RU98108172A - Способ контроля параметров пленочных покрытий и поверхностей в реальном времени и устройство его осуществления - Google Patents

Способ контроля параметров пленочных покрытий и поверхностей в реальном времени и устройство его осуществления

Info

Publication number
RU98108172A
RU98108172A RU98108172/28A RU98108172A RU98108172A RU 98108172 A RU98108172 A RU 98108172A RU 98108172/28 A RU98108172/28 A RU 98108172/28A RU 98108172 A RU98108172 A RU 98108172A RU 98108172 A RU98108172 A RU 98108172A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
ray
radiation
sample
parameters
film coatings
Prior art date
Application number
RU98108172/28A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2194272C2 (ru
Inventor
А.М. Баранов
П.Е. Кондрашов
И.С. Смирнов
Original Assignee
А.М. Баранов
П.Е. Кондрашов
И.С. Смирнов
Filing date
Publication date
Application filed by А.М. Баранов, П.Е. Кондрашов, И.С. Смирнов filed Critical А.М. Баранов
Priority to RU98108172/28A priority Critical patent/RU2194272C2/ru
Priority claimed from RU98108172/28A external-priority patent/RU2194272C2/ru
Priority to PCT/RU1999/000143 priority patent/WO1999056116A1/ru
Publication of RU98108172A publication Critical patent/RU98108172A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2194272C2 publication Critical patent/RU2194272C2/ru

Links

Claims (1)

1. Способ контроля параметров пленочных покрытий и шероховатости поверхности в реальном времени, включающий облучение объекта контроля потоком рентгеновского излучения под углом θ с расходимостью Δθ, выходящего из источника рентгеновского излучения и регистрацию отраженного от поверхности образца излучения, отличающийся тем, что облучение образца осуществляется потоком рентгеновского излучения одновременно двух или более длин волн.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что одновременно с регистрацией отраженного излучения регистрируется степень его поляризации и вторичные электромагнитный и электронный потоки, поочередно на каждой длине волны направленного на образец рентгеновского излучения.
3. Способ по п.1, отличающийся тем, что регистрацию отраженного излучения проводят под несколькими различными углами внутри телесного угла 0-π/2.
4. Способ по п.1, отличающийся тем, что облучение образца осуществляется потоком расходящегося рентгеновского излучения, сфокусированного в плоскость поверхности образца с одновременной регистрацией степени его поляризации и вторичных электромагнитного и электронного потоков, поочередно на каждой длине волны направленного на образец рентгеновского излучения.
5. Устройство для контроля параметров пленочных покрытий и шероховатости поверхности в реальном времени, включающее источник рентгеновского излучения, систему формирования рентгеновского луча и систему его регистрации, имеющие возможность плоскопараллельного перемещения в плоскости образца (x-y сканирование) и углового перемещения Θ сканирование), соединенные с технологической системой, обеспечивающей изменение параметров пленочных покрытий и поверхностей, отличающееся тем, что источник рентгеновского излучения излучают две или большее число длин волн, а система регистрации регистрирует отраженное излучение двух или более длин волн, под одним или несколькими различными углами внутри телесного угла 0-π/2 одновременно и независимо.
6. Устройство по п.5, отличающееся тем, что используются два независимых источника рентгеновского излучения, расположенных под углами α1 и α2, в произвольных плоскостях.
7. Устройство по пп.5 и 6, отличающееся тем, что оно содержит дополнительные детекторы, регистрирующие вторичное световое излучение и вторичный поток электронов.
RU98108172/28A 1998-04-29 1998-04-29 Способ контроля параметров пленочных покрытий и поверхностей в реальном времени и устройство его осуществления RU2194272C2 (ru)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU98108172/28A RU2194272C2 (ru) 1998-04-29 1998-04-29 Способ контроля параметров пленочных покрытий и поверхностей в реальном времени и устройство его осуществления
PCT/RU1999/000143 WO1999056116A1 (fr) 1998-04-29 1999-04-29 Procede de controle des parametres de surfaces et de revetements de type film mince en temps reel et dispositif de mise en oeuvre de ce procede

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU98108172/28A RU2194272C2 (ru) 1998-04-29 1998-04-29 Способ контроля параметров пленочных покрытий и поверхностей в реальном времени и устройство его осуществления

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU98108172A true RU98108172A (ru) 2000-02-10
RU2194272C2 RU2194272C2 (ru) 2002-12-10

Family

ID=20205416

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU98108172/28A RU2194272C2 (ru) 1998-04-29 1998-04-29 Способ контроля параметров пленочных покрытий и поверхностей в реальном времени и устройство его осуществления

Country Status (2)

Country Link
RU (1) RU2194272C2 (ru)
WO (1) WO1999056116A1 (ru)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB0014587D0 (en) * 2000-06-14 2000-08-09 Europ Economic Community X-ray reflectivity apparatus and method
RU2657330C1 (ru) * 2017-02-02 2018-06-13 федеральное государственное бюджетное научное учреждение "Научно-исследовательский институт перспективных материалов и технологий" Способ определения температур фазовых переходов в пленках и скрытых слоях многослойных структур нанометрового диапазона толщин
CN115807219B (zh) * 2023-02-13 2023-05-30 南昌大学 一种光电薄膜材料制备控制系统及方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB8811459D0 (en) * 1988-05-13 1988-06-15 Dmc Boyle Ltd Method & apparatus for measuring thickness of coating on substrate
JPH0394104A (ja) * 1989-09-06 1991-04-18 Toshiba Corp 膜厚測定方法と膜厚測定装置及びこれを用いた膜形成装置
JPH04270953A (ja) * 1991-01-09 1992-09-28 Mitsubishi Electric Corp 元素分析方法および元素分析装置ならびに薄膜形成装置
RU2037773C1 (ru) * 1993-03-09 1995-06-19 Войсковая часть 75360 Рентгеновский способ изменения толщины материала
RU2087861C1 (ru) * 1995-07-13 1997-08-20 Товарищество с ограниченной ответственностью "Фрактал" Способ контроля параметров пленочного покрытия в процессе изменения толщины пленки на подложке и устройство для его осуществления
RU2199110C2 (ru) * 1997-04-24 2003-02-20 Баранов Александр Михайлович Способ контроля параметров пленочных покрытий и поверхностей в процессе их изменения и устройство его осуществления

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2003297891A (ja) 半導体用蛍光x線分析装置
CA2050762A1 (en) Flow imaging cytometer
JP2008008803A (ja) 光学式検査方法および光学式検査装置
JPS57186169A (en) Detector for particle coagulation pattern
GB8811459D0 (en) Method & apparatus for measuring thickness of coating on substrate
RU98108172A (ru) Способ контроля параметров пленочных покрытий и поверхностей в реальном времени и устройство его осуществления
JP3820806B2 (ja) レーザ検査装置
RU97106825A (ru) Способ контроля параметров пленочных покрытий и поверхностей в процессе их изменения и устройство его осуществления
AT386297B (de) Ionenstrahlgeraet und verfahren zur ausfuehrung von aenderungen, insbes. reparaturen an substraten unter verwendung eines ionenstrahlgeraetes
JPS6220313A (ja) パタ−ン検出方法及びその装置
JP2884583B2 (ja) X線集光器
JPH05118999A (ja) X線分析装置
JP2921074B2 (ja) 基板の観察装置
JPH0373093B2 (ru)
JPS58189545A (ja) 材料のexafsデ−タを得る装置
JPH0660873B2 (ja) ルミネツセンス測定装置
JPS62263451A (ja) 配線パタ−ン検査装置
JPH0569172A (ja) レーザー加工用マスク照射装置
JPS60202940A (ja) 食刻深さ測定方法
JPH04306549A (ja) 顕微レーザ質量分析計
JPS6318763U (ru)
JPH04294256A (ja) フォトルミネッセンス測定装置
JPS6073445A (ja) 螢光x線分析装置
JP2830915B2 (ja) 粒径分布測定装置
KR100531958B1 (ko) 웨이퍼 표면 분석용 광학 시스템 및 그 분석 방법