 另外，也曾有提案一種引進散射以應付干涉斑之方法（ 請參閱例如專利文獻2、專利文獻3 )。然而此等方法雖然 對於干涉斑對策有效果，但是反射率仍然居高不下，且新 造成霧度問題，以致用途受到嚴格限制。 此外，也曾有於硬質塗敷層與PET膜間以藉由3〜5〇微米 200411205 且具有硬質塗敷層與PET薄膜之中間折射率之緩衝層即可 防止干涉條紋之方法（請參閱例如專利文獻4)，但是經追 加試驗結果於上述條件下對於千涉斑之效果卻不足。 上述以PET薄膜爲代表之高折射率基材與折射率爲1.53 左右之通常硬質塗敷層所產生千涉斑問題，即使使用三乙 醯纖維素（TAC)之低折射率基材與高折射率硬質塗敷層之 組合也會產生。例如一種於基材積層高折射率硬質塗敷層 與低反射率防反射性層而成之防反射性硬質塗敷薄膜，雖 已廣泛爲眾所知，但於TAC薄膜設置高折射率硬質塗敷層 ，並積層由矽氧化物構成之低反射率防反射性層而成之防 反射性硬質塗敷薄膜也有揭露（請參閱例如專利文獻5 )。 惟也有於後者組合也會產生強烈干涉斑之報告（請參閱例 如專利文獻6 )，故到目前爲止仍然未曾有有效對策案之提 案。 另外，相同之干涉斑於基材與基材上積層黏著劑層且基 材與黏著劑層之折射率差爲大時也會產生。對於此，也有 提案一種提高PET薄膜之平滑性以減少於PET薄膜與黏著 劑所產生干涉斑之方法（請參閱例如專利文獻7 )，但是對 於干涉斑之效果並非爲可稱得上爲完美者。 再加上，目前基材薄膜本身係以設置與基材折射率差爲 大的基底層之形態下所製造，以致多半基材本身會產生與 上述相同干涉斑而妨礙干涉斑或高折射率問題之解決。 〔專利文獻1〕 特開平第7- 1 5 1 902號公報 200411205 〔專利文獻2〕 特開平第8- 1 97670號公報 〔專利文獻3〕 特開平第1 0-2823 1 2號公報 〔專利文獻4〕 特開2000-347003第號公報 〔專利文獻5〕 特開平第7-287 1 02號公報 〔專利文獻6〕 特開第200 1 -3 1 8 207號公報（段落0004 ) 〔專利文獻7〕 特開第200 1 -07 1 439號公報 〔非專利文獻1〕 木村育弘著，「防反射性膜之特性與最佳設計：膜製 作技術」，技術資訊協會，第166-171頁（2001年）。 發明所欲解決之課題 有鑑於上述狀況，本發明之目的在於於基材上設有硬質 塗敷層或黏著劑層等機能性層之塑膠薄膜中，提供一種已 抑制干涉斑之塑膠薄膜。尤其是提供一種可減少干涉斑之 硬質塗敷薄膜、低霧度之附加黏著劑層之塑膠薄膜、及適 合作爲機能性塑膠薄膜之基材之附加基底層塑膠薄膜。 本發明之另一目的在於提供一種以上述塑膠薄膜爲基材 且具有各種機能性之機能性塑膠薄膜、特別是反射率低之 防反射性膜，並進一步提供一種具備該塑膠薄膜之影像顯 200411205 示裝置。 【發明內容】 本發明人等經專心檢討結果，發現藉由使透明塑膠基材 上之物性加以最適化，即可於不至於招致機械性強度之下 降或霧度上昇等性能上之大問題下，消除干涉斑。 具體而言，發現藉由下述手段即可達成上述課題。 1 · 一種塑膠薄膜，係至少在透明塑膠基材之單面上依順序 積層基底層及機能性層所形成，其特徵爲： 透明塑膠基材之折射率ns及機能性層之折射率ηΗ可滿 足 數式（1): 0.03S | ns-nH | ;且 對垂直於薄膜面入射之波長爲540〜550奈米之光於機 能性層與基材之界面上的平均反射率係在0.02%以下。 2. 如上述1之塑膠薄膜，其平均反射率爲0.0 1 %以下。 3. 如上述1之塑膠薄膜，其平均反射率爲〇.〇 0 5 %以下。 4. 一種塑膠薄膜，其係至少於透明塑膠基材之單面上依順 序積層基底層及機能性層所形成，其特徵爲= 透明塑膠基材之折射率ns及機能性層之折射率nH可滿 足 數式（1): 0.03$ | ns-nH 丨；且 基底層具有可滿足下述數式（2)及數式（3)之折射率nP及 膜厚dP ; 數式（2): -11- 200411205 ，及 數式（3): dP = (2N-1) χ λ /(4 ηΡ) » 但是•爲可見光波長爲450奈米〜650奈米範圍任一値 ，Ν爲自然數。 5. 如上述4之塑膠薄膜，其基底層具有可滿足下述數式（7) 之折射率ηρ ; 數式（7):

Vnsxn:」ns;nHknp ^/nsxnH+^3-~% 1 〇 6. 如上述4或5之塑膠薄膜，其基底層之膜厚dP可滿足 下式： dP =又 /(4 nP)， 但是；I爲可見光波長爲450〜650奈米範圍中任一値。 7. 如上述4或5之塑膠薄膜，其基底層之膜厚dP可滿足 下式： dp = λ /(4 nP) » 其中λ爲可見光波長爲500〜600奈米範圍中任一値。 8. 如上述4或5之塑膠薄膜，其基底層之膜厚dp可滿足 下式： dp = λ /(4 nP)， -12- 200411205 但是；I爲可見光波長爲5 3 0〜5 80奈米範圍中任一値。 9.如上述1〜8中任一項之塑膠薄膜，其基材之折射率ns 及機能性層之折射率nH可滿足下式： 0.06 ^ | ns-nH | 。 10·如上述1〜8中任一項之塑膠薄膜，其基材之折射率ns 及機能性層之折射率nH可滿足下式： 0· 1 0 S I ns-nH | 。 1 1 ·如上述1〜1 0中任一項之硬質塗敷薄膜，其機能性層爲 硬質塗敷層。 12·如上述11之硬質塗敷薄膜，其硬質塗敷層係由可由活 性能量射線照射而硬化之硬化性組成物構成。 13·如上述11或12之硬質塗敷薄膜，其硬質塗敷層之厚度 爲從20微米至50微米。 I4·如上述11〜13中任一項之硬質塗敷層，其設有硬質塗敷 層之一邊的表面之給筆硬度爲3H以上。 15·如上述11〜13中任一項之硬質塗敷層，其設有硬質塗敷 層之一邊的表面之鉛筆硬度爲4H以上。 16. 如上述11〜13中任一項之硬質塗敷層，其設有硬質塗敷 層之一邊的表面之鉛筆硬度爲5H以上。 17. 如上述1〜1〇中任一項之塑膠薄膜，其機能性層爲黏著 劑層。 18·如上述1〜17中任一項之塑膠薄膜，其作爲機能性層而 在一方之面具有硬質塗敷層，在另一方之面具有黏著劑 層。 -13- 200411205 19·如上述18之塑膠薄膜，其硬質塗敷層側之基底層與黏 著劑層側之基底層係由同一組成物所形成。 20·如上述18之塑膠薄膜，其硬質塗敷層側之基底層與黏 著劑層側之基底層係由同一組成物，且以同一膜厚所形 成。 21·如上述1〜16、或18〜20中任一項之硬質塗敷薄膜，其 硬質塗敷層之形成係以對於作成捲筒狀之長尺寸基材 薄膜之連續塗敷而實施。 22. —種塑膠薄膜，其特徵爲：其係將基底層積層於折射率 ns之透明塑膠基材之至少單面所形成，且可滿足下述2 條件： (a) ns2 1.56、或 ns‘ 1.50 ; (b) 於基底層上設置與透明塑膠基材之折射率差爲〇· 〇3 以上之硬質塗敷層時，於硬化層與基材之界面上對 於薄膜面垂直入射之波長爲540〜5 50微米之光的平 均反射率爲0.02%以下。 2 3. —種塑膠薄膜，其特徵爲：其係於折射率ns之透明塑 膠基材之至少單面上積層k層之折射率nPi之基底層所 形成，且可滿足下述2條件： (c) nsg 1.56、或 nsS 1.50 ; ⑷ I nP(i.irnPi | ^ 0.03 ； (其中i爲1〜k之整數，k爲以1以上整數積層之基 底層總數）； 但是i-l=〇時，nPQ = ns，亦即， 200411205 I ns-nP1 I € 〇·03。 24·如上述1〜23中任一項之塑膠薄膜，其基材之折射率ns 爲1.56以上未滿1·9〇。 25·如上述24之塑膠薄膜’其基材爲聚酯薄膜。 26.如上述24之塑膠薄膜，其基材爲聚對苯二甲酸乙二醇 酯（PET)薄膜。 27·如上述24之塑膠薄膜，其基材爲聚碳酸酯薄膜。 28. 如上述26之塑膠薄膜，其基底層之折射率與膜厚可滿 足以下2條件： (e)折射率爲從1·58至1.60，及 (d)膜厚爲從74奈米至98奈米、或爲從222奈米至2 94 奈米。 29. 如上述1〜23中任一項之塑膠薄膜，其基材之折射率心 爲1 · 5 0以下。 30. 如上述29之塑膠薄膜，其基材爲纖維素酯薄膜。 31·如上述30之塑膠薄膜，其基材爲三乙醯纖維素（TAC) 薄膜。 32. 如上述26之塑膠薄膜，其基底層之折射率與膜厚可滿 足以下2條件： (g) 折射率爲從1·49至1.51 ;及 (h) 膜厚爲從78奈米至1〇4奈米、或爲從235奈米至 312奈米。 33. 如上述1〜32中任一項之塑膠薄膜’其基底層含有金 氧化物微粒子。 200411205 34.如上述33之塑膠薄膜，其基底層含有導電性金屬氧化 物微粒子。 35·如上述34之塑膠薄膜，其導電性金屬氧化物微粒子爲 摻銻之氧化錫（ΑΤΟ)、摻磷之氧化錫（PTO)、或摻錫之氧 化銦（ΙΤΟ)之粒子。 36. 如上述1〜35中任一項之塑膠薄膜，其基底層爲黏著性 打底層。 37. 如上述1〜36中任一項之塑膠薄膜，其於基材之至少單 面具有複數個基底層，且該複數個基底層之厚度總和爲 1微米以下。 38. 如上述1〜37中任一項之塑膠薄膜，其霧度爲2%以下。 39·如上述1〜37中任一項之塑膠薄膜，其霧度爲i %以下。 4〇·如上述1〜39中任一項之塑膠薄膜，其基底層之形成係 藉由對於作成捲筒狀之長尺寸基材薄膜施加連續塗敷 而進行。 41·如上述21或40之塑膠薄膜，其捲筒狀薄膜之長度爲10 公尺以上。 42·如上述21或40之塑膠薄膜，其捲筒狀薄膜之長度爲 1〇〇公尺以上。 43.如上述21或40之塑膠薄膜，其捲筒狀薄膜之長度爲 5〇〇公尺以上。 44·如上述21或41〜43中任一項之塑膠薄膜，其捲筒狀薄 膜之寬度爲3 0公分以上。 45·如上述21或41〜43中任一項之塑膠薄膜，其捲筒狀薄 -16- 200411205 膜之寬度爲60公分以上。 46·如上述21或41〜43中任一項之塑膠薄膜，其捲筒狀薄 膜之寬度爲1公尺以上。 47. —種機能性塑膠薄膜，其如上述1〜46中任一項之塑膠 薄膜係進一步具有上述機能性層爲硬質塗敷層、黏著劑 層以外之機能性層。 4 8. —種防反射性薄膜，其如上述47之機能性塑膠薄膜係 具有防反射性層以作爲如上述47之機能性層。 49. 如上述48之防反射性薄膜，其防反射性層之表面反射 率爲3%以下。 50. 如上述48之防反射性薄膜，其防反射性層之表面反射 率爲1.5%以下。 5 1. —種影像顯示裝置，其特徵爲具備上述1〜50中任一項 之塑膠薄膜機能性薄膜。 5 2.如上述51之影像顯示裝置，其塑膠薄膜之黏著劑與影 像顯示裝置貼著面之材質之折射率差（絕對値）爲0.03% 以下。 5 3.如上述51之影像顯示裝置，其塑膠薄膜之黏著劑與影 像顯示裝置貼著面之材質之折射率差（絕對値）爲0.02% 以下。 5 4.如上述5 1之影像顯示裝置，其塑膠薄膜之黏著劑與影 像顯示裝置貼著面之材質之折射率差（絕對値）爲〇·01% 以下。 實施態樣 -17- 200411205 以下就本發明詳加說明。 本發明之塑膠薄膜係一種已抑制特別是於含有特定波長 之明線光譜成分之光源例如於螢光燈下易於觀察到之干涉 斑之塑膠薄膜。具體而言，係具有硬質塗敷層之硬質塗敷 薄膜、具有黏著劑層之附加黏著劑層之塑膠薄膜，以及屬 於直至該薄膜的中間製造物之附加基底層之塑膠薄膜者， 並且在該薄膜設置機能性層之機能性塑膠薄膜、進一步設 置防反射性層之防反射性薄膜也是相當於本發明之已抑制 干涉斑之塑膠薄膜。 在本發明中所謂「干涉斑」，係例如於以PET (聚對苯 二甲酸乙二醇酯）爲代表之高折射率基材薄膜上設置硬質 塗敷層或黏著劑層等與基材之折射率差爲大的層時，該層 與基材之界面之反射率將升高，而因來自該界面的反射光 與薄膜表面的反射光之干涉所產生者。按干涉係受到硬質 塗敷層等設於基材之層或基材之微妙的膜厚變化影響而會 產生看起來爲呈條紋或斑點狀之不均勻。雖然有些專利公 報或文獻則將此現象稱爲干涉條紋或牛頓環（Newton，s ring) ’但是於同一機構原理下所產生不均勻之出現形態， 卻並非一定爲條紋或環狀，尤其是若有膜厚特別薄（數微 米以下）的層存在，則也有可能觀察到斑點狀之情形。在 本發明中則將此狀況也考量在內而統稱爲干涉斑。 在本發明中所提及之干涉斑，基材即使使用以三乙醯纖 維素（TAC)爲代表之低折射率基材薄膜時，若與高折射率之 硬質塗敷層等進行組合則也可強烈地觀察得到。 -18- 200411205 按會產生如此之干涉斑時，如日本專利特開平第7- 1 5 902 號公報所揭示，通常設在基材上之層與基材之折射率差（ 絕對値）有〇.〇3以上時即將產生。因此，以下說明之本發 明，在硬質塗敷層或黏著劑層之折射率與基材折射率之差 爲0.03以上時，防止干涉斑之效果將顯著出現。該折射率 差爲0.06以上時效果更大，於0.10以上時效果將變得更佳 〇 按有可能產生光干涉之距離，亦即相干長度，已知可由 光波長與帶寬（發射光譜寬度）以近似方式決定，而可以 次式表示〔例如，J.D. Ran court，「光學薄膜使用者手冊 」Optical Coating Laboratory，Inc ·，第 1 1 冊（1996 年）〕 相干長度L = λ 2/Δ λ ( △ λ :帶寬） 由該式即能說，來自含有狹窄的帶寬△ λ之光譜的光源 之光，因其相干長度會變長而易於觀察到干涉斑，因而應 可理解干涉斑於含有藉由利用放電的水銀原子發射之狹窄 帶寬明線光譜之螢光燈下當可觀察到，特別是於帶寬狹窄 的發射光譜成分比率較高之光源，例如於三波長螢光燈下 ，干涉斑將變得強烈。 另一方面，例如將硬質塗敷層作爲機能性層而考量來自 硬質塗敷層/基材的界面之反射光與來自硬質塗敷層表面 之反射光的干涉時，由於可以說是硬質塗敷層膜厚若比相 干長度爲短則易於產生干涉，因而得知於含有膜厚只有5 微米左右之較薄硬質塗敷層之硬質塗敷薄膜，干涉斑將強 -19- 200411205 烈出現。然而由於三波長螢光燈之發射光譜係含有利用水 銀原子發射之帶寬極其狹窄之明線光譜（ 546.074微米等） ，故如上述般干涉斑將變得強烈，因而即使膜厚爲5 0微米 左右之硬質塗敷層也可觀察到干涉斑。 因此，消除干涉斑之方法，也可考慮預先將硬質塗敷層 膜厚設定爲20微米以上之厚以使干涉斑變淡後，進一步使 硬質塗敷層與基材之反射率降低以減少反射光本身，藉以 完全消除干涉斑之方法。 該干涉斑之本質性解決方法，乃在於藉由降低機能性層/ 基材之界面反射率，以減少來自該界面之反射光，較佳爲 使之完全消除，以使與來自機能性層表面的反射光之干涉 不至於產生。其係對於會造成干渉斑之機能性層，尤其是 對於通常未被考慮而對於反射率會給予影響的折射率値之 層，例如對於硬質塗敷層、黏著劑層有效，而使來自與機 能性層/基材之界面的反射率降低，就是與干涉斑之解決有 連帶關係。 本發明之塑膠薄膜係藉由在透明塑膠基材上設置基底層 ，使折射率或反射率等物性値加以最適化，以使在該界面 之反射率下降而防止干涉斑之產生者。 具體而言，若以至少在透明塑膠基材之單面上依順序積 層基底層P及硬質塗敷層所形成之硬質塗敷薄膜爲例加以 說明，則將下述2條件滿足即可： 1)透明塑膠基材之折射率ns及硬質塗敷層之折射率nH可滿 足下述數式（1 ): -20- 200411205 數式（1) : 0.03^ I ns-nH | 2)對垂直於膜面入射之波長爲540〜550微米之光於硬化層 與基材之界面之平均反射率爲0.02%以下。 對於設置硬質塗敷層以外之塑膠薄膜，例如於透明塑膠 基材之至少單面將基底層Q及黏著劑層依照此順序積層而 成之附加黏著劑層之塑膠薄膜等，也使其滿足與上述相同 條件（關於與基材之折射率差與於界面之反射率之條件）即 可〇 於上述硬質塗敷層/基材界面之反射率，係可由硬質塗敷 層與基材之折射率計算而求得。在本發明中，雖然於該界 面有基底層，但是於該界面之反射率係意味著假設垂直入 射於基材之光強度爲1〇，且包含基材/第一層之基底層界面 、第一層/第二層之基底層界面、、、第η-1層/第η層之基 底層界面、以及第η層之基底層/硬質塗敷層界面之多次反 射光總和爲IR時之IR/I。。IR係考慮於各界面之反射光相位 之總和。於該界面之反射率可由透明塑膠基材與硬質塗敷 層之折射率、基底層之膜厚與折射率算出。於波長爲 5 40〜5 5 0奈米之平均反射率，則按每1奈米計算反射率而求 出平均値即可。 界面之反射率也可加以測定。例如可於基材上設置折射 率爲1.53、乾燥膜厚爲數微米之均勻硬化層，而由出現於 鏡面反射光譜上之振盪（被稱爲條紋或波動）的振幅加以 估計。此時膜厚若爲不均勻，則將於反射光譜測定面積內 產生相位差，使得振幅變小，而造成估計誤差，因此’形 200411205 成均等硬化層是極爲重要。反射光譜測定光源之波段帶寬 若爲寬，則振幅雖會同樣地變小，但是若酌光源形狀（ 解析能）而計算，則當可達成正確估計。 欲測定黏著劑層/基材界面時，例如黏著劑層之折射率接 近於玻璃之折射率時，則使用於單面積層防反射性層之單 面防反射性玻璃板即可。將附加黏著劑層之透明塑膠薄膜 未積層黏著劑層之面，以砂紙磨擦，塗上黑變色墨水，藉 以實施背面之防反射性處理。然後將附加黏著劑層之透明 塑膠薄膜貼合於單面防反射性玻璃板之未積層防反射性層 之一側，而由玻璃板之經積層防反射性層之一側測定鏡面 反射光譜即可求得。使用一般廣泛使用之丙烯酸類黏著劑 之情形就是相等於上述情形。此時，低反射率玻璃板之反 射率愈低測定精確度愈高。此時使用之附加防反射性層之 低折射率玻璃板之平均鏡面反射率則以0.05 %以下爲宜。 黏著劑層折射率離開玻璃之折射率時，則製作使用接近 於該黏著劑層的透明基材之單面防反射性板，而以與上述 相同方法測定反射率即可求得。 以下就本發明之塑膠薄膜詳加說明。 使用於本發明之基材爲透明塑膠基材，較佳爲呈薄膜狀 或片狀、板狀者。在本發明中所謂「薄膜」，係指不僅是 基材使用薄膜狀，而包含使用片狀、板狀之情形者。 由於硬質塗敷層或黏著劑層之折射率通常爲1.53附近， 因此，在本發明中則以使用折射率較高（1.56以上）之基 材爲宜。此時基材之折射率較佳爲1.56以上未滿1.90，更 200411205 佳爲1·60以上未滿丨·7〇。而較佳爲由高折射率聚合物所形 成之塑膠薄膜’高折射率聚合物可使用例如：聚碳酸酯、 聚酯（例如聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚萘甲酸乙二醇酯、 聚對苯二甲酸1，4-環己二亞甲基酯、聚l，2-二苯氧基乙烷-4,4’-二甲酸乙二醇酯、聚對苯二甲酸丁二酯）、聚碾、聚 芳基化合物及聚苯乙烯（例如對排聚苯乙烯）。其中，較 佳爲聚碳酸酯及聚對苯二甲酸乙二醇酯。 此外，使用比通常折射率爲低的低折射率之硬質塗敷層 時，較佳爲也使用上述高折射率之基材。如此折射率差與 上述相較將變大。 使用比通常折射率爲高的高折射率之硬質塗敷層時等， 也可使用折射率爲低（1.50以下）之基材，如此之基材則 以由折射率低的聚合物所形成之塑膠薄膜爲宜。折射率低 的聚合物可使用纖維素酯類〔纖維素醋酸酯類，例如三乙 醯纖維素、纖維素醋酸酯-丁酸酯、纖維素三丁酸酯〕、PMMA (聚甲基丙烯酸甲酯）、PP (聚丙烯）、或FEP (四氟乙 烯-六氟丙烯聚合物）等氟素樹脂薄膜。其中較佳爲三乙醯 纖維素。 透明基材之「透明」係意味著可見光領域之光透過率爲 8 0%以上，而以86%以上爲佳。將附加黏著劑層之塑膠薄膜 作爲帶膠標簽（sticker)使用時’於基底層與黏著劑層間有印 刷層而導致光透過率局部性地降至8 0%以下也不妨。 從塑膠薄膜視認性之觀點考慮，塑膠薄膜之霧度則以 3.0%以下爲佳、以2.0%以下爲更佳、而以1·〇%以下爲特別 200411205 佳。至於透明塑膠基材本身之霧度則以50%以下爲佳、以 25%以下爲更佳、而以1〇%爲特別佳。但是於特別重視直線 透過光之用途方面，由於被要求必須爲低霧度，因此，以 3.0%以下爲佳、以2.0%以下爲更佳、而以1.0%以下爲特別 佳。 至於上述霧度之下限，雖然以0%爲佳，但是從測定等之 觀點考慮，應以設定成0.0 1 %爲妥善。 基材厚度係基材若爲薄膜狀，則以20〜3 00微米爲佳，以 8 0〜200微米爲更佳。基材薄膜之厚度若過薄，則薄膜強度 弱，若過厚則剛性將變大。基材若爲片狀，基材厚度則以 在於不至於損及透明性範圍即可，而可使用3 00微米以上 至數毫米者。 基材厚度爲1毫米以下，特別是3 00微米以下時，於可 見光領域含有明線成分之光源例如三波長螢光燈下，因基 材表面與背面之反射光干涉而往往會看到干涉斑。惟在本 發明中則將基底層設置於兩面，藉此即可減少該基材表面 •背面之干涉斑。一般而言，合成樹脂透鏡由於其厚度大 ，不至於產生表面·背面引起之干涉斑。此點就是合成樹 脂透鏡與薄膜之根本差異所在。 本發明係如上述，藉由將防反射性基底層（基底層P、 基底層Q)設置於硬質塗敷層或黏著劑層等機能性層與基 材之界面，使該界面之反射率大幅減少，使得幾乎看不出 干涉斑者。 在本發明中硬質塗敷薄膜之情形下，基底層P係於基材 200411205 之折射率心與硬質塗敷層之折射率nH之差爲0.03以上時 會產生干涉斑，而顯現出對策效果。該折射率差爲0.06以 上時，效果較大，而若爲0.10以上則效果更大。 基底層Ρ之折射率ηΡ係藉由滿足下述數式（2)，即可與將 膜厚dP設定爲特定値（數式（3))之措施互起作用而大幅減 少於硬質塗敷層/基材界面之反射率，以抑制干涉斑： 數式（2):

^/nsxnH--ns:H Snp ^/nsxnH 進一步爲減少於硬質塗敷層/基材界面之反射率上，折射 率nP較佳爲可滿足下述數式（7): 數式（7): 一 n ρ 8 8 φ 〇 更進一步折射率ηΡ若滿足下述數式（9)，關於特定波長之 線狀光譜則與基底層膜厚dP之控制配合而在計算上可使反 射率成爲零，所以效果極佳： 數式（9):

np — x nA -25- 200411205 基底層P之膜厚dP必須滿足下述數式（3): 數式（3): dp = (2N-l)x λ /(4 nP) » 其中λ爲可見光波長，其係45 0〜65 0奈米範圍中任一値 ，Ν爲自然數。 在此關於數式加若干解說如下。數式（9)與數式（3)係已記 載於一般光學教科書〔請 閱例如J.D· Rancourt，「光學薄 膜使用者手冊」，Optical Coating Laboratory，Inc·，第 9 冊（1 996年）〕，而折射率nP與膜厚dP若能滿足兩式， 則理論上反射率將完全變爲零。然而實際上由數式（9)與數 式（3)即使有若干偏差，但是反射率極小，致事實上無從認 識得到干涉斑。惟本發明則找出該偏差之可允許範圍。具 體而言，數式（2)與數式（7)就是對於數式（9)賦予寬裕而規定 其偏差之允許範圍者。 數式（7)係將基底層P、折射率1.53之硬質塗敷層積層於 折射率1.65之PET薄膜上時，使界面之反射率採取與干涉 斑看不到的I ns-nH | =0.03時之情形同等之寬裕。數式（2) 係賦予倍數之寬裕。 基底層之膜厚dP係於上述條件中也是愈薄防反射性效果 愈大，且由機械性強度之觀點而言也是以薄者爲佳。因此 ，基於該二理由則以 NS2(dP= λ/(4ηΡ)、或 dP=3A/(4 nP))爲佳’以 N=1 (dP= λ/(4ηΡ))爲更佳。 進一步若考量人之眼晴對於綠色之視感度高〔視感度峰 値在於5 50奈米：JIS (日本工業標準）R-3106〕、與三波 長螢光燈之明線成分集中於545奈米附近’則λ應以5〇〇 -26- 200411205 奈米〜600奈米範圍中任一値爲佳，進一步以530奈米〜580 奈米範圍中任一値爲更佳。 另外，於螢光燈之發射光譜中針對於546.074奈米（綠 )之明線之λ = 546奈米之膜厚設計也佳。此時對於可見 光全領域之界面平均反射率，與未具有基底層之情形相較 ，約可減少1 〇%，並且以視感度加權平均計，反射率即減 少約1 .5 %，因此，對於可見光有充分之防反射性效果。 本發明並非限定於包含三波長螢光燈之於螢光燈下使用 之硬質塗敷薄膜。只要爲於可見光領域含有明線成分之光 源，則對於任何光源均可適用。例如若爲使用環境之光源 被限定於鈉光燈之硬質塗敷薄膜’即可予以λ =589奈米 之膜厚設計。 可使上述數式滿足之具體例，若基材爲Ρ’ΕΤ且硬質塗敷 層折射率易1.53左右時，則以具有下述折射率與膜厚之基 底層爲佳。 (e) 折射率爲從1·58至1.60。 (f) 膜厚爲從74奈米至98奈米、或爲從222奈米至2 94奈 米。此外，若基材折射率係比硬質塗敷層爲低的TAC 且硬質塗敷層之折射率爲1 · 6〇左右，則以具有以下之 折射率與膜厚之基底層爲佳。 (g) 折射率爲從1·49至1.51。 (h) 膜厚爲從78奈米至104奈米、或爲從235奈米至312 奈米。 欲將硬質塗敷薄膜貼合於例如影像顯示裝置等時’通常 200411205 於基材之與設置硬質塗敷層之一側成相反側之面設置i占著 劑層，以介以該黏著劑層而貼合。 此時，於黏著劑層與基材之界面，設置基底層Q即可降 低於該界面之反射率。該基底層Q係具有對於黏著劑層之 折射率ηΑ與基材之折射率ns具有與上述基底層P相同關係 之特定的折射率nQ與膜厚dQ者。 此外，於基材並無硬質塗敷層時，或是硬質塗敷層與基 材之折射率差爲0.03以下時等，則不論有無硬質塗敷層於 基材與黏著劑層間將發生同樣問題。換言之如上述，基材 與黏著劑層之折射率差爲〇·〇3以上時，因黏著劑層與基材 界面之反射率高而會產生干涉斑。 本發明之附加黏著劑層之塑膠薄膜，就是予以設置與設 置於硬質塗敷薄膜之基底層P相同之基底層Q，藉以抑制 基材與黏著劑層之界面反射率而減少干涉斑之薄膜者， 按黏著劑通常折射率爲1.40〜1.70左右之各種類型存在 。對於如本發明般之透明塑膠之貼合，雖然主要係使用折 射率爲1.5 0〜1.55之丙烯酸類素材，但是不受限於該折射率 範圍，而藉由使黏著劑之折射率nA配合供貼付的對象物（ 例如影像顯示裝置）表面材質之折射率（假設爲nM )，即 可抑制硬質塗敷層與黏著劑之反射率，並且進一步也可使 於黏著劑與貼付對象物界面之反射率抑制於最小限度。按 近年來已開發出各色各樣之折射率之黏著劑或接合劑〔例 如，井出文雄及其他，光學用透明樹脂，技術資訊協會， 第1 77- 1 80頁（2001年）〕，如將本發明與該等黏著劑組 200411205 合，則其適用範圍非常廣泛。 設置在本發明中之黏著劑層與供貼著之對象物表面材質 之折射率差I nA-nM |係以| nA-nM | S 0.03以下爲佳，以| nA-nM | $ 0.02以下爲更佳，以| nA-nM | $ 〇.〇1爲特別佳 〇 另外，與上述| ns-nH I之情形同樣地，隨著I ns-nA I變 大，基材與黏著劑界面之反射率將增加，因此，| ns-nA | 愈大本發明之效果愈大。因而以丨iis-nA | 2 0.03爲佳，以 | ns-nA丨2 0.06爲更佳，以丨ns-nA | 2 〇·1〇爲特別佳。 於同一基材單側形成基底層P，且於相反側形成基底層Q 時，基底層P與Q可因應目的而以個別組成物形成。例如 硬質塗敷層與由上述理由所要求黏著劑之折射率互異時， 可實施配合各自折射率之組成設計。另一方面，從生產性 之觀點考慮而以同一組成物形成也是較佳態樣。表面·背 面之基底層P與Q可選擇獨自組成物就是以薄膜爲對象之 本發明之特徵所在。例如於合成樹脂透鏡之情形下，由於 對於基底層與硬質塗敷層之要求品質於表面·背面完全相 同，因而通常藉浸漬法以同一組成、同一膜厚下而形成。 基材使用聚酯薄膜時，由於聚酯薄膜係結晶配向性，表 面凝聚性高而缺乏對於各種材料之貼緊性。以改善聚酯薄 膜與硬質塗敷層之貼緊性爲目的，必要時可於聚酯薄膜之 單面或雙面以氧化法或凹凸化法予以表面處理。上述氧化 法可使用例如：電暈放電處理、輝光放電處理、鉻酸處理 (濕式）、火焰處理、熱風處理、臭氧·紫外線照射處理 -29- 200411205 等。 也可將基底層作爲基材打底層而設定。打底層之素材可 使用氯化乙烯、偏二氟乙烯、丁二烯、甲基丙烯酸酯、乙 烯基酯等共聚物、或乳膠、低分子量聚酯、明膠等水溶性 聚合物。進一步可使氧化錫、氧化錫-氧化銻複合氧化物、 氧化錫-氧化銦複合氧化物等金 氧化物、或第四級銻鹽、 第四級銨鹽等抗靜電劑含於塗底層。 另外，爲改善基材與硬質塗敷層之接著性，也可附加易 接著性而對於基底層賦予作爲接著性塗底層之功能。爲附 加易接著性，則予以塗敷易接著性塗材而設置基底層即可 〇 基底層之塗敷液雖然有有機溶劑系與水系兩種，惟在本 發明中任何一種均可使用。但是從揮發引起之環境惡化等 之安全上、衛生上及資源節約問題上之觀點考慮仍以水系 爲適合。 水系易接著性塗材有例如水溶性或水分散性之聚胺基甲 酸乙酯、共聚胺基甲酸乙酯樹脂，使用該等即可形成基底 層。另外，藉由日本專利特開平第1 - 1 08037號公報記載之 丙儲酸酯類樹脂與丙烯酸改性聚酯樹脂之交聯也可形成基 底層。進一步也可使用記載於日本專利特公平第3-22899 號公報之苯乙烯-丁二烯樹脂或丙烯腈-丁二烯-苯乙烯 (ABS)樹脂與特定之聚酯樹脂而形成基底層。 另外，也可使用記載於日本專利特開平第1 0- 1 665 1 7號公 報之苯乙烯-丁二烯類共聚物或丙烯酸改性聚酯樹脂。 -30- 200411205 本發明之防反射性基底層之折射率，可將金屬氧化物微 粒子混合於樹脂而加以控制。 金屬氧化物微粒子可使用平均粒子大小爲100奈米以下 ，較住爲5 〇奈米以下之二氧化鈦（實例：金紅石、金紅石 /銳欽礦之混晶、銳欽礦、非晶構造）、氧化錫、’氧化姻、 氧化鋅、氧化銷粒子、氧化鋁粒子等折射率大於1.6者。 折射率爲大之二氧化鈦，具有可以較少添加量即可調整基 底層折射率之優點。 以有機溶劑類形成基底層時，爲增加無機微粒子與有機 成分之親和性，較佳爲以含有有機鏈段之表面改性劑處理 無機微粒子表面，而表面改性劑則以具有可與無機微粒子 形成結合或可供吸附於無機微粒子之功能基、與於其他方 面藉由活性能量射線之照射即可硬化之硬化性樹脂具有高 親和性者爲宜。 具有可供結合或吸附於無機微粒子之功能基之表面改性 劑，較佳爲矽烷、鋁、鈦、鈷等金屬烷氧化物硬化性樹脂 ，或具有磷酸基、硫酸基、磺酸基、羧酸基等陰離子性基 之表面改性劑。另外，與有機成分之親和性爲高之功能基 ，雖也可爲僅將有機成分與親疏水性混合而成者，但是較 佳爲可與有機成分進行化學性結合之功能基，尤其是以乙 烯系不飽和基爲佳。 在本發明中，較佳之金屬氧化物微粒子之表面改性劑， 就是於同一分子內具有金屬院氧化物或陰離子性基與乙烯 性不飽和基之硬化性樹脂，或具有羧酸等陰離子性基之丙 200411205 烯酸共聚物等。 該等表面改性劑之代表例有含有下述不飽和雙重結合之 偶合劑，或含有磷酸基之有機硬化性樹脂、含有硫酸基之 有機硬化性樹脂、含有羧酸基之有機硬化性樹脂等。 S-l H2C = C(X)COOC3H6Si(OCH3)3 S-2 H2C = C(X)COOC2H4OTi(OC2H5)3 S-3 H2C = C(X)COOC2H4OCOC5Hl0OPO(OH)2 S-4 (H2C = C(X)COOC2H4OCOC5H10O)2POOH S-5 H2C = C(X)C00C2H40S03H S-6 H2C = C(X)COO(C5H10COO)2H S-7 H2C = C(X)COOC5H10COOH (X = H、或表示 CH3 )。 該等無機微粒子之表面改I，較佳爲於溶液中進行。使 無機微粒子以機械方式作微細分散時，可採取使表面改性 劑一起存在，或是經將無機微粒子作微細分散後添加表面 改性劑而攪拌之方法，或是進一步將無機微粒子作微細分 散之前進行表面改性（必要時經加溫、乾燥後予以加熱或 pH變更），然後予以微細分散之方法也可。 用以溶解表面改性劑之溶液，以極性較大之有機溶劑爲 佳。具體而言，可使用醇、酮、酯等習知的溶劑。 金屬氧化物微粒子若使用ΑΤΟ (摻銻之氧化錫）、PTO (摻磷之氧化錫）或ΙΤΟ (摻錫之氧化銦），由於可同時 賦予導電性且也可賦予帶電防止功能，所以是本發明之較 佳態樣。含有該等導電性金屬氧化物微粒子之有機溶劑類 -32- 200411205 透明導電性塗料之實例，曾記載於〔小松道郎，「防反射 性膜之特性與最優設計：膜製作技術」，技術資訊協會， 第37-39頁（2〇01年）〕中，在本發明中也可使用此等塗 料而形成防反射性基底層。此外，也可適用記載於日本專 利特開平第11-845 73號公報第0040〜005 1段落之技術。 形成高折射率的基底層之其他方法爲將高折射率之聚合 物作爲黏合劑而使用之方法。當然也可倂用高折射率黏合 劑與高折射率微粒子。作爲基底層之黏合劑而使用之折射 率爲高的聚合物，較佳爲具有環狀基之聚合物或含氟以外 之鹵原子之聚合物。惟較含有氟以外之鹵原子之聚合物仍 以含有環狀基之聚合物爲佳。使用含有環狀基與氟以外之 鹵原子雙方之聚合物也可。環狀基包含芳香族基、雜環基 及脂肪族環基。其中以芳香族環基爲特別佳。氟以外之鹵 原子則以氯原子爲佳。 高折射率聚合物之實例包含例如：聚硫化雙（4-甲基丙 烯醯基硫苯氧基）、聚硫化乙烯基苯基、聚4-甲基丙烯醯 基氧基苯基- 4’-甲氧基苯基硫醚、聚乙嫌、苯乙燒共聚物、 聚碳酸酯、三聚氰胺樹脂、酚醛樹脂、環氧樹脂及經由環 狀（脂環族或芳香族）、異氰酸酯與聚醇之反應所得之聚 胺基甲酸乙酯酯、亞二甲苯基二異氰酸酯與苯二醇之反應 所得之聚硫代胺基甲酸乙酯、三硫代異氰酸酯與三硫醇基 苯之反應所得之聚硫代胺基甲酸乙酯、硫化鈉與二氯苯之 反應所得之聚硫代胺基甲酸乙酯、硫化鈉與二氯苯及二氯 季苯基之反應所得之聚苯硫。其中具有芳香族基之硫化物 200411205 類聚合物及具有芳香族基之硫代胺基甲酸乙酯類聚合物爲 特別佳。較佳爲將以上之聚合物乳膠使用於基底層之塗敷 液。乳膠中聚合物粒子之平均粒徑較佳爲〇.〇1至1微米， 更佳爲0.02至0.5微米。基底層之塗敷液也可對於聚合物 乳膠再添加膠體氧化矽或表面活性劑。 基底層從生產性之觀點考慮則以單層形成爲宜，但是必 要時也可以二層以上形成。 以單層不能實現上述防反射性之基底層時，也可將兩種 以上具有互異折射率之物質交互 合兩層以上，以形成具 有與上述單層之防反射性基底層相等效果之層。 另外，除上述單層膜與等價之多層膜以外，即使使用 • /4-· /2-· /4的三層構成之符合本來含義之多層防反射性 層，也能達成本發明之降低界面反射率以防止干涉斑之目 的，但是生產性將下降少許。 將基底層形成兩層以上時，亦即，於折射率ns之透明塑 膠基材之至少單面上積層k層之折射率npi之基底層時，在 防止各界面之反射上相鄰接之基底層彼此應滿足下式： I np(i_i)-npi | =0.03 » 其中i代表1〜k之整數，k代表以1以上之整數所積層之 基底層總數； 但是 i-l=〇 時，nP() = ns，亦即 | ns-nP1 | $ 0.03。 另外，由於第k層之基底層係與硬質塗敷層或黏著劑層 相接，因而從相同之觀點考慮則較佳爲能滿足下式： | nH-nPk | S 0·03、或 | nA-nPk | ^ 〇·〇3。 -34- 200411205 上述各式之右邊（差之絕對値）係以0·02爲更佳，以0.01 以下爲特別佳。此時以複層構成時之各層膜厚若爲厚，則 互相容易膠著，且有可能出現光透過性下降現象，因此， 膜厚較佳爲1微米以下，更佳爲〇. 5微米以下。 於基底層與硬質塗敷層間可設置折射率與硬質塗敷層相 同之上塗層。並且於基底層與基材間也可設置折射率與基 材相同之內塗層。基底層與黏合劑間也同樣地可設置折射 率與黏合劑相同之上塗層。另外，基底層獎基材間也可設 置折射率與基材相同之內塗層。於此等情形下，上塗層或 內塗層之膜厚若爲厚，則薄膜互相容易膠著，且有可能出 現光透過性下降現象，因此，膜厚較佳爲1微米以下，更 佳爲〇 . 5微米以下。 爲使基底層塗敷液塗敷於透明基材所使用之裝置，於原 崎次著「塗敷方式」慎書店1 979年10月發行所示之反轉 塗敷機、照相凹版式塗敷機、桿式塗敷機、氣刀式塗敷機 等以及習知的塗敷裝置中任何一種均可使用。特別是從生 產性之觀點考慮則較佳爲可適用於長尺寸之塑膠薄膜且可 以捲裝進出者。此時捲裝之長度則以1 0公尺以上爲佳，以 1〇〇公尺以上爲更佳，以500公尺以上爲特別佳。寬度則以 3 0公分以上爲佳，以60公分以上爲更佳，以1公尺以上爲 特別佳。此外，從處理方法自由度之觀點考慮，則較佳爲 可於表面·背面獨立塗敷基底層者。 本發明之防反射性基底層，雖然對於基材折射率比硬質 塗敷層折射率爲高之情形下特別有效，但是基材折射率比 200411205 硬質塗敷層折射率爲低之情形下當然也有效。關於黏著劑 層與基材間之基底層，也同樣地黏著劑層折射率比基材折 射率爲高之情形，爲低之情形也是有效。 本發明之硬質塗敷薄膜係指經由後述鉛筆硬度試驗而具 有Η (表示鉛筆芯硬的程度）以上表面硬度之薄膜，而硬 質塗敷層係爲達成該鉛筆硬度所需之層。硬質塗敷薄膜應 以藉由設置硬質塗敷層而使硬質塗敷側表面之鉛筆硬度達 到3Η以上，更佳爲4Η以上，而以5Η以上爲特別佳。 本發明之硬質塗敷層形成方法係任何方法均可使用，但 是從生產性之觀點考慮則以塗敷經由照射活性能量射線即 會硬化之硬化性組成物，並藉由照射該活性能量射線即會 硬化之硬化性樹脂所成之層爲宜。 使用高折射率基材薄膜時用以構成硬質塗敷層之折射率 ，較佳爲1.45〜1.6，更佳爲1.50〜1.55者。 經由照射活性能量射線即會硬化之硬化性樹脂，較佳爲 於同一分子內具有兩個以上丙烯基之硬化性樹脂。具體實 例包含例如：二丙烯酸乙二醇酯、二丙烯酸1，6-己二醇酯 、二丙烯酸雙酚-Α酯、三丙烯酸三羥甲基丙烷酯、四丙烯 酸雙三羥甲基丙烷酯、三丙烯酸新戊四醇酯、四丙烯酸新 戊四醇酯、五丙烯酸二新戊四醇酯、六丙烯酸二新戊四醇 酯等聚丙烯酸多元醇類，聚異氰酸酯硬化性樹脂與丙烯酸 羥基乙酯等含羥基丙烯酸酯之反應所得之多官能性丙烯酸 胺基甲酸乙酯或聚環氧化物硬化性樹脂與丙烯酸羥基乙酯 等含甲基丙烯酸酯之反應所得之多官能性環氧丙烯酸酯等 -36- 200411205 。也可使用側鏈具有乙烯性不飽和基之聚合物。 在本發明中對於硬質塗敷層之硬化，活性能量射線係使 用放射線、伽馬射線、阿爾法射線、電子射線、紫外線等 。其中以添加使用紫外線而會產生自由基之聚合引發劑， 而以紫外線使之硬化之方法爲特別佳。 聚合引發劑可單獨也可組合複數個引發劑而使用。聚合 引發劑之添加量較佳爲對於含在硬化性組成物中含有乙烯 性不飽和基之硬化性樹脂與含有開環聚合性基之硬化性樹 脂之總質量，以0· 1至1 5質量％範圍而使用，更佳爲以i 至10質量％範圍而使用。 也有以低折射率基材形成硬質塗敷層之情況。 例如爲提高硬質塗敷層硬度有一種對於有機化合物黏合 劑塡充矽石之無機微粒子塡充物之方法雖爲眾所周知，但 是矽石塡充物之折射率低，僅爲1.46，因而塡充其之硬質 塗敷層之折射率也隨之而低（大約爲1.48〜1.51)。 將膠體矽石超微粒子分散於UV (紫外線）硬化型有機化 合物之低折射率（折射率1.49)硬質塗敷層組成物之實例 曾於〔宇加地孝志，「塑膠硬質塗敷材」，CMC，第71-77頁（2000年）〕中有所介紹，惟如此之低折射率硬質塗 敷層也可使用。 也有以高折射率之素材形成硬質塗敷層之情形。 例如爲提高硬質塗敷層之硬度，而將氧化鋁、氧化鈦、 锆等無機微粒子塡充物塡充於有機化合物黏合劑之方法已 廣泛爲眾所周知，但是該等無機微粒子塡充物之折射率卻 200411205 高達1· 6〜2.7,而塡充該等之硬質塗敷層折射率也會變高（ 大約1 · 5 5〜1 · 7 )。 按僅以有機化合物形成之硬質塗敷層積層於TAC薄膜而 成之硬質塗敷薄膜，由於折射率差小，通常不可能觀察到 強烈干涉斑，但是爲賦予硬度等而積層上述含有無機微粒 子塡充物時，折射率差將變大而使干涉斑強烈地出現。此 時使用本發明之基底層即可減少干涉斑。 供形成上述高折射率硬質塗敷層的組成物之實例，曾有 一種將硬質塗敷層之樹脂形成成分作爲多官能性丙烯酸酯 ，而於此含有氧化鋁、氧化鈦等粉末狀無機微塡充劑之被 覆用組成物揭露於日本專利第1 8 1 5 1 1 6號公報。另外，一 種包含由氧化鋁構成之無機質塡充材料之光聚合性組成物 曾記載於日本專利第141 6240號公報。 另外，將導電性物質混合於硬質塗敷層以賦予帶電防止 性也廣泛爲眾所周知。金屬氧化物微粒子若使用ΑΤΟ (摻 銻之氧化錫）、ΡΤΟ (摻磷之氧化錫）或ΙΤΟ (摻錫之氧化 銦）即可賦予導電性。該等導電性金 氧化物微粒子之折 射率也高，以致會產生與止述相同問題。有機溶劑類透明 導電性塗料之實例曾記載於〔小松道郎，「防反射性薄膜 之特性與最優設計：膜製作技術」，技術資訊協會，第37-39 頁（2001 年）〕。 以上就需要高折射率硬質塗敷層之情況舉若干實例加以 說明，惟本發明並非局限於該等實例。以其他目的，需要 高折射率硬質塗敷層且在與基材之間會產生折射率差時， 200411205 干涉斑問題將表面化，故本發明之基底層是有效。 形成高折射率硬質塗敷層之方法，其他也有以高折射率 聚合物形成之方法。高折射率聚合物可使用具有環狀基之 聚合物或氟以外之含有鹵原子之聚合物。也可使用含有環 狀基與氟以外之鹵原子雙方之聚合物。環狀基係包含芳香 族基、雜環基及脂肪族基。 硬質塗敷層之膜厚並無特別限制，但是超過1 0微米時， 由於上述相干長度關係，干涉斑將變淡，特別是20微米以 上時，若與本發明之基底層組合即可容易使干涉斑完全消 除。因此，基於此觀點硬質塗敷層之厚度爲10微米以上， 較佳爲20微米以上，更佳爲30微米以上。另一方面，使 厚度增厚時干涉斑雖會變淡，但是反而彎曲薄膜將變得有 困難，且容易產生彎曲造成之裂紋，因而較佳爲60微米以 下，更佳爲50微米以下。 較佳的硬質塗敷層之厚度爲10〜60微米，更佳爲20〜50 微米，特別佳爲30〜5 0微米。硬質塗敷層係由單層構成， 兩層以上之形態也可。 本發明硬質塗敷層之製作，藉由於透明基材上以浸漬法 、旋塗法、噴塗法、輥塗法、照相凹版式塗敷法、線桿塗 敷法、縫口模頭擠塑塗敷法（單層、多層）、滑式塗敷機 法等習知的薄膜形成方法塗敷活性能量射線硬化塗敷液， 並予以乾燥、活性能量射線照射，使之硬化即可製得。 乾燥係以能使經塗敷之液膜中有機溶劑濃度經乾燥後降 爲5質量％之條件爲佳，較佳爲2質量％以下，更佳爲1質 200411205 量％以下。 乾燥條件雖然會受基材之熱強度或搬送速率、乾燥工序 長短等影響，但是於提高聚合率上應以儘可能使有機溶劑 含率降低爲佳。 硬質塗敷層也可採取複數層結構，也可按照硬度順序適 當地積層而製作。 在本發明中，於此等經製得之硬質塗敷層上，爲防止來 自硬質塗敷層表面之反射而設置包含低折射率層與高折射 率層之優越耐擦傷性之防反射性層，藉此即可作爲高表面 硬度之防反射性硬質塗敷層。 本發明之低折射率層及高折射率層，較佳爲包含以經由 活性能量射線照射即可硬化之硬化性樹脂爲主體之層，或 低折射率層及高折射率層係經由活性能量射線照射即可硬 化之硬化性樹脂與金屬氧化物微粒子之層。 經由照射活性能量射線即會硬化之硬化性樹脂，較佳爲 於同一分子內具有兩個以上丙烯基之硬化性樹脂。具體實 例包含例如：二丙烯酸乙二醇酯、二丙烯酸1，6-己二醇酯 、二丙烯酸雙酚-A酯、三丙烯酸三羥甲基丙烷酯、四丙烯 酸雙三羥甲基丙烷酯、三丙烯酸新戊四醇酯、四丙烯酸新 戊四醇酯、五丙烯酸二新戊四醇酯、六丙烯酸二新戊四醇 酯等聚丙烯酸多元醇類，聚異氰酸酯硬化性樹脂與丙烯酸 羥基乙酯等含羥基丙烯酸酯之反應所得之多官能性丙烯酸 胺基甲酸乙酯或聚環氧硬化性樹脂與丙烯酸羥基乙酯等含 甲基丙烯酸酯之反應所得之多官能性環氧丙烯酸酯等。也 -40 - 200411205 可使用側鏈具有乙烯性不飽和基之聚合物。 金屬氧化物微粒子可使用平均粒子大小爲1 00微米以下 ，較住爲5 0微米以下之二氧化鈦（實例··金紅石、金紅石 /銳鈦礦之混晶、銳鈦礦、非晶構造）、氧化錫、氧化銦、 氧化鋅、氧化鍩粒子、氧化鋁粒子等折射率大於1.6者。 折射率爲大之二氧化鈦，具有可減少添加量之優點。 爲增加無機微粒子與有機成分之親和性，較佳爲以含有 有機鏈段之表面改性劑處理無機微粒子表面，而表面改性 劑則以具有可與無機微粒子形成結合或可供吸附於無機微 粒子之官能基、與於其他方面藉由活性能量射線之照射即 可硬化之硬化性樹脂具有高親和性者爲宜。 具有可供結合或吸附於無機微粒子之官能基之表面改性 劑，較佳爲矽烷、鋁、鈦、鈷等金屬烷氧化物硬化性樹脂 ，或具有磷酸基、膦酸基、硫酸基、磺酸基、羧酸基等陰 離子性基等之表面改性劑。另外，與有機成分之親和性爲 高之官能基，雖也可爲僅將有機成分與親疏水性混合而成 者，但是較佳爲可與有機成分進行化學性結合之官能基， 尤其是以乙烯系不飽和基爲佳。 在本發明中，較佳之金屬氧化物微粒子之表面改性劑， 就是於同一分子內具有金屬烷氧化物或陰離子性基與乙烯 性不飽和基之硬化性樹脂，或具有羧酸等陰離子性基之丙 烯酸共聚物等。 該等表面改性劑之代表例有含有下述不飽和雙重結合之 偶合劑，或含有磷酸基之有機硬化性樹脂、含有硫酸基之 200411205 有機硬化性樹脂、含有羧酸基之有機硬化性樹脂等。 S-l H2C = C(X)COOC3H6Si(OCH3)3 S-2 H2C = C(X)COOC2H4OTi(OC2H5)3 S-3 H2C = C(X)COOC2H4OCOC5H10OPO(OH)2 S-4 (H2C = C(X)COOC2H4OCOC5Hl0O)2POOH S-5 H2C = C(X)C00C2H40S03H S-6 H2C = C(X)COO(C5H10COO)2H S-7 H2C = C(X)COOC5H10COOH (X = H、或表示 CH3)。 該等無機微粒子之表面改性，較佳爲於溶液中進行。使 無機微粒子以機械方式作微細分散時，可採取使表面改性 劑一起存在，或是經將無機微粒子作微細分散後添加表面 改性劑而攪拌之方法，或是進一步將無機微粒子作微細分 散之前進行表面改性（必要時經加溫、乾燥後予以加熱或 pH變更），然後予以微細分散之方法也可。 用以溶解表面改性劑之溶液，以極性較大之有機溶劑爲 佳。具體而言，可使用醇、酮、酯等習知的溶劑。 在本發明中對於硬質塗敷層之硬化，活性能量射線係使 用放射線、伽馬射線、阿爾法射線、電子射線、紫外線等 。其中以添加使用紫外線而會產生自由基之聚合引發劑， 而以紫外線使之硬化之方法爲特別佳。 以紫外線產生自由基之聚合引發劑之實例，可使用例如 :乙醯苯類、二苯甲酮類、米希勒酮、苯甲酸苯甲醯酯、 苯偶姻類、α -酸氧基酯、硫化四甲基秋蘭姆及噻噸酮等習 -42- 200411205 知的自由基產生劑。另外，如上述通常作爲光酸產生劑使 用之毓鹽或碘鏺鹽等也可藉由紫外線照射而作爲自由基產 生劑而作用，因而在本發明中則可將該等以單獨使用。另 外，除聚合引發劑之外，也可以提高敏感度目的而使用增 感劑。增感劑之實例包含正-丁基胺、三乙基胺、三-正-丁 基膦和噻噸酮衍生物等。 聚合引發劑可單獨也可組合複數個引發劑而使用。聚合 引發劑之添加量較佳爲對於含在硬化性組成物中含有乙烯 性不飽和基之硬化性樹脂與含有開環聚合性基之硬化性樹 脂之總質量，以〇· 1至1 5質量％範圍而使用，更佳爲以1 至10質量％範圍而使用。 此等由經照射活性能量射線即會硬化之硬化性樹脂與金 屬氧化物微粒子構成之高折射率層之折射率較佳爲1.6以 上，更佳爲1.65以上，且較佳爲比低折射率層之折射率大 0.2以上。 低折射率層可使用與使用於高折射率層之照射活性能量 射線即會硬化之硬化性樹脂相同之硬化性樹脂。所使用之 樹脂經硬化後之折射率以1 · 6以下爲佳，金屬氧化物微粒 子則以折射率較小之二氧化矽爲佳。 低折射率層之折射率較佳爲從1.45至1.6，且以1.55以 下爲佳。 此等高折射率層與低折射率層係分別以50〜100微米範 圍塗敷，且爲使防反射性效果加大，應將光學距離（折射 率X厚度）設定爲觀測波長（尤其是580奈米）之四分之 200411205 在本發明中之高折射率層與低折射率層，係藉由於透明 基材上將上述活性能量射線硬化性塗敷液依照高折射率層 、低折射率層之順序以旋塗法、照相凹版式塗敷法、線桿 塗敷法等習知的薄膜形成方法塗敷，並予以乾燥、活性能 量射線照射，使之硬化即可製得。 上述由高折射率層與低折射率層所構成防反射性層之反 射率（正反射率），較佳爲3.0%以下，更佳爲1.5%以下。 將折射率1.53之硬質塗敷層形成於折射率1.65之PET薄 膜時，PET薄膜與硬質塗敷層界面之反射率將成0.15%。若 使用本發明，反射率可使之減少至0.02%，即反射率之減少 幅度爲〇· 1 3%。按該減少幅度之重要度係防反射性薄膜之反 射率愈低愈大。 在本發明中之防反射性硬質塗敷層，爲提高防反射性層 之防污染性，也可將含有氟素及/或含有矽之硬化性樹脂含 於低折射率層，或是將含有氟素及/或含有矽之硬化性樹脂 之層設置於低折射率層上。 可供對於低折射率層添加之硬化性樹脂，則有習知的氟 硬化性樹脂或矽硬化性樹脂，或具有具有氟與矽含有部之 塊的硬化性樹脂，進一步較佳爲具有與樹脂或金屬氧化物 等相容性良好之鏈段與含有氟或矽之鏈段之硬化性樹脂， 而對於低折射率層添加即可使氟或矽偏在於表面。 此等之具體性硬化性樹脂，有含有氟或矽之單體與其他 親水性或親油性之單體之嵌段共聚物，或接枝共聚物。含 200411205 氟單體有以：丙烯酸六氟異丙酯、丙烯酸十七氟癸酯、丙 烯酸全氟烷基磺醯胺乙酯〇6^11101：031]^18111!'011&111丨(16 61：117 lacrylate)、丙燒酸全氟院基釀胺乙醋（perfluoroalkylamide ethyl acrylate)等爲代表之含全氟烷基（甲基）丙烯酸酯。 含矽單體則包含具有藉由聚二甲基矽氧烷與（甲基）丙烯 酸等之反應的矽氧烷基之單體。親水性或親油性之單體， 則包含丙烯酸甲酯等（甲基）丙烯酸酯、末端含有羥基之 聚酯與（甲基）丙烯酸之酯、（甲基）丙烯酸羥基乙酯、 聚乙二醇之（甲基）丙烯酸酯等。市售之硬化性樹脂則包 含：具有全氟烷基鏈之微領域結構的丙烯酸類低聚物之 DEFENSA (譯音）MCF-3 00、312、323等，含有全氟烷基-親油性基低聚物之MEGAFAC (譯音）F-170、F-173、F-175 等，含有全氟烷基··親水性基低聚物之MEGAFAC F-171等 (大日本墨水化學公司製），或由表面遷移性優越的鏈段 與相容於樹脂之鏈段所構成乙烯單體嵌段共聚物之氟化烷 基系之 MODIPER (譯音）F-200、220、600、820 等，矽系 之MODIPERFS-700、710等（日本油脂公司製）。 如欲於低折射率層上設置防 染性層，則以含氟之低表 面能量性硬化性樹脂爲佳，具體而言，可使用日本專利特 開昭第5 7-3 45 26號公報、特開平第2- 1 9 80 1號公報、特開 平第3 - 1 70 9 0 1號公報記載之含有氟化烴基之矽硬化性樹脂 、含有氟化烴基之聚合物等。 本發明之塑膠薄膜除上述防反射性層以外’也可與具有 紫外線·紅外線吸收層、著色層、選擇波長吸收性層、電 200411205 磁波遮蔽層等功能之層一起積層，而供作高硬度機能性塑 膠薄膜之用。 另外’供具備本發明之塑膠薄膜之影像顯示裝置，則以 CRT (陰極射線管）、LCD (液晶顯示器）、FED (場致發 射顯示器）、EL (電致發光顯示器）等顯示器或觸控面板 、可攜式遊樂器之顯示板等。尤其是從防止破碎之觀點考 慮，則以基材必須爲PET (聚對苯二甲酸乙二醇酯）之平 面CRT電視機或部分基材已聚對苯二甲酸乙二醇酯（PET) 化之PDP (電漿顯示面板）爲佳。 【實施方式】 以下根據實施例具體說明本發明，惟本發明並非局限於 實施例。 <預備實驗例> 以下述實驗調查基材與硬質塗敷層之折射率差（I ns-nH I )與干涉斑產生之關係。 硬質塗敷層塗敷液 將二氧化鈦微粒子〔TTO-55B，石原產業公司製〕30.0 重量份、含有羧酸基之單體〔ALONICS (譯音）M-5300東 亞合成公司製〕4.5重量份及環己烷65.5重量份以砂磨機 使之分散，而調製質量平均徑55奈米之二氧化鈦分散液。 將六丙烯酸二新戊四醇酯〔DPH A，日本化藥公司製〕，與 光自由基聚合引發劑〔IRGAKYUA(譯音）184，Ciba-Geigy (譯音）公司製〕，單體之總計量（相對於六丙烯酸二新 戊四醇酯、陰離子性單體之總計量）爲5%〕加以混合，以 -46 - 200411205 將折射率調整爲如表1。 硬質塗敷層之塗數 將厚度100微米之PET (面方向折射率K65之雙向拉伸 聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜）之雙面予以電暈處理，且將 上述塗敷液以能使乾燥後之膜厚成爲5微米之方式而予以 單面塗敷。 表1

硬質塗敷層 折射率 1 ns-nH | 干涉斑 預備實驗例1 1.65 0 ◎ 預備實驗例2 1.62 0.03 〇 預備實驗例3 1.60 0.05 Δ 預備實驗例4 1.53 0.12 XX 其中干涉斑係以下述方法進行評價。

干涉斑之評價：將經以砂紙磨擦背面，塗上黑變色墨水 而加工成不至於產生背面反射之試樣擺放於桌上，由30公 分上方以三波長螢光燈（National Panac (譯音）FL20SS-EX-D/18)照射試樣，觀察干涉斑，而以下述基準進行評價 ◎:干涉斑完全看不到 〇：干涉斑幾乎看不到 △:干涉斑非強烈地看得到 X : 干涉斑可強烈地看得到 XX· 干涉斑非常強烈地看得到 由以上結果得知，基材與硬質塗敷層之折射率差於0.03 -47- 200411205 即開始看得到干涉斑，且隨著折射率差增加干涉斑即可強 烈地看得到。 <實施例> 附加基底層之PETL基底之製作：基材1〜6 將厚度100微米之PET (雙向拉伸聚對苯二甲酸乙二醇 酯薄膜、折射率1.65 )之兩面予以電暈處理，將由折射率 1.53、玻璃轉變溫度55°C之聚酯樹脂構成之乳膠〔 PESRESIN (譯音）A-5 20、高松油脂公司製〕與氧化錫-氧 化銻複合氧化物〔SN-38、石原產業公司製〕混合成經乾燥 後之折射率與膜厚能成爲表2記載之値，而塗敷於單面（A) 或兩面（B)，藉以形成基底層。 附加基底層之PET基底（base)之製作：基材7 (1)有機溶劑系基底層塗敷液（p-1)之調製 將二氧化鈦微粒子〔TTO-55B，石原產業公司製〕30.0 重量份、含有羧酸基之單體〔ALONICS M-5 3 00東亞合成 公司製）4.5重量份及環己烷65.5重量份以砂磨機加以分 散，而調製質量平均徑5 5奈米之二氧化鈦分散液。將六丙 烯酸二新戊四醇酯〔DPH A，日本化藥公司製〕，與光自由 基聚合引發劑〔IRGAKYUA 184，Ciba-Geigy公司製，單體 之總計量（相對於六丙烯酸二新戊四醇酯、陰離子性單體 之總計量）爲5%〕加以混合，以將基底層折射率調整爲1.59 (2)基底之製作 將厚度100微米之PET (雙向拉伸聚對苯二甲酸乙二醇 -48 - 200411205 酯薄膜、折射率1.65)之兩面予以電暈處理，使塗敷液（p-l) 以能使經乾燥後之膜厚成爲86奈米之方式而塗敷於單面者 作爲基材-7 A，而塗敷於兩面者作爲基材-7B。 附加基底層之TAC基底之製作：基材9 (1 )有機溶劑系基底層塗敷液（P-2)之調製 以與上述有機溶劑系基底層塗敷液（P-1 )相同調製方法使 基底層折射率調製成1.54。 (2) 基底之製作 於厚度80微米之TAC薄膜〔三乙醯纖維素（TAC-TD80U 、富士照相軟片公司製）、折射率1.48〕，使塗敷液（p-2) 以能使經乾燥後之膜厚成爲8 9奈米之方式而塗敷於單面者 作爲基材-9A，而塗敷於兩面者作爲基材-9B。 -49- 200411205 表2 基材 基底層 折射率 基底層 膜厚 基底層P 之形成 基底層Q 之形成 設計 λ 基材-0 - - 並 jw\ Μ /\\\ - 基材-1A 1.59 86 nm 有 迦 547 nm 基材-1B 11 η 有 有 if 基材-2A 1.57 86 nm 有 540 nm 基材-2B 11 // 有 有 // 基材-3A 1.59 76 nm 有 Μ 483 nm 基材-3B 11 // 有 有 // 基材-4A 100 ^ 1.59 96 nm 有 Μ /\\s 611 nm 基材-4B PET // // 有 有 // 基材-5A 1.59 130 nm 有 Μ j\\\ 827 nm 基材-5B // // 有 有 // 基材-6A 1.55 200 nm 有 j \ \\ 1,240 nm 基材-6B ” If 有 有 ff 基材-7A 1.59 86 nm 有 J\\\ 547 nm 基材-7B // 11 有 有 n 基材-8 80/z - - 無 並 J\\\ - 基材-9A TAC 1.54 89 nm 有 dnt. iiir J\\\ 547 nm 基材-9B 11 // 有 有 //

-50- 200411205 表2中設計λ爲依照式式（3)而決定基底層膜厚時所探用 之波長λ値，且將其時之式（3)中自然數Ν設爲N=1。 硬質塗敷層.塗敷液之調製 使（甲基）丙烯酸縮水甘油酯溶解於甲基乙基酮（MEK :甲基乙基酮），邊滴下熱聚合引發劑邊以80 °C進行反 應兩小時，將所製得之反應溶液滴下於己烷，而對於將沉 澱物減壓乾燥所得聚二甲基丙烯酸縮水甘油酯〔以聚苯乙 烯換算分子量爲1 2,000〕以能成爲50%質量％濃度之方式而 溶解於甲基乙基酮（MEK)之溶液100重量份，邊攪拌邊混合 將三丙烯酸三羥甲基丙烷酯〔VISCOAT (譯音）#295 ;大 阪有機化學工業公司製〕150重量份與光自由基聚合引發劑 6重量份溶解於30重量份之甲基異丁基酮者，而製作硬質 塗敷層塗敷液。並且調整成經硬化後之硬質塗敷層折射率 能成爲1. 5 3。 硬質塗敷層塗敷液（h-2)之調製 將二氧化鈦微粒子〔TTO-5 5B，石原產業公司製〕30.0 重量份、含有羧酸基之單體〔ALONICS M-5 3 00東亞合成 公司製〕4.5重量份及環己烷65.5重量份以砂磨機使之分 散，而調製質量平均徑55奈米之二氧化鈦分散液。將六丙 烯酸二新戊四醇酯〔DPH A，日本化藥公司製〕，與光自由 基聚合引發劑〔IRGAKYUA 184，Ciba-Geigy公司製’單體 之總計量（相對於六丙烯酸二新戊四醇酯、陰離子性單體 之總計量）爲5%〕加以混合，以將經硬化後之折射率調整 爲 1 · 6 0 〇 200411205 硬質塗敷薄膜之製作 於經由上述所製作附加基底層之薄膜之基底層p上，將 上述硬質塗敷層用塗敷液以能成爲表3記載之方式以擠出 方式塗敷，並予以乾燥，照射紫外線（700 mJ/cm2)，使硬質 塗敷層硬化而製作硬質塗敷薄膜。 對於經製得之硬質塗敷薄膜以下述方法進行評價。評價 結果顯示於表3。 鉛筆硬度試驗：鉛筆刮傷試驗之硬度係將經製得之硬質 塗敷薄膜以濕度25 °C、相對濕度60%條件調濕兩小時後， 使用JIS S-6006所規定之試驗用鉛筆，並依照JIS K-5400 所規定鉛筆硬度評價方法，以9.8牛頓（N)之負荷下未看到 傷之鉛筆硬度値。 霧度之評價：將經製得之硬質塗敷薄膜之霧度以霧度計 MODEL 1001〔曰本電色工業公司製〕進行測定。 -52- 200411205 表3

基材 硬質 塗敷層 塗敷液 硬質 塗敷層 膜厚 界面 折射率 (%) 鉛筆 硬度 霧度 干涉 斑紋 實施例1A 基材-1A h-1 40 /zm 0.0001 5H 0.4% ◎ 實施例1B 基材-1B h-1 40 0.0001 5H 0.6% ◎ 實施例2A 基材-2A h-1 40 /zm 0.014 5H 0.3% 〇 實施例3A 基材-3A h-1 40 0.0045 5H 0.3% ◎ 實施例4A 基材-4A h-1 40 /zm 0.0051 5H 0.5% ◎ 實施例5B 基材-1B h-1 5 μχα 0.0001 2H 0.6% 〇 實施例6A 基材-3A h-1 5 βίη 0.0045 2H 0.6% 〇 實施例7A 基材-7A h-1 40 /zm 0.0001 5H 0.4% ◎ 實施例8A 基材-3A h-1 20 βχη 0.0045 2H 0.6% ◎ 實施例9A 基材_9A h-2 5 /zm 0.0001 Η 0.6% ◎ 比較例1 基材-0 h-1 40 βτη 0.14 5Η 0.2% X 比較例2 基材-0 h-1 5 /zm 0.14 2Η 0.4% XX 比較例3A 基材-5A h-1 40 //m 0.075 5Η 0.4% △ 比較例4B 基材-6B h-1 40 //m 0.13 5Η 0.6% X 比較例5B 基材-6B h-1 5 βϊΆ 0.13 2Η 0.6% XX 比較例8 基材-8 h-2 5 /zm 0.15 Η 0.6% XX 表3中所謂界面反射率爲硬質塗敷層/基材界面之平均反 射率，係以菲涅爾（Freiisnel)之式計算基底層上下面之振幅 反射率，並考慮由基底層膜厚與波長所得相位差而合成兩 個反射波，由對於540〜5 5 0奈米按每一奈米所求得能量反 射率所計算之平均値。 由表3所示結果得知下述情況極其明顯。 於基材爲PET薄膜且具有由折射率爲丨.53之有機化合物 -53- 200411205 所形成硬質塗敷層之硬質塗敷薄膜，設有本發明基底層之 實施例1A〜7A之硬質塗敷薄膜，雖在三波長螢光燈下看不 到干涉斑，但是無基底層（比較例1與2 )，或設置先前之 基底層（比較例4B與5B )時，干涉斑即可非常強烈地看 得到。 於基材爲TAC薄膜且具有折射率爲1.60之高折射率硬質 塗敷層之硬質塗敷薄膜，設有本發明基底層之實施例9 A之 硬質塗敷薄膜，雖在三波長螢光燈下看不到干涉斑，但是 無基底層（比較例8 )時，干涉斑即可非常強烈地看得到。 另外，若將基底層之膜厚設計·設定爲· =540奈米（實 施例1 A，1 B，7A，9A )，則完全看不到千涉斑，因而可 知較佳爲應配合可見光中綠色之光而設計基底層。 此外，使用相同基材時，硬質塗敷層之膜厚越厚干涉斑 越難於看到，因而10微米以上之硬質塗敷層與本發明基底 層之組合係對於干涉斑對策有效。（實施例3 A、實施例6A 、實施例8A之比較、比較例1與比較例2之比較。） 硬質塗敷薄膜對於防反射性薄膜之應用 防反射性薄膜之製作 (1)高折射率層塗敷液（a -1)之調製 將二氧化鈦微粒子〔TTO-55B，石原產業公司製〕30.0 重量份、含有羧酸基之單體〔ALONICS M-5 3 00東亞合成 公司製〕4.5重量份及環己烷65 ·5重量份以砂磨機使之分 散，而調製質量平均徑5 5奈米之二氧化鈦分散液。將六丙 烯酸二新戊四醇酯〔DPHA，日本化藥公司製〕，與光自由 200411205 基聚合引發劑〔IRGAKYUA 184，Ciba-Geigy公司製，單體 之總計量（相對於六丙烯酸二新戊四醇酯、陰離子性單體 之總計量）爲5 %〕加以混合，以將經硬化後之折射率調整 爲 1 ·85 ° (2) 低折射率層塗敷液（a-2)之調製 將四丙烯酸新戊四醇酯〔PET A，日本化藥公司製〕60重 量份、光自由基聚合引發劑〔IRGAKYUA 184，Ciba-Geigy 公司製〕20重量份、MEG AF AC (譯音）531 A〔 C8F17S02N(C3H7)CH2CH20C0CH = CH2,大日本墨水化學工業 公司製〕9重量份、及甲基乙基酮（MEK)加以混合、攪拌而 調製低折射率層塗敷液。 折射率之調整係以能使折射率成爲1 .53之方式，添加將 二氧化矽微粒子〔ALOEZYL (譯音）200，曰本ALOEZYL 公司製〕30.0重量份、含有羧酸基之單體〔ALONICS M-5 00 0 東亞合成公司製〕4.5重量份及環己酮65.5重量份，以砂 磨機加以分散調整成質量平均徑12奈米之二氧化矽微粒子 分散液而實施。 接著於表3所記載硬質塗敷薄膜之硬質塗敷層上，以能 使各自層之膜厚、折射率成爲表4中記載値且將塗敷液加 以調整、塗敷、曝光，而製得防反射性硬質塗敷薄膜A〜D (C及D係比較用）。將此等防反射性硬質塗敷薄膜之特 性展示於表4。塗敷液之塗敷及曝光係與硬質塗敷層之形成 同樣地實施。 表4 -55- 200411205 反射 防止 薄膜 硬質塗敷 薄膜 高折射率層 低折射率層 表面 折射率 (%) 干涉 斑紋 厚度 (nm) 折射率 厚度 (nm) 折射率 A 實施例1B 75 1.85 90 1.53 1.2 ◎ B 實施例5B // // // // // 〇 C 比較例4B // // // // 1.3 X D 比較例5B !1 // // // // XX 以表4展示之表面反射率係以下述方式測定。 表面反射率之測定：製作以砂紙磨擦背面，並塗上黑變 色墨水以使背面反射不至於產生之試樣，而以分光光度計 求出於45 0〜65 0奈米波長領域入射光5 °C時正反射之表面 反射率。 如表4所示，使用本發明硬質塗敷薄膜之防反射性薄膜 ，於三波長螢光燈下完全看不到干涉斑。惟於比較例所示 先前硬質塗敷薄膜，即使於硬質塗敷層上設置防反射性層 ，結果於三波長螢光燈下仍然可強烈地看得到干涉斑。 兩面防反射件硬質塗敷薄膜貼合玻璃板之製作 於厚度爲3毫米之玻璃板表面·背面兩面，按照表5將 表4記載之防反射性硬質塗敷薄膜，對於基材於與具有防 反射性層之面成相反側之面設置丙烯系之折射率1.52黏著 劑而貼合。對於該玻璃板所實施反射率之測定與干涉斑之 評價結果展示於表5。 表5 貼合薄膜 貼合薄膜 平均積分 千涉斑 (表面） (背面） 反射率 -56- 200411205

S-1 A A 4.0% ◎ S-2 B B // 〇 S-3 C C 4.8% X S-4 D D // XX 表5所示平均積分反射率係ns R-3 106之方法實施。關 於干涉斑則以與上述預備實驗例相同方法。 由表5所示結果即得知下述情況極其明顯。

設置本發明基底層之兩面防反射性硬質塗敷薄膜貼合玻 璃板係平均積分反射率低且也無產生干涉斑。設置先前之 基底層時，（S-3)與（S-4)係反射率也高且干涉斑也可非常強 烈地看得到。 防反射件薄膜對於電漿顯示面板（PDP)前面板之應用

剝下電漿顯示器〔PDP-433HD UPIONEER公司製〕之前 面板表面之防反射性薄膜，於中央部之一部分將切成1 0公 分xlO公分之表4記載之防反射性硬質塗敷薄膜A與（：相 鄰接而使各自防反射性層位於最表面之方式而以折射率 1.52之丙烯系黏著劑予以貼合，而於以三波長螢光燈作爲 室內照明而使用之室內加以觀測。結果從設置防反射性硬 質塗敷薄膜A之顯示器並無干涉斑而視認性良好。與此相 對，從設置防反射性硬質塗敷薄膜C之顯示器則可強烈地 看到干涉斑。由此結果得知經由本發明製得之防反射性硬 質塗敷薄膜係適合於影像顯示裝置之電漿顯示面板（PDP) 前面板。 附加黏著劑層之透明塑膠薄膜之製作 〔附加基底層之聚對苯二甲酸乙二醇酯（PET)薄膜之製作 -57- 200411205 :供實施例21〜26、比較例23〜24使用〕 將厚度1〇〇微米或50微米之PET (雙向拉伸聚對苯二甲 酸乙二醇酯（PET)薄膜、折射率1.65)之兩面予以電暈處理 ，將由折射率1.53、玻璃轉變溫度55。0之聚酯樹脂構成之 乳膠〔PESRES1N A-5 20、高松油脂公司製〕與氧化錫·氧 化銻複合氧化物〔SN-38、石原產業公司製〕以經乾燥後之 折射率與膜厚能成爲表6記載之値而予以混合，予以單面 塗敷而形成基底層，藉以製作供實施例21〜26、比較例23〜24 使用之附加基底層之聚對苯二甲酸乙二醇酯（PET)薄膜。 〔附加基底層之聚對苯二甲酸乙二醇酯（PET)薄膜之製作 :供實施例27使用〕 將厚度1〇〇微米之PET (雙向拉伸聚對苯二甲酸乙二醇 酯（PET)薄膜、折射率1.65 )之兩面予以電暈處理，將上述 塗敷（P-1)液以能使經乾燥後之膜厚成爲86奈米之方式而 塗敷於單面，藉以製作供實施例27使用之附加基底層之聚 對苯二甲酸乙二醇酯（PET)薄膜。 〔附加基底層之聚對苯二甲酸乙二醇酯（PET)薄膜之製作 :供實施例28使用〕 與實施例21〜24同樣地於100微米之聚對苯二甲酸乙二 醇酯（PET)以能使經乾燥後成爲折射率1.65、膜厚200奈米 之方式予以單面塗敷後，再進一步將上述塗敷液（p-1)以能 使經乾燥後之膜厚成爲86奈米之方式而塗敷者作爲供實施 例28使用之薄膜。 〔附加基底層之聚對苯二甲酸乙二醇酯（PET)薄膜之製作 200411205 ••供實施例29、比較例26使用〕 (1 )有機溶劑類基底層塗敷液（p-2)之調製 將環己酮與六丙烯酸二新戊四醇酯〔DPHA，日本化藥公 司製〕與光自由基聚合引發劑〔IRGAKYUA184，Ciba-Geigy 公司製，添加量爲相對於六丙烯酸二新戊四醇酯爲5 %〕加 以混合。（以環己酮加以環己酮調整黏度以使塗敷性良好 ° ) (2)附加基底層之聚對苯二甲酸乙二醇酯（PET)薄膜之製 作 在厚度爲於1〇〇微米之聚對苯二甲酸乙二醇酯（PET)上， 與實施例2 1、比較例24同樣地設置第一層之基底層後，將 塗敷液P-2塗敷成乾燥膜厚能成爲2微米者分別作爲供實 施例29、比較例26使用之附加基底層之聚對苯二甲酸乙二 醇酯（PET)薄膜。 於上述實施例21〜29及比較例21〜26之附加基底層之聚 對苯二甲酸乙二醇酯（PET)薄膜之基底層積層側貼合丙烯 類黏著劑層（折射率1 · 5 3、厚度3 0微米、霧度0 · 1 % )， 藉以完成附加黏著劑層之透明塑膠薄膜。 〔干涉斑之評價〕 在此干涉斑則以下述方法進行評價。 干涉斑之評價：將附加黏著劑層之上述透明塑膠薄膜實 施例21〜28及比較例2 1〜25之脫模紙，貼合於1毫米（厚 度）之玻璃板，使玻璃板位於下方而擺放於擺置於桌上之 黑紙上，而由30公分上方以二波長螢光燈〔National Paluc -59- 200411205 (譯苜）FL20SS EX-D/l 8〕照射試樣，觀察干涉斑，而以 下述基準進行評價。其結果展示於表1: ◎:干涉斑完全看不到 〇：涉斑紋幾乎看不到 △:斑紋非強烈地看得到 X : 干涉斑可強烈地看得到 XX : 干涉斑非常強烈地看得到 〔霧度之評價〕 霧度之評價··將附加黏著劑層之上述透明塑膠薄膜（實 施例21〜28及比較例21〜25)之脫模紙，貼合於1毫米（厚 度）之玻璃板，而以霧度計機型100 1DP〔日本電色工業公 司製〕進行測定。 -60- 200411205 表6 基材 基底層 設計 λ 界面 反射率 (%) 霧度* (%) 干涉 斑紋 基材 厚度 折射率 膜厚 實施例21 PET 100//m 1.59 86 nm 547 nm 0.0001 0.3 ◎ 實施例22 // 50 // η // // 0.3 ◎ 實施例23 // 100 1.57 86 nm 540 nm 0.014 0.3 〇 實施例24 // 100/zm 1.59 76 nm 483 nm 0.0045 0.3 ◎ 實施例25 ” 50 // // // // 0.3 〇 實施例26 η 100/zm 1.59 96 nm 611 nm 0.0051 0.3 ◎ 實施例27 η 100/zm 1.59 86 nm 547 nm 0.0001 0.3 ◎ 實施例28 η 100/m 1.65/ 200 nm/ 547 nm 0.0001 0.4 ◎ 1.59 86 nm 實施例29 η 100//m 1.59/ 86 nm/ 547 nm 0.0001 0.4 ◎ 1.53 2 /zm 比較例21 η 100 - - - 0.014 0.3 X 比較例22 11 50 μνη - - - η 0.3 XX 比較例23 // 100/zm 1.59 130 nm 827 nm 0.075 0.3 △ 比較例24 // 100/zm 1.55 200 nm 1,240 nm 0.13 0.3 X 比較例25 // 100//m 1.55/ 200 nm 1,240 nm 0.14 0.3 X 1.59 /86 nm 比較例26 " 100/zm 1.55/ 200 nm 1,240 nm 0.14 0.3 X 1.53 /2 jim *實施例28、29,比較例25、26之折射率與膜厚係由接近 於基材側之層依序記載。 表6中之設計λ係依照式（6)而決定基底層膜厚時所採用 之波長λ値。另外，其時之式（6)中自然數Ν係設爲N = 1。 另外，界面反射率爲於黏著劑層/基材界面之平均反射率 ，係以菲涅爾（Frensnel)之式計算基底層上下面之振幅反 200411205 射率，並考慮由基底層膜厚與波長所得相位差而合成兩個 反射波，由對於540〜550奈米按每一奈米所求得能量反射 率所計算之平均値。 由表6所示結果得知下述情況極其明顯。 貼合於玻璃板之本發明附加黏著劑層之透明塑膠薄膜， 雖於三波長螢光燈下看不到干涉斑，但是如將無基底層（ 比較例21、22)，或是設置先前之基底層（比較例24)之 薄膜作爲基材而使用時，則干涉斑可非常強烈地看得到。 透明塑膠薄膜基材之厚度若爲薄，則可強烈地觀察到干 涉斑（實施例24與25之比較、比較例21與22之比較） 〇 若將基底層之膜厚設計λ設定爲λ = 540奈米（實施例 21、22、27、28)，則完全看不到干涉斑，因而可知較佳 爲應配合可見光中綠色之光而設計基底層。 實施例28、29於三波長螢光燈下雖然看不到干涉斑，但 是若將折射率1.55之基底層積層於基材，且於其上再加一 層基底層（比較例25、26 )，則干涉斑可非常強烈地看得 到。 發明之效罢 若依照本發明，則由於將具有特定之折射率與膜厚之基 底層形成於高折射率基材薄膜上，藉此即可製得即使於三 波長螢光燈下也看不到干涉斑而視認性良好之塑膠薄膜。 使用本發明之塑膠薄膜，即可提供即使於三波長螢光燈下 也無干涉斑之透明機能性薄膜。本發明之塑膠薄膜，係適 200411205 合作爲玻璃防飛散性薄膜、膠黏帶、透明帶膠標簽之基材 、此外，上述透明機能性薄膜係適合作爲陰極射線管（CRT) 、液晶顯示（LCD)、電漿顯示面板（PDP)、場致發射顯示器 (FED)等影像顯示裝置之表面或觸控面板、玻璃板或塑膠板 等之保護薄膜。

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Claims (1)

1. 200411205 拾、申請專利範圍 1 · 一種塑膠薄膜，係至少在透明塑膠基材之單面上依順序 積層基底層及機能性層所形成，其特徵爲： 透明塑膠基材之折射率ns及機能性層之折射率nH可滿 足 數式（1) : 0.03 S 丨 ns-nH | ;且 對垂直於薄膜面入射之波長爲540〜5 5 0奈米之光於機 能性層與基材之界面上的平均反射率係在0.02 %以下。 2. 一種塑膠薄膜，其係至少於透明塑膠基材之單面上依順 序積層基底層及機能性層所形成，其特徵爲： 透明塑膠基材之折射率ns及機能性層之折射率nH可滿 足 數式（1): 0.03S | ns-nH | ;且 基底層具有可滿足下述數式（2)及數式（3)之折射率nP及 膜厚dP ; 數式（2): JW 化产、^/nsxnH+气nH- ，及 數式（3): dp = (2N-1) X λ /(4 nP)， 但是；l爲可見光波長爲450奈米〜650奈米範圍中任一 値，N爲自然數。 3.如申請專利範圍第1或2項之塑膠薄膜，其中機能性層 -64 - 200411205 爲硬質塗敷層。 4. 如申請專利範圍第1或2項之塑膠薄膜，其中機能性層 爲黏著劑層。 5. 如申請專利範圍第1或2項之塑膠薄膜，其係具有上述 機能性層爲硬質塗敷層、黏著劑層以外之機能性層。 6. 如申請專利範圍第3項之塑膠薄膜，其係進一步具有上 述機能性層爲硬質塗敷層、黏著劑層以外之機能性層。 7. 如申請專利範圍第4項之塑膠薄膜，其係進一步具有上 述機能性層爲硬質塗敷層、黏著劑層以外之機能性層。 8. —種塑膠薄膜，其特徵爲：其係將基底層積層於折射率 ns之透明塑膠基材之至少單面所形成，且可滿足下述2 條件： (a) ns$1.56、或 nsS1.50; (b) 於基底層上設置與透明塑膠基材之折射率差爲〇·〇3 以上之硬質塗敷層時，於硬化層與基材之界面上對 於薄膜面垂直入射之波長爲540〜550微米之光的平 均反射率爲0.0 2 %以下。 9. 一種塑膠薄膜，其特徵爲：其係於折射率113之透明塑 膠基材之至少單面上積層k層之折射率nPi之基底層所 形成，且可滿足下述2條件： (c) ns— 1.56、或 nsg 1.50 ; (d) I nP(i-l)"nPi I = 0.03 » (其中i爲1〜k之整數，k爲以1以上整數積層之基 底層總數）； -65- 200411205 但是i-l=〇時，nP() = ns，亦即， I ns-nP1| $0·03ο ίο. 如申請專利範圍第8或9項之塑膠薄膜，其係進一步具 有上述機能性層爲硬質塗敷層、基底層以外之機能性層 〇 1 1 · 如申請專利範圍第10項之塑膠薄膜，其上述進一步之 機能性層爲防反射性層。 12 · 一種影像顯示裝置，其特徵爲具備如申請專利範圍第 1至11項中任一項之塑膠薄膜。

   -66 - 200411205 柒、指定代表圖 (一） 本案指定代表圖爲：無。 (二） 本代表圖之元件代表符號簡單說明 捌、本案若有化學式時，請揭示最能顯示發明特徵的化學 式