TH69174A - ตัวเร่งปฏิกิริยาออกซิเดชันวัฏภาคก๊าซซึ่งมีการกระจายขนาดอนุภาควาเนเดียมออกไซด์ถูกกำหนด - Google Patents

ตัวเร่งปฏิกิริยาออกซิเดชันวัฏภาคก๊าซซึ่งมีการกระจายขนาดอนุภาควาเนเดียมออกไซด์ถูกกำหนด

Info

Publication number
TH69174A
TH69174A TH401003715A TH0401003715A TH69174A TH 69174 A TH69174 A TH 69174A TH 401003715 A TH401003715 A TH 401003715A TH 0401003715 A TH0401003715 A TH 0401003715A TH 69174 A TH69174 A TH 69174A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
particles
volume
diameter
less
weight
Prior art date
Application number
TH401003715A
Other languages
English (en)
Inventor
เนโต นายซามูเอล
สตอร์ค นายเซบัสเตียน
โรโซว์สกี้ นายแฟรงค์
ซูห์ลเคอ นายเยอร์เกน
รุมเมล นายโวล์ฟกัง
Original Assignee
นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
นายต่อพงศ์ โทณะวณิก
นายบุญมา เตชะวณิช
บีเอเอสเอฟ อัคเทียนเกเซลล์ชาฟท์
Filing date
Publication date
Application filed by นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์, นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์, นายต่อพงศ์ โทณะวณิก, นายบุญมา เตชะวณิช, บีเอเอสเอฟ อัคเทียนเกเซลล์ชาฟท์ filed Critical นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์
Publication of TH69174A publication Critical patent/TH69174A/th

Links

Abstract

DC60 (20/12/47) กระบวนการถูกอธิบายสำหรับการผลิตตัวเร่งปฏิกิริยาสำหรับออกซิเดชันวัฏภาคก๊าซ, โดย สารแขวนลอยของอนุภาค TiO2 และอนุภาค V2O5 ถูกใช้ต่อตัวรองรับเฉื่อยถูกฟลูอิดไดซ์, โดยอย่าง น้อยที่สุด 90% โดยปริมาตรของอนุภาค V2O5 มีเส้นผ่าศูนย์กลาง 20 ไมโครเมตรหรือต่ำกว่าและอย่าง น้อยที่สุด 95% โดยปริมาตรของอนุภาค V2O5 มีเส้นผ่าศูนย์กลาง 30 ไมโครเมตรหรือต่ำกว่าและการ กระจายขนาดอนุภาคถูกกำหนดของ V2O5 ยอมให้มีประสิทธิภาพการเคลือบผิวสูง กระบวนการถูกอธิบายสำหรับการผลิตตัวเร่งปฏิกิริยาสำหรับออกซิเดชันวัฏภาคก๊าซ, โดย สารแขวนลอยของอนุภาค TiO2 และอนุภาค V2O5 ถูกใช้ต่อตัวรองรับเฉื่อยถูกฟลูอิดไดซ์, โดยอย่าง น้อยที่สุด 90% โดยปริมาตรของอนุภาค V2O5 มีเส้นผ่าศูนย์กลาง 20 ไมโครเมตรหรือต่ำกว่าและอย่าง น้อยที่สุด 95% โดยปริมาตรของอนุภาค V2O5 มีเส้นผ่าศูนย์กลาง 30 ไมโครเมตรหรือต่ำกว่าและการ กระจายขนาดอนุภาคถูกกำหนดของ V2O5 ยอมให้มีประสิทธิภาพการเคลือบผิวสูง

Claims (9)

1. ตัวเร่งปฏิกิริยาสำหรับออกซิเดชันวัฏภาคก๊าซซึ่งประกอบรวมด้วยตัวรองรับเฉื่อยและ, ถูกใช้,ต่อสารผสมทำปฏิกิริยาได้ด้วยตัว เร่งปฏิกิริยาประกอบรวมด้วยจาก 1 ถึง 40% โดยน้ำหนักของ วาเนเดียมออกไซด์, คำนวณเป็น V2O5 และจาก 60 ถึง 99% โดยน้ำหนักของไทเทเนียมไดออกไซด์, คำนวณเป็น TiO2, และได้มาโดยการใช้สารแขวนลอยของอนุภาค TiO2 และอนุภาค V2O5 ต่อตัวรอง รับ, โดยอย่างน้อยที่สุด 90% โดยปริมาตรของอนุภาค V2O5 มีเส้นผ่าศูนย์กลาง 20 ไมโครเมตรหรือ ต่ำกว่าและอย่างน้อยที่สุด 95% โดยปริมาตรของอนุภาค V2O5 มีเส้นผ่าศูนย์กลาง 30 ไมโครเมตรหรือ ต่ำกว่า
2. ตัวเร่งปฏิกิริยาตามข้อถือสิทธิข้อที่ 1, โดยอย่างน้อย ที่สุด 90% โดยปริมาตรของอนุภาค V2O5 มีเส้นผ่าศูนย์กลาง 15 ไมโครเมตรหรือต่ำกว่าและอย่างน้อยที่สุด 95% โดยปริมาตรของอนุภาค V2O5 มีเส้นผ่าศูนย์กลาง 20 ไมโครเมตรหรือต่ำกว่า
3. ตัวเร่งปฏิกิริยาตามข้อถือสิทธิข้อที่ 1 หรือข้อที่ 2 ข้อใดข้อหนึ่ง, โดยอย่างน้อยที่สุด 50% โดยปริมาตรของ อนุภาค V2O5 มีเส้นผ่าศูนย์กลางมากกว่า 2 ไมโครเมตร
4. ตัวเร่งปฏิกิริยาตามข้อถือสิทธิข้อใดข้อหนึ่งก่อนข้อ นี้, โดยสารผสมทำปฏิกิริยาได้ด้วย ตัวเร่งปฏิกิริยาต่อมา ประกอบรวมด้วยมีพื้นฐานของปริมาณทั้งหมดของสารผสมทำ ปฏิกิริยาได้ด้วย ตัวเร่งปฏิกิริยา, จนถึง 1% โดยน้ำหนักของ สารประกอบซีเซียม, คำนวณเป็น Cs, จนถึง 1% โดย น้ำหนักของสารประกอบฟอสฟอรัส, คำนวณเป็น P, และจนถึง 10% โดยน้ำหนักของแอนติโมนี ออกไซด์, คำนวณเป็น Sb2O3
5. กระบวนการสำหรับการผลิตตัวเร่งปฏิกิริยาสำหรับ ออกซิเดชันวัฏภาคก๊าซ, โดยสารแขวน ลอยของอนุภาค TiO2 และ V2O5 ถูกใช้ต่อตัวรองรับเฉื่อยถูกฟลูอิดไดซ์, โดยอย่างน้อยที่สุด 90% โดย ปริมาตรของอนุภาค V2O5 มีเส้นผ่าศูนย์กลาง 20 ไมโครเมตรหรือต่ำกว่าและอย่างน้อยที่สุด 95% โดย ปริมาตรของอนุภาค V2O5 มีเส้นผ่าศูนย์กลาง 30 ไมโครเมตรหรือต่ำกว่า
6. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อที่ 5, โดยอย่างน้อย ที่สุด 90% โดยปริมาตรของอนุภาค V2O5 มีเส้นผ่าศูนย์กลาง 15 ไมโครเมตรหรือต่ำกว่าและอย่างน้อยที่สุด 95% โดยปริมาตรของ V2O5 มีเส้นผ่าศูนย์กลาง 20 ไมโครเมตรหรือต่ำกว่า
7. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อที่ 5 หรือข้อที่ 6 ข้อใดข้อหนึ่ง, โดยอย่างน้อยที่สุด 50% โดยปริมาตรของ อนุภาค V2O5 มีเส้นผ่าศูนย์กลางมากกว่า 2 ไมโครเมตร
8. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อที่ 5 ถึงข้อที่ 7 ข้อใดข้อหนึ่ง, โดยสารแขวนลอยต่อมา ประกอบรวมด้วยอย่างน้อยที่ สุดแหล่งซีเซียมหนึ่งชนิด, ฟอสฟอรัสและ/หรือแหล่งแอนติโมนี
9. การใช้ตัวเร่งปฏิกิริยาตามข้อถือสิทธิข้อที่ 1 ถึงข้อที่ 4 ข้อใดข้อหนึ่ง, สำหรับการเตรียม ฟทาลิกแอนไฮดรายด์จาก o-ไซลีน, แนฟธาลีนหรือของผสม
TH401003715A 2004-09-24 ตัวเร่งปฏิกิริยาออกซิเดชันวัฏภาคก๊าซซึ่งมีการกระจายขนาดอนุภาควาเนเดียมออกไซด์ถูกกำหนด TH69174A (th)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TH69174A true TH69174A (th) 2005-06-14

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW444004B (en) Preparation of phthalic anhydride
JP4829113B2 (ja) 無水フタル酸を製造するための3層もしくは4層からなる触媒系
JPS63253080A (ja) 無水フタル酸の製造方法
CN103025424B (zh) 用于使邻二甲苯和/或萘氧化成邻苯二甲酸酐的催化剂
KR930001975A (ko) 무수프탈산 제조용 촉매와 그 촉매를 이용한 무수프탈산의 제조방법
JP2007534628A (ja) 酸化バナジウム、二酸化チタンおよび酸化アンチモンを含有する触媒を用いての、アルデヒド、カルボン酸および/またはカルボン酸無水物の製造方法
TW200526321A (en) Process for producing a catalyst for gas-phase oxidations
JPS603307B2 (ja) 無水フタル酸の製造方法
RU2006114066A (ru) Катализатор для окисления в газовой фазе с определенным распределением по размерам частиц оксида ванадия
KR100939143B1 (ko) 무수 프탈산의 제조를 위한 촉매 및 무수 프탈산의 제조 방법
KR930007927A (ko) 오르토키실렌 및 나프탈렌 혼합물의 기상산화에 의한 무수프탈산의 제조방법
EP1814660A1 (de) Verwendung von titandioxidgemischen zur herstellung von katalysatoren
US20110230668A1 (en) Catalyst for gas phase oxidations based on low-sulfur and low-calcium titanium dioxide
CN1212893C (zh) 一种负载型钒磷氧催化剂及其制法和用途
JPH0146175B2 (th)
CN1104643A (zh) 苯四甲酸二酐的制法
CN110227522B (zh) 氨氧化法制备对苯二甲腈的催化剂及制备方法与用途
CN107206354B (zh) 用于将邻二甲苯和/或萘氧化成邻苯二甲酸酐的多区催化剂体系
JPS5857374A (ja) 無水フタル酸の製造方法
JP5856089B2 (ja) 硫黄とカルシウムの含量が少ない二酸化チタン系気相酸化用触媒
JP2017514674A (ja) 無水フタル酸の製造のための最適化された表面積を有する触媒配置
US10155713B2 (en) Catalyst arrangement with optimized void fraction for the production of phthalic acid anhydride
JP2015530228A (ja) カルボン酸および/またはカルボン酸無水物を製造するための触媒
JP2708305B2 (ja) 気相酸化方法
JPS6115855A (ja) ナフトキノンの製造方法