SE438321B - UV RADIATOR PREPARATION, TONE-RESISTANT COATING AND COMPOSITION FOR ITS PREPARATION - Google Patents
UV RADIATOR PREPARATION, TONE-RESISTANT COATING AND COMPOSITION FOR ITS PREPARATIONInfo
- Publication number
- SE438321B SE438321B SE7803389A SE7803389A SE438321B SE 438321 B SE438321 B SE 438321B SE 7803389 A SE7803389 A SE 7803389A SE 7803389 A SE7803389 A SE 7803389A SE 438321 B SE438321 B SE 438321B
- Authority
- SE
- Sweden
- Prior art keywords
- group
- epoxy
- carbon atoms
- weight
- less
- Prior art date
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 33
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title description 37
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title description 21
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title description 10
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 49
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 42
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 claims description 21
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 21
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 20
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 20
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 19
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 18
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 claims description 17
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 16
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 13
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims description 10
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 claims description 10
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 claims description 10
- 239000000470 constituent Substances 0.000 claims description 8
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims description 8
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 claims description 7
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 7
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 claims description 5
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 claims description 5
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 5
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 claims description 4
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000007860 aryl ester derivatives Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 claims description 3
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 claims description 3
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 3
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 3
- 150000002118 epoxides Chemical class 0.000 claims description 2
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 claims description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 2
- 150000001565 benzotriazoles Chemical class 0.000 claims 2
- 239000011358 absorbing material Substances 0.000 claims 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 claims 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims 1
- -1 siloxanes Chemical class 0.000 description 28
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 19
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 14
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 14
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 13
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 11
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 11
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 9
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 9
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 7
- ZXDDPOHVAMWLBH-UHFFFAOYSA-N 2,4-Dihydroxybenzophenone Chemical compound OC1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 ZXDDPOHVAMWLBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 208000010201 Exanthema Diseases 0.000 description 6
- 201000005884 exanthem Diseases 0.000 description 6
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 6
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 6
- 206010037844 rash Diseases 0.000 description 6
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 6
- 238000004061 bleaching Methods 0.000 description 5
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 5
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 4
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 4
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 4
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 4
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 4
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 4
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 4
- SHKUUQIDMUMQQK-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(oxiran-2-ylmethoxy)butoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCCCOCC1CO1 SHKUUQIDMUMQQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 101100298295 Drosophila melanogaster flfl gene Proteins 0.000 description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- ZMWKYYJODBYKHO-UHFFFAOYSA-N bis(trifluoromethylsulfonyl)methylbenzene Chemical compound FC(F)(F)S(=O)(=O)C(S(=O)(=O)C(F)(F)F)C1=CC=CC=C1 ZMWKYYJODBYKHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 3
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 3
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 3
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 3
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 3
- JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N isopropanol acetate Natural products CC(C)OC(C)=O JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229940011051 isopropyl acetate Drugs 0.000 description 3
- GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-N isovaleric acid Chemical compound CC(C)CC(O)=O GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical class C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 3
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 3
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 3
- 230000004224 protection Effects 0.000 description 3
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 3
- HJIAMFHSAAEUKR-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxyphenyl)-phenylmethanone Chemical class OC1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HJIAMFHSAAEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FJGQBLRYBUAASW-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)phenol Chemical class OC1=CC=CC=C1N1N=C2C=CC=CC2=N1 FJGQBLRYBUAASW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910004013 NO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 2
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 description 2
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 2
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCPKSFINULVDNX-UHFFFAOYSA-N drometrizole Chemical compound CC1=CC=C(O)C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1 MCPKSFINULVDNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 2
- FMJSMJQBSVNSBF-UHFFFAOYSA-N octocrylene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=C(C#N)C(=O)OCC(CC)CCCC)C1=CC=CC=C1 FMJSMJQBSVNSBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZQBAKBUEJOMQEX-UHFFFAOYSA-N phenyl salicylate Chemical compound OC1=CC=CC=C1C(=O)OC1=CC=CC=C1 ZQBAKBUEJOMQEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 2
- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 2
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 2
- 239000006100 radiation absorber Substances 0.000 description 2
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006748 scratching Methods 0.000 description 2
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 2
- 239000011343 solid material Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 2
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- ARVUDIQYNJVQIW-UHFFFAOYSA-N (4-dodecoxy-2-hydroxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound OC1=CC(OCCCCCCCCCCCC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 ARVUDIQYNJVQIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FCTDKZOUZXYHNA-UHFFFAOYSA-N 1,4-dioxane-2,2-diol Chemical compound OC1(O)COCCO1 FCTDKZOUZXYHNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMOMTEHUJCJFLP-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethyl-6-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-1-ylmethyl)-7-oxabicyclo[4.1.0]heptane-3-carboxylic acid Chemical compound CC1(C(CCC2(C1O2)CC34CCCCC3O4)C(=O)O)C CMOMTEHUJCJFLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSQMYKVADMPANK-UHFFFAOYSA-N 2-(1,3-benzothiazol-2-yl)-4,6-bis(2-methylbutan-2-yl)phenol Chemical compound CCC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)CC)=CC(C=2SC3=CC=CC=C3N=2)=C1O YSQMYKVADMPANK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMWRRFHBXARRRT-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4,6-bis(2-methylbutan-2-yl)phenol Chemical compound CCC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)CC)=CC(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1O ZMWRRFHBXARRRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SEFYJVFBMNOLBK-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)ethoxy]ethoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCOCCOCC1CO1 SEFYJVFBMNOLBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTYYGFLRBWMFRY-UHFFFAOYSA-N 2-[6-(oxiran-2-ylmethoxy)hexoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCCCCCOCC1CO1 WTYYGFLRBWMFRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NMAGCVWUISAHAP-UHFFFAOYSA-N 3,5-ditert-butyl-2-(2,4-ditert-butylphenyl)-4-hydroxybenzoic acid Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1C1=C(C(O)=O)C=C(C(C)(C)C)C(O)=C1C(C)(C)C NMAGCVWUISAHAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004800 4-bromophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1Br 0.000 description 1
- RMYZHELMRHWMEW-UHFFFAOYSA-N 7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-ylmethyl 6-oxabicyclo[3.1.1]heptane-4-carboxylate Chemical compound C1CC2OC2CC1COC(=O)C1CCC2OC1C2 RMYZHELMRHWMEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YXALYBMHAYZKAP-UHFFFAOYSA-N 7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-ylmethyl 7-oxabicyclo[4.1.0]heptane-4-carboxylate Chemical compound C1CC2OC2CC1C(=O)OCC1CC2OC2CC1 YXALYBMHAYZKAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229910021630 Antimony pentafluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 101100097467 Arabidopsis thaliana SYD gene Proteins 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UIQMVEYFGZJHCZ-SSTWWWIQSA-N Nalorphine Chemical compound C([C@@H](N(CC1)CC=C)[C@@H]2C=C[C@@H]3O)C4=CC=C(O)C5=C4[C@@]21[C@H]3O5 UIQMVEYFGZJHCZ-SSTWWWIQSA-N 0.000 description 1
- 229910002661 O–Ti–O Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002655 O−Ti−O Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- 101100495925 Schizosaccharomyces pombe (strain 972 / ATCC 24843) chr3 gene Proteins 0.000 description 1
- 229910021627 Tin(IV) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- UMILHIMHKXVDGH-UHFFFAOYSA-N Triethylene glycol diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCCOCCOCCOCC1CO1 UMILHIMHKXVDGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004904 UV filter Substances 0.000 description 1
- 230000006750 UV protection Effects 0.000 description 1
- 229920002433 Vinyl chloride-vinyl acetate copolymer Polymers 0.000 description 1
- IIHJDDQNGRKRIC-UHFFFAOYSA-N [4-(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)phenyl] 2-hydroxybenzoate Chemical compound C1=CC(C(C)(C)CC(C)(C)C)=CC=C1OC(=O)C1=CC=CC=C1O IIHJDDQNGRKRIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XAKBSHICSHRJCL-UHFFFAOYSA-N [CH2]C(=O)C1=CC=CC=C1 Chemical group [CH2]C(=O)C1=CC=CC=C1 XAKBSHICSHRJCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- IYABWNGZIDDRAK-UHFFFAOYSA-N allene Chemical group C=C=C IYABWNGZIDDRAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001361 allenes Chemical class 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical group 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VBVBHWZYQGJZLR-UHFFFAOYSA-I antimony pentafluoride Chemical compound F[Sb](F)(F)(F)F VBVBHWZYQGJZLR-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- 229940045720 antineoplastic alkylating drug epoxides Drugs 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001558 benzoic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 1
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- GTZJMIWDRJQUHG-UHFFFAOYSA-N bis(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-ylmethyl) butanedioate Chemical compound C1CC2OC2CC1COC(=O)CCC(=O)OCC1CC2OC2CC1 GTZJMIWDRJQUHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMMDJMWIHPEQSJ-UHFFFAOYSA-N bis[(3-methyl-7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)methyl] hexanedioate Chemical compound C1C2OC2CC(C)C1COC(=O)CCCCC(=O)OCC1CC2OC2CC1C LMMDJMWIHPEQSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000002775 capsule Substances 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 1
- 101150054130 chfr gene Proteins 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 239000013068 control sample Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- ZWAJLVLEBYIOTI-UHFFFAOYSA-N cyclohexene oxide Chemical group C1CCCC2OC21 ZWAJLVLEBYIOTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004956 cyclohexylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004979 cyclopentylene group Chemical group 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- JMFYZMAVUHNCPW-UHFFFAOYSA-N dimethyl 2-[(4-methoxyphenyl)methylidene]propanedioate Chemical compound COC(=O)C(C(=O)OC)=CC1=CC=C(OC)C=C1 JMFYZMAVUHNCPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZLBDYMWFAHSOQ-UHFFFAOYSA-N diphenyliodanium Chemical compound C=1C=CC=CC=1[I+]C1=CC=CC=C1 OZLBDYMWFAHSOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- IAJNXBNRYMEYAZ-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-cyano-3,3-diphenylprop-2-enoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=C(C#N)C(=O)OCC)C1=CC=CC=C1 IAJNXBNRYMEYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229960005237 etoglucid Drugs 0.000 description 1
- 239000007888 film coating Substances 0.000 description 1
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 1
- 125000006162 fluoroaliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002485 formyl group Chemical group [H]C(*)=O 0.000 description 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical class I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003701 inert diluent Substances 0.000 description 1
- 239000002198 insoluble material Substances 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- MGFYSGNNHQQTJW-UHFFFAOYSA-N iodonium Chemical compound [IH2+] MGFYSGNNHQQTJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- ZDGGJQMSELMHLK-UHFFFAOYSA-N m-Trifluoromethylhippuric acid Chemical compound OC(=O)CNC(=O)C1=CC=CC(C(F)(F)F)=C1 ZDGGJQMSELMHLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000325 methylidene group Chemical group [H]C([H])=* 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- QUAMTGJKVDWJEQ-UHFFFAOYSA-N octabenzone Chemical compound OC1=CC(OCCCCCCCC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 QUAMTGJKVDWJEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004010 onium ions Chemical class 0.000 description 1
- DXGLGDHPHMLXJC-UHFFFAOYSA-N oxybenzone Chemical compound OC1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 DXGLGDHPHMLXJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 1
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 1
- 229960000969 phenyl salicylate Drugs 0.000 description 1
- 125000003884 phenylalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 1
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O phosphonium Chemical compound [PH4+] XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 239000002952 polymeric resin Substances 0.000 description 1
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 230000037452 priming Effects 0.000 description 1
- 125000001501 propionyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004309 pyranyl group Chemical group O1C(C=CC=C1)* 0.000 description 1
- 125000003226 pyrazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- GDESWOTWNNGOMW-UHFFFAOYSA-N resorcinol monobenzoate Chemical compound OC1=CC=CC(OC(=O)C=2C=CC=CC=2)=C1 GDESWOTWNNGOMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 description 1
- 125000005373 siloxane group Chemical group [SiH2](O*)* 0.000 description 1
- ORFSSYGWXNGVFB-UHFFFAOYSA-N sodium 4-amino-6-[[4-[4-[(8-amino-1-hydroxy-5,7-disulfonaphthalen-2-yl)diazenyl]-3-methoxyphenyl]-2-methoxyphenyl]diazenyl]-5-hydroxynaphthalene-1,3-disulfonic acid Chemical compound COC1=C(C=CC(=C1)C2=CC(=C(C=C2)N=NC3=C(C4=C(C=C3)C(=CC(=C4N)S(=O)(=O)O)S(=O)(=O)O)O)OC)N=NC5=C(C6=C(C=C5)C(=CC(=C6N)S(=O)(=O)O)S(=O)(=O)O)O.[Na+] ORFSSYGWXNGVFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-L succinate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)CCC([O-])=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 1
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O sulfonium Chemical compound [SH3+] RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 1
- 229920001059 synthetic polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001897 terpolymer Polymers 0.000 description 1
- NZTZKHGFJXUQOA-UHFFFAOYSA-N tetrakis(4-chlorophenyl)phosphanium Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1[P+](C=1C=CC(Cl)=CC=1)(C=1C=CC(Cl)=CC=1)C1=CC=C(Cl)C=C1 NZTZKHGFJXUQOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J tin(iv) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 125000005409 triarylsulfonium group Chemical group 0.000 description 1
- ARUIMKUOHIINGI-UHFFFAOYSA-N trifluoro(methylsulfonyl)methane Chemical compound CS(=O)(=O)C(F)(F)F ARUIMKUOHIINGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZTKXNSPQZIUDX-UHFFFAOYSA-N trifluoromethylsulfonylmethylbenzene Chemical compound FC(F)(F)S(=O)(=O)CC1=CC=CC=C1 AZTKXNSPQZIUDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940113165 trimethylolpropane Drugs 0.000 description 1
- WLOQLWBIJZDHET-UHFFFAOYSA-N triphenylsulfonium Chemical compound C1=CC=CC=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 WLOQLWBIJZDHET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012953 triphenylsulfonium Substances 0.000 description 1
- 239000004034 viscosity adjusting agent Substances 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 239000003039 volatile agent Substances 0.000 description 1
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/76—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
- G03C1/7614—Cover layers; Backing layers; Base or auxiliary layers characterised by means for lubricating, for rendering anti-abrasive or for preventing adhesion
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
- C08G59/14—Polycondensates modified by chemical after-treatment
- C08G59/1433—Polycondensates modified by chemical after-treatment with organic low-molecular-weight compounds
- C08G59/1438—Polycondensates modified by chemical after-treatment with organic low-molecular-weight compounds containing oxygen
- C08G59/145—Compounds containing one epoxy group
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
- C08G59/18—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
- C08G59/68—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the catalysts used
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/04—Oxygen-containing compounds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C11/00—Auxiliary processes in photography
- G03C11/08—Varnishing, e.g. application of protective layers on finished photographic prints
- G03C11/10—Varnishing, e.g. application of protective layers on finished photographic prints for protection from ultraviolet light
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Emergency Medicine (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Description
-7803389-1 10 15 20 25 30 035 2 Fastän UV-absorptionsmedel kan tillsättas till nötningsbe- ständiga beläggningar enligt vad som anges i de ovannämnda _ ansökningarna kan endast begränsade koncentrationer av UV-absorptionsmedel lätt kvarhållas i de allmänt-beskriv- na beläggningarna enligt dessa uppfinningar. De koncen- I trationer, som kan användas ger endast begränsat skydd mot UV-strålning. Större koncentrationer leder till "utslag" på beläggningarna och ett vitt, dimmigt utseen- de i filmen, vilket framkallas genom att absorptionsmed- len inom filmbeläggningen eller på beläggningens yta ut- fälles. Detta utslag visar sig i kompositionerna oberoen-_ de av använd katalysator oavsett man använder högfluore- rade alifatiska sulfonyliska eller sulfoniska katalysa- torer enligt US-PS 4 049 861, oniumkatalysatorer enligt US-PA 764 817, metallesterkatalysatorer enligt AU-PS 483 792 eller Lewis-syrakatalysatorer enligt US-PS 3 955 035. ' 0 * Föreliggande uppfinning avser en beläggning, som är nötningsbeständig och beständig mot utslag för använd- ning på underlag, som kan skadas av UV-strålning, nöt- ning och/eller nedsmutsning. Nötningsbeständiga belägg- ningar från epoxiterminerade silaner användes enligt upp- finningen i kombination med absorptionsmedel för UV- strålning. " Enligt föreliggande uppfinning sampolymeriseras epoxiterminerade silaner med alifatiska, polyepoxima- terial för bildning av nötningsbeständiga beläggningar, som kan kvarhålla tillräckligt höga koncentrationer av absorptionsmedel för UV-strålning inom den härdade sam- polymeren för att man skall få en verksamt UV-absor- berande, nötningsbeständig och smutsbeständig beläggning med betydande beständighet mot utslag. Den epoxitermine- rade silanen innefattar 30-90 vikt% av det reaktionsbe- nägna material, som bildar den färdiga kompositionen, det alifatiska polyepoximaterialet innefattar 10-70 vikt% av det reaktionsbenägna materialet, och 0-20 vikt% av andra sampolymeriserbara material kan ingå såsom reak- 10 15 20 25 30 35 7803389-1 3 tionsbenägna material. Man föredrar att ha 50-80% epoxi- terminerad silan, 10-50% polyepoximaterial och 0-10% sam- monomerer. De material, som absorberar UV-strålning, 0Ch SOm ej inbegrmflrs i beskrivningen av de reaktionsbenägna ma- terialen (men vissa kan vara reaktionsbenägna under sam- polymerisationen och alltjämt ge absorption av UV-strâl- ning) måste föreligga i en mängd som räcker för att ab- sorbera minst 90% av all strålning mellan 290-400 nm och släppa igenom åtminstone 90% av all strålning mellan 400 och 780 nm och ej mindre än 75% transmissivitet inom varje 50 nm-område mellan 400 och 780 nm. Företrädesvis föreligger ej mindre än 90 % transmissivitet över varje 100 nm-omrâde mellan 400 och 780 nm. Vilket som helst av de beskrivna katalysatorsystemen för härdning av epoxiterminerade silaner till nötningsbeständiga belägg- ningar kan användas enligt uppfinningen. De föredragna katalysatorsystemen utgöres av högfluorerade alifatiska sulfonylkatalysatorer enligt US-PS 4 049 861 och onium- _ katalysatorer enligt US-PA 764 817. I Tjockleken hos beläggningen enligt uppfinningen kan variera mellan 0,5 och 500 um, varvid man föredrar tjock- lekar mellan 0,5 och 50 um. Den lämpligaste filmtjock- leken ligger mellan 1,0 och 20 um. Although UV absorbers can be added to abrasion resistant coatings as set forth in the above applications, only limited concentrations of UV absorbers can be readily retained in the generally described coatings according to the invention. these inventions. The concentrations that can be used provide only limited protection against UV radiation. Higher concentrations lead to a "rash" on the coatings and a white, misty appearance in the film, which is caused by the precipitating agents precipitating within the film coating or on the surface of the coating. This result is shown in the compositions independent of the catalyst used, whether using highly fluorinated aliphatic sulfonylic or sulfonic catalysts according to US-PS 4,049,861, onium catalysts according to US-PA 764 817, metal ester catalysts according to AU-PS 483 792 or The present invention relates to a coating which is abrasion resistant and resistant to rashes for use on substrates which may be damaged by UV radiation, abrasion and / or soiling. Abrasion-resistant coatings from epoxy-terminated silanes are used according to the invention in combination with absorbents for UV radiation. According to the present invention, epoxy-terminated silanes are copolymerized with aliphatic polyepoxy materials to form abrasion resistant coatings which can retain sufficient concentrations of UV radiation absorbers within the cured copolymer to obtain an effective UV absorber. The epoxy-terminated silane comprises 30-90% by weight of the reactive material which forms the finished composition, the aliphatic polyepoxy material comprises 10-70% by weight of the reactive material, and -20% by weight of other copolymerizable materials may be included as reaction-prone materials, it is preferred to have 50-80% epoxy-terminated silane, 10-50% polyepoxy material and 0-10% co-polymer. The monomers, which absorb UV radiation, and are not included in the description of the reactive materials (but some n be prone to reaction during the copolymerization and still provide absorption of UV radiation) must be present in an amount sufficient to absorb at least 90% of all radiation between 290-400 nm and transmit at least 90% of all radiation between 400 and 780 nm and not less than 75% transmissivity within each 50 nm range between 400 and 780 nm. Preferably, there is no less than 90% transmissivity over each 100 nm range between 400 and 780 nm. Any of the described catalyst systems for curing epoxy-terminated silanes to abrasion-resistant coatings can be used according to the invention. The preferred catalyst systems are highly fluorinated aliphatic sulfonyl catalysts according to US-PS 4,049 861 and onium catalysts according to US-PA 764 817. The thickness of the coating according to the invention may vary between 0.5 and 500 μm, with thicknesses between 0.5 and 50 μm. The most suitable film thickness is between 1.0 and 20 μm.
Epoxiterminerade silaner är föreningar eller mate- rial med polymeriserbara (företrädesvis terminala) epoxi- grupper och terminala, polymeriserbara silangrupper, var- vid bryggan mellan dessa grupper utgöres av en icke hy- drolyserbar alifatisk, aromatisk eller blandad alifatisk- aromatisk tvåvärd kolvätegrupp, som kan ha N och/eller 0- atomer i gruppkedjan. Man föredrar kedjor utan N-atomer och särskilt föredrar man att ha O-atomer endast intill epoxigruppen. O-atomerna skulle exempelvis kunna före- ligga i kedjan endast såsom eterbindningar. Dessa grupp- kedjor kan vanligen vara substituerade på känt sätt ef- tersom substituenter på kedjan ej i någon större ut- sträckning påverkar de epoxiterminerade silanernas funk- tionella förmåga att genomgå de väsentliga reaktioner, 1803389-1 10 15 20 25 30 4 som är nödvändiga för polymerisation via siloxangrupper eller epoxiterminala grupper. Exempel på substituenter, som kan finnas på den förbindande eller den bryggbildan- de komponenten är sådana grupper som N02, alkyl (t ex CH3(CH2)nCH2), alkoxi (t ex metoxi), halogen etc. I den allmänna strukturformel, som ges i beskrivningen till föreliggande uppfinning, inbegripes sådan tillåten sub- stitution på de bryggbildande komponenterna såvida detta ej särskilt uteslutits med språkliga medel såsom “osub- stituerad tvåvärd kolvätegrupp". _ Exempel på föredragna epoxiterminerade silaner, som kan användas enligt uppfinningen, är_föreningar med de allmänna formlerna o / \ _ i o 0112 _ cflénèn s1(oR")m och Ü 419m s1(oR')m H-m N-m vari R.= en icke hydrolyserbar tvåvärd kolvätegrupp (alifatisk, aromatisk eller blandad alifatisk-aroma- tisk) med mindre än 20 kolatomer eller en tvåvärd grupp med mindre än 20 kolatomer sammansatt av C-, N-, S- och O-atomer (dessa atomer är de enda atomer, som bör före- komma i de tvåvärda gruppernas skelett), varvid syret föreligger i form av eterbindningar. Det är lämpligt att inga N-atomer förekommer. Två heteroatomer bör ej 1igga« intill varandra inom den tvåvärda kolvätegruppens ske- lett. Denna beskrivning definierar tvåvärda kolväte- grupper för epoxiterminerade siloxaner enligt uppfin- ningen. " En lämpligare formel för de epoxiterminerade sila- I o .och _ Ü-nz-sflonlh vari R2 betecknar en icke hydrolyserbar tvåvärd kolväte- grupp med färre än 20 kolatomer eller en tvåvärd grupp -nerna är O 2 1 C112 - cHfR -si-(OR )3 7803389-1 5 med färre än 20 kolatomer i det skelett, som är samman- satt av endast C-, N-, S- och 0~atomer, varvid två hete- roatomer ej skall ligga intill varandra, och Rl betecknar en alifatisk kolvätegrupp eller en acylgrupp med färre 5 än 10 kolatomer.Epoxy-terminated silanes are compounds or materials having polymerizable (preferably terminal) epoxy groups and terminal, polymerizable silane groups, the bridge between these groups being a non-hydrolysable aliphatic, aromatic or mixed aliphatic-aromatic divalent hydrocarbon group, which may have N and / or 0 atoms in the group chain. Chains without N atoms are preferred and it is especially preferred to have O atoms only adjacent to the epoxy group. The O atoms, for example, could exist in the chain only as ether linkages. These group chains can usually be substituted in a known manner, since substituents on the chain do not to any great extent affect the functional ability of the epoxy-terminated silanes to undergo the essential reactions necessary. for polymerization via siloxane groups or epoxy terminal groups. Examples of substituents which may be present on the linking or bridging component are such groups as NO 2, alkyl (eg CH 3 (CH 2) n CH 2), alkoxy (eg methoxy), halogen etc. In the general structural formula given in the description of the present invention, such permissible substitution on the bridging components is included unless specifically excluded by linguistic means such as "unsubstituted divalent hydrocarbon group". Examples of preferred epoxy-terminated silanes which can be used according to the invention are compounds with the general the formulas o / \ _ io 0112 _ c fl énenen s1 (oR ") m and Ü 419m s1 (oR ') m Hm Nm where R. = a non-hydrolysable divalent hydrocarbon group (aliphatic, aromatic or mixed aliphatic-aromatic) with less than 20 carbon atoms or a divalent group having less than 20 carbon atoms composed of C, N, S and O atoms (these atoms are the only atoms which should be present in the skeleton of the divalent groups), the oxygen being in the form of ether linkage are. It is preferred that no N atoms be present. Two heteroatoms should not lie 1 next to each other within the divalent hydrocarbon group. This description defines divalent hydrocarbon groups for epoxy-terminated siloxanes according to the invention. A more suitable formula for the epoxy-terminated sila- I o .och _ Ü-nz-s fl onlh wherein R 2 represents a non-hydrolyzable divalent hydrocarbon group having less than 20 carbon atoms or a divalent group -s are O 2 1 C112 - cHfR (OR) 3 7803389-1 5 with less than 20 carbon atoms in the skeleton, which is composed of only C, N, S and O atoms, two heteroatoms shall not be adjacent to each other, and R1 denotes an aliphatic hydrocarbon group or an acyl group having less than 10 carbon atoms.
I de kompositioner, som användes enligt uppfinning- en, kan epoxisilanen ha den angivna formeln, vari n betecknar 0-l, R betecknar någon tvâvärd kolväte- gruPP, såsom metylen, etylen, dekalen, fenylen, cyklo- l0 hexylen, cyklopentylen, metylcyklohexylen, 2-etylbutylen och allen, eller en etergínpp, såsom -CHZ-CHZ-O-CHZ-CHZ, -fcnz-cnzoß-cnz-cnf, -kj-o-cnz-cnz- och -cazo-(cnzß- R kan utgöras av en alifatisk kolvätegrupp med färre än 10 kolatomer, såsom metyl, etyl, isopropyl, butyl, vinyl, 15 alkyl eller någon acylgrupp med färre än l0 kolatomer, såsom formyl, acetyl, propionyl eller någon grupp med formeln (CH2CH2O)kZ, vari k betecknar ett heltal på minst 1, och Z betecknar väte.In the compositions used according to the invention, the epoxysilane may have the stated formula, wherein n represents O-1, R represents any divalent hydrocarbon group, such as methylene, ethylene, decal, phenylene, cyclohexylene, cyclopentylene, methylcyclohexylene , 2-ethylbutylene and allene, or an ether group such as -CH 2 -CH 2 -O-CH 2 -CH 2, -fcnz-cnzoß-cnz-cnf, -kj-o-cnz-cnz- and -cazo- (cnzß-R is an aliphatic hydrocarbon group having less than 10 carbon atoms, such as methyl, ethyl, isopropyl, butyl, vinyl, alkyl or any acyl group having less than 10 carbon atoms, such as formyl, acetyl, propionyl or any group of the formula (CH 2 CH 2 O) k 2, wherein k denotes an integer of at least 1, and Z denotes hydrogen.
De mest föredragna epoxiterminerade silanerna är 20 de som åskådliggöres med formeln: ' CH2\g/CH-(CH2)m~O-(CH2)n-Si(OR)3 och 0 Û- (cnz )m-0- (GHz )n-§1 (0R)3 vari R betecknar en alkylgrupp med upp till 6 kolatomer 25 och m och n betecknar oberoende av varandra 1-6.The most preferred epoxy-terminated silanes are those illustrated by the formula: 'CH 2 \ g / CH- (CH 2) m -O- (CH 2) n -Si (OR) 3 and 0 U- (cnz) m -O- (GHz) n-§1 (OR) 3 wherein R represents an alkyl group having up to 6 carbon atoms and m and n independently represent 1-6.
Kompositionerna kan dessutom innehålla tillsatser såsom ytaktiva medel, viskositetsmodifierande medel, tillsatser, som bidrar till spridning, färgämnen etc.The compositions may additionally contain additives such as surfactants, viscosity modifiers, additives which contribute to dispersion, dyes, etc.
Dessa kan blandas med andra epoxiterminerade silaner och 30 sammonomerer för inställning av den färdiga beläggningens fysikaliska egenskaper. Sammonomerer är sådana material, __~,._............___..._._....__.._...._. _. _. 7803389-1 10 15 20 25 30 35 . ....._._ _.. _... 6 som man inom detta område vet kan sampolymeriseras med epoxigrupper eller silangrupper, och de inbegriper epoxi- föreningar och silaner. : Katalysatorerna enligt uppfinningen användes vanligen i mängder från 0,01-10 vikt% av de reaktionsbenägna be- ståndsdelarna i den härdbara kompositionen. Företrädes- vis användes från 0,5-5 vikt%, varvid mängden varierar med den särskilda katalysator, som användes. De lämpli- gaste katalysatorerna enligt uppfinningen utgöres av högfluorerade alifatiska sulfonylkatalysatorer och onium- katalysatorer. De besläktade högfluorerade alifatiska sulfonkatalysatorerna är mycket användbara liksom vissa Lewis-svror och Brönsted-syror men de är ej lika lämp- liga. Sulfonmaterialen definieras såsom högfluorerade alifatiska sulfonsyror eller salter därav. Fluoroali- fatiska sulfonsyror, -metaner och -imider samt fram- ställningen därav beskrives i US-PS 4 049 86l@ Sulfonyl- materialen definieras såsom föreningar innehållande två högfluorerade alifatiska sulfonylgrupper bundna direkt till en imid- eller metylen (t ex -NR'- eller -ëR'R"-). Sulfonmaterialen kan åskådliggöras med for- meln ' (Rfso3)nR vari R betecknar väte, en ammoniumkatjon eller en metall- katjon och n har R:s valens.These can be mixed with other epoxy-terminated silanes and comonomers to adjust the physical properties of the finished coating. Comonomers are such materials, __ ~, ._............___..._._....__.._...._. _. _. 7803389-1 10 15 20 25 30 35. ....._._ _ .. _... 6 known in the art can be copolymerized with epoxy groups or silane groups, and they include epoxy compounds and silanes. : The catalysts of the invention are commonly used in amounts from 0.01 to 10% by weight of the reactive constituents of the curable composition. Preferably from 0.5-5% by weight is used, the amount varying with the particular catalyst used. The most suitable catalysts according to the invention are highly fluorinated aliphatic sulfonyl catalysts and onium catalysts. The related high fluorinated aliphatic sulfone catalysts are very useful as are some Lewis and Brönsted acids, but they are not as suitable. The sulfonic materials are defined as highly fluorinated aliphatic sulfonic acids or salts thereof. Fluoroaliphatic sulfonic acids, methanes and imides and their preparation are described in U.S. Pat. No. 4,049,861. The sulfonyl materials are defined as compounds containing two highly fluorinated aliphatic sulfonyl groups attached directly to an imide or methylene (e.g. -NR or -ëR'R "-). The sulfone materials can be illustrated by the formula '(Rfso3) nR wherein R represents hydrogen, an ammonium cation or a metal cation and n has the valence of R.
De föredragna sulfonylkatalysatorerna kan åskådlig- göras med formeln (RfSO2)-Q-(SO2R'f) vari Q betecknar en tvåvärd grupp, som utgöres av -NR, _ I -CR'R" eller -C=CHR3 jaa; Rfsof, aíkenyl med 3-4 kolatømer, alkyl med 1-20 kolatomer (företrädesvis l-4), aryl med l-20 kolatomer (företrädesvis till 10, t ex fenyl, naftyl, pyridyl, benzthienyl etc) eller alkaryl_med 7-20 kolatomer I -(företrädesvis till 10), R' betecknar väte, klor, brom, .vari R" ut öres av väte, klor, brom, q 10 15 20 25 30 35 7803389-1 7 jod, ammoniumkatjoner eller metallkatjoner och R be- tecknar H, alkenyl (3-Å) kolatomer eller aryl med upp till 20 kolatomer. _ j De katalysatorer, vari den N- eller C-atom, som är bunden till den högfluorerade alifatiska (företrädesvis alkyl-) gruppen,har en väteatom bunden därtill är aktiva kataly- 3 satorer. Sådana som saknar väteatom är latenta och kan aktiveras med värme, syra, kelateringsmedel eller kombi- nationer därav på_känt sätt.The preferred sulfonyl catalysts can be illustrated by the formula (RfSO2) -Q- (SO2R'f) wherein Q represents a divalent group consisting of -NR, -I -CR'R "or -C = CHR3 ya; Rfsof, alkenyl with 3-4 carbon atoms, alkyl having 1-20 carbon atoms (preferably 1-4), aryl having 1-20 carbon atoms (preferably up to 10, eg phenyl, naphthyl, pyridyl, benzthienyl, etc.) or alkaryl having 7-20 carbon atoms I - ( preferably to 10), R 'represents hydrogen, chlorine, bromine, wherein R "is composed of hydrogen, chlorine, bromine, iodine, ammonium cations or metal cations and R represents H, alkenyl (3-Å) carbon atoms or aryl having up to 20 carbon atoms. The catalysts in which the N or C atom attached to the highly fluorinated aliphatic (preferably alkyl) group has a hydrogen atom attached thereto are active catalysts. Those that do not have a hydrogen atom are latent and can be activated with heat, acid, chelating agents or combinations thereof in a known manner.
Rf och R'f betecknar oberoende hÖgfluorerade_ alifatiska grupper, som definieras såsom fluorerade, mättade, envärda, alifatiska grupper med l-20 kolatomer.Rf and R'f independently represent highly fluorinated aliphatic groups, which are defined as fluorinated, saturated, monovalent, aliphatic groups having 1 to 20 carbon atoms.
Gruppens kedjeskelett kan vara rakt, grenat eller om det är tillräckligt stort (t ex minst 3 eller 5 atomerl cykloalifatiskt och det kan vara avbrutet genom tvåvärda syreatomer eller trevärda kväveatomer, som endast är bund- na till kolatomer. Företrädesvis innehåller den fluore- rade alifatiska gruppens kedja ej mer än en heteroatom, dvs kväve eller syre, per två kolatomer i kedjeskelet- tet. En fullständigt fluorerad grupp föredrages men väte eller kloratomer kan finnas närvarande såsom substituen- ter i den fluorerade alifatiska gruppen under förutsätt- ning att ej mer än en atom av vardera slaget finns när- _ varande i gruppen för varje kolatom. Företrädesvis ut- göres den fluoroalifatiska gruppen av en mättad perfluoro- alkylgrupp med ett kedjeskelett, som är rakt eller grenat och har formeln CcF2x+l vari x betecknar 1-18.The chain backbone of the group may be straight, branched or large enough (eg at least 3 or 5 atoms) cycloaliphatic and it may be interrupted by divalent oxygen atoms or trivalent nitrogen atoms, which are attached only to carbon atoms. Preferably it contains fluorinated aliphatic the chain of the group does not contain more than one heteroatom, ie nitrogen or oxygen, per two carbon atoms in the chain backbone.A fully fluorinated group is preferred but hydrogen or chlorine atoms may be present as substituents in the fluorinated aliphatic group provided that no more than one atom of each kind is present in the group for each carbon atom, Preferably the fluoroaliphatic group is a saturated perfluoroalkyl group having a straight or branched chain skeleton having the formula CcF2x + 1 wherein x represents 1-18 .
De aktiva sulfonylkatalysatorer, som särskilt före- drages enligt uppfinningen, är föreningar med formeln vari Rf och R'f oberoende betecknar en högfluorerad alkyl- grupp och Q betecknar en tvåvärd grupp, som utgöres av -NH- eller -CHR-, vari R betecknar Br, Cl, I, H, alkyl- 10 15 20 25 30 35 'o,7sos3s9-1 8 r o grupper med l-20 kolatomer (företrädesvis l-4), alkenyl med 3-4 kolatomer, aryl eller aralkyl med upp till 20 kol-- atomer (företrädesvis upp till 10) eller R'X, vari R' be- tecknar en alkylengrupp med upp till 20 kolatomer (före- trädesvis l-4) och X betecknar H, Br, Cl, I, -02SR , -cH(o2sRf)2, -cH-(cnæn-coolfl, eller -cY(cooR2)2 Br vari R4 betecknar H eller alkyl med 1-8 kolatomer och n betecknar 0-8, och vari R? betecknar alkyl med l-4 kol- atomer eller fenylalkyl, vari alkylgruppen har l-4 kol- atomer, och Y betecknar H, Br, Cl, I eller N02.The active sulfonyl catalysts, which are particularly preferred according to the invention, are compounds of the formula wherein Rf and R'f independently represent a highly fluorinated alkyl group and Q represents a divalent group consisting of -NH- or -CHR-, wherein R represents Br, C1, I, H, alkyl groups of 1-20 carbon atoms (preferably 1-4), alkenyl of 3-4 carbon atoms, aryl or aralkyl of up to 20 carbon atoms (preferably up to 10) or R'X, wherein R 'represents an alkylene group having up to 20 carbon atoms (preferably 1-4) and X represents H, Br, Cl, I, -O 2 SR , -cH (o2sRf) 2, -cH- (cn-cool fl, or -cY (cooR2) 2 Br wherein R4 represents H or alkyl of 1-8 carbon atoms and n represents 0-8, and wherein R? represents alkyl of 1 -4 carbon atoms or phenylalkyl, wherein the alkyl group has 1-4 carbon atoms, and Y represents H, Br, Cl, I or NO 2.
Ammoniumkatjonen enligt uppfinningen kan definieras såsom katjoner av ammoniak, av primära, sekundära, tertiä- ra och kvaternära aminer. Alkyl, aryl, alkaryl, etc en- ligt föreliggande uppfinning (exkl grupper av Rf-typ som definieras på annan plats) inbegriper sådana enkla sub- stituerade grupper som man inom detta område vet är funk- -CH2CH2CH2Cl,.-S03-<::>).The ammonium cation according to the invention can be defined as cations of ammonia, of primary, secondary, tertiary and quaternary amines. Alkyl, aryl, alkaryl, etc. according to the present invention (excl. Rf-type groups defined elsewhere) include such simple substituted groups which are known in the art to be -CH2CH2CH2Cl, .- SO3- <: :>).
Valet av den lämpligaste perfluoroalkylsulfonylmetan- tionella gruppekvivalenter (t ex katalysatorn beror på de speciella monomerkompositioner, vari katalysatorn skall användas och den tillämpning, för vilken kompositionen är avsedd.The choice of the most suitable perfluoroalkylsulfonylmethanational group equivalents (eg the catalyst depends on the particular monomer compositions in which the catalyst is to be used and the application for which the composition is intended).
Man föredrar ofta att förutom fluoroalkylsulfonyl- protonsyrakatalysatorerna tillsätta från ca 0,01-5%, företrädesvis ca 0,1-2%, av en andra siloxanhydrolys- och kondensationskatalysator, fastän användningen av dessa föreningar ej är nödvändig i kompositionerna enligt upp- finningen för att åstadkomma härdning-av beläggningar av kompositionen. Såsom belyses genom exemplen ger vissa sådana katalysatorkombinationer synergistiska effekter, varigenom man får en ökad härdningshastighet jämfört med den hastighet, som kan fås med fluoroalkylsulfonylproton- syrakatalysatorn ensam. Sådana siloxanhydrolys- och kon- densationskatalysatorer är välkända och beskrives till en del i US-PS 4 049 861.It is often preferred to add, in addition to the fluoroalkylsulfonyl protonic acid catalysts, from about 0.01-5%, preferably about 0.1-2%, of a second siloxane hydrolysis and condensation catalyst, although the use of these compounds is not necessary in the compositions of the invention for to effect curing of coatings of the composition. As illustrated by the examples, certain such catalyst combinations provide synergistic effects, thereby obtaining an increased cure rate over the rate obtainable with the fluoroalkylsulfonyl protonacid catalyst alone. Such siloxane hydrolysis and condensation catalysts are well known and are described in part in U.S. Pat. No. 4,049,861.
De metallesterkatalysatorer, som användes enligt upp- finningen, utgöres av metallestrar av aluminium, titan 10 15 20 25 30 35 7803389-1 _ 9 eller zirkonium med minst två estergrupper med formeln -OR direkt bundna till metallen, vari R betecknar en hy- drokarbylgrupp med l-18 kolatomer, företrädesvis alkyl eller acyl med 1-8 kolatomer. De kvarvarande metallva- lenserna kan tillgodoses med organiska komponenter, oorganiska komponenter, komplexbildande medel eller t o m återkommande -O-Ti-O-grupper etc (om kvarvarande valenser ej tillgodoses genom OR-grupper,användes företrädesvis halogenider eller alkylgrupper). Så länge som två av estergrupperna finns närvarande kan metallestern reagera till den färdiga polymera strukturen och katalysera reak- tionen för bildning av en nötningsbeständig beläggning.The metal ester catalysts used in the invention are metal esters of aluminum, titanium or zirconium having at least two ester groups of the formula -OR directly bonded to the metal, wherein R represents a hydrocarbyl group with 1-18 carbon atoms, preferably alkyl or acyl having 1-8 carbon atoms. The remaining metal valences can be met with organic components, inorganic components, complexing agents or even recurring -O-Ti-O groups, etc. (if the remaining valences are not met by OR groups, halides or alkyl groups are preferably used). As long as two of the ester groups are present, the metal ester can react to the finished polymeric structure and catalyze the reaction to form an abrasion resistant coating.
Vanligen föredrages att samtliga metallvalenser till- godoses genom estergrupper, men andra grupper kan finnas närvarande så länge som minst två estergrupper finns när- varande. Föreningar med formeln R'nM(oR) mm är därför användbara, dåaR har angiven betydelse, m be- tecknar M:S valens och n betecknar 0, l eller 2 så att m-n alltid är minst 2, och R' betecknar en organisk eller oorganisk komponent bunden till M eller ett kom- plexbíldande medel, som tillgodoser M:s valensbehov.It is usually preferred that all metal valencies be satisfied through ester groups, but other groups may be present as long as at least two ester groups are present. Compounds of the formula R'nM (oR) mm are therefore useful, when R has the indicated meaning, m represents the valence of M: and n represents 0, 1 or 2 so that mn is always at least 2, and R 'represents an organic or inorganic component bound to M or a complexing agent which satisfies M's valence requirements.
Föreningar med formeln M(OR)m föredrages vanligen på grund av tillgång och allmänt goda egenskaper. M betecknar metall, företrädesvis titan, aluminium eller zirkonium.Compounds of formula M (OR) m are generally preferred because of their availability and generally good properties. M represents metal, preferably titanium, aluminum or zirconium.
Det är kritiskt att metallestern ej hydrolyseras fullständigt eller hydrolyseras till ett stadium där mindre än två estergrupper per titanatom föreligger på metallestern. Om metallestern hydrolyseras på detta sätt kommer den ambifunktionella silanen och metallestern att samutfällas till ett olösligt material eftersom de reak- tionsbenägna platserna för silanen på estern har avlägs- nats.It is critical that the metal ester not be completely hydrolyzed or hydrolyzed to a stage where less than two ester groups per titanium atom are present on the metal ester. If the metal ester is hydrolyzed in this way, the ambifunctional silane and the metal ester will co-precipitate to an insoluble material because the reaction-prone sites of the silane on the ester have been removed.
V. _l..,__.._.....~.. __... _ w7.803389-1 10 15 10 De oniumkatalysatorer, som föredrages enligt uppfin- ningen, utgöres av aromatiska, organiska addukter av en aromatisk organoatomisk katjon ur grupp Va, VIa eller VIIa, särskilt fosfor-, antimon-, svavel-, kväve- eller jodatomer, och en anjon. Då dessa oniumkatalysatorer be- 'skrives kommer av bekvämlighetsskäl den atom ur grupp Va, VIa eller VIIa, som ger adduktens huvudbenämning (dvs fosfor i fosfonium, svavel i sulfonium, jod i jodonium etc) att kallas den nominativa atomen. Aromater, som an- vändes vid beskrivning av de grupper på oniumkatalysa- torer, som användes i föreliggande uppfinning, avser en aromatisk eller heterocyklisk ring (fenyl, naftyl, 6- eller 7-1edaa neterocykel sammansatt av endast C-, N-, S-, O- och Se- substituerade eller osubstituerad 5-, atomer med högst en atom i ringen vald bland S-, 0- eller ' Se-atomer), varvid ringen är så bunden till den nomina- 20 tiva atomen att den är åtminstone lika elektronbort- dragande som bensen. Exempelvis är fenacyl O 0 -ë-CH2- en lämplig aromatisk grupp (då den är åt- minstone lika elektronbortdragande som bensen), men bensyl <šâ>-CH2- är ej lika lämplig på grund av denna förenings instabilitet, vilken negativt påverkar lag- _ ringsstabiliteten. Representativa aromatiska ringar är 25 30 fenyl, naftyl, tienyl, pyranyl, furanyl och pyrazolyl, vilka ringar eventuellt kan vara substituerade.V. onl catalysts preferred according to the invention are aromatic organic adducts of an aromatic. Group Va, VIa or VIIa organoatomic cations, in particular phosphorus, antimony, sulfur, nitrogen or iodine atoms, and an anion. When these onium catalysts are described, for convenience, the atom from group Va, VIa or VIIa, which gives the main name of the adduct (ie phosphorus in phosphonium, sulfur in sulfonium, iodine in iodonium, etc.), will be called the nominative atom. Aromatics used in describing the groups of onium catalysts used in the present invention refer to an aromatic or heterocyclic ring (phenyl, naphthyl, 6- or 7-1edaa netocycle composed of only C-, N-, S -, O- and Se-substituted or unsubstituted 5-, atoms having at most one atom in the ring selected from S-, O- or 'Se atoms), the ring being so attached to the nominative atom that it is at least as electron withdrawing as benzene. For example, phenacyl <0 -ë-CH2- is a suitable aromatic group (since it is at least as electron withdrawing as benzene), but benzyl <šâ> -CH2- is not as suitable due to the instability of this compound, which adversely affects law - _ ring stability. Representative aromatic rings are phenyl, naphthyl, thienyl, pyranyl, furanyl and pyrazolyl, which rings may be optionally substituted.
En beskrivande formel för oniumkatalysatorerna en- ligt uppfinningen är (mn - 13+ X- (H15 vari R betecknar en aromatisk grupp, som är minst lika elektronbortdragande som bensen, Rl betecknar R eller alkyl (rak, grenad, cyklisk eller substituerad) eller alkenyl med l-18 kolatomer, n betecknar ett positivt hel~_ tal på minst l (företrädesvis 2) upp till A:s valens plus ett, a betecknar 0 eller ett positivt heltal upp till 10 15 20 25 30 35 78033894 ll A:s valens ( företrädesvis A minus l), n plus a är lika med A:s valens plus ett, A betecknar en atom Ur. grupp Va, VIa eller Vlla, och X betecknar en anjon, varvid, då A betecknar halogen, n betecknar minst 2.A descriptive formula for the onium catalysts according to the invention is (mn - 13+ X- (H15 wherein R represents an aromatic group which is at least as electron withdrawing as benzene, R1 represents R or alkyl (straight, branched, cyclic or substituted) or alkenyl with 1 to 18 carbon atoms, n denotes a positive integer of at least 1 (preferably 2) up to A's valence plus one, a denotes 0 or a positive integer up to 10 15 78033894 ll A's valence (preferably A minus l), n plus a is equal to A's valence plus one, A represents an atom from group Va, VIa or Vlla, and X represents an anion, wherein, when A represents halogen, n represents at least 2.
Dessa oniummaterial är tidigare kända. Exempelvis vi- sar de belgiska patentskrifterna 833 472, 828 668, 828 669 och 828 670 användningen av vissa oniumföreningar såsom katjoniska polymerisationskatalysatorer för vissa monomerer. _ Andra organogrupper, som är bundna till den nominati~ va atomen ur grupp Va eller VIa,kan utgöras av samma aroma- tiska. grupp eller en substituerad eller osubstituerad alkyl-eller cykloalkylgrupp. De organiska grupperna har upp till 4 kolatomer, R' betecknar en alkylgrupp med upp- till 6 kolatomer och u betecknar 0 eller l.These onium materials are previously known. For example, Belgian Patents 833,472, 828,668, 828,669 and 828,670 disclose the use of certain onium compounds as cationic polymerization catalysts for certain monomers. Other organo groups attached to the nominative group of group Va or VIa may be the same aromatic. group or a substituted or unsubstituted alkyl or cycloalkyl group. The organic groups have up to 4 carbon atoms, R 'represents an alkyl group having up to 6 carbon atoms and u represents 0 or 1.
Närvaron av katalytiska mängder fukt har visat sig vara nödvändig för att initiera kondensationen av sila- ner med dessa katalysatorer. Atmosfärisk fukt är van- ligen tillräcklig men vatten kan tillsättas till syste- met om så önskat eller om polymerisation erfordras i från- varo av luft för något särskilt ändamål.The presence of catalytic amounts of moisture has been found to be necessary to initiate the condensation of silanes with these catalysts. Atmospheric moisture is usually sufficient, but water can be added to the system if desired or if polymerization is required in the absence of air for any particular purpose.
Exempel på lämpliga oniumsalter är, men begränsas ej till: A. Oniumsalter med katjon ur grupp Va i periodiska systemet 4-acetofenyltrifenylammoniumklorid difenylmetylammoniumtetrafluoroborat \ tetra(4-klorofenyl)fosfoniumjodid tetrafenylfosfoniumjodid tetrafenylfosfoniumhexafluorofosfat (4-bromofenyl)trifenylfosfoniumhexafluorofosfat tetrafenylarsoniumtetrafluoroborat tetrafenylbismoniumklorid di-(l-naftyl)dimetylammoniumtetrafluoroborat tri-(3-tienyl)metylammoniumtetrafluoroborat difenyacyldimetylammoniumhexafluorofosfat 7805389-1 10 '15 20 25 30 35 12 Exempel på dessa och andra oniumsalter och deras framställning beskrives i den belgiska patentskriften 828 668.Examples of suitable onium salts are, but not limited to: A. Onium salts with a cation of Group Va of the Periodic Table 4 acetofenyltrifenylammoniumklorid difenylmetylammoniumtetrafluoroborat \ tetra (4-chlorophenyl) phosphonium tetrafenylfosfoniumjodid tetrafenylfosfoniumhexafluorofosfat (4-bromophenyl) trifenylfosfoniumhexafluorofosfat tetrafenylarsoniumtetrafluoroborat tetrafenylbismoniumklorid di- (l-naphthyl dimethylammonium tetrafluoroborate tri- (3-thienyl) methylammonium tetrafluoroborate diphenyacyldimethylammonium hexafluorophosphate 7805389-1 Examples of these and other onium salts and their preparation are described in Belgian Pat. No. 828,668.
B.B.
Oniumsalter med katjon ur grupp VIa i periodiska systemet I _ trifenylsulfoniumhexafluoroantimonat 4-klorofenyldifenylsulfoniumtetrafluoroborat trifenylsulfoniumjodid 4-cyanofenyldifenylsulfoniumjodid trifenylsulfoniumsulfat ' 2-nitrifenylfenylmetylsulfoniumsulfat trifenylsulfoniumacetat trifenylsulfoniumtrikloracetat trifenylteluroniumpentaklorovismutat trifenylselenoniumhexafluoroantimonat Exempel på dessa och andra oniumsalter med en kat- jon ur grupp VIa ur det periodiska systemet och fram- ställningen därav ges i de belgiska patentskrifterna 828 670 och 833 472 samt den amerikanska patentansök- ningen Serial No 609 897.Onium salts with a cation of Group VIa of the Periodic Table I _ triphenylsulfonium 4-klorofenyldifenylsulfoniumtetrafluoroborat trifenylsulfoniumjodid 4-cyanofenyldifenylsulfoniumjodid trifenylsulfoniumsulfat 2-nitrifenylfenylmetylsulfoniumsulfat trifenylsulfoniumacetat trifenylsulfoniumtrikloracetat trifenylteluroniumpentaklorovismutat trifenylselenoniumhexafluoroantimonat Examples of these and other onium salts with a cation of Group VIa of the periodic system and appearance are of which are given in the Belgian patents 828 670 and 833 472 as well as the American patent application Serial No 609 897.
C.C.
Oniumsalter med katjon ur grupp VIIa i periodiska systemet difenyljodoniumjodid 4-klorofenylfenyljodoniumjodid difenyljodoniumklorid ' 4-trifluorometylfenylfenyljodoniumtetrafluoroborat difenyljodoniumsulfat di(A-metoxifenyl)jodoniumklorid difenyljodoniumtrikloroacetat 4-metylfenylfenyljodoniumtetrafluoroborat aifenylbromofiiumklorid 1-(2-karboetoxinaftyl)fenyljodoniumklorid 2,2'-difenyljodoniumhexafluorofosfat I Exempel på dessa och andra haloniumsalter och fram- ställningen därav beskrives i de belgiska patentskrif- terna 828 669 och 845 746. 10 15 20 25 30 7803389-1 13 Kompositionerna enligt uppfinningen kan framställas genom att man blandar oniumsaltet med den epoxiterminera- de silankompositionen tills en lösning bildats. Eftersom många av oniumsalterna har begränsad löslighet i den ki- selhaltiga föreningen föredrar man ofta att först lösa oniumsaltet i ett flytande spädningsmedel, som är inert i förhållande till kompositionens komponenter och sedan blanda i denna lösning i den reaktionsbenägna kompositio- nen. Lämpliga inerta spädningsmedel är alkoholer, såsom etanol, estrar, såsom etylacetat, etrar, såsom dietyl- eter, halogenkolväten, såsom dikloretan, och nitriler, såsom acetonitril. Av hållbarhetsskäl måste dessa lös- ningsmedel och lösningar vara vattenfria.Onium salts with a cation of Group VIIa of the Periodic Table difenyljodoniumjodid 4-klorofenylfenyljodoniumjodid diphenyliodonium 4-trifluorometylfenylfenyljodoniumtetrafluoroborat difenyljodoniumsulfat d (A-methoxyphenyl) jodoniumklorid difenyljodoniumtrikloroacetat 4-ium chloride metylfenylfenyljodoniumtetrafluoroborat aifenylbromo f 1- (2-karboetoxinaftyl) fenyljodoniumklorid 2,2'-diphenyliodonium hexafluorophosphate I Examples of these and other halonium salts and their preparation are described in Belgian Patents 828 669 and 845 746. The compositions of the invention can be prepared by mixing the onium salt with the epoxy-terminated silane composition until a solution is formed. Since many of the onium salts have limited solubility in the silicon-containing compound, it is often preferred to first dissolve the onium salt in a liquid diluent which is inert to the components of the composition and then mix in this solution in the reactive composition. Suitable inert diluents are alcohols such as ethanol, esters such as ethyl acetate, ethers such as diethyl ether, halogenated hydrocarbons such as dichloroethane, and nitriles such as acetonitrile. For reasons of durability, these solvents and solutions must be anhydrous.
De aromatiska jodoniumsalterna har formlerna êrl\\ Ari (mb/I Ga Q 6 Arz Ar2 ._- vari Arl och Arz betecknar aromatiska grupper med 4-20 kolatomer och dessa utgöres av fenyl-, naftyl-, tienyl-, furanyl- och pyraxolyl-grupper, W betecknar Ö, š, š=O, å=O, =š=O och/eller Rll-å, vari Rll betecknar aryl med å-20 koiatomer eller acyl'med 2-20 kolatomer (såsom fenyl, acyl, bensoyl, etc), en kol-till-kolbindning eller RI2-C-RI3, vari Rlz och Rl3 kylgrupper med l-4 kolatomer och/eller alkenylgrupper med 2-4 kolatomer, b betecknar noll eller l, och Q be- tecknar en halogenhaltig komplex anjon, som utgöres av tetrafluorborat, hexafluorfosfat, hexafluorarsenat, hexaklorantimonat eller hexafluorantimonat, en fluoro- alifatisk sulfonsyra, bis-(fluoroalifatisk sulfonyl)metan eller bis(fluoroalifatisk sulfonyl)imid.The aromatic iodonium salts have the formulas êrl \\ Ari (mb / I Ga Q 6 Arz Ar2 ._- wherein Arl and Arz represent aromatic groups having 4-20 carbon atoms and these consist of phenyl, naphthyl, thienyl, furanyl and pyraxolyl groups, W represents Ö, š, š = O, å = O, = š = O and / or R11-å, wherein R11 represents aryl having α-carbon atoms or acyl with 2-20 carbon atoms (such as phenyl, acyl , benzoyl, etc.), a carbon-to-carbon bond or R 12 -C-R 13, wherein R 12 and R 13 are cooling groups having 1-4 carbon atoms and / or alkenyl groups having 2-4 carbon atoms, b is zero or 1, and Q is a halogen-containing complex anion consisting of tetrafluoroborate, hexafluorophosphate, hexafluoroarsenate, hexachloroantimonate or hexafluoroantimonate, a fluoroaliphatic sulfonic acid, bis- (fluoroaliphatic sulfonyl) methane or bis (fluoroaliphatic sulfonyl) imide.
Föredragna föreningar i denna grupp är sådana, vari n=0. Andra föredragna material är sådana, vari Arl och :ego betecknar väte, al- Ar2 betecknar fenyl. 1soszs9¿1 10 15 20 25 30 14 De aromatiska sulfoniumsalterna har formlerna: Arl _ _ ' Ar]- (m/ ~ Aíf 1 S C) ¿¿C) och Ar§___? C) (2() I Rl Rl vari Arl och Ar2 kan vara lika eller olika och utgöras av aromater (såsom definierats tidigare för de aromatis- ka jodoniumsalterna) och R;, W och Q har tidigare angiven betydelse. Föredragna föreningar inom denna klass är de, vari Arz och Rl betecknar fenyl.Preferred compounds in this group are those wherein n = 0. Other preferred materials are those in which Ar 1 and ego represent hydrogen, α 1 -Ar 2 represents phenyl. 1soszs9¿1 10 15 20 25 30 14 The aromatic sulfonium salts have the formulas: Arl _ _ 'Ar] - (m / ~ Aíf 1 S C) ¿¿C) and Ar§ ___? C) (2 () In R1, R1 in which Ar1 and Ar2 may be the same or different and consist of aromatics (as previously defined for the aromatic iodonium salts) and R 1, W and Q are as previously defined. are those in which Arz and R1 represent phenyl.
Lämpliga exempel på föredragna aromatiska onium- saltfotokatalysatorer är: difenyljodoniumtetrafluorborat *difenyljodoniumhexafluorfosfat difenyljodoniumhexafluorarsenat difenyljodoniumhexaklorantimonat difenyljodoniumhexafluorantimonat difenyljodoniumbis(trifluormetylsulfonyl)-metan Andra lämpliga föredragna aromatiska oniumsaltfoto- katalysatorer är motsvarande trifenylsulfoniumsalter.Suitable examples of preferred aromatic onium salt photocatalysts are: * difenyljodoniumtetrafluorborat difenyljodoniumhexafluorarsenat difenyljodoniumhexaklorantimonat diphenyliodonium hexafluorophosphate diphenyliodonium hexafluoroantimonate difenyljodoniumbis (trifluoromethylsulfonyl) methane Other suitable preferred aromatic oniumsaltfoto- catalysts are corresponding trifenylsulfoniumsalter.
Ytterligare andra föredragna s later uppräknas i den belgiska patentskriften 845 746 och innefattar triaryl- sulfoniumhexafluorofosfat, tritolylsulfoniumhexafluoro- fosfat, metyldifenylsulfoniumtetrafluorborat etc.Still other preferred types are listed in Belgian Patent Specification 845 746 and include triarylsulfonium hexafluorophosphate, tritolylsulfonium hexafluorophosphate, methyldiphenylsulfonium tetrafluoroborate, etc.
De aromatiska oniumsaltfotokatalysatorer, som kan användas i de fotopolymeriserbara kompositionerna enligt uppfinningen, är i sig fotosensitiva endast inom UV-om- rådet. De är latenta katalysatorer, som måste blandas med reaktanterna och sedan aktiveras genom strålning.The aromatic onium salt photocatalysts which can be used in the photopolymerizable compositions of the invention are inherently photosensitive only in the UV range. They are latent catalysts, which must be mixed with the reactants and then activated by radiation.
De kan vidare göras ljuskänsliga för den synliga delen av spektrum liksom för den del av UV-området, som ligger nära den synliga delen av spektrum med sensibiliserings- medel för kända fotolyserbara jodoniumföreningar enligt vad som framgår av US-PS 3 729 313; Polyepoxiföreningarna enligt uppfinningen har for- meln 10 15 20 25 30 7803389-1 15 O MC/ÅCH) n a b vari R betecknar en alifatisk eller cykloalifatisk grupp av sådant slag att epoxiföreningen har en molekylvikt på minst 100 per epoxigrupp för att hindra utslag. Särskilt föredrar man att föreningen har en molekylvikt på minst 150 per epoxigrupp för att ge betydande flexibilitete- förbättring. Alifatisk och cykloalifatisk syftar på kol- väten, som också kan ha eter- och estersyreñ och tio- etergrupper. n betecknar R:s valens och är ett heltal på 2-6 (företrädesvis 2). a och b betecknar H eller, då de är kondenserade, bildar atomerna nödvändigtvis en 5- eller 6-ledad cykloalifatisk ring. R väljes företrä- desvis så att den flexibiliserande epoxiföreningen vid homopolymerisation ger en polymer med en övergångstempe- ratur eller glastemperatur (Tg) under -25°C.They can further be made photosensitive to the visible part of the spectrum as well as to the part of the UV region which is close to the visible part of the spectrum with sensitizers for known photolysable iodonium compounds as disclosed in US-PS 3,729,313; The polyepoxy compounds of the invention have the formula MC / ÅCH) n a b wherein R represents an aliphatic or cycloaliphatic group of such kind that the epoxy compound has a molecular weight of at least 100 per epoxy group to prevent rash. In particular, it is preferred that the compound have a molecular weight of at least 150 per epoxy group to provide significant flexibility improvement. Aliphatic and cycloaliphatic refers to hydrocarbons, which may also have ether and ester acids and ten-ether groups. n denotes the valence of R and is an integer of 2-6 (preferably 2). a and b represent H or, when fused, the atoms necessarily form a 5- or 6-membered cycloaliphatic ring. R is preferably selected so that the flexible epoxy compound upon homopolymerization gives a polymer having a transition temperature or glass transition temperature (Tg) below -25 ° C.
Användbara polyepoxider, som också är flexibilise- rande epoxiföreningar inom denna definition inbegriper, vidare sådana, som innehåller en eller flera cyklohexen- oxidgrupper, såsom epoxicyklohexankarboxylater, som kan exemplifieras med 3,4-epoxicyklohexylmetyl-2,4-epoxi- cyklohexankarboxylat, 3,4-epoxi-2-metylcyklohexylmetyl- 3,4-epoxi-2-metylcyklohexan-karboxylat och bis(3,4- -epoxi-6-metylcyklohexylmetyl)adipat. En mera detaljerad lista av flexibiliserande epoxiföreningar enligt uppfin- ningen återfinnes i US-PS 3 ll? 099, särskilt spalt 2, rad 59-spalt 4 rad 22, vilket avsnitt genom denna hänvis- ning införlivas i denna text.Useful polyepoxides, which are also flexible epoxy compounds within this definition, further include those containing one or more cyclohexene oxide groups, such as epoxycyclohexanecarboxylates, which may be exemplified by 3,4-epoxycyclohexylmethyl 2,4-epoxycyclohexanecarboxylate, 3 4-Epoxy-2-methylcyclohexylmethyl-3,4-epoxy-2-methylcyclohexanecarboxylate and bis (3,4-epoxy-6-methylcyclohexylmethyl) adipate. A more detailed list of flexible epoxy compounds according to the invention can be found in US-PS 3 ll? 099, in particular column 2, line 59-column 4 line 22, which section is incorporated into this text by this reference.
Andra lämpliga flexibiliserande epoxiföreningar är polyglycidaletrar av alifatiska polyoler, såsom 1,4- -butandioldiglycidyleter, l,6-hexandioldiglycidyleter, dietylenglykoldiglycidyleter, trietylenglykoldiglycidyl- eter, polypropylenglykoldiglycidyleter (t ex "ERL-4050" och "ERL-4052" fån Union Carbide Corp), diglycidyleter av 2,5-dioxandiol och triglycidyletern av trimetylol- 7803389-1 10 15 20 25 30 35 16 propan, epoxiderad.epolwolefiner, såsom dipentendiokid (t ex "ERL-4269" från Union Carbide Corp) och epoxiderad polybutadien (t ex Oxiron 2001 från FMC Corp). Andra lämpliga alifatiska polyepoxiföreningar finns beskrivna i Handbook of Epoxy Resins, McGraw-Hill Brook Co (l967).Other suitable flexoxy epoxy compounds are polyglycidyl ethers of aliphatic polyols, such as 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, diethylene glycol diglycidyl ether, triethylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycene and carbon dioxide. , diglycidyl ether of 2,5-dioxanediol and the triglycidyl ether of trimethylol-propane, epoxidized.polwolefins, such as dipentenediokide (e.g. "ERL-4269" from Union Carbide Corp) and epoxidized polybutadiene (e.g. Oxiron 2001 from FMC Corp). Other suitable aliphatic polyepoxy compounds are described in the Handbook of Epoxy Resins, McGraw-Hill Brook Co. (1967).
De UV>absorptionsmedel, som företrädesvis användes enligt uppfinningen, kan indelas i följande klasseri BENSOFENONER: Denna klass innefattar substituerade 2- -hydroxibensofenoner. Dessa finns med olika substituen- ter på grundmolekylen för att ge rätt kombinerbarhet, icke flyktighet och vissa absorptionsegenskaper. Typiska substituerade 2-hydroxibensofenoner är 2-hydroxi-4- -metoxi-bensofenon, 2-hydroxi-4-oktyl-oxibensofenon, 4-dodecyloxi-2-hydroxibensofenon och 2,2'-dihydroxi-4-4'- -dimetoxibensofenon. Man betraktar substituerade _ l' I 2-hydroxibensofenoner som en klass. BENSOTRIAZOLER: Denna klass inbegriper derivat av 2-(2'-hydroxifenyl) bensotriazol. Typiska exempel är 2-(2'-hydroxi-5'-metyl- fenyl)bensotriazol och 2-(2'ahydroxi-5'-t-oktylfenyl) g bensotriazol. Substituerade 2-(2'~hydroxifenyl)benso- triazoler är också en inom detta område erkänd klass av UV>strålningsabsorptionsmedel. SUBSTITUERADE AKRYLATER: Dessa utgör en annan erkänd klass av UV-absorptionsmedel.The UV absorbers preferably used in the invention can be divided into the following class of BENZOPHENONES: This class includes substituted 2-hydroxybenzophenones. These are available with different substituents on the basic molecule to give the right compatibility, non-volatility and certain absorption properties. Typical substituted 2-hydroxybenzophenones are 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-octyloxybenzophenone, 4-dodecyloxy-2-hydroxybenzophenone and 2,2'-dihydroxy-4-4'-dimethoxybenzophenone. Substituted 1'-2-hydroxybenzophenones are considered a class. BENSOTRIAZOLES: This class includes derivatives of 2- (2'-hydroxyphenyl) benzotriazole. Typical examples are 2- (2'-hydroxy-5'-methylphenyl) benzotriazole and 2- (2'-hydroxy-5'-t-octylphenyl) g benzotriazole. Substituted 2- (2'-hydroxyphenyl) benzo-triazoles are also a class recognized in this field as UV> radiation absorbers. SUBSTITUTED ACRYLATES: These are another recognized class of UV absorbers.
Typiska exempel är etyl~2-cyano-3,3-difenylakrylat, 2-etylhexyl-2-cyano-3,3-difenylakrylat och p-metoxi- -bensylidenmalonsyradimetylester.Typical examples are ethyl 2-cyano-3,3-diphenyl acrylate, 2-ethylhexyl-2-cyano-3,3-diphenyl acrylate and p-methoxy-benzylidenemalonic acid dimethyl ester.
ARYLESTRAR: Denna erkända klass inbegriper arylsali- cylater, bensoater och estrar av resorcinol. Typiska exempel är fenylsalicylat, p-t-oktylfenylsalicylat, resorcinolmonobensoat och 2,4-di-t-butylfenyl-3,5-di- -t-butyl-4-hydroxibensoat. Kombinationer av dessa UV- absorptionsmedel användes ofta för att kombinera egen- skaperna hos de enskilda absorptionsmedlen. Föredragna absorptionsmedel är (I) 2,4-dihydroxibensofenon, (II) 2,2'4,4'-tetrahydroxibensofenon, (III) 2-(2'-hydroxi-5- -metylfenyl)bensotriazol och (IV) 2-(3',5'-di-t-amyl- -2'hydroxifenyl)bensotiazol. 10 15 20 25 30 7803389-1 17 , _ Följande exempel belyser uppfinningen ytterligare.ARYL ESTERS: This recognized class includes aryl salicylates, benzoates and esters of resorcinol. Typical examples are phenyl salicylate, p-t-octylphenyl salicylate, resorcinol monobenzoate and 2,4-di-t-butylphenyl-3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzoate. Combinations of these UV absorbers are often used to combine the properties of the individual absorbers. Preferred absorbents are (I) 2,4-dihydroxybenzophenone, (II) 2,2'4,4'-tetrahydroxybenzophenone, (III) 2- (2'-hydroxy-5-methylphenyl) benzotriazole and (IV) 2- ( 3 ', 5'-di-t-amyl--2'-hydroxyphenyl) benzothiazole. 10 15 20 25 30 7803389-1 17, _ The following examples further illustrate the invention.
EXEMPEL l En beläggningsberedning (A) framställdes på följan- de sätt. 6,0 g Y-glycidoxipropyltrimetoxisilan hydroly- serades partiellt (40% metoxigrupper avlägsnades) och flyktigt material avlägsnades. 4,0 g diglycidyleter av 1,4-butandiol tillsattes till enbart det partiella hydrolysatet med O,l g bis(trifluormetylsulfonyl)fenyl- metan i etylacetat, 0,01 g inert, fluororat oligomert utjämningsmedel, 8,89 g etylacetat och l,O g 2,4-di- hydroxibensofenon.EXAMPLE 1 A coating formulation (A) was prepared as follows. 6.0 g of Y-glycidoxypropyltrimethoxysilane were partially hydrolyzed (40% methoxy groups were removed) and volatiles were removed. 4.0 g of diglycidyl ether of 1,4-butanediol was added to the partial hydrolyzate alone with 0.1 g of bis (trifluoromethylsulfonyl) phenylmethane in ethyl acetate, 0.01 g of inert, fluorinated oligomeric smoothing agent, 8.89 g of ethyl acetate and 1.0 g g 2,4-dihydroxybenzophenone.
En andra täckande beredning (B) ovan för A men utan tillsats av UV-absorptionsmedelw Två färgfotografier belades med beredningarna A resp B med en beläggningsstav av stål lindad med tråd nr 22.A second opaque formulation (B) above for A but without the addition of UV absorber. Two color photographs were coated with formulations A and B, respectively, with a steel coating rod wound with wire No. 22.
Beläggningarna fick härda vid rumstemperatur i 4 h och placerades sedan under en 200 W UV-lampa (medelhögt kvicksilvertryck) tillsammans med ett icke täckt färg- framställdes såsom fotografi. Efter 7 h började det icke belagda fotografiet och det fotografi, som hade beläggningen B, att blekna men ingen blekning observerades på det färgfotografi, som var betäckt med beredningen A. Efter l7 h bestrål- ning hade allvarlig blekning och färgförstöring ägt rum på det icke belagda fotografiet och det fotografi, som var täckt med beredning B, men ingen blekning eller färg- förändring kunde observeras på det fotografi, som var täckt med beredningen A, som innehöll UV-filtret I. De fotografier, som var täckta med A och B var synnerligen beständiga mot nötning med stålull (nr OOO) och torkning med en våt pappersduk.The coatings were allowed to cure at room temperature for 4 hours and then placed under a 200 W UV lamp (medium mercury pressure) together with an uncovered paint was prepared as a photograph. After 7 hours, the uncoated photograph and the photograph having the coating B began to fade, but no bleaching was observed on the color photograph coated with the preparation A. After 17 hours of irradiation, severe bleaching and color destruction had taken place on the non-coated photograph. the coated photograph and the photograph covered with formulation B, but no bleaching or discoloration could be observed on the photograph covered with formulation A containing the UV filter I. The photographs covered with formulations A and B were extremely resistant to abrasion with steel wool (No. 000) and drying with a wet paper towel.
EXEMPEL 2 Beläggningsberedningar framställdes såsom i exempel l men följande UV-absorptionsmedel och mängder användes: '7e03389*1 10 Beredning B C D E 18 UV-absorgtionsmedel Inget 0,2 g (2%) I 0,2 g (2%) II 0,2 g (2%) IV Man upprepade förfarandet enligt exempel l och be- läggningar anbringades på färgtryck, somhade vit bakgrund och områden med rent blått? purpurrött och gult. Dessa täckta fotografier placerades under en 275 W GE-sollampa (25 cm avstånd). Efter 2 dagars bestrålning kunde man notera att det blåa omrâdet på det med B belagda täckta omrâdet hade bleknat och den vita bakgrunden började gulna. De med C, D och E täckta trycken visade ringa om ens någon förändring. De visuella bedömningarna efter _ 4 dagars bestrålning ges i följande tabell I. 7803389-1 19 mnflnßflwnßm cwmfifl uxwfln uwmbw møfluwflmnßw :mona wnmmfln umm>w ÜDHHDNHÜW flxwfln umm>m mfifiu lwcmußu dmwfiw uxwHQ,ßmm>m fixmfln umm>w fidw uxwan umm>w vxwfin #mm>m mcflu |wfimHmw Gwmcfi UUHWHQ H-Hmxwm .MI N fldm umm>m uwxuhfi >H Q Anm umm>w uwxohä HH Q Hflw ummbw uwxowë H U Hmm umxumš cwmGH m wdsumxmn Hwflmämcoflvmuømflm møflflmmmflmm ufl> |>D H Hfiwflmä U 7803389-1 20 I följande exempel beskrives UV-härdade skyddsbe- läggningar med 100% fast material. _ De beredningar (F-K) som beskrives i tabell II, täcktes med en med tråd nr 3 lindad stav på färgtryck så: som beskrivits i exempel 2. Beläggningarna härdades ome- delbart under en 200 W UV-lampa (med medelhögt kvick- silvertryck) i 40 s varefter man värmde vid 60°C i 10 min.EXAMPLE 2 Coating preparations were prepared as in Example 1 but the following UV absorbers and amounts were used: Preparation BCDE 18 UV absorber No 0.2 g (2%) I 0.2 g (2%) II 0.2 g (2%) IV The procedure of Example 1 was repeated and coatings were applied to color prints, which had a white background and areas of pure blue? purple and yellow. These covered photographs were placed under a 275 W GE solar lamp (25 cm distance). After 2 days of irradiation, it could be noted that the blue area on the B-covered area had faded and the white background began to turn yellow. The pressures covered with C, D and E showed little or no change. The visual assessments after _ 4 days of irradiation are given in the following table I. 7803389-1 19 mn fl nß fl wnßm cwm fifl uxw fl n uwmbw mø fl uw fl mnßw: mona wnmm fl n umm> w ÜDHHDNHÜW fl xw fl n umm> m umH m> w VXW f n #MM> m mc fl u | W f mHmw Gwmc fi UUHWHQ H Hmxwm .MI N fl dm umm> m uwxuh fi> HQ Note umm> w uwxohä HH Q H fl w ummbw uwxowë HU Hmm umxumš cwmGH m wdsumxmn Hw al MAMCO al vmuøm fl m MO flfl mmm al etc. u f> |> DH H f w f tra U 7803389 -1 20 The following examples describe UV-cured protective coatings with 100% solid material. The preparations (FK) described in Table II were covered with a wire-printed rod No. 3 on ink printing as described in Example 2. The coatings were immediately cured under a 200 W UV lamp (with medium mercury pressure). for 40 s after which it was heated at 60 ° C for 10 min.
Etticke täckt fotografiskt färgtryck användeš som jäm- förelse. l 7803389-1 .umvmuäo nanm »mv Eocfl mcflaxmfln mm>w ummwnw fluo uumuuøuusm wmš uwwmuño Eoøfl møflcxmfln mflfiuumë nw _umUmuE0 mwfln vwv Eocfl mcflflxman mwcmwwuwn Gm .cwvfiøumxmn fl»fl> :mv M mcflcmumwfløm mm>m sm wwmm |fl>mm5 ømšfiflw muxomuo :ma .mcflcxwfln nmnnwuwfiov :mä .mmbw umxoæä uwmwnw >oum muxomu mmfifiuñmm mUmmfl>mmø swšfiflw :www øsmum>m En «.mN øwš mmšmflflom 3 mßw cm wmvs: mcflcfimuummn wummmw m uwnwm 21 mfiflmw wow ßuçußß gïaq uaßuï _ qxeque xošxqßxgg m.o ~o_o N_0 Ml nom m_o ~o.o N~O bl wow uwxoäë m.O NO_O ~.o ml vom m.o N0.0 N_O OI WOW uwxuæš m.O N0.0 N.O HH fiflmßmß. afløfiwuw »GE uwnmfløcmßmmnmmcfinvnz mmmmmmmmmm >H Hw@mEwc0flumH0wQm|>D Hoxuoøflm bm Hmflmâ v>fluxmu> uuwflH wmnm mm^mm@uv 02 O 05 O :AH Ö wmoomwhwmuvuowmu ~ _ Ö . onfiw@H/=.~ \m@mwo oo nu ~mu|mu~muo«^~muvo~mumu 1 N J\ /d\\ EU m^wzovflwm^~mu.o~mumo | Nmo /d\\ ^EmHwV hGflG©wHwm\HwUm@ümumwm dvaossse-1 10 15 20 25 30 35 u. n... ..w~..,. ___. 22 Exempel 4 Styva polyvinylkloridark kan också skyddas enligt. uppfinningen. I detta exempel visade det sig att en grundfärg var önskvärd för att höja bindningen mellan den nötningsbeständiga beläggning, som innehöll UV-ab- sorptionsmedlet, och arket. En terpolymer av etylmetakry- lat, butylakrylat och metakryloxipropyltrietoxisilan (80:l7:3) anbringades från en lösning (med l0% fast ma- terial) i toluen/etylacetat (50/50) med en applikator- stav lindad med tråd nr 14, varefter man torkade l h vid rumstemperatur innan den övre beläggningen anbringades.A solid photographic color print was used as a comparison. l 7803389-1 .umvmuäo NANM »mv Eoc al mc al AXM fl n mm> w ummwnw fl uo uumuuøuusm WMS uwwmuño EOO al Mo al CXM fl n m flfi uumë nw _umUmuE0 mw fl n vwv Eoc al mc flfl xman mwcmwwuwn Gm .cwv fi øumxmn al» fl>: MW M mc al cmumw al MM> m sm wwmm | f> mm5 OMS fifl w muxomuo: ma .mc al CXW fl n nmnnwuw fi po: Ma .mmbw umxoæä uwmwnw> Oum muxomu mm fifi uñmm Mumm fl> MMO SWS fifl w: www øsmum> m A «.mN OWS mmšm flfl about 3 mßw cm wmvs: mc f c f muummn wummmw m uwnwm 21 m fifl mw wow ßuçußß GIAQ uaßuï _ qxeque xošxqßxgg mo ~ o_o N_0 Ml nom m_o ~ oo N ~ O bl wow uwxoäë mO NO_O ~ .o ml vom mo N0.0 N_O OI WOW uwxuæš mO N0.0 NO HH fifl mßmß. a fl ø fi wuw »GE uwnm fl øcmßmmnmmc fi nvnz mmmmmmmmmm> H Hw @ mEwc0 fl umH0wQm |> D Hoxuoø fl m bm Hm fl mâ v> fl uxmu> uuw fl H wmnm mm ^ mm @ uw Öu wm 02. on fi w@H/=.~ \ m @ mwo oo nu ~ mu | mu ~ muo «^ ~ muvo ~ mumu 1 N J \ / d \\ EU m ^ wzov fl wm ^ ~ mu.o ~ mumo | Nmo / d \\ ^ EmHwV hG fl G © wHwm \ HwUm @ ümumwm dvaossse-1 10 15 20 25 30 35 u. N ..... ..w ~ ..,. ___. Example 4 Rigid polyvinyl chloride sheets can also be protected according to. the invention. In this example, it was found that a primer was desirable to increase the bond between the abrasion resistant coating containing the UV absorber and the sheet. A terpolymer of ethyl methacrylate, butyl acrylate and methacryloxypropyltriethoxysilane (80: 17: 3) was applied from a solution (with 10% solids) in toluene / ethyl acetate (50/50) with an applicator rod wound with wire No. 14, after which the lh was dried at room temperature before the upper coating was applied.
Efter grundningen anbringades de nötningsbeständiga beläggningarna (med eller_utan nödvändiga modifieringsmedel såsom beskrives senare) från en lösning med 50% fast mate- rial i etylacetat med tråd nr 14 lindad applikatorstav.After priming, the abrasion resistant coatings (with or without the necessary modifiers as described later) were applied from a solution of 50% solid material in ethyl acetate with wire No. 14 wound applicator rod.
Beläggningarna fick härda i 5 dagar vid rumstemperatur.The coatings were allowed to cure for 5 days at room temperature.
Samtliga nötningsbeständiga beläggningar uppvisade god "shackmönstrad" vidhäftning (till minst 85%) och utmärkt_ nötningsbestänaighet mot ståluu jämfört med polyvinyl- klorid. 7 Tre prover jämfördes: A) ett kontrollprov (utan nöt-0 ningsbeständig beläggning); B) en nötningsbeständig be- läggning med UV-absorptionsmedel men utan flexibiliseran- de epoximaterial; och C) en nötningsbeständig beläggning med UV-absorptionsmedel och flexibiliserande epoximate- rial. Sammansättningen hos de beläggningar som användes i B och C Var= Komponent (deïar) (deïar) Y-glycidoxipropyltrimetoxisilan l0,0 6,0 diglycidyleter av 1,4-butandiol - 4,0 2,4-dihydroxibensofenon 2,0 2,0 etylacetat 7 12,0 12,0 trifluormetylsulfonylfenylmetan 0,1 0,1 inert fluorerat oligomert ytaktivt medel 0,01 0,01 10 15 20 25 30 35 vsozzse-1 23 Proverna behandlades i cykler genom att de placera- des 25,4 cm från en 275 W sollampa i 4 h och sedan ned- sänktes i vatten under 4 h. Resultaten var följande: 20 h Ljusbrun missfärning Hårtunna sprickor på ytan Ingen förändring 95 h Brun missfärgning genomgående Ytan mycket sprucken men ingen missfärgning Ingen förändring 650 h Provet mörkbrunt och opakt Svårartad sprickbildning Smala hârfina sprickor börjar Visa sig 800 h Provet fullständigt misslyckat CUPOUJIflOUJWOWIfl Stora sprickor och svag missfärgning börjar Ä komma fram i beläggningen ' C Ytterligare sprickbildning men ingen miss- färgning Exemplen 5-15 Följande material användes i dessa exempel.All abrasion resistant coatings showed good "shack patterned" adhesion (to at least 85%) and excellent abrasion resistance to steel compared to polyvinyl chloride. Three samples were compared: A) a control sample (without abrasion resistant coating); B) an abrasion-resistant coating with UV absorber but without flexible epoxy material; and C) an abrasion resistant coating with UV absorber and flexibilizing epoxy material. The composition of the coatings used in B and C Var = Component (deiar) (deiar) Y-glycidoxypropyltrimethoxysilane 1,0,0 6,0 diglycidyl ether of 1,4-butanediol - 4,0 2,4-dihydroxybenzophenone 2.0 2,0 ethyl acetate 7 12.0 12.0 trifluoromethylsulfonylphenylmethane 0.1 0.1 inert fluorinated oligomeric surfactant 0.01 0.01 10 15 20 25 30 35 vsozzse-1 23 The samples were treated in cycles by placing them 25.4 cm from a 275 W solar lamp for 4 h and then immersed in water for 4 h. The results were as follows: 20 h Light brown discoloration Hair-thin cracks on the surface No change 95 h Brown discoloration throughout The surface very cracked but no discoloration No change 650 h Sample dark brown and opaque Severe cracking Narrow fine cracks begin to appear 800 h Test completely failed CUPOUJI fl OUJWOWI fl Large cracks and slight discoloration begin to appear in the coating 'C Further cracking but no discoloration Examples 5-15 The following materials were used in these example.
A. Y-glycidoxipropyltrimetoxisilan B. ett 40% hydrolyserat prekondensat av Y-glycidoxipro- pyltrimetoxisilan C. l,4-butandioldiglycidyleter D. 3,4-epoxicyklohexylmetyl-3,4-epoxicyklohexankarboxylat E. bis(2-metyl-3,4-epoxicyklohexylmetyl)succinat F. 2-(2'-hydroxi-5'-metylfenyl)bensotriaxol (5% i iso- propylacetat) G. 2-(3',5'-di-t-amyl-2'hydroxifenyl)bensotriazol (lO% i isopropylacetat) H. Isopropylacetat I. Inert fluorerat oligomert ytaktivt medel J. bis(trifluormetylsulfonyl)fenylmetan K. Inert organosilikoninnehâllande ytaktivt medel.A. Y-glycidoxypropyltrimethoxysilane B. a 40% hydrolyzed precondensate of Y-glycidoxypropyltrimethoxysilane C. 1,4-butanediol diglycidyl ether D. 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate E. bis (2-2- epoxycyclohexylmethyl) succinate F. 2- (2'-hydroxy-5'-methylphenyl) benzotriaxol (5% in isopropyl acetate) G. 2- (3 ', 5'-di-t-amyl-2'hydroxyphenyl) benzotriazole ( 10% in isopropyl acetate) H. Isopropyl acetate I. Inert fluorinated oligomeric surfactant J. bis (trifluoromethylsulfonyl) phenylmethane K. Inert organosilicone-containing surfactant.
Alla beläggningar anbringades med en stav, som var lindad med tråd nr 22 utom exemplen lO, 12, l4 och 51, som anbringades med en stav, som var lindad med tråd nr 14, och torkades över natten. Polyetylentereftalat användes såsom bindemedelskikt. 7eosss9+1 10 15 20 25 30, 24 0 Proverna exponerades för en 275 W sollampa i 3 dagar på avståndet 25,4 cm. Resultaten visas i tabell III.All coatings were applied with a rod wound with wire No. 22 except Examples 10, 12, 14 and 51, which were applied with a rod wound with wire No. 14, and dried overnight. Polyethylene terephthalate was used as the adhesive layer. 7eosss9 + 1 10 15 20 25 30, 24 0 The samples were exposed to a 275 W solar lamp for 3 days at a distance of 25.4 cm. The results are shown in Table III.
Tabell'III Ex _ - EEIAEÉBEEÉQÉEEK 5 - 3 2 - - 1,5 2,9 0,1 0,5 ~ 6 - 3 - 2 - - 1,5 2,9 0,1 0,5 - 7 - 3 - 2 - - 1,5 2,9 - 0,5 0,1 s 3 - - 2- - - 1,5 2,9 - 0,5 0,1 9 - 3 - 2 - - 2,5 1,9 0,1 0,5 - 10 - 3 1 1 - 3,0 ¿ 1,4 0,1 0,5 - 11 - 3 1 1 - - 01,5 2,9 0,1 0,5 - 12 - 3 1 - 1 3,0 - 1,4 0,1 0,5 - 13 - 3 1 - l - 1,5 2,9 0,1 0,5 - 14 - 3 2 - - 3,0 - 1,4 0,1 0,5 - 15 - 3 ~ 2 - 3,0 '- 1,4 0,1 0,5 - Exemplen 6, 7, 9, 10, 12, 14 och 15 uppvisade -inga utslag eller missfärning.- Exemplen 8 och 13 uppvisade svaga utslag vid nog- grann undersökning men ingen missfärgning.Table'III Ex _ - EEIAEÉBEEÉQÉEEK 5 - 3 2 - - 1,5 2,9 0,1 0,5 ~ 6 - 3 - 2 - - 1,5 2,9 0,1 0,5 - 7 - 3 - 2 - - 1.5 2.9 - 0.5 0.1 s 3 - - 2- - - 1.5 2.9 - 0.5 0.1 9 - 3 - 2 - - 2.5 1.9 0.1 0.5 - 10 - 3 1 1 - 3.0 ¿1.4 0.1 0.5 - 11 - 3 1 1 - - 01.5 2.9 0.1 0.5 - 12 - 3 1 - 1 3.0 - 1.4 0.1 0.5 - 13 - 3 1 - 1 - 1.5 2.9 0.1 0.5 - 14 - 3 2 - - 3.0 - 1.4 0.1 0.5 - 15 - 3 ~ 2 - 3.0 '- 1.4 0.1 0.5 - Examples 6, 7, 9, 10, 12, 14 and 15 showed -no rash or discoloration.- Examples 8 and 13 showed weak results on thorough examination but no discoloration.
Exemplen 5 och ll uppvisade tydligt med reducerat utslag men ingen missfärning.Examples 5 and 11 clearly showed reduced rash but no misalignment.
Utslaget i exemplen 5, 8, ll och 13 inträffade på grund av att mindre verksamma flexibiliserande epoxider användes i kombination med UV-absorptionsmedel, som upp- visade de högsta utslagsegenskaperna. Utslaget var allt- jämt reducerat. Alla beläggningarna uppvisade utmärkt nötningsbeständighet. I Exempel 16-21 Dessa exempel visar att andra katalysatorsystem kan användas. En standardberedning av 60 delar Y-glycidoxi- propyltrimetoxisilan, 30 delar l,4-butandioldiglycidyl- eter och 10 delar bis(3,4-epoxicyklohexylmetyl)succinat framställdes. Alikvota delar av denna beredning för- sattes med varierande mängder katalysator, som man visste kan användas vid härdning av epoxiterminerade silaner. 10 15 20 25 30 7803389-1 25 Bland dessa fanns bis(trifluormetylsulfonyl)fenylmetan (BPM) (l,5% i etylacetat) tenntetraklorid (20% i l,2-di- kloretan), antimonpentafluorid (5% i ClCF2CFCl2), anti- monpentaklorid (lO% i 1,2-dikloretan) och perklorsyra (lO% i 1,2-ättiksyra). Olika mängder UV-absorberande medel och 0,1 vikt% av en organosilikonvätska med formeln ÉHB to-si+5-+o-c-cH¿+E CH3 CH3 vari m och n betecknar heltal på minst 2 så att vätskans genomsnittliga medelmolekylvikt (Én) blir ca 1500, dess densitet 0,99 och viskositeten l25 cSt vid 25°C, till- sattes innan kmmxßitionen härdades. Efter beläggning över färgfilmerna och härdning till en nötningsbeständig film undersöktes proven med avseende på beständighet mot ut~ slag, nötningsbeständighet och UV-skydd. Alla proven visa- de sig vara av hög kvalitet. De specifika kompositionerna var följande förutom 10 delar av den härdbara standard- kompositionen. I tabell IV betecknas 2,4-dihydroxibenso- fenon med DHB, 2-etylhexyl~2~cyano-3,3-difenylakrylat med ECD.The impact in Examples 5, 8, 11 and 13 occurred due to the use of less effective flexing epoxides in combination with UV absorbers, which showed the highest impact properties. The rash was still reduced. All coatings showed excellent abrasion resistance. In Examples 16-21 These examples show that other catalyst systems can be used. A standard preparation of 60 parts of Y-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 30 parts of 1,4-butanediol diglycidyl ether and 10 parts of bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) succinate was prepared. Aliquot portions of this formulation were charged with varying amounts of catalyst known to be used in curing epoxy-terminated silanes. Among these were bis (trifluoromethylsulfonyl) phenylmethane (BPM) (1.5% in ethyl acetate), tin tetrachloride (20% II, 2-dichloroethane), antimony pentafluoride (5% in ClCF2CFCl2), anti monpentachloride (10% in 1,2-dichloroethane) and perchloric acid (10% in 1,2-acetic acid). Different amounts of UV absorber and 0.1% by weight of an organosilicone liquid of the formula ÉHB to-si + 5- + oc-cH¿ + E CH3 CH3 where m and n denote integers of at least 2 so that the average average molecular weight (Én) of the liquid becomes about 1500, its density 0.99 and the viscosity 125 cSt at 25 ° C, was added before the compound was cured. After coating over the color films and curing to an abrasion resistant film, the samples were examined for impact resistance, abrasion resistance and UV protection. All the samples turned out to be of high quality. The specific compositions were as follows in addition to 10 parts of the standard curable composition. In Table IV, 2,4-dihydroxybenzophenone is denoted by DHB, 2-ethylhexyl-2-cyano-3,3-diphenyl acrylate by ECD.
Tabell IV ' _. - 'v A _ _ UV-absorptions~ Exempel Katalysator Vikt% medel Vikt% 16 BPM 0,15 DHB ' 5 17 BPM 0,15 Ecn 5 18* snc14 z,o man 5 19* sbF5 o,25 nns 5 20” sbc15 0,5 DHB 5 21” Hc1o4 2,0 nns 5 X8-10 vikt% etylacetat var nödvändigt för att hålla dessa katalysatorer i reaktionsbenägen lösning.Table IV '_. - 'v A _ _ UV absorption ~ Example Catalyst Weight% average Weight% 16 BPM 0.15 DHB' 5 17 BPM 0.15 Ecn 5 18 * snc14 z, o man 5 19 * sbF5 o, 25 nns 5 20 ” sbc15 0.5 DHB 5 21 ”Hclo4 2.0 nns 5 X8-10% by weight of ethyl acetate was necessary to keep these catalysts in reaction-soluble solution.
Vid utövandetaw föreliggande uppfinning fann man att UV-absorptionsmedlenas utslagstendens minskades oberoende av vilket katalysatorsystem, som användes. lO 15 20 25 30 35 íi7sozss9-1 26 Såsom tidigare noterats kan ett godtyckligt under- lag, som behöver skyddas från UV-strålning skyddas med beläggningskompositionen enligt uppfinningen. Belägg- ningskompositionen, som har både reaktionsbenägna silan- och epoxigrupper, kommer naturligtvis att vidhäfta många ytor. Grundfärg kan användas för att höja vidhäftningen då så är nödvändigt. _Då man vill skydda kontionellt, våtbearbetad foto- grafisk färgfilm eller papper är det nödvändigt att pla- cera den skyddande beläggningen över den yta, som skall betraktas_ kompositionen är vanligen ogenomtränglig för vattenhal- av emulsionen efter framkallning. Beläggnings- tiga material och lösningsmedel och om sådana placeras över emulsionen före framkallning kan framkallande lös- ningar ej-genomtränga beläggningen för att verka på den eàponerade emulsionen. Vissa fotografiska färgelement innehåller framkallande lösningar i det fotografiska elementet och behöver ej genomträngas av framkallnings- lösningar utifrån elementet. I sådana konstruktioner av fotografiska element kan den nötningsbeständiga, UV-ab- sorberande beläggningen anbringas på elementet före fram- kallning och före exponering. Då aktiva lösningar frigö- res i fotografiska filmer genom att kapslar eller skikt brister fysiskt skyddar i själva verket beläggningen enligt uppfinningen mot repning av det fotografiska elementets yta, vilken repning inträffar efter brist- ningen liksom man får skydd mot blekning av färgämnen i elementet, vilken blekning åstadkommas av UV-strålning.In the practice of the present invention, it has been found that the precipitation tendency of UV absorbers is reduced regardless of the catalyst system used. As previously noted, any substrate that needs to be protected from UV radiation can be protected with the coating composition of the invention. The coating composition, which has both reaction-prone silane and epoxy groups, will of course adhere to many surfaces. Primer can be used to increase adhesion when necessary. When it is desired to protect conventional, wet-processed photographic color film or paper, it is necessary to place the protective coating over the surface to be viewed. The composition is usually impermeable to the water-half of the emulsion after development. Coating materials and solvents and if placed over the emulsion prior to development, developing solutions may not permeate the coating to act on the exposed emulsion. Some photographic color elements contain developing solutions in the photographic element and do not need to be permeated by developing solutions based on the element. In such designs of photographic elements, the abrasion-resistant, UV-absorbing coating can be applied to the element before development and before exposure. In fact, when active solutions are released in photographic films by the failure of capsules or layers physically protecting the coating according to the invention against scratching of the surface of the photographic element, which scratching occurs after the rupture as well as protection against bleaching of dyes in the element, which bleaching is accomplished by UV radiation.
I beskrivningen av föreliggande uppfinning har be- toningen lagts på skyddet av färgämnen från UV-strålning men det är självklart att ett godtyckligt underlag, som kan pâverkas negativt genom UV-strålning, kan skyddas med föreliggande kompositioner. Polyolefiner är kända för att de skadas av UV-strålning, vinylhartser kan råka ut för allvarliga missfärgningsproblem härrörande från katjonen genom UV-strålning och båda kan skyddas med före- liggande beläggningskompositioner. Ett godtyckligt, fast, 10' 15 7803389~1i 27 styvt eller böjligt underlag kan skyddas med dessa kom- positioner men grundfärg kan vara lämpligt i särskilda fall.In the description of the present invention, the emphasis has been on the protection of dyes from UV radiation, but it is obvious that any substrate, which can be adversely affected by UV radiation, can be protected with the present compositions. Polyolefins are known to be damaged by UV radiation, vinyl resins can cause serious discoloration problems originating from the cation due to UV radiation and both can be protected with existing coating compositions. An arbitrary, solid, 10 '15 7803389 ~ 1i 27 rigid or flexible surface can be protected with these compositions, but primer may be suitable in special cases.
Flexibilitet är en annan önskvärd aspekt av uppfin- ningen inom mânga områden. Då man vill skydda konventio- nella färgfotografiska material, direktframkallande film eller kinofilm erfordras flexibilitet. De UV-absorberande nötningsbeständiga kompositionerna enligt uppfinningen kan då de anbringas på ett underlag eller en fri film upp- visa utomordentlig flexibilitet. Beläggningen och filmer- na kan lätt lindas runt en cylinder med diametern 15 cm vid rumstemperatur och de har ofta tillräcklig flexibili- tet för att kunna lindas runt en cylinder med diametern 5 cm. Särskilt lämpliga är underlag av böjliga eller styva syntetiska polymerhartser, såsom poly(vinylklorid), polykarbonat, polyetylentereftalat, akrylhartser, poly- (vinylklorid-vinylacetat)sampolymerer, isocyanatbaserade hartser och polymetylmetakrylat. Mâlade ytor kan också skyddas på lämpligt sätt.Flexibility is another desirable aspect of the invention in many areas. When you want to protect conventional color photographic materials, direct-developing film or cinema film, flexibility is required. The UV-absorbing abrasion-resistant compositions according to the invention, when applied to a substrate or a free film, can show excellent flexibility. The coating and films can be easily wound around a cylinder with a diameter of 15 cm at room temperature and they often have sufficient flexibility to be able to be wound around a cylinder with a diameter of 5 cm. Particularly suitable are substrates of flexible or rigid synthetic polymer resins, such as poly (vinyl chloride), polycarbonate, polyethylene terephthalate, acrylic resins, poly (vinyl chloride-vinyl acetate) copolymers, isocyanate-based resins and polymethyl methacrylate. Painted surfaces can also be protected in a suitable way.
Claims (8)
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US78204277A | 1977-03-28 | 1977-03-28 | |
US05/879,110 US4156046A (en) | 1977-03-28 | 1978-02-22 | Ultraviolet radiation protective, abrasion resistant, bloom resistant coatings |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SE7803389L SE7803389L (en) | 1978-09-29 |
SE438321B true SE438321B (en) | 1985-04-15 |
Family
ID=27119943
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SE7803389A SE438321B (en) | 1977-03-28 | 1978-03-23 | UV RADIATOR PREPARATION, TONE-RESISTANT COATING AND COMPOSITION FOR ITS PREPARATION |
Country Status (14)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS53121100A (en) |
AR (1) | AR222461A1 (en) |
AU (1) | AU508257B2 (en) |
BR (1) | BR7801847A (en) |
CA (1) | CA1109589A (en) |
CH (1) | CH640251A5 (en) |
DE (1) | DE2812848C3 (en) |
EG (1) | EG13298A (en) |
ES (1) | ES468226A1 (en) |
FR (1) | FR2385771A1 (en) |
GB (1) | GB1596234A (en) |
IT (1) | IT1156179B (en) |
MX (1) | MX150989A (en) |
SE (1) | SE438321B (en) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0060070A3 (en) * | 1981-03-12 | 1982-11-10 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Fade-resistant and abrasion resistant photographic reproduction, method of preparing and photographic product therefor |
US4497861A (en) * | 1983-05-20 | 1985-02-05 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Water-repellent, abrasion resistant coatings |
US4587169A (en) * | 1984-08-17 | 1986-05-06 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Abrasion resistant coatings |
AU603908B2 (en) * | 1987-07-30 | 1990-11-29 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Subbing layers for photographic elements and photographic elements incorporating such layers |
US6905770B2 (en) * | 2003-03-15 | 2005-06-14 | Cpfilms, Inc | Fade protector |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4049867A (en) * | 1973-03-08 | 1977-09-20 | Japan Atomic Energy Research Institute | Thermosetting resin composition comprising an [(2,3-epoxypropoxy)alkyl]trialkyloxysilane |
JPS5213536B2 (en) * | 1973-03-08 | 1977-04-15 | ||
US4049861A (en) * | 1975-03-07 | 1977-09-20 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Abrasion resistant coatings |
JPS6011727B2 (en) * | 1976-03-19 | 1985-03-27 | 東レ株式会社 | Curable resin composition |
US4069368A (en) * | 1976-10-01 | 1978-01-17 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Workable and curable epoxy-terminated silane films |
-
1978
- 1978-03-02 CA CA298,038A patent/CA1109589A/en not_active Expired
- 1978-03-23 GB GB11758/78A patent/GB1596234A/en not_active Expired
- 1978-03-23 AU AU34456/78A patent/AU508257B2/en not_active Expired
- 1978-03-23 SE SE7803389A patent/SE438321B/en not_active IP Right Cessation
- 1978-03-23 DE DE2812848A patent/DE2812848C3/en not_active Expired
- 1978-03-23 CH CH325678A patent/CH640251A5/en not_active IP Right Cessation
- 1978-03-24 FR FR7808638A patent/FR2385771A1/en active Granted
- 1978-03-24 IT IT48603/78A patent/IT1156179B/en active
- 1978-03-25 ES ES468226A patent/ES468226A1/en not_active Expired
- 1978-03-27 BR BR7801847A patent/BR7801847A/en unknown
- 1978-03-27 EG EG209/78A patent/EG13298A/en active
- 1978-03-27 MX MX172869A patent/MX150989A/en unknown
- 1978-03-28 AR AR271574A patent/AR222461A1/en active
- 1978-03-28 JP JP3595078A patent/JPS53121100A/en active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE2812848A1 (en) | 1978-10-05 |
DE2812848C3 (en) | 1980-11-20 |
EG13298A (en) | 1981-06-30 |
DE2812848B2 (en) | 1980-03-27 |
JPS53121100A (en) | 1978-10-23 |
AU3445678A (en) | 1979-09-27 |
IT1156179B (en) | 1987-01-28 |
ES468226A1 (en) | 1979-09-16 |
GB1596234A (en) | 1981-08-19 |
AU508257B2 (en) | 1980-03-13 |
CH640251A5 (en) | 1983-12-30 |
BR7801847A (en) | 1978-12-26 |
FR2385771B1 (en) | 1984-02-24 |
SE7803389L (en) | 1978-09-29 |
MX150989A (en) | 1984-09-06 |
CA1109589A (en) | 1981-09-22 |
AR222461A1 (en) | 1981-05-29 |
IT7848603A0 (en) | 1978-03-24 |
FR2385771A1 (en) | 1978-10-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4156046A (en) | Ultraviolet radiation protective, abrasion resistant, bloom resistant coatings | |
JP6670323B2 (en) | Thermosetting resin composition | |
CA1264889A (en) | Water-based photopolymerisable compositions and their use | |
US4426431A (en) | Radiation-curable compositions for restorative and/or protective treatment of photographic elements | |
JP3415149B2 (en) | UV curable silicone release composition | |
US4101513A (en) | Catalyst for condensation of hydrolyzable silanes and storage stable compositions thereof | |
DE2609148C2 (en) | ||
JP4753601B2 (en) | Photosensitive composition | |
DK200001910A (en) | Iodonium salts as latent acid donors | |
CN109642084B (en) | Curable composition | |
RU2180669C2 (en) | Method of hardening compositions utilizing cation photopolymerization | |
GB2139369A (en) | Photosensitive systems showing visible indication of exposure | |
JPS5942688B2 (en) | Photocopolymerizable compositions based on epoxy and hydroxyl-containing organic substances | |
JPH03184008A (en) | Optical fiber having ultraviolet setting cover | |
CA1270086A (en) | Abrasion resistant coatings | |
SE438321B (en) | UV RADIATOR PREPARATION, TONE-RESISTANT COATING AND COMPOSITION FOR ITS PREPARATION | |
CA1220595A (en) | Water-repellent resistant, abrasion resistant coatings | |
US4619949A (en) | Abrasion resistant coatings | |
JPS6017741A (en) | Antistatic photography base | |
US4082896A (en) | Abrasion resistant coatings | |
KR810001492B1 (en) | Ultraviolet radiation protective abrasion resistant bloom resistant coatings | |
EP3272737A1 (en) | Sulfonic acid derivative compound, photoacid generator, resist composition, cationic polymerization initiator, and cationically polymerizable composition | |
JPS5990846A (en) | Radiosensitive material | |
JPH0462554A (en) | Photosensitive composition |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
NAL | Patent in force |
Ref document number: 7803389-1 Format of ref document f/p: F |
|
NUG | Patent has lapsed |
Ref document number: 7803389-1 Format of ref document f/p: F |