TW200302469A - Multi-layered optical recording medium and manufacturing method thereof - Google Patents

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TW200302469A TW091137453A TW91137453A TW200302469A TW 200302469 A TW200302469 A TW 200302469A TW 091137453 A TW091137453 A TW 091137453A TW 91137453 A TW91137453 A TW 91137453A TW 200302469 A TW200302469 A TW 200302469A
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Tsuyoshi Komaki
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Description

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發明所屬之技術領域 本發明是關於包括基材 + 個面上形成表面具有 ，、田射先束入射方向側之整 产本品L 、有"己錄層之循軌用之導引溝，；5 ί§1日车將 在表面上形成荖替；曰士 ^ m 及问犄將 廢笋厗认、， 面，、有記錄層之循軌用導引溝的光透過 層積層於前述基材的上部守Ή /荐的九迓過 多層光t锊I Μ > & y成之夕層光圮錄媒體，及此 夕尼兀屺錄媒體之製造方法。 先前技術 “乂2 Ϊ ί f層光記錄媒體是如圖20所示眾所周知之多層 謂的IS广己錄媒體31。此多層光記錄媒體31即是所 :孔之平：二/V己錄媒體’ ☆中心部形成著具有安裝用中 m板狀(例如圓板嶋…依序積層著記錄 L之/* /SP、記錄_及覆蓋層C。在此場合是在基 # + p设盍層C側的表面上形成著導引溝（溝（Gr〇ove)GR及 τ方品（Land)LD)等之微細凹凸（深度為Ldl2)。又，兮己錄 層L1是將寫入用雷射光束及再生用雷射光束（以下不加以 區別都稱作「雷射光束」）予以反射之反射膜，及利用照 射2入用雷射光束時會隨著光學定數之變化而產生光反射 率變化之相變化膜，及用來保護相變化膜之保護膜以積層 方式形在這些微細凹凸上之構成。又，間隔層sp是由光透 過性樹脂所構成，並在位於覆蓋層C側之表面上形成著具 有與基材D上深度為Ldl2之微細凹凸相同深度Ld02之溝GR 及停放區L D等之微細凹凸。又，記錄層l 〇是將相變化膜及 保護膜等積層在此微細凹凸上所構成。覆蓋層C是由光透
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過性樹脂所形成。此多層光記錄媒體31是以同圖中之箭頭 A方向從光傳感器（Pick up)發出雷射光束加以照射之方式 來針對記錄層L0、L1進行記錄資料之寫入，或是進行記錄 層L0、L1中之記錄資料讀出。 接下來針對此多層光記錄媒體31之製造方法參照圖 1 6〜圖2 0來加以說明。 在製造此多層光記錄媒體3丨之時，首先利用金屬材料 製作出表面上具有與基材D表面上所形成之溝GR、停放區 LD及小坑（Pit)等（以下稱作「溝GR及停放區⑶等」）微細 凹$相同方向之微細凹凸（以下稱作「同相微細凹凸」）的 主壓杈（Master stamper )MSS。接著如圖16所示，將形成 於此主壓模MSS上之微細凹凸利用金屬材料來複製出具有 與溝GR及停放區LD等微細凹凸相反方向（相位反轉）之微細 凹凸（以下稱作「反轉微細凹凸」）的母壓模MTS(M〇ther stamper)。在此場合由於是使用金屬材料製作母壓模 MTS ’故此母壓模MTS之微細凹凸與主壓模Mss上之微細凹 凸具有相同之深度及相反之方向。又再如圖丨7所示，利用 此母壓模MTS以金屬材料進行複製而製作出表面上具有與 溝G R及停放區L D等相同方向之同相微細凹凸的子壓模 CHS (Chi Id stamper)。在此場合由於是使用金屬材料製作 子壓模C H S，故此子壓模c H S上之微細凹凸與母壓模μ τ s上 之微細凹凸具有相同之深度及相反之方向。 接下來如圖18所示，分別將母壓模MTS與子壓模CHS組 裝於樹脂成形用模具中（圖中未顯示），然後再將樹脂材料 200302469 五、發明說明（3) 射出至各模具内來分別製作出表面上形成著溝GR與停放區 LD等的基材D及覆蓋層C。在此場合覆蓋層c是利用光透過 性樹脂材料製作。接下來如圖〗9所示，在所製作出之基 D的溝GR與停放區LD等上面形成記錄層u，在所製作出&之 覆蓋層c的微細凹凸形成面上形成記錄層L〇。最後如圖 所示，將基材D及覆蓋層C之微細凹凸形成面予以相 再利用光透過性樹脂製的接著劑將其黏貼在一起。 成作為先透過層用之間隔層sp。在此狀態時基材 # 錄層L1與覆盍層c上（間隔；ςρ上） 丰 ° 對於入射光方向且有相=上)之§己錄層L0 ’都同時相 隔層SP上與覆蓋層C連接矣 凸又，在間 著覆蓋層C上所形成=表：處’硬化前之接著劑會順 轉方向之微細凹凸二細凹凸而形成與此微細凹凸呈反 體31。選有，雖然在各圖 =夕層先圮錄媒 間隔層SP上之溝GR宽度 2於：；之‘故讓基材D及 等的。 ”但貝際上兩者幾乎是相 發明内容 發明者在檢討上夕 發現了 將記錄 出記錄 反射之 控制。 以下之問題點。即、=夕層光記錄媒體31之結果， 資料寫入記錄層L丨、j^利用此多層光記錄媒體3 1來 資料之時，是利用光I，或從記錄層L0、L1中讀 雷射光束後所輸出之感器接收由各記錄層L〇、L1 循軌誤差信號來進行循軌伺 2186-5406-PF(Nl).ptd 第7頁 200302469 五、發明說明（4)
在此^ 口日守循執决差信號之信號位準會受到形成於基材D 及f盖f C(間隔層SP上）表面上之停放區LD深度之影響， # f S在既疋乾園内時，此信號位準會隨著停放區LD深 度愈練而愈大〇里體卞）八 停放區LD深度= t、循軌誤差信號之信號位準1卩與 木没La之間具有下述公式的關係 ip - sin (2^ .2 .n .Ld/A) = :n。為覆蓋層c(或間隔層sp)之折射率]為雷射光束 ρπς另》#方+面’在多層光記錄媒體31中基板D所用之母壓 用之子㈣⑽都是從共通的主壓模脱 之時利用具有優良複製性而且收縮率小 各+面上I:衣作。因此形成於母壓模mts及子壓模chs之 ί;d及：Λ”等微細凹凸之各深度間都是彼此相等’故 (Λ隔層SP)之各停放區LD深度⑻2、Ld02 /斜料欠 口此，如果僅著眼於停放區LD深度之場合 所二：&己錄層L〇、U進行循執伺服控制時從光傳残哭中 所輸出之循執誤差信號之信號位 ^攸^傳感益中 錄層L0、L1進行循轨朽服批^ ±成手相寻’而且對各記 1 a、s _λ 循執伺服控制時各循執誤差作沪之ς/w估 也被視為相等。但是實際上針。5虎之S/N值 制時循軌誤差信號之S/N值會另 佈影響而有降低之傾向。因此在多V光^ 記錄層U進行循軌伺服控制是相較；中要對 服控制而言更為困·，因而產生；Γ己：=L0之循軌祠 中’或從記錄層u中讀出記錄資=記錄扣 ^利進行之問題 ZUUJUZ4()^ 五、發明說明（5)
要目的是有鑑於j»汁★扣&
+赞明之主 針對各記錄層都 光記錄媒體及多 本發明相關 光束之入射方向 用導引溝，同時 層之循執用導引 之多層光記錄媒 時就愈深的構成 此多層光記 透過層上形成最 溝方式，在針對 進行循軌伺服控 位準。因此得以 «光傳感器中所 錄層進行循執伺 入射光側之記錄 其結果’就可以 寫入及從所有的 本發明相關 製作步驟中所作 多層光記錄媒體 之整個面上形成 、上述之問題點，提供一種 月色良好的進行印俾次^丨— a 仃°己錄貧料寫入及讀出的多層 層光記錄媒體之製造方法。 之多層光記錄媒許θ, T姝肢疋由包括基材在其雷射 側之整個面上形成# &目士啊隹，、田耵 收1七9昆、， 成表面具有記錄層之循軌 將1或2層以上表面μ ^ ^ ^ 上形成者整面具有記錄 體，I中# .、Γ j述基材上部而構成 其中則4各導弓丨溝具有愈靠近基材側 錄媒體 淺之導 容易受 制時可 改善在 輸出循 服控制 層進行 良好的 記錄層 之多層 成之壓 係包括 表面具 是以位 引溝同 到光透 以讓循 針對各 軌誤差 時都可 循執伺 針對所 言買出記 光記錄 模，製 基材， 有記錄 於雷射光束入 時在基材上形 過層膜厚分佈 軌誤差信號維 記錄層進行楯 信號之S/N值， 以獲得與對最 服控制時同樣 有的記錄層進 錄資料。 媒體製造方法 造出多層光記 在其雷射光束 層之循軌用導 射方向側的光 成最深之導引 影響之記錄層 持較高之信號 軌伺服控制時 故在對各記 靠進雷射光束 的良好效果。 行記錄資料之 是利用在壓模 錄媒體，前述 之入射方向側 弓丨溝，同時將
200302469 五、發明說明（6) 表面上形成著整面具有記錄層之 積層於前述基材上部而構成，Α 弓1溝的先透過層 至少包含從表面上具有=述導^之壓模製作步驟中 凹凸的金屬製第1壓模中複f出右凹凸相同方向微細 複衣出具有與前述導引溝之凹几 製凹凸的樹脂製壓模之製作步驟；而在 :述第1壓v時：為T二之 禮所it制&山乍為禝衣基用之金屬製壓模，或從該第1壓 金屬製壓模中再力"乂複製作成 ^ ；l ν溝之可述基材製作步驟；在所作成之前述基 材的W述導引溝之前述表面上進行前述記錄層之形成步 驟’在所作成之前述記錄層的表面上進行光透過性樹脂之 塗佈步驟；在前述經過塗佈處理之光透過性樹脂之表面上 利用前述樹脂製壓模複製而形成前述導引溝之前述光透過 層之形成步驟；以及在所作成之前述光透過層的前述導引 溝之前述表面上進行前述記錄層之形成步驟。 本發明相關之多層光記錄媒體製造方法中，利用製作 第1壓模時作為複製基用的金屬製壓模，或從第1壓模中複 製作出之金屬製壓模再加以複製作成整面形成著導引溝之 基材，在壓模製作步驟中從金屬製之第1壓模複製作成具 有與導引溝凹凸方向相反之反轉微細凹凸的樹脂製壓模後 再加以複製作出具有導引溝之光透過層方式’由於是利用 金屬材料及樹脂材料間複製性與收縮率之差異，故可以廉 價的製造出確實的讓基材上導引溝深度較光透過層之導引 溝深度更深的多層光記錄媒體。
200302469 五、發明說明（7) 本發明相 用在壓模製作 體，前述多層 射方向側之整 溝，同時將表 的光透過層積 模製作步驟中 凹凸相同方向 奇數次複製出 凹凸的第1 2壓 以偶數次複製 凸的第1 3壓模 導引溝凹凸方 驟；在製造前 從前述第1 2壓 前述基材製作 前述表面上進 記錄層的表面 過塗佈處理之 複製而形成前 所作成之前述 述記錄層之形 本發明相 金屬製的第1 1 關之其它 步驟中所 光記錄媒 個面上形 面上形成 層於前述 至少包括 微細凹凸 具有與前 模製作步 出具有與 製作步驟 向相反之 述多層光 模中複製 步驟；在 行前述記 上進行光 光透過性 述導引溝 光透過層 成步驟。 關之多層 壓模所作 多層光記錄媒體製造 作成之壓模，製造出 體係包括基材，在其 成表面具有記錄層之 著整面具有記錄層之 基材上部而構成，其 :利用表面上具有與 的金屬製第11壓模在 述導引溝凹凸方向相 驟；從前述第1 1壓模 前述導引溝凹凸方向 ;從該第1 3壓模複製 反轉微細凹凸的樹脂 記錄媒體之中間步驟 作出前述整面形成著 所作成之前述基材的 錄層之形成步驟；在 透過性樹脂之塗佈步 樹脂之表面上利用前 之前述光透過層形成 的前述導引溝之前述 光記錄媒體製造方法 出之第12壓模再複製 方法中 多層光 雷射光 循執用 循執用 中在前 前述導 金屬材 反之反 在金廢 相同夂 出具有 壓模製 中至少 前述導 前述導 所作成 驟；在 述樹脂 步驟； 表面上 ，是利 記錄媒 導弓I 導弓丨溝 述之 麼 弓I溝之科上以 轉微細材料上 微細四 與前述 作夕 包括· 弓丨溝之 弓i溝么 之前述前述經製壓模 以及在 進行前 中，利用1個 作出步成著整
2186-5406-PF(Nl).ptd 第11頁 200302469 五、發明說明（8) 面導引溝之基材， 模於光透過層之表 是1片的第11壓模4 製性與收縮率差異 導引溝深度較光透 體。 本發明相關之 用在壓模製作步驟 體，前述多層光記 射方向側之整個面 溝，同時將表面上 的光透過層積層於 模製作步驟中至少 凸相反方向之反轉 上以奇數次複製出 凹凸的第22壓模製 以偶數次複製出具 細凹凸的第2 3壓模 與前述導引溝凹凸 作步驟；在製造前 括：從前述第2 3壓 溝之前述基材製作 溝之前述表面上進 前述記錄層的表面 利用從第1 3壓模所複 面上再複製作出導引 可以利用金屬材料2 ，而可以廉價的製造 過層之導引溝深度更 其它多層光記錄媒體 中所作成之壓模，製 錄媒體係包括基材， 上形成表面具有記錄 形成著整面具有記錄 前述基材上部而構成 包括：利用表面上具 微細凹凸的金屬製第 具有與前述導引溝凹 作步驟；從前述第2 1 有與前述導引溝凹凸 製作步驟；從前述第 方向相反之反轉微細 述多層光記錄媒體之 模中複製作出前述整 步驟；在所作成之前 行前述記錄層之形成 上進行光透過性樹脂 製作出之樹脂製壓 溝之方式，即使僅 ‘才对脂材料間之複 出確實的讓基柯上 深的多層光記錄媒 製造方法中，是利 造出多層光記錄媒 在其雷射光束之^ 層之循執用導弓丨 層之循軌用導弓丨溝 ’其中在前述之壓 有與前述導引溝四 2 1壓模在金屬材料 凸方向相同之微細 壓模在金屬材料上 方向相反之反轉微 22壓模複製出具有 凹凸的樹脂壓模製 中間步驟中至少包 面形成著前述導引 述基材的前述導引 步驟；在所作成之 之塗佈步驟；在所
200302469 五、發明說明（9) -— ------- 塗佈之前述光透過性樹p 製而形成前述導引溝之二表面上利用前述樹脂製壓模複 作成之前述光透過層的2述光透過層形成夕驟；以及在所 記錄層之形成步驟。】迷導引溝之前述表面上進行前述 本 金屬製 來複製 複製作 層之表 可以利 可以廉 導引溝 本 利用在 媒體， 入射方 溝，同 的光透 模製作 導引溝 之該微 方向之 引溝之 驟；在 發明相 的第21 作出形 出第22 面上形 用金層 價的製 深度更 發明相 壓模製 前述多 向側之 時將表 過層積 步驟中 凹凸相 細凹凸 微細凹 凹凸方 製造前 壓模或是利 成者整面導 壓模後再複 成導引溝之 材料及樹脂 造出確實讓 深的多層光 關之其它的 作步驟中所 層光記錄媒 整個面上形 Φ上形成著 層於前述基 至少包括： 反方向之反 /朱度為淺而 凸的金屬製 向相反之反 述多層光記 記錄媒體 用由第21 引溝之基 製製作出 方式，即 材料之複 基材上導 記錄媒體 多層光記 作成之壓 體係包括 成表面具 整面具有 材上部而 利用表面 轉微細凹 且具有與 第32壓模 轉微細凹 錄媒體之 製造方法中，利用1個 壓模所作成的第2 3壓模 材，及利用從第2 1壓模 之樹脂製壓模於光透過 使僅有1片第2 1壓模也 製性與收縮率差異，而 引溝深度較光透過層之 錄媒體 模，製 基材， 有記錄 吕己錄層 構成， 上形成 凸的金 前述導 來複製 凸的樹 中間步 製造方法 造出多層 在其雷射 層之循軌 之循執用 其中在前 著相較於 屬製第3 1 引溝之凹 出具有與 脂壓模製 驟中至少 中，是 光記錄 光束之 用導引 導引溝 述之壓 與前述 壓模上 凸相同 前述導 作步 包括：
200302469 五、發明說明（ίο) 從前述第31壓模中複製作出前述整面形成著前述導引溝之 前述基材製作步驟；在所作成之前述基材的前述導引溝之 前述表面上進行前述記錄層之形成步驟；在所作成之前述 記^層的表面上進行光透過性樹脂之塗佈步驟；在所塗佈 =性樹脂之表面上利用前述樹脂製壓模複製而 形土月:=引溝之前述光透過層形成步驟；以及在所作成 層之形成步驟 “溝…表面上進行前述記錄 本發明相關之多層光記錄媒體製造方 彼此不同導引溝凹凸方向及深度之金屬製 乃、# 3 2壓模，經由從第3 1壓模複製作出敕衣、 ι吴弟 材，請2壓模複製作出樹料厂^ = 透過層之表面上形成導引溝方式加以複製而在光 材之導引溝深度與光透過層之導引溝意的分別設定基 以利用此多層光記錄媒體製造方法穿。其結果，也可 記錄層進行循執伺服控制時都能獲彳^ 在針對所有的 S/N值的多層光記錄媒體。 又于史佳循軌誤差信號 又，在上述本發明相關之多層 中間步驟中，雖然整個面上都形成著^彔媒體製造方法的 執用導引溝的光透過層，是利用在开/ 、面具有s己錄層之循 述記錄層的表面上進行光透過性樹腊成於前述基材上之前 在所塗佈之前述光透過性樹脂之表^之塗佈步驟，及利用 複製而形成前述導引溝之前述光透過j以前述樹脂製壓模 之1層樹脂層，也可以使用上述 、^形成步驟所製作成 鄉中所採用之前述基材 第14頁 2186-5406-PF(Nl).ptd 200302469
五、發明說明（11) 與前述樹脂製壓模而形成2層以上之樹脂層。在此場合時 之光透過層製造方法中至少包括：將前述光透過性樹脂塗 佈於前述樹脂製壓模上，並在前述光透過性樹脂之表=上 利用前述樹脂製壓模複製而形成導引溝之光透過層（第i 層）形成步驟；在形成於前述基材上之前述記錄層的表面 上進行光透過性接著樹脂（第2層）之塗佈步驟；然後^形 成著前述導引溝之光透過層與前述基材以讓其樹脂間7 方式相互黏貼（接著）之步驟。 σ 本發明 造出多層光 在其雷射光 層之循執用 之循軌用導 述基材上部 中至少包括 微細凹凸的 述導引溝之 前述反轉微 方向之微細 溝凹凸方向 在所作成之 蓋層之前述 形成步驟； 記錄層間呈 相關之其它 記錄媒體， 束之入射方 導引溝，同 引溝的光透 而構成，前 :利用具有 金屬製第4 1 前述基材製 細凹凸深度 凹凸的金屬 相反之反轉 前述基材的 反轉微細凹 以及將前述 相互對向之 的多層光記 前述多層光 向側之整個 時將表面上 過層與光透 述製造多層 與前述導引 壓模複製出 作步驟；從 為淺且具有 製第4 2壓模 微細凹凸的 前述導引溝 凸的表面上 基材及前述 狀態下介由 錄媒體製造 記錄媒體係 面上形成表 形成著整面 過性之覆蓋 光記錄媒體 溝凹凸相反 前述整面上 具有較前述 與前述導引 複製出具有 前述覆蓋層 上及在所作 分別進行前 覆蓋層以分 作為前述光 方法’是製 包括基材， 面具有記錄 具有記錄層 層積層於前 之中間步驟 方向之反轉 都形成著前 第4 1壓模之 溝凹凸相同 與前述導引 製作步驟； 成之前述覆 述冗錄層之 別讓其前述 透—過層用之
2186-5406-PF(Nl).ptd
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光透過性接著樹 性接著樹脂之表 之步驟。 脂而形成一體化， 面上利用該覆蓋層 而在此同時於該光透過 來複製形成前述導引溝 本發明相 彼此不同導引 壓模，從第4 1 第4 2壓模複製 分別在基材的 上形成記錄層 互對向狀態下 形成一體化並 溝之方式，可 之導引溝深度 行循軌伺服控 多層光記錄媒 關之多 溝凹凸 壓模複 作出表 導引溝 ’然後 經由作 同時於 以任意 。其結 制時能 體〇 層光έ己錄 方向及深 製作出整 面形成著 上及在覆 讓基材及 為光透過 光透過性 的設定基 果，可以 獲得具有 媒體製 度之金 面形成 反轉微 蓋層之 覆蓋層 層用之 接著樹 材之導 製造在 更佳循 造方法中 屬製第4 1 著導引溝 細凹凸的 反轉微細 之各個記 光透過性 脂之表面 引溝深度 針對所有 執誤差信 ’利用具有 壓模及第4 2 之基材，從 覆蓋層，再 凹凸的表面 錄層間在相 接者樹脂而 上形成導引 與光透過層 的記錄層進 號S/N值的 實施方式 媒-::針對本發明相關之多層光記錄媒體及多層光記錄 ”把，2 y法的較佳實施形態參照添附圖式來加以說明。 播#百芩照圖9來說明多層（以2層為例）光記錄媒體1之 亦即戶錄媒體1中包括例如複數層之相變化記錄層 豆槿占Γ 多層光記錄媒體（可寫入式光記錄媒體） 八 至少包括基材D、記錄層L 1、間隔層SP、記錄層 200302469 五、發明說明（13) L0及覆蓋層C。基材D是由樹脂（例如polycarbonate)材料 所形成之平板狀（例如作成圓板狀），在其中一側之面（圖9 中之上面）上從其中心部附近朝向外緣部，形成螺旋狀作 為導引雷射光束用呈微細凹凸之溝（Groove )GR，及停放區 (Land)LD。又，此基材d上之停放區LD深度Ldll被設定為 較形成於間隔層SP上之停放區LD深度LdOl深例如 0· 5nm〜5nm程度。記錄層L1是將反射膜、相變化膜及保護 膜等積層於基材D表面所形成之溝GR及停放區LD的上部而 構成。在此場合相變化膜是由GeTeSb、InSbTe或是
AgGelnSbTe等之相變化材料利用濺鍍方式讓其蒸著 成薄膜狀。 ' 7 間隔層SP是由光透過性樹脂所形《，在其位於覆罢声 c側之表面上形成著溝GR及停放區LD等。在此場合-曰 制時能獲得具有良好s/n值的循轨誤差作 ϊ成：上之停放區ld深度湖是被設定為： 層光記錄媒體31上覆蓋層C(間隔層SP)表、 面上之伶放區LD深唐irifiPn癸衣 化膜及保護膜等積層於厣：:記：層L◦是將相變 錄層L1上之相變化膜同樣 上之相，交化朕包括與記 L0遭受損傷同時具有作為光路。覆盍層C為防止記錄層 是利用光透過性樹脂之塗 a σ卩分（透鏡）機能的層， 塗佈在記錄層L0上並讓其2化以疑轉塗佈法（Spin c〇at) 錄媒體1是由光傳感器中、 之方式而形成。此多層光記 ^射同圖中箭頭A方向之寫入用雷 2186-5406-PF(Nl).ptd 第17頁 200302469 五、發明說明（14) 射光束（例如波長為4 〇 5nm之雷射光束）照射在記錄層L1、 L0上之方式，讓此記錄層L丨、L〇在非晶質狀態與結晶狀態 之間產生可逆的相變化來進行記錄資料之寫入或抹消。具 體而言、當寫入用雷射光束照射在記錄層L1、L0上時，利 用其照射部分被加熱至融點以上後被急速冷卻（急冷）之方 式形成非晶質化，並對應於2值記錄資料來形成寫入記 號。又’當寫入用雷射光束照射在記錄層L丨、L 〇上時，利 用在其照射部分被加熱至結晶化溫度以上後予以慢慢的冷 卻（徐冷）之方式產生結晶化，而將寫入記號抹消。又再利 =由光傳感器中以同圖中箭頭A方向來照射再生用雷射光 之方式，攸"己錄層L 0、L1中進行記錄資料之讀出。 妨F T =式，此多層光記錄媒體1是利用將基材D上之停 严Z方ί 1作成較間隔層sp上之停放區LD S度Ld01為 之士己錚i I 1 :以在針對較易文到間隔層SP之膜厚分佈影響 在較、二于：執伺服控制時其循執誤差信號能夠 服控制時能改善由光傳感哭辦於f對C錄層L1進行循轨伺 之钍果，故 & 口口斤輸出循執誤差信號之S/N值 之…果，故可以與對記錄 m 好的對記錄層u來進行循.二 各記錄層L。、L1中進行記錄資^。故，可以良好的從 接下來針對多層光記錄媒體寫制Y讀出/ 加以說明。 、_ 衣造方法參照圖1〜圖9 在製造此多層光記錄媒體 壓模製作步驟。在此步驟中、曰百先要進行本發明中之 取初疋在金屬製平板(例如金
200302469 五、發明說明（15) 屬圓板）之表面上以切削（Cutting)加工方式作出與形成於 基材D表面之溝GR及停放區LD等微細凹凸具有相同方向關 係之同相微細凹凸’相當於在本發明中之第丨丨壓模，亦即 製作出當作原盤用之主壓模MSS。又雖然在圖式中並 =、在製作主壓模MSS之時也可以採用先於玻璃製平板的 表面上形成光阻層’利用對此光阻層進行曝光·顯像處理 (圖案形成Patterning)之方式在玻螭製平板的表面上形成 具有與溝GR及停放區LD等微細凹凸相反方向之反轉微細凹 凸，然後在於此被形成反轉微細凹凸之玻璃製平板的表面 上進行金屬被覆處理來形成金屬層，再將此金屬層從玻璃 製平板上予以剝離之MSS製作方法。又，再利用此主壓模 MSS來製作出表面上形成著具有與溝GR及停放區⑶等微細 凹凸相反方向之反轉微細凹凸之金屬製母壓模^^。在此 場合同時也包含後續之#驟，當從基型之金屬壓模製作出 另一個金屬壓模之時，是使用鎳（Nl)等以通常之金屬被覆 法工法來進行複製。因此，在從金屬壓模複製出另一個金 屬壓模之時由於具有良好之複製性而且其收縮可以被忽 視，故所複製出之微細凹凸與作為基型用之金屬製壓模之 微細凹凸具有相反之方向及相同之深度。又，由於在從主 壓相;MSS中製作母壓模MTS之場合’只要複製出具有相反方 向之微細凹凸即可，故除了只複製1次，也可以進行奇數 次複製後製作出母壓模MTS。還有，此母壓模MTS構成了本 發明中之第1 2壓模。 又，利用此母壓模MTS來製作出表面上形成著同相微
2186-5406-PF(Nl).ptd 第19…頁 200302469 五、發明說明（16) 細凹凸之金屬製子壓模CHS。在此場合是由此子壓模CHS構 成本發明中之第13壓模。還有，在從母壓模mts中製作子 壓模CHS之時，基於只要複製出具有相反方向之微細凹凸 即可之相同理由’故除了只複製1次，也可以從母壓模 中進行奇數次複製後製作出子壓模CHS。然後，再利用此 子壓模C H S製作出表面上形成著反轉微細凹凸之樹脂製壓 模RS，並以此壓模RS作為在間隔層sp之表面上形成溝GR及 停放區L D等微細凹凸時使用。在此場合時亦基於同樣之理 由’只要複製出具有相反方向之微細凹凸即可，故也可以 從子壓模CHS中進行偶數次複製作成之金屬製壓模後再加 以複‘‘作出樹月曰製之壓模r S。同樣的、由於子壓模〔η s 具有與母壓模MSS相同方向與深度之微細凹凸，故也可以 用母壓模MSS代替子壓模CHS來製作壓模RS。以上所述各壓 模之製作概念也可以適用於後述各壓模之製作上。又，由 於主壓模MSS與子壓模CHS都是金屬壓模且具有相同方向與 深度微細凹凸，故以子壓模CHS作為本發明中之第i壓模^ 場合，母壓模MTS就構了成本發明中「在製作第}壓模時 為複製基（作為複製時之基型）用之金屬製壓模」。 另 在對多層光記錄媒體1之記錄層L〇進行循 軌伺服控制時從光傳感器所輸出循軌誤差信號之§/ 對多f光記錄媒體31之記錄層L0進行循轨伺服控 J %攸光傳感為所輸出循軌誤差信號幾乎相同之值 佳。因此’在多層光記錄媒體i中之間隔層sp表面上幵； 成之停放區LD深度Ld01是設定成與多層光記錄媒體31 /之
2186-5406-PF(Nl).ptd 第20頁 200302469 五、發明說明（17) ---- 間隔層SP表面上所形成之停放區LD例如相同（或幾乎相同） 之深度Ld02。在另一方面，在製造多層光記錄媒體工時， 為了形成間隔層SP上之溝GR是使用樹脂製的壓模RS。在此 場合當從子壓模CHS製作壓模RS時，樹脂製的壓模“會以 所使用樹脂材料所具有之固有收縮率而收縮。又，由於從 樹脂製的壓模中製作間隔層SP時之複製性使得停放區ld ^ ^較淺的深度。因此在製作主壓模M s S時需考慮此樹脂製 壓模RS之收縮率與從樹脂製的壓模中製作間隔層讣時之複 製性，然後進行切削加工以便能讓多層光記錄媒體丨之間 隔層SP表面上所形成之停放區!^深度Ld〇1與多層光記錄媒 體31之間隔層SP表面上所形成之停放區⑶深度u〇2相同 (或幾乎相同）。具體而言、在進行主壓模Mss之切削加工 時，是將其微細凹凸上之溝深度⑽…加工成較在製造多層 光記錄媒體31時所使用主壓模Mss上所形成微細凹凸之溝 深約深0，5 n m〜5 n m之程度。 接下來如圖1所示利用主壓模Mss以金屬材料製作出表 面上形成（複製）著反轉微細凹凸之母壓模MTS。在此場合 由於金屬材料所具有之良好複製性而且其收縮率可以被忽 視，故能在母壓模MTS上形成具有與主壓模MSS上之微細凹 凸深度DPMS幾乎相同深度之反轉微細凹凸。 接下來如圖2所示利用母壓模MTS以金屬材料製作出表 面亡开y成（複製）著與母壓模Μ T §之微細凹凸方向相反而與 主壓杈MSS相同方向之具有同向微細凹凸的子壓模CHS。在 此場合由於子壓模CHS也是和母壓模MTS 一樣是由金屬材料
200302469 五、發明說明（18) 所作成，故其表面上所形成之同向微細凹凸深度與主壓 MSS上之微細凹凸深度DPMS是幾乎相等。 接下來如圖3所示利用子壓模CHS以光透過性之樹脂 料製作出表面上形成（複製）著與子壓模CHS之微細凹凸方^ 向相反而與母壓模MTS相同方向具有反轉微細凹凸的樹脂 製（例如Aery 1系樹脂製或〇lef in系樹脂製）之壓模rs。在 此場合由於樹脂材料之複製性較金屬材料之複製性為差， 而且此樹脂材料之收縮率（例如〇·㈣〜丨· 5%)遠大於在金屬 被覆法步驟時金屬材料之收縮率（例如幾乎為〇 )。故形成 於壓模RS表面上作為形成溝GR及停放區LD等用之微細凹凸 深度DPRS是被製作成較子壓模CHS之微細凹凸深产帅… 淺。 又 π 接著將母壓模MTS安置於樹脂成型用模具内，利用將 樹脂材（例如，PC (Pol year bona te))射出於模具内之方式 $作出圖4所示在表面上形成（複製）著溝GR及停放區LD等 導引溝之基材D。在此場合，形成於母壓模MTS上之微細凹 凸深度是幾乎與在主壓模MSS上之微細凹凸深度DPMS相 等，而且主壓模MSS上之微細凹凸深度DPMS是較在製造多 層光記錄媒體31時所使用之主壓模Mss上之微細凹凸深度 為深。又，所使用樹脂PC之收縮率為〇 · 5〜丨· 5%，預先考慮 其按比例所變得較淺的量後再設定基材D上微細凹凸之深 度DPMS ’故形成於基材d表面上停放區LD之深度“η會較 形成於多層光記錄媒體31之基材D表面上停放區LD之深度
Ld 1 2為深。接下來如圖5所示，利用例如濺鍍法舍所製作
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五、發明說明（19) 出之基材D微細凹凸形成面上形成記錄層。之膜（成膜）。 接著如圖6所示，在基材D之記錄層。之形成面上滴下 具有光透過性之樹脂塗液R，利用旋轉塗佈法將塗液1?塗佈 在基材D之整個表面上。然後如圖7所示，將樹脂製之壓模 RS以讓其微細凹凸形成面朝向塗液r側之狀態而覆蓋在經、 過塗液R所塗佈之基材D上。在此場合，由於是在基材D上 完成塗佈作業之時點，塗液R仍具有流動性，故會配合著 壓模RS表面上所形成之微細凹凸形狀，而流動填θ滿至°壓模 R S與基材D間之全體間隙内。 接著讓塗液R硬化。具體而言、在使用紫外線硬化型 樹脂來作為塗液R之場合，是利用紫外線由壓模以側加以 射之方式來讓塗液R硬化。在此時，會根據從樹脂製之 壓模RS複製出間隔層sp時之複製性（與所使用紫外線硬化 型=脂之收縮率、及紫外線硬化型樹脂與樹脂製壓模之接 觸壓專有關）’而使得形成於間隔層$ p上停放區L d之深度 較樹脂製之壓模RS上之微細凹凸的深度淺約2〜丨〇%。然後 =圖8所示，將壓模RS從基材D上加以剝離。以此方式'就 凡成表面上形成（複製）著溝G R及停放區l d等微細凹凸之間 隔層sp。在此場合，基材D上之停放區LD(導引溝）是根據 所使用之樹脂PC的收縮率而形成較淺之深产。一 製作壓模RS時由於樹脂收縮讓壓模以上：“：細：：變 淺，再加上在從壓模RS形成間隔層sp之時之複製性，又進 —步讓間隔層sp上形成更淺之停放區LD。因此;軎f作美 材D時樹脂之收縮與製作壓模R s時樹脂之收縮為相曰同程/
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五、發明說明（20) 之場合，會確實的僅依照利用壓模RS複製時由於其複製性 所變淺之量而在間隔層SP之停放區LD上形成較基材D上^亭 放區LD之深度Ldll為淺的深度LdOl，而且是與在多層光"記 錄媒體31之間隔層SP表面上所形成之停放區!^深度Ld〇2 同（或幾乎相同）。 ,接下來如圖9所示，在所形成之間隔層SP的微細凹凸 形成面上，利用例如濺鍍法來形成記錄層L〇之膜（成膜）。 以上為止之所述步驟是相當於本發明之中間步驟。接著利 用旋#專塗佈法將塗液RC塗佈在記錄層L〇上並讓其硬化後形 成覆盍層c。以此方式，完成了多層光記錄媒體1之製造。 以此方式，利用此多層光記錄媒體之製造方， 及收縮率之差異，作出確貫較間隔層Sp上停 為深的基材Djl停放區LD深度Ldn，因以廉冰度 製造出讓記錄層L1之微細凹凸深度確實較 廉仏的 凹凸深度更深的多層光記錄媒體車“己錄層L〇之微細 又，本發明並不受限於上述發明與 力:以適當的變t。例如，也可以利用表著：：： 基材D之導引溝凹凸相反方向之反轉 /成者具有與 ^ ^ ^ , ,21 Γ,^ ^ ^ ^ 法是在金屬材料上利用主壓模；：：。其製造方 與導引溝凹凸相同方向之微細凹凸的母。出形成著具有 明中之第22壓模）主壓模’及在全 （相當於本發 製出形成著具有與導引溝凹凸相向4上利用主壓模複 门^反轉微細凹凸的
200302469 五、發明說明（21) 子壓模（相當於本發明中之第23壓模）。在此場人，也可以 在與母壓模製造步驟不同的製造步驟中將主壓模進行複數 次複製後製作出子壓模。然後，從子壓模或主壓模 製作出基材D，從母壓模中複製出具有與導引溝凹凸相反 方向之反轉微細凹凸的樹脂製壓模。然後，再利如上 所述之相同製造步驟來製造多層光記錄媒體丨。此種.迭 方法也是和上述製造方法同樣的，可以廉價 較間隔層SP上停放區LD深度Ld01更深之基材d停；-區出^又 度Ldlj，及讓記錄層L1之微細凹凸深度較記錄層之微細 凹凸沬度更深的之多層光記錄媒體1。. Λ、 還有，在此形態中，如將母壓模當作本 模之場合，主壓模就構成本發明中「 弟^ 们壓模中複製製所製作出之金屬構成本發明中「從 與子壓模同樣的都是金屬製壓模 相」^即主壓模 向與深度，母壓模則與主壓模及，4 7的礒細凹凸方 壓模都具有相同的微細凹凸深戶广杈同樣的都是金屬製 方向相反。因1本發明不同的是微細凹凸之 及後述之製造方法巾，只要曰/3形態相關之製造方法 r *·#γρ β ^ ^ γ-τ.λ 要&在作為複製基材D之導u、杳 (溝GR及如放區LD)用的金屬製壓之V引溝 凸，而且在樹脂製壓模上形成著、开/成者反轉微細凹 的使用主壓模、母壓模、子2反轉微細凹凸’可以任意 材D之導引溝複製用金屬及之制金屬製壓模’來製作基 懷及製作樹脂製壓模。又，
2186-5406-PF(Nl).ptd $ 25頁 模上以奇數次或以偶數次複 =使用攸绝些的各種壓 m 200302469 五、發明說明（22) 在後述實施形態之有關使用2種類主壓模之製造方法中， 也可以使用此2種類主壓模來取代2種類子壓模。 又，也可以採用先製作出具有彼此不同同相微細凹凸 深度之2種類主壓模M S S1、M S S 2，再使用此兩種主壓模 MSS1、MSS2來製造出讓基材D上停放區LD深度Ldl 1較間隔 層SP上停放區LD深度LdOl為深之多層光記錄媒體！的製造 方法。具體而言、是利用此兩種主壓模MSS1、MSS2以金屬 材料來製作表面上形成著彼此不同深度反轉微細凹凸之2 個母壓模MTS1、MTS2。接下來如圖2所示，利用所製作出2 個母壓模MTS1、MTS2中具有較淺反轉微細凹凸深度之第i 母壓模MTS1，以金屬材料來製作表面上形成（複製）著同相 微細凹凸之子壓模CHS。在此場合，此子壓模CHS就構成本 發明中之第3 2壓模。 接著如圖3所示，利用子壓模CHS製作樹脂製之壓模 RS。然後如圖4所示，將反轉微細凹凸深度較第！母壓模 MTSJ為深的第2母壓模安置在樹脂成形用模具内，以 ，树脂材射出於模具内之方式製作基材d。在此場合，此 ϋΛ模MTS2就構成本發明中之第31壓模。然後’利用 二驟同之製造方法，以進行圖5至圖9 時，合由於梯^ =夕層光記錄媒體1。在採用此製造方法 二、使用兩種類之主壓模MSS1、MSS2而增加製造成 二任意設定基材d之恤
Ll、L0進行^勤和Τ區1^深度U〇1。因此在對各記錄層
5服控制時就可以讓循執誤差信號之S/N
2186-5406-PF(Nl).Ptd 第26頁 200302469 五、發明說明（23) 值維持在更良好之狀態。 又’利用前述實施形態所製作之基材D與壓模Rs，可 能製造出由2層以上光透過性樹脂層所組成之間隔層sp。 在此場合是如圖12所示，將具有光透過性之樹脂塗胃液…滴 下於壓模RS上之微細凹凸形成面上，並利用旋轉塗佈法 塗液R1塗佈在壓模RS之整體表面上。接著，讓此塗液ri硬 化:具體而言、在使用使用紫外線硬化型樹脂作為塗液R1 j場合，是以照射紫外線之方式讓其硬化。在此時，合如 前所述根據壓模RS之複製性，而使得形成於間隔芦卯丄之 停放區之深度Ld01較壓模RS上之微細凹凸的深度DpRs為 淺。接著如圖13所示，將由光透過性樹脂製成之塗液R2 下於基材D中記錄層L 1之形成面上，並利用旋轉塗佈法將 塗液R2塗佈在基材D之整體表面上。接著如圖丨4所示， 塗液R1與塗液R2密合而將壓模RS黏貼在基材D上。具雕而 言:在使用紫外線硬化型之光透過性接合樹脂作為、&R2 之％合，是以從壓模RS側照射紫外線讓塗液R2硬化 式’將壓模RS黏貼在基材d上。 接著將壓模RS從基材D上剝離。以此方式，構成了如 圖15中所示由塗液R1及塗液R2所形成之2層樹脂層，同 亦在由塗液R 1所形成之樹脂層之表面上形成（複製）且 溝GR及停放區LD等微細凹凸之間隔㈣。經由採用此^ 步驟能讓間隔層SP上停放區⑶深度Ld01確實的較某衣 停放區LD深度Ldll為淺，而且與形成於多層光記二媒體η 之間隔層SP表面上停放區LD深度Ld〇2具有相同深度（’或是 200302469 五、發明說明（24) " 1 幾乎相同）。利用此間隔層sp之製作步驟時可以在基材D及 壓模RS上塗佈具有不同特性材質之樹脂。因此可以分別針 對記錄層L1及記錄層l〇來使用適當的樹脂。還有，也可以 採用先讓塗佈於基材D側上之塗液R2硬化，再以紫外線硬 化型之光透過性接合樹脂作為塗液R1將其塗佈於壓模以側 上，然後將基材D及壓模RS予以重疊後再讓塗液以硬化之 製作步驟。 又，也可以使用同相微細凹凸深度彼此不同之2種類 主壓模MSS11、MSS12，利用與上述製造方法不同之f造方 法來製造多層光記錄媒體n。在此製造方法中是採用製造 多層光記錄媒體31時的製造方法，來代替 壓模RS之製造方法，萝造出美鉍η μ作从 义川^舶衣 衣仏出&材13上停放區LD深度Ldll較 =層SP上停放_深度刚為深之多層光記錄媒體i。 ΐ = ϊ、是使用2種類主壓模MSSU、MSS12，以金屬材 料衣作表©上形成著彼此不同深度反轉微細凹凸之 壓模MTS11、MTS12。接下來利用所製作出之2個 MTSH、MTS12中具有較淺反轉微細凹凸深度之母壓模、 MTS12 ’以金屬材料來製作出表面上形成 之ί壓模⑽11。在此場合，母㈣㈣！構成了本 I明中之弟41壓杈，而子壓模CHSn構成了本發明中之第 4 2壓模。 接著如圖10所示，從母壓模MTS11中複製製作出基材 ，從子Μ模CHS11中複製製作出覆蓋層c。然後如圖u所 不，利用與在先前例中所說明與多層光記錄媒體31製造方
200302469 五、發明說明（25) 法相同之製造方法，在所製作出之基材D的⑽及停放區 LD等上面形成記錄層L1，在所製作出之覆蓋層c的微細凹 凸形成面上形成記錄層U。最後如圖9所示，利用光透過 性樹脂製之接著劑將基材D與覆蓋層〇以讓其各自的微細凹 凸形成面相對向方式予以黏貼。在此場合，是由光透過性 樹脂製之接著劑所形成之接著層來構成作為光透過層之間 隔層S P 〇在此狀態下、其士 士 n l 兮々立 (間隔層SP上）之記錄居二都面對’著9與覆盖層*3上 匕杯尽LU郡疋在面對者入射光之方向上同 ΐ ::: H冋Ϊ微t田凹凸。利用以上之步驟製造出多層 c ϋ P、2SP h :多層光記錄媒體1 1中，形成於覆蓋層 光^: 停放區ld之深度u〇 1與形成於多層 ”蓋層C上(間隔層SP上)表面停放區LI)之 …基材D中停她之深度Lem則 Ldl2為深。'。己錄媒體31之基材D中停放區LD之深度 成之各記ί :Γ〇使L用1於ί有Ϊ記型記錄層及再生專用層構 錄層及複數再生專用層：二可:^ 多角；或i Γ等並各不種受= 雖是利用具有2岸7絲爲^ 又，在本發明之貫施形態中 以說明，本發明？叮 L〇之多層光記錄媒體1為例加 之多層光適用於具有3層以上記錄層 其雷射光束之;:射方向====;基材在 正1L]面上形成表面具有記錄層
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五、發明說明（26) 之循軌用導引溝（溝GR乃# , 形成著整面具有記錄#二放㈣），再將2層以上表面上 的光透過層層積；^二循軌用導引溝（溝“及停放區1^) 錄媒體上位於雷射\成//之構成。換言之、在多層光記 SP)之雷射光束入射太^入射方向側的光透過層（間隔層 朝著基材D側之方向复2上所形成之停放區LD最淺，而 變深，並在基材D上位層停放區LD深度依序 整面停放區LD具有最深光束入射方向側上所形成之 模及樹脂製壓模：度。X ’並未針對各金屬製壓 又，在本發明之各實施幵：制’可以適當的加以選擇。 記錄層U為例來說；是採用包含著反射膜之 从#山六士 士 在本發明中之記錄層L1並不一定要 Ϊ = ί 膜之構成，只要是具有在對基材D兔各 及折射率力"乂適當的調整後能讓從』層u來 之田‘光束反射，不致於妨礙寫入或再生之層構造即可。 又、，在本發明之實施形態中雖然是採用光透過性樹脂 之^液RC以旋轉塗佈法塗佈於記錄層L〇上讓其硬化而^ 覆盍層C之方法為例加以說明，也可以採用以光透過7 樹脂薄板介由光透過性接著層來黏貼而形成覆蓋層之方 法。在此場合時、可以使用例如厚度為5〇 m〜丨 之聚碳酸樹脂（Polycarbonate)薄板作為此樹脂薄板m，壬又 使用例如紫外線硬化型之接著劑來當作光透過性接著層❿ 產業上之可利性
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200302469 五 、發明說明（27) ------ 如上所述，在此多層光記錄媒 一 形成著愈深之各導引溝方式，換^ 用愈靠近基材就 射方向側的光透過層上之導引溝二，，=於雷射光束之入 上形成之導引溝具有最深之深产’水=取淺，而同時在基材 層上膜厚分佈影響之記錄層進彳:J据f針對容易受到光透過 執誤差信號維持在較高之信號位：執飼服控制時可以讓循 層進行循執伺服控制時可以將由=此，在針對各記錄 束^射光側的記錄層進行循執伺服控對7於最靠近雷射光 各S己錄層進行循轨伺服控制。其社^ π同樣良好的來對 有的t己錄層進行記錄資料之寫二了及彳L Ζ 3良好的針對所 記錄貢料之多層光記錄媒體就得以實ς。有的記錄層讀出
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圖1為從主壓模MSS製作母壓模MTS時之側面剖面圖。 圖2為從母壓模MTS(MTS1)製作子壓模CHS時之側面 面圖。 ° 圖3為從子壓模CHS製作樹脂製壓模“時之側面剖面 圖。 。 圖4為利用母壓模MTS(MTS2)製作基材^時之側面 圖。 圖5為表面上形成著記錄層L丨之基材D側面剖面圖。 圖6為利用旋轉塗佈（Spin coat)法將塗液R塗佈於基 材D上狀態時之側面剖面圖。 土 圖7為將樹脂製之壓模RS載置於經過塗液r塗佈後之臭 材D上之側面剖面圖。 ^ 圖8為讓塗液!^硬化後將樹脂製壓模rs剝離而製作出間 隔層SP之側面剖面圖。 圖9為顯示多層光記錄媒體}、丨丨構成之側面剖面圖。 圖為從母壓模MTS11製作基材D、為從子壓模CHS11 製作覆蓋層C時之側面剖面圖。 圖11為在基材D之表面上形成記錄層、在覆蓋層c之 表面上形成記錄層L 〇狀態時之側面剖面圖。 圖1 2為在間隔層s P相關之其它之製作步驟中，利用旋 轉塗佈法將塗液r 1塗佈於壓模R S上後於硬化狀態下之側面 剖面圖。 圖1 3為在間隔層SP相關之其它之製作步驟中，利用旋 轉塗佈法將塗液r 2塗佈於基材D上狀態時之側面剖面圖。
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圖14為將圖12中所示之壓模RS疊置於圖13所示狀態之 基材D上後讓塗液R2呈硬化狀態時之側面剖面圖。 〜 圖15為將壓模RS從圖14所示之狀態下剝離、而製作 出間隔層SP狀態下之側面剖面圖。 、 圖16為從主壓模MSS製作母壓模MTS時之側面剖面圖。 圖17為從母壓模MTS製作子壓模CHS時之側面剖面圖。 —圖18為從母壓模MTS製作基材!）、為從子壓模chs製作 覆蓋層C時之側面剖面圖。 ^ 圖19為在基材D之表面上形成記錄層L1、在覆蓋層〇之 表面上形成記錄層L 〇狀態時之側面剖面圖。 曰 圖20為顯示多層光記錄媒體31構成之側面剖面圖。 符號說明 MSS (Master Stamper)主壓模、 MTS (Mother Stamper)母壓模、 CHS (Child Stamper)子壓模、 RS (Resin Stamper)樹脂製壓模、 D基材、 SP間隔層、 C覆蓋層、 GR (Groove)溝、 LD (Land)停放區、
2186-5406-PF(Nl).ptd 第33頁 200302469 圖式簡單說明 DPRS 樹脂製壓模上之微細凹凸深度 Ld01/Ld02/Ld03 間隔層SP上之LD深度、 Ldll/Ldl2/Ldl3 基材D上之LD深度、 L 0 / L1 記錄層、 R/R1/R2 塗液、 1、3 1多層光記錄媒體、 A 雷射光束方向。
2186-5406-PF(Nl).ptd 第34頁

Claims (1)

  1. 200302469
    六、申請專利範圍 1 · 一種多層光記錄媒體，包括基材，在其雷射光束入 射方向側之整個面上形成表面具有記錄層之循執用溝，同 時將1或2層在表面上形成整面具有循執用導引溝記錄層之 光透過層積層於前述基材之上部， 曰 其中刖述各導引溝是愈靠近基材側時就形成的深愈。 2· —種多層光記錄媒體之製造方法，使用壓模妒作+ 驟中作成之壓模來製造出多層光記錄媒體，前述多層光^己 錄媒體係包括基材，在其雷射光束入射方向側之整個面上 形成表面具有記錄層之循軌用溝，同時將在表面上形成整 面具有作為記錄層用之循執用導引溝的光透過層積層於^ 述基材之上部而構成， 曰、 其中？述之壓模製作步驟中，至少包括利用表 成著與前述*引溝之四凸相同方向之微細凹凸 1壓模來複製出形成著與前述導丨 _衣弟 微細凹凸的樹脂製壓模製作步驟/ 目方向之反轉 在層光記錄媒體之中間步驟中，至少包 利用製作前述第1壓槿眛 或是利用該第1壓模所複制作為複製基用的金屬製板， 前述整面形成著前述導引^"、、蓋_之金屬製壓模來複製作出 在所作成之前述基材的，則述基材製作步驟； 前述記錄層之形成步驟；、則述導引溝之前述表面上進行 在所作成之前述記錄層 步驟； 勺表面上進行光透過性樹脂之塗佈
    2186-5406-PF(Nl).ptd 200302469 六、申請專利範圍 f =塗佈之前述光透過性樹脂之表面上利用前述樹脂製壓 模複製而形成前述導弓I溝之前述光透過層形成步驟；以及 在所作成之前述光透過層的前述導引溝之前述表面上 前述記錄層之形成步驟。 仃 3. —種多層光記錄媒體之製造方法，使用壓模 驟中作成之壓模來製造出多層光記錄媒體，'^二 錄媒體係包括基材，在其雷射光束入射方向側之整 形成表面具有記錄層之循軌用溝’同時將在表面上形成敕 面具有作為記錄層用之循軌用導引溝的光透過層積層於 述基材之上部而構成， 曰、 其中前述之壓模製作步驟中，至少包括： 利用表面上形成著與前述導引溝之凹凸相同方向之 屬製第11壓模以金屬材料奇數次複製出形成著 具有與丽述導引溝凹凸相反方内 模製作步驟； 方向之反轉微細凹凸的第12壓 利用前述第1 1壓模以今厘U ,, 有與前述導引溝凹凸相同方偶數次複製出形成著具 步驟；以及 』方向之微細凹凸的第13壓模製作 反方：ί 3 f : 5出形成著具有與前述導引溝凹凸相 的樹脂製壓模製作步驟； 括：在光記錄媒體之中間步驟中，至少包 利用剞述之弟1 2壓模來遥制 、， 引溝之前述基材製作步驟；衣則述整面形成著丽述導 2186-5406-PF(Nl).ptd 第36頁 1 200302469 六、申請專利範圍 在所作成之前述基材的前述導引溝之前述表面上進行 前述記錄層之形成步驟； 在所作成之前述記錄層的表面上進行光透過性樹脂之 塗佈步驟； 在所塗佈之前述光透過性樹脂之表面上利用前述樹脂 製壓模複製而形成前述導引溝之前述光透過層形成步驟； 以及 在所 進行前述 4. 一 驟中作成 錄媒體係 形成表面 面具有作 述基材之 其中 利用 反轉彳政細 形成著具 壓模製作 利用 有與前述 製作步驟 作成之 記錄層 種多層 之壓模 包括基 具有記 為記錄 上部而 前述之 表面上 凹凸的 有與前 步驟； 前述第 導引溝 ;以及 前述光 之形成 光記錄 來製造 材，在 錄層之 層用之 構成， 壓模製 形成著 金屬製 述導引 21壓模 凹凸相 還過層的前述導引溝之前述表面上 步驟。 媒體之製造方法，使用壓模製作步 出多層光記錄媒體，前述多層光記 其雷射光束入射方向側之整個面上 循軌用溝，同時將在表面上形成整 循軌用導引溝的光透過層積層於前 作步驟中，至少包括： 具有與前述導弓丨溝凹凸相反方向之 第21壓模以全属士“" m Λ , 里屬材料奇數次複製出 溝凹凸相同太 万向之微細凹凸的第2 2 以金屬材料他 反方向之g馬數次複製出形成著具 轉微細凹凸的第2 3壓模 從該第2 2壓模複製出形成著夏古t >、有與前述導引溝凹凸相
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    六、申請專利範圍 至少包 反方向之反轉微細凹凸的樹脂製壓模製作步驟 在製造前述多層光記錄媒體之中間步驟中 括： 利用前述之第2 3壓模來複製出前述整面形成著卞、 引溝之前述基材製作步驟； ％述導 進行 在所作成之前述基材的前述導引溝之前述表面 前述記錄層之形成步驟； 在所作成之前述記錄層 塗佈步驟； 在所塗佈之前述光透過 製壓模複製而形成前述導引 以及 的表面上進行光透過性樹脂之 性樹脂之表面上利用前述樹脂 溝之前述光透過層形成步驟；9
    在所作成之前述光透過層的前述導引溝之前述表面 進行前述$己錄層之形成步驟。 5 · —種多層光記錄媒體之製造方法，使用壓模製作牛 驟中作成之壓模來製造出多層光記錄媒體，前述多層光= 錄媒體係包括基材，在其雷射光束入射方向側之整個面2 形成表面具有記錄層之循執用溝，同時將在表面上形成敕
    面具有作為記錄層用之循軌用導引溝的光透過層積層於= 述基材之上部而構成， 、胃、則 其中W述之壓模製作步驟中，至少包括利用表面上步 成著相較於與前述導引溝之凹凸相反方向之反轉微細凹= 的=屬製第3 1壓模上之該微細凹凸深度為淺而且具有與前 述‘引溝之凹凸相同方向之微細凹凸的金屬製第3 2壓模來
    2186-5406-PF(Nl).ptd 第38頁 200302469
    反轉微細四凸 中，至少向 六、申請專利範圍 複製出具有與前述導引溝之凹凸方向相反之 的樹脂壓模製作步驟； 在製造前述多層光記錄媒體之中間步驟 括： 利用前述之第31壓模來複製出前述整面形 ^、 引溝之前述基材製作步驟； ％述導 在所作成之如述基材的前述導引溝之前述表面上、 前述記錄層之形成步驟； 、 進行 在所作成之前述記錄層的表面上進行光透過性匕 塗佈步驟； &脂之 在所塗佈之前述光透過性樹脂之表面上利用前述 每 製壓模複製而形成前述導引溝之前述光透過層形成==月旨 以及 y弥； 在 進行前 6 · 錄媒體 入射方 同時將 溝循軌 上部而 在 利 凸的金 所作成之前 述記錄層之 返无迗過層的 形成步驟。 種多層光記錄媒體之製 光記錄媒體係 面上形成表面 成整面具有作 與光透過層之 ，前述多層 向側之整個 在表面上形 之光透過層 構成， 製造前述多 用形成著與 屬製第41壓 丽述導弓丨溝之前述表面上 造方法，製造出多層光記 包括基材，在其雷射光束 具有記錄層之循執用溝， 為έ己錄層用之循軌用導引 覆盖層積層於前述基材之
    層光記錄媒體 前述導引溝凹 模來複製出前 之中間步驟中至少包括： 凸相反方向之反轉微細凹 述整面都形成著前述導引
    2186-5406-PF(Nl).ptd 第39頁 200302469 六、申請專利範圍 溝之前述基材製作步驟； 利用較前述第41壓模中之前述反轉微細凹凸深度為淺 且具有與前述導引溝凹凸相同方向之微細凹凸的金屬製第 42壓模來複製出形成著與前述導引溝凹凸方向相反之反轉 微細凹凸的前述覆蓋層製作步驟； 在所作成之前述基材的前述導引溝上及在所作成之前 述覆蓋層之前述反轉微細凹凸的表面上分別進行前述記錄 層之形成步驟；以及 將前述基材及前述覆蓋層以分別讓其前述記錄層間呈 5向之狀悲下介由作為w述光透過層用之光透過性接 :樹脂而形成-體化，綱時於該光透 表面上利用該覆蓋層來複製形成前述導引溝之步=月曰之
    2186-5406-PF(Nl).ptd 第40頁
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