DE4338040C2 - Vorrichtung zum Beschichten von Brillengläsern im Vakuum und Betriebsverfahren hierfür - Google Patents
Vorrichtung zum Beschichten von Brillengläsern im Vakuum und Betriebsverfahren hierfürInfo
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- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims description 26
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims description 24
- 238000011017 operating method Methods 0.000 title claims description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 31
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 26
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 20
- 230000005284 excitation Effects 0.000 claims description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 5
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011707 mineral Substances 0.000 claims description 3
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 claims description 2
- 230000003678 scratch resistant effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 claims 1
- 230000005672 electromagnetic field Effects 0.000 claims 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 27
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 3
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 3
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000004071 soot Substances 0.000 description 3
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisiloxane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 238000009395 breeding Methods 0.000 description 1
- 230000001488 breeding effect Effects 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 238000009304 pastoral farming Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- -1 siloxanes Chemical class 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000013517 stratification Methods 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
- UHUUYVZLXJHWDV-UHFFFAOYSA-N trimethyl(methylsilyloxy)silane Chemical compound C[SiH2]O[Si](C)(C)C UHUUYVZLXJHWDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/50—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges
- C23C16/505—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges using radio frequency discharges
- C23C16/509—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges using radio frequency discharges using internal electrodes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/458—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for supporting substrates in the reaction chamber
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
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Description
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Beschichten von Brillengläsern
aus Kunststoff oder Mineralglas mit mindestens einer haft- und kratzfesten re
flexmindernden Schicht nach dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1.
Durch die EP 0 455 551 A1 ist es bekannt, Brillengläser mit
Siliziumverbindungen durch Plasmaverfahren im Vakuum zu beschichten, um
die Kratzfestigkeit zu erhöhen. Spezielle Vorrichtungen hierfür sind jedoch
nicht offenbart.
Es ist bekannt, eine größere Anzahl von Brillengläsern chargenweise in einer
Vakuumkammer durch Aufdampfen zu beschichten, wobei die Brillengläser in
einem kalottenförmigen Substrathalter befestigt sind, der gegebenenfalls um
seine Rotationsachse drehbar ist. Als Energiequellen für das
Verdampfungsmaterial dienen hierbei Elektronenstrahlen, Lichtbögen,
Induktionsspulen oder Stromwärme, die durch ein mit entsprechenden
Anschlüssen versehenes Verdampferschiffchen geleitet wird. Derartige
Beschichtungsverfahren werden als PVD-Verfahren bezeichnet (Physical
Vapour Deposition). Der Dampfstrom hat hierbei eine stark gerichtete
Wirkung, so daß zur Vergleichmäßigung der Beschichtung ein erheblicher
Abstand zwischen den Dampfquellen und den Brillenglas-Substraten
eingehalten werden muß. Dennoch läßt sich die gewünschte
Schichtdickenverteilung nicht in ausreichendem Maße erzielen, da
insbesondere die Krümmung der Brillengläser zu einer Veränderung der
Kondensationsbedingungen des Schichtmaterials im Randbereich der
Brillengläser führt. Der durch die Krümmung bedingte streifende Einfall des
Beschichtungsmaterials führt nicht nur zur Ausbildung dünnerer Schichten im
Randbereich der Brillengläser, sondern auch zu einer verschlechterten
Haftung der Schichten auf der Brillenglasoberfläche.
Eine ähnliche Vorrichtung mit einer Vakuumkammer, einem kalottenförmigen
Substrathalter und einer Plasmaquelle zur Beschichtung von Linsen ist durch
die DE 41 28 547 A1 bekannt.
Als Beschichtungsmaterial kommen hierbei verschiedene Oxide, Nitride und
Fluoride von Metallen in Frage, die als Ein- oder Mehrfachschichten innerhalb
vorgegebener Schichtdickenbereiche reflexmindernde Eigenschaften haben,
wobei die Farbe der Rest-Reflexion modischen Anforderungen unterliegt.
Auch Versuche, die Schichtdickenverteilung durch eine Dampfstreuung an
schwereren Gasmolekülen zu verbessern, haben nicht zu dem gewünschten
Erfolg geführt. Zur Herbeiführung dieser Dampfstreuung werden in den Va
kuum-Rezipienten Gase wie beispielsweise Kohlendioxid mit entsprechen
dem Partialdruck eingeleitet, die durch Kollision mit den Dampfmolekülen zu
der gewünschten Dampfstreuung führen. Bei Verwendung von Elektronen
strahlen hat die Anwesenheit derartiger Gase zusätzlich eine unerwünschte
Defokussierung des Elektronenstrahls zur Folge.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, eine Vorrichtung anzugeben,
durch die bei hoher Wirtschaftlichkeit Brillengläser paarweise beschichtet
werden können, wobei eine hohe Gleichförmigkeit der
Schichtdickenverteilung eine exakte Einstellbarkeit von Farbreflexen zur
Erzeugung von sogenannten "Modefarben" möglich ist. Insbesondere soll
dabei auch die Temperatur der Brillenglas-Substrate niedrig gehalten werden,
um in der gleichen Vorrichtung auch Brillengläser aus Kunststoff beschichten
zu können.
Die Lösung der gestellten Aufgabe erfolgt bei der eingangs beschriebenen
Vorrichtung erfindungsgemäß durch die Merkmale im Kennzeichen des
Patentanspruchs 1.
Durch diese Maßnahme wird aus den Brillengläsern und dem ringförmigen
Kammerteil eine Plasma-Kammer gebildet, deren Wände zu einem großen
Teil aus den Brillengläsern selbst bestehen, d. h. durch die nicht zu
vermeidende Beschichtung des ringförmigen Kammerteils geht nur ein
verhältnismäßig geringer Anteil des Beschichtungsmaterials verloren. Die
innere Oberfläche des ringförmigen Kammerteils ist relativ klein, und der
betreffende Kammerteil kann durch einen Reinigungsprozeß kurzfristig
wieder aufbereitet werden, so daß auch die Gefahr vermieden wird, daß sich
von dem Kammerteil Schichtmaterial ablöst, das in ähnlicher Weise wie die
weiter unten beschriebene Schnee- oder Glasrußbildung ansonsten zu einer
Beeinträchtigung der Schichtqualität führen würde.
In der Vorrichtung werden als schichtbildende Stoffe gasförmige bzw.
verdampfbare Metallverbindungen eingesetzt, beispielsweise solche aus der
Gruppe der Siloxane und Silazane. Es handelt sich hierbei um metallor
ganische Verbindungen. Als besonders geeignet haben sich hierbei die Stoffe
TMDSO (= Tetramethyldisiloxan) und HMDSO (= Hexamethyldisiloxan)
erwiesen. Für die Erzeugung hochbrechender Schichten werden hierbei
beispielsweise metallorganische Verbindungen des Titans eingesetzt, für die
Erzeugung niedrigbrechender Schichten metallorganische Verbindungen des
Siliziums. Durch die abwechselnde Anordnung derartiger Schichten werden
sogenannte Interferenz-Schichtsysteme erzeugt, denen die gewünschten
optischen Eigenschaften verliehen werden können.
Die Anregung des Niederdruck-Plasmas kann dabei auf induktivem Wege
(mit bestimmten Frequenzen gespeiste Spulen) und/oder auf kapazitivem
Wege (an entsprechende Energiequellen angeschlossene Elektroden) er
folgen. Man erhält hierdurch äußerst einfach aufgebaute Apparaturen, die in
einem großen Druckbereich z. B. zwischen 10-3 und 10 mbar sehr zuverlässig
arbeiten. Insbesondere werden dadurch keine kostspieligen Dampfquellen
der eingangs beschriebenen Art benötigt, desgleichen keine großen Volumina
der entsprechenden Vakuumkammern bzw. Rezipienten.
Durch die Vorrichtung in Verbindung mit einem PCVD-Verfahren für die
Beschichtung von Brillengläsern unter an sich bekannten
Verfahrensparametern lassen sich folgende Vorteile erzielen:
Die erzeugten Einfach- und Mehrfachschichten haben eine hohe Härte, Transparenz, Dichte und Haftfestigkeit, und es treten insbesondere bei Bril lengläsern aus organischen und mineralischen Materialien keine Rißbil dungen auf. Es wird eine hohe Abscheide- bzw. Kondensationsrate erzielt, so daß die Vorrichtung speziell für die Beschichtung von paarweise angeordneten Brillengläsern dient. Die Beschichtung von paarweise angeordneten Brillengläsern ist deswegen interessant, weil Brillengläser in der Regel paarweise bestellt werden. Die erfindungsgemäße Vorrichtung führt zu einer hohen Reproduzierbarkeit und Gleichförmigkeit der Schichtdickenverteilung auch bei gewölbten Flächen, d. h. es unterbleibt der ansonsten zu beobachtende typische Randeffekt. Vor allem aber lassen sich Farbreflexe gezielt einstellen, d. h. Modefarben erzeugen, d. h. abgesehen von gewollten Interferenzfarben entstehen keine unerwünschten Farbstiche an den fertigen Brillengläsern. Die Substrattemperatur kann auf einem sehr niedrigen Niveau, beispielsweise unterhalb 60°C gehalten werden, was bei Verwendung organischer Brillenglas-Substrate von besonderem Vorteil ist.
Die erzeugten Einfach- und Mehrfachschichten haben eine hohe Härte, Transparenz, Dichte und Haftfestigkeit, und es treten insbesondere bei Bril lengläsern aus organischen und mineralischen Materialien keine Rißbil dungen auf. Es wird eine hohe Abscheide- bzw. Kondensationsrate erzielt, so daß die Vorrichtung speziell für die Beschichtung von paarweise angeordneten Brillengläsern dient. Die Beschichtung von paarweise angeordneten Brillengläsern ist deswegen interessant, weil Brillengläser in der Regel paarweise bestellt werden. Die erfindungsgemäße Vorrichtung führt zu einer hohen Reproduzierbarkeit und Gleichförmigkeit der Schichtdickenverteilung auch bei gewölbten Flächen, d. h. es unterbleibt der ansonsten zu beobachtende typische Randeffekt. Vor allem aber lassen sich Farbreflexe gezielt einstellen, d. h. Modefarben erzeugen, d. h. abgesehen von gewollten Interferenzfarben entstehen keine unerwünschten Farbstiche an den fertigen Brillengläsern. Die Substrattemperatur kann auf einem sehr niedrigen Niveau, beispielsweise unterhalb 60°C gehalten werden, was bei Verwendung organischer Brillenglas-Substrate von besonderem Vorteil ist.
Durch die hohe Produktionsrate paarweise hergestellter Brillengläser läßt sich
die Vorrichtung in den Produktionsprozeß der Brillengläser integrieren, d. h.
die Brillengläser lassen sich nach der heute geforderten Methode der
Anlieferung in den Prozeßablauf fertigen.
Es ist dabei im Zuge der weiteren Ausgestaltung der Erfindung besonders
vorteilhaft, wenn man die Raumausdehnung des Plasmas, in Normalenrich
tung zur Beschichtungsfläche gesehen, durch die axiale Ausdehnung des
ringförmigen Kammerteils auf maximal 50 mm, vorzugsweise auf maximal
30 mm, begrenzt. Auf diese Weise überstreicht das schichtbildende Gas die
Beschichtungsoberfläche in etwa in einer parallelen Richtung. Durch die
Begrenzung der Raumausdehnung des Plasmas wird verhindert, daß sich
durch eine sogenannte Homogenreaktion im Gasraum feste Partikel bilden,
die auch als "Schnee" oder "Glasruß" bezeichnet werden. Diese Partikel
führen, wenn sie sich auf den Beschichtungsoberflächen absetzen, zu trüben
bzw. unbrauchbaren Schichten.
Durch die Begrenzung der Raumausdehnung des Plasmas wird weiterhin er
reicht, daß die Kondensationsbedingungen auf der Brillenglas-Oberfläche
verbessert werden, weil dort eine größere Teilchendichte erreicht wird.
Die Erfindung betrifft auch ein Betriebsverfahren für die erfindungsgemäße
Vorrichtung.
Zur Lösung der gleichen Aufgabe ist ein solches Verfahren gekennzeichnet
durch die Merkmale im Kennzeichen des Patentanspruchs 7.
Es ist dabei besonders vorteilhaft, wenn man die beiden Brillengläser mit
gleicher Krümmungsrichtung in den ringförmigen Kammerteil einsetzt. Durch
diese Maßnahme ist der Abstand zwischen den einander gegenüberliegen
den Beschichtungs-Oberflächen in etwa gleich, so daß sich auf beiden Be
schichtungsoberflächen eine im wesentlichen parallele Gasströmung aus
bildet.
Eine beidseitige Beschichtung der Brillengläser ist in besonders vorteilhafter
und einfacher Weise dann möglich, wenn man die beiden Brillengläser nach
Beschichtung ihrer einander zuerst zugekehrten Oberflächen unter Beibehal
tung ihrer relativen Raumlage gegeneinander vertauscht und in den ringför
migen Kammerteil einsetzt und danach die jeweils anderen Oberflächen der
beiden Brillengläser beschichtet. Auf diese Weise lassen sich unter Beibehal
tung ansonsten gleicher Verfahrensparameter identische Schichten auf
beiden Oberflächen jeweils eines Brillenglases erzeugen. Natürlich lassen
sich durch Änderung der Beschichtungsparameter auch unterschiedliche
Schichten auf beiden Oberflächen eines Brillenglases erzeugen.
Es ist dabei wiederum vorteilhaft, wenn man die aus den Brillengläsern und
dem ringförmigen Kammerteil bestehende Plasmakammer mit einer weiteren
Kammer umgibt, in der ein niedrigerer Druck eingestellt wird als in der Plas
makammer. In der äußeren Kammer kann mit besonderem Vorteil beispiels
weise ein Druck von 10-5 mbar eingehalten werden.
Bei Anwendung dieser Maßnahme müssen die Brillengläser nicht absolut
dicht in den ringförmigen Kammerteil eingesetzt werden, da eine gewisse
Leckage für den Beschichtungsprozeß unschädlich ist: Es kann immer nur
schichtbildender Stoff aus der Plasma-Kammer in die Hochvakuum-Kammer
entweichen, nicht aber ein umgekehrter Gasfluß eintreten, so daß insbe
sondere die Atmosphäre in der Plasmakammer nicht nachteilig beeinflußt
wird.
Um die Plasmakammer besonders gleichmäßig mit der Anregungsenergie zu
beaufschlagen, ist es besonders vorteilhaft, wenn man die aus den beiden
Brillengläsern und dem ringförmigen Kammerteil gebildete Plasmakammer
derart zwischen zwei plattenförmigen Elektroden unterbringt, daß die durch
die Ränder der Brillengläser definierten Ebenen im wesentlichen parallel zu
den Elektroden verlaufen, und daß man die Elektroden an die entgegenge
setzten Pole eines Wechselspannungsgenerators legt.
Mit dem Erfindungsgegenstand ist es mit besonderem Vorteil möglich, nach
einander Schichten mit unterschiedlichen optischen Eigenschaften auf die
Brillengläser aufzubringen, nämlich durch einen Wechsel der Gasart durch
Anschluß an eine andere Gasquelle. Eine solche Maßnahme dient insbeson
dere zum Herstellen sogenannter Interferenz-Schichtsysteme. Dieser Vorteil
kommt besonders dann zum Tragen, wenn erfindungsgemäß die Raumsaus
dehnung des Plasmas begrenzt ist, beispielsweise durch die Beschränkung
dieses Raumes auf den Abstand zwischen zwei Brillengläsern. Durch das
dadurch entstehende äußerst kleine Volumen des Reaktionsraumes ist ein
rascher Gaswechsel zwischen dem ersten und einem weiteren Gas möglich.
Allerdings können durch Drosselung der Gaszufuhr des ersten Gases und
allmähliche Steigerung der Zufuhr des zweiten Gases auch sogenannte
Übergangsschichten hergestellt werden, eine Maßnahme, die zur Züchtung
bestimmter Schichteigenschaften von besonderem Vorteil ist.
Ein Ausführungsbeispiel einer erfindungsgemäßen Vorrichtung und deren
Wirkungsweise werden nachfolgend anhand der einzigen Figur näher er
läutert.
Diese Figur zeigt einen Vertikalschnitt entlang der Achse zweier Brillengläser
und der diese aufnehmenden Teilkammer.
In der Figur sind zwei Brillengläser 1 und 2 dargestellt, die eine positive
Dioptrienzahl aufweisen und in die kreisförmig begrenzten Einsatzöffnungen
3 und 4 eines Kammerteils 5 eingesetzt sind, das aus einem Oberteil 5a und
einem Unterteil 5b besteht. Ober- und Unterteil stoßen an einer Trennfuge 6
aneinander, so daß die Teilkammer 5 zu Reinigungszwecken geöffnet wer
den kann. Die Brillengläser 1 und 2 und das Kammerteil 5 bilden zusammen
eine Plasmakammer 7, die einen Raum 8 umschließt, in dem beim Betrieb
das Plasma mit den schichtbildenden Stoffen aufrechterhalten wird. Die
schichtbildenden Stoffe werden der Plasmakammer 7 durch eine radial ein
mündende Gasleitung 9 zugeführt, die mit zwei Gasquellen 10 und 11 über
Regelventile 10a und 11a verbindbar ist.
An einer diametral gegenüberliegenden Stelle ist die Plasmakammer 7 mit
einer radial angesetzten Abgasleitung 12 versehen, in der sich eine einstell
bare Drosselstelle 13 befindet. Jenseits der Drosselstelle 13 mündet die Ab
gasleitung 12 in eine Saugleitung 14, die eine Hochvakuumpumpe 15 und
einen Vorvakuum-Pumpsatz 16 miteinander verbindet, die beide hier nur
schematisch angedeutet sind. In dem Raum 8 läßt sich ein Gasgleichgewicht
entsprechender Zusammensetzung mit einem Druck zwischen 10-3
und 10 mbar einstellen. Der Strömungsverlauf innerhalb des Raumes 8 wird
in etwa durch die eingezeichneten Strömungspfeile angedeutet: Die Strö
mung verläuft im wesentlichen parallel zu den in diesem Arbeitsgang zu be
schichtenden inneren Oberfläche 1b und 2a.
Es ist zu erkennen, daß die beiden Brillengläser 1 und 2 mit gleicher Krüm
mungsrichtung in den ringförmigen Kammerteil 5 eingesetzt sind. Auf eine
Abdichtung zwischen den Brillengläsern und dem Kammerteil braucht kein
besonderer Wert gelegt zu werden, da die bisher beschriebene Anordnung
von einer Vakuumkammer 17 umgeben ist, in der mittels der Vakuumpumpe
15 über einen Saugstutzen 18 ein Hochvakuum von beispielsweise 10-3
mbar einstellbar ist. Etwa aus der Plasmakammer 7 austretende Reaktions
gase werden mithin über den Saugstutzen 18 abgesaugt.
Nach Beschichtung der inneren Oberflächen 1b und 2a der Brillengläser 1
und 2 in einem ersten Arbeitsgang werden die beiden Brillengläser unter
Beibehaltung ihrer relativen Raumlage gegeneinander vertauscht in den
ringförmigen Kammerteil 5 eingesetzt, worauf die jeweils anderen Ober
flächen 1a und 2b beschichtet werden können. Um den Austausch vor
nehmen zu können, wird der Kammerteil 5 an der Trennfuge 6 geöffnet.
Durch einander gegenüberliegende Wandungen 17a und 17b der Vakuum
kammer 17 sind stromleitende Haltestangen 19 und 20 für zwei planparallel
zueinander ausgerichtete Elektroden 21 und 22 hindurchgeführt, zwischen
denen in koaxialer Anordnung die Plasmakammer 7 angeordnet ist. Die An
ordnung ist dabei so getroffen, daß die durch die kreisförmigen Ränder der
Brillengläser definierten Ebenen im wesentlichen parallel zu den Elektroden
21 und 22 verlaufen. Die Elektroden sind an die entgegengesetzten Pole
23a und 23b eines Wechselspannungsgenerators 23 gelegt der beispiels
weise in einem Frequenzbereich zwischen 100 kHz und 100 MHz einstellbar
ist. Vorzugsweise wird eine Frequenz von 13,56 MHz verwendet. Das Ver
fahren ist allerdings keineswegs auf die Verwendung einer Frequenz in dem
oben angegebenen Frequenzbereich beschränkt; vielmehr kann das Ver
fahren auch bei Anwendung von Mittelfrequenz und Mikrowellenenergie
durchgeführt werden.
Bei einigen Schichtmaterialien, insbesondere bei der Abscheidung von
Schichten aus SiO₂ ist es vorteilhaft, im Plasma-Impulsbetrieb zu arbeiten,
um die Ausbildung von Schichtdickenunterschieden durch zu hohe Reak
tionsgeschwindigkeit zu unterdrücken. Tastverhältnisse mit einer Energie
dauer von 10 bis 100 Mikrosekunden und einer Pausendauer von 1 bis 10 Millisekunden sind hierbei besonders vorteilhaft.
Auch die Zahl der Gasquellen ist nicht kritisch; es kann eine ganze Batterie
von Gasquellen vorgesehen werden, beispielsweise auch zu dem Zweck,
um zwischen den Brillengläsern und der ersten optisch wirksamen Schicht
eine Haftschicht vorzusehen. Der Figur ist jedenfalls zu entnehmen, daß der
vom Plasma erfüllte Raum 8 äußerst geringe Abmessungen hat, so daß die
von den Elektroden 21 und 22 eingebrachte Anregungsenergie für das
Plasma auf dieses äußerst wirksam konzentriert werden kann. Die Ent
stehung von Partikeln in Form von "Schnee" und "Glasruß" unterbleibt auf
grund des geringen Kammervolumens, und ein Umschalten von einer Gasart
auf eine andere Gasart ist in kürzester Zeit möglich. Oberteil 5a und Un
terteil 5b des Kammerteils 5 lassen sich - nach Trennung - einem äußerst
wirksamen Reinigungsprozeß zuführen und dann erneut wieder verwenden.
Es ist vorteilhaft, für die serienmäßige Beschichtung von Brillengläsern eine
ganze Anzahl derartiger Kammerteile 5 vorrätig zu halten, die dann im
Innern der Vakuumkammer 7 lediglich über hier nicht gezeigte Schnellver
bindungen mit den Gasleitungen 9 und 12 verbunden werden können.
Selbstverständlich besitzt auch die Vakuumkammer 7 eine hier gleichfalls
nicht näher dargestellte Öffnung, um den Austausch der Plasmakammer 7
bzw. eine Vertauschung der Brillengläser 1 und 2 gegeneinander und gegen
neue Brillengläser vornehmen zu können.
Zwischen den äußeren Oberflächen 1a und 2b der Brillengläser 1 und 2 und
den Elektroden 21 und 22 entsteht wegen des niedrigen Drucks in der Va
kuumkammer 17 kein Plasma.
Claims (15)
1. Vorrichtung zum Beschichten von Brillengläsern (1, 2) aus
Kunststoff oder Mineralglas mit mindestens einer haft-
und kratzfesten reflexmindernden Schicht in der Gasphase
eines Niederdruckplasmas in Gegenwart mindestens eines
schichtbildenden Stoffes, mit einer Vakuumkammer (17) mit
einem Anschluß an mindestens eine Gasquelle (10, 11) zur
Versorgung der Vorrichtung mit einem durch ein Nieder
druck-Plasma zersetzbaren Gas, dessen Zersetzungsprodukte
auf den Brillengläsern (1, 2) als reflexmindernde
Schichtstoffe kondensationsfähig sind, und mit einer Ein
richtung zur Versorgung der Vorrichtung mit Anregungs
energie für die Unterhaltung des Plasmas, dadurch gekenn
zeichnet, daß in der Vakuumkammer (17) ein ringförmiger
Kammerteil (5) angeordnet ist, der in Richtung seiner
Achse (A-A) auf gegenüberliegenden Seiten mit Einsatz
öffnungen (3, 4) für je ein Brillenglas (1, 2) versehen
ist und auf gegenüberliegenden Seiten je eine Einlaß
öffnung (9) für das zersetzbare Gas und eine Auslaßöff
nung (12) für das Restgas besitzt.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
dem Kammerteil (5) auf in Richtung seiner Achse (A-A)
gegenüberliegenden Seiten Elektroden (21, 22) für die
Einbringung der Anregungsenergie für das Plasma in der
weiteren Kammer (7) durch die Brillengläser (1, 2)
hindurch zugeordnet sind.
3. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß
eine aus den beiden Brillengläsern (1, 2) und dem ring
förmigen Kammerteil (5) gebildete Plasma-Kammer (7)
derart zwischen den zwei plattenförmigen Elektroden
(21, 22) angeordnet ist, daß die durch die Ränder der
Brillengläser definierten Ebenen im wesentlichen parallel
zu den Elektroden verlaufen, und daß die Elektroden an
die entgegengesetzten Pole (23a, 23b) eines Wechselspan
nungsgenerators (23) angeschlossen sind.
4. Vorrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß
der ringförmige Kammerteil (5) aus zwei Teilkammern (5a,
5b) besteht, die an einer Trennfuge (6) aneinanderstoßen.
5. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
die zwei Brillengläser (1, 2) mit gleicher Krümmungsrich
tung im Kammerteil (5) angeordnet sind.
6. Vorrichtung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß
die Einsatzöffnungen (3, 4) im Kammerteil (5) so angeord
net sind, daß der Abstand zwischen den eingesetzten
Brillengläsern (1, 2) zwischen 30 mm und 50 mm beträgt.
7. Betriebsverfahren für die Vorrichtung nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß man den schichtbildenden
Stoff zumindest im wesentlichen parallel zur jeweiligen
Beschichtungsoberfläche (1b, 2a bzw. 1a, 2b) in den
plasmaerfüllten Raum (8) einleitet und das Restgas an der
gegenüberliegenden Seite des Raumes abführt.
8. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß
man die beiden Brillengläser (1, 2) nach Beschichtung
ihrer einander zuerst zugekehrten Oberflächen (1b, 2a)
unter Beibehaltung ihrer relativen Raumlage gegeneinander
vertauscht und in den ringförmigen Kammerteil (5) ein
setzt und danach die jeweils anderen Oberflächen (1a, 2b)
der beiden Brillengläser (1, 2) beschichtet.
9. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß
man in der Vakuumkammer (17) außerhalb des plasmaerfüllten
Raums (8) einen niedrigeren Druck einstellt als in dem
plasmaerfüllten Raum (8).
10. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß
man den Druck außerhalb des plasmaerfüllten Raums (8) so
niedrig einstellt, daß außerhalb kein Plasma entsteht.
11. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß
das Plasma mit einem elektromagnetischen Wechselfeld
angeregt wird.
12. Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß
die Frequenz des Wechselfeldes zwischen 100 kHz und 100
MHz gewählt wird.
13. Verfahren nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß
man die Energiedauer der Impulse zwischen 10 und 100
Mikrosekunden und die Pausendauer zwischen den Impulsen
zwischen 1 und 10 Millisekunden wählt.
14. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß
man durch einen raschen Wechsel der Gase in dem plasma
erfüllten Raum (8) abwechselnd hoch- und niedrigbrechen
de Schichten auf den Brillengläsern erzeugt.
15. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß
man durch einen allmählichen Wechsel der Gase in dem
plasmaerfüllten Raum (8) Schichten mit einem Gradienten
zwischen den hoch- und niedrigbrechenden Schichten
erzeugt.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19934338040 DE4338040C2 (de) | 1993-11-08 | 1993-11-08 | Vorrichtung zum Beschichten von Brillengläsern im Vakuum und Betriebsverfahren hierfür |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19934338040 DE4338040C2 (de) | 1993-11-08 | 1993-11-08 | Vorrichtung zum Beschichten von Brillengläsern im Vakuum und Betriebsverfahren hierfür |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE4338040A1 DE4338040A1 (de) | 1995-05-11 |
| DE4338040C2 true DE4338040C2 (de) | 1997-01-30 |
Family
ID=6502035
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE19934338040 Expired - Fee Related DE4338040C2 (de) | 1993-11-08 | 1993-11-08 | Vorrichtung zum Beschichten von Brillengläsern im Vakuum und Betriebsverfahren hierfür |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DE (1) | DE4338040C2 (de) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19523442A1 (de) * | 1995-06-28 | 1997-01-02 | Antec Angewandte Neue Technolo | Verfahren zur Beschichtung von Gegenständen aus Metall oder Metall-Legierungen oder entsprechenden Oberflächen |
| CA2279425A1 (en) * | 1997-01-27 | 1998-07-30 | Peter D. Haaland | Coatings, methods and apparatus for reducing reflection from optical substrates |
| US6172812B1 (en) | 1997-01-27 | 2001-01-09 | Peter D. Haaland | Anti-reflection coatings and coated articles |
| GB9821752D0 (en) * | 1998-10-07 | 1998-12-02 | Applied Vision Ltd | Substrate holder |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA2041269A1 (en) * | 1990-05-04 | 1991-11-05 | Wayne F. Wehber | Piston assembly |
| DE4128547A1 (de) * | 1991-08-28 | 1993-03-04 | Leybold Ag | Verfahren und vorrichtung fuer die herstellung einer entspiegelungsschicht auf linsen |
-
1993
- 1993-11-08 DE DE19934338040 patent/DE4338040C2/de not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE4338040A1 (de) | 1995-05-11 |
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| 8364 | No opposition during term of opposition | ||
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|
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|
| 8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |