RU99118579A

RU99118579A - Покрытия, способы и устройство для уменьшения отражения от оптических подложек

Info

Publication number: RU99118579A
Application number: RU99118579/28A
Authority: RU
Inventors: Питер Д. ХААЛАНД; Б. Винсент МАККОЙ
Original assignee: Питер Д. ХААЛАНД; Б. Винсент МАККОЙ
Priority date: 1997-01-27
Filing date: 1997-12-12
Publication date: 2001-07-20

Claims

1. Прозрачное или полупрозрачное изделие с покрытием, имеющее воспринимаемый коэффициент отражения F_AR, в котором
F = ∫∫ S(λ,θ)R(λ,θ)dλdθ,
где λ - длина волны;
θ - угол падения;
S(λ,θ) - функция чувствительности человека от длины волны и угла падения;
R(λ,θ) - среднее значение коэффициентов отражения для р- и s-поляризации,
и содержащее: оптическую подложку, и один или несколько слоев просветляющего покрытия, нанесенного по меньшей мере на часть оптической подложки, причем толщину одного или нескольких слоев выбирают так, чтобы воспринимаемый коэффициент отражения F_AR изделия с нанесенным покрытием был минимальным.

2. Изделие с покрытием по п.1, отличающееся тем, что по меньшей мере один слой просветляющего материала содержит фторуглеродную пленку.

3. Устройство для осаждения просветляющей пленки на оптическую подложку, содержащее: камеру реактора для приема оптической подложки, плазменный генератор, связанный с камерой реактора и адаптированный для ввода плазмы в камеру реактора, и оптический контрольно-измерительный прибор, расположенный в непосредственной близости с камерой реактора, адаптированный для управления толщиной просветляющей пленки.

4. Устройство по п.3, отличающееся тем, что оптический контрольно-измерительный прибор содержит: источник излучения поляризованного светового пучка для направления пучка поляризованного света с выбранной длиной волны или полосой пропускания на подложку при выбранном угле падения, фотоприемник для измерения интенсивности отраженной части поляризованного светового пучка, направленного из подложки, и микропроцессор, связанный с фотоприемником и одним или более расходным клапаном, нагнетательным клапаном и источником питания, при этом микропроцессор позволяет управлять одним или более расходным клапаном, нагнетательным клапаном и источником питания в соответствии с интенсивностью отраженной части поляризованного светового пучка, обнаруженного с помощью фотоприемника.

5. Устройство по п.3, отличающееся тем, что микропроцессор программируется на: (A) определение толщины просветляющей пленки из интенсивности отраженной части поляризованного светового пучка, (B) управление расходным клапаном для выборочного разрешения или ограничения потока одного или нескольких веществ предшественника, подаваемых в плазменный генератор, и (С) управление скоростью осаждения одного или нескольких веществ предшественника с помощью управления одним или более расходным клапаном, нагнетательным клапаном и источником электрической мощности.

6. Способ осаждения просветляющего покрытия на оптическую подложку, содержащий этапы: инициализируют осаждение слоя по меньшей мере одного просветляющего материала на подложку, осуществляют оптический контроль за толщиной слоя в ходе его осаждения, и завершают осаждение, когда слой достигает необходимой толщины.

7. Способ по п.6, отличающийся тем, что толщину слоя контролируют оптическим способом посредством: отражения поляризованного светового пучка, имеющего выбранную интенсивность и выбранную длину волны или ширину полосы пропускания, от поверхности подложки, на которую был осажден слой материала при выбранном угле падения, обнаружения интенсивности отраженной части поляризованного светового луча, и определения толщины слоя из интенсивности отраженной части светового пучка.

8. Способ по п.6, отличающийся тем, что дополнительно содержит следующие этапы: генерируют плазму рядом с подложкой, инициализируют поток ионизированного первого материала в плазме для осаждения на подложку и образования первого слоя, осуществляют оптический контроль толщины первого слоя в ходе осаждения, завершают поток первого материала в случае, когда первый слой достигает первой необходимой толщины, инициализируют поток второго материала в плазме для осаждения на подложку и образования второго слоя, осуществляют оптический контроль толщины второго слоя в ходе осаждения, и завершают осаждение второго материала в случае, когда второй слой достигает второй необходимой толщины.

9. Способ по п.6, отличающийся тем, что необходимую толщину вычисляют с помощью минимизации воспринимаемого коэффициента отражения F
F = ∫∫ S(λ,θ)R(λ,θ)dλdθ,
где S(λ,θ) - функция чувствительности человека, и R(λ,θ) - усредненные коэффициенты отражения для р- и s-поляризации во всем заданном диапазоне длин волн λ и углов θ.
10. Способ по п. 9, отличающийся тем, что S(λ,θ) имеет статистическим способом определенное среднее значение.