SA516380631B1 - طلاء قليل الانعكاس، ومادة مطلية قليلة الانعكاس، وجهاز تحويل كهروضوئي - Google Patents
طلاء قليل الانعكاس، ومادة مطلية قليلة الانعكاس، وجهاز تحويل كهروضوئي Download PDFInfo
- Publication number
- SA516380631B1 SA516380631B1 SA516380631A SA516380631A SA516380631B1 SA 516380631 B1 SA516380631 B1 SA 516380631B1 SA 516380631 A SA516380631 A SA 516380631A SA 516380631 A SA516380631 A SA 516380631A SA 516380631 B1 SA516380631 B1 SA 516380631B1
- Authority
- SA
- Saudi Arabia
- Prior art keywords
- low
- coating
- reflection
- glass
- ale ale
- Prior art date
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 265
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 244
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 23
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 title description 27
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 126
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims abstract description 39
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims abstract description 36
- -1 aluminum compound Chemical class 0.000 claims abstract description 35
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 34
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims abstract description 25
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims abstract description 22
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 15
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 103
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 66
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 28
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims description 24
- 238000012360 testing method Methods 0.000 claims description 22
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical group Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 18
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 12
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 claims description 9
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims description 9
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 8
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 7
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 5
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 4
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 3
- 239000005329 float glass Substances 0.000 claims description 3
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- 244000198134 Agave sisalana Species 0.000 claims 1
- 101100281516 Caenorhabditis elegans fox-1 gene Proteins 0.000 claims 1
- 241000196324 Embryophyta Species 0.000 claims 1
- 238000006124 Pilkington process Methods 0.000 claims 1
- 244000191761 Sida cordifolia Species 0.000 claims 1
- JXVIIQLNUPXOII-UHFFFAOYSA-N Siduron Chemical compound CC1CCCCC1NC(=O)NC1=CC=CC=C1 JXVIIQLNUPXOII-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000003668 acetyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)O[*] 0.000 claims 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims 1
- 238000005188 flotation Methods 0.000 claims 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 claims 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims 1
- MTCFGRXMJLQNBG-UHFFFAOYSA-N serine Chemical compound OCC(N)C(O)=O MTCFGRXMJLQNBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- FESBVLZDDCQLFY-UHFFFAOYSA-N sete Chemical compound [Te]=[Se] FESBVLZDDCQLFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000011800 void material Substances 0.000 claims 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 50
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 40
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 21
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 21
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 19
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 18
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 17
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 16
- 239000011859 microparticle Substances 0.000 description 13
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 12
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 11
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 11
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 11
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 10
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 9
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 9
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 8
- 229940063656 aluminum chloride Drugs 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- 230000008859 change Effects 0.000 description 7
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 7
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 7
- BNGXYYYYKUGPPF-UHFFFAOYSA-M (3-methylphenyl)methyl-triphenylphosphanium;chloride Chemical compound [Cl-].CC1=CC=CC(C[P+](C=2C=CC=CC=2)(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)=C1 BNGXYYYYKUGPPF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 235000015076 Shorea robusta Nutrition 0.000 description 6
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 4
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 4
- 235000008733 Citrus aurantifolia Nutrition 0.000 description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 235000011941 Tilia x europaea Nutrition 0.000 description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 3
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 3
- 239000007771 core particle Substances 0.000 description 3
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 3
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 3
- 239000004571 lime Substances 0.000 description 3
- 239000003595 mist Substances 0.000 description 3
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 3
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 3
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 3
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 3
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012935 Averaging Methods 0.000 description 2
- 101100234002 Drosophila melanogaster Shal gene Proteins 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 244000166071 Shorea robusta Species 0.000 description 2
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 2
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 2
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 2
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 2
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 2
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 2
- 238000004453 electron probe microanalysis Methods 0.000 description 2
- 238000007602 hot air drying Methods 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 2
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 2
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 2
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000411 transmission spectrum Methods 0.000 description 2
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 2
- 150000003755 zirconium compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- TYKCBTYOMAUNLH-MTOQALJVSA-J (z)-4-oxopent-2-en-2-olate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].C\C([O-])=C\C(C)=O.C\C([O-])=C\C(C)=O.C\C([O-])=C\C(C)=O.C\C([O-])=C\C(C)=O TYKCBTYOMAUNLH-MTOQALJVSA-J 0.000 description 1
- UYVDGHOUPDJWAZ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O.COCC(C)O UYVDGHOUPDJWAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBIUWALDKXACEA-UHFFFAOYSA-N 3-[bis(2,4-dioxopentan-3-yl)alumanyl]pentane-2,4-dione Chemical compound CC(=O)C(C(C)=O)[Al](C(C(C)=O)C(C)=O)C(C(C)=O)C(C)=O XBIUWALDKXACEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNDZQQSKSQTQQD-UHFFFAOYSA-N 3-methylcyclohex-2-en-1-ol Chemical compound CC1=CC(O)CCC1 XNDZQQSKSQTQQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 150000008043 acidic salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- JGDITNMASUZKPW-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride hexahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.O.Cl[Al](Cl)Cl JGDITNMASUZKPW-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229940009861 aluminum chloride hexahydrate Drugs 0.000 description 1
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 239000005328 architectural glass Substances 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000889 atomisation Methods 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 1
- AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L calcium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ca+2] AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000920 calcium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001861 calcium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- VZJJZMXEQNFTLL-UHFFFAOYSA-N chloro hypochlorite;zirconium;octahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.O.O.O.[Zr].ClOCl VZJJZMXEQNFTLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 1
- 239000006059 cover glass Substances 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- IJKVHSBPTUYDLN-UHFFFAOYSA-N dihydroxy(oxo)silane Chemical compound O[Si](O)=O IJKVHSBPTUYDLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000000349 field-emission scanning electron micrograph Methods 0.000 description 1
- 238000000445 field-emission scanning electron microscopy Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 230000002431 foraging effect Effects 0.000 description 1
- 230000004313 glare Effects 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 239000002075 main ingredient Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- ZODDGFAZWTZOSI-UHFFFAOYSA-N nitric acid;sulfuric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O.OS(O)(=O)=O ZODDGFAZWTZOSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007415 particle size distribution analysis Methods 0.000 description 1
- 239000013618 particulate matter Substances 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 238000000985 reflectance spectrum Methods 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000007592 spray painting technique Methods 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 150000003609 titanium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/006—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character
- C03C17/007—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character containing a dispersed phase, e.g. particles, fibres or flakes, in a continuous phase
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/111—Anti-reflection coatings using layers comprising organic materials
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
- C03C17/25—Oxides by deposition from the liquid phase
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
- C03C17/25—Oxides by deposition from the liquid phase
- C03C17/253—Coating containing SnO2
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/02—Details
- H01L31/0216—Coatings
- H01L31/02161—Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier
- H01L31/02167—Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier for solar cells
- H01L31/02168—Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier for solar cells the coatings being antireflective or having enhancing optical properties for the solar cells
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/04—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
- H01L31/042—PV modules or arrays of single PV cells
- H01L31/048—Encapsulation of modules
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/211—SnO2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/213—SiO2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/214—Al2O3
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
- C03C2217/42—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of particles only
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
- C03C2217/425—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a porous layer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
- C03C2217/43—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase
- C03C2217/46—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase
- C03C2217/465—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase having a specific shape
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
- C03C2217/43—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase
- C03C2217/46—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase
- C03C2217/47—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase consisting of a specific material
- C03C2217/475—Inorganic materials
- C03C2217/478—Silica
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
- C03C2217/73—Anti-reflective coatings with specific characteristics
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
- C03C2217/73—Anti-reflective coatings with specific characteristics
- C03C2217/732—Anti-reflective coatings with specific characteristics made of a single layer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/90—Other aspects of coatings
- C03C2217/94—Transparent conductive oxide layers [TCO] being part of a multilayer coating
- C03C2217/948—Layers comprising indium tin oxide [ITO]
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/11—Deposition methods from solutions or suspensions
- C03C2218/118—Deposition methods from solutions or suspensions by roller-coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/30—Aspects of methods for coating glass not covered above
- C03C2218/365—Coating different sides of a glass substrate
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Sustainable Development (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Composite Materials (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Sustainable Energy (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Photovoltaic Devices (AREA)
Abstract
يتعلق الاختراع الحالي بطلاء قليل الانعكاس low-reflection coating في هذا الاختراع يكون عبارة عن مادة غشاء مسامية porous film ، يشتمل على: جسيمات السيليكا الدقيقة fine silica particles التي تكون صلبة solid وكروية spherical وله قطر جُسيم متوسط يبلغ 80 إلى 150 نانومتر؛ ومادة رابطة تحتوي السيليكا silica كمكون رئيسي، وجسيمات السيليكا الدقيقة التي رتم ربطها ببعضها بالمادة الرابطة. كما تحتوي المادة الرابطة على مركب الألومنيوم aluminum ، ويحتوي الطلاء قليل الانعكاس على العناصر التالية: 55 إلى 70٪ من كتلة جسيمات السيليكا الدقيقة، و25 إلى 40٪ من كتلة السيليكا للمواد الرابطة ، و2 إلى 7٪ من كتلة مركب الألومنيوم فيما يتعلق بـ Al2O3. يكون الطلاء قليل الانعكاس بسمك 80-800 نانومتر. وينتج الطلاء قليل الانعكاس كسب إنفاذ بنسبة 2.5٪ أو أكثر عندما يتم تطبيقه على المادة، حيث تمثل عمليات كسب الإنفاذ زيادة في متوسط إنفاذ المواد التي يتم طلاؤها بالطلاء قليل الانعكاس بالنسبة للمادة غير المطلية بطلاء قليل الانعكاس، فإن متوسط الإنفاذ الذي يتم قياسه في نطاق الطول الموجي wavelength بنسبة 380-850 نانومتر. شكل 1.
Description
طلاء قليل الانعكاس؛ ومادة مطلية قليلة الانعكاس؛ وجهاز تحويل كهروضوئي Low-Reflection Coating, Low-Reflection Coated Substrate, and Photoelectric Conversion Device الوصف الكامل خلفية الاختراع يتعلق الاختراع الحالي بطلاء قليل الانعكاس low-reflection coated ومادة مطلية قليلة الانعكاس تتضمن طلاءً قليل الانعكاس» وجهاز تحويل كهروضوئىي photoelectric conversion .device 5 لأجل تحسين وظيفة الزجاج أو المادة الخزفية في استخدامها المقصود منهاء يستخدم طلاء قليل
الانعكاس لزيادة كمية الضوءٍ المراد إرساله أو لمنع الوهج الناجم عن الانعكاس المشكل على سطح المادة. توضع Jie هذه الطلاءات قليلة الانعكاس؛ على سبيل المثال» على الألواح الزجاجية للاستخدام في زجاج المركبات؛ ونوافذ العرض» وأجهزة التحويل الكهروضوئية. وما يطلق عليه رقائق الخلايا
0 الشمسية؛ الذي يعتبر نوعاً من أجهزة التحويل الكهروضوئي؛ يستخدم لوح زجاج على كومة يشكلها من غشاء ذي طبقة سفلية؛ وغشاء مسامي ¢ وطبقة التحويل الكهروضوئي المصنوعة من السيليكون غير المتبلور amorphous silicon أو ما شابه؛ وقطب رقيق فى الجانب Aad يتم ترتيبه بهذا النظام.
الكومة ؛ أي؛ على السطح الرئيسي الساقط عليه ضوء الشمس. ويكون لدى هذه الخلية الشمسية solar cell طلاء قليل الانعكاس متشكل على جانب سقوط ضوء الشمس الذي يسمح بمرور كمية كبيرة من ضوءٍ الشمس للوصول إلى طبقة التحويل الكهروضوئية أو عنصر الخلية الشمسية Hilly تكوين كمية كبيرة من الكهرباء .
تعتبر الطلاءات قليلة الانعكاس الأفضل استخداماً هي الأغشية العازلة التي ينتجها ترسيب OB أو الترذيذء أو ترسيب الأبخرة الكيميائية chemical vapor deposition (01/0). في بعض الحالات؛ يستخدم غشاء دقيق به جسيمات يحتوي على جسيمات دقيقة Jie جسيمات السيليكا في الطلاء قليل الانعكاس. يتشكل مثل هذا الغشاء الدقيق الذي يحتوي على جسيمات من تطبيق سائل طلاء يحتوي على جسيمات دقيقة على مادة شفافة بتقنية مثل الغمس» أو دفق الطلاء؛ أو الرش. على سبيل المثال» براءة الاختراع اليابانية 2014-032248 أ (اقتباس براءة الاختراع 1) تكشف غطاء زجاجي على أجهزة التحويل الكهروضوئية متشكل من خلال وضع سائل طلاء coating 0 يحتوي على جسيمات دقيقة ومادة رابطة بلوح الزجاج glass sheet لها نفس خشونة السطح عن طريق الرش ثم التجفيف عند 400 درجة مثوية ثم الكلس عند 610 درجة مثوية Baal 0 8 دقائق. ويمكن أن يسفر الطلاء قليل الانعكاس للغطاء الزجاجي هذا عن زيادة بنسبة 72.37 على الأقل في متوسط الإنفاذ للضوء الذي يحتوي على موجات تتراوح بين 380 و1100 نانومتر. وعلاوة على ذلك» فإن براءة الاختراع اليابانية 2013-537873 أ (اقتباس براءة الاختراع 2( يكشف عن مادة زجاجية مطلية تم إنتاجها عن طريق ترسيب محلول يحتوي على تترا إيثوكسي سيلان tetraethoxysilane « وأسيتيل أسيتونات الألومنيوم aluminum acetylacetonate عن طريق 5 غمس الطلاء ثم المعالجة الحرارية عند 680 درجة متوية لمدة 180 ثانية. ينتج عن الطلاء قليل الانعكاس الموفر في المادة الزجاجية هذه زيادة بنسبة 72.5 في متوسط الإنفاذ بالنسبة لضوء يتراوح طول موجاته بين 300 و1100 نانومتر. تكشف براءة الاختراع اليابانية 2014-015543 أ (براءة الاختراع المقتبسة رقم 3) عن مادة سيليكون مع طلاء مشكل عن طريق وضع مركب طلاء يحتوي على سيليكا رغوية colloidal silica « ونترأ ألكوكسي سيلان tetraalkoxysilane ؛ ونترات ألومنيوم aluminum nitrate إلى المادة باستخدام طلاء دوامي ثم بتجفيف مركب الطلاء المستخدم عند 100 درجة مثوية لمدة 1 دقيقة؛ يكون قطر السيليكا الرغوية أكبر من متوسط قطر الجسيمات الأساسي ويكون له عامل شكل ونسبة ارتفاع أكبر من 1 بمقدار معين أو أكثر.
يتضمن هذا الطلاء على معامل انكسار refractive index 1.40 أو (Ji على الرغم من عدم وجود إشارة إلى زبادة في متوسط إنفاذ الضوءٍ الناجم عن هذا الطلاء. براءة الاختراع 1: براءة الاختراع اليابانية 2014-032248 أ براءة الاختراع 2: براءة الاختراع اليابانية 2013-537873 أ براءة الاختراع 3: براءة الاختراع اليابانية 2014-015543 أ
الوصف العام للاختراع لتقييم تأثير طلاء قليل الانعكاس؛ من المهم الأخذ في الاعتبار خاصية تسمى "كسب الإنفاذ". يتوافق كسب الإنفاذ مع الزيادة في متوسط الإنفاذ في نطاق محدد مسبقاً لطول الموجة؛ من خلال توفير طلاء قليل ا لانعكاس ٠
0 ويحدد كسب الإنفاذ على day الخصوص كقيمة تم الحصول عليها عن طريق طرح التحويل من مادة لم يتم توفير طلاء بها من تحويل المادة الموفر بها الطلاء . على سبيل JU) في حالة وجود جهاز تحويل كهروضوئي يستخدم لوح زجاج به سطح يسقط الضوء عليه مع طلاء قليل الانعكاس؛ فيعني كسب الإنفاذ أن لوح الزجاج يسمح بنفاذ كمية أكبر من الضوء و جهاز التحويل الكهروضوئي لديه كفاءة أعلى .
5 1 الغطاء الزجاجى الموضح فى اقتباس براءة f لاختراع 1 والمادة الزجاجية الموضحة فى اقتباس براءة الاختراع 2 تترك المجال للتحسين في كسب الإنفاذ. في إنتاج جهاز التحويل الكهروضوئي الذي يستخدم لوح الزجاج؛ لقد كان من التقليدي توفير طلاء قليل الانعكاس على لوح الزجاج مسبقاً واستخدام لوح الزجاج لإنتاج جهاز التحويل الكهروضوئي. ومع ذلك؛ في هذه الطريقة؛ قد يتلف الطلاء قليل الانعكاس الموفر مسبقاً من غير قصد أو يصبح
0 ملوثاً أو يحدث تدهور بالخصائص ALE الانعكاس خلال عملية إنتاج جهاز التحويل الكهروضوئي. ونظراً لتلك الظروف؛ يهدف الاختراع الحالي إلى توفير طلاء قليل الانعكاس مصمم لتوفير سطح يسقط عليه الضوء لجهاز تحويل كهروضوئي بعد إنتاج جهاز التحويل الكهروضوئي باستخدام لوح
زجاج غير موفر به أي طلاء قليل الانعكاس. يهدف الاختراع الحالي على نحو أكثر إلى توفير sale مطلية قليلة الانعكاس وجهاز تحليل كهروضوئي يتضمن طلاء قليل الانعكاس. يوفر هذا الاختراع طلاء قليل الانعكاس مصمم ليتم وضعه على سطح رئيسي واحد على الأقل للمادة؛ يعتبر الطلاء قليل الانعكاس غشاء مسامياً يتضمن: جسيمات دقيقة من السيليكون صلبة وكروية تحتوي على قطر جسيمات يبلغ طوله من 80 إلى 150 نانومتر؛ والمادة الرابطة تتضمن السيليكا كمكون رئيسي؛ تحتوي المادة الرابطة على مركب ألومنيوم إضافي؛ يحتوي الطلاء قليل الانعكاس على ما يلي كمكونات: 0 كتلة تبلغ نسبتها من 55 إلى 770 من جسيمات السيليكا الدقيقة؛
كتلة تبلغ نسبتها من 25 إلى 740 من السيليكا في المادة الرابطة؛
كتلة تبلغ نسبتها من 2 إلى 77 من مركب الألومنيوم مع أكسيد الألمنيوم Aluminium oxide
(203ام )؛
يبلغ سمك الطلاء قليل ا لانعكاس من 80 إلى 800 نانومتر ويدنتج جعن الطلاء قليل ا لانعكاس كسب تحويل بمقدار 5 :72م عند وضعه على المادة.
يحدد كسب الإنفاذ كزيادة فى متوسط إنفاذ المادة المزود بها الطلاء قليل الانعكاس مقارنة بالمادة
غير المزود بها الطلاء قليل ا لانعكاس ¢ ويبقاس متوسط f لإنفاذ بنطاق طول الموجة الذي يبلغ من
380 إلى 850 نانومتر.
يوفر أيضاً الاختراع الحالي مادة مطلية قليلة الانعكاس تشمل: لوح زجاج؛ والطلاء قليل الانعكاس وققاً للاختراع الحالي المشكل على سطح رئيسي واحد على الأقل من لوح الزجاج.
يوفر الاختراع الحالي أيضاً جهاز تحويل كهروضوئي يشمل: لوح زجاج؛ والطلاء قليل الانعكاس وفقاً
للاختراع الحالي المشكل على سطح رئيسي من لوح الزجاج؛ ويكون السطح الرئيسي سطحاً يسقط
الضوء عليه.
ينتج عن الطلاء قليل الانعكاس من الاختراع الحالي كسب الإنفاذ بمقدار 72.5 أو أكثر بافتراض تضمنه كميات محددة مسبقاً من جسيمات السيليكا الصلبة الدقيقة بمتوسط قطر للجسيمات في نطاق
محدد مسبقاً ومادة رابطة تحتوي على السيليكا كمكون رئيسي .
وبافتراض حقيقة أن المادة الرابطة في الطلاء قليل الانعكاس في الاختراع all تتضمن كمية محددة
مسبقاً من مركب الألومنيوم» يمكن تزويد الطلاء قليل الانعكاس في الاختراع الحالي برذاذ مقاوم
le الملوحة دون الحاجة إلى علاج ارتفاع درجة الحرارة في خطوة التدفئة بعد وضع سائل طلاء
0 المادة. شرح مختصر للرسومات يوضح الشكل 1 نتيجة مراقبة المجهر الإلكتروني الماسح للانبعاثات الميدانية field emission (SEM-FE) scanning electron microscope المادة المطلية قليلة الانعكاس التي تم الحصول عليها في المثال 1.
5 الشكل 2 عبارة عن رسم؛ لكل المواد المطلية قليلة الانعكاس للأمثلة المرجعية من 1 إلى 9 يوضح العلاقة بين متوسط f لانعكاس لسطح رئيسي واحد من لوح الزجاج غير مزود بطلاء قليل ا لانعكاس مقابل فقدان الانعكاس وكسب الإنفاذ في السطح الرئيسي المطلي قليل الانعكاس للوح الزجاج المزود به طلاء قليل ا لانعكاس . الوصف التفصيلى:
0 يتضمن الطلاء قليل الانعكاس من هذا الاختراع غشاءً مسامياً يشمل: جسيمات السيليكا الدقيقة الصلبة والكروية؛ والمادة الرابطة التي تحتوي على السيليكا كمكون رئيسي؛ وجسيمات السيليكا الدقيقة المريوطة ببعضها عن طريق المادة الرابطة. تحتوي المادة الرابطة أيضاً على الألومنيوم.
يتراوح سمك الغشاء المسامي؛ أي الطلاء قليل الانعكاس؛ المادي بين 80 إلى 800 نانومتر» ويفضل أن يكون أكثر من 100 نانومتر و500 نانومتر أو أقل؛ ويفضل أكثر أن يكون أكثر من 100 نانومتر و500 نانومتر أو أقل جسيمات السيليكا الدقيقة هي جسيمات أساسية كروية تقريباً يتراوح متوسط قطرها بين 80 و150 نانومتر؛ ويفضل أن يكون أكثر من 100 نانومتر و150 نانومتر أو أقل. تكون نسبة صلابة السيليكا أعلى من مواد البوليمر العضوية. وتكون نسبة معامل الانكسار للسيليكا منخفضة lows وبالتالى تكون قادرة على تقديم أكبر انخفاض في معامل الانكسار المرئى للغشاء المسامي Lay في ذلك المادة الرابطة وجسيمات السيليكا الدقيقة. وعلاوة على ذلك؛ فإن الجسيمات الأساسية الكروية مصنوعة من السيليكا تقريباً ويوجد بها أقطار 0 موحدة كذلك تم تصنيعها تجارياً بتكلفة منخفضة؛ وتتوفر بصورة كبيرة من حيث الكمية؛ والنوعية؛ والتكلفة. يشير 'متوسط قطر الجسيمات" من جسيمات السيليكا الدقيقة؛ كما هو محدد هناء إلى قطر الجسيمات (DSO) particle diameter بحجم تراكمي يبلغ 750 في توزيع حجم الجسيمات المقاس بتحليل توزيع حجم الجسيمات لانكسار الليزر Jaser—diffraction particle 5 يفضل أن يشتق مركب الألومنيوم المتضمن فى المادة الرابطة من هاليد الألومنيوم aluminum 6 المضاف إلى سائل مطلى لتشكيل طلاء قليل الانعكاس. والمثال المفضل لهاليد الألومنيوم هو كلوريد الألومنيوم .aluminum chloride في الطلاء قليل الانعكاس»؛ يكون محتوى مركب الألومنيوم كتلة تتراوح نسبتها بين 2 و79 ويفضل أن تكون بين 5 و77 مع A203 0 عندما يحتوي الطلاء قليل الانعكاس على مركب الألومنيوم في الكمية أعلاه؛ يكون للطلاء قليل الانعكاس مقاومة متزايدة للرذاذ الملحى salt spray إذا كانت كتلة المحتوى أقل من 72؛ فستقل مقاومة الرذاذ الملحى. إذا كانت كتلة المحتوى أكثر من 77؛ سيقل كسب الإنفاذ المقدمة من الطلاء قليل الانعكاس.
عند إضافة هاليد الألومنيوم إلى سائل الطلاء كلوريد الألومنيوم» يمكن إجراء المعالجة الحرارية بعد وضع سائل الطلاء في ظل الظروف الأكثر اعتدالاً للحصول على التأثير المتزايد على مقاومة الرذاذ
الملحى . وبصفة خاصة؛ يكون للطلاء مقاومة رذاذ عالية الملوحة حيث إنه يمكن الحصول على الفرق فى القيمة المطلقة لمتوسط الإنفاذ قبل ويعد اختبار الرذاذ الملحى هو 70.15 أو أقل عند الخطوة التدفئة (خطوة العلاج والتدفئة) بعد وضع سائل الطلاء في ظل ظروف درجات الحرارة القليلة حيث إن درجة الحرارة القصوى التي يكون عندها سطح المادة المطلية بسائل الطلاء 350 درجة Augie أو أقل ؛ والمدة التي تكون فيها درجة حرارة سطح المادة 200 درجة مثئوية أو أعلى هي 5 دقائق أو (Ji ويفضل أن يكون في ظل درجات الحرارة القليلة حيث يتعرض سطح المادة إلى درجة حرارة قصوى
0 تبلغ 250 درجة gic أو أقل والمدة التي تكون فيها درجة حرارة سطح المادة 100 درجة متوية أو أعلى هي 2 دقائق أو أقل. تبلغ نسبة كتلة محتوى جسيمات السيليكا الدقيقة في الطلاء قليل الانعكاس من 55 إلى 770 ويفضل أن تبلغ من 60 إلى 770. وتبلغ نسبة كتلة محتوى السيليكا بالمادة الرابطة من 25 إلى 740 ويفضل أن تبلغ من 30 إلى 740 في الطلاء قليل الانعكاس.
5 النسبة بين المحتوى في جسيمات السيليكا الدقيقة والسيليكا في المادة الرابطة (جسيمات السيليكا الدقيقة silica particles 706: السيليكا في المادة الرابطة (silica of binder في الطلاء قليل الانعكاس تكون في حدود من 70 : 30 إلى 30 : 70 ويفضل أن تكون في حدود من 70 : 30 إلى 60 : 40 من حيث نسبة الكتلة. تؤدي زيادة نسبة محتوى جسيمات السيليكا الدقيقة إلى كسب انعكاس أعلى مقدم من الطلاء قليل
0 الانعكاس في الاختراع الحالي. وبحدث ذلك بسبب الزيادة في التباعد بين جسيمات السيليكا الدقيقة نفسها وبين الجسيمات الدقيقة والمادة الشفافة . ومع ذلك؛ إذا كانت نسبة محتوى جسيمات السيليكا الدقيقة كبيرة (dala! ستقل ديمومة الطلاء قليل الانعكاس low-reflection coating الخاصة بهذا الاختراع.
ويرجع ذلك إلى أن النسبة الكبيرة للغاية من محتوى جسيمات السيليكا الدقيقة تؤدي إلى انخفاض في
تأثير السيليكا في المادة الرابطة التي تعمل على ربط جسيمات السيليكا الدقيقة معاً أو ربط الجسيمات
الدقيقة بالمادة الشفافة. وإذا كانت نسبة محتوى جسيمات السيليكا الدقيقة صغيرة All سيكون
التباعد المذكور آنفاً ضيقاً للغاية؛ مما يؤدي إلى انخفاض كسب الانعكاس المقدم من الطلاء قليل
الانعكاس في هذا الاختراع. يمكن استخدام مركبات السيليكون القابلة للتحلل التي يمثلها ألكوكسيد كمصدر لسيليكا المادة
الرابطة. تشمل أمثلة ألكوكسيد السيليكون silicon alkoxides على : تترا ميثوكسي سيلان
tetramethoxysilane ¢ وتترا إيشوكسي سيلان tetraethoxysilane « ونترا أيزوب روبوكسي
سيلان 161:8150010000/5(1806. ويجب أن تخضع أي من مركبات السيليكون القابلة للتحلل هذه 0 إلى التحلل المائي والتكثيف المتعدد من قبل ما يسمى بعملية سول جل لتشكيل المادة الرابطة.
يمكن أن يتم التحلل المائي لمركب السيليكون Hydrolyzable silicon القابل للتحلل gb طريقة
مناسبة. ويفضل أن يتم التحلل المائي في محلول يحتوي على جسيمات السيليكا الدقيقة المذكورة
أعلاه؛ لأن هذا يعزز من رد Jad التكثيف المتعدد بين مجموعات السيلانول silanol الموجودة على
أسطح الجسيمات الدقيقة ومجموعات السيلانول التي شكلها التحلل المائي لمركب السيليكون القابل 5 للتحلل المائي مثل ألكوكسيد السيليكون silicon alkoxide ؛ مما يؤدي إلى زيادة في نسبة المادة
الرابطة المساهمة في تعزيز قوة الريط بين جسيمات السيليكا الدقيقة.
ومن الأفضل على وجه التحديد تحضير سائل طلاء بإضافة حافز التحلل المائي وألكوكسيد
السيليكون بالتتابع لمحلول يحتوي على جسيمات السيليكا الدقيقة مع تقليب المحلول.
يمكن استخدام إما حمض أو اتحاد ينتج عنه أملاح حمضية كحفاز للتحلل المائي. ويفضل استخدام
0 الأحماض في بعض الأحماض غير العضوية Jie حمض الهيدروكلوريك hydrochloric acid
وحمض النيتريك nitric acid ؛ وحمض الكبريتيك sulfuric acid ؛ وحمض الفوسفوريك
oN وذلك hydrochloric acid ؛ ويفضل استخدام حمض الهيدروكلوريك phosphoric acid
الظروف الحمضية تسمح بتشتت جسيمات السيليكا الدقيقة على نحو أفضل وتسفر عن استقرار
لسائل الطلاء أكثر من الظروف الأساسية.
— 1 0 —
وعلاوة على ذلك؛ تسهم أيونات الكلور 1005 chlorine المشتقة من حمض الهيدروكلوربك فى زيادة
نسبة أيون الكلور في سائل الطلاء؛ Mall تعزيز التأثير الناجم عن كلوريد الألومنيوم المبين أعلاه
المضاف إلى سائل الطلاء. وبالتالي؛ فإن الطلاء قليل الانعكاس في هذا الاختراع يمكن أن يسفر
عن كسب الإنفاذ بمقدار 72.5 أو «ST وبفضل أن يكون 72.6 أو «ST وبفضل أكثر أن يكون
22.7 أو أكثر؛ ويقدم مقاومة عالية للرذاذ الملحي كما هو موضح أعلاه.
يمكن أن يتشكل الطلاء قليل الانعكاس في هذا الاختراع من خلال وضع سائل الطلاء وتجفيفه
ومعالجته. ولوضع Sila الطلاء؛ يمكن استخدام أي من الأساليب المعروفة مثل الطلاء الدوامي؛
الطلاء ياللف» الطلاء الشريطي ٠» الطلاء بالغمس؛ والطلاء بالرش.
يعتبر الطلاء بالرش مفيداً من حيث الإنتاج الضخم. ويكون الطلاء باللف والطلاء الشريطي مناسبين 0 1 من حيث توحيد مظهر غشاء Sal الناتج وكذلك من f Cua لإنتاج الضخم .
قد تكون المادة المناسبة ليتم توفيرها مع الطلاء قليل الانعكاس في هذا الاختراع لوح زجاج لا طلاء
به. على سبيل المثال؛ من الممكن توفير مادة مطلية قليلة الانعكاس مع تشكيل لوح الزجاج والطلاء
قليل الانعكاس من هذا الاختراع على سطح رئيسي واحد على الأقل من لوح الزجاج.
قد يكون لوح الزجاج طافياً به سطح رئيسي وسلس بحيث يكون متوسط حساب خشونة السطح 5 الرئيسي؛ على سبيل المثال؛ 1 نانومتر أو أقل؛ ويفضل أن يكون 0.5 نانومتر أو أقل. متوسط
حساب الخشونة يتوافق هنا مع ذلك على النحو المحدد في 0601-1994 8 5ال.
قد يكون لوح الزجاج المستخدم أيضا لوح زجاج مزركش يوجد بسطحه خشونة.
يفضل أن يكون متوسط التباعد للخشونة 3 . 0 مم أو أكثر 3 ang أكثر أن يكون 4 . 0 مم أو أكثر
ang على dag الخصوص أن يكون 45 . 0 أو أكثر 3 ang أن يكون 5 . 2 مم أو أقل ويفضل أكثر أن يكون 1 . 2 مم أو أقل وإن كان يفضل أكثر أن يكون 0 . 2 مم أو أقل 3 ang على dag
الخصوص أن يكون 5 1 مم أو أقل.
يشير متوسط التبا عد كما هو محدد هنا إلى متوسط طول فترات الذروة والمنخفض فى صورة الخشونة
المحدد استناداً إلى النقاط المعتمد عليها التي تتقاطع عندها صورة الخشونة مع خط الوسط.
وبفضل أكثر أن يكون أقصى ارتفاع خشونة السطح الخاصة بلوح الزجاج المزركش من 0.5 ميكرون إلى 10 ميكرون؛ وبصفة خاصة من 1 ميكرون إلى 8 ميكرون؛ إضافة إلى متوسط التباعد في إطار النطاق أعلاه. يتوافق متوسط التباعد وأقصى ارتفاع كما هو محدد هنا مع ما هو محدد في ( المعايير الصناعية اليابانية) 0601-1994 8 JIS 5 قد يكون للوح الزجاج المستخدم تركيبة مشابهة لتلك الموجودة في ألواح الزجاج النموذجية المزركشة
أو ألواح الزجاج المعمارية؛ ويفضل خلوه أو خلوه إلى حد كبير من أي عنصر تلوين. وفي لوح الزجاج؛ يفضل أن تكون نسبة كتلة (gine أكسيد الحديد؛ عنصر التلوين النموذجي»؛ 70.06 أو أقل diab على وجه الخصوص أن تكون 0.02 أو أقل مع اكسيد الحديد Iron(lll) oxide ( (Fe203 .
10 إن الانخفاض في الانعكاس الذي يحدث من خلال توفير الطلاء قليل الانعكاس من هذا الاختراع على سطح رئيسي من لوح الزجاج؛ أي تأثير تحسين الانعكاس من الطلاء قليل الانعكاس من هذا الاختراع» يصبح أكبر حيث يزيد متوسط الانعكاس للسطح الرئيسي في نطاق الطول الموجي بمقدار من 380 إلى 850 نانومتر. على سبيل المثال؛ من المحتمل أن يتحقق كسب الإنفاذ بمقدار 72.5 أو أكثر عن طريق استخدام لوح زجاج يبلغ متوسط انعكاس سطحه الرئيسي 75.1 أو أكثر في
نطاق الطول الموجي من 3850 إلى 850 نانومتر وعن طريق توفير طلاء قليل الانعكاس من هذا الاختراع على السطح الرئيسي. وعلاوة على ذلك؛ من المرجح أن يتحقق كسب الإنفاذ بمقدار 72.7 أو أكثر Lexie يكون متوسط الانعكاس للسطح الرئيسي 75.2 أو أكثر ويفضل أن يكون 75.3 أو أكثر. يمكن الحصول على لوح زجاج يكون متوسط انعكاس سطحه الرئيسي مرتفعاً كما هو محدد أعلاه؛
0 على سبيل (JB عن طريق التحكم في تركيز أكسيد القصدير 07606 tin في السطح الرئيسي. على سبيل المثال؛ يمكن أن يكون للسطح الرئيسي بلوح الزجاج متوسط انعكاس مرتفع كما هو محدد أعلاه عندما تكون نسبة كتلة تركيز أكسيد القصدير في gall الخارجي من السطح الرئيسي 3.5 إلى 724؛ ويفضل أن تكون من 3.5 إلى 721؛ ويفضل أكثر أن تكون من 5 إلى 718 ويفضل بشكل خاص أن تكون من 6 إلى 718.
— 1 2 —
عندما يكون لوح الزجاج المستخدم طافياً وناتجاً عن عملية الطفو؛ يتفرق القصدير المشتق من حوض
الطفو القصدير المصهور tin 07101460 في سطح لوح الزجاج هذا الذي يتم وضعه في اتصال مع
حوض الطفو أثناء الإنتاج من قبل عملية الطفو.
يمكن التحكم في كمية القصدير التي تدخل سطح لوح الزجاج بشكل كبير عن طريق تعديل ظروف
الإنتاج في حوض الطفو حيث إن لوح الزجاج المنتج له سطح رئيسي به انعكاس مرغوب فيه.
على سبيل المثال؛ يمكن تعديل تركيب القصدير المصهور عن طريق وضع غاز الأكسدة في حوض
القصدير بكمية ما لأكسدة كمية قليلة من القصدير المصهور وعن طريق دمج عنصر الحديد إلى
القصدير المصهور ٠ وبسمح لحوض القصدير المصهور بالاحتفاظ يجو J لاختزالية الناتج عن التغذية
بغاز النيتروجين وغاز الهيدروجين؛ ويتيح ضبط ضغط الغاز في حوض القصدير المصهور إمكانية 0 إدخال أكسجين الغلاف الجوي؛ وبالتالى التغذية بكمية ضئيلة من غاز الأكسدة؛ فى حوض القصدير
٠ المصهور
يمكن تنظيم كمية غاز الأكسدة 985 oxidation الذي سيغذي حوض القصدير المصهور عن
طريق الضبط andl لتركيز غاز الهيدروجين ‘hydrogen gas
كما هو موضح أعلاه؛ عندما يكون لوح الزجاج المستخدم Lila فمن الأفضل توفير الطلاء قليل 5 الانعكاس من هذا الاختراع على ذلك السطح الرئيسي من لوح الزجاج الذي يتم وضعه في اتصال
مع حوض الطفو خلال الإنتاج من خلال عملية الطفو.
ويسمح ذلك للطلاء قليل الانعكاس من هذا الاختراع بممارسة تأثير تحسين الانعكاس بشكل أعلى؛
وبالتالي ينتج عن ذلك كسب إنفاذ أعلى. ما سبق وصف لوح زجاج به سطح رئيسي مع تركيز
أكسيد القصدير المتحكم به كمثال على لوح زجاج به سطح رئيسي نسبة انعكاسه مرتفعة؛ ومع ذلك؛ 0 لا يقتصر لوح الزجاج المستخدم على لوح الزجاج هذاء ويمكن أن يكون لوحاً يحتوي على لوح زجاج
يزيد انعكاس سطحه بطريقة أخرى معروفة .
قد تكون المادة المناسبة التي يتم توفيرها مع الطلاء قليل الانعكاس من هذا الاختراع مادة زجاجية
شفافة موصلة مطلى غشاؤها . وتكون المادة الزجاجية الشفافة الموصلة المطلى غشاؤها على سبيل
المثال» sale زجاجية تشكل غشاؤها الشفاف الموصل على سطح رئيسي واحد من أحد الألواح
— 1 3 —
الزجاجية كما هو موضح أعلاه؛ وتحتوي المادة الشفافة التي يوجد بها طبقة سفلية أو أكثر وطبقة
موصلة (dled على سبيل المثال؛ أكسيد القصدير tin oxide والفلور fluorine المستخلص
كمكون رئيسي 3 والطبقات المتكدسة على السطح الرئيسي للوح الزجاج بالترتيب .
أمثلة : Lad يلي» سيتم وصف هذا الاختراع بمزيد من التفاصيل عن طريق الأمثلة. وسيتم في البداية
وصف الأساليب المستخدمة بأمثلة وأمثلة مقارنة لتقييم الخصائص المختلفة لكل طلاء قليل الانعكاس
يتشكل على مادة ما.
خصائص النفاذ Transmission : تم قياس منحنى النفاذ transmission curve طيف النفاذ
transmission spectrum للمادة (لوح الزجاج فى الأمثلة الحالية) باستخدام مقياس الطيف
الضوئي | (UV-3100PC)spectrophotometer المصنعة من قبل شركة Shimadzu (Corporation 0 قبل ويعد تشكيل الطلاء قليل الانعكاس.
تم حساب متوسط الإنفاذ عن طريق حساب متوسط قيم التحويل على نطاق الطول الموجي من 380
إلى 850 نانومتر. وتم تحديد الزيادة في متوسط الإتفاذ للمادة المزودة بالطلاء قليل الانعكاس مقارنة
بالمادة غير المزودة بالطلاء قليل ا لانعكاس ككسب f لإنفاذ .
تمت مراقبة كل طلاء بمجهر إلكتروني electron microscope ماسح للاتبعاث الميداني field emission scanning 5 (5-4500؛ المصنع من قبل شركة .(Hitachi, Ltd
تم قياس سمك الطلاء عند (ued نقاط في صورة (FE-SEM التقطت من الأعلى عند زاوية 30
درجة؛ من المقطع العرضي للطلاء؛ ومتوسط القيم المقاسة كان يستخدم على أنه سمك الطلاء .
تقييم مقاومة القلويات alkali resistance : تم تقييم مقاومة القلويات لكل sale مطلية بطلاء قليل
الانعكاس على النحو التالي. تم غمر المادة المطلية بطلاء قليل الانعكاس في محلول مائي مشبع 0 من هيدروكسيد الكالسيوم calcium hydroxide عند درجة حرارة 60 درجة مثئوية لمدة 3 ساعات.
تم قياس تحويل المادة باستخدام مقياس الطيف الضوئي قبل ويعد الغمر ‘ وقيمة ا لاختلاف المطلقة
بين القيم المقاسة كانت تستخدم كمقياس لتقييم مقاومة القلويات.
تقييم مقاومة الماء المالح salt water resistance : أجري اختبار رذاذ الملح لتقييم مقاومة الماء المالح لكل طلاء قليل الانعكاس تم الحصول عليه. وقد تم قياس متوسط الإنفاذ للطلاء قليل الانعكاس المقدم على المادة بنفس الطريقة الموضحة أعلاه؛ ثم تعرض الطلاء قليل الانعكاس إلى رذاذ الملح في ظل ظروف تتوافق مع 2005 :8917 © JIS الملحق 4. بعد ذلك؛ تم قياس متوسط الإنفاذ مرة أخرى. وتم استخدام القيمة المطلقة للفرق بين القيم لمتوسط الإنفاذ المقاس قبل ويعد التعرض لرذاذ الملح كمقياس لمقاومة الماء المالح. وتم تعريض رذاذ الملح؛ على cual dag عن طريق رش الطلاء برذاذ من محلول كلوريد الصوديوم المائي درجة حرارته 35 درجة مئوية؛ ونسبة تركيز كتلي 75 كتلة لمدة 96 ساعة. اختبار وعاء الضغط : تم تنفيذ اختبار وعاء الضغط؛ وهو نوع من الاختبار السريعة؛ لتقييم مقاومة 0 الرطوية لكل طلاء قليل الانعكاس تم الحصول عليها. وبتكون اختبار وعاء الضغط في هذا الاختراع من مرتي تكرار من دورة الاختبار في حين وضع طلاء قليل الانعكاس على المادة في غرفة الاختبار في درجة حرارة 130 درجة مئوية؛ وضغط 2 من الأجواء؛ ونسبة رطوية 7100 لمدة 1 ساعة؛ ثم تمت إزالة الضغط المطبق؛ وبعد ذلك تم إخراج الطلاء من الغرفة ورك ليبرد في درجة حرارة الغرفة. تم قياس متوسط الإنفاذ قبل ويعد هذا الاختبارء وتم استخدام القيمة المطلقة للفرق بين القيم المقاسة 5 ومتوسط الإنفاذ بمثابة مقياس لمقاومة dash ll في اختبار وعاء الضغط. مثال 1 تحضير الطلاء السائل : تمت إضافة كمية من 28.3 من أجزاء كتلة تشتيت جسيمات السيليكا الدقيقة (كواراتون (PL-7 Quartron المصنعة من قبل CHEMICAL CO., LTD 50نا؛ التي تحتوي على جسيمات أساسية كروية تقريباً مع قطر جسيمات يبلغ متوسطه 125 agli 0 وتركيز مواد صلبة بنسبة 723 من الوزن)» و58.6 من أجزاء كتلة 1-ميثوكسي-2-بروبانول -1 methoxy-2-propanol (المذيب)؛ و 1 eda من كتلة حمض الهيدروكلوريك hydrochloric NT acid (الحفاز الخاص بالتحلل المائي) مختلطة بالتقليب» و12.1 من أجزاء وزن تترا إيثتوكسي سيلان Jil tetraethoxysilane أورثوسيليكات ethyl orthosilicate ؛ مصنع بواسطة TAMA CHEMICALS CO., LTD. تمت إضافتها إلى الخليط مع التقليب المستمر. وقد استمر
التقليب لمدة 8 ساعات إضافية مع الحفاظ على درجة حرارة 40 درجة iste لتحليل تترا إيثوكسي سيلان؛ وبالتالي نتجت sale سائل المادة الخام أ. في ساتل المادة الخام السائلة J بلغت النسبة بين كتلة جسيمات السيليكا الدقيقة مع ثاني اكسيد السيليكون Silicon dioxide ( 5:02 ) وكتلة مكون أكسيد السيليكون من المادة الرابطة مع ثاني اكسيد السيليكون lea Silicon dioxide 65 : 35؛ وتركيز المواد الصلبة مع ثاني اكسيد السيليكون بنسبة 710 من الوزن. كمية 70.0 aha من سائل المادة الخام السائل أو 2.0 aba من جلايكول البروبيلين propylene glycol (مذيب aba 26.3 (solvent من 1-ميثوكسي-2-برويانول 1-methoxy—2- propanol (مذيب)؛ و 1.7 جم من محلول كلوريد الألومنيوم المائي (محلول بتركيز من 747.6 0 من الوزن يتم تحضيره عن طريق إذابة هيدرات كلوريد الألمنيوم aluminum chloride hexahydrate بدرجة العامل التي تنتجها .Sigma-Aldrich Co., LLC في الماء منزوع الأيونات أعدت) مختلطة عن طريق التقليب للحصول على سائل الطلاء أ1. في سائل الطلاء أ1؛ كان تركيز المواد الصلبة في أكسيد السيليكون (مشتقة من جسيمات السيليكا الدقيقة Is ألكوكسيسيلان) مع ثاني اكسيد السيليكون Silicon dioxide ( 5602 ) نسبته 77.0 من الوزن؛ 5 وكمية من مركب الألومنيوم 800000101077 مع أكسيد الألمنيوم AL203) Aluminium oxide ) مقارنة مع 100 جزءِ من كتلة أكسيد السيليكون Silicon oxide مع ثاني اكسيد السيليكون Silicon dioxide كانت 5 أجزاء من الكتلة. تشكيل الطلاء قليل الانعكاس : في مثال 1؛ تم تشكيل طلاء قليل الانعكاس على أحد الأسطح الرئيسية للوح الزجاج غشاؤه مطلي بمادة شفافة موصلة للحصول على مادة مطلية ALE الانعكاس. 0 كان سمك لوح الزجاج 3.2 مم مصنع من قبل شركة «Nippon Sheet Glass Co.
Ltd. ويحتوي على مركب نموذجي من السيليكات الجيرية الرملية؛ ويه سطح الرئيسي واحد مع غشاء مسامي تشكل على الخط بما في ذلك طبقة موصلة شفافة. تم قطع لوح الزجاج هذا إلى قطعة مساحتها 200 مم cae 300 X وتم غمرها في محلول قلوي (LBC-1) سائل تنظيف قلوي مصنع من قبل (LEYBOLD CO., LTD. وتم غسله باستخدام
— 6 1 — منظف فوق صوتي. تم شطف قطعة لوح الزجاج بالماء منزوع الأيونات ثم تجفيفه عند درجة حرارة غير المزود بالطلاء قليل الانعكاس بالطريقة الموضحة أعلاه؛ وتم تحديد متوسط الإنفاذ ليكون 7.80.0 في المثال 1؛ تم وضع سائل الطلاء أ1 باستخدام الطلاء باللف على السطح الرئيسي للوح الزجاجي أعلاه المقابل للسطح الرئيسي المزود به الغشاء المسامي. وتم وضع سائل الطلاء بطريقة يكون فيها الغشاء المشكل من السائل المستخدم سمكه من 1 إلى 5 ميكرون . ثم تم تجفيف سائل الطلاء الذي وضع على لوح الزجاج وتمت معالجته بالهواء الساخن . تم تنفيذ هذا التجفيف بالهواء الساخن باستخدام مجفف هواء ساخن من نوع alia ناقل وتحربك الناقل 0 في اتجاهين متعاكسين مرتين لتمرير اللوح الزجاجي تحت فوهة حقن الهواء الساخن al مرات؛ مع ضبط درجة حرارة الهواء الساخن على 300 درجة مثوية؛ وضبط المسافة بين الفوهة واللوح الزجاجي على 5 cae وضبط سرعة التحويل على 0.5 متر/دقيقة. في هذا التجفيف؛ كانت saad) التي تم خلالها طلاء اللوح الزجاجي بساتل الطلاء في اتصال مع الهواء الساخن 140 ثانية؛ وكانت أعلى درجة حرارة للسطح الزجاجي المطلي بسائل Sal 199 5 درجة مئوية. وبعد التجفيف والمعالجة؛ ثرك اللوح الزجاجي ليبرد بدرجة حرارة الغرفة. ويهذه الطريقة؛ تم طلاء اللوح الزجاجي بطلاء قليل الانعكاس. تم تقييم الخصائص المختلفة المذكورة أعلاه للطلاء قليل الانعكاس الذي تم الحصول عليه بعد ذلك. وتظهر نتائج ذلك في الجدول 1. علاوة على cold فإن نتيجة ملاحظة FE-SEM لمقطع عرضي للمادة المطلية قليلة الانعكاس موضحة فى الشكل 1. 0 مثال 2 : تحضير سائل الطلاء : تم تحضير سائل الطلاء. أما النسبة بين كتلة جسيمات السيليكا الدقيقة من Cua ثاني اكسيد السيليكون Silicon dioxide ( 5:02 ) وكتلة عنصر أكسيد السيليكون للمواد
— 7 1 — الرابطة من حيث SIO2 فقد كانت 65 : 35 (ويشار إلى هذه النسبة Led بعد باسم «الجسيمات الدقيقة: نسبة المواد الرابطة») في سائل الطلاء . جرى الإعداد بنفس الطريقة المتبعة فى Bila الطلاء AL باستثناء تغيير كميات محلول الكلوريد المائي والمذيبات بحيث تكون كمية مركب الألومنيوم Aluminium بنسبة 100 جزءٍ من كتلة أكسيد السيليكون كتلة جسيمات السيليكا الدقيقة من حيث ثاني اكسيد السيليكون Silicon dioxide ( 2 ) بالإضافة إلى ABS عنصر أكسيد السيليكون من المواد الرابطة من حيث كتلة عنصر أكسيد السيليكون كانت 3 shal من الكتلة ling إلى هذا المقدار النسبيى من مركب الألومنيوم Lad Aluminium بعد باسم «محتوى مركب الألومنيوم») في سائل الطلاء . في سائل الطلاء AZ كان تركيز المواد الصلبة من أكسيد السليكون 77.0 من الوزن. 0 تكوين الطلاء قليل الانعكاس : في المثال 2؛ تم تكوين الطلاء قليل الانعكاس بنفس الطريقة التي في المثال 1 led عدا استخدام سائل الطلاء A2 وجرى تقييم مختلف خصائص الطلاء قليل f لانعكاس . وتم عرض النتائج في الجدول 1 . تحضير سائل الطلاء : تم تحضير سائل الطلاء AZ وكانت نسبة الجسيمات الدقيقة : المواد الرابطة 65 : 35 في سائل الطلاء .وتم إجراء تحضير Sal بنفس الطريقة التي Ey بها تحضير سائل 5 الطلاء Lad AL عدا تغيير كميات محلول كلوريد الألومنيوم المائي والمذيبات حيث كان محتوى مركب الألومنيوم 7 أجزاء من الكتلة في سائل الطلاء. في سائل الطلاء 83 كان تركيز المواد الصلبة من أكسيد السليكون 77.0 من الوزن. تكوين الطلاء قليل الانعكاس : في المثال 3؛ تم تكوين الطلاء قليل الانعكاس بنفس الطريقة كما في المثال 1 lad عدا استخدام سائل الطلاء A3 وجرى تقييم مختلف خصائص الطلاء قليل 0 الانعكاس. وتم عرض النتائج في الجدول 1 . مثال 4
— 8 1 — تحضير سائل الطلاء : تم تحضير سائل الطلاء Ad بنفس الطريقة المتبعة في سائل الطلاء Al باستثناء استخدام سائل المادة الخام Sead) بنفس طريقة سائل المادة الخام A حيث كانت نسبة الجسيمات الدقيقة : المواد الرابطة 70 : 30 وياستثناء تغيير كمية محلول كلوريد الألومنيوم المائي في سائل الطلاء AG كان تركيز المواد الصلبة من أكسيد السليكون 77.0 من الوزن. تكوين الطلاء قليل الانعكاس : في المثال 4؛ تم تكوين الطلاء قليل الانعكاس بنفس الطريقة كما في المثال 1 Led عدا استخدام سائل Ad Dll وجرى تقييم مختلف خصائص الطلاء قليل f لانعكاس . وتم عرض النتائج في الجدول 1 . تكوين الطلاء قليل الانعكاس . 0 مثال 5 تحضير سائل الطلاء : تم تحضير سائل الطلاء AS بنفس الطريقة المتبعة في سائل الطلاء Al باستثناء استخدام سائل المادة الخام Sead) بنفس طريقة سائل المادة الخام A حيث كانت نسبة الجسيمات الدقيقة : المواد الرابطة 60 : 40 وباستثناء تغيير كمية محلول كلوريد الألومنيوم المائي حيث كان محتوى مركب الألومنيوم 5 أجزاء من الكتلة. في سائل الطلاء AS كان تركيز المواد 5 الصلبة من أكسيد السليكون 77.0 من الوزن. تكوين الطلاء قليل الانعكاس: في المثال 5؛ تم عمل الطلاء قليل الانعكاس بنفس الطريقة كما في المثال 1 Lad عدا استخدام سائل الطلاء (AS وجرى تقييم مختلف خصائص الطلاء قليل الانعكاس. وتم عرض النتائج في الجدول 1 . مثال 6 : التعتيق بعد التجفيف والمعالجة : الطلاء قليل الانعكاس في المثال 1 تم تخصيصه 0 للتعتيق. في هذا التعتيق» تم وضع الطلاء قليل الانعكاس في Of كهريائي على درجة حرارة 70 درجة مئوية لمدة 7 أيام sag ذلك ثرك ليبرد بدرجة حرارة الغرفة.
— 9 1 — يتوافق هذا التعتيق مع تاريخ درجة الحرارة الذي سيخضع له الطلاء قليل الانعكاس للاختراع الحالي عندما يتم تطبيق جهاز التحويل الكهروضوئي بما في ذلك اللوح الزجاجي الذي تم طلاؤه بطلاء قليل الانعكاس لتوليد الكهرياء من أشعة الشمس. جرى تقييم مختلف خصائص الطلاء قليل الانعكاس الذي تعرض له التعتيق. وتم عرض النتائج في الجدول 1. مثال مقارن 1 : تحضير سائل الطلاء تم تحضير Blu الطلاء 81. كانت نسبة الجسيمات الدقيقة : المواد الرابطة 65 : 35 فى سائل الطلاء. جرى الإعداد بنفس الطريقة المتبعة في سائل الطلاء Al باستثناء تغيير كمية محلول الكلوريد المائي aqueous aluminum chloride 0 بحيث تكون كمية مركب الألومنيوم بنسبة 0 في سائل الطلاء. في سائل الطلاء 81؛ كان تركيز المواد الصلبة من أكسيد السليكون 77.0 من الوزن. تكوين الطلاء قليل الانعكاس : في المثال المقارن 1؛ تم عمل الطلاء قليل الانعكاس بنفس الطريقة التى في المثال 1 فيما عدا استخدام سائل الطلاء 81؛ وجرى تقييم مختلف خصائص الطلاء قليل الانعكاس. وتم عرض النتائج في الجدول 1. مثال مقارن 2 تحضير سائل الطلاء : تم تحضير سائل الطلاء 82. كانت نسبة الجسيمات الدقيقة : المواد الرابطة 5 : 35 في سائل الطلاء. جرى الإعداد بنفس الطريقة المتبعة في سائل الطلاء Al باستثناء تغيير كمية محلول الكلوريد المائي بحيث تكون كمية مركب الألومنيوم بنسبة 1 في الكتلة في سائل 0 الطلاء. فى سائل الطلاء 82؛ كان تركيز المواد solids ball من أكسيد السليكون silicon oxide 27.0 من الوزن.
— 0 2 — تكوين الطلاء قليل الانعكاس : في المثال المقارن 2؛ تم تكوين الطلاء قليل الانعكاس بنفس الطريقة التى في المثال 1 فيما عدا استخدام سائل الطلاء 82؛ وجرى تقييم مختلف خصائص الطلاء قليل الانعكاس. وتم عرض النتائج في الجدول 1 . (مثال مقارن 3( تحضير سائل الطلاء : تم تحضير سائل Sill 83. كانت نسبة الجسيمات الدقيقة : المواد الرابطة 5 : 35 في سائل الطلاء. جرى الإعداد بنفس الطريقة المتبعة في سائل الطلاء AL باستثناء تغيير كمية محلول الكلوريد المائي بحيث تكون كمية مركب الألومنيوم بنسبة 10 أجزاء في الكتلة فى سائل الطلاء. فى سائل الطلاء 83؛ كان تركيز المواد الصلبة من أكسيد السليكون silicon oxide 0 77.0 من الوزن. تكوين الطلاء قليل الانعكاس : في المثال المقارن 3؛ تم عمل الطلاء قليل الانعكاس بنفس الطريقة التى في المثال 1 فيما عدا استخدام سائل الطلاء 83؛ وجرى تقييم مختلف خصائص الطلاء قليل الانعكاس. وتم عرض النتائج في الجدول 1 . مثال مقارن 4 تحضير سائل الطلاء : تم خلط كمية 20.6 gia من كتلة تترا إيتوكسي سيلان مماثلة لتلك المستخدمة في المثال 1 و2.15 gia في كتلة محلول نترات الألومنيوم المائية (المحلول الذي يحتوي على هيدرات نترات الألومنيوم AI(NO3)3 aluminum nitrate nonahydrate بتركيز 710 بالوزن وتم إعداده باستخدام نانو هيدرات نترات الألومنيوم من رتبة كاشف المصنّع بواسطة Sigma-— «(Aldrich Co., LLC 0 و78.0 جزءِ في كتلة الإيثانول ethanol ؛ وتم تقليب الخليط لمدة 8 ساعات مع الحفاظ عليها في درجة حرارة 40 درجة مئوية ليتحلل التترا إيتوكسي سيلان؛ وبالتالي نتج عنه سائل المادة الخام .D
— 2 1 —
في سائل المادة الخام HISD محتوى المواد الصلبة من تترا إيثوكسي سيلان من حيث 5102 بنسبة
9 من الوزن وكان محتوى المواد الصلبة من نترات الألمنيوم Cua (aluminum nitrate
أكسيد الألمنيوم AL203) Aluminium oxide ) بنسبة 70.1 من الوزن.
تم خلط كمية 10.6 غرام من سائل المادة «Dal و27.6 غرام من جسيمات السيليكا الدقيقة المماثلة لتلك المستخدمة في المثال 1 و61.7 غرام من 2-برويانول 2-propanol عن طريق
التقليب للحصول على Ha السائل D4
في الطلاء السائل 04؛ كان تركيز المواد الصلبة من أكسيد السيليكون (المشتقة من جزيئات السيليكا
الدقيقة و تترا إيثوكسي سيلان) من حيث 902 بنسبة 77.0 من الوزن؛ وكانت نسبة الجسيمات
الدقيقة: المواد الرابطة 91: 9 وكان محتوى مركب الألومنيوم 5 جزء في الكتلة.
0 يختلف سائل الطلاء 04 هذا عن سائل الطلاء في المثال 1 من أدبيات براءات الاختراع 1 في أن سائل D4 Salt تم إعداده باستخدام le cule واحتوى على تركيز مناسب من المواد الصلبة للتطبيق بأداة طلاء دوارة. لكن نسبة الكتلة؛ التى يعبر عنها بجسيمات السيليكا الدقيقة : 5/02 المشتقة من تترا إيثتوكسي سيلان tetraalkoxysilane : نترات الألومنيوم aluminum nitrate من حيث أكسيد الألمنيوم AL203) Aluminium oxide ) كانت متساوية مع سوائل الطلاء .
5 تكوين الطلاء قليل الانعكاس : في المثال المقارن 4؛ تم عمل الطلاء قليل الانعكاس بنفس الطريقة التي في المثال 1 فيما عدا استخدام سائل Dall 84؛ وجرى تقييم مختلف خصائتص الطلاء قليل الانعكاس. وتم عرض النتائج في الجدول 1 . مثال مقارن 5
0 تحضير سائل الطلاء : تم خلط كمية 30.3 oda من كتلة جسيمات السيليكا الدقيقة مماثلة لتلك المستخدمة في المثال 1؛ و58.1 gia في كتلة إيثيل مذيب ethyl cellosolve (المذيبات)؛ و1 جزءِ في كتلة حمض الهيدروكلوربك NT hydrochloric acid (التحلل المحفز) من خلال التقليبء
— 2 2 — وتمت إضافة 10.4 جزءِ فى وزن تترا إيتوكسى سيلان tetraalkoxysilane المماثل لتلك المستخدمة في المثال 1 للخليط مع التقليب المستمر. استمر التقليب لمدة 8 ساعات إضافية مع الحفاظ عليه في درجة حرارة 40 درجة مئوية ليتحلل تترا إيثوكسي سيلان؛ وبالتالي نتج ate سائل المادة Epa 5 في Ble المادة الخام ا؛ كانت نسبة الجسيمات الدقيقة : المواد الرابطة 70: 30؛ وكان تركيز المواد الصلبة من حيث 5502 بنسبة 710 من الوزن. تم خلط كمية 7.0 غرام من سائل المادة الخام ¢E و83.8 غرام من البروييلين جلايكول propylene (cule) glycol و9.2 غرام من أوكتا هيدريت أوكسى كلوريد الزركونيوم zirconium oxychloride octahydrate (من رتبة كاشف خاص» يتم تصنيعه من قبل KANTO (CHEMICAL 00., INC 0 عن طريق التقليب للحصول على الطلاء السائل ES في الطلاء السائل 55؛ كان تركيز المواد الصلبة من أكسيد السيليكون (المشتقة من جزيئات السيليكا الدقيقة وتترا ألكوكسي سيلان) من حيث SIO2 بنسبة 77.0 من الوزن» وكان مقدار مركب الزركونيوم من حيث 2002 بالنسبة إلى 100 جزءِ في كتلة أكسيد السيليكون من حيث 5502 بنسبة 5 shal 5 في الكتلة. يختلف سائل الطلاء ES هذا عن ساتل الطلاء في المثال 13 من أدبيات براءات الاختراع 1 في أن سائل الطلاء ES يحتوي على تركيز مناسب من المواد الصلبة للتطبيق بأداة طلاء دوارة ولا يحتوي على مادة تقلل الشّد المشطحى للسائل المذابة به. لكن نسبة الكتلة؛ التى يعبر عنها بجسيمات السيليكا الدقيقة : 5502 المشتقة من تترا إيتوكسى 0 سيلان: مركب الزركونيوم من حيث 2202 كانت متساوية مع سوائل الطلاء. تكوين الطلاء قليل الانعكاس : في المثال المقارن 5؛ تم عمل الطلاء قليل الانعكاس بنفس الطريقة التي في المثال 1 فيما عدا استخدام سائل الطلاء (ES وجرى تقييم مختلف jailed الطلاء قليل الانعكاس .وتم عرض النتائج في الجدول 1 .
— 3 2 — مثال مقارن 6 . تحضير سائل الطلاء : تم خلط كمية 7.0 ale من سائل المادة الخام E و63.0 غرام من البروبيلين جلايكول (cule) و30.0 غرام من تترا أسيتيل أسيتونات التيتانيوم titanium tetraacetylacetonate (محلول 2-برويانول بنسبة تركيز للمواد الصلبة 765 من الوزن 106-401 0468716 المصنع من قبل (MATSUMOTO TRADING Co., Ltd بالتقليب للحصول على سائل طلاء E6 في الطلاء السائل EG كان تركيز المواد الصلبة من أكسيد السيليكون (المشتقة من جزيئات السيليكا الدقيقة وتترا ألكوكسيسيلان) من حيث 502 بنسبة 77.0 من الوزن؛ وكان مقدار مركب التيتانيوم من Cua 1102 بالنسبة إلى 100 ia في كتلة أكسيد السيليكون من حيث 5:02 بنسبة 5 أجزاء 0 في الكتلة. يختلف سائل الطلاء 56 هذا عن ساتل الطلاء في المثال 15 من أدبيات براءات الاختراع 2 في أن سائل الطلاء 6 يحتوي على تركيز مناسب من المواد الصلبة للتطبيق بأداة طلاء دوارة ولا يحتوي على sale تقلل الشّد aan للسائل المذابة به. لكن نسبة الكتلة؛ التي يعبر عنها بجسيمات السيليكا الدقيقة : 5:02 المشتقة من تترا ألكوكسيسيلان: 5 مركب التيتانيوم من حيث ثاني اكسيد التيتانيوم Titanium dioxide ( 1102) كانت متساوية مع سوائل الطلاء. تكوين الطلاء قليل الانعكاس في المثال المقارن 6؛ تم عمل الطلاء قليل الانعكاس بنفس الطريقة التي في المثال 1 فيما عدا استخدام سائل الطلاء (EG وجرى andi مختلف خصائص الطلاء قليل الانعكاس .وتم عرض النتائج في الجدول 1 . 0 التعتيق بعد التجفيف والمعالجة : خضع الطلاء قليل الانعكاس في المثال المقارن 1 تم لنفس التعتيق الذي تم إجراؤه في المثال 6. تم تقييم مختلف خصائص الطلاء قليل الانعكاس الذي خضع للتعتيق. وتم توضيح النتائج في الجدول 1.
— 2 4 —
وكما يتضح من الأمثلة 5-1 تم الانتهاء من الطلاء قليل الانعكاس فقط من خلال المعالجة عن طريق التجفيف بالهواء الساخن مما Saul عن كسب إنفاذ بنسبة 5 .2 " أو أكثر وعلى وجه الخصوص» الطلاء قليل الانعكاس في المثال 4 مما أسفر عن ارتفاع كبير في كسب الإنفاذ بنسبة
72.99 كان التغير في متوسط الإنفاذ قبل ويعد اختبار رذاذ الملح بنسبة 70.15 أو أقل للطلاءات قليلة الانعكاس؛ وعلى dng الخصوص؛ الطلاء في المثال 5 كان يتمتع بمقاومة مرتفعة نسبياً لرذاذ الملح لدرجة أن التغير في متوسط الإنفاذ قبل وبعد اختبار رذاذ الملح كانت نسبته 70.05. إضافة إلى ذلك» فإن أنواع الطلاء في الأمثلة 5-1 أظهرت هذه المقاومة القلوية العالية لدرجة أن التغيير في متوسط الإنفاذ قبل ويعد اختبار مقاومة القلويات كانت نسبته 70.6 أو أقل ومقاومة عالية للرطوية
0 الدرجة أن التغيير في متوسط الإنفاذ قبل sug اختبار طنجرة الضغط كانت نسبته 70.2 أو أقل. علاوة على ذلك؛ كما يتضح من المثال 6؛ فإن الطلاء قليل الانعكاس الذي تم الانتهاء منه من خلال معالجته بالتجفيف بالهواء الساخن والتعتيق الذي تلاه أظهرا مقاومة مرتفعة نسبياً لرذاذ الملح لدرجة أن متوسط الإنفاذ ظل على حاله قبل seg اختبار رذاذ الملح. وقد لوحظ التحسن من خلال التعتيق أيضا لمقاومة القلويات ومقاومة الرطوية.
5 وهذا يدل على أنه عندما يتم تثبيت جهاز التحويل الكهروضوئي المتوفر مع الطلاء قليل الانعكاس مع هذا الاختراع في بيئة يتعرض فيها الجهاز لأشعة الشمس؛ فإن مقاومة الطلاء لرذاذ الملح» والقلويات» والرطوية تشهد مزيداً من التحسن في غضون فترة زمنية قصيرة نسبياً بعد التثبيت بالمقارنة مع تلك مقاومة الطلاء المتكونة حديثاً. في الأمثلة المقارنة 1 و2 حيث كانت أنواع الطلاء قليل الانعكاس تحتوي على مركب الألومنيوم أقل
من 2 # في الكتلة؛ كان التغيير في الإنفاذ قبل aang اختبار رذاذ الملح أكثر من 70.15؛ وهو ما يثبت أن أنواع الطلاء هذه كان لها مقاومة ضعيفة لرذاذ الملح. إضافة إلى cll فإن التغير فى متوسط الإنفاذ قبل dang اختبار طنجرة الضغط كانت نسبته 70.6 أو أكثر لأنواع الطلاء هذه؛ وهو ما يثبت أنها كانت لها مقاومة ضعيفة للرطوية.
— 5 2 — في المثال المقارن3؛ كان محتوى مركب الألومنيوم أكثر من 77 في الكتلة. وقد أدى ذلك إلى تدهور خصائص الطلاء قليل الانعكاس؛ ومن ثم إلى انخفاض كسب الإنفاذ بنسبة 4. وكانت مقاومة رذاذ الملح؛ والقلويات؛ والرطوبة سيئة أيضاً. في المثال المقارن 4؛ احتوى الطلاء قليل الانعكاس على مركب ألومنيوم مشتق من نترات الألومنيوم تمت إضافته إلى الطلاء السائل» وكان محتوى مركب الألومنيوم أقل من 2 7 من الكتلة؛ حيث كان للطلاء قليل الانعكاس مقاومة ضعيفة لرذاذ mld) فضلا عن وجود مقاومة سيئة للغاية لكل من القلويات والرطوية. في الأمثلة المقارنة 5 و6؛ اشتملت أنواع الطلاء قليل الانعكاس على أكسيد الزركونيوم 2100010007 oxide وأكسيد التيتانيوم titanium oxide على (gill بدلا من مركب الألومنيوم؛ ally كانت 0 ضعيفة في مقاومة رذاذ الملح والرطوية. فأكسيد الزركونيوم وأكسيد التيتانيوم من المواد المعروف أنها يمكن أن تحسن هذه المقاومة. ومع ذلك؛ فإنه لا يمكن أن يُحدث أكسيد الزركونيوم وأكسيد التيتانيوم الأثر التحسيني عندما يتم تنفيذ التجفيف والمعالجة في درجات الحرارة المنخفضة. علاوة على ذلك؛ كانت عمليات كسب الإنفاذ فى الأمثلة المقارنة 5 و6 منخفضة و72.4 و72.3 5 1 على التوالي » مما يدل على وجود تدهور في خصائقص Sal قليل f لانعكاس . في المثال المقارن 7 تم تحسين مقاومة رذاذ الملح بالمقارنة مع تلك الواردة في المثال المقارن 1 الذي لم يتم تنفيذ التعتيق فيه. ومع ذلك»؛ كان التغير في متوسط الإنفاذ لا يزال بنسبة 70.15 أو أكثر؛ وهو ما يعني أن مقاومة رذاذ الملح لم تكن كافية. 0 وكانت مقاومة الرطوية غير مرضية أيضاً.
— 6 2 — جسيمات نسبة الكتلة 61.9 63.1١ |60.7 66.4 57.1 61.9 الدقيقة المادة سيليكا نسبة الكتلة | 33.3 |34.0 |32.7 28.4 36.1 33.3 الرابطة مركب * نسبة ) 4.8 2.9 6.5 5.2 4.8 4.8 عنصر ا النوع آخر الجسيمات | نسبة 65 65 65 70 65 عنصر الدقيقة الكتلة السيليكا ١ المادة نسبة 35 35 30 40 35 الرابطة الكتلة
* *الأجزاء 3 7 5.5 |5 5 في الكتلة داه | ا I 0 ا *#* الأجزاء في الكتلة السمك / 140 140 140 140 1406 +140 نانومتر 82.8 |82.8 |82.7 |82.9 82.7 2.6 متوسط الإنفاذ / النسبة 3 8 5 9 2 3 كسب الإنفاذ / النسبة 2.83 2.88 2.75 |2.99 )2.72 2.63 اختبار رذاذ الملح )8917 © (JIS 7 0.07 0.05 اختبار المقاومة القلوية / 0.50١ 0.58] 0.58 0.55 3 ١ 0.18 النسبة اختبار طنجرة الضغط /النسبة 3 ]0.15 ا0.18 0.20 ]0.10
— 8 2 — تابع الجدول - 7 نك نك ا هن لا ل ماعنا ا هن كن لا ا فنا نم ا تع ا سنا نسل انتتا EE 7 نك هن لا ا نكا سنا ا هن كن لا ا كا نك ا
— 9 2 — 82.8 82.82 82.40 82.80 82.40 82.30 82.71 0 om] ow wef ws] of owes *: الكتلة7 لمركب الألومنيوم من حيث A203 *: الكتلة **: الأجزاء في ALS المركب من حيث أكسيد المعادن بالنسبة إلى 100 gia في كتلة عنصر السيليكا من حيث 5102. أمثلة مرجعية : تم استخدام أحد ونفس سائل الطلاء لتكوين طلاء قليل الانعكاس على مختلف الألواح الزجاجية بحيث تختلف في الانعكاس السطحيء وتم إعداد المواد المطلية قليلة الانعكاس كأمثلة مع الاختلاف في انعكاس سطح اللوح الزجاجي الذي لا يوجد به طلاء قليل الانعكاس عليه. NY ؛ تم إعداد لوح زجاجي يختلف في تركيز أكسيد القصدير في سطح رئيسي واحد؛ وبالتالي يختلف في الانعكاس على سطح رئيسي واحد .
0 كان اللوح الزجاجي المستخدم في المثال المرجعي 1 عبارة عن لوح زجاجي شفاف مطلي بمادة الغشاء تم تصنيعه من قبل شركة Nippon Sheet Glass Co.
Ltd حيث يحتوي هذا اللوح الزجاجي على مركب نموذجي للصودا والجير والسيليكات؛ ويه سطح رئيسي واحد مطلي بمادة الغشاء المسامي المركبة بواسطة CVD على الخط ويشتمل على طبقة مسامية والبالغ سمكه 3.2 مم. وقد أدى الطلاء قليل الانعكاس المتكون في المثال المرجعي 1 إلى تحسين تحويل اللوح الزجاجي الشفاف
5 الموصل المطلى sale الغشاء.
— 0 3 — تم تحديد متوسط الإنفاذ للوح الزجاجي الشفاف الموصل المطلي بمادة الغشاء لتكون 783.64 عندما تم تقييم خصائص انتقال اللوح الزجاجي بالطريقة المذكورة أعلاه قبل تقديم الطلاء قليل الانعكاس. وكانت الألواح الزجاجية المستخدمة في الأمثلة المرجعية 5-2 Lad ألواحاً زجاجية شفافة وموصلة ومطلية sala الغشاء تم تصنيعها من قبل شركة .Nippon Sheet Glass Co.
Ltd وكانت sale 5 الغشاء الشفاف الموصل مطابقة لتلك التى فى المثال المرجعى 1.
كانت الألواح الزجاجية هي تلك التي يتم إنتاجها بواسطة تنويع تركيز أكسيد القصدير والبيئة في حمام الصقل بحيث تحظى الألواح الزجاجية بتركيزات مختلفة لأكسيد القصدير في سطح رئيسي واحد غير مطلي بمادة الغشاء الشفاف الموصل. يحتوي كل لوح من الألواح الزجاجية على مركب نموذجي للصودا والجير والسيليكات gly سمكه 3.2 مم.
0 بلغ متوسط الإنفاذ حوالي 780 لهذه الألواح الزجاجية. كانت الألواح الزجاجية المستخدمة في الأمثلة المرجعية 6 و8 ألواحاً زجاجية مصقولة تم تصنيعها من قبل شركة «Nippon Sheet Glass Co.
Ltd ويبلغ سمكها 3.2 can وتحتوي على مركب نموذجي للصودا والجير والسيليكات csOda-lime-silicate ولم يتم طلاء أي من الأوجه الرئيسية لكل لوح زجاجى بمادة الغشاء الشفاف Jaa gall .
في المثال المرجعي 6؛ تم عرض طلاء قليل الانعكاس على ذلك السطح الرئيسي للوح الزجاجي الذي تمت ملامسته مع حمام الصقل 3 بينما في المثال المرجعي 8« تم عرض طلاء قليل ا لانعكاس على ذلك السطح الرئيسي للوح الزجاجي الذي لم تتم ملامسته مع حمام الصقل . وكما هو موضح في الجدول 2؛ فإنه لم يتم الكشف عن أكسيد القصدير في السطح الرئيسي للوح الزجاجي الذي لم
0 كان متوسط لتحويل حوالي 790 لهذه الألواح الزجاجية. كانت الألواح الزجاجية المستخدمة في الأمثلة المرجعية 7 و9 أيضاً ألواحاً زجاجية مصقولة بسمك 2 مم تم تصنيعها من قبل شركة (Nippon Sheet Glass Co.
Ltd وتحتوي على مركب
— 1 3 — نموذجي للصودا والجير والسيليكات؛ ولم يتم طلاء أي من الأوجه الرئيسية لكل لوح زجاجي بمادة الغشاء الشفاف الموصل. الذي تمت ملامسته مع حمام الصقل 3 بينما في المثال المرجعي 9 تم عرض طلاء قليل ا لانعكاس على ذلك السطح الرئيسي للوح الزجاجي الذي لم تتم ملامسته مع حمام الصقل . وكما هو موضح في الجدول 2؛ ald لم يتم الكشف عن أكسيد القصدير في السطح الرئيسي للوح الزجاجي الذي لم تتم ملامسته مع حمام الصقل (المثال المرجعي 9). وبالنسبة لهذه الألواح الزجاجية؛ ان متوسط الإنفاذ حوالي 790.8 والذي يعد ef من تلك التي في الألواح الزجاجية المذكورة في الأمثلة المرجعية 6 و8. 0 كما هو موضح في المثال 1؛ تمت معالجة الألواح الزجاجية في الأمثلة من 1 إلى 9 عن طريق القطع والغسل والتجفيف لإعداد ألواح زجاجية لعمل طلاء قليل الانعكاس. تم and خصائص انتقال الألواح الزجاجية في الأمثلة المرجعية 1 إلى 9 على النحو المبين أعلاه قبل تقديم أنواع الطلاء قليل الانعكاس. لهذا السطح الرئيسي لكل لوح زجاجي تم طلاؤه بطلاء قليل الانعكاس؛ تم أيضاً قياس متوسط الانعكاس في نطاق الطول الموجي من 380 إلى850 نانومتر 5 وتركيز أكسيد القصدير في الجزءِ الخارجي من السطح الرئيسي. تم تحديد متوسط الانعكاس عن طريق قياس منحنى الانعكاس (طيف الانعكاس reflection 0 ) باستخدام مقياس الطيف الضوئي UV-3100PC) الذي تصنعه شركة (Shimadzu Corporation في زاوية السقوط 8 درجات وحساب متوسط قيم الانعكاس على نطاق الطول الموجي من 380 إلى 850 نانومتر. قبل قياس طيف الانعكاس تمت معالجة مقابل السطح 0 الرئيسي إلى جانب سقوط الضوءٍ للحد من تأثير السطح الرئيسي العكسي على قياس الانعكاس. leg وجه التحديد؛ عندما تم استخدام اللوح الزجاجي كان لوحاً Lala شفافاً موصلاً مطلياً بمادة الغشاء وكان طلاء قليل الانعكاس سيتم تقديمه لطلاء السطح غير المطلي بمادة الغشاء الشفاف الموصل؛ فتمت sale Al) الغشاء الموصلة الشفافة عن طريق all بالرمل؛ تلاه طلاؤه بطلاء أسود .
— 2 3 — عندما تم استخدام اللوح الزجاجي لم يكن مطلياً بمادة الغشاء الشفافة الموصلة؛ وتم طلاء مقابل السطح الرئيسي بطلاء أسود إلى جانب سقوط الضوء. وقد تم قياس تركيز أكسيد القصدير في gall الخارجي من السطح الرئيسي باستخدام محلل دقيق في مسبار إلكتروني 00100-80812672 (EPMA) electron probe وجهاز كشف تشتت
الطول الموجي والأشعة السينية (WDX) X-ray detector الذي تم تثبيته على محلل دقيق.
على dag التحديد » 298 تم إجراء تحليل WDX (تسريع الجهد: 15 كيلو فولت؛ عينة التيار : 2.5 x A 7-0 سرعة المسح الضوئي 6 ميكرون/دقيقة؛ بلورة التشتت : (PET باستخدام جهاز EPMA «(JXA 8600 تم تصنيعه من قبل شركة Ltd ا0عل). تم طلاء أحد الأسطح الرئيسية بطلاء قليل الانعكاس (السطح الذي تم قياس متوسط تركيز الانعكاس
0 أأكسيد القصدير فيه) لكل لوح زجاجي باستخدام نفس الطلاء السائل Al والإجراءات المستخدمة في Jb 1. لكل مادة من المواد المطلية بطلاء قليل الانعكاس الذي تم الحصول عليه والموضح في الأمثلة من انعكاس اللوح الزجاجي؛ كما تم تقييم خصائص الانتقال المذكورة أعلاه.
5 يوضح الجدول 2: متوسط الإنفاذ لكل مادة من المواد المطلية بطلاء قليل الانعكاس (تم قياس التحويل بعد الطلاء)؛ عمليات كسب الإنفاذ التي تمثل الزيادة في متوسط الإنفاذ بالنسبة للوح الزجاجي غير المطلي بطلاء قليل الانعكاس؛ متوسط انعكاس اللوح الزجاجي غير المطلي بطلاء قليل الانعكاس؛ والزيادة في متوسط الانعكاس (فقد الانعكاس) للمادة المطلية بطلاء قليل الانعكاس بالنسبة للوح الزجاجي غير المطلي بطلاء قليل ا لانعكاس ٠
[الجدول 2]
— 3 3 — تركيز 502 قبل or بعد الطلاء | كسب الإنفاذ : : 2 2 2 2 المتال 5.67 3.70 86.50 2.7 المرجعي 1 المتال 8.8 5.59 3.63 82.89 2.4 المرجعي 2 المتال 9.5 5.66 3.83 83.11 2.84 المرجعي3 المتال 10.4 5.75 3.97 83.30 2.84 المرجعي 4 المتال 11.0 5.82 4.07 83.16 2.7 المرجعي 5 المتال 10.0 5.71 3.90 93.60 3.58 المرجعي 6 المتال 5.7 5.27 3.41 93.91 3.09 المرجعي 7 المتال غير متاح 4.77 2.73 92.41 2.38 المرجعي 8
— 4 3 — المثال غير متاح 2 2.59/6 93.19 2.317 المرجعي 9 يوضح الشكل 2 العلاقة بين متوسط انعكاس أحد الأسطح الرئيسية للوح الزجاجي غير المطلي بطلاء قليل الانعكاس (تم قياس الانعكاس قبل الطلاء) مقابل زيادة متوسط الانعكاس (فقدان الانعكاس) وكسب الإنفاذ في السطح الرئيسي المطلي بطلاء قليل الانعكاس للوح الزجاجي المطلي بطلاء قليل الانعكاس. وتؤكد هذه النتائج أنه كلما ارتفع متوسط انعكاس اللوح الزجاجي غير المطلي بطلاء قليل الانعكاس؛ زاد فقدان الانعكاس ومن ثم زادت عمليات كسب الإنفاذ الناجمة عنه. وتقودنا النتائج في الأمثلة المرجعية من 1 إلى 9 إلى ملاحظة أن عمليات كسب الإنفاذ كانت أقل بقليل من 780 من فقدان انعكاس للمواد المطلية بطلاء قليل الانعكاس الواردة فى الأمثلة المرجعية من 1 إلى 5 التي تم إعدادها باستخدام ألواح زجاجية مطلية بمادة الغشاء الشفافة الموصلة؛ بينما تم 0 إعداد المواد المطلية بطلاء قليل الانعكاس في الأمثلة المرجعية 6 إلى 9 باستخدام ألواح زجاجية مصقولة؛ كانت نسبة كسب الإنفاذ حوالي 790 من فقدان الانعكاس. وهذا يقودنا إلى توقع أن نسبة 72.5 أو أكثر من كسب الإنفاذ. من المرجح أن تتحقق عندما يكون انخفاض متوسط الانعكاس حوالي 73.15 أو أكثر. يوضح الشكل. 2 أن الانخفاض في الانعكاس بنسبة 73.15 أو أكثر يمكن أن يتحقق عندما يكون لسطح 5 الوح الزجاجي متوسط انعكاس بنسبة 75.1 أو أكثر. وهذا يقودنا إلى استنتاج أن عمليات كسب الإنفاذ بنسبة 72.5 أو أكثر من المرجح أن تتحقق من خلال تطبيق الطلاء قليل الانعكاس في هذا الاختراع على لوح زجاجي له انعكاس بنسبة 75.1 أو أكثر. التطبيق الصناعي يمكن لهذا الاختراع أن يوفر طلاءً قليل الانعكاس والذي من شأنه أن ينتج مكاسباً تحويل عالية وذات 0 مقاومة جيدة لرذاذ الملح على الرغم من عمل هذا الطلاء عن طريق المعالجة في درجة حرارة
Claims (1)
- عناصر الحماية 1- ركيزة مطلية منخفضة الانعكاس ddlow-reflection coated substrate تشتمل على: رقاقة زجاجية ¢glass sheet و طلاء منخفض الانعكاس low-reflection coating مشكل على سطح رئيسي واحد على الأقل للرقاقة الزجاجية sheet 91855؛ Cus يكون الطلاء منخفض الانعكاس عبارة عن غشاء مسامي porous fim 5 وبشتمل على: جسيمات سيليكا دقيقة fine silica particles والتي تكون صلبة solid وكروية spherical ولها متوسط قطر مسامي من 80 إلى 150 نانومتر؛ و رابط يحتوي على السيليكا silica كمكون رئيسي؛ حيث يتم ربط جسيمات السيليكا الدقيقة fine ae silica particles بواسطة الرابط» وحيث يحتوي الرابط أيضًا على مركب ألومنيوم» Cua 0 يحتوي الطلاء منخفض الانعكاس low-reflection coating على المكونات التالية: 355 إلى 70 % بالكتلة من جسيمات السيليكا الدقيقة «fine silica particles إلى 1640 بالكتلة من السيليكا silica الخاصة بالرابط؛ و 2 إلى 967 بالكتلة من مركب الألومنيوم aluminum الذي يظهر في صورة أكسيد الألمنيوم AL203) Aluminium oxide ) يكون للطلاء منخفض الانعكاس سمك من 80 إلى 800 5 نانومتر؛ ينتج الطلاء منخفض الانعكاس كسب نفاذية من 962.5 إلى 963.58؛ يمثل كسب النفاذية زيادة في متوسط نفاذية الرقاقة الزجاجية المزودة بالطلاء منخفض الانعكاس مقارنة بالرقاقة الزجاجية غير المزودة بالطلاء منخفض الانعكاس ؛ يتم قياس متوسط النفاذية في نطاق الطول الموجي الذي من 380 إلى 850 نانومتر؛ يكون للسطح الرئيسي متوسط انعكاس من 965.1 إلى 965.82 عند نطاق طول موجي من 380 إلى 850 نانومتر عند قياسه في غياب الطلاء منخفض الانعكاس 0 على السطح الرئيسي» ويحتوي جزءٍ خارجي للسطح الرئيسي يتشكل عليه الطلاء منخفض الانعكاس على أكسيد قصدير tin oxide بنسبة من 3.5 إلى 1624 بالكتلة . 2- الركيزة المطلية منخفضة الاتعكاس Gay low-reflection coated substrate لعنصر الحماية 1 حيث يكون متوسط القطر الجسيمي لجسيمات السيليكا الدقيقة fine silica particles 5 في نطاق من 100 نانومتر إلى 150 نانومتر.3- الركيزة المطلية منخفضة الانعكاس Gay low-reflection coated substrate لعنصر الحماية 1؛ حيث؛ في الطلاء منخفض الانعكاس ؛ يكون محتوى مركب الألومنيوم aluminum من 965.2 بالكتلة إلى 967 بالكتلة ويظهر في صورة أكسيد الألمتيوم Aluminium oxide.(AL203) 4— الركيزة المطلية منخفضة الانعكاس Gay low-reflection coated substrate لعنصر الحماية 1؛ حيث يتم اشتقاق السيليكا silica الخاصة بالرابط من مركب سيليكون قابل للتحلل بالماء؛ أو ناتج تحلل بالماء لمركب السيليكون Jill silicon للتحلل بالماء؛ ويشتمل مركب السيليكون القابل للتحلل بالماء على مركب تمثله الصيغة التالية (1): SiX4 (I), 0 حيث X تكون Ble عن مجموعة واحدة على الأقل مختارة من مجموعة ألكوكسي alkoxy مجموعة أسيتوكسي acetoxy مجموعة ألكينيلوكسي calkenyloxy مجموعة sisal 807100؛ وذرة هالوجين .halogen atom 5 5- الركيزة المطلية منخفضة الانعكاس Gag low-reflection coated substrate لعنصر الحماية 4 حيث يكون مركب السيليكون WA silicon للتحلل بالماء عبارة عن تترا ألكوكسي سيلان tetraalkoxysilane 6- الركيزة المطلية منخفضة الانعكاس Gig low-reflection coated substrate لعنصر 0 الحماية 1 حيث يتم اشتقاق مركب الألومنيوم aluminum من هاليد ألومنيوم aluminum halide مضاف إلى سائل طلاء لتكوين طلاء منخفض الانعكاس Jow-reflection coating 7- الركيزة المطلية منخفضة الانعكاس Gig low-reflection coated substrate لعنصر الحماية 6 حيث يكون هاليد الألومنيوم aluminum عبارة عن كلوريد ألومنيوم aluminum.chloride 58- الركيزة المطلية منخفضة الانعكاس Gay low-reflection coated substrate لعنصر الحماية 1 حيث يكون لفرق متوسط نفاذية الركيزة substrate المطلية منخفضة الانعكاس قبل ويعد اختبار رش الملح das مطلقة من صفر إلى 960.15؛ حيث يتم إجراء اختبار رش الملح وفقًا JIS C 8917 2005؛ الملحق 4. 9- الركيزة المطلية منخفضة الانعكاس low-reflection coated substrate وفقًا لعنصر الحماية 1؛ حيث يتم الحصول على الركيزة substrate المطلية منخفضة الانعكاس عن طريق تطبيق سائل طلاء لتكوين الطلاء منخفض الانعكاس low-reflection coating على الرقاقة الزجاجية ويعد ذلك تسخين BEN الزجاجية؛» حيث يتضمن التسخين تعريض سطح معين BEN الزجاجية glass sheet إلى أقصى درجة حرارة بين 200 م إلى 350 a والمدة التي يكون أثناء ها 0 سطح الرقاقة الزجاجية في درجة حرارة بين 200 م و350 م من صفر إلى 5 دقائق. 0- الركيزة المطلية منخفضة الانعكاس Gag low-reflection coated substrate لعنصر الحماية 1؛ حيث يتم الحصول على الركيزة substrate المطلية منخفضة الانعكاس عن طريق تطبيق سائل طلاء لتكوين الطلاء منخفض الانعكاس low-reflection coating على الرقاقة 5 الزجاجية ويعد ذلك تسخين الرقاقة الزجاجية؛ حيث يتضمن التسخين تعريض سطح معين BEN الزجاجية glass sheet إلى أقصى درجة حرارة بين 100 م إلى 250 a والمدة التي يكون أثناء ها سطح الرقاقة الزجاجية في درجة حرارة بين 100 م و350 م من صفر إلى 2 دقيقة. 1- الركيزة المطلية منخفضة الانعكاس Gy low-reflection coated substrate لعنصر 0 الحماية 1( حيث تكون الرقاقة الزجاجية عبارة عن رقاقة من زجاج عائم يتم إنتاجها بواسطة عملية طفوء يتشكل الطلاء منخفض الانعكاس low-reflection coating على سطح رئيسي من الرقاقة الزجاجية؛ ويكون السطح الرئيسي هو سطح تم وضعه في تلامس مع حمام زجاج عائم أثناء إنتاج الرقاقة الزجاجية بواسطة عملية الطفو. 5 12- الركيزة المطلية منخفضة الانعكاس Lig low-reflection coated substrate لعنصر الحماية 1 Gua تشتمل الركيزة substrate المطلية منخفضة الانعكاس أيضًا على غشاء شفاف— 8 3 — موصل مشكل على سطح رئيسي من الرقاقة الزجاجية مواجه للسطح الرئيسي الذي يتشكل عليه الطلاء منخفض الانعكاس Jow-reflection coating 3- وسيلة تحويل كهروضوئية photoelectric conversion device تشتمل على: ركيزة substrate 5 مطلية متنخفضة ١ لانعكاس Lg لعنصر الحماية 1 3 حيث السطح الرئيسى هو سطح يسقط عليه الضوء .a Soa: ا ل ا ا ا ا أ ااا ا ل ا ا م ا ا ا ا ال الي ا ال لا الاج ا Sh > hy ERT SE SRE RS SORE TE RC EERE RR ANN > a Ea SEY م WEE Se SER TET EEN RR RR Be ال ا ل يي اا ال لنت BE ال RE Se ا FE TE ات a ETE اش TE Sea ا ا ا ا ا ا لكاي تن الا الاي اا ال TR اه EEE ا ROTTEN UR es EO a ER Re SNL CN ee SESE SE SB ee SER ina ONY ia TR OY ام PIR ER RAE SR: Jt ل ا ا ل ا ل ال ا ات اي ا ا ال ا هي SI تل للدي Se ENG الي ا لخاد ERE a RET a NR eT a ee ا ا NIT INR ene TR اي ahs a ana a Ta الب نالمحي .المي ال ا Ne الا اح ل ل ا ا ا Te Sm RT لمجا الا اي الما od ال اف HET TT ST ne eS es (Maen ال rR TO ER RN الس RN ين ا م eR SER i aca يي ا ال ااي ات اللي ا 7 eee ا امد اا الت ا ال ل لت ا اا ل GRR TN SRY SE ER RR SN ey ا متا ا يي EE RE الاح التي ا د ال Sa ال a RO ell Een TREY Fiat CT ا 5 a NAT ا ا اد a RN Ra TN i IR TR TT RN a TT FRE Sa ا اي ا ا 0 AE OT re COE alee Samy Celi Fao Nene a IT ig TR NE BOR aed ال Sn eo TI TIN GN mg I زر ا ا نت ٠٠ لو اح او اس RS الا ل يي الا ل واي اا ا ا ا ا ا ا ا ال 5 اليه 1000 الي ال ا ااي ال ا ل الا SIRE SEIN الاج NEI ا ااا die EERIE اله eT RE he ا SN RRR ا ا SETI ا نت ا aR ال و ل ا he 1 Ca ل ا ا نت ال ا الا اج ل Tr يي ا ل ال ا 0 E aie ا STERN ER SE الب I OR ات aE اح SR a TN ALT ال ITI RIN EE II ee I IR eT SN RS BT ET ee et es 3 اتا ا pa RS 1 : SENET es TL ال A ا و با الي الم ا ا ا ا اي ا ا SNE a ا امم و aa a Se ERIE ف eT ل ا ا م ا لمهي >< اي ا ل ل الاش الا ال ا الما SE الات اما RE الل أ ا 5 0 Ae BENE Sa SEN a Ea a ات المت ال اا ل ال ا ااي ET امهيا ا 50 امي Ea STR TE RR The اح اي ا ايا ليسي اناي ال CR ACE ا SEE ا ا ال ا ا ب :. لت مس ا الاو جين ال ا يد الج ل ا حي ا ale ا Thu J NE SD Team TH ل ل ل يح ل الى ل ا ا وح ل ما ا ا ل ا يت ومس HE ا تح ا ا ا مج الالو تن مستت سوس اللي ا ا ا a الجن pe nT ea RT aT TT متت 1 الإ الت يي ERR IN SE a SERN NA a ee dei] Ce PR oO ae Co ai 05 SEE AE : Faia Song ا الس ا الي CR I I SE, NES IN gn RET الت RON Et RA ry A 7 Ro TT نب الم Road ل ل الي ا ل ا الو حو التي االو الما ا ل لي الست اي ع ال ل د RE SER ل ل ل الا امس اا التي RE TR اا الل ا TR الل mn TAT TI Cl الو يا حي ا ات ال كت اجا RE Se RL Le A Shamed J ب" الي اللاي الا Shh fra aR ا EERE iPR. ا الل اي ال يك خا اليا اليد الح A ل AS aR TR 3 Sap SR BR HIRI SOE الي ال PIR BR Set BD IL SIE on Bo SR ا ا ال اي SR تت اراي م اي 3 ا ااا دسي ١ ER اج ا مين ا ا امسا الا الل ا ل ا ا ا STE و الا ...ب المي اا ا 0 8 لاسي »لحي EAN جو تين ال ا | الام ل me, te ا ee ااا اا BR i ant TN ES ER AN الي cm Na eT BROT X Nes AN ل 2 المع لي Bi SE a ENE ER I SE RE RRR TE ART 3 لمن aR ae TT A SS NL الجهين 0 0 ra لج I يا SRE Me NI CE i ا ama ام CA ATR SN Te SREY Ptah ata HE ال الا ا اس RE FENG ا ا يمت المي ا ا ا ا ل ل ا ا el المي نيا مين الم AERA الج QE اال امت ب BE ny Pan & ا الات الج Rd ا لط TIT TEER 1 ع الاك ل الا ا اال ل الي د ا ل ا ل ل ل 0 nL Be a. * ل ا ا ا اك ا ا Be ATL ay TIA Ln SURES RR SEE RE RE TE A كي ا لت الت ال أ : SEI SRE TR £2 : : SET EY Ne SE 0 ا SE I 1 + 1 !2ج ٠ + ا ااا Seek ا ا ا ٠ أثاثومتر 6mm x50.0k SEQ .11 المافة 1025-114 Ves ثاتومتر 8mm 5006 SEU 11 لغقدة 1025-114 شكل a 0 bala.ا شت Yak BREE Fa age a AAA AA AAA AAA AAA, N a < x + a N BS » H 8: 8 N 3 8 1 : : N 3 H ; 8 : Ny a 0: 4 ¥ 8 N 8 : 8 2 8 N 3 2 8 H : N 3 3 3 ; : N Hy 3 8 : 8 Ny 5 x 3 3 0 N N : 1 8 3 8 dead Rea EAA Av AAA لذ RE SEEN SNA Ae Free لات تحت حا و Bead ار متا ARATE £ x i ¢ : 5 ht 3 2 3 3 $ H 8 : د 8 : : 3 N B 3 : R H N BK : 8 8 H N N : { H N 2 3 8 }3 N 3 : 8 : H BS & 3 ¥ 1 { 3 iN Ey N a 5 : 3 HN 8 : : : 8 3 N 8 8 Fa 0: ااا ااا واوا Fox 1 8 N 0: Fa 8 Tem اديه ss حب ساح حي a لماك ماحم لا a وما ل اا اق si ات دم تم تج Rn ال N ب 0 > 0 3 > N 3 3 8 M § & 8 3 i 3 } م 5 N < : 8 5 : N 8 8 8 N Cio 4 5 Sete a bin ta : # ادل hid 3 BR 8 8: N SEE Lele 0 MR LARGE ا i : 8 : i EIR oT #8 N } :8 : : 5 ل N 0 : 8 : 8 Ana ada or ~ 00 7 . .\ 12 ب 1 2 حب المشادية SENT م يمي د 5 oe oY i R Fal H < N BET EN RR SRN OIG: RN: SAS AUTRE SNES ARETE HN hd 3 $ : : : K 3 3 H H 0 ; dk اح aan الاج 0 H NE 1 1 1 8 4 ارد الال كت لنت اي ةي ات !اا R b3 3 Se } H = ان م H Dn و H ps : الاللة EY Ree \ : : : ٍْ 0i. 1 0 ¢ i IR 1 i & : 1 3 ير i { Toy 3 } 1 i 2 . fo Swed i THEE pa Sonne SE EEE panel { : 3 1 : ما a vn vt tat a Si nana of : 3 ل ل ل ل BET IRF ci : : 3 3 3 5 By 5 : h : 8 H 8 1 : : : > vB H 0 3 : H 1 : 3 شد : N ل i : 3 i 1 : 3 pod i H i : 1 ٍ N : i : } : H H 8 1 : : : i 3 8 > : . + AAA AAR AAA INN 3 ¥ = 2 3 : ? HS Fon # & ki + a} 3 ا k م . Sie MIE Xe IE ETE ا © لست حا ااا لوعي أل ما TAY ow Moxa SR Sed التي . نسية lI انوج الزجاج كير متوئرة مع STN اليل wTلاله الهيلة السعودية الملضية الفكرية ا Sued Authority for intallentual Property RE .¥ + \ ا 0 § 8 Ss o + < م SNE اج > عي كي الج TE I UN BE Ca a ةا ww جيثة > Ld Ed H Ed - 2 Ld وذلك بشرط تسديد المقابل المالي السنوي للبراءة وعدم بطلانها of سقوطها لمخالفتها ع لأي من أحكام نظام براءات الاختراع والتصميمات التخطيطية للدارات المتكاملة والأصناف ع النباتية والنماذج الصناعية أو لائحته التنفيذية. Ad صادرة عن + ب ب ٠. ب الهيئة السعودية للملكية الفكرية > > > فهذا ص ب 101١ .| لريا 1*١ v= ؛ المملكة | لعربية | لسعودية SAIP@SAIP.GOV.SA
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014134177 | 2014-06-30 | ||
PCT/JP2015/003300 WO2016002215A1 (ja) | 2014-06-30 | 2015-06-30 | 低反射コーティング、低反射コーティング付き基板および光電変換装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SA516380631B1 true SA516380631B1 (ar) | 2020-12-31 |
Family
ID=55018788
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SA516380631A SA516380631B1 (ar) | 2014-06-30 | 2016-12-29 | طلاء قليل الانعكاس، ومادة مطلية قليلة الانعكاس، وجهاز تحويل كهروضوئي |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10416353B2 (ar) |
EP (1) | EP3162773B1 (ar) |
JP (1) | JP6560210B2 (ar) |
CN (1) | CN106660863B (ar) |
ES (1) | ES2812613T3 (ar) |
MY (1) | MY181241A (ar) |
SA (1) | SA516380631B1 (ar) |
WO (1) | WO2016002215A1 (ar) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2017170498A1 (ja) * | 2016-03-29 | 2017-10-05 | 日立化成株式会社 | エアロゲル複合体、エアロゲル複合体付き支持部材及び断熱材 |
JP6650368B2 (ja) * | 2016-07-28 | 2020-02-19 | 日本板硝子株式会社 | 低反射コーティング付ガラス板、低反射コーティング付基材を製造する方法、及び低反射コーティング付基材の低反射コーティングを形成するためのコーティング液 |
CN112768560A (zh) * | 2021-01-07 | 2021-05-07 | 成都中建材光电材料有限公司 | 一种对双玻光伏组件图案刻蚀的方法 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4197747B2 (ja) * | 1998-06-12 | 2008-12-17 | 三菱製紙株式会社 | シリカアルミナ複合ゾル,その製造方法および記録媒体 |
WO2001042155A1 (en) * | 1999-12-13 | 2001-06-14 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Low-reflection glass article |
WO2001047033A1 (fr) * | 1999-12-20 | 2001-06-28 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Transducteur photoelectrique et substrat pour transducteur photoelectrique |
JP2005330172A (ja) | 2004-05-21 | 2005-12-02 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | ガラス板およびその製造方法、低反射性透明ガラス板、低反射性透明導電基板およびその製造方法、ならびに、低反射性透明導電基板を用いた光電変換素子 |
JP4225999B2 (ja) | 2005-11-30 | 2009-02-18 | 日揮触媒化成株式会社 | 複合酸化物ゾルおよび被膜付基材 |
WO2009071317A1 (de) * | 2007-12-05 | 2009-06-11 | Schott Ag | Substrat mit einer sol-gel-schicht und verfahren zur herstellung eines verbundmaterials |
EP2419266B1 (en) * | 2009-04-15 | 2017-03-08 | 3M Innovative Properties Company | Retroreflective sheeting including a low index coating |
WO2012008427A1 (ja) | 2010-07-12 | 2012-01-19 | セントラル硝子株式会社 | 低反射膜およびその形成方法およびそれを用いた低反射部材、並びに、低反射膜形成用塗布液およびその調製方法およびそれを用いた低反射部材 |
AU2011298373A1 (en) * | 2010-09-01 | 2013-04-11 | Agc Flat Glass North America, Inc. | Glass substrate coated with an anti-reflective layer |
JP2014015543A (ja) | 2012-07-09 | 2014-01-30 | Nissan Chem Ind Ltd | 低屈折率コーティング組成物 |
JP6039962B2 (ja) | 2012-08-01 | 2016-12-07 | 日本板硝子株式会社 | 光電変換装置用カバーガラス |
MY174106A (en) * | 2013-01-31 | 2020-03-10 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Low reflection coating glass sheet and method for producing the same |
-
2015
- 2015-06-30 MY MYPI2016704813A patent/MY181241A/en unknown
- 2015-06-30 CN CN201580035666.3A patent/CN106660863B/zh active Active
- 2015-06-30 ES ES15815778T patent/ES2812613T3/es active Active
- 2015-06-30 JP JP2016531115A patent/JP6560210B2/ja active Active
- 2015-06-30 WO PCT/JP2015/003300 patent/WO2016002215A1/ja active Application Filing
- 2015-06-30 US US15/322,670 patent/US10416353B2/en active Active
- 2015-06-30 EP EP15815778.4A patent/EP3162773B1/en active Active
-
2016
- 2016-12-29 SA SA516380631A patent/SA516380631B1/ar unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US10416353B2 (en) | 2019-09-17 |
JP6560210B2 (ja) | 2019-08-14 |
MY181241A (en) | 2020-12-21 |
US20170139080A1 (en) | 2017-05-18 |
JPWO2016002215A1 (ja) | 2017-04-27 |
EP3162773A4 (en) | 2017-11-29 |
CN106660863B (zh) | 2019-08-13 |
EP3162773A1 (en) | 2017-05-03 |
CN106660863A (zh) | 2017-05-10 |
ES2812613T3 (es) | 2021-03-17 |
EP3162773B1 (en) | 2020-08-12 |
WO2016002215A1 (ja) | 2016-01-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
RU2641757C2 (ru) | Композиция для покрытия, содержащая слоистый силикатный пигмент, и способ создания прозрачного или просвечивающего эмиссионного покрытия | |
Pagliaro et al. | Silica-based hybrid coatings | |
SA517381194B1 (ar) | طلاء منخفض الإنعكاس | |
WO2011040405A1 (ja) | 光触媒塗装体およびそのための光触媒コーティング液 | |
WO2006095464A1 (ja) | 酸化チタンコーティング剤、及び酸化チタン塗膜形成方法 | |
SA516380631B1 (ar) | طلاء قليل الانعكاس، ومادة مطلية قليلة الانعكاس، وجهاز تحويل كهروضوئي | |
WO2018020989A1 (ja) | 低反射コーティング付ガラス板、低反射コーティング付基材を製造する方法、及び低反射コーティング付基材の低反射コーティングを形成するためのコーティング液 | |
CN102574119A (zh) | 光催化剂涂装体及用于制造该涂装体的光催化剂涂布液 | |
JP6266230B2 (ja) | 表面改質金属酸化物微粒子、薄膜形成用の塗布液、薄膜付き基材、光電気セル、及び表面改質金属酸化物微粒子の製造方法 | |
WO2014119710A1 (ja) | コーティング液及び反射防止膜 | |
WO2016121404A1 (ja) | 低反射コーティング付ガラス板、低反射コーティング付基材を製造する方法、及び低反射コーティング付基材の低反射コーティングを形成するためのコーティング液 | |
Caballero-Güereca et al. | Transparent ZnO thin films deposited by dip-coating technique: Analyses of their hydrophobic properties | |
KR20140061842A (ko) | 반사방지 효과, 초친수 작용 및 UV-Cut 특성을 갖는 수계 광촉매 제조 및 이를 적용한 유리제품 | |
JP2012188636A (ja) | 赤外線の吸収・遮蔽機能を有するコーティング剤 | |
CN112811825A (zh) | 一种防雾涂层,其制备方法、由其获得的产品 | |
JP6487933B2 (ja) | 低反射コーティング、低反射コーティング付ガラス板、低反射コーティングを有するガラス板、ガラス基板、光電変換装置、及び低反射コーティングを製造する方法 | |
JP7083342B2 (ja) | 低反射膜付き透明基板、光電変換装置、低反射膜付き透明基板の低反射膜を形成するための塗工液及び低反射膜付き透明基板の製造方法 | |
JP2012031054A (ja) | セラミックス多孔質体 | |
KR102281843B1 (ko) | 나노 무기조성물 및 이의 제조방법 | |
KR101194019B1 (ko) | 무-유기 3차원 네트워크 구조의 표면 보호 소재 | |
JP2006070141A (ja) | 光触媒膜形成用組成物および光触媒膜付き基材 | |
BR112019001437B1 (pt) | Chapa de vidro revestida de baixa reflexão, método para produção de substrato revestido de baixa reflexão e líquido de revestimento para formar um revestimento de baixa reflexão de substrato revestido de baixa reflexão | |
Procaccini et al. | Development of silver clusters in hybrid organic-inorganic sol-gel coatings | |
JP2011078917A (ja) | 建築用外装材および建築外装用コーティング液 |