SU1381739A1 - Способ изготовлени контактной площадки на подложке из алюминиевого сплава или алюмини - Google Patents

Способ изготовлени контактной площадки на подложке из алюминиевого сплава или алюмини Download PDF

Info

Publication number
SU1381739A1
SU1381739A1 SU864026931A SU4026931A SU1381739A1 SU 1381739 A1 SU1381739 A1 SU 1381739A1 SU 864026931 A SU864026931 A SU 864026931A SU 4026931 A SU4026931 A SU 4026931A SU 1381739 A1 SU1381739 A1 SU 1381739A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
substrate
contact pad
conductive layer
grooved
cold
Prior art date
Application number
SU864026931A
Other languages
English (en)
Inventor
Юрий Георгиевич Мурашев
Юрий Федорович Шеханов
Галина Анатольевна Большакова
Евгений Александрович Вулла
Original Assignee
Ленинградский механический институт им.Маршала Советского Союза Устинова Д.Ф.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ленинградский механический институт им.Маршала Советского Союза Устинова Д.Ф. filed Critical Ленинградский механический институт им.Маршала Советского Союза Устинова Д.Ф.
Priority to SU864026931A priority Critical patent/SU1381739A1/ru
Application granted granted Critical
Publication of SU1381739A1 publication Critical patent/SU1381739A1/ru

Links

Landscapes

  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)

Abstract

Изобретение относитс  к радиоэлектронной промьппленности. Целью изобретени   вл етс  повышение надежности путем создани  холодносварно- го соединени . На подложке, выполненной из алюмини  или алюминиевого сплава, формируют заостренные рифли. Затем подложки анодируют, покрывают лаком и нанос т токопровод 1ций слой методом термовакуумного испарени  и гальванического наращивани  дл  обеспечени  условий холодносварного соединени . 1 ил. с S

Description

со
00
vi
со со
Изобретение относитс  к радиоэлектронной промышленности к технологии изготовлени  печатных плат.
Целью изобретени   вл етс  повьппе ние надежности путем создани  холод- носварного соединени .
На чертеже изображена контактна  площадка на подложке из алюмини , образующа  холодносварное соединение с проводом.
На подложке 1 толщиной 1-2 мм, выполненной из алюмини  или алюминиевого сплава, например, АМГ-3 формируют заостренные рифли с углом при верщине 80-90°, длина которых в 5- 10 раз превышает диаметр или наибольший размер подсоедин емого провода 2
После этого подложка 1 анодируетс  в щавелевокислом электролите с целью получени  окисной пленки 3 толщиной пор дка 50-100 мкм, при зтом в процессе анодировани  в окисной плеике 3 образуютс  микропоры 4. Дл  заполнени  пор 4 наноситс  слой по- лиимидного лака 5 с последующей сушкой и полимеризацией его. Затем на установке термовакуумного напылени  последовательно напыл етс  адгезионнени  без нагрева в зоне 13 контактировани  .
После выполнени  холодной сварки между проводом 2 и контактной площадкой при подклю 1ении источника электрического напр жени  между ними электрический ток идет от одного полюса источника по проводу 2, далее через зоны контактировани  13 рифлей 11 в слой 1U, а затем через тонкий слой 9 в основной электропроводный слой 8 и по нему - в другой полюс источник.
Изобретение можно использовать в радиоэлектронной и микроэлектронной аппаратуре, в приборных устройствах дл  создани  внутриблочных и межблочных электромонтажных соединений. Использование данного неразъемного электроконтактного соединени  позвол ет при одновременном обеспечении высокой надежности его легко автоматизировать процесс монтажа микросборок и других микроэлектронных изделий , так как не требуетс  дополнительный нагрев, использование припо , исключаютс  операции нанесени  и удалени  флюса, необходимых в случае пайки, не требуютс  дополнительные
ный слой 6 из хрома толщиной 0,05 мкм 30 затраты электроэнергии, как в слу- и слой меди 7 толщиной I мкм. После этого производитс  гальваническое наращивание сло  меди 8 толщиной 10-30 мкм и напыление сло  меди 9 дл  устранени  дефектов сло  8 и более 5 твердого сло  никел  О толщиной 0,5-1 мкм. Готова  подложка с рифленой контактной площадкой устанавливаетс  на рабочем столике сварочного устройства, производ щего холодную 40 сварку, основным элементом которого  вл етс  пуансон,перемещающийс  в направл ющих перпендикул рно подложке микросхемы. На контактную площадку
чае термокомпрессионной сварки или сварки расщепленным электродом.

Claims (1)

  1. Формула изобретени 
    I
    Способ изготовлени  контактной площадки на подложке из алюминиевого сплава или алюмини , включающий анодирование подложки, нанесение токо- провод щего сло , формирование конфигурации контактной площадки, отличающийс  тем, что, с целью повышени  надежности холодносвар ного соединени , предварительно производ т рифление подложки в месте
    накладываетс  провод 2, затем пуансон 45 контактной площадки с созданием за- опускаетс  и в течение 3-13 с в зави- остренных рифлей, перед нанесением симости от диаметра провода 2 прижимает провод 2 к рифл м 11 контактной площадки, создава  распределенную нагрузку 12 и обеспечива  достаточную дл  получени  холодносварного соеди50
    токопровод щего сло  подложку покры вают слоем лака, а токопровод щий слой нанос т методом термовакуумно го испарени  и гальванического наращивани .
    затраты электроэнергии, как в слу-
    чае термокомпрессионной сварки или сварки расщепленным электродом.
    Формула изобретени 
    I
    Способ изготовлени  контактной площадки на подложке из алюминиевого сплава или алюмини , включающий анодирование подложки, нанесение токо- провод щего сло , формирование конфигурации контактной площадки, отличающийс  тем, что, с целью повышени  надежности холодносвар- ного соединени , предварительно производ т рифление подложки в месте
    контактной площадки с созданием за- остренных рифлей, перед нанесением
    токопровод щего сло  подложку покрывают слоем лака, а токопровод щий слой нанос т методом термовакуумного испарени  и гальванического наращивани .
    ч 13 . /з /
SU864026931A 1986-02-26 1986-02-26 Способ изготовлени контактной площадки на подложке из алюминиевого сплава или алюмини SU1381739A1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU864026931A SU1381739A1 (ru) 1986-02-26 1986-02-26 Способ изготовлени контактной площадки на подложке из алюминиевого сплава или алюмини

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU864026931A SU1381739A1 (ru) 1986-02-26 1986-02-26 Способ изготовлени контактной площадки на подложке из алюминиевого сплава или алюмини

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU1381739A1 true SU1381739A1 (ru) 1988-03-15

Family

ID=21223273

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU864026931A SU1381739A1 (ru) 1986-02-26 1986-02-26 Способ изготовлени контактной площадки на подложке из алюминиевого сплава или алюмини

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU1381739A1 (ru)

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Авторское свидетельство СССР № 280597, кл. Н 01 R 9/09, 1970. Авторское свидетельство СССР № 645293, кл. Н 05 К 3/00, 1979. *

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5917157A (en) Multilayer wiring board laminate with enhanced thermal dissipation to dielectric substrate laminate
US4993148A (en) Method of manufacturing a circuit board
US5786986A (en) Multi-level circuit card structure
KR100279861B1 (ko) 예비도금된리드단자를가지는성형된전자부품및그의제조방법
US4817277A (en) Method of manufacturing an electrically conductive adhesive bond
JP2012212788A (ja) 金属ベース基板およびその製造方法
US5112668A (en) Insulated metal substrates and process for the production thereof
SU1381739A1 (ru) Способ изготовлени контактной площадки на подложке из алюминиевого сплава или алюмини
US5230788A (en) Insulated metal substrates and process for the production thereof
GB2123616A (en) Circuit boards and method of manufacture thereof
JP2000150718A (ja) スルーホール付き金属ベース配線基板および製造方法
RU2022496C1 (ru) Способ изготовления печатной платы
KR930000639B1 (ko) 고밀도 다층 인쇄회로기판의 제조방법
JP2801732B2 (ja) 基板配線用クラッド材およびその製造方法
US6557250B2 (en) Multilayer board compound and method for the manufacture thereof
JPS63260198A (ja) 多層回路板の製造方法
JPS61295692A (ja) プリント回路用金属基板
JPS6021594A (ja) 回路基板の製造方法
KR930000640B1 (ko) 고밀도 다층 인쇄회로기판의 제조방법
SU780237A1 (ru) Способ изготовлени многослойных печатных плат
JPH0421358B2 (ru)
SU367979A1 (ru) Способ контактно-реактивной пайки изделий
JPS63299297A (ja) 導体回路板の製造方法
JPH06232521A (ja) 配線基板
JPH03104250A (ja) フレキシブル回路基板及びその製造方法