TW200301402A - Positive photoresist composition - Google Patents

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200301402 A7 B7 五、發明説明（1 ) 【技術領域】 本發明係有關一種具有優良感度、解像性、聚焦深度 (諳先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) (D OF )特性、曝光寬限度、粗密度等光阻特性，特別是 適合用於形成0.35 “ m以下超微細光阻圖型領域 阻組成物。 光 【技術背景】 目前’於使用i射線（3 6 5 nm )之光蝕刻印刷法中，於 形成〇.5微米以下，特別是可形成〇.35# m以下超微細尺寸 之光阻的正型光阻材料，對於含有鹼可溶性樹脂之酣酸淸 漆樹脂與含有非二苯甲酮系之萘醌二疊氮基之化合物（感 光性成分）所得之正型光阻組成物有著各種提案。 經濟部智慈財產局員工消費合作社印製 特別是具有苯環爲直鏈狀鍵結之構造，即對於具有線 型之4至7核體之酚骨架的低分子酚化合物與〗，2_萘醌二 疊氮基磺酸化合物之酯化物（醌二疊氮酯化物）作爲顯示 高解像性之感光性成分等有著許多報告（特開平6- 1 67805 號公報、特開平7 - ] 52 I 52號公報、特開平7 - 1 59 9 90號公報 、特開平7- 1 683 55號公報、特開平1M2 5 5號公報、特開 平8-24546 1號公報、特開平8 -3 3 9079號公報、特開平 9-114〇93號公報、特開平12_2 92 08號公報、與特開平 12-2 92 09號公報等）。但，於形成較i射線波長更微細之 0.3 5 # m以下之超微細光阻圖型之領域中，即希望能形成一 種具有優良感度、解像性、聚焦深度（D0F )特性、曝光 寬限度等光阻特性之光阻圖型。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（2I〇x297公釐） 2ϋϋ301102 經濟部智慈財產局貨工消費合作社印¾ Α7 Β7 五、發明説明（2 ) 又，於具有電路與間隙（L & S )圖型等規則性光阻圖型 之密集圖型部分與，不規則光阻圖型之獨立圖型部分混合 之邏輯系IC (集積電路）之製造領域中，極希望能形成一 種於同一曝光條件下，可使密集圖型與獨立圖型依預定之 尺寸形成，即希望能形成「粗密度」較少之光阻圖型。 又，於形成〇·35 // m以下光阻圖型中，亦有提出使用 KrF ( 24 8nm)或ArF ( 193nm)等短波長作爲曝光源使用之 光蝕刻印刷法，但利用其作爲曝光源時，將需要再建設生 產線等額外之投資費用，而會產生多餘之花費或費用不易 回收等問題，故目前主流上，多要求能延長i射線（3 65nm )之曝光製程。 【發明所可解決之問題】 因此本發明之目的’係提供一種於使用i射線（3 6 5 n m )之光鈾刻印刷法中’可形成0.5微米以下，特別是可形成 〇 · 3 5 // m以下超微細尺寸之光阻圖型，且具有優良感度、解 像性、聚焦深度（DOF )特性、曝光寬限度、粗密度等光 阻特性之正型光阻組成物。 【解決問題之方法】 爲解決前述問題而經過深入硏究結果，得知彳吏用含有 鹼可溶性樹脂、特定之醌二疊氮酯化物（感光性部分）之 混合物所得之正型光阻組成物，於形成較i射線（3 6 5 η⑴） 之波長爲微細之以下，特別是形成0.35 v m以下超微細尺 ‘ ^辦衣-- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 έ -6 - 2ΰϋ30ί 102 經濟部智慧財產局工消費合作社印製 以卞 Α7 Β7 五、發明説明（3 ) 寸之領域中，亦可得到具有優良感度、解像性、聚焦深度 (D 0 F )特性、曝光寬限度、粗密度等光阻特性之正型光 阻圖型，因而完成本發明。 即’本發明係提供一種含有（A)鹼可溶性樹脂、（b )醌二疊氮酯化物所得之正型光阻組成物，且該（B )成分 係含有（b 1 )下記式（I )所示醌二疊氮酯化物，與（b 2 ) 之下記式（Π)所示醌二疊氮酯化物所得之正型光阻組成物

(式中，D爲獨立之氫原子、或it萘醌二疊氮基· 磺醯基，其中至少1個爲I，2-萘醌二疊氮基-5-磺醯基）

(式中，D爲獨立之氫原子、或I，2-萘醌二疊氮基、 磺醯基，其中至少1個爲I，2-萘醌二疊氮基磺醯基， 爲碳數1至6之烷基） 又，本發明復提供一種尙含有（C )分子量1000 之具有苯酚性羥基之鹼可溶性低分子化合物爲特徵之_ 正型光阻組成物。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（2】0X297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁}

B7 五、發明説明（4 ) 又，本發明復提供一種於（B )成分中，（b 1 )與（b2 )之混合比例爲對（b 1 )而言，（b2 )爲1至5 0重量％的 範圍之前述正型光阻組成物。 【發明之實施形態】 以下，將本發明作更明確之說明。 (A)成分（鹼可溶性樹脂） (A )成分之鹼可溶性樹脂，並未有特別之限定，只要 爲IE型光阻組成物中作爲被膜形成物質之一般使用之物質 曰寺皆可任意使用，較佳者例如芳香族羥基化合物與醛類或 酉同類之縮合反應產物、聚羥基苯乙烯與及其衍生物等。 前記羥基化合物例如苯酚、m -甲酚、p -甲酚、〇 -甲酚、 2,3-二甲苯酚、2,5-二甲苯酚、3,5-二甲苯酚、3,4-二甲苯酚 等二甲苯酚類，m-乙基苯酚' p-乙基苯酚、〇-乙基苯酚、 2,3,5·三甲基苯酚、2,3,5_三乙基苯酚、4-tert•丁基苯酚、3_ tert-丁基苯酚、2-tert-丁基苯酚、2-tert-丁基-4-甲基苯酚、 2-tert·丁基-5-甲基苯酚等烷基苯酚類，P-甲氧基苯酚、m-甲氧基苯酚、p-乙氧基苯酚、m_乙氧基苯酚、卜丙氧基苯酚 、：m -丙氧基苯酚等院氧基苯類，〇-異丙烯基苯酣、異丙 燒苯·、2 -甲基Μ-異丙烯基苯酚、2_乙基異丙烯基苯酚 等異丙烯基苯酚類，苯基苯酚等芳基苯酚類，4,4，-二羥基 聯苯、雙酚A、間苯二酚、對苯二酚、焦培酚等多羥基苯 酚類等。其可單獨使用或將2種以上組合使用皆可。 本纸裱尺度適用中國國家榡準（CNS )刎規格（2】〇χ 297公釐） .......1 Ft 1 H^I 噢 | I- 111 ϋ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 、1Τ 經濟部智慧財產局Μ工消費合作社印製 -8 ~ 200301 102 A7 B7 五、發明説明（5 ) (讀先間讀背面之注意事^再填寫本頁) 前記醛類，例如甲醛、對甲醛、三噁烷、乙醛、丙醛 '丁醛、三甲基乙醛、丙烯醛、巴豆醛、環己醛、糖醛、 呋喃基丙烯醛、苯醛、對苯二甲醛、苯基乙醛、α -苯基丙 醛、万-苯基丙醛、〇-羥基苯醛、m-羥基苯醛、〇-甲基苯醛 、m-甲基苯醛、p-甲基苯醛、〇_氯基苯醛、m_氯基苯醛、p-氯基苯醛、桂皮酸醛等。其可單獨使用或將2種以上組合 使用皆可。前述醛類中，就容易取得性而言，以甲醛爲佳 ，特別是爲提高耐熱性時，以將羥基苯醛類與甲醛類組合 使用爲更佳。 前記酮類，例如丙酮、甲基乙基酮、二乙基酮、二苯 基酮等。其可單獨使用或將2種以上組合使用皆可。此外 ，醛類與酮類亦可適當地組合使用。 前記芳香族羥基化合物與醛類或酮類之縮合反應產物 ，例如可於酸性觸媒之存在下以公知之方法製造。此時所 使用之酸性觸媒例如鹽酸、硫酸、甲酸、草酸、對苯磺酸 等。 經濟部智慈財產局g(工消費合作社印焚 前記多羥基苯乙烯及其衍生物，例如乙烯基苯酚均聚 物、乙烯基苯酚與其共聚所得共聚用單體所得之共聚物等 。前述共聚用單體例如丙烯酸衍生物、丙烯腈、甲基丙烯 酸衍生物、甲基丙烯腈、苯乙烯、α-甲基苯乙烯、P -甲基苯 乙烯、〇·甲基苯乙烯、ρ-甲氧基苯乙烯、Ρ-氯基苯乙烯等苯 乙烯衍生物等。 其中最適合作爲本發明（A)成分使用之鹼可溶性樹脂 ，例如重量平均分子量（Mw )爲2000〜20000，特別是 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（2】0>< 297公楚） -9- 2ϋί)301:!02 經濟部智M財產局員工消費合作社印5衣 Α7 Β7 五、發明説明（6 ) 3 000〜1 2000之鹼可溶性酚醛淸漆樹脂爲佳，其中又以使用 m-甲酚、ρ_甲酚與甲醛經縮合反應所得之鹼可溶性酚醛淸 漆樹脂，m-甲酚、ρ-甲酚、2,5-二甲酚與甲醛經縮合反應所 得之鹼可溶性酚醛淸漆樹脂時，可製得具有高感度且寬廣 曝光寬限度之正型光阻組成物，而爲較佳。 (B)成分（醌二疊氮酯化物） 依本發明之內容，將（b 1 )前述式（I )所示醌二疊氮 酯化物與，（b2 )前述式（II )所示醌二疊氮酯化物混合使 用時，即使於形成0.35 β m以下超微細光阻圖型之技術領 域中，亦可形成具有優良上記光阻特性之光阻圖型。 又，（bl)之平均酯化率爲40〜90% ，較佳爲45〜75 % ，低於4 0 %時其殘膜率與解像性將會降低，超過9 0 %時 ，感度會顯著降低，又，會增加顯影殘留（殘渣）效果， 故爲不佳。 又，（b 2 )之平均酯化率爲5 0 %以上，較佳爲7 0 %以 上，低於50%時其殘膜率與解像性將會降低，故爲不佳。 (b2 )中又以五倍子酸甲酯、五倍子酸乙酯、與五倍 子酸丙酯之醌二疊氮酯化物爲最佳。 (B )成分中，除（b 1 ) 、（ b 2 )成分以外，亦可使用 例如醌二疊氮酯化物（例如具有二苯甲酮系骨架之酚化合 物或，下記式（III )所示聚二苯甲酮化合物之醌二疊氮酯 化物）’其使用量爲於（B)成分中，爲80重量％以下， 特別是5 〇重量％以下，以無損於本發明之效果故爲較佳。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -裝. 、-口 4 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -10- 2 ⑽ 301:102 Α7 Β7 五、發明説明（7 ) (讀先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) (b 1 )與（b2 )之混合比例，以對（b I )而言，（b2 )以添加1至5 0重量％ ，特別是5至3 0重量％之範圍爲 佳。（b2 )之添加量低於此範圍時，於評估焦距深度（ D 0 F )特性時，焦點偏移向正側之情形中，會有未能得到 分離光阻圖型之傾向，高於此範圍時，焦點會偏向正向側 而會造成殘膜率降低，故爲不佳。 本發明之組成物中，（B )成分之添加量，以對（a ) 成分之鹼可溶性樹脂與必要時配合添加之下記（C )成分之 總量爲10〜60重量％ ，較佳爲25〜45重量％之範圍爲佳 。（B )成分之添加量低於上記範圍時，則未能忠實地得到 晝像’造成轉印性降低。又，（B )成分之添加量超過上述 範圍時，會造成感度劣化與使所形成之光阻膜之均質性降 低，而造成解像性劣化。 (C)成分（感度提昇劑） 經濟部智慧財產苟員工消費合作社印製 本發明之組成物，爲提昇感度時，以添加（C)成分之 分子量1 0 0 0以下之具有苯酚性羥基之鹼可性的低分子化合 物（感度提昇劑）爲佳。 (C )成分，並未有特別之限定，例如可使用以往於ί 射線正型光阻組成物中，爲提昇感度爲目的所使用之苯酚 化合物。 例如，下記式（III) 本紙張尺度適用中國國家標隼（CNS )Α4規格（210X297公釐） -11 -

i、發明説明（8)

至6之烷基、碳數1至6之烷氧基，或碳數3〜6之環烷基 ’汉1()〜R12各自獨立爲氫原子或碳數1至6之烷基，Q爲 氮原子、碳數1至6之烷基、與R1。鍵結形成碳數3至6之 ^燒’或下記式（IV)所示殘基 (讀先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

、-口 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 (式中，R13與R14各自獨立爲氫原子、鹵素原子、碳 數1至6之烷基、碳數1至6之烷氧基，或碳數3〜6之環 焼基，〇爲丨〜3之整數），&、1)爲1〜3之整數，（}爲0〜 3之整數，η爲0〜3之整數] 所示之多苯酚化合物，更具體而言，可爲1-[ι，ΐ -雙（ ‘甲基苯基）乙基]-cn- (4_羥基苯基）異丙基]苯、雙（ 羥基·2,3,5-三曱基苯基）_2-羥基苯基甲烷、I，4·雙 3,5-二甲基_4_羥基苯基）異丙基]苯、254_雙（3,5_二甲基· 羥基苯基甲基）-6 -甲基苯酚、雙（心羥基二甲基苯 基）-2-羥基苯基甲烷、雙（[羥基_2,5_二甲基苯基）_^羥 基苯基甲烷、雙（4_羥基'%二甲基苯基）-3, t二羥基苯 基甲烷、1-[卜（3-甲基-心羥基苯基）異丙基，卜雙 本纸張尺度適用中國國家榇準（CNS ) A4規格（2]OX297公着） -12 - A7 B7 五、發明説明（9 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 3 -甲基-4-經基苯基）乙基]苯、2,6 -雙[1_ (2,4 -二經基苯基 )異丙基]-4 -甲基苯酚、4,6 -雙[1- (4-羥基苯基）異丙基] 間苯二酚、4,6 -雙（3,5 -二甲氧基-4 -羥基苯基甲基）焦培酚 、4,6-雙（3,5-二甲基-4-羥基苯基甲基）焦培酚、2,6_雙（ 3 -甲基-4,6 - 一經基本基甲基）-4 -甲基苯酸、2,6-雙（2 3,4_ 三羥基苯基甲基）甲基苯酚、-雙（4 -羥基苯基）環 己院等爲仏。其中又以雙（4 -甲基苯基）乙基]_4_ [1-(4-羥基苯基）異丙基]苯、雙（4_羥基'3,5_三甲基苯 基）-2-羥基苯基甲烷、雙（4-羥基-3,5-二甲基苯基）-3,4-二羥基苯基甲烷、2，[雙（3,5-二甲基-4_羥基苯基甲基）-6 -甲基苯酚、4,6-雙[1-(4-羥基苯基）異丙基]間苯二酚等 爲更佳。 (C )成分添加於本發明組成物中時，其含量以對（a )成分之鹼可溶性樹脂爲1〜6 0重量％ ，較佳爲2 0〜5 0重 量％之範圍。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本發明之組成物中，必要時，可再添加具有相容性之 添加物，防止光暈之紫外線吸收劑，例如2，2 Ί 4 5 ·四羥基 二苯甲酮、4 -二甲基胺基-2’，45 -二羥基二苯甲酮、5-胺基-3_甲基苯基( 4_羥基苯基偶氮基）吡唑、二甲基胺 基羥基偶氮苯、4-二乙基胺基乙氧基偶氮苯、4-二 乙基胺基偶氮苯、薑黃素等，又，防止切硝痕（striation ) 所添加之界面活性劑，例如福來特FC-43 0、FC43 1 (商品 名、住友 3M 公司製）、耶普 EF122A、EF122B、EF122C、 EF 1 26 (商品名，杜柯姆公司製）等界面活性劑，並於未妨 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（2I0X 297公釐） -13- 20030M02 A7 B7 五、發明説明（10) 礙本發明目的之前提下添加。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 又，本發明之組成物中，（A)〜（c )成分與其他各 種添加成分，可使用經適當溶劑溶解所得之溶液形式。前 述溶劑之例示如，以往用於正型光阻組成物之溶劑，例如 丙酮、甲基乙基酮 '環己酮、甲基異戊基酮、2 -庚酮等酮 類；乙二醇、丙二醇、二乙二醇、乙二醇單乙酸酯、丙二 醇單乙酸酯、二乙二醇單乙酸酯或其單甲基醚、單乙基醚 、單丙基醚、單丁基醚或單苯基醚等多元醇類及其衍生物 ;二嚼焼等環式醚類；與乳酸乙酯、乙酸甲酯、乙酸乙酯 、乙酸丁酯、丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯、甲氧基丙酸甲酯 、乙氧基丙酸乙酯等酯類。其可單獨使用，或將2種以上 混合使用皆可。特別是以丙酮、甲基乙基酮、環己酮、甲 基異戊酮、2 -庚酮等酮類；乳酸乙酯、乙酸乙酿、乙酸丁 酯、丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯、甲氧基丙酸甲酯、乙氧基 丙酸乙酯等酯類爲更佳。 經濟部智M財產局S(工消費合作社印製 本發明之組成物中較適合之方法例如，首先將（A )成 分、（B )成分、與必要時添加之（c )成分與各種成分， ί谷解於則述適當溶劑中，再將其以旋轉塗佈器等塗佈於晶 圓’或其形成有反射防止膜之支持物上，使其乾燥形成感 光層’隨後藉由所需要之光罩進行i射線曝光。其次，再將 其浸漬於顯影液，例如]至1 0重量％之四甲基銨氫氧化物 c TMAH )水溶液等鹼性水溶液中，將曝光部分溶解去除後 即可忠實地得到與光罩圖型相同之晝像。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） -14- 2ΰϋ30Ι l〇i A7 B7 五、發明説明（”） 【實施例】 以下，將本發明以實施例與比較例作更明確之說明。 (讀先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) (實施例1 ) (A)成分： 鹼可溶性樹脂 1 0 0重量份 [將m -甲酚 4莫耳、p -甲酚 2莫耳、2,5 -二甲苯酚 4 旲耳與甲醛，使用對甲苯磺酸作爲觸媒，依常用方法予以 合成之聚苯乙烯換算重量平均分子量= 6000之酚醛 淸漆樹脂] (B )成分： (bl) / (b2) -1=10/1 (重量比） 40 重量份 [(bl) :1莫耳之上記式（I)之苯酚化合物與2莫耳 之5_NQD ( ]萘醌二疊氮基磺酸氯化物）之酯化物（ 酯化率5 0 % )，（ b 2 ) - 1 : 1莫耳五倍子酸甲酯與3莫耳 經濟部智慈財產局員工消費合作社印製 5-NQD之酯化物（酯化率1〇〇% )] (C )成分： 感度提昇劑 42重量份 (1-[1，1-雙（4 -甲基苯基）乙基卜4-[ι·(4 -經基苯基） 異丙基]苯） 將上記（A )〜（C )溶解於溶媒[乳酸乙酯/乙酸乙酯 本纸張尺度適用中國國家摞準（CNS ) A4規格（2]0X297公釐） -15- 200301402 A7 B7 五、發明説明（12) =9 : 1 (重量比）之混合溶媒]後，將濃度調整爲27重量 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) %後，使用孔徑0.2 // m之膜過濾器過濾，以製得正型光阻 組成物。 (實施例2〜5與比較例〗〜7 ) 除將（B )成分以下記表〗所示內容替代外，其他皆依 實施例1相同方法調製正型光阻組成物。 對上記各實施例與比較例所得之正型光阻組成物，調 查下記各物性。其結果如表2所示。 (1 )感度： 經濟部智慈財產局員工消費合作社印製 將樣品使用旋轉塗佈器塗佈於砂晶圓上，再將其於熱 壓板上以90 °C、90秒間乾燥，得膜厚丨·05 # m之光阻膜。 將此膜介由具有電路與間隙爲1 : 1之〇 · 3 5 // m之光阻圖型 的光罩（網罩），使用縮小投影曝光裝置NSR-2005il0D ( 理光公司製，N A = 0.5 7 )，進行〇 . 1秒至〇 . 〇 1秒間隔之曝 光，再以I 1 〇°C、90秒間PEB (曝光後加熱）處理，再於 2.3 8重量％四甲基錢氫氧化物（τμ AH )水溶液於2 3 °C下 進行60秒間之顯影，30秒間水洗乾燥後，形成〇.35/i m光 阻圖型之電路與間隙寬爲1 :；[之最佳曝光時間（E 〇 p )作 爲感度，並以毫秒（m s )爲表示單位。 (2 )解像性： 重現0.3 5 /i m之光罩圖型之曝光量爲臨界解像性。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） . ►16- 110 A7 B7 五、發明説明（13) (3 ) DOF 特性： (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 使用使用縮小投影曝光裝置NSR-2005i 1 0D (理光公司 製，NA= 0.57 )，以Εορ (形成0.35 # m之電路與間隙寬 爲1: 1所需要之曝光量）作爲基準曝光量，於此曝光量下 ，將焦點適當地上下移動，觀察經曝光、顯影後所得光阻 圖型之SEM照片。此SEM照片所得0.35 // m矩形光阻圖型 呈± 1 0%尺寸變化率範圍所得到之焦點偏移之最大値（ // m )爲聚焦深度特性。 (4 )低曝光寬容度： 經濟部智慈財產局員工消費合作社印製 將樣品使用旋轉塗佈器塗佈於砂晶圓上，再將其於熱 壓板上以9 0 °C、9 0秒間乾燥，得膜厚1.0 5 // m之光阻膜。 將此膜介由具有電路與間隙爲1 : 1之0.35// ηα之光阻圖型 的光罩（網罩），使用縮小投影曝光裝置NSR-2005il0D ( 理光公司製，N A = 0,5 7 )，進行0.1秒至0.0 I秒間隔之曝 光，再以1 1 0 °C、9 0秒間PEB (曝光後加熱）處理，再於 2.38重量％ TMAH水溶液於23 °C下進行60秒間之顯影，30 秒間水洗乾燥後，顯影後形成圖型分離的最小曝光量（E s )以毫秒（ms)爲表示單位，低曝光寬容度以Eop-Es表示 (5 )粗密差評估： 以E0p (形成0·3 5 β m之電路與間隙寬爲1 : 1所需要 本纸张尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（21〇X 297公釐） - 17 - 20030.1 l〇i A7 B7五、發明説明（14) 之曝光量）作爲基準曝光量，測定於使用對應於0.35 // m 之獨立（Iso )圖型的光罩形成獨立光阻圖型時實際所得到 之獨立圖型的尺寸（X )，並測定其與理想圖型尺寸（0.35 // m )之尺寸差之絕對値作爲「粗密差」。 粗密差=I 0.35-X | (式中，X爲實際獨立圖型之尺寸 ） (請先閱讀背面之注意事 4 項再填· 裝丨 .寫本頁 訂 經濟部智慈財產苟員工消費合作社印製 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS )八4規格（2)0X297公釐） -18- 20030.1 l〇i

7 7 A B 經濟部智慧財產局Μ工消費合作社印製 五 、發明説明（15) 表1 例 (Β)成分 (B)成分之配合量 (重量比） (重量份） 實1 (bl)/(b2)-l 40 (10/1) 實2 (bl)/(b2)-2 40 (10/1) 實3 (bl)/(b2)-3 40 (10/1) 實4 (bl)/(b2)-l 40 (10/2) 實5 (bl)/(b2)-l 40 (10/3) 比1 (bl) 40 比2 (b2)-l 40 比3 (bl)/(b3) 40 (10/1) 比4 (b4)/(b2)-l 40 00/1) 比5 (b5)/(b2)-l 40 f10/1) 比6 (b4) 40 比7 (b5) 40 註： 「實」與「比」各自爲實施例與比較例之意。 (讀先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210Χ 297公釐） -19- 20030M02 A7 B7 五、發明説明（16) (b 1 ) : 1莫耳上記式（I )所示苯酚化合物與2莫耳 5-NQD之酉旨化物（酯化率50% ) (b2 ) -1 : 1莫耳五倍子酸甲酯與3莫耳5-NQD之酯 化物（酯化率100% ) (b2 ) -2 ·· 1莫耳五倍子酸乙酯與3莫耳5-NQD之酯 化物（酯化率100% ) (b2 ) -3 :]莫耳五倍子酸丙酯與3莫耳5-NQD之酯 化物（酯化率100% ) (b3 ) : 1莫耳雙（2,4-二羥基苯基）甲烷與3莫耳5- NQD之酯化物（酯化率75% ) (b4) : 1莫耳雙[2-羥基-3- (2-羥基-5-甲基苄基）-5- 甲基苯基]甲烷與2莫耳5-NQD之酯化物（酯化率50% ) (b5 ) : I莫耳雙[2,5-二甲基-3- ( 4-羥基-5-甲基苄基 )羥基苯基]甲烷與2莫耳5-NQD之酯化物（酯化率50 % ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慈財產局8工消費合作社印紫 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（2】0X 297公釐） -20- 200301 102 Α7 Β7 五、發明説明（17) 例 感度 解像性 DOF特性 ——·— %曝光低寬容度 粗密差 (ms) (β m) (β ill) (// ηι) 實 1 450 0.30 1.4 ___ R 0 0.020 實 2 470 0.32 1.2 6 0 0.041 實3 490 0.34 1.2 —---Ό u 6 0 0.O45_ 實 4 430 0.32 1.2 7 0 0.035 實5 400 0.32 1.2 υ _____ 70 0.040_ 比1 500 0.32 1.0 ___ 5 〇 0.060_ 比 2 一 一 — _ 比3 400 0.34 0.8 ______ 4 0 〇.〇!〇_ 比 4 440 0.32 0.8 3 0 0.100_ 比 5 400 0.32 1.0 40 0.070_ 比 6 470 0.32 0.8 3 0 0.12〇_ 比 7 430 0.32 1.0 40 o.〇9_o_ (讀先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

-二！ ! I 1 I I 1 - - I— - - I I ^^ 1 US 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 註：「實」與「比」各自爲實施例與比較例之意。 比2之「-」係指未形成光阻圖型之意。 【發明效果】 依本發明之內容，使用i射線（3 6 5 nm)之光蝕刻印刷 法中’可形成〇.5祕米以下，特別是可形成〇.35#见以下超 微細尺寸之光阻圖型’且具有優良感度、解像性、聚焦深 度（D OF )特性、曝光寬限度、粗密度等光阻特性之 、趣 光阻組成物。 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（2】〇χ 297公潑） -21 -

Claims (1)

1. 2ύϋ3〇Μ〇2 Α8 Β8 C8 D8 夂、申請專利範圍 1 1 · 一種正型光阻組成物，其係爲含有（A )鹼可溶性 樹脂、（B )醌二疊氮酯化物所得之正型光阻組成物，其特 徵爲，該（B )成分係含有（b 1 )下記式（I )所示醌二疊 氮酯化物，與（b2 )下記式（II )所示醌二疊氮酯化物者；

   (式中，D爲獨立之氫原子、或1，2-萘醌二疊氮基-5-磺醯基，其中至少1個爲1，2-萘醌二疊氮基-5-磺醯基） I Ί—·· ·ϋϋ ^^^1 ml ϋϋ I (請先閲讀背面之注意事項再4寫本頁)

   、1T 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 (式中，D爲獨立之氫原子、或1，2 -萘醒二疊氮基- 5-磺醯基，其中至少1個爲1 5 2 -萘醌二疊氮基-5 -擴醯基，R1 爲碳數1至6之烷基）。 2 .如申請專利範圍第1項之正型光阻組成物，其尙含 有（C )分子量1 000以下之具有苯酚性羥基之鹼可溶性低 分子化合物。 3 .如申請專利範圍第1或2項之正型光阻組成物，其 中於（B)成分中，（bl)與（b2)之混合比例爲對（bl) 而言，（b2)爲1至50重量％範圍。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（2】0Χ 297公釐） -22- 200301402 陸、（一）、本案指定代表圖爲：無 (二）、本代表圖之元件代表符號簡單說明：無 柒、本案若有化學式時，請揭示最能顯示發明特徵的 化學式： 【化1】

   【化2】 ： DQ DO C—O—R1 DO