TH29070B - แผ่นลอกและกระบวนการสำหรับการผลิตแผ่นลอก - Google Patents
แผ่นลอกและกระบวนการสำหรับการผลิตแผ่นลอกInfo
- Publication number
- TH29070B TH29070B TH101000244A TH0101000244A TH29070B TH 29070 B TH29070 B TH 29070B TH 101000244 A TH101000244 A TH 101000244A TH 0101000244 A TH0101000244 A TH 0101000244A TH 29070 B TH29070 B TH 29070B
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- layer
- phenyl
- peel
- sheet
- substrate
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract 5
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims abstract 11
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract 11
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract 4
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims abstract 4
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 claims abstract 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims abstract 2
- -1 2-hydroxyethoxy Chemical group 0.000 claims 2
- UBNAVIPKORDBNB-UHFFFAOYSA-N 3,3-dimethyl-4-phenylbutan-2-one Chemical compound CC(=O)C(C)(C)CC1=CC=CC=C1 UBNAVIPKORDBNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims 2
- 125000004177 diethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims 2
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 claims 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 claims 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 claims 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract 4
- GJKGAPPUXSSCFI-UHFFFAOYSA-N 2-Hydroxy-4'-(2-hydroxyethoxy)-2-methylpropiophenone Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=C(OCCO)C=C1 GJKGAPPUXSSCFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract 2
- XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 abstract 1
Abstract
DC60 (17/12/51) จะเปิดเผยถึงแผ่นลอกซึ่งประกอบรวมด้วยซับสเทรทที่มีลักษณะคล้ายแผ่นและชั้นที่ผ่านการ บ่มซึ่งจัดวางบนซับสเทรทนี้ของสารผสมซิลิโคนชนิดทำปฏิกิริยาแบบรวมตัวซึ่งมีสารไวแสง ได้ทำให้ แผ่นลอกนี้มีลักษณะเฉพาะที่ว่า ชั้นที่ผ่านการบ่มนี้จะได้รับการก่อเกิดขึ้นโดยการปฏิบัติด้วยความ ร้อนกับชั้นของสารผสมซิลิโคนชนิดทำปฏิกิริยาแบบรวมตัวซึ่งมีสารไวแสงอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิด ที่คัดเลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วย อัลฟา-ไฮดรอกซิคีโทน (ตัวอย่างเช่น 2-ไฮดรอกซี-2-เมธิล-1-ฟีนิล โพรเพน-1-โอน, 1-[4-(2-ไฮดรอกซิเอธอกซี)ฟีนิล]-2-ไฮดรอกซี-2-เมธิลโพรเพน-1-โอน และ 1-ไฮดรอกซิไซโคลเฮกซี-ฟีนิล-คีโทน) และ อัลฟา-ไดคีโทนไดแอลคิลอะซิทอล (ตัวอย่างเช่น เบนซิล ไดเมธิลอะซิทอล) ติดตามด้วยการปฏิบัติด้วยการแผ่รังสีอัลตราไวโอเลต และเปิดเผยถึงกระบวนการ สำหรับการผลิตแผ่นลอกในอัตราการผลิตสูงสุดอย่างมีประสิทธิภาพ ชั้นของสารผสมซิลิโคนชนิด ทำปฏิกิริยาแบบรวมตัวจะมีความติดเหนียวที่เอื้อประโยชน์ต่อซับสเทรทและมีสมบัติการไม่ย้ายที่ และด้วยเหตุนี้แผ่นลอกที่เป็นเป้าหมายนี้จะมีสภาพลอกออกได้ดีเยี่ยมและมีความแบนราบสูงอย่าง สามารถยอมรับได้ จะเปิดเผยถึงแผ่นลอกซึ่งประกอบด้วยซับสเทรทที่มีลักษณะคล้ายแผ่นและชั้นที่ผ่านการบ่มซึ่งจัดวางบนซับสเทรทนี้ของสารผสมซิลิโคนชนิดทำปฏิกิริยาแบบรวมตัวซึ่งมีสารไวแสง ได้ทำให้แผ่นลอกนี้มีลักษณะเฉพาะที่ว่า ชั้นที่ผ่านการบ่มนี้จะได้รับการก่อเกิดขึ้นโดยการปฏิบัติด้วยความ ร้อนกับชั้นของสารผสมซิลิโคนชนิดทำปฏิกิริยาแบบรวมตัวซึ่งมีสารไวแสงอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดที่คัดเลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วย (อัลฟา)-ไฮดรอกซิคีโทน (ตัวอย่างเช่น 2-ไฮดรอกซี-2-เมธิล-1-ฟีนิลโพรเพน-1-โอน 1-[4-(2-ไฮดรอกซิเอธอกซี)ฟีนิล]-2-ไฮดรอกซี-2-เมธิลโพรเพน-1-โอนและ1-ไฮดรอกซิไซโคลเฮกซี-ฟีนิล-คีโทน) และ (อัลฟา)-ไดคีโทนไดแอลคิลอะซิทอล (ตัวอย่างเช่น เบนซิลไดเมธิลอะซิทอล) ติดตามด้วยการปฏิบัติด้วยการแผ่รังสีอัลตราไวโอเลต และเปิดเผยถึงกระบวนการสำหรับการผลิตแผ่นลอกในอัตราการผลิตสูงสุดอย่างมีประสิทธิภาพ ชั้นของสารผสมซิลิโคนชนิดทำปฏิกิริยาแบบรวมตัวจะมีความติดเหนียวที่เอื้อประโยชน์ต่อซับสเทรทและมีสมบัติการไม่ย้ายที่และด้วยเหตุนี้แผ่นลอกที่เป็นเป้าหมายนี้จะมีสภาพลอกออกได้ดีเยี่ยมและมีความแบนราบสูงอย่างสามารถยอมรับได้
Claims (4)
1.แผ่นลอกซึ่งประกอบรวมด้วยซับสเทรทแบบแผ่น (sheet substrate) และชั้นที่ผ่านการบ่มซึ่งจัดวางบนซับสเทรทนี้ของสารผสมซิลิโคนที่บ่มได้ชนิดทำปฏิกิริยาแบบรวมตัวซึ่งจะก่อเกิดชั้นที่ผ่านการบ่มดังกล่าวโดยการปฏิบัติด้วยความร้อนกับชั้นของสารผสมซิลิโคนที่บ่มได้ชนิดทำปฏิกิริยาแบบรวมตัวซึ่งประกอบรวมด้วยพอลิออร์กาโนไซลอกเซนที่มีหมู่ไวนิลเป็นหมู่ฟังก์ชันแนลและสารไวแสงอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดที่คัดเลือกมาจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วย 2- ไฮดรอกซี -2- เมธิล - 1- ฟีนิล -โพรเพน -1- โอน , 1-[4-(2-ไฮดรอกซิเอธอกซี) ฟีนิล ]-2- ไฮดรอกซี -2- เมธิลโพรเพน -1- โอน -1- ไฮดรอกซีไซโคลเฮกซีฟีนิลคีโทน , เบนซิลไดเมธิลอะซิทอล และเบนซิลไดเอธิลอะซิทอล ตามด้วยการปฏิบัติด้วยการแผ่รังสีอัลตราไวโอเลต
2. แผ่นลอกตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งสารผสมซิลิโคนที่บ่มได้ชนิดทำปฏิกิริยาแบบรวมตัวนี้จะประกอบรวมด้วยสารไวแสงในประมาณ 0.01 ถึง 10 ส่วนโดยน้ำหนักโดยมีพื้นฐานอยู่บน 100 ส่วนโดยน้ำหนักของปริมาณทั้งหมดของซิลิโคนที่บ่มได้ชนิดทำปฏิกิริยาแบบรวมตัวและตัวกระทำเพื่อการเชื่อมขวาง
3. แผ่นลอกตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งสารผสมซิลิโคนที่บ่มได้ชนิดทำปฏิกิริยาแบบรวมตัวนี้จะประกอบรวมด้วยพอลิไดเมธิลไซลอกเซนซึ่งมีหมู่ไวนิลเป็นหมู่ฟังก์ชันแนล
4. กระบวนการสำหรับการผลิตแผ่นลอกตามที่กำหนดไว้ในข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งประกอบรวมด้วยขั้นตอนของการประกอบติดซับสเทรทแบบแผ่นกับชั้นของสารผสมซิลิโคนที่บ่มได้ชนิดทำปฏิกิริยาแบบรวมตัว ซึ่งประกอบรวมด้วยพอลิออร์กาโนไซลอกเซนที่มีหมู่ไวนิลเป็นหมู่ฟังก์ชันแนลและสารไวแสงอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดที่คัดเลือกจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วย 2- ไฮดรอกซี -2- เมธิล - 1- ฟีนิล -โพรเพน -1- โอน , 1-[4-(2-ไฮดรอกซิเอธอกซี) ฟีนิล ]-2- ไฮดรอกซี -2- เมธิลโพรเพน -1- โอน -1- ไฮดรอกซีไซโคลเฮกซีฟีนิลคีโทน , เบนซิลไดเมธิลอะซิทอล และเบนซิลไดเอธิลอะซิทอล การปฏิบัติโดยใช้ความร้อนกับซับสเทรทที่ประกอบติดกับชั้นดังกล่าว และทำการแผ่รังสีแก่ซับสเทรทที่ได้รับการปฏิบัติโดยใช้ความร้อนที่ประกอบติดกับชั้นดังกล่าวด้วยการแผ่รังสีอัลตราไวโอเลตเพื่อบ่มชั้นของสารผสมซิลิโคนที่บ่มได้ชนิดทำปฏิกิริยาแบบรวมตัวนี้
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH53249A TH53249A (th) | 2002-09-26 |
| TH29070B true TH29070B (th) | 2010-10-29 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5637395A (en) | Thin adhesive sheet for working semiconductor wafers | |
| EP0157508B1 (en) | Thin adhesive sheet for use in working semiconductor wafers | |
| TW445289B (en) | Easily peelable adhesive film | |
| EP1277802B1 (en) | Silicone composition and release film | |
| TWI725405B (zh) | 暫時固定用黏著片及使用彼來製造半導體裝置的方法 | |
| JP5953337B2 (ja) | マスキングテープ及びウエハの表面処理方法 | |
| JP2015523437A (ja) | Ｕｖ硬化型ゴムを含む粘着剤組成物及びこれを使用する保護フィルム | |
| TWI698492B (zh) | 伸縮性膜材料組成物、伸縮性膜、及其形成方法 | |
| TW202030233A (zh) | 伸縮性配線膜及其形成方法 | |
| TW202039607A (zh) | 複合伸縮性膜及其形成方法 | |
| KR102041675B1 (ko) | 무기재형 실리콘 점착필름 | |
| TWI541136B (zh) | Release tablets | |
| TH29070B (th) | แผ่นลอกและกระบวนการสำหรับการผลิตแผ่นลอก | |
| JP2016146437A (ja) | ウエハの処理方法 | |
| TH53249A (th) | แผ่นลอกและกระบวนการสำหรับการผลิตแผ่นลอก | |
| JP2017028272A (ja) | 半導体チップの製造方法及びウエハ仮固定用粘着テープ | |
| JPH06264033A (ja) | 光硬化型接着剤組成物 | |
| JP4321305B2 (ja) | ウエハの加工方法 | |
| JP2018147987A (ja) | 半導体チップの製造方法及び粘着テープ | |
| JP4098597B2 (ja) | 半導体ウエハ加工用粘着シートおよびそれを用いた半導体ウエハの加工方法 | |
| JP7719632B2 (ja) | 粘着剤組成物、粘着テープ、及び、半導体装置の製造方法 | |
| JP6789057B2 (ja) | 両面粘着テープ及びウエハの処理方法 | |
| JP2008280505A (ja) | 半導体加工用テープ | |
| JP2014072301A (ja) | 基板搬送用キャリア | |
| JP3342884B2 (ja) | 発泡基材系粘着部材の製造方法 |