SE438321B - Uv-stralningsabsorberande, notningsbestendig beleggning samt komposition for dess framstellning - Google Patents
Uv-stralningsabsorberande, notningsbestendig beleggning samt komposition for dess framstellningInfo
- Publication number
- SE438321B SE438321B SE7803389A SE7803389A SE438321B SE 438321 B SE438321 B SE 438321B SE 7803389 A SE7803389 A SE 7803389A SE 7803389 A SE7803389 A SE 7803389A SE 438321 B SE438321 B SE 438321B
- Authority
- SE
- Sweden
- Prior art keywords
- group
- epoxy
- carbon atoms
- weight
- less
- Prior art date
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 33
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title description 37
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title description 21
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title description 10
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 49
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 42
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 claims description 21
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 21
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 20
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 20
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 19
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 18
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 claims description 17
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 16
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 13
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims description 10
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 claims description 10
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 claims description 10
- 239000000470 constituent Substances 0.000 claims description 8
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims description 8
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 claims description 7
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 7
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 claims description 5
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 claims description 5
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 5
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 claims description 4
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000007860 aryl ester derivatives Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 claims description 3
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 claims description 3
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 3
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 3
- 150000002118 epoxides Chemical class 0.000 claims description 2
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 claims description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 2
- 150000001565 benzotriazoles Chemical class 0.000 claims 2
- 239000011358 absorbing material Substances 0.000 claims 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 claims 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims 1
- -1 siloxanes Chemical class 0.000 description 28
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 19
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 14
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 14
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 13
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 11
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 11
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 9
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 9
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 7
- ZXDDPOHVAMWLBH-UHFFFAOYSA-N 2,4-Dihydroxybenzophenone Chemical compound OC1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 ZXDDPOHVAMWLBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 208000010201 Exanthema Diseases 0.000 description 6
- 201000005884 exanthem Diseases 0.000 description 6
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 6
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 6
- 206010037844 rash Diseases 0.000 description 6
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 6
- 238000004061 bleaching Methods 0.000 description 5
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 5
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 4
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 4
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 4
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 4
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 4
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 4
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 4
- SHKUUQIDMUMQQK-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(oxiran-2-ylmethoxy)butoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCCCOCC1CO1 SHKUUQIDMUMQQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 101100298295 Drosophila melanogaster flfl gene Proteins 0.000 description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- ZMWKYYJODBYKHO-UHFFFAOYSA-N bis(trifluoromethylsulfonyl)methylbenzene Chemical compound FC(F)(F)S(=O)(=O)C(S(=O)(=O)C(F)(F)F)C1=CC=CC=C1 ZMWKYYJODBYKHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 3
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 3
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 3
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 3
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 3
- JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N isopropanol acetate Natural products CC(C)OC(C)=O JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229940011051 isopropyl acetate Drugs 0.000 description 3
- GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-N isovaleric acid Chemical compound CC(C)CC(O)=O GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical class C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 3
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 3
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 3
- 230000004224 protection Effects 0.000 description 3
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 3
- HJIAMFHSAAEUKR-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxyphenyl)-phenylmethanone Chemical class OC1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HJIAMFHSAAEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FJGQBLRYBUAASW-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)phenol Chemical class OC1=CC=CC=C1N1N=C2C=CC=CC2=N1 FJGQBLRYBUAASW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910004013 NO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 2
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 description 2
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 2
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCPKSFINULVDNX-UHFFFAOYSA-N drometrizole Chemical compound CC1=CC=C(O)C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1 MCPKSFINULVDNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 2
- FMJSMJQBSVNSBF-UHFFFAOYSA-N octocrylene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=C(C#N)C(=O)OCC(CC)CCCC)C1=CC=CC=C1 FMJSMJQBSVNSBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZQBAKBUEJOMQEX-UHFFFAOYSA-N phenyl salicylate Chemical compound OC1=CC=CC=C1C(=O)OC1=CC=CC=C1 ZQBAKBUEJOMQEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 2
- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 2
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 2
- 239000006100 radiation absorber Substances 0.000 description 2
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006748 scratching Methods 0.000 description 2
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 2
- 239000011343 solid material Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 2
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- ARVUDIQYNJVQIW-UHFFFAOYSA-N (4-dodecoxy-2-hydroxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound OC1=CC(OCCCCCCCCCCCC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 ARVUDIQYNJVQIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FCTDKZOUZXYHNA-UHFFFAOYSA-N 1,4-dioxane-2,2-diol Chemical compound OC1(O)COCCO1 FCTDKZOUZXYHNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMOMTEHUJCJFLP-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethyl-6-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-1-ylmethyl)-7-oxabicyclo[4.1.0]heptane-3-carboxylic acid Chemical compound CC1(C(CCC2(C1O2)CC34CCCCC3O4)C(=O)O)C CMOMTEHUJCJFLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSQMYKVADMPANK-UHFFFAOYSA-N 2-(1,3-benzothiazol-2-yl)-4,6-bis(2-methylbutan-2-yl)phenol Chemical compound CCC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)CC)=CC(C=2SC3=CC=CC=C3N=2)=C1O YSQMYKVADMPANK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMWRRFHBXARRRT-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4,6-bis(2-methylbutan-2-yl)phenol Chemical compound CCC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)CC)=CC(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1O ZMWRRFHBXARRRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SEFYJVFBMNOLBK-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)ethoxy]ethoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCOCCOCC1CO1 SEFYJVFBMNOLBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTYYGFLRBWMFRY-UHFFFAOYSA-N 2-[6-(oxiran-2-ylmethoxy)hexoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCCCCCOCC1CO1 WTYYGFLRBWMFRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NMAGCVWUISAHAP-UHFFFAOYSA-N 3,5-ditert-butyl-2-(2,4-ditert-butylphenyl)-4-hydroxybenzoic acid Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1C1=C(C(O)=O)C=C(C(C)(C)C)C(O)=C1C(C)(C)C NMAGCVWUISAHAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004800 4-bromophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1Br 0.000 description 1
- RMYZHELMRHWMEW-UHFFFAOYSA-N 7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-ylmethyl 6-oxabicyclo[3.1.1]heptane-4-carboxylate Chemical compound C1CC2OC2CC1COC(=O)C1CCC2OC1C2 RMYZHELMRHWMEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YXALYBMHAYZKAP-UHFFFAOYSA-N 7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-ylmethyl 7-oxabicyclo[4.1.0]heptane-4-carboxylate Chemical compound C1CC2OC2CC1C(=O)OCC1CC2OC2CC1 YXALYBMHAYZKAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229910021630 Antimony pentafluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 101100097467 Arabidopsis thaliana SYD gene Proteins 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UIQMVEYFGZJHCZ-SSTWWWIQSA-N Nalorphine Chemical compound C([C@@H](N(CC1)CC=C)[C@@H]2C=C[C@@H]3O)C4=CC=C(O)C5=C4[C@@]21[C@H]3O5 UIQMVEYFGZJHCZ-SSTWWWIQSA-N 0.000 description 1
- 229910002661 O–Ti–O Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002655 O−Ti−O Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- 101100495925 Schizosaccharomyces pombe (strain 972 / ATCC 24843) chr3 gene Proteins 0.000 description 1
- 229910021627 Tin(IV) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- UMILHIMHKXVDGH-UHFFFAOYSA-N Triethylene glycol diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCCOCCOCCOCC1CO1 UMILHIMHKXVDGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004904 UV filter Substances 0.000 description 1
- 230000006750 UV protection Effects 0.000 description 1
- 229920002433 Vinyl chloride-vinyl acetate copolymer Polymers 0.000 description 1
- IIHJDDQNGRKRIC-UHFFFAOYSA-N [4-(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)phenyl] 2-hydroxybenzoate Chemical compound C1=CC(C(C)(C)CC(C)(C)C)=CC=C1OC(=O)C1=CC=CC=C1O IIHJDDQNGRKRIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XAKBSHICSHRJCL-UHFFFAOYSA-N [CH2]C(=O)C1=CC=CC=C1 Chemical group [CH2]C(=O)C1=CC=CC=C1 XAKBSHICSHRJCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- IYABWNGZIDDRAK-UHFFFAOYSA-N allene Chemical group C=C=C IYABWNGZIDDRAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001361 allenes Chemical class 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical group 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VBVBHWZYQGJZLR-UHFFFAOYSA-I antimony pentafluoride Chemical compound F[Sb](F)(F)(F)F VBVBHWZYQGJZLR-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- 229940045720 antineoplastic alkylating drug epoxides Drugs 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001558 benzoic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 1
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- GTZJMIWDRJQUHG-UHFFFAOYSA-N bis(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-ylmethyl) butanedioate Chemical compound C1CC2OC2CC1COC(=O)CCC(=O)OCC1CC2OC2CC1 GTZJMIWDRJQUHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMMDJMWIHPEQSJ-UHFFFAOYSA-N bis[(3-methyl-7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)methyl] hexanedioate Chemical compound C1C2OC2CC(C)C1COC(=O)CCCCC(=O)OCC1CC2OC2CC1C LMMDJMWIHPEQSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000002775 capsule Substances 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 1
- 101150054130 chfr gene Proteins 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 239000013068 control sample Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- ZWAJLVLEBYIOTI-UHFFFAOYSA-N cyclohexene oxide Chemical group C1CCCC2OC21 ZWAJLVLEBYIOTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004956 cyclohexylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004979 cyclopentylene group Chemical group 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- JMFYZMAVUHNCPW-UHFFFAOYSA-N dimethyl 2-[(4-methoxyphenyl)methylidene]propanedioate Chemical compound COC(=O)C(C(=O)OC)=CC1=CC=C(OC)C=C1 JMFYZMAVUHNCPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZLBDYMWFAHSOQ-UHFFFAOYSA-N diphenyliodanium Chemical compound C=1C=CC=CC=1[I+]C1=CC=CC=C1 OZLBDYMWFAHSOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- IAJNXBNRYMEYAZ-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-cyano-3,3-diphenylprop-2-enoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=C(C#N)C(=O)OCC)C1=CC=CC=C1 IAJNXBNRYMEYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229960005237 etoglucid Drugs 0.000 description 1
- 239000007888 film coating Substances 0.000 description 1
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 1
- 125000006162 fluoroaliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002485 formyl group Chemical group [H]C(*)=O 0.000 description 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical class I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003701 inert diluent Substances 0.000 description 1
- 239000002198 insoluble material Substances 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- MGFYSGNNHQQTJW-UHFFFAOYSA-N iodonium Chemical compound [IH2+] MGFYSGNNHQQTJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- ZDGGJQMSELMHLK-UHFFFAOYSA-N m-Trifluoromethylhippuric acid Chemical compound OC(=O)CNC(=O)C1=CC=CC(C(F)(F)F)=C1 ZDGGJQMSELMHLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000325 methylidene group Chemical group [H]C([H])=* 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- QUAMTGJKVDWJEQ-UHFFFAOYSA-N octabenzone Chemical compound OC1=CC(OCCCCCCCC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 QUAMTGJKVDWJEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004010 onium ions Chemical class 0.000 description 1
- DXGLGDHPHMLXJC-UHFFFAOYSA-N oxybenzone Chemical compound OC1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 DXGLGDHPHMLXJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 1
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 1
- 229960000969 phenyl salicylate Drugs 0.000 description 1
- 125000003884 phenylalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 1
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O phosphonium Chemical compound [PH4+] XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 239000002952 polymeric resin Substances 0.000 description 1
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 230000037452 priming Effects 0.000 description 1
- 125000001501 propionyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004309 pyranyl group Chemical group O1C(C=CC=C1)* 0.000 description 1
- 125000003226 pyrazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- GDESWOTWNNGOMW-UHFFFAOYSA-N resorcinol monobenzoate Chemical compound OC1=CC=CC(OC(=O)C=2C=CC=CC=2)=C1 GDESWOTWNNGOMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 description 1
- 125000005373 siloxane group Chemical group [SiH2](O*)* 0.000 description 1
- ORFSSYGWXNGVFB-UHFFFAOYSA-N sodium 4-amino-6-[[4-[4-[(8-amino-1-hydroxy-5,7-disulfonaphthalen-2-yl)diazenyl]-3-methoxyphenyl]-2-methoxyphenyl]diazenyl]-5-hydroxynaphthalene-1,3-disulfonic acid Chemical compound COC1=C(C=CC(=C1)C2=CC(=C(C=C2)N=NC3=C(C4=C(C=C3)C(=CC(=C4N)S(=O)(=O)O)S(=O)(=O)O)O)OC)N=NC5=C(C6=C(C=C5)C(=CC(=C6N)S(=O)(=O)O)S(=O)(=O)O)O.[Na+] ORFSSYGWXNGVFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-L succinate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)CCC([O-])=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 1
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O sulfonium Chemical compound [SH3+] RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 1
- 229920001059 synthetic polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001897 terpolymer Polymers 0.000 description 1
- NZTZKHGFJXUQOA-UHFFFAOYSA-N tetrakis(4-chlorophenyl)phosphanium Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1[P+](C=1C=CC(Cl)=CC=1)(C=1C=CC(Cl)=CC=1)C1=CC=C(Cl)C=C1 NZTZKHGFJXUQOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J tin(iv) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 125000005409 triarylsulfonium group Chemical group 0.000 description 1
- ARUIMKUOHIINGI-UHFFFAOYSA-N trifluoro(methylsulfonyl)methane Chemical compound CS(=O)(=O)C(F)(F)F ARUIMKUOHIINGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZTKXNSPQZIUDX-UHFFFAOYSA-N trifluoromethylsulfonylmethylbenzene Chemical compound FC(F)(F)S(=O)(=O)CC1=CC=CC=C1 AZTKXNSPQZIUDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940113165 trimethylolpropane Drugs 0.000 description 1
- WLOQLWBIJZDHET-UHFFFAOYSA-N triphenylsulfonium Chemical compound C1=CC=CC=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 WLOQLWBIJZDHET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012953 triphenylsulfonium Substances 0.000 description 1
- 239000004034 viscosity adjusting agent Substances 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 239000003039 volatile agent Substances 0.000 description 1
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/76—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
- G03C1/7614—Cover layers; Backing layers; Base or auxiliary layers characterised by means for lubricating, for rendering anti-abrasive or for preventing adhesion
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
- C08G59/14—Polycondensates modified by chemical after-treatment
- C08G59/1433—Polycondensates modified by chemical after-treatment with organic low-molecular-weight compounds
- C08G59/1438—Polycondensates modified by chemical after-treatment with organic low-molecular-weight compounds containing oxygen
- C08G59/145—Compounds containing one epoxy group
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
- C08G59/18—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
- C08G59/68—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the catalysts used
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/04—Oxygen-containing compounds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C11/00—Auxiliary processes in photography
- G03C11/08—Varnishing, e.g. application of protective layers on finished photographic prints
- G03C11/10—Varnishing, e.g. application of protective layers on finished photographic prints for protection from ultraviolet light
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Emergency Medicine (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Description
-7803389-1 10 15 20 25 30 035 2 Fastän UV-absorptionsmedel kan tillsättas till nötningsbe- ständiga beläggningar enligt vad som anges i de ovannämnda _ ansökningarna kan endast begränsade koncentrationer av UV-absorptionsmedel lätt kvarhållas i de allmänt-beskriv- na beläggningarna enligt dessa uppfinningar. De koncen- I trationer, som kan användas ger endast begränsat skydd mot UV-strålning. Större koncentrationer leder till "utslag" på beläggningarna och ett vitt, dimmigt utseen- de i filmen, vilket framkallas genom att absorptionsmed- len inom filmbeläggningen eller på beläggningens yta ut- fälles. Detta utslag visar sig i kompositionerna oberoen-_ de av använd katalysator oavsett man använder högfluore- rade alifatiska sulfonyliska eller sulfoniska katalysa- torer enligt US-PS 4 049 861, oniumkatalysatorer enligt US-PA 764 817, metallesterkatalysatorer enligt AU-PS 483 792 eller Lewis-syrakatalysatorer enligt US-PS 3 955 035. ' 0 * Föreliggande uppfinning avser en beläggning, som är nötningsbeständig och beständig mot utslag för använd- ning på underlag, som kan skadas av UV-strålning, nöt- ning och/eller nedsmutsning. Nötningsbeständiga belägg- ningar från epoxiterminerade silaner användes enligt upp- finningen i kombination med absorptionsmedel för UV- strålning. " Enligt föreliggande uppfinning sampolymeriseras epoxiterminerade silaner med alifatiska, polyepoxima- terial för bildning av nötningsbeständiga beläggningar, som kan kvarhålla tillräckligt höga koncentrationer av absorptionsmedel för UV-strålning inom den härdade sam- polymeren för att man skall få en verksamt UV-absor- berande, nötningsbeständig och smutsbeständig beläggning med betydande beständighet mot utslag. Den epoxitermine- rade silanen innefattar 30-90 vikt% av det reaktionsbe- nägna material, som bildar den färdiga kompositionen, det alifatiska polyepoximaterialet innefattar 10-70 vikt% av det reaktionsbenägna materialet, och 0-20 vikt% av andra sampolymeriserbara material kan ingå såsom reak- 10 15 20 25 30 35 7803389-1 3 tionsbenägna material. Man föredrar att ha 50-80% epoxi- terminerad silan, 10-50% polyepoximaterial och 0-10% sam- monomerer. De material, som absorberar UV-strålning, 0Ch SOm ej inbegrmflrs i beskrivningen av de reaktionsbenägna ma- terialen (men vissa kan vara reaktionsbenägna under sam- polymerisationen och alltjämt ge absorption av UV-strâl- ning) måste föreligga i en mängd som räcker för att ab- sorbera minst 90% av all strålning mellan 290-400 nm och släppa igenom åtminstone 90% av all strålning mellan 400 och 780 nm och ej mindre än 75% transmissivitet inom varje 50 nm-område mellan 400 och 780 nm. Företrädesvis föreligger ej mindre än 90 % transmissivitet över varje 100 nm-omrâde mellan 400 och 780 nm. Vilket som helst av de beskrivna katalysatorsystemen för härdning av epoxiterminerade silaner till nötningsbeständiga belägg- ningar kan användas enligt uppfinningen. De föredragna katalysatorsystemen utgöres av högfluorerade alifatiska sulfonylkatalysatorer enligt US-PS 4 049 861 och onium- _ katalysatorer enligt US-PA 764 817. I Tjockleken hos beläggningen enligt uppfinningen kan variera mellan 0,5 och 500 um, varvid man föredrar tjock- lekar mellan 0,5 och 50 um. Den lämpligaste filmtjock- leken ligger mellan 1,0 och 20 um.
Epoxiterminerade silaner är föreningar eller mate- rial med polymeriserbara (företrädesvis terminala) epoxi- grupper och terminala, polymeriserbara silangrupper, var- vid bryggan mellan dessa grupper utgöres av en icke hy- drolyserbar alifatisk, aromatisk eller blandad alifatisk- aromatisk tvåvärd kolvätegrupp, som kan ha N och/eller 0- atomer i gruppkedjan. Man föredrar kedjor utan N-atomer och särskilt föredrar man att ha O-atomer endast intill epoxigruppen. O-atomerna skulle exempelvis kunna före- ligga i kedjan endast såsom eterbindningar. Dessa grupp- kedjor kan vanligen vara substituerade på känt sätt ef- tersom substituenter på kedjan ej i någon större ut- sträckning påverkar de epoxiterminerade silanernas funk- tionella förmåga att genomgå de väsentliga reaktioner, 1803389-1 10 15 20 25 30 4 som är nödvändiga för polymerisation via siloxangrupper eller epoxiterminala grupper. Exempel på substituenter, som kan finnas på den förbindande eller den bryggbildan- de komponenten är sådana grupper som N02, alkyl (t ex CH3(CH2)nCH2), alkoxi (t ex metoxi), halogen etc. I den allmänna strukturformel, som ges i beskrivningen till föreliggande uppfinning, inbegripes sådan tillåten sub- stitution på de bryggbildande komponenterna såvida detta ej särskilt uteslutits med språkliga medel såsom “osub- stituerad tvåvärd kolvätegrupp". _ Exempel på föredragna epoxiterminerade silaner, som kan användas enligt uppfinningen, är_föreningar med de allmänna formlerna o / \ _ i o 0112 _ cflénèn s1(oR")m och Ü 419m s1(oR')m H-m N-m vari R.= en icke hydrolyserbar tvåvärd kolvätegrupp (alifatisk, aromatisk eller blandad alifatisk-aroma- tisk) med mindre än 20 kolatomer eller en tvåvärd grupp med mindre än 20 kolatomer sammansatt av C-, N-, S- och O-atomer (dessa atomer är de enda atomer, som bör före- komma i de tvåvärda gruppernas skelett), varvid syret föreligger i form av eterbindningar. Det är lämpligt att inga N-atomer förekommer. Två heteroatomer bör ej 1igga« intill varandra inom den tvåvärda kolvätegruppens ske- lett. Denna beskrivning definierar tvåvärda kolväte- grupper för epoxiterminerade siloxaner enligt uppfin- ningen. " En lämpligare formel för de epoxiterminerade sila- I o .och _ Ü-nz-sflonlh vari R2 betecknar en icke hydrolyserbar tvåvärd kolväte- grupp med färre än 20 kolatomer eller en tvåvärd grupp -nerna är O 2 1 C112 - cHfR -si-(OR )3 7803389-1 5 med färre än 20 kolatomer i det skelett, som är samman- satt av endast C-, N-, S- och 0~atomer, varvid två hete- roatomer ej skall ligga intill varandra, och Rl betecknar en alifatisk kolvätegrupp eller en acylgrupp med färre 5 än 10 kolatomer.
I de kompositioner, som användes enligt uppfinning- en, kan epoxisilanen ha den angivna formeln, vari n betecknar 0-l, R betecknar någon tvâvärd kolväte- gruPP, såsom metylen, etylen, dekalen, fenylen, cyklo- l0 hexylen, cyklopentylen, metylcyklohexylen, 2-etylbutylen och allen, eller en etergínpp, såsom -CHZ-CHZ-O-CHZ-CHZ, -fcnz-cnzoß-cnz-cnf, -kj-o-cnz-cnz- och -cazo-(cnzß- R kan utgöras av en alifatisk kolvätegrupp med färre än 10 kolatomer, såsom metyl, etyl, isopropyl, butyl, vinyl, 15 alkyl eller någon acylgrupp med färre än l0 kolatomer, såsom formyl, acetyl, propionyl eller någon grupp med formeln (CH2CH2O)kZ, vari k betecknar ett heltal på minst 1, och Z betecknar väte.
De mest föredragna epoxiterminerade silanerna är 20 de som åskådliggöres med formeln: ' CH2\g/CH-(CH2)m~O-(CH2)n-Si(OR)3 och 0 Û- (cnz )m-0- (GHz )n-§1 (0R)3 vari R betecknar en alkylgrupp med upp till 6 kolatomer 25 och m och n betecknar oberoende av varandra 1-6.
Kompositionerna kan dessutom innehålla tillsatser såsom ytaktiva medel, viskositetsmodifierande medel, tillsatser, som bidrar till spridning, färgämnen etc.
Dessa kan blandas med andra epoxiterminerade silaner och 30 sammonomerer för inställning av den färdiga beläggningens fysikaliska egenskaper. Sammonomerer är sådana material, __~,._............___..._._....__.._...._. _. _. 7803389-1 10 15 20 25 30 35 . ....._._ _.. _... 6 som man inom detta område vet kan sampolymeriseras med epoxigrupper eller silangrupper, och de inbegriper epoxi- föreningar och silaner. : Katalysatorerna enligt uppfinningen användes vanligen i mängder från 0,01-10 vikt% av de reaktionsbenägna be- ståndsdelarna i den härdbara kompositionen. Företrädes- vis användes från 0,5-5 vikt%, varvid mängden varierar med den särskilda katalysator, som användes. De lämpli- gaste katalysatorerna enligt uppfinningen utgöres av högfluorerade alifatiska sulfonylkatalysatorer och onium- katalysatorer. De besläktade högfluorerade alifatiska sulfonkatalysatorerna är mycket användbara liksom vissa Lewis-svror och Brönsted-syror men de är ej lika lämp- liga. Sulfonmaterialen definieras såsom högfluorerade alifatiska sulfonsyror eller salter därav. Fluoroali- fatiska sulfonsyror, -metaner och -imider samt fram- ställningen därav beskrives i US-PS 4 049 86l@ Sulfonyl- materialen definieras såsom föreningar innehållande två högfluorerade alifatiska sulfonylgrupper bundna direkt till en imid- eller metylen (t ex -NR'- eller -ëR'R"-). Sulfonmaterialen kan åskådliggöras med for- meln ' (Rfso3)nR vari R betecknar väte, en ammoniumkatjon eller en metall- katjon och n har R:s valens.
De föredragna sulfonylkatalysatorerna kan åskådlig- göras med formeln (RfSO2)-Q-(SO2R'f) vari Q betecknar en tvåvärd grupp, som utgöres av -NR, _ I -CR'R" eller -C=CHR3 jaa; Rfsof, aíkenyl med 3-4 kolatømer, alkyl med 1-20 kolatomer (företrädesvis l-4), aryl med l-20 kolatomer (företrädesvis till 10, t ex fenyl, naftyl, pyridyl, benzthienyl etc) eller alkaryl_med 7-20 kolatomer I -(företrädesvis till 10), R' betecknar väte, klor, brom, .vari R" ut öres av väte, klor, brom, q 10 15 20 25 30 35 7803389-1 7 jod, ammoniumkatjoner eller metallkatjoner och R be- tecknar H, alkenyl (3-Å) kolatomer eller aryl med upp till 20 kolatomer. _ j De katalysatorer, vari den N- eller C-atom, som är bunden till den högfluorerade alifatiska (företrädesvis alkyl-) gruppen,har en väteatom bunden därtill är aktiva kataly- 3 satorer. Sådana som saknar väteatom är latenta och kan aktiveras med värme, syra, kelateringsmedel eller kombi- nationer därav på_känt sätt.
Rf och R'f betecknar oberoende hÖgfluorerade_ alifatiska grupper, som definieras såsom fluorerade, mättade, envärda, alifatiska grupper med l-20 kolatomer.
Gruppens kedjeskelett kan vara rakt, grenat eller om det är tillräckligt stort (t ex minst 3 eller 5 atomerl cykloalifatiskt och det kan vara avbrutet genom tvåvärda syreatomer eller trevärda kväveatomer, som endast är bund- na till kolatomer. Företrädesvis innehåller den fluore- rade alifatiska gruppens kedja ej mer än en heteroatom, dvs kväve eller syre, per två kolatomer i kedjeskelet- tet. En fullständigt fluorerad grupp föredrages men väte eller kloratomer kan finnas närvarande såsom substituen- ter i den fluorerade alifatiska gruppen under förutsätt- ning att ej mer än en atom av vardera slaget finns när- _ varande i gruppen för varje kolatom. Företrädesvis ut- göres den fluoroalifatiska gruppen av en mättad perfluoro- alkylgrupp med ett kedjeskelett, som är rakt eller grenat och har formeln CcF2x+l vari x betecknar 1-18.
De aktiva sulfonylkatalysatorer, som särskilt före- drages enligt uppfinningen, är föreningar med formeln vari Rf och R'f oberoende betecknar en högfluorerad alkyl- grupp och Q betecknar en tvåvärd grupp, som utgöres av -NH- eller -CHR-, vari R betecknar Br, Cl, I, H, alkyl- 10 15 20 25 30 35 'o,7sos3s9-1 8 r o grupper med l-20 kolatomer (företrädesvis l-4), alkenyl med 3-4 kolatomer, aryl eller aralkyl med upp till 20 kol-- atomer (företrädesvis upp till 10) eller R'X, vari R' be- tecknar en alkylengrupp med upp till 20 kolatomer (före- trädesvis l-4) och X betecknar H, Br, Cl, I, -02SR , -cH(o2sRf)2, -cH-(cnæn-coolfl, eller -cY(cooR2)2 Br vari R4 betecknar H eller alkyl med 1-8 kolatomer och n betecknar 0-8, och vari R? betecknar alkyl med l-4 kol- atomer eller fenylalkyl, vari alkylgruppen har l-4 kol- atomer, och Y betecknar H, Br, Cl, I eller N02.
Ammoniumkatjonen enligt uppfinningen kan definieras såsom katjoner av ammoniak, av primära, sekundära, tertiä- ra och kvaternära aminer. Alkyl, aryl, alkaryl, etc en- ligt föreliggande uppfinning (exkl grupper av Rf-typ som definieras på annan plats) inbegriper sådana enkla sub- stituerade grupper som man inom detta område vet är funk- -CH2CH2CH2Cl,.-S03-<::>).
Valet av den lämpligaste perfluoroalkylsulfonylmetan- tionella gruppekvivalenter (t ex katalysatorn beror på de speciella monomerkompositioner, vari katalysatorn skall användas och den tillämpning, för vilken kompositionen är avsedd.
Man föredrar ofta att förutom fluoroalkylsulfonyl- protonsyrakatalysatorerna tillsätta från ca 0,01-5%, företrädesvis ca 0,1-2%, av en andra siloxanhydrolys- och kondensationskatalysator, fastän användningen av dessa föreningar ej är nödvändig i kompositionerna enligt upp- finningen för att åstadkomma härdning-av beläggningar av kompositionen. Såsom belyses genom exemplen ger vissa sådana katalysatorkombinationer synergistiska effekter, varigenom man får en ökad härdningshastighet jämfört med den hastighet, som kan fås med fluoroalkylsulfonylproton- syrakatalysatorn ensam. Sådana siloxanhydrolys- och kon- densationskatalysatorer är välkända och beskrives till en del i US-PS 4 049 861.
De metallesterkatalysatorer, som användes enligt upp- finningen, utgöres av metallestrar av aluminium, titan 10 15 20 25 30 35 7803389-1 _ 9 eller zirkonium med minst två estergrupper med formeln -OR direkt bundna till metallen, vari R betecknar en hy- drokarbylgrupp med l-18 kolatomer, företrädesvis alkyl eller acyl med 1-8 kolatomer. De kvarvarande metallva- lenserna kan tillgodoses med organiska komponenter, oorganiska komponenter, komplexbildande medel eller t o m återkommande -O-Ti-O-grupper etc (om kvarvarande valenser ej tillgodoses genom OR-grupper,användes företrädesvis halogenider eller alkylgrupper). Så länge som två av estergrupperna finns närvarande kan metallestern reagera till den färdiga polymera strukturen och katalysera reak- tionen för bildning av en nötningsbeständig beläggning.
Vanligen föredrages att samtliga metallvalenser till- godoses genom estergrupper, men andra grupper kan finnas närvarande så länge som minst två estergrupper finns när- varande. Föreningar med formeln R'nM(oR) mm är därför användbara, dåaR har angiven betydelse, m be- tecknar M:S valens och n betecknar 0, l eller 2 så att m-n alltid är minst 2, och R' betecknar en organisk eller oorganisk komponent bunden till M eller ett kom- plexbíldande medel, som tillgodoser M:s valensbehov.
Föreningar med formeln M(OR)m föredrages vanligen på grund av tillgång och allmänt goda egenskaper. M betecknar metall, företrädesvis titan, aluminium eller zirkonium.
Det är kritiskt att metallestern ej hydrolyseras fullständigt eller hydrolyseras till ett stadium där mindre än två estergrupper per titanatom föreligger på metallestern. Om metallestern hydrolyseras på detta sätt kommer den ambifunktionella silanen och metallestern att samutfällas till ett olösligt material eftersom de reak- tionsbenägna platserna för silanen på estern har avlägs- nats.
V. _l..,__.._.....~.. __... _ w7.803389-1 10 15 10 De oniumkatalysatorer, som föredrages enligt uppfin- ningen, utgöres av aromatiska, organiska addukter av en aromatisk organoatomisk katjon ur grupp Va, VIa eller VIIa, särskilt fosfor-, antimon-, svavel-, kväve- eller jodatomer, och en anjon. Då dessa oniumkatalysatorer be- 'skrives kommer av bekvämlighetsskäl den atom ur grupp Va, VIa eller VIIa, som ger adduktens huvudbenämning (dvs fosfor i fosfonium, svavel i sulfonium, jod i jodonium etc) att kallas den nominativa atomen. Aromater, som an- vändes vid beskrivning av de grupper på oniumkatalysa- torer, som användes i föreliggande uppfinning, avser en aromatisk eller heterocyklisk ring (fenyl, naftyl, 6- eller 7-1edaa neterocykel sammansatt av endast C-, N-, S-, O- och Se- substituerade eller osubstituerad 5-, atomer med högst en atom i ringen vald bland S-, 0- eller ' Se-atomer), varvid ringen är så bunden till den nomina- 20 tiva atomen att den är åtminstone lika elektronbort- dragande som bensen. Exempelvis är fenacyl O 0 -ë-CH2- en lämplig aromatisk grupp (då den är åt- minstone lika elektronbortdragande som bensen), men bensyl <šâ>-CH2- är ej lika lämplig på grund av denna förenings instabilitet, vilken negativt påverkar lag- _ ringsstabiliteten. Representativa aromatiska ringar är 25 30 fenyl, naftyl, tienyl, pyranyl, furanyl och pyrazolyl, vilka ringar eventuellt kan vara substituerade.
En beskrivande formel för oniumkatalysatorerna en- ligt uppfinningen är (mn - 13+ X- (H15 vari R betecknar en aromatisk grupp, som är minst lika elektronbortdragande som bensen, Rl betecknar R eller alkyl (rak, grenad, cyklisk eller substituerad) eller alkenyl med l-18 kolatomer, n betecknar ett positivt hel~_ tal på minst l (företrädesvis 2) upp till A:s valens plus ett, a betecknar 0 eller ett positivt heltal upp till 10 15 20 25 30 35 78033894 ll A:s valens ( företrädesvis A minus l), n plus a är lika med A:s valens plus ett, A betecknar en atom Ur. grupp Va, VIa eller Vlla, och X betecknar en anjon, varvid, då A betecknar halogen, n betecknar minst 2.
Dessa oniummaterial är tidigare kända. Exempelvis vi- sar de belgiska patentskrifterna 833 472, 828 668, 828 669 och 828 670 användningen av vissa oniumföreningar såsom katjoniska polymerisationskatalysatorer för vissa monomerer. _ Andra organogrupper, som är bundna till den nominati~ va atomen ur grupp Va eller VIa,kan utgöras av samma aroma- tiska. grupp eller en substituerad eller osubstituerad alkyl-eller cykloalkylgrupp. De organiska grupperna har upp till 4 kolatomer, R' betecknar en alkylgrupp med upp- till 6 kolatomer och u betecknar 0 eller l.
Närvaron av katalytiska mängder fukt har visat sig vara nödvändig för att initiera kondensationen av sila- ner med dessa katalysatorer. Atmosfärisk fukt är van- ligen tillräcklig men vatten kan tillsättas till syste- met om så önskat eller om polymerisation erfordras i från- varo av luft för något särskilt ändamål.
Exempel på lämpliga oniumsalter är, men begränsas ej till: A. Oniumsalter med katjon ur grupp Va i periodiska systemet 4-acetofenyltrifenylammoniumklorid difenylmetylammoniumtetrafluoroborat \ tetra(4-klorofenyl)fosfoniumjodid tetrafenylfosfoniumjodid tetrafenylfosfoniumhexafluorofosfat (4-bromofenyl)trifenylfosfoniumhexafluorofosfat tetrafenylarsoniumtetrafluoroborat tetrafenylbismoniumklorid di-(l-naftyl)dimetylammoniumtetrafluoroborat tri-(3-tienyl)metylammoniumtetrafluoroborat difenyacyldimetylammoniumhexafluorofosfat 7805389-1 10 '15 20 25 30 35 12 Exempel på dessa och andra oniumsalter och deras framställning beskrives i den belgiska patentskriften 828 668.
B.
Oniumsalter med katjon ur grupp VIa i periodiska systemet I _ trifenylsulfoniumhexafluoroantimonat 4-klorofenyldifenylsulfoniumtetrafluoroborat trifenylsulfoniumjodid 4-cyanofenyldifenylsulfoniumjodid trifenylsulfoniumsulfat ' 2-nitrifenylfenylmetylsulfoniumsulfat trifenylsulfoniumacetat trifenylsulfoniumtrikloracetat trifenylteluroniumpentaklorovismutat trifenylselenoniumhexafluoroantimonat Exempel på dessa och andra oniumsalter med en kat- jon ur grupp VIa ur det periodiska systemet och fram- ställningen därav ges i de belgiska patentskrifterna 828 670 och 833 472 samt den amerikanska patentansök- ningen Serial No 609 897.
C.
Oniumsalter med katjon ur grupp VIIa i periodiska systemet difenyljodoniumjodid 4-klorofenylfenyljodoniumjodid difenyljodoniumklorid ' 4-trifluorometylfenylfenyljodoniumtetrafluoroborat difenyljodoniumsulfat di(A-metoxifenyl)jodoniumklorid difenyljodoniumtrikloroacetat 4-metylfenylfenyljodoniumtetrafluoroborat aifenylbromofiiumklorid 1-(2-karboetoxinaftyl)fenyljodoniumklorid 2,2'-difenyljodoniumhexafluorofosfat I Exempel på dessa och andra haloniumsalter och fram- ställningen därav beskrives i de belgiska patentskrif- terna 828 669 och 845 746. 10 15 20 25 30 7803389-1 13 Kompositionerna enligt uppfinningen kan framställas genom att man blandar oniumsaltet med den epoxiterminera- de silankompositionen tills en lösning bildats. Eftersom många av oniumsalterna har begränsad löslighet i den ki- selhaltiga föreningen föredrar man ofta att först lösa oniumsaltet i ett flytande spädningsmedel, som är inert i förhållande till kompositionens komponenter och sedan blanda i denna lösning i den reaktionsbenägna kompositio- nen. Lämpliga inerta spädningsmedel är alkoholer, såsom etanol, estrar, såsom etylacetat, etrar, såsom dietyl- eter, halogenkolväten, såsom dikloretan, och nitriler, såsom acetonitril. Av hållbarhetsskäl måste dessa lös- ningsmedel och lösningar vara vattenfria.
De aromatiska jodoniumsalterna har formlerna êrl\\ Ari (mb/I Ga Q 6 Arz Ar2 ._- vari Arl och Arz betecknar aromatiska grupper med 4-20 kolatomer och dessa utgöres av fenyl-, naftyl-, tienyl-, furanyl- och pyraxolyl-grupper, W betecknar Ö, š, š=O, å=O, =š=O och/eller Rll-å, vari Rll betecknar aryl med å-20 koiatomer eller acyl'med 2-20 kolatomer (såsom fenyl, acyl, bensoyl, etc), en kol-till-kolbindning eller RI2-C-RI3, vari Rlz och Rl3 kylgrupper med l-4 kolatomer och/eller alkenylgrupper med 2-4 kolatomer, b betecknar noll eller l, och Q be- tecknar en halogenhaltig komplex anjon, som utgöres av tetrafluorborat, hexafluorfosfat, hexafluorarsenat, hexaklorantimonat eller hexafluorantimonat, en fluoro- alifatisk sulfonsyra, bis-(fluoroalifatisk sulfonyl)metan eller bis(fluoroalifatisk sulfonyl)imid.
Föredragna föreningar i denna grupp är sådana, vari n=0. Andra föredragna material är sådana, vari Arl och :ego betecknar väte, al- Ar2 betecknar fenyl. 1soszs9¿1 10 15 20 25 30 14 De aromatiska sulfoniumsalterna har formlerna: Arl _ _ ' Ar]- (m/ ~ Aíf 1 S C) ¿¿C) och Ar§___? C) (2() I Rl Rl vari Arl och Ar2 kan vara lika eller olika och utgöras av aromater (såsom definierats tidigare för de aromatis- ka jodoniumsalterna) och R;, W och Q har tidigare angiven betydelse. Föredragna föreningar inom denna klass är de, vari Arz och Rl betecknar fenyl.
Lämpliga exempel på föredragna aromatiska onium- saltfotokatalysatorer är: difenyljodoniumtetrafluorborat *difenyljodoniumhexafluorfosfat difenyljodoniumhexafluorarsenat difenyljodoniumhexaklorantimonat difenyljodoniumhexafluorantimonat difenyljodoniumbis(trifluormetylsulfonyl)-metan Andra lämpliga föredragna aromatiska oniumsaltfoto- katalysatorer är motsvarande trifenylsulfoniumsalter.
Ytterligare andra föredragna s later uppräknas i den belgiska patentskriften 845 746 och innefattar triaryl- sulfoniumhexafluorofosfat, tritolylsulfoniumhexafluoro- fosfat, metyldifenylsulfoniumtetrafluorborat etc.
De aromatiska oniumsaltfotokatalysatorer, som kan användas i de fotopolymeriserbara kompositionerna enligt uppfinningen, är i sig fotosensitiva endast inom UV-om- rådet. De är latenta katalysatorer, som måste blandas med reaktanterna och sedan aktiveras genom strålning.
De kan vidare göras ljuskänsliga för den synliga delen av spektrum liksom för den del av UV-området, som ligger nära den synliga delen av spektrum med sensibiliserings- medel för kända fotolyserbara jodoniumföreningar enligt vad som framgår av US-PS 3 729 313; Polyepoxiföreningarna enligt uppfinningen har for- meln 10 15 20 25 30 7803389-1 15 O MC/ÅCH) n a b vari R betecknar en alifatisk eller cykloalifatisk grupp av sådant slag att epoxiföreningen har en molekylvikt på minst 100 per epoxigrupp för att hindra utslag. Särskilt föredrar man att föreningen har en molekylvikt på minst 150 per epoxigrupp för att ge betydande flexibilitete- förbättring. Alifatisk och cykloalifatisk syftar på kol- väten, som också kan ha eter- och estersyreñ och tio- etergrupper. n betecknar R:s valens och är ett heltal på 2-6 (företrädesvis 2). a och b betecknar H eller, då de är kondenserade, bildar atomerna nödvändigtvis en 5- eller 6-ledad cykloalifatisk ring. R väljes företrä- desvis så att den flexibiliserande epoxiföreningen vid homopolymerisation ger en polymer med en övergångstempe- ratur eller glastemperatur (Tg) under -25°C.
Användbara polyepoxider, som också är flexibilise- rande epoxiföreningar inom denna definition inbegriper, vidare sådana, som innehåller en eller flera cyklohexen- oxidgrupper, såsom epoxicyklohexankarboxylater, som kan exemplifieras med 3,4-epoxicyklohexylmetyl-2,4-epoxi- cyklohexankarboxylat, 3,4-epoxi-2-metylcyklohexylmetyl- 3,4-epoxi-2-metylcyklohexan-karboxylat och bis(3,4- -epoxi-6-metylcyklohexylmetyl)adipat. En mera detaljerad lista av flexibiliserande epoxiföreningar enligt uppfin- ningen återfinnes i US-PS 3 ll? 099, särskilt spalt 2, rad 59-spalt 4 rad 22, vilket avsnitt genom denna hänvis- ning införlivas i denna text.
Andra lämpliga flexibiliserande epoxiföreningar är polyglycidaletrar av alifatiska polyoler, såsom 1,4- -butandioldiglycidyleter, l,6-hexandioldiglycidyleter, dietylenglykoldiglycidyleter, trietylenglykoldiglycidyl- eter, polypropylenglykoldiglycidyleter (t ex "ERL-4050" och "ERL-4052" fån Union Carbide Corp), diglycidyleter av 2,5-dioxandiol och triglycidyletern av trimetylol- 7803389-1 10 15 20 25 30 35 16 propan, epoxiderad.epolwolefiner, såsom dipentendiokid (t ex "ERL-4269" från Union Carbide Corp) och epoxiderad polybutadien (t ex Oxiron 2001 från FMC Corp). Andra lämpliga alifatiska polyepoxiföreningar finns beskrivna i Handbook of Epoxy Resins, McGraw-Hill Brook Co (l967).
De UV>absorptionsmedel, som företrädesvis användes enligt uppfinningen, kan indelas i följande klasseri BENSOFENONER: Denna klass innefattar substituerade 2- -hydroxibensofenoner. Dessa finns med olika substituen- ter på grundmolekylen för att ge rätt kombinerbarhet, icke flyktighet och vissa absorptionsegenskaper. Typiska substituerade 2-hydroxibensofenoner är 2-hydroxi-4- -metoxi-bensofenon, 2-hydroxi-4-oktyl-oxibensofenon, 4-dodecyloxi-2-hydroxibensofenon och 2,2'-dihydroxi-4-4'- -dimetoxibensofenon. Man betraktar substituerade _ l' I 2-hydroxibensofenoner som en klass. BENSOTRIAZOLER: Denna klass inbegriper derivat av 2-(2'-hydroxifenyl) bensotriazol. Typiska exempel är 2-(2'-hydroxi-5'-metyl- fenyl)bensotriazol och 2-(2'ahydroxi-5'-t-oktylfenyl) g bensotriazol. Substituerade 2-(2'~hydroxifenyl)benso- triazoler är också en inom detta område erkänd klass av UV>strålningsabsorptionsmedel. SUBSTITUERADE AKRYLATER: Dessa utgör en annan erkänd klass av UV-absorptionsmedel.
Typiska exempel är etyl~2-cyano-3,3-difenylakrylat, 2-etylhexyl-2-cyano-3,3-difenylakrylat och p-metoxi- -bensylidenmalonsyradimetylester.
ARYLESTRAR: Denna erkända klass inbegriper arylsali- cylater, bensoater och estrar av resorcinol. Typiska exempel är fenylsalicylat, p-t-oktylfenylsalicylat, resorcinolmonobensoat och 2,4-di-t-butylfenyl-3,5-di- -t-butyl-4-hydroxibensoat. Kombinationer av dessa UV- absorptionsmedel användes ofta för att kombinera egen- skaperna hos de enskilda absorptionsmedlen. Föredragna absorptionsmedel är (I) 2,4-dihydroxibensofenon, (II) 2,2'4,4'-tetrahydroxibensofenon, (III) 2-(2'-hydroxi-5- -metylfenyl)bensotriazol och (IV) 2-(3',5'-di-t-amyl- -2'hydroxifenyl)bensotiazol. 10 15 20 25 30 7803389-1 17 , _ Följande exempel belyser uppfinningen ytterligare.
EXEMPEL l En beläggningsberedning (A) framställdes på följan- de sätt. 6,0 g Y-glycidoxipropyltrimetoxisilan hydroly- serades partiellt (40% metoxigrupper avlägsnades) och flyktigt material avlägsnades. 4,0 g diglycidyleter av 1,4-butandiol tillsattes till enbart det partiella hydrolysatet med O,l g bis(trifluormetylsulfonyl)fenyl- metan i etylacetat, 0,01 g inert, fluororat oligomert utjämningsmedel, 8,89 g etylacetat och l,O g 2,4-di- hydroxibensofenon.
En andra täckande beredning (B) ovan för A men utan tillsats av UV-absorptionsmedelw Två färgfotografier belades med beredningarna A resp B med en beläggningsstav av stål lindad med tråd nr 22.
Beläggningarna fick härda vid rumstemperatur i 4 h och placerades sedan under en 200 W UV-lampa (medelhögt kvicksilvertryck) tillsammans med ett icke täckt färg- framställdes såsom fotografi. Efter 7 h började det icke belagda fotografiet och det fotografi, som hade beläggningen B, att blekna men ingen blekning observerades på det färgfotografi, som var betäckt med beredningen A. Efter l7 h bestrål- ning hade allvarlig blekning och färgförstöring ägt rum på det icke belagda fotografiet och det fotografi, som var täckt med beredning B, men ingen blekning eller färg- förändring kunde observeras på det fotografi, som var täckt med beredningen A, som innehöll UV-filtret I. De fotografier, som var täckta med A och B var synnerligen beständiga mot nötning med stålull (nr OOO) och torkning med en våt pappersduk.
EXEMPEL 2 Beläggningsberedningar framställdes såsom i exempel l men följande UV-absorptionsmedel och mängder användes: '7e03389*1 10 Beredning B C D E 18 UV-absorgtionsmedel Inget 0,2 g (2%) I 0,2 g (2%) II 0,2 g (2%) IV Man upprepade förfarandet enligt exempel l och be- läggningar anbringades på färgtryck, somhade vit bakgrund och områden med rent blått? purpurrött och gult. Dessa täckta fotografier placerades under en 275 W GE-sollampa (25 cm avstånd). Efter 2 dagars bestrålning kunde man notera att det blåa omrâdet på det med B belagda täckta omrâdet hade bleknat och den vita bakgrunden började gulna. De med C, D och E täckta trycken visade ringa om ens någon förändring. De visuella bedömningarna efter _ 4 dagars bestrålning ges i följande tabell I. 7803389-1 19 mnflnßflwnßm cwmfifl uxwfln uwmbw møfluwflmnßw :mona wnmmfln umm>w ÜDHHDNHÜW flxwfln umm>m mfifiu lwcmußu dmwfiw uxwHQ,ßmm>m fixmfln umm>w fidw uxwan umm>w vxwfin #mm>m mcflu |wfimHmw Gwmcfi UUHWHQ H-Hmxwm .MI N fldm umm>m uwxuhfi >H Q Anm umm>w uwxohä HH Q Hflw ummbw uwxowë H U Hmm umxumš cwmGH m wdsumxmn Hwflmämcoflvmuømflm møflflmmmflmm ufl> |>D H Hfiwflmä U 7803389-1 20 I följande exempel beskrives UV-härdade skyddsbe- läggningar med 100% fast material. _ De beredningar (F-K) som beskrives i tabell II, täcktes med en med tråd nr 3 lindad stav på färgtryck så: som beskrivits i exempel 2. Beläggningarna härdades ome- delbart under en 200 W UV-lampa (med medelhögt kvick- silvertryck) i 40 s varefter man värmde vid 60°C i 10 min.
Etticke täckt fotografiskt färgtryck användeš som jäm- förelse. l 7803389-1 .umvmuäo nanm »mv Eocfl mcflaxmfln mm>w ummwnw fluo uumuuøuusm wmš uwwmuño Eoøfl møflcxmfln mflfiuumë nw _umUmuE0 mwfln vwv Eocfl mcflflxman mwcmwwuwn Gm .cwvfiøumxmn fl»fl> :mv M mcflcmumwfløm mm>m sm wwmm |fl>mm5 ømšfiflw muxomuo :ma .mcflcxwfln nmnnwuwfiov :mä .mmbw umxoæä uwmwnw >oum muxomu mmfifiuñmm mUmmfl>mmø swšfiflw :www øsmum>m En «.mN øwš mmšmflflom 3 mßw cm wmvs: mcflcfimuummn wummmw m uwnwm 21 mfiflmw wow ßuçußß gïaq uaßuï _ qxeque xošxqßxgg m.o ~o_o N_0 Ml nom m_o ~o.o N~O bl wow uwxoäë m.O NO_O ~.o ml vom m.o N0.0 N_O OI WOW uwxuæš m.O N0.0 N.O HH fiflmßmß. afløfiwuw »GE uwnmfløcmßmmnmmcfinvnz mmmmmmmmmm >H Hw@mEwc0flumH0wQm|>D Hoxuoøflm bm Hmflmâ v>fluxmu> uuwflH wmnm mm^mm@uv 02 O 05 O :AH Ö wmoomwhwmuvuowmu ~ _ Ö . onfiw@H/=.~ \m@mwo oo nu ~mu|mu~muo«^~muvo~mumu 1 N J\ /d\\ EU m^wzovflwm^~mu.o~mumo | Nmo /d\\ ^EmHwV hGflG©wHwm\HwUm@ümumwm dvaossse-1 10 15 20 25 30 35 u. n... ..w~..,. ___. 22 Exempel 4 Styva polyvinylkloridark kan också skyddas enligt. uppfinningen. I detta exempel visade det sig att en grundfärg var önskvärd för att höja bindningen mellan den nötningsbeständiga beläggning, som innehöll UV-ab- sorptionsmedlet, och arket. En terpolymer av etylmetakry- lat, butylakrylat och metakryloxipropyltrietoxisilan (80:l7:3) anbringades från en lösning (med l0% fast ma- terial) i toluen/etylacetat (50/50) med en applikator- stav lindad med tråd nr 14, varefter man torkade l h vid rumstemperatur innan den övre beläggningen anbringades.
Efter grundningen anbringades de nötningsbeständiga beläggningarna (med eller_utan nödvändiga modifieringsmedel såsom beskrives senare) från en lösning med 50% fast mate- rial i etylacetat med tråd nr 14 lindad applikatorstav.
Beläggningarna fick härda i 5 dagar vid rumstemperatur.
Samtliga nötningsbeständiga beläggningar uppvisade god "shackmönstrad" vidhäftning (till minst 85%) och utmärkt_ nötningsbestänaighet mot ståluu jämfört med polyvinyl- klorid. 7 Tre prover jämfördes: A) ett kontrollprov (utan nöt-0 ningsbeständig beläggning); B) en nötningsbeständig be- läggning med UV-absorptionsmedel men utan flexibiliseran- de epoximaterial; och C) en nötningsbeständig beläggning med UV-absorptionsmedel och flexibiliserande epoximate- rial. Sammansättningen hos de beläggningar som användes i B och C Var= Komponent (deïar) (deïar) Y-glycidoxipropyltrimetoxisilan l0,0 6,0 diglycidyleter av 1,4-butandiol - 4,0 2,4-dihydroxibensofenon 2,0 2,0 etylacetat 7 12,0 12,0 trifluormetylsulfonylfenylmetan 0,1 0,1 inert fluorerat oligomert ytaktivt medel 0,01 0,01 10 15 20 25 30 35 vsozzse-1 23 Proverna behandlades i cykler genom att de placera- des 25,4 cm från en 275 W sollampa i 4 h och sedan ned- sänktes i vatten under 4 h. Resultaten var följande: 20 h Ljusbrun missfärning Hårtunna sprickor på ytan Ingen förändring 95 h Brun missfärgning genomgående Ytan mycket sprucken men ingen missfärgning Ingen förändring 650 h Provet mörkbrunt och opakt Svårartad sprickbildning Smala hârfina sprickor börjar Visa sig 800 h Provet fullständigt misslyckat CUPOUJIflOUJWOWIfl Stora sprickor och svag missfärgning börjar Ä komma fram i beläggningen ' C Ytterligare sprickbildning men ingen miss- färgning Exemplen 5-15 Följande material användes i dessa exempel.
A. Y-glycidoxipropyltrimetoxisilan B. ett 40% hydrolyserat prekondensat av Y-glycidoxipro- pyltrimetoxisilan C. l,4-butandioldiglycidyleter D. 3,4-epoxicyklohexylmetyl-3,4-epoxicyklohexankarboxylat E. bis(2-metyl-3,4-epoxicyklohexylmetyl)succinat F. 2-(2'-hydroxi-5'-metylfenyl)bensotriaxol (5% i iso- propylacetat) G. 2-(3',5'-di-t-amyl-2'hydroxifenyl)bensotriazol (lO% i isopropylacetat) H. Isopropylacetat I. Inert fluorerat oligomert ytaktivt medel J. bis(trifluormetylsulfonyl)fenylmetan K. Inert organosilikoninnehâllande ytaktivt medel.
Alla beläggningar anbringades med en stav, som var lindad med tråd nr 22 utom exemplen lO, 12, l4 och 51, som anbringades med en stav, som var lindad med tråd nr 14, och torkades över natten. Polyetylentereftalat användes såsom bindemedelskikt. 7eosss9+1 10 15 20 25 30, 24 0 Proverna exponerades för en 275 W sollampa i 3 dagar på avståndet 25,4 cm. Resultaten visas i tabell III.
Tabell'III Ex _ - EEIAEÉBEEÉQÉEEK 5 - 3 2 - - 1,5 2,9 0,1 0,5 ~ 6 - 3 - 2 - - 1,5 2,9 0,1 0,5 - 7 - 3 - 2 - - 1,5 2,9 - 0,5 0,1 s 3 - - 2- - - 1,5 2,9 - 0,5 0,1 9 - 3 - 2 - - 2,5 1,9 0,1 0,5 - 10 - 3 1 1 - 3,0 ¿ 1,4 0,1 0,5 - 11 - 3 1 1 - - 01,5 2,9 0,1 0,5 - 12 - 3 1 - 1 3,0 - 1,4 0,1 0,5 - 13 - 3 1 - l - 1,5 2,9 0,1 0,5 - 14 - 3 2 - - 3,0 - 1,4 0,1 0,5 - 15 - 3 ~ 2 - 3,0 '- 1,4 0,1 0,5 - Exemplen 6, 7, 9, 10, 12, 14 och 15 uppvisade -inga utslag eller missfärning.- Exemplen 8 och 13 uppvisade svaga utslag vid nog- grann undersökning men ingen missfärgning.
Exemplen 5 och ll uppvisade tydligt med reducerat utslag men ingen missfärning.
Utslaget i exemplen 5, 8, ll och 13 inträffade på grund av att mindre verksamma flexibiliserande epoxider användes i kombination med UV-absorptionsmedel, som upp- visade de högsta utslagsegenskaperna. Utslaget var allt- jämt reducerat. Alla beläggningarna uppvisade utmärkt nötningsbeständighet. I Exempel 16-21 Dessa exempel visar att andra katalysatorsystem kan användas. En standardberedning av 60 delar Y-glycidoxi- propyltrimetoxisilan, 30 delar l,4-butandioldiglycidyl- eter och 10 delar bis(3,4-epoxicyklohexylmetyl)succinat framställdes. Alikvota delar av denna beredning för- sattes med varierande mängder katalysator, som man visste kan användas vid härdning av epoxiterminerade silaner. 10 15 20 25 30 7803389-1 25 Bland dessa fanns bis(trifluormetylsulfonyl)fenylmetan (BPM) (l,5% i etylacetat) tenntetraklorid (20% i l,2-di- kloretan), antimonpentafluorid (5% i ClCF2CFCl2), anti- monpentaklorid (lO% i 1,2-dikloretan) och perklorsyra (lO% i 1,2-ättiksyra). Olika mängder UV-absorberande medel och 0,1 vikt% av en organosilikonvätska med formeln ÉHB to-si+5-+o-c-cH¿+E CH3 CH3 vari m och n betecknar heltal på minst 2 så att vätskans genomsnittliga medelmolekylvikt (Én) blir ca 1500, dess densitet 0,99 och viskositeten l25 cSt vid 25°C, till- sattes innan kmmxßitionen härdades. Efter beläggning över färgfilmerna och härdning till en nötningsbeständig film undersöktes proven med avseende på beständighet mot ut~ slag, nötningsbeständighet och UV-skydd. Alla proven visa- de sig vara av hög kvalitet. De specifika kompositionerna var följande förutom 10 delar av den härdbara standard- kompositionen. I tabell IV betecknas 2,4-dihydroxibenso- fenon med DHB, 2-etylhexyl~2~cyano-3,3-difenylakrylat med ECD.
Tabell IV ' _. - 'v A _ _ UV-absorptions~ Exempel Katalysator Vikt% medel Vikt% 16 BPM 0,15 DHB ' 5 17 BPM 0,15 Ecn 5 18* snc14 z,o man 5 19* sbF5 o,25 nns 5 20” sbc15 0,5 DHB 5 21” Hc1o4 2,0 nns 5 X8-10 vikt% etylacetat var nödvändigt för att hålla dessa katalysatorer i reaktionsbenägen lösning.
Vid utövandetaw föreliggande uppfinning fann man att UV-absorptionsmedlenas utslagstendens minskades oberoende av vilket katalysatorsystem, som användes. lO 15 20 25 30 35 íi7sozss9-1 26 Såsom tidigare noterats kan ett godtyckligt under- lag, som behöver skyddas från UV-strålning skyddas med beläggningskompositionen enligt uppfinningen. Belägg- ningskompositionen, som har både reaktionsbenägna silan- och epoxigrupper, kommer naturligtvis att vidhäfta många ytor. Grundfärg kan användas för att höja vidhäftningen då så är nödvändigt. _Då man vill skydda kontionellt, våtbearbetad foto- grafisk färgfilm eller papper är det nödvändigt att pla- cera den skyddande beläggningen över den yta, som skall betraktas_ kompositionen är vanligen ogenomtränglig för vattenhal- av emulsionen efter framkallning. Beläggnings- tiga material och lösningsmedel och om sådana placeras över emulsionen före framkallning kan framkallande lös- ningar ej-genomtränga beläggningen för att verka på den eàponerade emulsionen. Vissa fotografiska färgelement innehåller framkallande lösningar i det fotografiska elementet och behöver ej genomträngas av framkallnings- lösningar utifrån elementet. I sådana konstruktioner av fotografiska element kan den nötningsbeständiga, UV-ab- sorberande beläggningen anbringas på elementet före fram- kallning och före exponering. Då aktiva lösningar frigö- res i fotografiska filmer genom att kapslar eller skikt brister fysiskt skyddar i själva verket beläggningen enligt uppfinningen mot repning av det fotografiska elementets yta, vilken repning inträffar efter brist- ningen liksom man får skydd mot blekning av färgämnen i elementet, vilken blekning åstadkommas av UV-strålning.
I beskrivningen av föreliggande uppfinning har be- toningen lagts på skyddet av färgämnen från UV-strålning men det är självklart att ett godtyckligt underlag, som kan pâverkas negativt genom UV-strålning, kan skyddas med föreliggande kompositioner. Polyolefiner är kända för att de skadas av UV-strålning, vinylhartser kan råka ut för allvarliga missfärgningsproblem härrörande från katjonen genom UV-strålning och båda kan skyddas med före- liggande beläggningskompositioner. Ett godtyckligt, fast, 10' 15 7803389~1i 27 styvt eller böjligt underlag kan skyddas med dessa kom- positioner men grundfärg kan vara lämpligt i särskilda fall.
Flexibilitet är en annan önskvärd aspekt av uppfin- ningen inom mânga områden. Då man vill skydda konventio- nella färgfotografiska material, direktframkallande film eller kinofilm erfordras flexibilitet. De UV-absorberande nötningsbeständiga kompositionerna enligt uppfinningen kan då de anbringas på ett underlag eller en fri film upp- visa utomordentlig flexibilitet. Beläggningen och filmer- na kan lätt lindas runt en cylinder med diametern 15 cm vid rumstemperatur och de har ofta tillräcklig flexibili- tet för att kunna lindas runt en cylinder med diametern 5 cm. Särskilt lämpliga är underlag av böjliga eller styva syntetiska polymerhartser, såsom poly(vinylklorid), polykarbonat, polyetylentereftalat, akrylhartser, poly- (vinylklorid-vinylacetat)sampolymerer, isocyanatbaserade hartser och polymetylmetakrylat. Mâlade ytor kan också skyddas på lämpligt sätt.
Claims (8)
1. 780338-9-1 10 l5 20 25 30 l. 28 PATENTKRAV UV-strålningsabsorberande, utslagsbeständig, nötningsbeständig film mellan 0,5 och 500 Fm tjock k ä n n e_ t e c.k n a d därav, att den innefattar en reaktions- produkt av: l) 2) 3) 5) 30-90 vikta reaktionsbenägna beståndsdelar av en epoxiterminerad silan, I 10-70 vikt% reaktionsbenägna beståndsdelar av en alifatisk polyepoxid, 0-20 vikt% reaktionsbenägna beståndsdelar av en sammonomer, som är polymeriserbar med epoxi- 'eller silangrupper, 4) ett UV-absorberande material, omfattande benso- fenoner, bensotriazoler, substituerade akrylat och arylestrar, som föreligger i tillräcklig mängd för att filmen skall absorbera minst 90% av all strålning mellan 290 och 400 nm och för att filmen skall släppa igenom minst 90% av all strålning mellan 400 och 780 nm, varvid filmen ej har mindre än 75% genomsläpplighet över ett 50 nm område mellan 400 och 780 nm, och en katalysator i en mängd av 0,01-10 vikt% av de reaktionsbenägna beståndsdelarna.
2. Film enligt krav l, k ä n n e t e c k n a d därav, att den epoxiterminerade silanen utgör 50-90 vikt% av de reaktionsbenägna beståndsdelarna, det flexibilise- rande epoxidmaterialet utgör 10-50 vikt% av de reaktions- benägna beståndsdelarna och att sampolymeren utgör O-10 vikt% av de reaktionsbenägna beståndsdelarna.
3. Film enligt krav l, k ä n n e t e c k n a d därav, att den epoxiterminerade silanen har formeln 0 /\ c - CH(-R2-}Si(0Rl)3 och H2 Yš) 4n2->s1(on1)3 10 15 20 25 Vsozsaø-1 29 vari R2 betecknar en icke hydrolyserbar tvåvärd kolväte- grupp med mindre än 20 kolatomer eller en tvåvärd grupp med mindre än 20 kolatomer, vars skelettet är sammansatt av endast C-, N-, S- och O-atomer, varvid två hetero- atomer ej får ligga intill varandra i de tvåvärda grupper- "nas skelett, och att Rl betecknar en alifatisk kolväte- grupp med mindre än 10 kolatomer elhren acylgrupp med mindre än 10 kolatomer. '
4. Film enligt krav l, därav, att den epoxiterminerade silanen har formeln: k ä n n e t e c k n a d CH CH-(CH2)m-O-(CH2)n~Si(OR)3 2"/ I \b » vari m och n oberoende av varandra betecknar l-4 och R betecknar en alkylgrupp med upp till 6 kolatomer.
5. Polymeriserbar komposition innefattande l) 30-90 vikt% av en epoxiterminerad silan, 2) 10-70 vikt% av ett polyepoxiharts med formeln Rfc/OÉH» I r n a b vari R betecknar en alifatisk eller cykloalifatisk grupp, n har Rzs valens och betecknar ett heltal på 2-6, a och b betecknar H ellen då de är kondenserade,betecknar de ato- mer, som är nödvändiga för bildning av en 5- eller 6-le- dad cykloalifatisk ring, varvid epoxihartset vid homo- polymerisation ger en polymer med en glastemperatur under -25°C och vari epoxihartset har en molekylvikt på minst 100 per epoxigrupp, 78033 89-1 10 15 20 25 '30 35 30 3) en tillräcklig mängd UV-strålningsabsorberande medel, omfattande bensofenoner, bensotriazoler, substituerade akrylat och arylestrar, för absorption av minst 90% av all strålning mellan 290 och 400 nm genom en våtfilm med tjockleken 200 pm och 4) en katalysator i en mängd av 0,0l-10 vikt% av de reaktionsbenägna beståndsdelarna.
6. Polymeriserbar komposition enligt krav 5, k ä n n e t e c k n a d därav, att den epoxiterminerade silanen åskådliggöres med formeln I o nac -\cH4R2->s1(o1zl)3 och ° 1 \@(-n-)s1(on )3 vari R2 betecknar en icke hydrolyserbar tvåvärd kolväte- grupp med mindre än 20 kolatomer eller en tvåvärd grupp med mindre än 20 kolatomer, vars skelett är sammansatt av endast C-, N-, S- och O-atomer, varvid två hetero- atomer ej får ligga intill varandra inom de tvåvärda gruppernas skelett, och Rl betecknar en alifatisk kol- vätegrupp med mindre än 10 kolatomer eller en acylgrupp med mindre än 10 kolatomer.
7. Polymeriserbar komposition enligt krav 6, k ä n n e t e c k n a d därav, att den epoxiterminerade 0 silanen har formeln CH - CH'(CH ) / 2 \o vari m och n oberoende betecknar l-4 och R betecknar en alkylgrupp med upp till 6 kolatomer.
8. Polymeriserbar komposition enligt något av kraven 5-7, k ä n n e t e c k n a d därav, att katalysatorn utgöres av en oniumkatalysator, som innefattar en aroma- tisk addukt av (1) en diaromatisk, triaromatisk eller I tetraaromatisk organoatomisk katjon av en atom ur grupp Va, VIa eller VIIa och (2) en anjon, varvid oniumkataly- satorn kan àskådliggöras med formeln 0 2 m-Of(CH2)n“Si(0R)3 10 7803389-1 31 2 (RM-A+ x' <ål>a vari R2 betecknar en aromatisk grupp som är åtminstone lika elektronbortdragande som bensen, R betecknar alkyl eller alkenyl, A betecknar en atom ur grupp Va, VIa eller VIIa, X betecknar en anjon, n betecknar ett posi- tivt heltal upp till A:s valens plus ett, a betecknar 0 eller ett heltal upp till A:s valens minus ett och n plus a är lika med valensen av A plus ett och vari minst två av de angivna R2-grupperna är bundna till A.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US78204277A | 1977-03-28 | 1977-03-28 | |
US05/879,110 US4156046A (en) | 1977-03-28 | 1978-02-22 | Ultraviolet radiation protective, abrasion resistant, bloom resistant coatings |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SE7803389L SE7803389L (sv) | 1978-09-29 |
SE438321B true SE438321B (sv) | 1985-04-15 |
Family
ID=27119943
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SE7803389A SE438321B (sv) | 1977-03-28 | 1978-03-23 | Uv-stralningsabsorberande, notningsbestendig beleggning samt komposition for dess framstellning |
Country Status (14)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS53121100A (sv) |
AR (1) | AR222461A1 (sv) |
AU (1) | AU508257B2 (sv) |
BR (1) | BR7801847A (sv) |
CA (1) | CA1109589A (sv) |
CH (1) | CH640251A5 (sv) |
DE (1) | DE2812848C3 (sv) |
EG (1) | EG13298A (sv) |
ES (1) | ES468226A1 (sv) |
FR (1) | FR2385771A1 (sv) |
GB (1) | GB1596234A (sv) |
IT (1) | IT1156179B (sv) |
MX (1) | MX150989A (sv) |
SE (1) | SE438321B (sv) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0060070A3 (en) * | 1981-03-12 | 1982-11-10 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Fade-resistant and abrasion resistant photographic reproduction, method of preparing and photographic product therefor |
US4497861A (en) * | 1983-05-20 | 1985-02-05 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Water-repellent, abrasion resistant coatings |
US4587169A (en) * | 1984-08-17 | 1986-05-06 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Abrasion resistant coatings |
AU603908B2 (en) * | 1987-07-30 | 1990-11-29 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Subbing layers for photographic elements and photographic elements incorporating such layers |
US6905770B2 (en) * | 2003-03-15 | 2005-06-14 | Cpfilms, Inc | Fade protector |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5213536B2 (sv) * | 1973-03-08 | 1977-04-15 | ||
US4049867A (en) * | 1973-03-08 | 1977-09-20 | Japan Atomic Energy Research Institute | Thermosetting resin composition comprising an [(2,3-epoxypropoxy)alkyl]trialkyloxysilane |
US4049861A (en) * | 1975-03-07 | 1977-09-20 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Abrasion resistant coatings |
JPS6011727B2 (ja) * | 1976-03-19 | 1985-03-27 | 東レ株式会社 | 硬化性樹脂組成物 |
US4069368A (en) * | 1976-10-01 | 1978-01-17 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Workable and curable epoxy-terminated silane films |
-
1978
- 1978-03-02 CA CA298,038A patent/CA1109589A/en not_active Expired
- 1978-03-23 AU AU34456/78A patent/AU508257B2/en not_active Expired
- 1978-03-23 CH CH325678A patent/CH640251A5/de not_active IP Right Cessation
- 1978-03-23 GB GB11758/78A patent/GB1596234A/en not_active Expired
- 1978-03-23 SE SE7803389A patent/SE438321B/sv not_active IP Right Cessation
- 1978-03-23 DE DE2812848A patent/DE2812848C3/de not_active Expired
- 1978-03-24 IT IT48603/78A patent/IT1156179B/it active
- 1978-03-24 FR FR7808638A patent/FR2385771A1/fr active Granted
- 1978-03-25 ES ES468226A patent/ES468226A1/es not_active Expired
- 1978-03-27 EG EG209/78A patent/EG13298A/xx active
- 1978-03-27 MX MX172869A patent/MX150989A/es unknown
- 1978-03-27 BR BR7801847A patent/BR7801847A/pt unknown
- 1978-03-28 JP JP3595078A patent/JPS53121100A/ja active Pending
- 1978-03-28 AR AR271574A patent/AR222461A1/es active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE2812848A1 (de) | 1978-10-05 |
SE7803389L (sv) | 1978-09-29 |
FR2385771B1 (sv) | 1984-02-24 |
DE2812848B2 (de) | 1980-03-27 |
MX150989A (es) | 1984-09-06 |
CA1109589A (en) | 1981-09-22 |
CH640251A5 (en) | 1983-12-30 |
IT1156179B (it) | 1987-01-28 |
ES468226A1 (es) | 1979-09-16 |
EG13298A (en) | 1981-06-30 |
AU3445678A (en) | 1979-09-27 |
AU508257B2 (en) | 1980-03-13 |
DE2812848C3 (de) | 1980-11-20 |
BR7801847A (pt) | 1978-12-26 |
JPS53121100A (en) | 1978-10-23 |
GB1596234A (en) | 1981-08-19 |
IT7848603A0 (it) | 1978-03-24 |
AR222461A1 (es) | 1981-05-29 |
FR2385771A1 (fr) | 1978-10-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4156046A (en) | Ultraviolet radiation protective, abrasion resistant, bloom resistant coatings | |
JP6670323B2 (ja) | 熱硬化性樹脂組成物 | |
CA1264889A (en) | Water-based photopolymerisable compositions and their use | |
US4426431A (en) | Radiation-curable compositions for restorative and/or protective treatment of photographic elements | |
JP3415149B2 (ja) | 紫外線硬化可能なシリコーン離型組成物 | |
US4101513A (en) | Catalyst for condensation of hydrolyzable silanes and storage stable compositions thereof | |
DE2609148C2 (sv) | ||
CN109642084B (zh) | 固化性组合物 | |
DK200001910A (da) | Iodoniumsalte som latente syredonorer | |
RU2180669C2 (ru) | Способ отверждения составов с помощью катионной фотополимеризации | |
GB2139369A (en) | Photosensitive systems showing visible indication of exposure | |
JPS5942688B2 (ja) | エポキシ及びヒドロキシル含有有機物質に基づく光共重合可能組成物 | |
JP2006265351A (ja) | 感光性組成物 | |
JPH03184008A (ja) | 紫外線硬化被覆を有する光ファイバー | |
CA1270086A (en) | Abrasion resistant coatings | |
SE438321B (sv) | Uv-stralningsabsorberande, notningsbestendig beleggning samt komposition for dess framstellning | |
CA1220595A (en) | Water-repellent resistant, abrasion resistant coatings | |
US4619949A (en) | Abrasion resistant coatings | |
JPS6017741A (ja) | 帯電防止写真ベ−ス | |
US4082896A (en) | Abrasion resistant coatings | |
KR810001492B1 (ko) | 자외선 방사보호 마모방지 블루움 방지 피복제 | |
EP3272737A1 (en) | Sulfonic acid derivative compound, photoacid generator, resist composition, cationic polymerization initiator, and cationically polymerizable composition | |
JPS5990846A (ja) | 感放射線材料 | |
JPH0462554A (ja) | 感光性組成物 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
NAL | Patent in force |
Ref document number: 7803389-1 Format of ref document f/p: F |
|
NUG | Patent has lapsed |
Ref document number: 7803389-1 Format of ref document f/p: F |