SA516380631B1 - طلاء قليل الانعكاس، ومادة مطلية قليلة الانعكاس، وجهاز تحويل كهروضوئي - Google Patents

طلاء قليل الانعكاس، ومادة مطلية قليلة الانعكاس، وجهاز تحويل كهروضوئي Download PDF

Info

Publication number
SA516380631B1
SA516380631B1 SA516380631A SA516380631A SA516380631B1 SA 516380631 B1 SA516380631 B1 SA 516380631B1 SA 516380631 A SA516380631 A SA 516380631A SA 516380631 A SA516380631 A SA 516380631A SA 516380631 B1 SA516380631 B1 SA 516380631B1
Authority
SA
Saudi Arabia
Prior art keywords
low
coating
reflection
glass
ale ale
Prior art date
Application number
SA516380631A
Other languages
English (en)
Inventor
كوندو فوميوشي
كاوازو ميتسوهيرو
كويو ميزوهو
ماتسوبارا هيروفومي
مياموتو يوكو
Original Assignee
نيـبون شيت جلاس كمبني، ليمتد
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by نيـبون شيت جلاس كمبني، ليمتد filed Critical نيـبون شيت جلاس كمبني، ليمتد
Publication of SA516380631B1 publication Critical patent/SA516380631B1/ar

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/006Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character
    • C03C17/007Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character containing a dispersed phase, e.g. particles, fibres or flakes, in a continuous phase
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11Anti-reflection coatings
    • G02B1/111Anti-reflection coatings using layers comprising organic materials
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/22Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
    • C03C17/23Oxides
    • C03C17/25Oxides by deposition from the liquid phase
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/22Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
    • C03C17/23Oxides
    • C03C17/25Oxides by deposition from the liquid phase
    • C03C17/253Coating containing SnO2
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11Anti-reflection coatings
    • G02B1/113Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/02Details
    • H01L31/0216Coatings
    • H01L31/02161Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier
    • H01L31/02167Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier for solar cells
    • H01L31/02168Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier for solar cells the coatings being antireflective or having enhancing optical properties for the solar cells
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/04Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
    • H01L31/042PV modules or arrays of single PV cells
    • H01L31/048Encapsulation of modules
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00Coatings on glass
    • C03C2217/20Materials for coating a single layer on glass
    • C03C2217/21Oxides
    • C03C2217/211SnO2
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00Coatings on glass
    • C03C2217/20Materials for coating a single layer on glass
    • C03C2217/21Oxides
    • C03C2217/213SiO2
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00Coatings on glass
    • C03C2217/20Materials for coating a single layer on glass
    • C03C2217/21Oxides
    • C03C2217/214Al2O3
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00Coatings on glass
    • C03C2217/40Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
    • C03C2217/42Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of particles only
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00Coatings on glass
    • C03C2217/40Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
    • C03C2217/425Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a porous layer
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00Coatings on glass
    • C03C2217/40Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
    • C03C2217/43Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase
    • C03C2217/46Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase
    • C03C2217/465Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase having a specific shape
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00Coatings on glass
    • C03C2217/40Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
    • C03C2217/43Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase
    • C03C2217/46Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase
    • C03C2217/47Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase consisting of a specific material
    • C03C2217/475Inorganic materials
    • C03C2217/478Silica
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00Coatings on glass
    • C03C2217/70Properties of coatings
    • C03C2217/73Anti-reflective coatings with specific characteristics
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00Coatings on glass
    • C03C2217/70Properties of coatings
    • C03C2217/73Anti-reflective coatings with specific characteristics
    • C03C2217/732Anti-reflective coatings with specific characteristics made of a single layer
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00Coatings on glass
    • C03C2217/90Other aspects of coatings
    • C03C2217/94Transparent conductive oxide layers [TCO] being part of a multilayer coating
    • C03C2217/948Layers comprising indium tin oxide [ITO]
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00Methods for coating glass
    • C03C2218/10Deposition methods
    • C03C2218/11Deposition methods from solutions or suspensions
    • C03C2218/118Deposition methods from solutions or suspensions by roller-coating
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00Methods for coating glass
    • C03C2218/30Aspects of methods for coating glass not covered above
    • C03C2218/365Coating different sides of a glass substrate
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Sustainable Development (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Composite Materials (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Sustainable Energy (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Photovoltaic Devices (AREA)

Abstract

يتعلق الاختراع الحالي بطلاء قليل الانعكاس low-reflection coating في هذا الاختراع يكون عبارة عن مادة غشاء مسامية porous film ، يشتمل على: جسيمات السيليكا الدقيقة fine silica particles التي تكون صلبة solid وكروية spherical وله قطر جُسيم متوسط يبلغ 80 إلى 150 نانومتر؛ ومادة رابطة تحتوي السيليكا silica كمكون رئيسي، وجسيمات السيليكا الدقيقة التي رتم ربطها ببعضها بالمادة الرابطة. كما تحتوي المادة الرابطة على مركب الألومنيوم aluminum ، ويحتوي الطلاء قليل الانعكاس على العناصر التالية: 55 إلى 70٪ من كتلة جسيمات السيليكا الدقيقة، و25 إلى 40٪ من كتلة السيليكا للمواد الرابطة ، و2 إلى 7٪ من كتلة مركب الألومنيوم فيما يتعلق بـ Al2O3. يكون الطلاء قليل الانعكاس بسمك 80-800 نانومتر. وينتج الطلاء قليل الانعكاس كسب إنفاذ بنسبة 2.5٪ أو أكثر عندما يتم تطبيقه على المادة، حيث تمثل عمليات كسب الإنفاذ زيادة في متوسط إنفاذ المواد التي يتم طلاؤها بالطلاء قليل الانعكاس بالنسبة للمادة غير المطلية بطلاء قليل الانعكاس، فإن متوسط الإنفاذ الذي يتم قياسه في نطاق الطول الموجي wavelength بنسبة 380-850 نانومتر. شكل 1.

Description

طلاء قليل الانعكاس؛ ومادة مطلية قليلة الانعكاس؛ وجهاز تحويل كهروضوئي ‎Low-Reflection Coating, Low-Reflection Coated Substrate, and Photoelectric‏ ‎Conversion Device‏ الوصف الكامل خلفية الاختراع يتعلق الاختراع الحالي بطلاء قليل الانعكاس ‎low-reflection coated‏ ومادة مطلية قليلة الانعكاس تتضمن طلاءً قليل الانعكاس» وجهاز تحويل كهروضوئىي ‎photoelectric conversion‏ ‎.device‏ ‏5 لأجل تحسين وظيفة الزجاج أو المادة الخزفية في استخدامها المقصود منهاء يستخدم طلاء قليل
الانعكاس لزيادة كمية الضوءٍ المراد إرساله أو لمنع الوهج الناجم عن الانعكاس المشكل على سطح المادة. توضع ‎Jie‏ هذه الطلاءات قليلة الانعكاس؛ على سبيل المثال» على الألواح الزجاجية للاستخدام في زجاج المركبات؛ ونوافذ العرض» وأجهزة التحويل الكهروضوئية. وما يطلق عليه رقائق الخلايا
0 الشمسية؛ الذي يعتبر نوعاً من أجهزة التحويل الكهروضوئي؛ يستخدم لوح زجاج على كومة يشكلها من غشاء ذي طبقة سفلية؛ وغشاء مسامي ¢ وطبقة التحويل الكهروضوئي المصنوعة من السيليكون غير المتبلور ‎amorphous silicon‏ أو ما شابه؛ وقطب رقيق فى الجانب ‎Aad‏ يتم ترتيبه بهذا النظام.
الكومة ؛ أي؛ على السطح الرئيسي الساقط عليه ضوء الشمس. ويكون لدى هذه الخلية الشمسية ‎solar cell‏ طلاء قليل الانعكاس متشكل على جانب سقوط ضوء الشمس الذي يسمح بمرور كمية كبيرة من ضوءٍ الشمس للوصول إلى طبقة التحويل الكهروضوئية أو عنصر الخلية الشمسية ‎Hilly‏ ‏تكوين كمية كبيرة من الكهرباء .
تعتبر الطلاءات قليلة الانعكاس الأفضل استخداماً هي الأغشية العازلة التي ينتجها ترسيب ‎OB‏ ‏أو الترذيذء أو ترسيب الأبخرة الكيميائية ‎chemical vapor deposition‏ (01/0). في بعض الحالات؛ يستخدم غشاء دقيق به جسيمات يحتوي على جسيمات دقيقة ‎Jie‏ جسيمات السيليكا في الطلاء قليل الانعكاس. يتشكل مثل هذا الغشاء الدقيق الذي يحتوي على جسيمات من تطبيق سائل طلاء يحتوي على جسيمات دقيقة على مادة شفافة بتقنية مثل الغمس» أو دفق الطلاء؛ أو الرش. على سبيل المثال» براءة الاختراع اليابانية 2014-032248 أ (اقتباس براءة الاختراع 1) تكشف غطاء زجاجي على أجهزة التحويل الكهروضوئية متشكل من خلال وضع سائل طلاء ‎coating‏ ‏0 يحتوي على جسيمات دقيقة ومادة رابطة بلوح الزجاج ‎glass sheet‏ لها نفس خشونة السطح عن طريق الرش ثم التجفيف عند 400 درجة مثوية ثم الكلس عند 610 درجة مثوية ‎Baal‏ ‏0 8 دقائق. ويمكن أن يسفر الطلاء قليل الانعكاس للغطاء الزجاجي هذا عن زيادة بنسبة 72.37 على الأقل في متوسط الإنفاذ للضوء الذي يحتوي على موجات تتراوح بين 380 و1100 نانومتر. وعلاوة على ذلك» فإن براءة الاختراع اليابانية 2013-537873 أ (اقتباس براءة الاختراع 2( يكشف عن مادة زجاجية مطلية تم إنتاجها عن طريق ترسيب محلول يحتوي على تترا إيثوكسي سيلان ‎tetraethoxysilane‏ « وأسيتيل أسيتونات الألومنيوم ‎aluminum acetylacetonate‏ عن طريق 5 غمس الطلاء ثم المعالجة الحرارية عند 680 درجة متوية لمدة 180 ثانية. ينتج عن الطلاء قليل الانعكاس الموفر في المادة الزجاجية هذه زيادة بنسبة 72.5 في متوسط الإنفاذ بالنسبة لضوء يتراوح طول موجاته بين 300 و1100 نانومتر. تكشف براءة الاختراع اليابانية 2014-015543 أ (براءة الاختراع المقتبسة رقم 3) عن مادة سيليكون مع طلاء مشكل عن طريق وضع مركب طلاء يحتوي على سيليكا رغوية ‎colloidal silica‏ « ونترأ ألكوكسي سيلان ‎tetraalkoxysilane‏ ؛ ونترات ألومنيوم ‎aluminum nitrate‏ إلى المادة باستخدام طلاء دوامي ثم بتجفيف مركب الطلاء المستخدم عند 100 درجة مثوية لمدة 1 دقيقة؛ يكون قطر السيليكا الرغوية أكبر من متوسط قطر الجسيمات الأساسي ويكون له عامل شكل ونسبة ارتفاع أكبر من 1 بمقدار معين أو أكثر.
يتضمن هذا الطلاء على معامل انكسار ‎refractive index‏ 1.40 أو ‎(Ji‏ على الرغم من عدم وجود إشارة إلى زبادة في متوسط إنفاذ الضوءٍ الناجم عن هذا الطلاء. براءة الاختراع 1: براءة الاختراع اليابانية 2014-032248 أ براءة الاختراع 2: براءة الاختراع اليابانية 2013-537873 أ براءة الاختراع 3: براءة الاختراع اليابانية 2014-015543 أ
الوصف العام للاختراع لتقييم تأثير طلاء قليل الانعكاس؛ من المهم الأخذ في الاعتبار خاصية تسمى "كسب الإنفاذ". يتوافق كسب الإنفاذ مع الزيادة في متوسط الإنفاذ في نطاق محدد مسبقاً لطول الموجة؛ من خلال توفير طلاء قليل ا لانعكاس ‎٠‏
0 ويحدد كسب الإنفاذ على ‎day‏ الخصوص كقيمة تم الحصول عليها عن طريق طرح التحويل من مادة لم يتم توفير طلاء بها من تحويل المادة الموفر بها الطلاء . على سبيل ‎JU)‏ في حالة وجود جهاز تحويل كهروضوئي يستخدم لوح زجاج به سطح يسقط الضوء عليه مع طلاء قليل الانعكاس؛ فيعني كسب الإنفاذ أن لوح الزجاج يسمح بنفاذ كمية أكبر من الضوء و جهاز التحويل الكهروضوئي لديه كفاءة أعلى .
5 1 الغطاء الزجاجى الموضح فى اقتباس براءة ‎f‏ لاختراع 1 والمادة الزجاجية الموضحة فى اقتباس براءة الاختراع 2 تترك المجال للتحسين في كسب الإنفاذ. في إنتاج جهاز التحويل الكهروضوئي الذي يستخدم لوح الزجاج؛ لقد كان من التقليدي توفير طلاء قليل الانعكاس على لوح الزجاج مسبقاً واستخدام لوح الزجاج لإنتاج جهاز التحويل الكهروضوئي. ومع ذلك؛ في هذه الطريقة؛ قد يتلف الطلاء قليل الانعكاس الموفر مسبقاً من غير قصد أو يصبح
0 ملوثاً أو يحدث تدهور بالخصائص ‎ALE‏ الانعكاس خلال عملية إنتاج جهاز التحويل الكهروضوئي. ونظراً لتلك الظروف؛ يهدف الاختراع الحالي إلى توفير طلاء قليل الانعكاس مصمم لتوفير سطح يسقط عليه الضوء لجهاز تحويل كهروضوئي بعد إنتاج جهاز التحويل الكهروضوئي باستخدام لوح
زجاج غير موفر به أي طلاء قليل الانعكاس. يهدف الاختراع الحالي على نحو أكثر إلى توفير ‎sale‏ ‏مطلية قليلة الانعكاس وجهاز تحليل كهروضوئي يتضمن طلاء قليل الانعكاس. يوفر هذا الاختراع طلاء قليل الانعكاس مصمم ليتم وضعه على سطح رئيسي واحد على الأقل للمادة؛ يعتبر الطلاء قليل الانعكاس غشاء مسامياً يتضمن: جسيمات دقيقة من السيليكون صلبة وكروية تحتوي على قطر جسيمات يبلغ طوله من 80 إلى 150 نانومتر؛ والمادة الرابطة تتضمن السيليكا كمكون رئيسي؛ تحتوي المادة الرابطة على مركب ألومنيوم إضافي؛ يحتوي الطلاء قليل الانعكاس على ما يلي كمكونات: 0 كتلة تبلغ نسبتها من 55 إلى 770 من جسيمات السيليكا الدقيقة؛
كتلة تبلغ نسبتها من 25 إلى 740 من السيليكا في المادة الرابطة؛
كتلة تبلغ نسبتها من 2 إلى 77 من مركب الألومنيوم مع أكسيد الألمنيوم ‎Aluminium oxide‏
(203ام )؛
يبلغ سمك الطلاء قليل ا لانعكاس من 80 إلى 800 نانومتر ويدنتج جعن الطلاء قليل ا لانعكاس كسب تحويل بمقدار 5 :72م عند وضعه على المادة.
يحدد كسب الإنفاذ كزيادة فى متوسط إنفاذ المادة المزود بها الطلاء قليل الانعكاس مقارنة بالمادة
غير المزود بها الطلاء قليل ا لانعكاس ¢ ويبقاس متوسط ‎f‏ لإنفاذ بنطاق طول الموجة الذي يبلغ من
380 إلى 850 نانومتر.
يوفر أيضاً الاختراع الحالي مادة مطلية قليلة الانعكاس تشمل: لوح زجاج؛ والطلاء قليل الانعكاس وققاً للاختراع الحالي المشكل على سطح رئيسي واحد على الأقل من لوح الزجاج.
يوفر الاختراع الحالي أيضاً جهاز تحويل كهروضوئي يشمل: لوح زجاج؛ والطلاء قليل الانعكاس وفقاً
للاختراع الحالي المشكل على سطح رئيسي من لوح الزجاج؛ ويكون السطح الرئيسي سطحاً يسقط
الضوء عليه.
ينتج عن الطلاء قليل الانعكاس من الاختراع الحالي كسب الإنفاذ بمقدار 72.5 أو أكثر بافتراض تضمنه كميات محددة مسبقاً من جسيمات السيليكا الصلبة الدقيقة بمتوسط قطر للجسيمات في نطاق
محدد مسبقاً ومادة رابطة تحتوي على السيليكا كمكون رئيسي .
وبافتراض حقيقة أن المادة الرابطة في الطلاء قليل الانعكاس في الاختراع ‎all‏ تتضمن كمية محددة
مسبقاً من مركب الألومنيوم» يمكن تزويد الطلاء قليل الانعكاس في الاختراع الحالي برذاذ مقاوم
‎le‏ الملوحة دون الحاجة إلى علاج ارتفاع درجة الحرارة في خطوة التدفئة بعد وضع سائل طلاء
‏0 المادة. شرح مختصر للرسومات يوضح الشكل 1 نتيجة مراقبة المجهر الإلكتروني الماسح للانبعاثات الميدانية ‎field emission‏ ‎(SEM-FE) scanning electron microscope‏ المادة المطلية قليلة الانعكاس التي تم الحصول عليها في المثال 1.
‏5 الشكل 2 عبارة عن رسم؛ لكل المواد المطلية قليلة الانعكاس للأمثلة المرجعية من 1 إلى 9 يوضح العلاقة بين متوسط ‎f‏ لانعكاس لسطح رئيسي واحد من لوح الزجاج غير مزود بطلاء قليل ا لانعكاس مقابل فقدان الانعكاس وكسب الإنفاذ في السطح الرئيسي المطلي قليل الانعكاس للوح الزجاج المزود به طلاء قليل ا لانعكاس . الوصف التفصيلى:
‏0 يتضمن الطلاء قليل الانعكاس من هذا الاختراع غشاءً مسامياً يشمل: جسيمات السيليكا الدقيقة الصلبة والكروية؛ والمادة الرابطة التي تحتوي على السيليكا كمكون رئيسي؛ وجسيمات السيليكا الدقيقة المريوطة ببعضها عن طريق المادة الرابطة. تحتوي المادة الرابطة أيضاً على الألومنيوم.
يتراوح سمك الغشاء المسامي؛ أي الطلاء قليل الانعكاس؛ المادي بين 80 إلى 800 نانومتر» ويفضل أن يكون أكثر من 100 نانومتر و500 نانومتر أو أقل؛ ويفضل أكثر أن يكون أكثر من 100 نانومتر و500 نانومتر أو أقل جسيمات السيليكا الدقيقة هي جسيمات أساسية كروية تقريباً يتراوح متوسط قطرها بين 80 و150 نانومتر؛ ويفضل أن يكون أكثر من 100 نانومتر و150 نانومتر أو أقل. تكون نسبة صلابة السيليكا أعلى من مواد البوليمر العضوية. وتكون نسبة معامل الانكسار للسيليكا منخفضة ‎lows‏ وبالتالى تكون قادرة على تقديم أكبر انخفاض في معامل الانكسار المرئى للغشاء المسامي ‎Lay‏ في ذلك المادة الرابطة وجسيمات السيليكا الدقيقة. وعلاوة على ذلك؛ فإن الجسيمات الأساسية الكروية مصنوعة من السيليكا تقريباً ويوجد بها أقطار 0 موحدة كذلك تم تصنيعها تجارياً بتكلفة منخفضة؛ وتتوفر بصورة كبيرة من حيث الكمية؛ والنوعية؛ والتكلفة. يشير 'متوسط قطر الجسيمات" من جسيمات السيليكا الدقيقة؛ كما هو محدد هناء إلى قطر الجسيمات ‎(DSO) particle diameter‏ بحجم تراكمي يبلغ 750 في توزيع حجم الجسيمات المقاس بتحليل توزيع حجم الجسيمات لانكسار الليزر ‎Jaser—diffraction particle‏ 5 يفضل أن يشتق مركب الألومنيوم المتضمن فى المادة الرابطة من هاليد الألومنيوم ‎aluminum‏ ‏6 المضاف إلى سائل مطلى لتشكيل طلاء قليل الانعكاس. والمثال المفضل لهاليد الألومنيوم هو كلوريد الألومنيوم ‎.aluminum chloride‏ في الطلاء قليل الانعكاس»؛ يكون محتوى مركب الألومنيوم كتلة تتراوح نسبتها بين 2 و79 ويفضل أن تكون بين 5 و77 مع ‎A203‏ ‏0 عندما يحتوي الطلاء قليل الانعكاس على مركب الألومنيوم في الكمية أعلاه؛ يكون للطلاء قليل الانعكاس مقاومة متزايدة للرذاذ الملحى ‎salt spray‏ إذا كانت كتلة المحتوى أقل من 72؛ فستقل مقاومة الرذاذ الملحى. إذا كانت كتلة المحتوى أكثر من 77؛ سيقل كسب الإنفاذ المقدمة من الطلاء قليل الانعكاس.
عند إضافة هاليد الألومنيوم إلى سائل الطلاء كلوريد الألومنيوم» يمكن إجراء المعالجة الحرارية بعد وضع سائل الطلاء في ظل الظروف الأكثر اعتدالاً للحصول على التأثير المتزايد على مقاومة الرذاذ
الملحى . وبصفة خاصة؛ يكون للطلاء مقاومة رذاذ عالية الملوحة حيث إنه يمكن الحصول على الفرق فى القيمة المطلقة لمتوسط الإنفاذ قبل ويعد اختبار الرذاذ الملحى هو 70.15 أو أقل عند الخطوة التدفئة (خطوة العلاج والتدفئة) بعد وضع سائل الطلاء في ظل ظروف درجات الحرارة القليلة حيث إن درجة الحرارة القصوى التي يكون عندها سطح المادة المطلية بسائل الطلاء 350 درجة ‎Augie‏ أو أقل ؛ والمدة التي تكون فيها درجة حرارة سطح المادة 200 درجة مثئوية أو أعلى هي 5 دقائق أو ‎(Ji‏ ‏ويفضل أن يكون في ظل درجات الحرارة القليلة حيث يتعرض سطح المادة إلى درجة حرارة قصوى
0 تبلغ 250 درجة ‎gic‏ أو أقل والمدة التي تكون فيها درجة حرارة سطح المادة 100 درجة متوية أو أعلى هي 2 دقائق أو أقل. تبلغ نسبة كتلة محتوى جسيمات السيليكا الدقيقة في الطلاء قليل الانعكاس من 55 إلى 770 ويفضل أن تبلغ من 60 إلى 770. وتبلغ نسبة كتلة محتوى السيليكا بالمادة الرابطة من 25 إلى 740 ويفضل أن تبلغ من 30 إلى 740 في الطلاء قليل الانعكاس.
5 النسبة بين المحتوى في جسيمات السيليكا الدقيقة والسيليكا في المادة الرابطة (جسيمات السيليكا الدقيقة ‎silica particles‏ 706: السيليكا في المادة الرابطة ‎(silica of binder‏ في الطلاء قليل الانعكاس تكون في حدود من 70 : 30 إلى 30 : 70 ويفضل أن تكون في حدود من 70 : 30 إلى 60 : 40 من حيث نسبة الكتلة. تؤدي زيادة نسبة محتوى جسيمات السيليكا الدقيقة إلى كسب انعكاس أعلى مقدم من الطلاء قليل
0 الانعكاس في الاختراع الحالي. وبحدث ذلك بسبب الزيادة في التباعد بين جسيمات السيليكا الدقيقة نفسها وبين الجسيمات الدقيقة والمادة الشفافة . ومع ذلك؛ إذا كانت نسبة محتوى جسيمات السيليكا الدقيقة كبيرة ‎(dala!‏ ستقل ديمومة الطلاء قليل الانعكاس ‎low-reflection coating‏ الخاصة بهذا الاختراع.
ويرجع ذلك إلى أن النسبة الكبيرة للغاية من محتوى جسيمات السيليكا الدقيقة تؤدي إلى انخفاض في
تأثير السيليكا في المادة الرابطة التي تعمل على ربط جسيمات السيليكا الدقيقة معاً أو ربط الجسيمات
الدقيقة بالمادة الشفافة. وإذا كانت نسبة محتوى جسيمات السيليكا الدقيقة صغيرة ‎All‏ سيكون
التباعد المذكور آنفاً ضيقاً للغاية؛ مما يؤدي إلى انخفاض كسب الانعكاس المقدم من الطلاء قليل
الانعكاس في هذا الاختراع. يمكن استخدام مركبات السيليكون القابلة للتحلل التي يمثلها ألكوكسيد كمصدر لسيليكا المادة
الرابطة. تشمل أمثلة ألكوكسيد السيليكون ‎silicon alkoxides‏ على : تترا ميثوكسي سيلان
‎tetramethoxysilane‏ ¢ وتترا إيشوكسي سيلان ‎tetraethoxysilane‏ « ونترا أيزوب روبوكسي
‏سيلان 161:8150010000/5(1806. ويجب أن تخضع أي من مركبات السيليكون القابلة للتحلل هذه 0 إلى التحلل المائي والتكثيف المتعدد من قبل ما يسمى بعملية سول جل لتشكيل المادة الرابطة.
‏يمكن أن يتم التحلل المائي لمركب السيليكون ‎Hydrolyzable silicon‏ القابل للتحلل ‎gb‏ طريقة
‏مناسبة. ويفضل أن يتم التحلل المائي في محلول يحتوي على جسيمات السيليكا الدقيقة المذكورة
‏أعلاه؛ لأن هذا يعزز من رد ‎Jad‏ التكثيف المتعدد بين مجموعات السيلانول ‎silanol‏ الموجودة على
‏أسطح الجسيمات الدقيقة ومجموعات السيلانول التي شكلها التحلل المائي لمركب السيليكون القابل 5 للتحلل المائي مثل ألكوكسيد السيليكون ‎silicon alkoxide‏ ؛ مما يؤدي إلى زيادة في نسبة المادة
‏الرابطة المساهمة في تعزيز قوة الريط بين جسيمات السيليكا الدقيقة.
‏ومن الأفضل على وجه التحديد تحضير سائل طلاء بإضافة حافز التحلل المائي وألكوكسيد
‏السيليكون بالتتابع لمحلول يحتوي على جسيمات السيليكا الدقيقة مع تقليب المحلول.
‏يمكن استخدام إما حمض أو اتحاد ينتج عنه أملاح حمضية كحفاز للتحلل المائي. ويفضل استخدام
‏0 الأحماض في بعض الأحماض غير العضوية ‎Jie‏ حمض الهيدروكلوريك ‎hydrochloric acid‏
‏وحمض النيتريك ‎nitric acid‏ ؛ وحمض الكبريتيك ‎sulfuric acid‏ ؛ وحمض الفوسفوريك
‎oN ‏وذلك‎ hydrochloric acid ‏؛ ويفضل استخدام حمض الهيدروكلوريك‎ phosphoric acid
‏الظروف الحمضية تسمح بتشتت جسيمات السيليكا الدقيقة على نحو أفضل وتسفر عن استقرار
‏لسائل الطلاء أكثر من الظروف الأساسية.
— 1 0 —
وعلاوة على ذلك؛ تسهم أيونات الكلور 1005 ‎chlorine‏ المشتقة من حمض الهيدروكلوربك فى زيادة
نسبة أيون الكلور في سائل الطلاء؛ ‎Mall‏ تعزيز التأثير الناجم عن كلوريد الألومنيوم المبين أعلاه
المضاف إلى سائل الطلاء. وبالتالي؛ فإن الطلاء قليل الانعكاس في هذا الاختراع يمكن أن يسفر
عن كسب الإنفاذ بمقدار 72.5 أو ‎«ST‏ وبفضل أن يكون 72.6 أو ‎«ST‏ وبفضل أكثر أن يكون
22.7 أو أكثر؛ ويقدم مقاومة عالية للرذاذ الملحي كما هو موضح أعلاه.
يمكن أن يتشكل الطلاء قليل الانعكاس في هذا الاختراع من خلال وضع سائل الطلاء وتجفيفه
ومعالجته. ولوضع ‎Sila‏ الطلاء؛ يمكن استخدام أي من الأساليب المعروفة مثل الطلاء الدوامي؛
الطلاء ياللف» الطلاء الشريطي ‎٠»‏ الطلاء بالغمس؛ والطلاء بالرش.
يعتبر الطلاء بالرش مفيداً من حيث الإنتاج الضخم. ويكون الطلاء باللف والطلاء الشريطي مناسبين 0 1 من حيث توحيد مظهر غشاء ‎Sal‏ الناتج وكذلك من ‎f Cua‏ لإنتاج الضخم .
قد تكون المادة المناسبة ليتم توفيرها مع الطلاء قليل الانعكاس في هذا الاختراع لوح زجاج لا طلاء
به. على سبيل المثال؛ من الممكن توفير مادة مطلية قليلة الانعكاس مع تشكيل لوح الزجاج والطلاء
قليل الانعكاس من هذا الاختراع على سطح رئيسي واحد على الأقل من لوح الزجاج.
قد يكون لوح الزجاج طافياً به سطح رئيسي وسلس بحيث يكون متوسط حساب خشونة السطح 5 الرئيسي؛ على سبيل المثال؛ 1 نانومتر أو أقل؛ ويفضل أن يكون 0.5 نانومتر أو أقل. متوسط
حساب الخشونة يتوافق هنا مع ذلك على النحو المحدد في 0601-1994 8 5ال.
قد يكون لوح الزجاج المستخدم أيضا لوح زجاج مزركش يوجد بسطحه خشونة.
يفضل أن يكون متوسط التباعد للخشونة 3 . 0 مم أو أكثر 3 ‎ang‏ أكثر أن يكون 4 . 0 مم أو أكثر
‎ang‏ على ‎dag‏ الخصوص أن يكون 45 . 0 أو أكثر 3 ‎ang‏ أن يكون 5 . 2 مم أو أقل ويفضل أكثر أن يكون 1 . 2 مم أو أقل وإن كان يفضل أكثر أن يكون 0 . 2 مم أو أقل 3 ‎ang‏ على ‎dag‏
‏الخصوص أن يكون 5 1 مم أو أقل.
‏يشير متوسط التبا عد كما هو محدد هنا إلى متوسط طول فترات الذروة والمنخفض فى صورة الخشونة
‏المحدد استناداً إلى النقاط المعتمد عليها التي تتقاطع عندها صورة الخشونة مع خط الوسط.
وبفضل أكثر أن يكون أقصى ارتفاع خشونة السطح الخاصة بلوح الزجاج المزركش من 0.5 ميكرون إلى 10 ميكرون؛ وبصفة خاصة من 1 ميكرون إلى 8 ميكرون؛ إضافة إلى متوسط التباعد في إطار النطاق أعلاه. يتوافق متوسط التباعد وأقصى ارتفاع كما هو محدد هنا مع ما هو محدد في ( المعايير الصناعية اليابانية) 0601-1994 8 ‎JIS‏ ‏5 قد يكون للوح الزجاج المستخدم تركيبة مشابهة لتلك الموجودة في ألواح الزجاج النموذجية المزركشة
أو ألواح الزجاج المعمارية؛ ويفضل خلوه أو خلوه إلى حد كبير من أي عنصر تلوين. وفي لوح الزجاج؛ يفضل أن تكون نسبة كتلة ‎(gine‏ أكسيد الحديد؛ عنصر التلوين النموذجي»؛ 70.06 أو أقل ‎diab‏ على وجه الخصوص أن تكون 0.02 أو أقل مع اكسيد الحديد ‎ Iron(lll) oxide‏ ( ‎(Fe203‏ .
10 إن الانخفاض في الانعكاس الذي يحدث من خلال توفير الطلاء قليل الانعكاس من هذا الاختراع على سطح رئيسي من لوح الزجاج؛ أي تأثير تحسين الانعكاس من الطلاء قليل الانعكاس من هذا الاختراع» يصبح أكبر حيث يزيد متوسط الانعكاس للسطح الرئيسي في نطاق الطول الموجي بمقدار من 380 إلى 850 نانومتر. على سبيل المثال؛ من المحتمل أن يتحقق كسب الإنفاذ بمقدار 72.5 أو أكثر عن طريق استخدام لوح زجاج يبلغ متوسط انعكاس سطحه الرئيسي 75.1 أو أكثر في
نطاق الطول الموجي من 3850 إلى 850 نانومتر وعن طريق توفير طلاء قليل الانعكاس من هذا الاختراع على السطح الرئيسي. وعلاوة على ذلك؛ من المرجح أن يتحقق كسب الإنفاذ بمقدار 72.7 أو أكثر ‎Lexie‏ يكون متوسط الانعكاس للسطح الرئيسي 75.2 أو أكثر ويفضل أن يكون 75.3 أو أكثر. يمكن الحصول على لوح زجاج يكون متوسط انعكاس سطحه الرئيسي مرتفعاً كما هو محدد أعلاه؛
0 على سبيل ‎(JB‏ عن طريق التحكم في تركيز أكسيد القصدير 07606 ‎tin‏ في السطح الرئيسي. على سبيل المثال؛ يمكن أن يكون للسطح الرئيسي بلوح الزجاج متوسط انعكاس مرتفع كما هو محدد أعلاه عندما تكون نسبة كتلة تركيز أكسيد القصدير في ‎gall‏ الخارجي من السطح الرئيسي 3.5 إلى 724؛ ويفضل أن تكون من 3.5 إلى 721؛ ويفضل أكثر أن تكون من 5 إلى 718 ويفضل بشكل خاص أن تكون من 6 إلى 718.
— 1 2 —
عندما يكون لوح الزجاج المستخدم طافياً وناتجاً عن عملية الطفو؛ يتفرق القصدير المشتق من حوض
الطفو القصدير المصهور ‎tin‏ 07101460 في سطح لوح الزجاج هذا الذي يتم وضعه في اتصال مع
حوض الطفو أثناء الإنتاج من قبل عملية الطفو.
يمكن التحكم في كمية القصدير التي تدخل سطح لوح الزجاج بشكل كبير عن طريق تعديل ظروف
الإنتاج في حوض الطفو حيث إن لوح الزجاج المنتج له سطح رئيسي به انعكاس مرغوب فيه.
على سبيل المثال؛ يمكن تعديل تركيب القصدير المصهور عن طريق وضع غاز الأكسدة في حوض
القصدير بكمية ما لأكسدة كمية قليلة من القصدير المصهور وعن طريق دمج عنصر الحديد إلى
القصدير المصهور ‎٠‏ وبسمح لحوض القصدير المصهور بالاحتفاظ يجو ‎J‏ لاختزالية الناتج عن التغذية
بغاز النيتروجين وغاز الهيدروجين؛ ويتيح ضبط ضغط الغاز في حوض القصدير المصهور إمكانية 0 إدخال أكسجين الغلاف الجوي؛ وبالتالى التغذية بكمية ضئيلة من غاز الأكسدة؛ فى حوض القصدير
٠ ‏المصهور‎
يمكن تنظيم كمية غاز الأكسدة 985 ‎oxidation‏ الذي سيغذي حوض القصدير المصهور عن
طريق الضبط ‎andl‏ لتركيز غاز الهيدروجين ‎‘hydrogen gas‏
كما هو موضح أعلاه؛ عندما يكون لوح الزجاج المستخدم ‎Lila‏ فمن الأفضل توفير الطلاء قليل 5 الانعكاس من هذا الاختراع على ذلك السطح الرئيسي من لوح الزجاج الذي يتم وضعه في اتصال
مع حوض الطفو خلال الإنتاج من خلال عملية الطفو.
ويسمح ذلك للطلاء قليل الانعكاس من هذا الاختراع بممارسة تأثير تحسين الانعكاس بشكل أعلى؛
وبالتالي ينتج عن ذلك كسب إنفاذ أعلى. ما سبق وصف لوح زجاج به سطح رئيسي مع تركيز
أكسيد القصدير المتحكم به كمثال على لوح زجاج به سطح رئيسي نسبة انعكاسه مرتفعة؛ ومع ذلك؛ 0 لا يقتصر لوح الزجاج المستخدم على لوح الزجاج هذاء ويمكن أن يكون لوحاً يحتوي على لوح زجاج
يزيد انعكاس سطحه بطريقة أخرى معروفة .
قد تكون المادة المناسبة التي يتم توفيرها مع الطلاء قليل الانعكاس من هذا الاختراع مادة زجاجية
شفافة موصلة مطلى غشاؤها . وتكون المادة الزجاجية الشفافة الموصلة المطلى غشاؤها على سبيل
المثال» ‎sale‏ زجاجية تشكل غشاؤها الشفاف الموصل على سطح رئيسي واحد من أحد الألواح
— 1 3 —
الزجاجية كما هو موضح أعلاه؛ وتحتوي المادة الشفافة التي يوجد بها طبقة سفلية أو أكثر وطبقة
موصلة ‎(dled‏ على سبيل المثال؛ أكسيد القصدير ‎tin oxide‏ والفلور ‎fluorine‏ المستخلص
كمكون رئيسي 3 والطبقات المتكدسة على السطح الرئيسي للوح الزجاج بالترتيب .
أمثلة : ‎Lad‏ يلي» سيتم وصف هذا الاختراع بمزيد من التفاصيل عن طريق الأمثلة. وسيتم في البداية
وصف الأساليب المستخدمة بأمثلة وأمثلة مقارنة لتقييم الخصائص المختلفة لكل طلاء قليل الانعكاس
يتشكل على مادة ما.
خصائص النفاذ ‎Transmission‏ : تم قياس منحنى النفاذ ‎transmission curve‏ طيف النفاذ
‎transmission spectrum‏ للمادة (لوح الزجاج فى الأمثلة الحالية) باستخدام مقياس الطيف
‏الضوئي | ‎(UV-3100PC)spectrophotometer‏ المصنعة من قبل شركة ‎Shimadzu‏ ‎(Corporation 0‏ قبل ويعد تشكيل الطلاء قليل الانعكاس.
‏تم حساب متوسط الإنفاذ عن طريق حساب متوسط قيم التحويل على نطاق الطول الموجي من 380
‏إلى 850 نانومتر. وتم تحديد الزيادة في متوسط الإتفاذ للمادة المزودة بالطلاء قليل الانعكاس مقارنة
‏بالمادة غير المزودة بالطلاء قليل ا لانعكاس ككسب ‎f‏ لإنفاذ .
‏تمت مراقبة كل طلاء بمجهر إلكتروني ‎electron microscope‏ ماسح للاتبعاث الميداني ‎field‏ ‎emission scanning 5‏ (5-4500؛ المصنع من قبل شركة ‎.(Hitachi, Ltd‏
‏تم قياس سمك الطلاء عند ‎(ued‏ نقاط في صورة ‎(FE-SEM‏ التقطت من الأعلى عند زاوية 30
‏درجة؛ من المقطع العرضي للطلاء؛ ومتوسط القيم المقاسة كان يستخدم على أنه سمك الطلاء .
‏تقييم مقاومة القلويات ‎alkali resistance‏ : تم تقييم مقاومة القلويات لكل ‎sale‏ مطلية بطلاء قليل
‏الانعكاس على النحو التالي. تم غمر المادة المطلية بطلاء قليل الانعكاس في محلول مائي مشبع 0 من هيدروكسيد الكالسيوم ‎calcium hydroxide‏ عند درجة حرارة 60 درجة مثئوية لمدة 3 ساعات.
‏تم قياس تحويل المادة باستخدام مقياس الطيف الضوئي قبل ويعد الغمر ‘ وقيمة ا لاختلاف المطلقة
‏بين القيم المقاسة كانت تستخدم كمقياس لتقييم مقاومة القلويات.
تقييم مقاومة الماء المالح ‎salt water resistance‏ : أجري اختبار رذاذ الملح لتقييم مقاومة الماء المالح لكل طلاء قليل الانعكاس تم الحصول عليه. وقد تم قياس متوسط الإنفاذ للطلاء قليل الانعكاس المقدم على المادة بنفس الطريقة الموضحة أعلاه؛ ثم تعرض الطلاء قليل الانعكاس إلى رذاذ الملح في ظل ظروف تتوافق مع 2005 :8917 © ‎JIS‏ الملحق 4. بعد ذلك؛ تم قياس متوسط الإنفاذ مرة أخرى. وتم استخدام القيمة المطلقة للفرق بين القيم لمتوسط الإنفاذ المقاس قبل ويعد التعرض لرذاذ الملح كمقياس لمقاومة الماء المالح. وتم تعريض رذاذ الملح؛ على ‎cual dag‏ عن طريق رش الطلاء برذاذ من محلول كلوريد الصوديوم المائي درجة حرارته 35 درجة مئوية؛ ونسبة تركيز كتلي 75 كتلة لمدة 96 ساعة. اختبار وعاء الضغط : تم تنفيذ اختبار وعاء الضغط؛ وهو نوع من الاختبار السريعة؛ لتقييم مقاومة 0 الرطوية لكل طلاء قليل الانعكاس تم الحصول عليها. وبتكون اختبار وعاء الضغط في هذا الاختراع من مرتي تكرار من دورة الاختبار في حين وضع طلاء قليل الانعكاس على المادة في غرفة الاختبار في درجة حرارة 130 درجة مئوية؛ وضغط 2 من الأجواء؛ ونسبة رطوية 7100 لمدة 1 ساعة؛ ثم تمت إزالة الضغط المطبق؛ وبعد ذلك تم إخراج الطلاء من الغرفة ورك ليبرد في درجة حرارة الغرفة. تم قياس متوسط الإنفاذ قبل ويعد هذا الاختبارء وتم استخدام القيمة المطلقة للفرق بين القيم المقاسة 5 ومتوسط الإنفاذ بمثابة مقياس لمقاومة ‎dash ll‏ في اختبار وعاء الضغط. مثال 1 تحضير الطلاء السائل : تمت إضافة كمية من 28.3 من أجزاء كتلة تشتيت جسيمات السيليكا الدقيقة (كواراتون ‎(PL-7 Quartron‏ المصنعة من قبل ‎CHEMICAL CO., LTD‏ 50نا؛ التي تحتوي على جسيمات أساسية كروية تقريباً مع قطر جسيمات يبلغ متوسطه 125 ‎agli‏ ‏0 وتركيز مواد صلبة بنسبة 723 من الوزن)» و58.6 من أجزاء كتلة 1-ميثوكسي-2-بروبانول -1 ‎methoxy-2-propanol‏ (المذيب)؛ و 1 ‎eda‏ من كتلة حمض الهيدروكلوريك ‎hydrochloric‏ ‎NT acid‏ (الحفاز الخاص بالتحلل المائي) مختلطة بالتقليب» و12.1 من أجزاء وزن تترا إيثتوكسي سيلان ‎Jil tetraethoxysilane‏ أورثوسيليكات ‎ethyl orthosilicate‏ ؛ مصنع بواسطة ‎TAMA CHEMICALS CO., LTD.‏ تمت إضافتها إلى الخليط مع التقليب المستمر. وقد استمر
التقليب لمدة 8 ساعات إضافية مع الحفاظ على درجة حرارة 40 درجة ‎iste‏ لتحليل تترا إيثوكسي سيلان؛ وبالتالي نتجت ‎sale‏ سائل المادة الخام أ. في ساتل المادة الخام السائلة ‎J‏ بلغت النسبة بين كتلة جسيمات السيليكا الدقيقة مع ثاني اكسيد السيليكون ‎Silicon dioxide‏ ( 5:02 ) وكتلة مكون أكسيد السيليكون من المادة الرابطة مع ثاني اكسيد السيليكون ‎lea Silicon dioxide‏ 65 : 35؛ وتركيز المواد الصلبة مع ثاني اكسيد السيليكون بنسبة 710 من الوزن. كمية 70.0 ‎aha‏ من سائل المادة الخام السائل أو 2.0 ‎aba‏ من جلايكول البروبيلين ‎propylene‏ ‎glycol‏ (مذيب ‎aba 26.3 (solvent‏ من 1-ميثوكسي-2-برويانول ‎1-methoxy—2-‏ ‎propanol‏ (مذيب)؛ و 1.7 جم من محلول كلوريد الألومنيوم المائي (محلول بتركيز من 747.6 0 من الوزن يتم تحضيره عن طريق إذابة هيدرات كلوريد الألمنيوم ‎aluminum chloride‏ ‎hexahydrate‏ بدرجة العامل التي تنتجها ‎.Sigma-Aldrich Co., LLC‏ في الماء منزوع الأيونات أعدت) مختلطة عن طريق التقليب للحصول على سائل الطلاء أ1. في سائل الطلاء أ1؛ كان تركيز المواد الصلبة في أكسيد السيليكون (مشتقة من جسيمات السيليكا الدقيقة ‎Is‏ ‏ألكوكسيسيلان) مع ثاني اكسيد السيليكون ‎Silicon dioxide‏ ( 5602 ) نسبته 77.0 من الوزن؛ 5 وكمية من مركب الألومنيوم 800000101077 مع أكسيد الألمنيوم ‎AL203) Aluminium oxide‏ ) مقارنة مع 100 جزءِ من كتلة أكسيد السيليكون ‎Silicon oxide‏ مع ثاني اكسيد السيليكون ‎Silicon‏ ‎dioxide‏ كانت 5 أجزاء من الكتلة. تشكيل الطلاء قليل الانعكاس : في مثال 1؛ تم تشكيل طلاء قليل الانعكاس على أحد الأسطح الرئيسية للوح الزجاج غشاؤه مطلي بمادة شفافة موصلة للحصول على مادة مطلية ‎ALE‏ الانعكاس. 0 كان سمك لوح الزجاج 3.2 مم مصنع من قبل شركة ‎«Nippon Sheet Glass Co.
Ltd.‏ ويحتوي على مركب نموذجي من السيليكات الجيرية الرملية؛ ويه سطح الرئيسي واحد مع غشاء مسامي تشكل على الخط بما في ذلك طبقة موصلة شفافة. تم قطع لوح الزجاج هذا إلى قطعة مساحتها 200 مم ‎cae 300 X‏ وتم غمرها في محلول قلوي ‎(LBC-1)‏ سائل تنظيف قلوي مصنع من قبل ‎(LEYBOLD CO., LTD.‏ وتم غسله باستخدام
— 6 1 — منظف فوق صوتي. تم شطف قطعة لوح الزجاج بالماء منزوع الأيونات ثم تجفيفه عند درجة حرارة غير المزود بالطلاء قليل الانعكاس بالطريقة الموضحة أعلاه؛ وتم تحديد متوسط الإنفاذ ليكون 7.80.0 في المثال 1؛ تم وضع سائل الطلاء أ1 باستخدام الطلاء باللف على السطح الرئيسي للوح الزجاجي أعلاه المقابل للسطح الرئيسي المزود به الغشاء المسامي. وتم وضع سائل الطلاء بطريقة يكون فيها الغشاء المشكل من السائل المستخدم سمكه من 1 إلى 5 ميكرون . ثم تم تجفيف سائل الطلاء الذي وضع على لوح الزجاج وتمت معالجته بالهواء الساخن . تم تنفيذ هذا التجفيف بالهواء الساخن باستخدام مجفف هواء ساخن من نوع ‎alia‏ ناقل وتحربك الناقل 0 في اتجاهين متعاكسين مرتين لتمرير اللوح الزجاجي تحت فوهة حقن الهواء الساخن ‎al‏ مرات؛ مع ضبط درجة حرارة الهواء الساخن على 300 درجة مثوية؛ وضبط المسافة بين الفوهة واللوح الزجاجي على 5 ‎cae‏ وضبط سرعة التحويل على 0.5 متر/دقيقة. في هذا التجفيف؛ كانت ‎saad)‏ التي تم خلالها طلاء اللوح الزجاجي بساتل الطلاء في اتصال مع الهواء الساخن 140 ثانية؛ وكانت أعلى درجة حرارة للسطح الزجاجي المطلي بسائل ‎Sal‏ 199 5 درجة مئوية. وبعد التجفيف والمعالجة؛ ثرك اللوح الزجاجي ليبرد بدرجة حرارة الغرفة. ويهذه الطريقة؛ تم طلاء اللوح الزجاجي بطلاء قليل الانعكاس. تم تقييم الخصائص المختلفة المذكورة أعلاه للطلاء قليل الانعكاس الذي تم الحصول عليه بعد ذلك. وتظهر نتائج ذلك في الجدول 1. علاوة على ‎cold‏ فإن نتيجة ملاحظة ‎FE-SEM‏ لمقطع عرضي للمادة المطلية قليلة الانعكاس موضحة فى الشكل 1. 0 مثال 2 : تحضير سائل الطلاء : تم تحضير سائل الطلاء. أما النسبة بين كتلة جسيمات السيليكا الدقيقة من ‎Cua‏ ثاني اكسيد السيليكون ‎Silicon dioxide‏ ( 5:02 ) وكتلة عنصر أكسيد السيليكون للمواد
— 7 1 — الرابطة من حيث ‎SIO2‏ فقد كانت 65 : 35 (ويشار إلى هذه النسبة ‎Led‏ بعد باسم «الجسيمات الدقيقة: نسبة المواد الرابطة») في سائل الطلاء . جرى الإعداد بنفس الطريقة المتبعة فى ‎Bila‏ الطلاء ‎AL‏ باستثناء تغيير كميات محلول الكلوريد المائي والمذيبات بحيث تكون كمية مركب الألومنيوم ‎Aluminium‏ بنسبة 100 جزءٍ من كتلة أكسيد السيليكون كتلة جسيمات السيليكا الدقيقة من حيث ثاني اكسيد السيليكون ‎Silicon dioxide‏ ( 2 ) بالإضافة إلى ‎ABS‏ عنصر أكسيد السيليكون من المواد الرابطة من حيث كتلة عنصر أكسيد السيليكون كانت 3 ‎shal‏ من الكتلة ‎ling‏ إلى هذا المقدار النسبيى من مركب الألومنيوم ‎Lad Aluminium‏ بعد باسم «محتوى مركب الألومنيوم») في سائل الطلاء . في سائل الطلاء ‎AZ‏ كان تركيز المواد الصلبة من أكسيد السليكون 77.0 من الوزن. 0 تكوين الطلاء قليل الانعكاس : في المثال 2؛ تم تكوين الطلاء قليل الانعكاس بنفس الطريقة التي في المثال 1 ‎led‏ عدا استخدام سائل الطلاء ‎A2‏ وجرى تقييم مختلف خصائص الطلاء قليل ‎f‏ لانعكاس . وتم عرض النتائج في الجدول 1 . تحضير سائل الطلاء : تم تحضير سائل الطلاء ‎AZ‏ وكانت نسبة الجسيمات الدقيقة : المواد الرابطة 65 : 35 في سائل الطلاء .وتم إجراء تحضير ‎Sal‏ بنفس الطريقة التي ‎Ey‏ بها تحضير سائل 5 الطلاء ‎Lad AL‏ عدا تغيير كميات محلول كلوريد الألومنيوم المائي والمذيبات حيث كان محتوى مركب الألومنيوم 7 أجزاء من الكتلة في سائل الطلاء. في سائل الطلاء 83 كان تركيز المواد الصلبة من أكسيد السليكون 77.0 من الوزن. تكوين الطلاء قليل الانعكاس : في المثال 3؛ تم تكوين الطلاء قليل الانعكاس بنفس الطريقة كما في المثال 1 ‎lad‏ عدا استخدام سائل الطلاء ‎A3‏ وجرى تقييم مختلف خصائص الطلاء قليل 0 الانعكاس. وتم عرض النتائج في الجدول 1 . مثال 4
— 8 1 — تحضير سائل الطلاء : تم تحضير سائل الطلاء ‎Ad‏ بنفس الطريقة المتبعة في سائل الطلاء ‎Al‏ ‏باستثناء استخدام سائل المادة الخام ‎Sead)‏ بنفس طريقة سائل المادة الخام ‎A‏ حيث كانت نسبة الجسيمات الدقيقة : المواد الرابطة 70 : 30 وياستثناء تغيير كمية محلول كلوريد الألومنيوم المائي في سائل الطلاء ‎AG‏ كان تركيز المواد الصلبة من أكسيد السليكون 77.0 من الوزن. تكوين الطلاء قليل الانعكاس : في المثال 4؛ تم تكوين الطلاء قليل الانعكاس بنفس الطريقة كما في المثال 1 ‎Led‏ عدا استخدام سائل ‎Ad Dll‏ وجرى تقييم مختلف خصائص الطلاء قليل ‎f‏ لانعكاس . وتم عرض النتائج في الجدول 1 . تكوين الطلاء قليل الانعكاس . 0 مثال 5 تحضير سائل الطلاء : تم تحضير سائل الطلاء ‎AS‏ بنفس الطريقة المتبعة في سائل الطلاء ‎Al‏ ‏باستثناء استخدام سائل المادة الخام ‎Sead)‏ بنفس طريقة سائل المادة الخام ‎A‏ حيث كانت نسبة الجسيمات الدقيقة : المواد الرابطة 60 : 40 وباستثناء تغيير كمية محلول كلوريد الألومنيوم المائي حيث كان محتوى مركب الألومنيوم 5 أجزاء من الكتلة. في سائل الطلاء ‎AS‏ كان تركيز المواد 5 الصلبة من أكسيد السليكون 77.0 من الوزن. تكوين الطلاء قليل الانعكاس: في المثال 5؛ تم عمل الطلاء قليل الانعكاس بنفس الطريقة كما في المثال 1 ‎Lad‏ عدا استخدام سائل الطلاء ‎(AS‏ وجرى تقييم مختلف خصائص الطلاء قليل الانعكاس. وتم عرض النتائج في الجدول 1 . مثال 6 : التعتيق بعد التجفيف والمعالجة : الطلاء قليل الانعكاس في المثال 1 تم تخصيصه 0 للتعتيق. في هذا التعتيق» تم وضع الطلاء قليل الانعكاس في ‎Of‏ كهريائي على درجة حرارة 70 درجة مئوية لمدة 7 أيام ‎sag‏ ذلك ثرك ليبرد بدرجة حرارة الغرفة.
— 9 1 — يتوافق هذا التعتيق مع تاريخ درجة الحرارة الذي سيخضع له الطلاء قليل الانعكاس للاختراع الحالي عندما يتم تطبيق جهاز التحويل الكهروضوئي بما في ذلك اللوح الزجاجي الذي تم طلاؤه بطلاء قليل الانعكاس لتوليد الكهرياء من أشعة الشمس. جرى تقييم مختلف خصائص الطلاء قليل الانعكاس الذي تعرض له التعتيق. وتم عرض النتائج في الجدول 1. مثال مقارن 1 : تحضير سائل الطلاء تم تحضير ‎Blu‏ الطلاء 81. كانت نسبة الجسيمات الدقيقة : المواد الرابطة 65 : 35 فى سائل الطلاء. جرى الإعداد بنفس الطريقة المتبعة في سائل الطلاء ‎Al‏ باستثناء تغيير كمية محلول الكلوريد المائي ‎aqueous‏ ‎aluminum chloride 0‏ بحيث تكون كمية مركب الألومنيوم بنسبة 0 في سائل الطلاء. في سائل الطلاء 81؛ كان تركيز المواد الصلبة من أكسيد السليكون 77.0 من الوزن. تكوين الطلاء قليل الانعكاس : في المثال المقارن 1؛ تم عمل الطلاء قليل الانعكاس بنفس الطريقة التى في المثال 1 فيما عدا استخدام سائل الطلاء 81؛ وجرى تقييم مختلف خصائص الطلاء قليل الانعكاس. وتم عرض النتائج في الجدول 1. مثال مقارن 2 تحضير سائل الطلاء : تم تحضير سائل الطلاء 82. كانت نسبة الجسيمات الدقيقة : المواد الرابطة 5 : 35 في سائل الطلاء. جرى الإعداد بنفس الطريقة المتبعة في سائل الطلاء ‎Al‏ باستثناء تغيير كمية محلول الكلوريد المائي بحيث تكون كمية مركب الألومنيوم بنسبة 1 في الكتلة في سائل 0 الطلاء. فى سائل الطلاء 82؛ كان تركيز المواد ‎solids ball‏ من أكسيد السليكون ‎silicon‏ ‎oxide‏ 27.0 من الوزن.
— 0 2 — تكوين الطلاء قليل الانعكاس : في المثال المقارن 2؛ تم تكوين الطلاء قليل الانعكاس بنفس الطريقة التى في المثال 1 فيما عدا استخدام سائل الطلاء 82؛ وجرى تقييم مختلف خصائص الطلاء قليل الانعكاس. وتم عرض النتائج في الجدول 1 . (مثال مقارن 3( تحضير سائل الطلاء : تم تحضير سائل ‎Sill‏ 83. كانت نسبة الجسيمات الدقيقة : المواد الرابطة 5 : 35 في سائل الطلاء. جرى الإعداد بنفس الطريقة المتبعة في سائل الطلاء ‎AL‏ باستثناء تغيير كمية محلول الكلوريد المائي بحيث تكون كمية مركب الألومنيوم بنسبة 10 أجزاء في الكتلة فى سائل الطلاء. فى سائل الطلاء 83؛ كان تركيز المواد الصلبة من أكسيد السليكون ‎silicon‏ ‎oxide 0‏ 77.0 من الوزن. تكوين الطلاء قليل الانعكاس : في المثال المقارن 3؛ تم عمل الطلاء قليل الانعكاس بنفس الطريقة التى في المثال 1 فيما عدا استخدام سائل الطلاء 83؛ وجرى تقييم مختلف خصائص الطلاء قليل الانعكاس. وتم عرض النتائج في الجدول 1 . مثال مقارن 4 تحضير سائل الطلاء : تم خلط كمية 20.6 ‎gia‏ من كتلة تترا إيتوكسي سيلان مماثلة لتلك المستخدمة في المثال 1 و2.15 ‎gia‏ في كتلة محلول نترات الألومنيوم المائية (المحلول الذي يحتوي على هيدرات نترات الألومنيوم ‎AI(NO3)3 aluminum nitrate nonahydrate‏ بتركيز 710 بالوزن وتم إعداده باستخدام نانو هيدرات نترات الألومنيوم من رتبة كاشف المصنّع بواسطة ‎Sigma-—‏ ‎«(Aldrich Co., LLC 0‏ و78.0 جزءِ في كتلة الإيثانول ‎ethanol‏ ؛ وتم تقليب الخليط لمدة 8 ساعات مع الحفاظ عليها في درجة حرارة 40 درجة مئوية ليتحلل التترا إيتوكسي سيلان؛ وبالتالي نتج عنه سائل المادة الخام ‎.D‏
— 2 1 —
في سائل المادة الخام ‎HISD‏ محتوى المواد الصلبة من تترا إيثوكسي سيلان من حيث 5102 بنسبة
9 من الوزن وكان محتوى المواد الصلبة من نترات الألمنيوم ‎Cua (aluminum nitrate‏
أكسيد الألمنيوم ‎AL203) Aluminium oxide‏ ) بنسبة 70.1 من الوزن.
تم خلط كمية 10.6 غرام من سائل المادة ‎«Dal‏ و27.6 غرام من جسيمات السيليكا الدقيقة المماثلة لتلك المستخدمة في المثال 1 و61.7 غرام من 2-برويانول ‎2-propanol‏ عن طريق
التقليب للحصول على ‎Ha‏ السائل ‎D4‏
في الطلاء السائل 04؛ كان تركيز المواد الصلبة من أكسيد السيليكون (المشتقة من جزيئات السيليكا
الدقيقة و تترا إيثوكسي سيلان) من حيث 902 بنسبة 77.0 من الوزن؛ وكانت نسبة الجسيمات
الدقيقة: المواد الرابطة 91: 9 وكان محتوى مركب الألومنيوم 5 جزء في الكتلة.
0 يختلف سائل الطلاء 04 هذا عن سائل الطلاء في المثال 1 من أدبيات براءات الاختراع 1 في أن سائل ‎D4 Salt‏ تم إعداده باستخدام ‎le cule‏ واحتوى على تركيز مناسب من المواد الصلبة للتطبيق بأداة طلاء دوارة. لكن نسبة الكتلة؛ التى يعبر عنها بجسيمات السيليكا الدقيقة : 5/02 المشتقة من تترا إيثتوكسي سيلان ‎tetraalkoxysilane‏ : نترات الألومنيوم ‎aluminum nitrate‏ من حيث أكسيد الألمنيوم ‎AL203) Aluminium oxide‏ ) كانت متساوية مع سوائل الطلاء .
5 تكوين الطلاء قليل الانعكاس : في المثال المقارن 4؛ تم عمل الطلاء قليل الانعكاس بنفس الطريقة التي في المثال 1 فيما عدا استخدام سائل ‎Dall‏ 84؛ وجرى تقييم مختلف خصائتص الطلاء قليل الانعكاس. وتم عرض النتائج في الجدول 1 . مثال مقارن 5
0 تحضير سائل الطلاء : تم خلط كمية 30.3 ‎oda‏ من كتلة جسيمات السيليكا الدقيقة مماثلة لتلك المستخدمة في المثال 1؛ و58.1 ‎gia‏ في كتلة إيثيل مذيب ‎ethyl cellosolve‏ (المذيبات)؛ و1 جزءِ في كتلة حمض الهيدروكلوربك ‎NT hydrochloric acid‏ (التحلل المحفز) من خلال التقليبء
— 2 2 — وتمت إضافة 10.4 جزءِ فى وزن تترا إيتوكسى سيلان ‎tetraalkoxysilane‏ المماثل لتلك المستخدمة في المثال 1 للخليط مع التقليب المستمر. استمر التقليب لمدة 8 ساعات إضافية مع الحفاظ عليه في درجة حرارة 40 درجة مئوية ليتحلل تترا إيثوكسي سيلان؛ وبالتالي نتج ‎ate‏ سائل المادة ‎Epa‏ ‏5 في ‎Ble‏ المادة الخام ا؛ كانت نسبة الجسيمات الدقيقة : المواد الرابطة 70: 30؛ وكان تركيز المواد الصلبة من حيث 5502 بنسبة 710 من الوزن. تم خلط كمية 7.0 غرام من سائل المادة الخام ‎¢E‏ و83.8 غرام من البروييلين جلايكول ‎propylene‏ ‎(cule) glycol‏ و9.2 غرام من أوكتا هيدريت أوكسى كلوريد الزركونيوم ‎zirconium‏ ‎oxychloride octahydrate‏ (من رتبة كاشف خاص» يتم تصنيعه من قبل ‎KANTO‏ ‎(CHEMICAL 00., INC 0‏ عن طريق التقليب للحصول على الطلاء السائل ‎ES‏ ‏في الطلاء السائل 55؛ كان تركيز المواد الصلبة من أكسيد السيليكون (المشتقة من جزيئات السيليكا الدقيقة وتترا ألكوكسي سيلان) من حيث ‎SIO2‏ بنسبة 77.0 من الوزن» وكان مقدار مركب الزركونيوم من حيث 2002 بالنسبة إلى 100 جزءِ في كتلة أكسيد السيليكون من حيث 5502 بنسبة 5 ‎shal‏ ‏5 في الكتلة. يختلف سائل الطلاء ‎ES‏ هذا عن ساتل الطلاء في المثال 13 من أدبيات براءات الاختراع 1 في أن سائل الطلاء ‎ES‏ يحتوي على تركيز مناسب من المواد الصلبة للتطبيق بأداة طلاء دوارة ولا يحتوي على مادة تقلل الشّد المشطحى للسائل المذابة به. لكن نسبة الكتلة؛ التى يعبر عنها بجسيمات السيليكا الدقيقة : 5502 المشتقة من تترا إيتوكسى 0 سيلان: مركب الزركونيوم من حيث 2202 كانت متساوية مع سوائل الطلاء. تكوين الطلاء قليل الانعكاس : في المثال المقارن 5؛ تم عمل الطلاء قليل الانعكاس بنفس الطريقة التي في المثال 1 فيما عدا استخدام سائل الطلاء ‎(ES‏ وجرى تقييم مختلف ‎jailed‏ الطلاء قليل الانعكاس .وتم عرض النتائج في الجدول 1 .
— 3 2 — مثال مقارن 6 . تحضير سائل الطلاء : تم خلط كمية 7.0 ‎ale‏ من سائل المادة الخام ‎E‏ و63.0 غرام من البروبيلين جلايكول ‎(cule)‏ و30.0 غرام من تترا أسيتيل أسيتونات التيتانيوم ‎titanium‏ ‎tetraacetylacetonate‏ (محلول 2-برويانول بنسبة تركيز للمواد الصلبة 765 من الوزن 106-401 0468716 المصنع من قبل ‎(MATSUMOTO TRADING Co., Ltd‏ بالتقليب للحصول على سائل طلاء ‎E6‏ ‏في الطلاء السائل ‎EG‏ كان تركيز المواد الصلبة من أكسيد السيليكون (المشتقة من جزيئات السيليكا الدقيقة وتترا ألكوكسيسيلان) من حيث 502 بنسبة 77.0 من الوزن؛ وكان مقدار مركب التيتانيوم من ‎Cua‏ 1102 بالنسبة إلى 100 ‎ia‏ في كتلة أكسيد السيليكون من حيث 5:02 بنسبة 5 أجزاء 0 في الكتلة. يختلف سائل الطلاء 56 هذا عن ساتل الطلاء في المثال 15 من أدبيات براءات الاختراع 2 في أن سائل الطلاء 6 يحتوي على تركيز مناسب من المواد الصلبة للتطبيق بأداة طلاء دوارة ولا يحتوي على ‎sale‏ تقلل الشّد ‎aan‏ للسائل المذابة به. لكن نسبة الكتلة؛ التي يعبر عنها بجسيمات السيليكا الدقيقة : 5:02 المشتقة من تترا ألكوكسيسيلان: 5 مركب التيتانيوم من حيث ثاني اكسيد التيتانيوم ‎Titanium dioxide‏ ( 1102) كانت متساوية مع سوائل الطلاء. تكوين الطلاء قليل الانعكاس في المثال المقارن 6؛ تم عمل الطلاء قليل الانعكاس بنفس الطريقة التي في المثال 1 فيما عدا استخدام سائل الطلاء ‎(EG‏ وجرى ‎andi‏ مختلف خصائص الطلاء قليل الانعكاس .وتم عرض النتائج في الجدول 1 . 0 التعتيق بعد التجفيف والمعالجة : خضع الطلاء قليل الانعكاس في المثال المقارن 1 تم لنفس التعتيق الذي تم إجراؤه في المثال 6. تم تقييم مختلف خصائص الطلاء قليل الانعكاس الذي خضع للتعتيق. وتم توضيح النتائج في الجدول 1.
— 2 4 —
وكما يتضح من الأمثلة 5-1 تم الانتهاء من الطلاء قليل الانعكاس فقط من خلال المعالجة عن طريق التجفيف بالهواء الساخن مما ‎Saul‏ عن كسب إنفاذ بنسبة 5 .2 " أو أكثر وعلى وجه الخصوص» الطلاء قليل الانعكاس في المثال 4 مما أسفر عن ارتفاع كبير في كسب الإنفاذ بنسبة
72.99 كان التغير في متوسط الإنفاذ قبل ويعد اختبار رذاذ الملح بنسبة 70.15 أو أقل للطلاءات قليلة الانعكاس؛ وعلى ‎dng‏ الخصوص؛ الطلاء في المثال 5 كان يتمتع بمقاومة مرتفعة نسبياً لرذاذ الملح لدرجة أن التغير في متوسط الإنفاذ قبل وبعد اختبار رذاذ الملح كانت نسبته 70.05. إضافة إلى ذلك» فإن أنواع الطلاء في الأمثلة 5-1 أظهرت هذه المقاومة القلوية العالية لدرجة أن التغيير في متوسط الإنفاذ قبل ويعد اختبار مقاومة القلويات كانت نسبته 70.6 أو أقل ومقاومة عالية للرطوية
0 الدرجة أن التغيير في متوسط الإنفاذ قبل ‎sug‏ اختبار طنجرة الضغط كانت نسبته 70.2 أو أقل. علاوة على ذلك؛ كما يتضح من المثال 6؛ فإن الطلاء قليل الانعكاس الذي تم الانتهاء منه من خلال معالجته بالتجفيف بالهواء الساخن والتعتيق الذي تلاه أظهرا مقاومة مرتفعة نسبياً لرذاذ الملح لدرجة أن متوسط الإنفاذ ظل على حاله قبل ‎seg‏ اختبار رذاذ الملح. وقد لوحظ التحسن من خلال التعتيق أيضا لمقاومة القلويات ومقاومة الرطوية.
5 وهذا يدل على أنه عندما يتم تثبيت جهاز التحويل الكهروضوئي المتوفر مع الطلاء قليل الانعكاس مع هذا الاختراع في بيئة يتعرض فيها الجهاز لأشعة الشمس؛ فإن مقاومة الطلاء لرذاذ الملح» والقلويات» والرطوية تشهد مزيداً من التحسن في غضون فترة زمنية قصيرة نسبياً بعد التثبيت بالمقارنة مع تلك مقاومة الطلاء المتكونة حديثاً. في الأمثلة المقارنة 1 و2 حيث كانت أنواع الطلاء قليل الانعكاس تحتوي على مركب الألومنيوم أقل
من 2 # في الكتلة؛ كان التغيير في الإنفاذ قبل ‎aang‏ اختبار رذاذ الملح أكثر من 70.15؛ وهو ما يثبت أن أنواع الطلاء هذه كان لها مقاومة ضعيفة لرذاذ الملح. إضافة إلى ‎cll‏ فإن التغير فى متوسط الإنفاذ قبل ‎dang‏ اختبار طنجرة الضغط كانت نسبته 70.6 أو أكثر لأنواع الطلاء هذه؛ وهو ما يثبت أنها كانت لها مقاومة ضعيفة للرطوية.
— 5 2 — في المثال المقارن3؛ كان محتوى مركب الألومنيوم أكثر من 77 في الكتلة. وقد أدى ذلك إلى تدهور خصائص الطلاء قليل الانعكاس؛ ومن ثم إلى انخفاض كسب الإنفاذ بنسبة 4. وكانت مقاومة رذاذ الملح؛ والقلويات؛ والرطوبة سيئة أيضاً. في المثال المقارن 4؛ احتوى الطلاء قليل الانعكاس على مركب ألومنيوم مشتق من نترات الألومنيوم تمت إضافته إلى الطلاء السائل» وكان محتوى مركب الألومنيوم أقل من 2 7 من الكتلة؛ حيث كان للطلاء قليل الانعكاس مقاومة ضعيفة لرذاذ ‎mld)‏ فضلا عن وجود مقاومة سيئة للغاية لكل من القلويات والرطوية. في الأمثلة المقارنة 5 و6؛ اشتملت أنواع الطلاء قليل الانعكاس على أكسيد الزركونيوم 2100010007 ‎oxide‏ وأكسيد التيتانيوم ‎titanium oxide‏ على ‎(gill‏ بدلا من مركب الألومنيوم؛ ‎ally‏ كانت 0 ضعيفة في مقاومة رذاذ الملح والرطوية. فأكسيد الزركونيوم وأكسيد التيتانيوم من المواد المعروف أنها يمكن أن تحسن هذه المقاومة. ومع ذلك؛ فإنه لا يمكن أن يُحدث أكسيد الزركونيوم وأكسيد التيتانيوم الأثر التحسيني عندما يتم تنفيذ التجفيف والمعالجة في درجات الحرارة المنخفضة. علاوة على ذلك؛ كانت عمليات كسب الإنفاذ فى الأمثلة المقارنة 5 و6 منخفضة و72.4 و72.3 5 1 على التوالي » مما يدل على وجود تدهور في خصائقص ‎Sal‏ قليل ‎f‏ لانعكاس . في المثال المقارن 7 تم تحسين مقاومة رذاذ الملح بالمقارنة مع تلك الواردة في المثال المقارن 1 الذي لم يتم تنفيذ التعتيق فيه. ومع ذلك»؛ كان التغير في متوسط الإنفاذ لا يزال بنسبة 70.15 أو أكثر؛ وهو ما يعني أن مقاومة رذاذ الملح لم تكن كافية. 0 وكانت مقاومة الرطوية غير مرضية أيضاً.
— 6 2 — جسيمات نسبة الكتلة 61.9 ‎63.1١‏ |60.7 66.4 57.1 61.9 الدقيقة المادة سيليكا نسبة الكتلة | 33.3 |34.0 |32.7 28.4 36.1 33.3 الرابطة مركب * نسبة ) 4.8 2.9 6.5 5.2 4.8 4.8 عنصر ا النوع آخر الجسيمات | نسبة 65 65 65 70 65 عنصر الدقيقة الكتلة السيليكا ‎١‏ المادة نسبة 35 35 30 40 35 الرابطة الكتلة
* *الأجزاء 3 7 5.5 |5 5 في الكتلة داه | ا ‎I‏ 0 ا *#* الأجزاء في الكتلة السمك / 140 140 140 140 1406 +140 نانومتر 82.8 |82.8 |82.7 |82.9 82.7 2.6 متوسط الإنفاذ / النسبة 3 8 5 9 2 3 كسب الإنفاذ / النسبة 2.83 2.88 2.75 |2.99 )2.72 2.63 اختبار رذاذ الملح )8917 © ‎(JIS‏ ‏7 0.07 0.05 اختبار المقاومة القلوية / ‎0.50١ 0.58] 0.58 0.55 3 ١‏ 0.18 النسبة اختبار طنجرة الضغط /النسبة 3 ]0.15 ا0.18 0.20 ]0.10
— 8 2 — تابع الجدول - 7 نك نك ا هن لا ل ماعنا ا هن كن لا ا فنا نم ا تع ا سنا نسل انتتا ‎EE‏ ‏7 نك هن لا ا نكا سنا ا هن كن لا ا كا نك ا
— 9 2 — 82.8 82.82 82.40 82.80 82.40 82.30 82.71 0 ‎om] ow wef ws] of owes‏ *: الكتلة7 لمركب الألومنيوم من حيث ‎A203‏ ‏*: الكتلة **: الأجزاء في ‎ALS‏ المركب من حيث أكسيد المعادن بالنسبة إلى 100 ‎gia‏ في كتلة عنصر السيليكا من حيث 5102. أمثلة مرجعية : تم استخدام أحد ونفس سائل الطلاء لتكوين طلاء قليل الانعكاس على مختلف الألواح الزجاجية بحيث تختلف في الانعكاس السطحيء وتم إعداد المواد المطلية قليلة الانعكاس كأمثلة مع الاختلاف في انعكاس سطح اللوح الزجاجي الذي لا يوجد به طلاء قليل الانعكاس عليه. ‎NY‏ ؛ تم إعداد لوح زجاجي يختلف في تركيز أكسيد القصدير في سطح رئيسي واحد؛ وبالتالي يختلف في الانعكاس على سطح رئيسي واحد .
0 كان اللوح الزجاجي المستخدم في المثال المرجعي 1 عبارة عن لوح زجاجي شفاف مطلي بمادة الغشاء تم تصنيعه من قبل شركة ‎Nippon Sheet Glass Co.
Ltd‏ حيث يحتوي هذا اللوح الزجاجي على مركب نموذجي للصودا والجير والسيليكات؛ ويه سطح رئيسي واحد مطلي بمادة الغشاء المسامي المركبة بواسطة ‎CVD‏ على الخط ويشتمل على طبقة مسامية والبالغ سمكه 3.2 مم. وقد أدى الطلاء قليل الانعكاس المتكون في المثال المرجعي 1 إلى تحسين تحويل اللوح الزجاجي الشفاف
5 الموصل المطلى ‎sale‏ الغشاء.
— 0 3 — تم تحديد متوسط الإنفاذ للوح الزجاجي الشفاف الموصل المطلي بمادة الغشاء لتكون 783.64 عندما تم تقييم خصائص انتقال اللوح الزجاجي بالطريقة المذكورة أعلاه قبل تقديم الطلاء قليل الانعكاس. وكانت الألواح الزجاجية المستخدمة في الأمثلة المرجعية 5-2 ‎Lad‏ ألواحاً زجاجية شفافة وموصلة ومطلية ‎sala‏ الغشاء تم تصنيعها من قبل شركة ‎.Nippon Sheet Glass Co.
Ltd‏ وكانت ‎sale‏ ‏5 الغشاء الشفاف الموصل مطابقة لتلك التى فى المثال المرجعى 1.
كانت الألواح الزجاجية هي تلك التي يتم إنتاجها بواسطة تنويع تركيز أكسيد القصدير والبيئة في حمام الصقل بحيث تحظى الألواح الزجاجية بتركيزات مختلفة لأكسيد القصدير في سطح رئيسي واحد غير مطلي بمادة الغشاء الشفاف الموصل. يحتوي كل لوح من الألواح الزجاجية على مركب نموذجي للصودا والجير والسيليكات ‎gly‏ سمكه 3.2 مم.
0 بلغ متوسط الإنفاذ حوالي 780 لهذه الألواح الزجاجية. كانت الألواح الزجاجية المستخدمة في الأمثلة المرجعية 6 و8 ألواحاً زجاجية مصقولة تم تصنيعها من قبل شركة ‎«Nippon Sheet Glass Co.
Ltd‏ ويبلغ سمكها 3.2 ‎can‏ وتحتوي على مركب نموذجي للصودا والجير والسيليكات ‎csOda-lime-silicate‏ ولم يتم طلاء أي من الأوجه الرئيسية لكل لوح زجاجى بمادة الغشاء الشفاف ‎Jaa gall‏ .
في المثال المرجعي 6؛ تم عرض طلاء قليل الانعكاس على ذلك السطح الرئيسي للوح الزجاجي الذي تمت ملامسته مع حمام الصقل 3 بينما في المثال المرجعي 8« تم عرض طلاء قليل ا لانعكاس على ذلك السطح الرئيسي للوح الزجاجي الذي لم تتم ملامسته مع حمام الصقل . وكما هو موضح في الجدول 2؛ فإنه لم يتم الكشف عن أكسيد القصدير في السطح الرئيسي للوح الزجاجي الذي لم
0 كان متوسط لتحويل حوالي 790 لهذه الألواح الزجاجية. كانت الألواح الزجاجية المستخدمة في الأمثلة المرجعية 7 و9 أيضاً ألواحاً زجاجية مصقولة بسمك 2 مم تم تصنيعها من قبل شركة ‎(Nippon Sheet Glass Co.
Ltd‏ وتحتوي على مركب
— 1 3 — نموذجي للصودا والجير والسيليكات؛ ولم يتم طلاء أي من الأوجه الرئيسية لكل لوح زجاجي بمادة الغشاء الشفاف الموصل. الذي تمت ملامسته مع حمام الصقل 3 بينما في المثال المرجعي 9 تم عرض طلاء قليل ا لانعكاس على ذلك السطح الرئيسي للوح الزجاجي الذي لم تتم ملامسته مع حمام الصقل . وكما هو موضح في الجدول 2؛ ‎ald‏ لم يتم الكشف عن أكسيد القصدير في السطح الرئيسي للوح الزجاجي الذي لم تتم ملامسته مع حمام الصقل (المثال المرجعي 9). وبالنسبة لهذه الألواح الزجاجية؛ ان متوسط الإنفاذ حوالي 790.8 والذي يعد ‎ef‏ من تلك التي في الألواح الزجاجية المذكورة في الأمثلة المرجعية 6 و8. 0 كما هو موضح في المثال 1؛ تمت معالجة الألواح الزجاجية في الأمثلة من 1 إلى 9 عن طريق القطع والغسل والتجفيف لإعداد ألواح زجاجية لعمل طلاء قليل الانعكاس. تم ‎and‏ خصائص انتقال الألواح الزجاجية في الأمثلة المرجعية 1 إلى 9 على النحو المبين أعلاه قبل تقديم أنواع الطلاء قليل الانعكاس. لهذا السطح الرئيسي لكل لوح زجاجي تم طلاؤه بطلاء قليل الانعكاس؛ تم أيضاً قياس متوسط الانعكاس في نطاق الطول الموجي من 380 إلى850 نانومتر 5 وتركيز أكسيد القصدير في الجزءِ الخارجي من السطح الرئيسي. تم تحديد متوسط الانعكاس عن طريق قياس منحنى الانعكاس (طيف الانعكاس ‎reflection‏ ‏0 ) باستخدام مقياس الطيف الضوئي ‎UV-3100PC)‏ الذي تصنعه شركة ‎(Shimadzu Corporation‏ في زاوية السقوط 8 درجات وحساب متوسط قيم الانعكاس على نطاق الطول الموجي من 380 إلى 850 نانومتر. قبل قياس طيف الانعكاس تمت معالجة مقابل السطح 0 الرئيسي إلى جانب سقوط الضوءٍ للحد من تأثير السطح الرئيسي العكسي على قياس الانعكاس. ‎leg‏ وجه التحديد؛ عندما تم استخدام اللوح الزجاجي كان لوحاً ‎Lala‏ شفافاً موصلاً مطلياً بمادة الغشاء وكان طلاء قليل الانعكاس سيتم تقديمه لطلاء السطح غير المطلي بمادة الغشاء الشفاف الموصل؛ فتمت ‎sale Al)‏ الغشاء الموصلة الشفافة عن طريق ‎all‏ بالرمل؛ تلاه طلاؤه بطلاء أسود .
— 2 3 — عندما تم استخدام اللوح الزجاجي لم يكن مطلياً بمادة الغشاء الشفافة الموصلة؛ وتم طلاء مقابل السطح الرئيسي بطلاء أسود إلى جانب سقوط الضوء. وقد تم قياس تركيز أكسيد القصدير في ‎gall‏ الخارجي من السطح الرئيسي باستخدام محلل دقيق في مسبار إلكتروني 00100-80812672 ‎(EPMA) electron probe‏ وجهاز كشف تشتت
الطول الموجي والأشعة السينية ‎(WDX) X-ray detector‏ الذي تم تثبيته على محلل دقيق.
على ‎dag‏ التحديد » 298 تم إجراء تحليل ‎WDX‏ (تسريع الجهد: 15 كيلو فولت؛ عينة التيار : 2.5 ‎x‏ ‎A 7-0‏ سرعة المسح الضوئي 6 ميكرون/دقيقة؛ بلورة التشتت : ‎(PET‏ باستخدام جهاز ‎EPMA‏ ‎«(JXA 8600‏ تم تصنيعه من قبل شركة ‎Ltd‏ ا0عل). تم طلاء أحد الأسطح الرئيسية بطلاء قليل الانعكاس (السطح الذي تم قياس متوسط تركيز الانعكاس
0 أأكسيد القصدير فيه) لكل لوح زجاجي باستخدام نفس الطلاء السائل ‎Al‏ والإجراءات المستخدمة في ‎Jb‏ 1. لكل مادة من المواد المطلية بطلاء قليل الانعكاس الذي تم الحصول عليه والموضح في الأمثلة من انعكاس اللوح الزجاجي؛ كما تم تقييم خصائص الانتقال المذكورة أعلاه.
5 يوضح الجدول 2: متوسط الإنفاذ لكل مادة من المواد المطلية بطلاء قليل الانعكاس (تم قياس التحويل بعد الطلاء)؛ عمليات كسب الإنفاذ التي تمثل الزيادة في متوسط الإنفاذ بالنسبة للوح الزجاجي غير المطلي بطلاء قليل الانعكاس؛ متوسط انعكاس اللوح الزجاجي غير المطلي بطلاء قليل الانعكاس؛ والزيادة في متوسط الانعكاس (فقد الانعكاس) للمادة المطلية بطلاء قليل الانعكاس بالنسبة للوح الزجاجي غير المطلي بطلاء قليل ا لانعكاس ‎٠‏
[الجدول 2]
— 3 3 — تركيز 502 قبل ‎or‏ ‏بعد الطلاء | كسب الإنفاذ : : 2 2 2 2 المتال 5.67 3.70 86.50 2.7 المرجعي 1 المتال 8.8 5.59 3.63 82.89 2.4 المرجعي 2 المتال 9.5 5.66 3.83 83.11 2.84 المرجعي3 المتال 10.4 5.75 3.97 83.30 2.84 المرجعي 4 المتال 11.0 5.82 4.07 83.16 2.7 المرجعي 5 المتال 10.0 5.71 3.90 93.60 3.58 المرجعي 6 المتال 5.7 5.27 3.41 93.91 3.09 المرجعي 7 المتال غير متاح 4.77 2.73 92.41 2.38 المرجعي 8
— 4 3 — المثال غير متاح 2 2.59/6 93.19 2.317 المرجعي 9 يوضح الشكل 2 العلاقة بين متوسط انعكاس أحد الأسطح الرئيسية للوح الزجاجي غير المطلي بطلاء قليل الانعكاس (تم قياس الانعكاس قبل الطلاء) مقابل زيادة متوسط الانعكاس (فقدان الانعكاس) وكسب الإنفاذ في السطح الرئيسي المطلي بطلاء قليل الانعكاس للوح الزجاجي المطلي بطلاء قليل الانعكاس. وتؤكد هذه النتائج أنه كلما ارتفع متوسط انعكاس اللوح الزجاجي غير المطلي بطلاء قليل الانعكاس؛ زاد فقدان الانعكاس ومن ثم زادت عمليات كسب الإنفاذ الناجمة عنه. وتقودنا النتائج في الأمثلة المرجعية من 1 إلى 9 إلى ملاحظة أن عمليات كسب الإنفاذ كانت أقل بقليل من 780 من فقدان انعكاس للمواد المطلية بطلاء قليل الانعكاس الواردة فى الأمثلة المرجعية من 1 إلى 5 التي تم إعدادها باستخدام ألواح زجاجية مطلية بمادة الغشاء الشفافة الموصلة؛ بينما تم 0 إعداد المواد المطلية بطلاء قليل الانعكاس في الأمثلة المرجعية 6 إلى 9 باستخدام ألواح زجاجية مصقولة؛ كانت نسبة كسب الإنفاذ حوالي 790 من فقدان الانعكاس. وهذا يقودنا إلى توقع أن نسبة 72.5 أو أكثر من كسب الإنفاذ. من المرجح أن تتحقق عندما يكون انخفاض متوسط الانعكاس حوالي 73.15 أو أكثر. يوضح الشكل. 2 أن الانخفاض في الانعكاس بنسبة 73.15 أو أكثر يمكن أن يتحقق عندما يكون لسطح 5 الوح الزجاجي متوسط انعكاس بنسبة 75.1 أو أكثر. وهذا يقودنا إلى استنتاج أن عمليات كسب الإنفاذ بنسبة 72.5 أو أكثر من المرجح أن تتحقق من خلال تطبيق الطلاء قليل الانعكاس في هذا الاختراع على لوح زجاجي له انعكاس بنسبة 75.1 أو أكثر. التطبيق الصناعي يمكن لهذا الاختراع أن يوفر طلاءً قليل الانعكاس والذي من شأنه أن ينتج مكاسباً تحويل عالية وذات 0 مقاومة جيدة لرذاذ الملح على الرغم من عمل هذا الطلاء عن طريق المعالجة في درجة حرارة

Claims (1)

  1. عناصر الحماية 1- ركيزة مطلية منخفضة الانعكاس ‎ddlow-reflection coated substrate‏ تشتمل على: رقاقة زجاجية ‎¢glass sheet‏ و طلاء منخفض الانعكاس ‎low-reflection coating‏ مشكل على سطح رئيسي واحد على الأقل للرقاقة الزجاجية ‎sheet‏ 91855؛ ‎Cus‏ يكون الطلاء منخفض الانعكاس عبارة عن غشاء مسامي ‎porous fim 5‏ وبشتمل على: جسيمات سيليكا دقيقة ‎fine silica particles‏ والتي تكون صلبة ‎solid‏ وكروية ‎spherical‏ ولها متوسط قطر مسامي من 80 إلى 150 نانومتر؛ و رابط يحتوي على السيليكا ‎silica‏ كمكون رئيسي؛ حيث يتم ربط جسيمات السيليكا الدقيقة ‎fine‏ ‎ae silica particles‏ بواسطة الرابط» وحيث يحتوي الرابط أيضًا على مركب ألومنيوم» ‎Cua‏ ‏0 يحتوي الطلاء منخفض الانعكاس ‎low-reflection coating‏ على المكونات التالية: 355 إلى 70 % بالكتلة من جسيمات السيليكا الدقيقة ‎«fine silica particles‏ إلى 1640 بالكتلة من السيليكا ‎silica‏ الخاصة بالرابط؛ و 2 إلى 967 بالكتلة من مركب الألومنيوم ‎aluminum‏ الذي يظهر في صورة أكسيد الألمنيوم ‎AL203) Aluminium oxide‏ ) يكون للطلاء منخفض الانعكاس سمك من 80 إلى 800 5 نانومتر؛ ينتج الطلاء منخفض الانعكاس كسب نفاذية من 962.5 إلى 963.58؛ يمثل كسب النفاذية زيادة في متوسط نفاذية الرقاقة الزجاجية المزودة بالطلاء منخفض الانعكاس مقارنة بالرقاقة الزجاجية غير المزودة بالطلاء منخفض الانعكاس ؛ يتم قياس متوسط النفاذية في نطاق الطول الموجي الذي من 380 إلى 850 نانومتر؛ يكون للسطح الرئيسي متوسط انعكاس من 965.1 إلى 965.82 عند نطاق طول موجي من 380 إلى 850 نانومتر عند قياسه في غياب الطلاء منخفض الانعكاس 0 على السطح الرئيسي» ويحتوي جزءٍ خارجي للسطح الرئيسي يتشكل عليه الطلاء منخفض الانعكاس على أكسيد قصدير ‎tin oxide‏ بنسبة من 3.5 إلى 1624 بالكتلة . 2- الركيزة المطلية منخفضة الاتعكاس ‎Gay low-reflection coated substrate‏ لعنصر الحماية 1 حيث يكون متوسط القطر الجسيمي لجسيمات السيليكا الدقيقة ‎fine silica particles‏ 5 في نطاق من 100 نانومتر إلى 150 نانومتر.
    3- الركيزة المطلية منخفضة الانعكاس ‎Gay low-reflection coated substrate‏ لعنصر الحماية 1؛ حيث؛ في الطلاء منخفض الانعكاس ؛ يكون محتوى مركب الألومنيوم ‎aluminum‏ ‏من 965.2 بالكتلة إلى 967 بالكتلة ويظهر في صورة أكسيد الألمتيوم ‎Aluminium oxide‏
    .(AL203) 4— الركيزة المطلية منخفضة الانعكاس ‎Gay low-reflection coated substrate‏ لعنصر الحماية 1؛ حيث يتم اشتقاق السيليكا ‎silica‏ الخاصة بالرابط من مركب سيليكون قابل للتحلل بالماء؛ أو ناتج تحلل بالماء لمركب السيليكون ‎Jill silicon‏ للتحلل بالماء؛ ويشتمل مركب السيليكون القابل للتحلل بالماء على مركب تمثله الصيغة التالية (1): ‎SiX4 (I), 0‏ حيث ‎X‏ تكون ‎Ble‏ عن مجموعة واحدة على الأقل مختارة من مجموعة ألكوكسي ‎alkoxy‏ ‏مجموعة أسيتوكسي ‎acetoxy‏ مجموعة ألكينيلوكسي ‎calkenyloxy‏ مجموعة ‎sisal‏ 807100؛ ‏وذرة هالوجين ‎.halogen atom‏ 5 5- الركيزة المطلية منخفضة الانعكاس ‎Gag low-reflection coated substrate‏ لعنصر الحماية 4 حيث يكون مركب السيليكون ‎WA silicon‏ للتحلل بالماء عبارة عن تترا ألكوكسي سيلان ‎tetraalkoxysilane‏ ‏6- الركيزة المطلية منخفضة الانعكاس ‎Gig low-reflection coated substrate‏ لعنصر 0 الحماية 1 حيث يتم اشتقاق مركب الألومنيوم ‎aluminum‏ من هاليد ألومنيوم ‎aluminum‏ ‎halide‏ مضاف إلى سائل طلاء لتكوين طلاء منخفض الانعكاس ‎Jow-reflection coating‏ 7- الركيزة المطلية منخفضة الانعكاس ‎Gig low-reflection coated substrate‏ لعنصر الحماية 6 حيث يكون هاليد الألومنيوم ‎aluminum‏ عبارة عن كلوريد ألومنيوم ‎aluminum‏
    ‎.chloride 5‏
    8- الركيزة المطلية منخفضة الانعكاس ‎Gay low-reflection coated substrate‏ لعنصر الحماية 1 حيث يكون لفرق متوسط نفاذية الركيزة ‎substrate‏ المطلية منخفضة الانعكاس قبل ويعد اختبار رش الملح ‎das‏ مطلقة من صفر إلى 960.15؛ حيث يتم إجراء اختبار رش الملح وفقًا ‎JIS C 8917‏ 2005؛ الملحق 4. 9- الركيزة المطلية منخفضة الانعكاس ‎low-reflection coated substrate‏ وفقًا لعنصر الحماية 1؛ حيث يتم الحصول على الركيزة ‎substrate‏ المطلية منخفضة الانعكاس عن طريق تطبيق سائل طلاء لتكوين الطلاء منخفض الانعكاس ‎low-reflection coating‏ على الرقاقة الزجاجية ويعد ذلك تسخين ‎BEN‏ الزجاجية؛» حيث يتضمن التسخين تعريض سطح معين ‎BEN‏ ‏الزجاجية ‎glass sheet‏ إلى أقصى درجة حرارة بين 200 م إلى 350 ‎a‏ والمدة التي يكون أثناء ها 0 سطح الرقاقة الزجاجية في درجة حرارة بين 200 م و350 م من صفر إلى 5 دقائق. 0- الركيزة المطلية منخفضة الانعكاس ‎Gag low-reflection coated substrate‏ لعنصر الحماية 1؛ حيث يتم الحصول على الركيزة ‎substrate‏ المطلية منخفضة الانعكاس عن طريق تطبيق سائل طلاء لتكوين الطلاء منخفض الانعكاس ‎low-reflection coating‏ على الرقاقة 5 الزجاجية ويعد ذلك تسخين الرقاقة الزجاجية؛ حيث يتضمن التسخين تعريض سطح معين ‎BEN‏ ‏الزجاجية ‎glass sheet‏ إلى أقصى درجة حرارة بين 100 م إلى 250 ‎a‏ والمدة التي يكون أثناء ها سطح الرقاقة الزجاجية في درجة حرارة بين 100 م و350 م من صفر إلى 2 دقيقة. 1- الركيزة المطلية منخفضة الانعكاس ‎Gy low-reflection coated substrate‏ لعنصر 0 الحماية 1( حيث تكون الرقاقة الزجاجية عبارة عن رقاقة من زجاج عائم يتم إنتاجها بواسطة عملية طفوء يتشكل الطلاء منخفض الانعكاس ‎low-reflection coating‏ على سطح رئيسي من الرقاقة الزجاجية؛ ويكون السطح الرئيسي هو سطح تم وضعه في تلامس مع حمام زجاج عائم أثناء إنتاج الرقاقة الزجاجية بواسطة عملية الطفو. 5 12- الركيزة المطلية منخفضة الانعكاس ‎Lig low-reflection coated substrate‏ لعنصر الحماية 1 ‎Gua‏ تشتمل الركيزة ‎substrate‏ المطلية منخفضة الانعكاس أيضًا على غشاء شفاف
    — 8 3 — موصل مشكل على سطح رئيسي من الرقاقة الزجاجية مواجه للسطح الرئيسي الذي يتشكل عليه الطلاء منخفض الانعكاس ‎Jow-reflection coating‏ 3- وسيلة تحويل كهروضوئية ‎photoelectric conversion device‏ تشتمل على: ركيزة ‎substrate 5‏ مطلية متنخفضة ‎١‏ لانعكاس ‎Lg‏ لعنصر الحماية 1 3 حيث السطح الرئيسى هو سطح يسقط عليه الضوء .
    ‎a Soa:‏ ا ل ا ا ا ا أ ااا ا ل ا ا م ا ا ا ا ال الي ا ال لا الاج ا ‎Sh > hy ERT SE SRE RS SORE TE RC‏ ‎EERE RR ANN > a Ea SEY‏ م ‎WEE Se SER TET EEN RR RR Be‏ ال ا ل يي اا ال لنت ‎BE‏ ال ‎RE Se‏ ا ‎FE TE‏ ات ‎a ETE‏ اش ‎TE Sea‏ ا ا ا ا ا ا لكاي تن الا الاي اا ال ‎TR‏ اه ‎EEE‏ ا ‎ROTTEN UR es EO a ER‏ ‎Re SNL CN ee SESE SE SB ee SER ina ONY ia TR OY‏ ام ‎PIR‏ ‎ER RAE SR: Jt‏ ل ا ا ل ا ل ال ا ات اي ا ا ال ا هي ‎SI‏ تل للدي ‎Se ENG‏ الي ا لخاد ‎ERE a‏ ‎RET a NR eT a ee‏ ا ا ‎NIT INR ene TR‏ اي ‎ahs a ana a Ta‏ الب نالمحي .المي ال ا ‎Ne‏ الا اح ل ل ا ا ا ‎Te Sm RT‏ لمجا الا اي الما ‎od‏ ال اف ‎HET TT ST ne eS es (Maen‏ ال ‎rR TO ER RN‏ الس ‎RN‏ ين ا م ‎eR SER i aca‏ يي ا ال ااي ات اللي ا 7 ‎eee‏ ا امد اا الت ا ال ل لت ا اا ل ‎GRR TN SRY SE ER RR SN ey‏ ا متا ا يي ‎EE RE‏ الاح التي ا د ال ‎Sa‏ ال ‎a RO ell Een TREY Fiat CT‏ ا 5 ‎a NAT‏ ا ا اد ‎a RN Ra TN i IR TR TT RN a TT‏ ‎FRE Sa‏ ا اي ا ا 0 ‎AE OT re COE alee Samy Celi Fao Nene a‏ ‎IT ig TR NE BOR aed‏ ال ‎Sn eo TI TIN GN mg I‏ زر ا ا نت ‎٠٠‏ لو اح او اس ‎RS‏ الا ل يي الا ل واي اا ا ا ا ا ا ا ا ال 5 اليه 1000 الي ال ا ااي ال ا ل الا ‎SIRE SEIN‏ الاج ‎NEI‏ ا ااا ‎die EERIE‏ اله ‎eT RE he‏ ا ‎SN‏ ‎RRR‏ ا ا ‎SETI‏ ا نت ا ‎aR‏ ال و ل ا ‎he 1 Ca‏ ل ا ا نت ال ا الا اج ل ‎Tr‏ يي ا ل ال ا 0 ‎E aie‏ ا ‎STERN ER SE‏ الب ‎I OR‏ ات ‎aE‏ اح ‎SR a TN ALT‏ ال ‎ITI RIN EE II ee I IR eT SN RS BT ET ee et es 3‏ اتا ا ‎pa‏ ‎RS 1 : SENET es TL‏ ال ‎A‏ ا و با الي الم ا ا ا ا اي ا ا ‎SNE a‏ ا امم و ‎aa a Se ERIE‏ ف ‎eT‏ ل ا ا م ا لمهي >< اي ا ل ل الاش الا ال ا الما ‎SE‏ الات اما ‎RE‏ الل أ ا 5 0 ‎Ae BENE Sa SEN a Ea a‏ ات المت ال اا ل ال ا ااي ‎ET‏ امهيا ا 50 امي ‎Ea‏ ‎STR TE RR The‏ اح اي ا ايا ليسي اناي ال ‎CR ACE‏ ا ‎SEE‏ ا ا ال ا ا ب :. لت مس ا الاو جين ال ا يد الج ل ا حي ا ‎ale‏ ا ‎Thu J NE SD Team TH‏ ل ل ل يح ل الى ل ا ا وح ل ما ا ا ل ا يت ومس ‎HE‏ ا تح ا ا ا مج الالو تن مستت سوس اللي ا ا ا ‎a‏ الجن ‎pe nT ea RT aT TT‏ متت 1 الإ الت يي ‎ERR IN SE a SERN NA a ee dei]‏ ‎Ce PR oO ae Co ai 05 SEE AE : Faia Song‏ ا الس ا الي ‎CR‏ ‎I I SE, NES IN gn RET‏ الت ‎RON Et RA ry A 7 Ro TT‏ نب الم ‎Road‏ ل ل الي ا ل ا الو حو التي االو الما ا ل لي الست اي ع ال ل د ‎RE‏ ‎SER‏ ل ل ل الا امس اا التي ‎RE TR‏ اا الل ا ‎TR‏ ‏الل ‎mn TAT TI Cl‏ الو يا حي ا ات ال كت اجا ‎RE‏ ‎Se RL Le A Shamed J‏ ب" الي اللاي الا ‎Shh fra aR‏ ا ‎EERE i‏
    ‎PR.‏ ا الل اي ال يك خا اليا اليد الح ‎A‏ ل ‎AS aR TR‏ 3 ‎Sap SR BR HIRI SOE‏ الي ال ‎PIR BR Set BD IL SIE on Bo SR‏ ا ا ال اي ‎SR‏ تت اراي م اي 3 ا ااا دسي ‎١ ER‏ اج ا مين ا ا امسا الا الل ا ل ا ا ا ‎STE‏ و الا ...ب المي اا ا 0 8 لاسي »لحي ‎EAN‏ جو تين ال ا | الام ل ‎me, te‏ ا ‎ee‏ ااا اا ‎BR‏ ‎i ant TN ES ER AN‏ الي ‎cm Na eT BROT X Nes AN‏ ل 2 المع لي ‎Bi SE a ENE ER I SE RE RRR TE‏ ‎ART 3‏ لمن ‎aR ae TT A SS NL‏ الجهين 0 0 ‎ra‏ لج ‎I‏ ‏يا ‎SRE Me NI CE i‏ ا ‎ama‏ ام ‎CA ATR SN Te SREY Ptah ata HE‏ ال الا ا اس ‎RE‏ ‎FENG‏ ا ا يمت المي ا ا ا ا ل ل ا ا ‎el‏ المي نيا مين الم ‎AERA‏ الج ‎QE‏ اال امت ب ‎BE ny Pan‏ & ا الات الج ‎Rd‏ ا لط ‎TIT TEER‏ 1 ع الاك ل الا ا اال ل الي د ا ل ا ل ل ل 0 ‎nL‏ ‎Be a. *‏ ل ا ا ا اك ا ا ‎Be ATL ay TIA Ln‏ ‎SURES RR SEE RE RE TE A‏ كي ا لت الت ال أ : ‎SEI‏ ‎SRE TR £2 : : SET EY Ne SE 0‏ ا ‎SE I‏ 1 + 1 !2ج ‎٠‏ + ا ااا ‎Seek‏ ا ا ا ‎٠‏ أثاثومتر ‎6mm x50.0k SEQ‏ .11 المافة 1025-114 ‎Ves‏ ثاتومتر ‎8mm 5006 SEU‏ 11 لغقدة 1025-114 شكل ‎a‏ 0 ‎bala.‏
    ا شت ‎Yak‏ ‎BREE‏ ‎Fa age a AAA AA AAA AAA AAA,‏ ‎N a < x + a‏ ‎N BS » H 8: 8‏ ‎N 3 8 1 : :‏ ‎N 3 H ; 8 :‏ ‎Ny a 0: 4 ¥ 8‏ ‎N 8 : 8 2 8‏ ‎N 3 2 8 H :‏ ‎N 3 3 3 ; :‏ ‎N Hy 3 8 : 8‏ ‎Ny 5 x 3 3 0‏ ‎N N : 1 8 3‏ 8 ‎dead Rea EAA Av AAA‏ لذ ‎RE SEEN SNA Ae Free‏ لات تحت حا و ‎Bead‏ ار متا ‎ARATE‏ £ ‎x i‏ ¢ : 5 ‎ht 3 2 3 3 $ H‏ 8 : د 8 : : 3 ‎N B 3 : R H‏ ‎N BK : 8 8 H‏ ‎N N : { H‏ ‎N 2 3 8‏ }3 ‎N 3 : 8 : H‏ ‎BS & 3 ¥‏ 1 { 3 ‎iN Ey N a 5 :‏ 3 ‎HN 8 : : : 8‏ 3 ‎N 8 8 Fa 0:‏ ااا ااا واوا ‎Fox 1 8 N 0: Fa 8 Tem‏ اديه ‎ss‏ حب ساح حي ‎a‏ لماك ماحم لا ‎a‏ وما ل اا اق ‎si‏ ات دم تم تج ‎Rn‏ ال ‎N‏ ب 0 > 0 3 > ‎N 3 3 8‏ ‎M § & 8 3 i‏ 3 } م 5 ‎N‏ < : 8 5 : ‎N 8 8 8 N Cio 4 5 Sete a bin ta‏ : # ادل ‎hid 3 BR 8 8: N SEE Lele 0 MR LARGE‏ ا ‎i : 8 : i EIR oT‏ #8 ‎N }‏ :8 : : 5 ل ‎N 0‏ : 8 : 8 ‎Ana ada or‏ ~ 00 7 . .\ 12 ب 1 2 حب المشادية ‎SENT‏ م يمي د 5 ‎oe oY i R Fal H < N BET‏ ‎EN RR SRN OIG: RN: SAS AUTRE SNES ARETE HN hd‏ 3 $ : : : ‎K 3 3 H H 0‏ ; ‎dk‏ اح ‎aan‏ الاج 0 ‎H NE‏ 1 1 1 8 4 ارد الال كت لنت اي ةي ات !اا ‎R b3 3 Se } H‏ = ان م ‎H Dn‏ و ‎H ps‏ : الاللة ‎EY Ree‏ \ : : : ٍْ 0
    ‎i. 1 0‏ ¢ ‎i IR 1 i‏ & : 1 3 ير ‎i { Toy 3 } 1 i 2 . fo Swed‏ ‎i THEE pa Sonne SE EEE panel‏ { : 3 1 : ما ‎a vn vt tat a Si nana of :‏ 3 ل ل ل ل ‎BET IRF ci‏ : : 3 3 3 5 ‎By 5 : h :‏ 8 ‎H 8 1 :‏ : : > ‎vB H 0 3 :‏ ‎H 1 :‏ 3 شد : ‎N‏ ل ‎i : 3 i 1 :‏ 3 ‎pod i H i : 1 ٍ‏ ‎N : i : } :‏ ‎H H 8 1 :‏ : : ‎i 3 8 > :‏ . + ‎AAA AAR AAA INN 3‏ ¥ = 2 3 : ? ‎HS Fon # & ki +‏ ‎a}‏ 3 ا ‎k‏ م . ‎Sie MIE Xe IE ETE‏ ا © لست حا ااا لوعي أل ما ‎TAY ow Moxa SR Sed‏ التي . نسية ‎lI‏ انوج الزجاج كير متوئرة مع ‎STN‏ اليل ‎wT‏
    لاله الهيلة السعودية الملضية الفكرية ا ‎Sued Authority for intallentual Property‏ ‎RE‏ .¥ + \ ا 0 § 8 ‎Ss o‏ + < م ‎SNE‏ اج > عي كي الج ‎TE I UN BE Ca‏ ‎a‏ ةا ‎ww‏ جيثة > ‎Ld Ed H Ed - 2 Ld‏ وذلك بشرط تسديد المقابل المالي السنوي للبراءة وعدم بطلانها ‎of‏ سقوطها لمخالفتها ع لأي من أحكام نظام براءات الاختراع والتصميمات التخطيطية للدارات المتكاملة والأصناف ع النباتية والنماذج الصناعية أو لائحته التنفيذية. ‎Ad‏ ‏صادرة عن + ب ب ‎٠.‏ ب الهيئة السعودية للملكية الفكرية > > > فهذا ص ب ‎101١‏ .| لريا ‎1*١ v=‏ ؛ المملكة | لعربية | لسعودية ‎SAIP@SAIP.GOV.SA‏
SA516380631A 2014-06-30 2016-12-29 طلاء قليل الانعكاس، ومادة مطلية قليلة الانعكاس، وجهاز تحويل كهروضوئي SA516380631B1 (ar)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014134177 2014-06-30
PCT/JP2015/003300 WO2016002215A1 (ja) 2014-06-30 2015-06-30 低反射コーティング、低反射コーティング付き基板および光電変換装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SA516380631B1 true SA516380631B1 (ar) 2020-12-31

Family

ID=55018788

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SA516380631A SA516380631B1 (ar) 2014-06-30 2016-12-29 طلاء قليل الانعكاس، ومادة مطلية قليلة الانعكاس، وجهاز تحويل كهروضوئي

Country Status (8)

Country Link
US (1) US10416353B2 (ar)
EP (1) EP3162773B1 (ar)
JP (1) JP6560210B2 (ar)
CN (1) CN106660863B (ar)
ES (1) ES2812613T3 (ar)
MY (1) MY181241A (ar)
SA (1) SA516380631B1 (ar)
WO (1) WO2016002215A1 (ar)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017170498A1 (ja) * 2016-03-29 2017-10-05 日立化成株式会社 エアロゲル複合体、エアロゲル複合体付き支持部材及び断熱材
JP6650368B2 (ja) * 2016-07-28 2020-02-19 日本板硝子株式会社 低反射コーティング付ガラス板、低反射コーティング付基材を製造する方法、及び低反射コーティング付基材の低反射コーティングを形成するためのコーティング液
CN112768560A (zh) * 2021-01-07 2021-05-07 成都中建材光电材料有限公司 一种对双玻光伏组件图案刻蚀的方法

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4197747B2 (ja) * 1998-06-12 2008-12-17 三菱製紙株式会社 シリカアルミナ複合ゾル,その製造方法および記録媒体
WO2001042155A1 (en) * 1999-12-13 2001-06-14 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Low-reflection glass article
WO2001047033A1 (fr) * 1999-12-20 2001-06-28 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Transducteur photoelectrique et substrat pour transducteur photoelectrique
JP2005330172A (ja) 2004-05-21 2005-12-02 Nippon Sheet Glass Co Ltd ガラス板およびその製造方法、低反射性透明ガラス板、低反射性透明導電基板およびその製造方法、ならびに、低反射性透明導電基板を用いた光電変換素子
JP4225999B2 (ja) 2005-11-30 2009-02-18 日揮触媒化成株式会社 複合酸化物ゾルおよび被膜付基材
WO2009071317A1 (de) * 2007-12-05 2009-06-11 Schott Ag Substrat mit einer sol-gel-schicht und verfahren zur herstellung eines verbundmaterials
EP2419266B1 (en) * 2009-04-15 2017-03-08 3M Innovative Properties Company Retroreflective sheeting including a low index coating
WO2012008427A1 (ja) 2010-07-12 2012-01-19 セントラル硝子株式会社 低反射膜およびその形成方法およびそれを用いた低反射部材、並びに、低反射膜形成用塗布液およびその調製方法およびそれを用いた低反射部材
AU2011298373A1 (en) * 2010-09-01 2013-04-11 Agc Flat Glass North America, Inc. Glass substrate coated with an anti-reflective layer
JP2014015543A (ja) 2012-07-09 2014-01-30 Nissan Chem Ind Ltd 低屈折率コーティング組成物
JP6039962B2 (ja) 2012-08-01 2016-12-07 日本板硝子株式会社 光電変換装置用カバーガラス
MY174106A (en) * 2013-01-31 2020-03-10 Nippon Sheet Glass Co Ltd Low reflection coating glass sheet and method for producing the same

Also Published As

Publication number Publication date
US10416353B2 (en) 2019-09-17
JP6560210B2 (ja) 2019-08-14
MY181241A (en) 2020-12-21
US20170139080A1 (en) 2017-05-18
JPWO2016002215A1 (ja) 2017-04-27
EP3162773A4 (en) 2017-11-29
CN106660863B (zh) 2019-08-13
EP3162773A1 (en) 2017-05-03
CN106660863A (zh) 2017-05-10
ES2812613T3 (es) 2021-03-17
EP3162773B1 (en) 2020-08-12
WO2016002215A1 (ja) 2016-01-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2641757C2 (ru) Композиция для покрытия, содержащая слоистый силикатный пигмент, и способ создания прозрачного или просвечивающего эмиссионного покрытия
Pagliaro et al. Silica-based hybrid coatings
SA517381194B1 (ar) طلاء منخفض الإنعكاس
WO2011040405A1 (ja) 光触媒塗装体およびそのための光触媒コーティング液
WO2006095464A1 (ja) 酸化チタンコーティング剤、及び酸化チタン塗膜形成方法
SA516380631B1 (ar) طلاء قليل الانعكاس، ومادة مطلية قليلة الانعكاس، وجهاز تحويل كهروضوئي
WO2018020989A1 (ja) 低反射コーティング付ガラス板、低反射コーティング付基材を製造する方法、及び低反射コーティング付基材の低反射コーティングを形成するためのコーティング液
CN102574119A (zh) 光催化剂涂装体及用于制造该涂装体的光催化剂涂布液
JP6266230B2 (ja) 表面改質金属酸化物微粒子、薄膜形成用の塗布液、薄膜付き基材、光電気セル、及び表面改質金属酸化物微粒子の製造方法
WO2014119710A1 (ja) コーティング液及び反射防止膜
WO2016121404A1 (ja) 低反射コーティング付ガラス板、低反射コーティング付基材を製造する方法、及び低反射コーティング付基材の低反射コーティングを形成するためのコーティング液
Caballero-Güereca et al. Transparent ZnO thin films deposited by dip-coating technique: Analyses of their hydrophobic properties
KR20140061842A (ko) 반사방지 효과, 초친수 작용 및 UV-Cut 특성을 갖는 수계 광촉매 제조 및 이를 적용한 유리제품
JP2012188636A (ja) 赤外線の吸収・遮蔽機能を有するコーティング剤
CN112811825A (zh) 一种防雾涂层,其制备方法、由其获得的产品
JP6487933B2 (ja) 低反射コーティング、低反射コーティング付ガラス板、低反射コーティングを有するガラス板、ガラス基板、光電変換装置、及び低反射コーティングを製造する方法
JP7083342B2 (ja) 低反射膜付き透明基板、光電変換装置、低反射膜付き透明基板の低反射膜を形成するための塗工液及び低反射膜付き透明基板の製造方法
JP2012031054A (ja) セラミックス多孔質体
KR102281843B1 (ko) 나노 무기조성물 및 이의 제조방법
KR101194019B1 (ko) 무-유기 3차원 네트워크 구조의 표면 보호 소재
JP2006070141A (ja) 光触媒膜形成用組成物および光触媒膜付き基材
BR112019001437B1 (pt) Chapa de vidro revestida de baixa reflexão, método para produção de substrato revestido de baixa reflexão e líquido de revestimento para formar um revestimento de baixa reflexão de substrato revestido de baixa reflexão
Procaccini et al. Development of silver clusters in hybrid organic-inorganic sol-gel coatings
JP2011078917A (ja) 建築用外装材および建築外装用コーティング液